JP5356741B2 - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment Download PDF

Info

Publication number
JP5356741B2
JP5356741B2 JP2008178792A JP2008178792A JP5356741B2 JP 5356741 B2 JP5356741 B2 JP 5356741B2 JP 2008178792 A JP2008178792 A JP 2008178792A JP 2008178792 A JP2008178792 A JP 2008178792A JP 5356741 B2 JP5356741 B2 JP 5356741B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
laser processing
laser
workpiece
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008178792A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010017732A (en
Inventor
俊博 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2008178792A priority Critical patent/JP5356741B2/en
Publication of JP2010017732A publication Critical patent/JP2010017732A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5356741B2 publication Critical patent/JP5356741B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

本発明は、加工位置を移動しながらワークのレーザ加工を行うレーザ加工装置に関するものである。   The present invention relates to a laser processing apparatus that performs laser processing of a workpiece while moving a processing position.

穴あけ加工用のレーザ加工装置は、レーザ発振器から出たパルス状のレーザビームをワーク上に集光してワークのレーザ加工を行うものである。このようなレーザ加工装置では、XYテーブル上にワークを載置し、加工ヘッドをワーク上の所望の位置(加工位置)に移動させて穴あけ加工を行っている。加工位置を移動させる場合、レーザ加工装置は、XYテーブルを駆動して次にレーザ加工を行う位置まで相対的に加工ヘッドを移動させる。以後、この動作の繰り返しによってワークの全領域がレーザ加工される。   A laser processing apparatus for drilling is to perform laser processing on a workpiece by condensing a pulsed laser beam emitted from a laser oscillator on the workpiece. In such a laser processing apparatus, a workpiece is placed on an XY table, and a drilling process is performed by moving a processing head to a desired position (processing position) on the workpiece. When moving the processing position, the laser processing apparatus drives the XY table and relatively moves the processing head to a position where laser processing is performed next. Thereafter, the entire region of the workpiece is laser processed by repeating this operation.

レーザ発振器から照射されたレーザビームは、ワーク上の加工点で集光されることによって、単位面積あたり例えば数十(mJ/mm2)程度の熱エネルギーを加工点にかける。これにより、加工点では瞬時に材料が昇華し、加工粉塵が舞い上がる。レーザ加工装置がレーザ加工する材料は、樹脂などの有機材料、セラミクスなどの無機材料が一般的である。また、レーザ加工装置は、表面処理された銅箔に覆われた樹脂を加工する場合もある。このように、レーザ加工装置は種々の材料をレーザ加工するので、加工粉塵には種々の成分が含まれている。 The laser beam irradiated from the laser oscillator is condensed at a processing point on the workpiece, and thereby, for example, thermal energy of about several tens (mJ / mm 2 ) per unit area is applied to the processing point. As a result, at the processing point, the material instantly sublimes and the processing dust rises. As a material to be laser processed by a laser processing apparatus, an organic material such as a resin or an inorganic material such as ceramic is generally used. The laser processing apparatus may process a resin covered with a surface-treated copper foil. As described above, since the laser processing apparatus performs laser processing on various materials, the processing dust contains various components.

この加工粉塵を取り除くため、従来のレーザ加工装置には、加工粉塵の集塵機構としてドライエアーなどのガスを噴射する加工ガス噴射機構と加工室の空気を集塵する集塵ダクトが設けられている。そして、加工ガス噴射機構と集塵ダクトとによって加工ヘッドを挟むとともに風を一方向に流すことで、ワーク上から発生した加工粉塵を加工ヘッドに到達する前に集塵ダクト側に流している(例えば、特許文献1参照)。   In order to remove the processing dust, the conventional laser processing apparatus is provided with a processing gas injection mechanism for injecting a gas such as dry air and a dust collection duct for collecting the air in the processing chamber as a dust collection mechanism for the processing dust. . Then, by sandwiching the machining head between the machining gas injection mechanism and the dust collection duct and flowing the wind in one direction, machining dust generated from the workpiece is caused to flow toward the dust collection duct before reaching the machining head ( For example, see Patent Document 1).

また、加工レンズが汚損されると加工不良の原因となるので、レーザ加工装置の加工レンズを保護しておく必要がある。このため、例えば、加工ヘッドを上部筒体とこの上部筒体に支持された下部筒体とで構成し、上部筒体にはレーザビームをワーク上に集光するための集光レンズを配置するとともに、下部筒体には集光レンズを保護するためのウインドウレンズを配置した加工ヘッドがある(例えば、特許文献2参照)。   Further, if the processed lens is soiled, it may cause a processing failure. Therefore, it is necessary to protect the processed lens of the laser processing apparatus. For this reason, for example, the processing head is composed of an upper cylinder and a lower cylinder supported by the upper cylinder, and a condensing lens for condensing the laser beam on the workpiece is arranged in the upper cylinder. In addition, there is a processing head in which a window lens for protecting the condenser lens is disposed in the lower cylindrical body (see, for example, Patent Document 2).

