KR20000045230A - Apparatus for removing impurities in stepper of semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체소자 제조용 스테퍼(Stepper)의 방진 글래스 이물질 제거장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체소자 제조를 위한 리소그래피 공정에 사용되는 스테퍼 장비의 레티클 스테이지(reticle stage) 상부에 위치하여 마스크로의 이물질 유입을 방지하는 역할을 하는 방진 글래스상의 이물질을 제거하도록 한 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dustproof glass foreign material removing apparatus of a stepper for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a mask located on an upper portion of a reticle stage of a stepper device used in a lithography process for manufacturing a semiconductor device. The present invention relates to a device for removing foreign matter on the dust-proof glass that serves to prevent foreign material from entering.
일반적으로, 종래의 스테퍼 장치에는 도 1에 나타낸 바와 같이, 광원(6)과, 상기 광원(6)의 빛을 레티클 세타(θ) 스테이지 상에 로딩된 마스크(mask)(도시는 생략함) 쪽으로 보내는 역할을 하도록 광학 부품이 조합된 옵틱 유니트(optic unit)(1)와, 상기 옵틱 유니트(1) 하부에 위치하며 마스크와 웨이퍼 상의 패턴을 얼라인 가능하도록 전·후진 가능하게 설치되는 얼라인 스코프(align scope)(2)와, 상기 얼라인 스코프(2) 하부에 위치하며 마스크가 로딩되는 레티클 세타(θ) 스테이지(4)와, 상기 레티클 세타(θ) 스테이지(4)가 얹히는 레티클 스테이지(5)가 구비되며, 상기 레티클 스테이지(5) 하부에는 웨이퍼(도시는 생략함)가 위치하게 된다.In general, in the conventional stepper apparatus, as shown in FIG. 1, the light source 6 and the light of the light source 6 are directed toward a mask (not shown) loaded on the reticle theta stage. An optical unit (1) having an optical component combined to serve as a sending unit, and an alignment scope disposed under the optical unit (1) and installed forward and backward to align a pattern on a mask and a wafer (align scope) (2), a reticle theta (θ) stage 4 under the alignment scope (2) and loaded with a mask, and a reticle stage on which the reticle theta (θ) stage 4 is placed 5 is provided, and a wafer (not shown) is positioned below the reticle stage 5.
한편, 상기 얼라인 스코프(2) 중앙에는 얼라인 스코프(2) 중앙부를 통해 레티클 스테이지(5) 및 마스크로 이물질이 유입되는 현상을 방지하기 위한 방진 글라스(3)가 상기 얼라인 스코프(2)에 탈착 가능하게 고정된다.On the other hand, in the center of the alignment scope (2) is a dust-proof glass (3) for preventing the inflow of foreign matter into the reticle stage (5) and the mask through the center of the alignment scope (2) the alignment scope (2) Removably fixed to.
상기한 바와 같이 종래의 스테퍼 장치에 방진 글라스(3)가 구비되는 이유는 다음과 같다.As described above, the reason why the dustproof glass 3 is provided in the conventional stepper device is as follows.
종래에는 스테퍼 장비내에 고장이 자주 발생하여 장치의 커버(도시는 생략함)를 열고 보수 및 점검 작업을 할 경우, 외부로부터 이물질이 유입되는 경우가 있었다.In the related art, when a failure occurs frequently in the stepper equipment, when foreign materials are introduced from the outside when the cover (not shown) of the device is opened and the maintenance and inspection work is performed.
이와 같이 된 상태에서, 패턴 노광을 위해 레티클 세타(θ) 스테이지(4)에 커버를 제거한 마스크가 로딩될 경우, 패턴 형성을 위해 조사되는 광원(6)의 I-라인이 마스크에 조사(照射)될 경우, 웨이퍼에 형성되는 패턴에 치명적인 악영향을 미치게 된다.In this state, when the mask having the cover removed is loaded on the reticle theta stage 4 for pattern exposure, the I-line of the light source 6 irradiated for pattern formation is irradiated onto the mask. If so, it will have a fatal adverse effect on the pattern formed on the wafer.
따라서, 종래에는 일차적으로 마스크 상부에 유리 재질인 방진 글라스(3)를 장착하여 마스크 상에 이물질이 낙하하는 현상을 방지하였다.Therefore, in the related art, the dust-proof glass 3 made of glass material is primarily mounted on the mask to prevent a phenomenon that foreign matter falls on the mask.
