JP3307280B2 - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment

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JP3307280B2
JP3307280B2 JP14741697A JP14741697A JP3307280B2 JP 3307280 B2 JP3307280 B2 JP 3307280B2 JP 14741697 A JP14741697 A JP 14741697A JP 14741697 A JP14741697 A JP 14741697A JP 3307280 B2 JP3307280 B2 JP 3307280B2
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processing
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清雄 齋藤
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株式会社富士電機総合研究所
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  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光スポット
を照射して被加工物の切断や孔開け等を行うレーザ加工
装置であって、特にレーザ光出射が上向きであり、レー
ザ光出射部を加工雰囲気の吸引口が囲んでいるレーザ加
工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus for irradiating a laser beam spot to cut or drill a workpiece, and more particularly, to a laser beam output upward and a laser The present invention relates to a laser processing device surrounded by a suction port of a processing atmosphere.

【0002】[0002]

【従来の技術】膜厚が数μm 以下の薄膜にレーザ光を照
射して薄膜の除去、切断または孔開け等のレーザ加工を
行うレーザ加工装置においては、レーザ光出射を下向き
(重力の向き)とし、加工面がこれと対向して上向きに
配置されていると、加工時に加工塵が加工位置周辺に飛
散し、薄膜に突起物やピンホールなどの損傷を与えるこ
とが多い。
2. Description of the Related Art In a laser processing apparatus for irradiating a thin film having a thickness of several μm or less with a laser beam to perform laser processing such as removal, cutting, or drilling of the thin film, the laser beam is emitted downward (in the direction of gravity). If the processing surface is arranged facing upward, the processing dust is scattered around the processing position at the time of processing, and often damages the thin film such as projections and pinholes.

【0003】これを避けるため、レーザ光出射部からレ
ーザ光を上向き出射し、被加工物の加工面を下向きに配
置して、加工塵が加工面に堆積しないようにしている。
図4は上向き出射のレーザ加工装置の主要部を模式的に
示す断面図である。レーザ光出射部1の集光レンズ11
により一点に向けて絞られたレーザ光Lは被加工物41
に焦点を結んでいる。矢印は被加工物41とレーザ光出
射部1の相対移動を示している。しかし、この場合は、
レーザ加工時に発生する加工塵が、レーザ光出射部1の
出射レンズ11に堆積しあるいは付着し、実質的に出射
レンズの光透過率を低下させ、すなわちレーザ出力を低
下させ、加工不良の原因となる。また、出射レンズ破損
の原因になることもある。
In order to avoid this, laser light is emitted upward from the laser light emitting section, and the processing surface of the workpiece is arranged downward so that processing dust does not accumulate on the processing surface.
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a main part of the upward-emission laser processing apparatus. Condensing lens 11 of laser light emitting unit 1
The laser light L focused to one point by the
Focus on. Arrows indicate the relative movement between the workpiece 41 and the laser beam emitting unit 1. But in this case,
Processing dust generated at the time of laser processing accumulates or adheres to the output lens 11 of the laser light output unit 1 and substantially lowers the light transmittance of the output lens, that is, lowers the laser output and causes processing defects. Become. In addition, it may cause damage to the exit lens.