国際公開第WO2002/076668号パンフレットInternational Publication No. WO2002 / 0776668 Pamphlet 特開2005−125339号公報JP 2005-125339 A

しかしながら、加工粉塵の中には加工レンズを保護するための光学素子(保護ウィンドゥ)まで到達するものがある。この加工粉塵は、光学素子に堆積するので、レーザ加工が進行するにつれて保護ウィンドゥの下面に汚れが生じる。加工粉塵の光学素子への付着量が多くなると保護ウィンドゥを通過するレーザビームの量が減るので、ワークの加工点に集光されるレーザビームの光エネルギーが小さくなる。この光エネルギーの減少量が加工裕度を下回ってしまった場合、レーザ加工される穴の穴径が所望の穴径よりも小さくなるといった加工不良が発生する場合がある。このため、上記前者および後者の従来技術では、保護ウィンドゥを頻繁に清掃しなければならないという問題があった。   However, some processed dust reaches an optical element (protective window) for protecting the processed lens. Since this processed dust accumulates on the optical element, dirt is generated on the lower surface of the protective window as laser processing proceeds. When the amount of machining dust adhering to the optical element increases, the amount of the laser beam passing through the protective window decreases, so that the optical energy of the laser beam focused on the workpiece processing point decreases. If the reduction amount of the light energy is less than the processing margin, there may be a processing failure such that the hole diameter of the hole to be laser processed becomes smaller than the desired hole diameter. For this reason, the former and latter prior arts have a problem that the protective window must be frequently cleaned.

また、発生する加工粉塵の量が多い場合には、1枚のワークを加工する途中で保護ウィンドゥを清掃した方がよい場合もある。上記前者および後者の従来技術では、1枚のワークを加工する途中で保護ウィンドゥを清掃するためには、ワークの加工を中止して保護ウィンドゥを清掃しなければならいので、ワークの加工時間が増大するという問題があった。   In addition, when the amount of processing dust generated is large, it may be better to clean the protective window while processing one workpiece. In the former and the latter prior arts, in order to clean the protective window during the machining of a single workpiece, the machining of the workpiece must be stopped and the protective window must be cleaned, thus increasing the machining time of the workpiece. There was a problem to do.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ワークの加工処理時間を増大させることなく加工不良の発生を抑制することができるレーザ加工装置を得ることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to obtain a laser processing apparatus capable of suppressing the occurrence of processing defects without increasing the processing time of a workpiece.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、レーザビームをワーク上の加工位置に集光する集光レンズと、前記集光レンズの下面側であるレーザビームを照射する側に配設されて前記集光レンズを保護する保護部材と、を具備した加工ヘッドを有するとともに、前記加工ヘッドから前記レーザビームをワークに照射することによってワークのレーザ加工を行うレーザ加工装置において、前記ワークの主面と平行な面内で前記加工ヘッドと前記ワークとの相対位置を移動させながら前記ワーク上に設定された複数の加工エリアを順番にレーザ加工するレーザ加工部と、前記ワークにレーザビームを照射する側である前記保護部材の底面上を当該底面と接しながら移動することによって前記保護部材の底面を清掃する清掃部材と、前記清掃部材の動作を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、レーザ加工を開始してからの時間が所定時間となった場合、レーザ加工を開始してからの加工穴の個数が所定数となった場合またはレーザ加工を開始してからの前記ワークの加工枚数が所定枚数となった場合の何れかのタイミングであって、且つ前記複数の加工エリアの1つの加工エリアのレーザ加工が完了して次の加工エリアの上方に前記加工ヘッドが来るように前記レーザ加工部がレーザビームの照射を停止して前記加工ヘッドと前記ワークとの相対位置を移動させている間に前記清掃部材を動作させて前記清掃部材に前記保護部材の清掃を行なわせることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention includes a condensing lens that condenses a laser beam at a processing position on a workpiece, and a laser beam irradiation side that is the lower surface side of the condensing lens. In a laser processing apparatus for performing laser processing on a workpiece by irradiating the workpiece with the laser beam from the processing head. A laser processing unit for sequentially laser processing a plurality of processing areas set on the workpiece while moving a relative position between the processing head and the workpiece in a plane parallel to the main surface of the workpiece; A cleaning member that cleans the bottom surface of the protection member by moving while contacting the bottom surface of the protection member on the laser beam irradiation side; A control unit that controls the operation of the cleaning member, and when the time from the start of laser processing reaches a predetermined time, the control unit determines the number of processing holes after the start of laser processing. Laser processing of one processing area of the plurality of processing areas at any timing when the predetermined number is reached or when the number of workpieces processed after laser processing is started becomes a predetermined number during but which completed is moved a relative position between said and said machining head laser processing unit stops the radiation of the laser beam so that the machining head comes above the next processing area the workpiece, the A cleaning member is operated to cause the cleaning member to clean the protection member.