그러나, 이와 같은 종래의 스테퍼 장치는 얼라인 스코프(2) 중앙부로부터 낙하하는 이물질들을 방진 글라스(3)로 차단할 수는 있으나, 방진 글라스(3) 자체에 이물질이 존해할 경우 이를 제거할 수는 없는 구조로 되어 있다.However, such a conventional stepper device can block foreign matters falling from the center of the alignment scope 2 with the dustproof glass 3, but if foreign matter exists in the dustproof glass 3 itself, it cannot be removed. It is structured.
따라서, 방진 글라스(3)에 이물질이 부착된 경우에는 이물질로 인해 빛이 굴절되어 패턴 불량을 야기하게 되므로써 반도체 소자에 악영향을 미치게 되는 문제점이 있었다.Therefore, when foreign matter is attached to the dustproof glass 3, the light is refracted by the foreign matter, causing a bad pattern, thereby adversely affecting the semiconductor device.
본 발명은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 반도체소자 제조를 위한 리소그래피 공정에 사용되는 스테퍼 장비의 레티클 스테이지 상부에 위치하여 마스크로의 이물질 유입을 방지하는 역할을 하는 방진 글래스상의 이물질을 제거하도록 한 반도체소자 제조용 스테퍼의 방진 글래스 이물질 제거장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, to remove the foreign matter on the dust-proof glass is located on the reticle stage of the stepper equipment used in the lithography process for manufacturing a semiconductor device, which serves to prevent the foreign material into the mask. An object of the present invention is to provide a dustproof glass foreign material removal apparatus of a stepper for manufacturing a semiconductor device.
도 1은 종래의 반도체소자 제조용 스테퍼를 나타낸 구성도1 is a configuration diagram showing a stepper for manufacturing a conventional semiconductor device
도 2는 본 발명에 따른 스테퍼를 나타낸 구성도2 is a block diagram showing a stepper according to the present invention
도 3은 도 2의 A부 확대도3 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2;
도 4는 도 2의 양측 흡입가이드 중의 일측 흡입 가이드를 나타낸 사시도4 is a perspective view showing one side suction guide of both side suction guides of FIG.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1:옵틱 유니트 2:얼라인먼트 스코프1: Optic unit 2: Alignment scope
3:방진 글라스 4:레티클 세타(θ) 스테이지3: Dustproof glass 4: Reticle theta (θ) stage
5:레티클 스테이지 6:광원5: Reticle stage 6: light source
7:진공 흡입가이드 700:흡입공7: Vacuum suction guide 700: Suction hole
8:필터 9:조절밸브8: Filter 9: Control valve
10:진공펌프10: vacuum pump
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 광원과, 상기 광원의 마스크 쪽으로 보내는 역할을 하도록 광학 부품이 조합된 옵틱 유니트와, 상기 옵틱 유니트 하부에 위치하며 마스크와 웨이퍼 상의 패턴을 얼라인 가능하도록 전·후진 가능하게 설치되는 얼라인 스코프와, 상기 얼라인 스코프 하부에 위치하며 마스크가 로딩되는 레티클 세타(θ) 스테이지와, 상기 레티클 세타(θ) 스테이지가 얹히는 레티클 스테이지가 구비된 스테퍼 장비에 있어서; 상기 방진 글라스가 설치된 얼라인 스코프 내측에 설치되어 상기 방진 글라스로 유입되는 이물질 및 상기 방진 글라스에 부착된 이물질을 내측면에 형성된 복수개의 흡입공을 통해 흡입하는 흡입 가이드와, 상기 흡입가이드의 흡입 유로상에 연결되는 진공라인과, 상기 진공라인 선단부에 연결되는 흡입력 발생원인 진공펌프와, 상기 진공라인 상에 구비되어 이물질을 포집하는 필터가 더 포함됨을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 스테퍼의 방진 글래스 이물질 제거장치가 제공된다.In order to achieve the above object, the present invention provides a light source, an optical unit combined with an optical component to serve as a mask side of the light source, and located under the optical unit, to enable alignment of the pattern on the mask and the wafer. In stepper equipment provided with an alignment scope that is reversibly installed, a reticle theta stage under the alignment scope and a mask loaded, and a reticle stage on which the reticle theta stage is mounted. ; A suction guide installed inside the alignment scope in which the anti-vibration glass is installed, and suctioning foreign substances introduced into the anti-vibration glass and foreign substances attached to the anti-vibration glass through a plurality of suction holes formed on an inner surface thereof, and a suction flow path of the suction guide. Vacuum dust connected to the phase, the vacuum pump which is a suction force source connected to the front end of the vacuum line, and the dust-proof glass of the stepper for manufacturing a semiconductor device, characterized in that the filter is provided on the vacuum line to remove foreign matters An apparatus is provided.