【0004】その対策として、出射レンズの外側に、出
射レンズ面と平行に、レーザ光が透過できる保護カバー
を配置し、レンズへの加工塵の堆積を防止し、また同時
にレーザ光出射部周囲を、吸引機の吸引口で囲って加工
雰囲気を吸引し同時に加工塵を除去していた。図5は従
来の保護カバーおよび吸引機を有するレーザ出射部の主
要部を示し(a)は平面図であり、(b)は(a)にお
けるAA断面図である。出射レンズ11の上を保護カバ
ー12が覆い、保護カバー12の周囲を吸引ダクト21
の吸引口22が囲んでいる。加工雰囲気は吸引口22か
ら吸引される。矢印X、Yは被加工物とレーザ光出射部
の相対移動の方向を示す座標軸である。
[0004] As a countermeasure, a protective cover through which laser light can pass is disposed outside the emission lens in parallel with the surface of the emission lens to prevent processing dust from accumulating on the lens, and at the same time, around the laser emission part. Then, the processing atmosphere was sucked by being surrounded by the suction port of the suction machine, and the processing dust was removed at the same time. 5A and 5B show a main part of a laser emission unit having a conventional protective cover and a suction device, wherein FIG. 5A is a plan view and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. A protective cover 12 covers the exit lens 11, and a suction duct 21 surrounds the protective cover 12.
Are enclosed. The processing atmosphere is sucked from the suction port 22. Arrows X and Y are coordinate axes indicating the direction of relative movement between the workpiece and the laser beam emitting unit.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来、吸引口はレーザ
光出射部を取り囲むように配置され、均一に吸引してい
た。そのため、レーザ加工位置を連続的に移動させなが
らレーザ加工を行う場合は、レーザ光出射部は被加工物
に対して相対的に加工方向に移動しているため、加工位
置より加工方向上手側(以下、上手側と記す)での吸引
は、降下する加工塵を保護カバー上に吸い寄せることと
なり、加工塵は保護カバーに堆積、付着していた。
Conventionally, the suction port has been arranged so as to surround the laser beam emitting portion, and has been uniformly sucked. Therefore, when laser processing is performed while continuously moving the laser processing position, the laser light emitting portion is relatively moved in the processing direction with respect to the workpiece, so that the laser light emitting portion is located on the upper side in the processing direction from the processing position ( In the following, the suction at the upper side) sucks down the processing dust falling on the protective cover, and the processing dust accumulates and adheres to the protective cover.

【0006】こうして、レンズ保護カバーに付着した加
工塵は、レーザ光に対し不透明でありまたはレーザ光を
散乱し、レーザ光の出力の低下をもたらし、レーザ加工
品質に影響を及ぼしたり、加工を不能としてしまってい
た。また、レーザ加工光学系と同軸上に被加工部位を観
察する観察光学系を有するレーザ加工装置では、レーザ
加工光学系と同様に、観察部を照らす照明光が、レンズ
保護カバーまたは出射レンズに付着した加工塵により遮
られ、カメラ等の検出器の入射光量を減少させため、誤
った観測を生じさせる。
[0006] In this way, the processing dust adhered to the lens protective cover is opaque to the laser light or scatters the laser light, causing a decrease in the output of the laser light, affecting the laser processing quality or making processing impossible. Had been done. Also, in a laser processing apparatus having an observation optical system for observing a processed part coaxially with the laser processing optical system, illumination light illuminating the observation unit adheres to the lens protection cover or the emission lens similarly to the laser processing optical system. It is obstructed by the processed dust and reduces the amount of light incident on a detector such as a camera, resulting in erroneous observation.

【0007】特に、この観察光学系を用いて、加工位置
の特定を行う場合は、加工塵の付着による入射光量の減
少により、光量の検出レベルが変わり、加工位置決め精
度の低下をもたらしていた。上記の問題点に鑑み、本発
明の目的は、レーザ出力および観察光学系が加工塵の影
響を受けず、定常的にレーザ加工が行うことのできるレ
ーザ加工装置を提供することにある。
In particular, when the processing position is specified using this observation optical system, the detection level of the light amount changes due to the decrease in the incident light amount due to the attachment of the processing dust, and the processing positioning accuracy is lowered. In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of performing laser processing constantly without affecting the laser output and the observation optical system due to processing dust.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、周囲を加工雰囲気の吸引口に囲まれた保護カバー
を透過するレーザ光を上向きに出射するレーザ光出射部
と、被加工物の被加工面を前記レーザ光出射部に対して
下向きに保持する加工ステージと、前記レーザ光出射部
と前記加工ステージとの相対位置を水平面内で移動させ
るXY駆動装置とを有し、相対位置を変えながらまた加
工雰囲気と共に加工塵を吸引しながら、被加工面をレー
ザ加工するレーザ加工装置において、少なくとも前記吸
引口は複数に分割されており、前記レーザ光出射部の前
記加工ステージに対する加工方向の後ろ側の吸引口が動
作をするように制御する制御器を備えていることとす
る。
In order to achieve the above object, a laser beam emitting section for upwardly emitting a laser beam passing through a protective cover surrounded by a suction port of a processing atmosphere, and a workpiece. A processing stage for holding the surface to be processed downward with respect to the laser light emitting portion, and an XY drive device for moving a relative position between the laser light emitting portion and the processing stage in a horizontal plane, In a laser processing apparatus that laser-processes a surface to be processed while changing processing atmosphere and suctioning processing dust together with a processing atmosphere, at least the suction port is divided into a plurality of portions, and a processing direction of the laser light emitting unit with respect to the processing stage. And a controller that controls the suction port on the rear side of the device to operate.