この発明によれば、レーザビームの照射を停止して加工ヘッドとワークとの相対位置を移動させている間に清掃部材に保護部材の清掃を行なわせるので、ワークの加工処理時間を増大させることなく加工不良の発生を抑制することができるという効果を奏する。   According to the present invention, since the cleaning member cleans the protective member while stopping the irradiation of the laser beam and moving the relative position between the processing head and the workpiece, the processing time of the workpiece is increased. There is an effect that the occurrence of processing defects can be suppressed.

以下に、本発明に係るレーザ加工装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。   Embodiments of a laser processing apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiments.

実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係るレーザ加工装置を示す図である。レーザ加工装置100は、多層プリント基板やセラミック板(グリーンシート)などのワークWをレーザ加工する装置であり、レーザ発振器(図示せず)から出射されるパルス状のレーザビームLをワークWに集光してワークWの穴あけ加工などを行う。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a diagram showing a laser processing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. The laser processing apparatus 100 is an apparatus for laser processing a workpiece W such as a multilayer printed circuit board or a ceramic plate (green sheet), and collects a pulsed laser beam L emitted from a laser oscillator (not shown) on the workpiece W. Light and drill the workpiece W.

レーザ加工装置100は、加工ヘッド1、XYテーブル3、ガス噴射機構4、集塵ダクト5、拭き取り機構7、制御装置10を有している。加工ヘッド1は、レーザビームを走査するデバイス、集光レンズ、保護ウィンドゥ(保護部材)2を備えており、レーザ発振器からのレーザビームLを集光してワークWに照射する。   The laser processing apparatus 100 includes a processing head 1, an XY table 3, a gas injection mechanism 4, a dust collection duct 5, a wiping mechanism 7, and a control device 10. The processing head 1 includes a laser beam scanning device, a condensing lens, and a protective window (protective member) 2, and condenses the laser beam L from the laser oscillator and irradiates the workpiece W.

なお、レーザ加工装置100内の構成要素のうちワークWにレーザビームLを照射してワークWにレーザ加工を行う構成要素が、特許請求の範囲に記載のレーザ加工部に対応する。   Of the constituent elements in the laser processing apparatus 100, the constituent elements that perform laser processing on the workpiece W by irradiating the workpiece W with the laser beam L correspond to the laser processing section described in the claims.

加工ヘッド1は、図示しない加工レンズを含んで構成されており、概略円柱状をなしている。レーザ発振器からのレーザビームLは、加工ヘッド1の概略円柱状の上面側から入射され、下面側から出射される。   The processing head 1 includes a processing lens (not shown) and has a substantially cylindrical shape. The laser beam L from the laser oscillator is incident from the substantially cylindrical upper surface side of the processing head 1 and is emitted from the lower surface side.

加工ヘッド1の下面には、加工ヘッド1の下面側を保護するための光学部品である保護ウィンドゥ2が設けられている。保護ウィンドゥ2は、概略円板状をなしており、一方の主面(上面側)が加工ヘッド1の下面と当接するよう配置されている。したがって、加工ヘッド1の下面側から出射されたレーザビームLは、保護ウィンドゥ2の上面側から下面側(Z軸方向)に向かって保護ウィンドゥ2を通過し、保護ウィンドゥ2の下面(底面)側から出射される。加工ヘッド1および保護ウィンドゥ2は、それぞれの主面がXYテーブル3と平行となるよう、レーザ加工装置100内に配置されている。   A protective window 2 that is an optical component for protecting the lower surface side of the machining head 1 is provided on the lower surface of the machining head 1. The protective window 2 has a substantially disk shape, and is arranged so that one main surface (upper surface side) abuts the lower surface of the processing head 1. Therefore, the laser beam L emitted from the lower surface side of the machining head 1 passes through the protective window 2 from the upper surface side of the protective window 2 toward the lower surface side (Z-axis direction), and the lower surface (bottom surface) side of the protective window 2. It is emitted from. The machining head 1 and the protective window 2 are arranged in the laser machining apparatus 100 so that their main surfaces are parallel to the XY table 3.

XYテーブル3は、ワークWを載置するとともにXY平面上を移動する。XYテーブル3は、例えばワークWを下面側から吸着することによってワークWをXYテーブル3上に固定する。   The XY table 3 places the workpiece W and moves on the XY plane. The XY table 3 fixes the work W on the XY table 3, for example, by sucking the work W from the lower surface side.

ガス噴射機構4と集塵ダクト5は、レーザ加工の際にワークWから発生する加工粉塵Hを集塵するための装置である。ガス噴射機構4と集塵ダクト5は、ガス噴射機構4と集塵ダクト5とによって加工ヘッド1を挟むによう配置しておく。   The gas injection mechanism 4 and the dust collection duct 5 are devices for collecting the machining dust H generated from the workpiece W during laser processing. The gas injection mechanism 4 and the dust collection duct 5 are arranged so that the machining head 1 is sandwiched between the gas injection mechanism 4 and the dust collection duct 5.