이하, 본 발명의 일실시예를 첨부도면 도 2 내지 도 4를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 4.
도 2는 본 발명에 따른 스테퍼를 나타낸 구성도이고, 도 3은 도 2의 A부 확대도이며, 도 4는 도 2의 양측 흡입가이드 중의 일측 흡입가이드를 나타낸 사시도로서, 본 발명은 광원(6)과, 상기 광원(6)의 마스크 쪽으로 보내는 역할을 하도록 광학 부품이 조합된 옵틱 유니트(1)와, 상기 옵틱 유니트(1) 하부에 위치하며 마스크와 웨이퍼 상의 패턴을 얼라인 가능하도록 전·후진 가능하게 설치되는 얼라인 스코프(2)와, 상기 얼라인 스코프(2) 하부에 위치하며 마스크가 로딩되는 레티클 세타(θ) 스테이지(4)와, 상기 레티클 세타(θ) 스테이지(4)가 얹히는 레티클 스테이지(5)와, 상기 얼라인 스코프(2) 중앙에 설치되어 얼라인 스코프(2) 중앙부를 통해 레티클 스테이지(5) 및 마스크로 이물질이 유입되는 현상을 방지하기 위한 방진 글라스(3)가 구비됨은 종래와 동일하다.2 is a configuration diagram showing a stepper according to the present invention, FIG. 3 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2, and FIG. 4 is a perspective view showing one side suction guide of both side suction guides of FIG. 2. ), An optical unit 1 combined with an optical component to serve as a mask toward the light source 6, and positioned under the optical unit 1 to move forward and backward to align the pattern on the mask and the wafer. An alignment scope 2, which is possibly installed, a reticle theta stage 4 positioned under the alignment scope 2 and loaded with a mask, and the reticle theta stage 4 are mounted. The dustproof glass 3 is installed at the center of the reticle stage 5 and the alignment scope 2 to prevent foreign substances from entering the reticle stage 5 and the mask through the center of the alignment scope 2. Equipped with the same as the conventional .
한편, 본 발명은 상기 방진 글라스(3)가 설치된 얼라인 스코프(2) 내측에 상기 방진 글라스(3)로 유입되는 이물질 및 상기 방진 글라스(3)에 부착된 이물질을 내측면에 형성된 복수개의 흡입공(700)을 통해 흡입하는 알루미늄 재질의 흡입가이드(7)가 설치되고, 상기 흡입가이드(7)의 흡입 유로상에 진공라인(11)이 연결되며, 상기 진공라인(11) 선단부에는 흡입력 발생원인 진공펌프(10)가 연결된다.On the other hand, the present invention is a plurality of suction formed on the inner surface of the foreign matter flowing into the dust-proof glass 3 and the foreign matter attached to the dust-proof glass (3) inside the alignment scope (2) provided with the dust-proof glass (3) An aluminum suction guide 7 suctioned through the ball 700 is installed, and a vacuum line 11 is connected to the suction flow path of the suction guide 7, and a suction force is generated at the tip of the vacuum line 11. Cause The vacuum pump 10 is connected.
이 때, 상기 흡입가이드(7)는 횡방향으로 절개할 경우, 그 단면 형상이 반원형의 구조를 이루게 된다.At this time, when the suction guide 7 is cut in the transverse direction, the cross-sectional shape of the suction guide 7 forms a semicircular structure.
그리고, 상기 진공라인(11) 상에는 이물질을 포집하는 필터(8)가 구비되고, 상기 진공라인(11) 상에는 진공력을 조절하는 조절밸브(9)가 구비된다.In addition, a filter 8 is provided on the vacuum line 11 to collect foreign substances, and a control valve 9 is provided on the vacuum line 11 to adjust the vacuum force.
상기에서 이물질 흡입에 이용되는 진공력은 스테퍼 장비에서 기존에 사용되는 설비의 한 부분이므로 별도의 장비를 추가하지 않고 기존의 베큠라인을 분리시켜 테플론 튜브로 연결하여 손쉽게 사용가능하다.Since the vacuum force used for the suction of foreign matter is a part of the existing equipment used in the stepper equipment, the existing vacuum line can be separated and connected to the Teflon tube without additional equipment, and thus can be easily used.
이와 같이 구성된 본 발명의 작용은 다음과 같다.The operation of the present invention configured as described above is as follows.