【0009】前記レーザ光出射部は前記保護カバーに堆
積した加工塵を除去するワイパーを備えていると良い。
前記ワイパーは直接前記保護カバーに接触する布と、こ
の布の新しい部分を順次繰り出す手段と、この布に前記
保護カバーを擦る動作をさせる手段を有していると良
い。
Preferably, the laser beam emitting section includes a wiper for removing processing dust accumulated on the protective cover.
The wiper may include a cloth that directly contacts the protective cover, means for sequentially feeding out a new portion of the cloth, and means for causing the cloth to rub the protective cover.

【0010】前記保護カバーの加工塵による光透過のレ
ベルを検出する光学系を備え、この光学系から出力され
る光透過のレベル対応信号を前記ワイパーの動作開始信
号として用いると良い。前記光学系は、前記レーザ光出
射部と、前記加工ステージに備えられた、レーザ加工に
用いる前記保護カバーを通過したレーザ光の強度を測定
するレーザ光強度測定器からなると良い。
It is preferable that an optical system for detecting the level of light transmission due to processing dust on the protective cover be provided, and a signal corresponding to the level of light transmission output from the optical system be used as an operation start signal of the wiper. The optical system may include the laser light emitting unit and a laser light intensity measuring device provided on the processing stage, which measures the intensity of laser light passing through the protective cover used for laser processing.

【0011】前記光学系は、前記レーザ光出射部の前記
保護カバーの内側に備えられた光ビームを出射する光源
と、この光ビームを反射する前記加工ステージに備えら
れた鏡または被加工物に形成されたマーカーと、反射し
た光ビームの光強度を測定を測定する光強度測定器から
なると良い。
The optical system includes a light source for emitting a light beam provided inside the protective cover of the laser light emitting section, and a mirror or a workpiece provided on the processing stage for reflecting the light beam. It is preferable to include a marker formed and a light intensity measuring device for measuring the light intensity of the reflected light beam.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明に係る加工雰囲気の吸引動
作の方法にはいくつかあるが、主なものは次のように3
つに分類することができる。1は吸引機は1台と吸引ダ
クトは1本であり、吸引口の開閉可能な蓋が分割されて
おり、各蓋が開閉動作を個別制御される、2は1つの吸
引口を有する吸引ダクトが複数備えられ1台の吸引機に
接続され、吸引機と各ダクトの接続バルブの開閉が個別
制御される、3は一体化された1つの吸引口、吸引ダク
トおよび吸引機の吸引系が個別に備えられ、各吸引系の
吸引動作が個別制御される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS There are several methods for suctioning a processing atmosphere according to the present invention, and the main ones are as follows.
Can be classified into one. Reference numeral 1 denotes one suction machine and one suction duct, and a lid capable of opening and closing a suction port is divided, and each lid is individually controlled in opening and closing operations. 2 is a suction duct having one suction port. Are connected to one suction machine, and the opening and closing of the connection valve between the suction machine and each duct are individually controlled. 3 denotes one integrated suction port, suction duct and suction system of the suction machine are individually The suction operation of each suction system is individually controlled.

【0013】吸引口動作を制御する制御器は、レーザ加
工パターンのプログラムに従うXY駆動制御信号または
XY駆動装置から駆動方向信号を受け、これらを処理し
て加工方向に対応する吸引口の動作を出力する。 実施例1 図2は本発明に係るレーザ光出射部が移動するレーザ加
工装置を模式的に示す側面図である。レーザ光出射部1
はXY軸駆動装置3のステージ31に固定されており、
水平面内を任意の方向に移動が可能である。XY駆動は
レーザ加工パターンに対応する信号を入力されたXY制
御器32によって制御される。
A controller for controlling the operation of the suction port receives an XY drive control signal or a drive direction signal from an XY drive device according to a program of the laser processing pattern, processes these signals and outputs the operation of the suction port corresponding to the processing direction. I do. Embodiment 1 FIG. 2 is a side view schematically showing a laser processing apparatus according to the present invention in which a laser beam emitting unit moves. Laser light emitting unit 1
Is fixed to the stage 31 of the XY-axis driving device 3,
It can move in any direction in the horizontal plane. The XY drive is controlled by an XY controller 32 to which a signal corresponding to the laser processing pattern has been input.