ガス噴射機構4は、ドライエアーなどのガスを集塵ダクト5側へ噴射することによって風を一方向に流し、ワークWから発生する加工粉塵Hを集塵ダクト5側へ送る。集塵ダクト5は、加工室の空気を吸い込むことによって、ワークWから発生する加工粉塵Hを集塵する。   The gas injection mechanism 4 causes a wind to flow in one direction by injecting a gas such as dry air to the dust collection duct 5 side, and sends processing dust H generated from the workpiece W to the dust collection duct 5 side. The dust collection duct 5 collects the machining dust H generated from the workpiece W by sucking air in the machining chamber.

拭き取り機構7は、本実施の形態の1つの特徴であり、保護ウィンドゥ2に付着した加工粉塵Hを拭き取ることによって保護ウィンドゥ2を清掃する。拭き取り機構7は、棒状の拭き取り装置(清掃部材)6を有しており、この拭き取り装置6が保護ウィンドゥ2の下面上を下面と接しながら移動することによって保護ウィンドゥ2の加工粉塵Hを拭き取る。   The wiping mechanism 7 is one feature of the present embodiment, and cleans the protective window 2 by wiping off the processing dust H adhering to the protective window 2. The wiping mechanism 7 has a bar-like wiping device (cleaning member) 6, and the wiping device 6 moves on the lower surface of the protective window 2 in contact with the lower surface, thereby wiping the processing dust H of the protective window 2.

制御装置(制御部)10は、拭き取り機構7と接続している。制御装置10は、XYテーブル3の動作に基づいて、拭き取り機構7を制御する。本実施の形態の制御装置10は、XYテーブル3が移動している間(レーザ照射の行なわれていない間)に、拭き取り機構7を動作させて保護ウィンドゥ2の清掃を行う。   The control device (control unit) 10 is connected to the wiping mechanism 7. The control device 10 controls the wiping mechanism 7 based on the operation of the XY table 3. The control device 10 according to the present embodiment cleans the protective window 2 by operating the wiping mechanism 7 while the XY table 3 is moving (while laser irradiation is not performed).

なお、図1では、ワークWのレーザ加工に関する制御を行う後述の加工制御部31の図示を省略している。加工制御部31は、例えば、加工位置の制御やレーザビームLの出射制御を行うため、XYテーブル3やレーザ発振器の制御を行う。加工制御部31は、制御装置10と接続されており、制御装置10にXYテーブル3の移動に関する情報を送信する。   In FIG. 1, a machining control unit 31 (to be described later) that performs control related to laser machining of the workpiece W is not shown. For example, the processing control unit 31 controls the XY table 3 and the laser oscillator in order to control the processing position and the emission control of the laser beam L. The processing control unit 31 is connected to the control device 10 and transmits information related to the movement of the XY table 3 to the control device 10.

レーザ加工装置100では、加工ヘッド1をワークW上の所望の加工位置に位置決めして穴あけ加工を行う。レーザ加工装置100は、位置決めされた1箇所の加工位置で、所定数の穴あけ加工を行う。図1では、1箇所の加工位置で9個の穴Pを穴あけ加工する場合を示している。   In the laser processing apparatus 100, the processing head 1 is positioned at a desired processing position on the workpiece W to perform drilling. The laser processing apparatus 100 performs a predetermined number of holes at one positioned processing position. FIG. 1 shows a case where nine holes P are drilled at one processing position.

1箇所の加工位置(加工エリア内)で加工可能な穴Pの数などは任意であり、予めレーザ加工装置100の加工制御部31にプログラムしておく。ワークWには、所定の面積で構成される複数の加工エリアが設定される。レーザ加工装置100は、XYテーブル3を移動させることによって、次にレーザ加工を行う位置の上方に加工ヘッド1が来るよう加工ヘッド1を相対的に移動させる。レーザ加工装置100は、加工エリア内でのレーザ加工を完了すると、次の加工エリアに加工ヘッド1を移動させて次の加工位置でのレーザ加工を行う処理を繰り返す。以後、この動作の繰り返しは、ワークWの全面(全ての加工エリア)のレーザ加工が完了するまで行なわれる。XYテーブル3の移動ルートは、予めレーザ加工装置100の加工制御部31にプログラムしておく。図1では、レーザ加工装置100が加工エリアA1をレーザ加工した後、XYテーブル3を移動させて加工エリアA2をレーザ加工する場合を示している。   The number of holes P that can be machined at one machining position (in the machining area) is arbitrary, and is programmed in advance in the machining control unit 31 of the laser machining apparatus 100. A plurality of machining areas each having a predetermined area are set for the workpiece W. The laser processing apparatus 100 moves the XY table 3 to relatively move the processing head 1 so that the processing head 1 is positioned above the position where laser processing is performed next. When the laser processing in the processing area is completed, the laser processing apparatus 100 moves the processing head 1 to the next processing area and repeats the processing for performing laser processing at the next processing position. Thereafter, this operation is repeated until the laser processing of the entire surface of the workpiece W (all processing areas) is completed. The movement route of the XY table 3 is programmed in advance in the machining control unit 31 of the laser machining apparatus 100. FIG. 1 shows a case where the laser processing apparatus 100 performs laser processing on the processing area A1, and then moves the XY table 3 to perform laser processing on the processing area A2.