본 발명에 따른 스테퍼 장비에서는 방진 글라스(3)가 설치되어 있어 얼라인 스코프(2) 중앙부를 통해 이물질이 마스크에 부착되는 현상이 방지된다.In the stepper equipment according to the present invention, the anti-vibration glass 3 is installed to prevent the foreign matter from being attached to the mask through the center portion of the alignment scope 2.
이와 더불어, 본 발명의 스테퍼 장비에는 얼라인 스코프(2) 내측의 방진 글라스(3) 상부에 진공력에 의해 이물질을 빨아들이는 장치가 설치되어 있으므로, 방진 글라스(3) 상에 이물질이 부착되는 현상이 방지된다.In addition, the stepper equipment of the present invention is installed on the top of the dust-proof glass (3) inside the alignment scope (2), so that the foreign matter is sucked by the vacuum force, the foreign matter is attached to the dust-proof glass (3) The phenomenon is prevented.
즉, 만약 방진 글라스(3) 상에 이물질이 존재할 경우, 진공펌프(10)의 구동에 의해 유기된 진공 흡입력에 의해 방진 글라스(3) 상의 이물질은 방진 글라스(3) 내측면에 형성된 각 흡입공(700)을 통해 흡입가이드(7) 내측으로 빨려들어 온 다음, 진공라인(11)을 통해 밖으로 배출된다.That is, if foreign matter is present on the anti-vibration glass 3, foreign matter on the anti-vibration glass 3 by the vacuum suction force induced by the driving of the vacuum pump 10 is formed in each suction hole formed on the inner surface of the anti-vibration glass 3. It is sucked into the suction guide 7 through the 700 and then discharged out through the vacuum line 11.
이 때, 본 발명에서는 이물질을 포집할 수 있는 필터(8)가 진공라인(11) 상에 구비되어 있으므로, 진공펌프(10) 정지시 이물질이 역류하여 방진 글라스(3)를 오염시키게 되는 현상이 방지된다.At this time, in the present invention, since the filter 8 capable of collecting the foreign matter is provided on the vacuum line 11, the phenomenon that the foreign matter flows back when the vacuum pump 10 stops contaminates the dustproof glass 3. Is prevented.
이에 따라, 본 발명은 노광시 이물질로 인한 빛의 굴절을 방지할 수 있으므로 인해, 패턴 불량을 미연에 방지하여 반도체소자의 수율을 향상시킬 수 있게 된다.Accordingly, the present invention can prevent the refraction of the light due to the foreign material during exposure, thereby preventing the pattern defect in advance can improve the yield of the semiconductor device.
한편, 상기에서 필터가 상기 흡입가이드(7)의 흡입공(700) 내측에 바로 설치되어도 무방하다.On the other hand, the filter may be installed directly inside the suction hole 700 of the suction guide (7).
이상에서와 같이, 본 발명은 반도체소자 제조를 위한 리소그래피 공정에 사용되는 스테퍼 장비의 레티클 스테이지 상부에 방진 글래스상의 이물질을 흡입하여 제거하는 장치를 설치한 것이다.As described above, the present invention is to install a device for suctioning and removing foreign matter on the dust-proof glass on the reticle stage of the stepper equipment used in the lithography process for manufacturing a semiconductor device.
이에 따라, 본 발명의 스테퍼 장치는 마스크로의 이물질 유입이 방지될 뿐만 아니라 방진 글라스 상에 존재하는 이물질 까지도 효과적으로 제거되므로 인해, 이물질로 인한 패턴 불량을 방지하여 반도체소자 제조시의 수율을 향상시킬 수 있게 된다.Accordingly, the stepper device of the present invention not only prevents the inflow of foreign substances into the mask but also effectively removes the foreign substances present on the dustproof glass, thereby preventing the defective pattern caused by the foreign substances, thereby improving the yield in manufacturing a semiconductor device. Will be.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980061788A KR100281131B1 (en) | 1998-12-30 | 1998-12-30 | Dustproof glass foreign material removal device of stepper for semiconductor device manufacturing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980061788A KR100281131B1 (en) | 1998-12-30 | 1998-12-30 | Dustproof glass foreign material removal device of stepper for semiconductor device manufacturing |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000045230A true KR20000045230A (en) | 2000-07-15 |
| KR100281131B1 KR100281131B1 (en) | 2001-03-02 |
Family
ID=19568485
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019980061788A KR100281131B1 (en) | 1998-12-30 | 1998-12-30 | Dustproof glass foreign material removal device of stepper for semiconductor device manufacturing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100281131B1 (en) |
-
1998
- 1998-12-30 KR KR1019980061788A patent/KR100281131B1/en not_active IP Right Cessation
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|---|---|
| KR100281131B1 (en) | 2001-03-02 |
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