【0014】この実施例では被加工物4は薄膜を形成さ
れたフレキシブルなフィルム基板である。フィルム基板
41はポリイミドフィルムであり、このポリイミドフィ
ルム上に厚さ0.2 μm のアルミニウム薄膜がスパッター
により形成されており、フィルム基板4はロール42に
巻き取られれている。ロール42から送り出されたフィ
ルム基板4は加工ステージ41に加工中は固定されてい
る。加工後フィルム基板4はロール43に巻き取られ
る。
In this embodiment, the workpiece 4 is a flexible film substrate on which a thin film is formed. The film substrate 41 is a polyimide film. An aluminum thin film having a thickness of 0.2 μm is formed on the polyimide film by sputtering, and the film substrate 4 is wound around a roll 42. The film substrate 4 sent out from the roll 42 is fixed to the processing stage 41 during processing. After the processing, the film substrate 4 is wound around a roll 43.

【0015】加工ステージ41の下面に固定されたフィ
ルム基板4にはレーザ光出射部1から出射されたレーザ
光が集光され、その部分のアルミニウム薄膜が除去され
る。レーザ光は、レーザ光制御部13によりON-OFF制御
されながら、XY水平面内を移動し、アルミニウム薄膜
を所定のパターンを形成する。加工時に発生する加工塵
は雰囲気ガスと共に、レーザ光出射部1の周囲に設けら
れた吸引口から吸引され、レーザ加工装置外部にある吸
引機23に吸引される。
The laser beam emitted from the laser beam emitting unit 1 is focused on the film substrate 4 fixed to the lower surface of the processing stage 41, and the aluminum thin film in that portion is removed. The laser light moves in the XY horizontal plane while being controlled on and off by the laser light control unit 13 to form a predetermined pattern on the aluminum thin film. Processing dust generated at the time of processing is sucked together with the atmospheric gas from a suction port provided around the laser light emitting unit 1 and is suctioned by a suction machine 23 provided outside the laser processing apparatus.

【0016】加工ステージ41の端部にはレーザ出力測
定器のヘッドL1が備えられており、レーザ光出射部1
をこの下に移動してきたときに、レーザ出力を測定する
ことができる。図1は本発明に係るレーザ加工装置のワ
イパーを有するレーザ光出射部の主要部を示し、(a)
は平面図であり、(b)は(a)におけるAA断面図で
あり、(c)はワイパーの側面図である。
At the end of the processing stage 41, a head L1 of a laser output measuring device is provided.
The laser output can be measured when is moved below this. FIG. 1 shows a main part of a laser beam emitting unit having a wiper of a laser processing apparatus according to the present invention, and FIG.
Is a plan view, (b) is an AA sectional view in (a), and (c) is a side view of the wiper.

【0017】この吸引ダクトは吸引ダクト21a、21
b、21cおよび21dの4つに等分に分割され、それ
ぞれの吸引口22a、22b、22cおよび22dが保
護カバー12を取り囲んでいる。各吸引ダクトは吸引と
停止をそれぞれ独立に制御部23により制御されてい
る。吸引ダクトに添えられた矢印は吸引された雰囲気ガ
ス(通常は空気)と加工塵の流れを示す。
The suction ducts are suction ducts 21a, 21a.
The suction ports 22a, 22b, 22c and 22d are equally divided into four parts b, 21c and 21d and surround the protective cover 12. The suction and stop of each suction duct are independently controlled by the control unit 23. Arrows attached to the suction duct indicate the flow of the suctioned atmospheric gas (usually air) and the processing dust.