つぎに、拭き取り機構7の構成について説明する。図2は、拭き取り機構の構成を示す図である。拭き取り機構7は、拭き取り装置6と拭き取り装置駆動機構を有している。拭き取り装置駆動機構は、モータMを備えて構成され、モータMが制御装置10からの指示に従って拭き取り装置6を駆動させる。   Next, the configuration of the wiping mechanism 7 will be described. FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of the wiping mechanism. The wiping mechanism 7 includes a wiping device 6 and a wiping device driving mechanism. The wiping device driving mechanism includes a motor M, and the motor M drives the wiping device 6 in accordance with an instruction from the control device 10.

モータMは、概略棒状の支持部21と接合されており、この支持部21をXY平面内で移動させる。支持部21の一方の端部(モータMと反対側)には、拭き取り装置6が接合されており、拭き取り装置6は支持部21とともにXY平面内を移動する。支持部21の他方の端部(モータM側)側の近傍には、2つのストッパS,Sが配置されており、支持部21は、このストッパS,Sの間を往復する。   The motor M is joined to a substantially rod-shaped support portion 21 and moves the support portion 21 in the XY plane. The wiping device 6 is joined to one end (the side opposite to the motor M) of the support portion 21, and the wiping device 6 moves in the XY plane together with the support portion 21. Two stoppers S and S are disposed near the other end (motor M side) of the support portion 21, and the support portion 21 reciprocates between the stoppers S and S.

拭き取り装置6は、保護ウィンドゥ2を清掃する側を尖らせてある。拭き取り装置6は、例えば三角柱状をなしており、高さ方向の1つの辺が保護ウィンドゥ2の下面と向かい合っている。換言すると、拭き取り装置6は、長手方向となる柱軸方向が、支持部21の長手方向と略平行になるとともに、長手方向に延びる1つの側面(下部)が、支持部21の上部側と向き合うよう支持部21に接合されている。   The wiping device 6 has a sharp side for cleaning the protective window 2. The wiping device 6 has, for example, a triangular prism shape, and one side in the height direction faces the lower surface of the protective window 2. In other words, in the wiping device 6, the column axis direction as the longitudinal direction is substantially parallel to the longitudinal direction of the support portion 21, and one side surface (lower portion) extending in the longitudinal direction faces the upper side of the support portion 21. So as to be joined to the support portion 21.

ここで、拭き取り装置6の動作を説明する。図3および図4は、拭き取り装置6の動作を説明するための図である。図3は、加工ヘッド1をY軸方向から見た加工ヘッド1の断面図(加工ヘッド1をXZ平面で切断した場合の図)を示している。また、図4は、加工ヘッド1をZ軸方向から見た加工ヘッド1の下面図を示している。   Here, the operation of the wiping device 6 will be described. 3 and 4 are diagrams for explaining the operation of the wiping device 6. FIG. FIG. 3 shows a cross-sectional view of the machining head 1 when the machining head 1 is viewed from the Y-axis direction (a view when the machining head 1 is cut along the XZ plane). FIG. 4 is a bottom view of the machining head 1 when the machining head 1 is viewed from the Z-axis direction.

図3に示すように、加工ヘッド1の下部に保護ウィンドゥ2が設けられており、保護ウィンドゥ2の下部側(底面)と拭き取り装置6が接するよう拭き取り装置6は配置されている。そして、拭き取り装置6がXY平面内を移動することによって拭き取り装置6が保護ウィンドゥ2の底面を清掃する。   As shown in FIG. 3, a protective window 2 is provided at the lower part of the machining head 1, and the wiping device 6 is arranged so that the lower side (bottom surface) of the protective window 2 and the wiping device 6 are in contact with each other. Then, the wiping device 6 cleans the bottom surface of the protective window 2 as the wiping device 6 moves in the XY plane.

また、図4に示すように、拭き取り装置6の長手方向は、保護ウィンドゥ2の直径よりも大きく構成されている。そして、支持部21がモータMの位置を中心としてストッパS,Sの間を移動することによって、拭き取り装置6はXY平面内で所定の角度だけ扇型を描くよう回転する。ストッパS,Sは、拭き取り装置6と接触することによって拭き取り装置6を停止させ、拭き取り装置6が所定の範囲外へ移動しないよう拭き取り装置6の動作を制限する。   As shown in FIG. 4, the longitudinal direction of the wiping device 6 is configured to be larger than the diameter of the protective window 2. Then, as the support portion 21 moves between the stoppers S and S around the position of the motor M, the wiping device 6 rotates to draw a fan shape by a predetermined angle in the XY plane. The stoppers S and S stop the wiping device 6 by coming into contact with the wiping device 6 and restrict the operation of the wiping device 6 so that the wiping device 6 does not move out of a predetermined range.