【0018】そして、被加工面に対してレーザ光出射部
が進行する方向(加工方向という)に対し後方向の吸引
口だけが吸引を行うように吸引制御される。例えば、加
工方向がX方向であれば、吸引ダクト21dのみすなわ
ち吸引口22dのみが吸引しており、他の吸引ダクトは
吸引していない。こうすることにより、レーザ加工時に
発生した加工塵を、従来の加工方向に位置する吸引口で
吸引したときにおこる加工塵の呼び戻しを無くし、保護
カバー12への加工塵の堆積を抑止することができた。
Then, the suction control is performed so that only the suction port in the rear direction with respect to the direction in which the laser beam emitting portion advances with respect to the surface to be processed (referred to as the processing direction) performs suction. For example, if the processing direction is the X direction, only the suction duct 21d, that is, only the suction port 22d sucks, and the other suction ducts do not suck. By doing so, it is possible to eliminate the recall of the processing dust generated when the processing dust generated during laser processing is sucked by the suction port located in the conventional processing direction, and to suppress the accumulation of the processing dust on the protective cover 12. did it.

【0019】上記の雰囲気ガスの吸引だけでは、保護カ
バーへの加工塵の堆積は完全には防止できない。その対
策として、本発明では、保護カバーに堆積した加工塵を
除去するワイパー15をレーザ光出射部に備えた。ワイ
パーWの主部は布W1であり、布W1はロールW2から
供給され、ロールW3により保護カバー12に押しつけ
られるロールW4で回収される。これらは支持体W5に
支持されており、支持体W5はレールW6に沿って移動
し、布W1は保護カバー12上の加工塵をぬぐい取る。
ワイパーの移動毎に布W1を巻き取り、布W1の清浄な
面を供給する。
It is not possible to completely prevent the accumulation of processing dust on the protective cover only by sucking the above-mentioned atmospheric gas. As a countermeasure, in the present invention, a wiper 15 for removing the processing dust accumulated on the protective cover is provided in the laser beam emitting unit. The main part of the wiper W is a cloth W1, which is supplied from a roll W2 and collected by a roll W4 pressed against the protective cover 12 by a roll W3. These are supported by the support W5. The support W5 moves along the rail W6, and the cloth W1 wipes off the processing dust on the protective cover 12.
Each time the wiper moves, the cloth W1 is taken up and a clean surface of the cloth W1 is supplied.

【0020】ワイパーWを動作させるタイミングは保護
カバー12上の加工塵の量を光学的に検出して決める。
所定の加工量(例えばフィルム基板の1ステップ分の加
工)を終了する毎にレーザ光出射部1をヘッドL1の下
に移動させ、レーザ出力を測定できるようにした。そし
て、レーザ出力の低下が予め定めておいたレベル以下の
場合に、信号をワイパーWに送り、これを動作させた。
The timing for operating the wiper W is determined by optically detecting the amount of processing dust on the protective cover 12.
Each time a predetermined processing amount (for example, processing of one step of the film substrate) is completed, the laser light emitting unit 1 is moved below the head L1 so that the laser output can be measured. Then, when the decrease in the laser output was equal to or lower than a predetermined level, a signal was sent to the wiper W to operate it.

【0021】例えば、レーザ出力レベルを正常時の95
%に設定しておくことにより、ワイパーの動作は、フィ
ルム基板の1ステップ毎でなく多数ステップのレーザ加
工の後に行うようになり、レーザ加工工程の進捗は殆ど
妨げられることはなく、レーザ加工を常に安定して行う
ことができた。 実施例2 図3は本発明に係る被加工物が移動するレーザ加工装置
を模式的に示し、(a)は側面図であり、(b)は光学
系の断面図である。被加工物4はXY軸駆動装置3のX
Yステージ31に固定された加工ステージ41に装着さ
れており、水平面内の任意の方向に移動が可能である。
このような装置は枚葉式のパターニング工程に適用する
のが有効である。
For example, when the laser output level is 95
By setting to%, the operation of the wiper is performed not after every step of the film substrate but after many steps of laser processing, and the progress of the laser processing step is hardly hindered, and the laser processing is performed. I was always able to do it stably. Embodiment 2 FIGS. 3A and 3B schematically show a laser processing apparatus according to the present invention in which a workpiece moves, wherein FIG. 3A is a side view and FIG. 3B is a cross-sectional view of an optical system. The workpiece 4 is the X-axis drive device 3 X
It is mounted on a processing stage 41 fixed to the Y stage 31 and can be moved in any direction in a horizontal plane.
Such an apparatus is effectively applied to a single wafer type patterning process.

【0022】本実施例用いた被加工物はガラス基板42
であり、ガラス基板42上に厚さ0.1 μm の銀の薄膜が
スパッター形成されている。このガラス基板42は加工
ステージ41に真空吸着させ固定する。レーザ光出射部
1は、実施例1と同じであり、実施例1と同じ動作を行
う。この実施例では、保護カバーの加工塵の量の検出方
法が実施例1とは異なっている。レーザ光出射部1の保
護カバーの内側に光源L2と光検出器L3を備えてお
り、光源L2から発射された光ビームLBは被加工物4
2側の光反射体L4により反射され光検出器L3に戻
る、光検出器は光強度を検出する。光反射体L4は被加
工物42に装着または形成されても、あるいは加工ステ
ージ41に備えられても良い。この光検出光学系は加工
用レーザ光と波長が異なるのでレーザ光学系を利用して
もよい。
The workpiece used in this embodiment is a glass substrate 42
A silver thin film having a thickness of 0.1 μm is formed on the glass substrate 42 by sputtering. This glass substrate 42 is vacuum-adsorbed and fixed to the processing stage 41. The laser beam emitting unit 1 is the same as in the first embodiment, and performs the same operation as the first embodiment. This embodiment is different from the first embodiment in the method of detecting the amount of processing dust on the protective cover. A light source L2 and a photodetector L3 are provided inside the protective cover of the laser light emitting unit 1, and the light beam LB emitted from the light source L2 is
The light is reflected by the light reflector L4 on the second side and returns to the light detector L3. The light detector detects the light intensity. The light reflector L4 may be mounted or formed on the workpiece 42 or may be provided on the processing stage 41. Since the light detection optical system has a different wavelength from the processing laser light, a laser optical system may be used.

【0023】ガラス基板上には加工パターンのピッチ毎
の定位置には金属(この場合は銀)薄膜であるマーカー
が形成されている。マーカーの反射率は高く、一定であ
るので、このマーカーを光反射体L4として利用した。
1枚の基板の加工終了毎に、マーカーがレーザ光出射部
1の上に来るようにガラス基板を移動させ、マーカーか
らの反射光のレベルを測定し、加工塵の堆積量の判定を
行う。
On the glass substrate, a marker which is a metal (in this case, silver) thin film is formed at a fixed position for each pitch of the processing pattern. Since the reflectance of the marker was high and constant, this marker was used as the light reflector L4.
Each time the processing of one substrate is completed, the glass substrate is moved so that the marker is positioned above the laser light emitting unit 1, the level of the reflected light from the marker is measured, and the amount of the processed dust is determined.

【0024】反射光のレベルが所定の値以下であれば、
ワイパーを動作させる。例えば、保護カバーの汚れてい
ないときにマーカーによる反射光量(正常値)を測定し
ておき、保護カバーの光透過率の低下によるレベルを正
常値の95%に設定したところ、ワイパーの動作はレー
ザ加工工程の進捗を殆ど妨げることなく、レーザ加工を
常に安定して行うことができるようになった。
If the level of the reflected light is below a predetermined value,
Operate the wiper. For example, when the amount of light reflected by a marker (normal value) is measured when the protective cover is not dirty, and the level due to the decrease in light transmittance of the protective cover is set to 95% of the normal value, the operation of the wiper is laser. The laser processing can be constantly performed with little hindrance to the progress of the processing step.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明によれば、周囲を加工雰囲気の吸
引口に囲まれた保護カバーを透過するレーザ光を上向き
に出射するレーザ光出射部と、被加工物の被加工面を前
記レーザ光出射部に対して下向きに保持する加工ステー
ジと、前記レーザ光出射部と前記加工ステージとの相対
位置を水平面内で移動させるXY駆動装置とを有し、相
対位置を変えながらまた加工雰囲気と共に加工塵を吸引
しながら、被加工面をレーザ加工するレーザ加工装置に
おいて、少なくとも前記吸引口を複数に分割し、前記レ
ーザ光出射部の前記加工ステージに対する加工方向の後
ろ側の吸引口を動作をするように制御する制御器を備え
たため、従来の加工方向上手の吸引口で吸引したときに
おこる加工塵の呼び戻しを無くし、保護カバー12への
加工塵の堆積を抑止することができた。
According to the present invention, there is provided a laser beam emitting portion for upwardly emitting a laser beam passing through a protective cover surrounded by a suction port of a processing atmosphere, and a laser beam emitting portion for forming a laser beam on the workpiece surface of the workpiece. A processing stage that holds the light emitting unit downward, and an XY drive device that moves the relative position between the laser light emitting unit and the processing stage in a horizontal plane, and changes the relative position and also together with the processing atmosphere. In a laser processing apparatus that performs laser processing on a surface to be processed while sucking processing dust, at least the suction port is divided into a plurality of pieces, and the suction port on the rear side in the processing direction of the laser light emitting unit with respect to the processing stage is operated. To eliminate the recall of processing dust that occurs when suction is performed by a conventional suction port that is superior in the processing direction, and suppresses the accumulation of processing dust on the protective cover 12. I was able to.