拭き取り装置6は、保護ウィンドゥ2を清掃する際には、保護ウィンドゥ2と接しながら移動し、保護ウィンドゥ2を清掃しない間(レーザ照射されている間)は、保護ウィンドゥ2と接しないよう保護ウィンドゥ2の外側で待機する。   When the protective window 2 is cleaned, the wiping device 6 moves while contacting the protective window 2, and the protective window 2 is not in contact with the protective window 2 while the protective window 2 is not cleaned (while the laser is irradiated). Wait outside of 2.

なお、拭き取り装置駆動機構は、モータMによるモータ駆動に限らず、エア駆動によって支持部21を移動させてもよい。また、ここでは拭き取り装置6が三角柱状である場合について説明したが、拭き取り装置6の形状は三角柱状に限らず何れの形状であってもよい。   The wiping device drive mechanism is not limited to motor drive by the motor M, and the support portion 21 may be moved by air drive. Moreover, although the case where the wiping apparatus 6 is a triangular prism shape was demonstrated here, the shape of the wiping apparatus 6 is not restricted to a triangular prism shape, Any shape may be sufficient.

本実施の形態の拭き取り機構7は、XYテーブル3が駆動している時間(加工ヘッド1のワークW上の位置を相対的に移動させる例えば0.3〜1秒程度)を利用して、保護ウィンドゥ2に付着している加工粉塵Hを清掃する。具体的には、レーザ加工装置100では、XYテーブル3を移動させながら拭き取り装置6を駆動させる。例えば、加工エリアA1を加工した後、加工ヘッド1が加工エリアA1から加工エリアA2に移動するまでの間に、拭き取り装置6が駆動して保護ウィンドゥ2に付着している加工粉塵Hを清掃する。このとき、拭き取り装置6は、例えばXYテーブル3が移動している時間に応じた回数だけ保護ウィンドゥ2の下面上を往復移動する。   The wiping mechanism 7 of the present embodiment protects using the time during which the XY table 3 is driven (for example, about 0.3 to 1 second for moving the position of the processing head 1 on the workpiece W relative). The processing dust H adhering to the window 2 is cleaned. Specifically, in the laser processing apparatus 100, the wiping device 6 is driven while moving the XY table 3. For example, after the machining area A1 is machined and before the machining head 1 moves from the machining area A1 to the machining area A2, the wiping device 6 is driven to clean the machining dust H adhering to the protective window 2. . At this time, the wiping device 6 reciprocates on the lower surface of the protective window 2 by the number of times corresponding to the time during which the XY table 3 is moving, for example.

つぎに、制御装置10の詳細な構成について説明する。図5は、実施の形態1に係る制御装置の構成を示すブロック図である。制御装置10は、PC(Personal Computer)などの装置であり、テーブル動作情報入力部11、動作指令部12、モータ制御部13を含んで構成されている。   Next, a detailed configuration of the control device 10 will be described. FIG. 5 is a block diagram illustrating a configuration of the control device according to the first embodiment. The control device 10 is a device such as a PC (Personal Computer), and includes a table operation information input unit 11, an operation command unit 12, and a motor control unit 13.

テーブル動作情報入力部11は、XYテーブル3の動作に関する情報(XYテーブル3が移動する際に用いられる信号)(以下、テーブル動作情報という)を加工制御部31から入力する。テーブル動作情報は、例えば加工制御部31がXYテーブル3を駆動制御する際に、XYテーブル3の駆動部(モータなど)に送信する信号(指示情報)である。加工制御部31は、1つの加工エリアのレーザ加工が完了して次の加工エリアに加工位置を移動させる際に、XYテーブル3を駆動させるための信号をXYテーブル3側へ送信する。したがって、テーブル動作情報入力部11へは、1つの加工エリアのレーザ加工が完了して次の加工エリアに加工位置を移動させる際に、加工制御部31からテーブル動作情報が入力される。テーブル動作情報入力部11は、加工制御部31からのテーブル動作情報を動作指令部12に送る。   The table operation information input unit 11 inputs information related to the operation of the XY table 3 (signal used when the XY table 3 moves) (hereinafter referred to as table operation information) from the processing control unit 31. The table operation information is, for example, a signal (instruction information) that is transmitted to a drive unit (such as a motor) of the XY table 3 when the processing control unit 31 controls the drive of the XY table 3. When the laser processing of one processing area is completed and the processing position is moved to the next processing area, the processing control unit 31 transmits a signal for driving the XY table 3 to the XY table 3 side. Therefore, table operation information is input to the table operation information input unit 11 from the processing control unit 31 when the laser processing of one processing area is completed and the processing position is moved to the next processing area. The table motion information input unit 11 sends table motion information from the machining control unit 31 to the motion command unit 12.