【0026】また、前記レーザ光出射部は前記保護カバ
ーに堆積した加工塵を除去するワイパーを備えたため、
保護カバーに僅かに付着した加工塵は除去され、光透過
率は低下せず、レーザ出射部からのレーザ出力は低下す
ることはなくなり、また、被加工物の位置特定を正確に
行うことができるようになったので、レーザ加工は常
に、良好に行うことができ、歩留りが向上する。
Further, since the laser beam emitting section has a wiper for removing processing dust accumulated on the protective cover,
Processing dust slightly adhered to the protective cover is removed, the light transmittance does not decrease, the laser output from the laser emitting unit does not decrease, and the position of the workpiece can be accurately specified. As a result, laser processing can always be performed well, and the yield is improved.

【0027】また、保護カバーの光透過率を監視できる
ようになったので、ワイパーを間欠的に行えばよくな
り、レーザ加工の効率が向上する。
Further, since the light transmittance of the protective cover can be monitored, the wiper may be intermittently performed, and the efficiency of laser processing is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るレーザ加工装置のレーザ光出射部
の主要部を示し、(a)は平面図であり、(b)は
(a)におけるAA断面図であり、(c)はワイパーの
側面図
FIGS. 1A and 1B show a main part of a laser beam emitting part of a laser processing apparatus according to the present invention, wherein FIG. 1A is a plan view, FIG. Side view of

【図2】本発明に係るレーザ光出射部が移動するレーザ
加工装置を模式的に示す側面図
FIG. 2 is a side view schematically showing a laser processing apparatus according to the present invention in which a laser beam emitting unit moves.

【図3】本発明に係る被加工物が移動するレーザ加工装
置を模式的に示し、(a)は側面図であり、(b)は光
学系の断面図
3A and 3B schematically show a laser processing apparatus according to the present invention in which a workpiece moves, wherein FIG. 3A is a side view, and FIG. 3B is a cross-sectional view of an optical system.

【図4】上向き出射のレーザ加工装置の主要部を模式的
に示す断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a main part of an upward-emission laser processing apparatus.

【図5】従来の保護カバーおよび吸引口を有するレーザ
出射部の主要部を示し(a)は平面図であり、(b)は
(a)におけるAA断面図
5 (a) is a plan view, and FIG. 5 (b) is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光出射部 11 集光レンズ 12 保護カバー 21 吸引ダクト 21a…21d 吸引ダクト 22 吸引口 22a…22d 吸引口 23 吸気ポンプ 3 XY駆動装置 31 XYステージ 32 XY制御器 41 加工ステージ 42 被加工物 43 ロール 44 ロール W ワイパー W1 布 W2 ロール W3 ロール W4 ロール W5 ロール W6 レール L1 レーザ光強度測定器 L2 光源 L3 光強度測定器 L4 反射体 LB 光ビーム REFERENCE SIGNS LIST 1 laser light emitting unit 11 condensing lens 12 protective cover 21 suction duct 21 a ... 21 d suction duct 22 suction port 22 a ... 22 d suction port 23 suction pump 3 XY drive device 31 XY stage 32 XY controller 41 processing stage 42 workpiece 43 Roll 44 Roll W Wiper W1 Cloth W2 Roll W3 Roll W4 Roll W5 Roll W6 Rail L1 Laser light intensity measuring device L2 Light source L3 Light intensity measuring device L4 Reflector LB Light beam