動作指令部12は、テーブル動作情報に基づいて、XYテーブル3の移動を検知する。動作指令部12は、XYテーブル3の移動を検知すると、XYテーブル3の移動を検知している時間に応じた間だけモータ制御部13に動作指示を送る。動作指令部12は、XYテーブル3の移動検知が終わると、拭き取り装置6が保護ウィンドゥ2と接しない位置まで移動するよう、モータMに動作指示を送る。なお、動作指令部12は、XYテーブル3の移動を検知した場合に所定の時間(回数)だけ拭き取り装置6を移動させるための動作指示(例えば拭き取り装置6を1往復させるための動作指示)をモータ制御部13に送ってもよい。モータ制御部13は、動作指令部12からの動作指示に従ってモータMを駆動制御する。   The operation command unit 12 detects the movement of the XY table 3 based on the table operation information. When the movement command unit 12 detects the movement of the XY table 3, the movement command unit 12 sends an operation instruction to the motor control unit 13 only in accordance with the time during which the movement of the XY table 3 is detected. When the movement detection of the XY table 3 ends, the operation command unit 12 sends an operation instruction to the motor M so that the wiping device 6 moves to a position where it does not contact the protective window 2. When the movement of the XY table 3 is detected, the operation command unit 12 issues an operation instruction for moving the wiping device 6 for a predetermined time (number of times) (for example, an operation instruction for reciprocating the wiping device 6 once). You may send to the motor control part 13. The motor control unit 13 drives and controls the motor M in accordance with an operation instruction from the operation command unit 12.

つぎに、レーザ加工装置100の動作手順について説明する。図6は、実施の形態1に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。図6の左側に示したフローチャートがワークWの加工に関する加工制御の処理手順であり、図6の右側に示したフローチャートが保護ウィンドゥ2の清掃に関する清掃制御の処理手順である。   Next, an operation procedure of the laser processing apparatus 100 will be described. FIG. 6 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the first embodiment. The flowchart shown on the left side of FIG. 6 is a processing procedure for processing control related to the processing of the workpiece W, and the flowchart shown on the right side of FIG. 6 is a processing procedure for cleaning control related to cleaning of the protective window 2.

レーザ加工装置100は、ワークWへレーザビームLを照射して、ワークWの加工エリアAn(n番目の加工エリア)(nは自然数)をレーザ加工する(ステップS11)。加工エリアAnのレーザ加工が完了すると、レーザ加工装置100の加工制御部31は、ワークWへのレーザビームLの照射を停止してXYテーブル3を移動させる。これにより、レーザ加工装置100は、加工ヘッド1を次の加工位置上に移動させる(ステップS12)。このとき、テーブル動作情報入力部11へは、加工制御部31からテーブル動作情報が入力される(ステップS21)。テーブル動作情報入力部11は、加工制御部31からのテーブル動作情報を動作指令部12に送る。   The laser processing apparatus 100 irradiates the workpiece W with the laser beam L, and laser-processes the processing area An (n-th processing area) (n is a natural number) of the workpiece W (step S11). When the laser processing of the processing area An is completed, the processing control unit 31 of the laser processing apparatus 100 stops the irradiation of the laser beam L onto the workpiece W and moves the XY table 3. Thereby, the laser processing apparatus 100 moves the processing head 1 to the next processing position (step S12). At this time, table operation information is input from the processing control unit 31 to the table operation information input unit 11 (step S21). The table motion information input unit 11 sends table motion information from the machining control unit 31 to the motion command unit 12.

動作指令部12は、テーブル動作情報に基づいてXYテーブル3の移動を検知し、モータ制御部13に動作指示を送る。モータ制御部13は、動作指令部12からの動作指示に従ってモータMを駆動制御し、モータMが拭き取り装置6を動作させる。これにより、保護ウィンドゥ2の清掃処理として、保護ウィンドゥ2上に付着している加工粉塵Hが除去される(ステップS22)。換言すると、レーザ加工装置100は、ステップS12の処理(XYテーブル3の移動)と、ステップS21,S22の処理(保護ウィンドゥ2の清掃)を同時に行う。   The operation command unit 12 detects the movement of the XY table 3 based on the table operation information and sends an operation instruction to the motor control unit 13. The motor control unit 13 drives and controls the motor M according to the operation instruction from the operation command unit 12, and the motor M operates the wiping device 6. Thereby, the processing dust H adhering on the protection window 2 is removed as a cleaning process of the protection window 2 (step S22). In other words, the laser processing apparatus 100 simultaneously performs the process of step S12 (movement of the XY table 3) and the processes of steps S21 and S22 (cleaning of the protective window 2).