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】周囲を加工雰囲気の吸引口に囲まれた保護
カバーを透過するレーザ光を上向きに出射するレーザ光
出射部と、被加工物の被加工面を前記レーザ光出射部に
対して下向きに保持する加工ステージと、前記レーザ光
出射部と前記加工ステージとの相対位置を水平面内で移
動させるXY駆動装置とを有し、相対位置を変えながら
また加工雰囲気と共に加工塵を吸引しながら、被加工面
をレーザ加工するレーザ加工装置において、少なくとも
前記吸引口は複数に分割されており、前記レーザ光出射
部の前記加工ステージに対する加工方向の後ろ側の吸引
口が動作をするように制御する制御器を備えていること
を特徴とするレーザ加工装置。
1. A laser beam emitting section for emitting a laser beam passing through a protective cover surrounded by a suction port of a processing atmosphere, and a laser beam emitting section upwardly, and a processing surface of a workpiece to the laser beam emitting section. It has a processing stage that holds it downward, and an XY drive device that moves the relative position between the laser beam emitting unit and the processing stage in a horizontal plane, while changing the relative position and sucking the processing dust together with the processing atmosphere. In a laser processing apparatus that performs laser processing on a surface to be processed, at least the suction port is divided into a plurality of pieces, and the suction port on the rear side in the processing direction of the laser light emitting unit with respect to the processing stage is controlled to operate. A laser processing apparatus, comprising:
【請求項2】前記レーザ光出射部は前記保護カバーに堆
積した加工塵を除去するワイパーを備えていることを特
徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
2. A laser processing apparatus according to claim 1, wherein said laser beam emitting section includes a wiper for removing processing dust accumulated on said protective cover.
【請求項3】前記ワイパーは直接前記保護カバーに接触
する布と、この布の新しい部分を順次繰り出す手段と、
この布に前記保護カバーを擦る動作をさせる手段を有し
ていることを特徴とする請求項2に記載のレーザ加工装
置。
3. The wiper includes a cloth directly in contact with the protective cover, and means for sequentially feeding out a new part of the cloth.
3. The laser processing apparatus according to claim 2, further comprising means for rubbing the protective cover with the cloth.
【請求項4】前記保護カバーの加工塵による光透過のレ
ベルを検出する光学系を備え、この光学系から出力され
る光透過のレベル対応信号を前記ワイパーの動作開始信
号として用いることを特徴とする請求項1ないし3に記
載のレーザ加工装置。
4. An optical system for detecting a level of light transmission due to processing dust on the protective cover, wherein a signal corresponding to a level of light transmission output from the optical system is used as an operation start signal of the wiper. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein
【請求項5】前記光学系は、前記レーザ光出射部と、前
記加工ステージに備えられた、レーザ加工に用いる前記
保護カバーを通過したレーザ光の強度を測定するレーザ
光強度測定器からなることを特徴とする請求項4に記載
のレーザ加工装置。
5. The optical system according to claim 1, wherein the optical system includes the laser light emitting unit and a laser light intensity measuring device provided on the processing stage for measuring the intensity of laser light passing through the protective cover used for laser processing. The laser processing apparatus according to claim 4, wherein:
【請求項6】前記光学系は、前記レーザ光出射部の前記
保護カバーの内側に備えられた光ビームを出射する光源
と、この光ビームを反射する前記加工ステージに備えら
れた鏡または被加工物に形成されたマーカーと、反射し
た光ビームの光強度を測定を測定する光強度測定器から
なることを特徴とする請求項4に記載のレーザ加工装
置。
6. An optical system comprising: a light source for emitting a light beam provided inside the protective cover of the laser beam emitting portion; and a mirror or a workpiece provided on the processing stage for reflecting the light beam. The laser processing apparatus according to claim 4, comprising a marker formed on the object and a light intensity measuring device for measuring the light intensity of the reflected light beam.
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