XYテーブル3が移動して、加工ヘッド1が次の加工位置である加工エリアA(n+1)上に移動すると、レーザ加工装置100は、ワークWへレーザビームを照射して、加工エリアA(n+1)をレーザ加工する(ステップS13)。このとき、加工ヘッド1が加工エリアA(n+1)上に移動して、XYテーブル3の移動が停止すると、動作指令部12は、テーブル動作情報に基づいてXYテーブル3の停止を検知し、モータ制御部13に停止指示を送る。モータ制御部13は、動作指令部12からの停止指示に従ってモータMを停止させ拭き取り装置6を停止させる。拭き取り装置6は、加工ヘッド1からワークWへ照射されるレーザビームLを妨げないよう、保護ウィンドゥ2の外側まで移動させておく。レーザ加工装置100では、ステップS11〜S13の処理およびステップS21,S22の処理が繰り返し行われる。   When the XY table 3 moves and the machining head 1 moves onto the machining area A (n + 1), which is the next machining position, the laser machining apparatus 100 irradiates the workpiece W with a laser beam to produce the machining area A (n + 1). ) Is laser processed (step S13). At this time, when the machining head 1 moves onto the machining area A (n + 1) and the movement of the XY table 3 stops, the operation command unit 12 detects the stop of the XY table 3 based on the table operation information, and the motor A stop instruction is sent to the control unit 13. The motor control unit 13 stops the motor M and stops the wiping device 6 according to the stop instruction from the operation command unit 12. The wiping device 6 is moved to the outside of the protective window 2 so as not to interfere with the laser beam L applied to the workpiece W from the processing head 1. In the laser processing apparatus 100, the processes in steps S11 to S13 and the processes in steps S21 and S22 are repeated.

このように、レーザ加工装置100はレーザ加工の合間に保護ウィンドゥ2を自動クリーニングするので、保護ウィンドゥ2を常に正常状態に保つことができ、加工タクトの大幅な増大を抑えつつ加工不良の発生を抑制することができる。また、加工粉塵Hが付着した直後に保護ウィンドゥ2を清掃するので、容易に加工粉塵Hを除去することが可能となる。   As described above, since the laser processing apparatus 100 automatically cleans the protective window 2 during laser processing, the protective window 2 can always be kept in a normal state, and the occurrence of processing defects can be prevented while suppressing a significant increase in processing tact. Can be suppressed. Further, since the protective window 2 is cleaned immediately after the processing dust H adheres, the processing dust H can be easily removed.

また、加工ヘッド1に特別な動作を行なわせることなく拭き取り装置6の動作を制御するだけで保護ウィンドゥ2を清掃できるので、容易に保護ウィンドゥ2を清掃することが可能となる。また、拭き取り装置6によって保護ウィンドゥ2を清掃するので簡易な構成で容易に保護ウィンドゥ2を清掃することができる。   Further, since the protective window 2 can be cleaned simply by controlling the operation of the wiping device 6 without causing the machining head 1 to perform a special operation, the protective window 2 can be easily cleaned. Further, since the protective window 2 is cleaned by the wiping device 6, the protective window 2 can be easily cleaned with a simple configuration.

このように実施の形態1によれば、XYテーブル3が移動している間に保護ウィンドゥ2の清掃を行うので、ワークWの加工処理時間を増大させることなく加工不良の発生を抑制することができる。   As described above, according to the first embodiment, since the protective window 2 is cleaned while the XY table 3 is moving, it is possible to suppress the occurrence of processing defects without increasing the processing time of the workpiece W. it can.

実施の形態2.
つぎに、図7および図8を用いてこの発明の実施の形態2について説明する。実施の形態2では、レーザ加工処理が予め設定された所定のタイミングまで進行する度に、拭き取り装置6に保護ウィンドゥ2の清掃を行なわせる。レーザ加工装置100は、例えばXYテーブル3が所定回数だけ移動した後(所定数の加工エリアを加工した後)に保護ウィンドゥ2の清掃を行う。換言すると、レーザ加工装置100は、XYテーブル3の移動がある度に拭き取り装置6を動作させるのではなく、XYテーブル3が予め設定した移動回数になった場合に拭き取り装置6を動作させる。
Embodiment 2. FIG.
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the second embodiment, every time the laser processing progresses to a predetermined timing set in advance, the wiping device 6 is made to clean the protective window 2. For example, the laser processing apparatus 100 cleans the protective window 2 after the XY table 3 has moved a predetermined number of times (after processing a predetermined number of processing areas). In other words, the laser processing apparatus 100 does not operate the wiping device 6 every time the XY table 3 moves, but operates the wiping device 6 when the XY table 3 reaches a preset number of movements.

図7は、実施の形態2に係る制御装置の構成を示すブロック図である。図7の各構成要素のうち図5に示した実施の形態1の制御装置10と同一機能を達成する構成要素については同一番号を付しており、重複する説明は省略する。   FIG. 7 is a block diagram illustrating a configuration of the control device according to the second embodiment. Among the constituent elements in FIG. 7, constituent elements that achieve the same functions as those of the control device 10 of the first embodiment shown in FIG. 5 are given the same numbers, and redundant descriptions are omitted.

制御装置10は、テーブル動作情報入力部11、動作指令部12、モータ制御部13に加えて、設定回数カウンタ処理部14を有している。設定回数カウンタ処理部14は、予め使用者によって設定される回数(清掃までにXYテーブル3を移動させる回数)を記憶しておく。設定回数カウンタ処理部14は、動作指令部12から送られてくるXYテーブル3の移動に関する情報(XYテーブル3が移動したことを示す通知)を用いて、前回保護ウィンドゥ2を清掃した後からXYテーブル3を移動させた回数(清掃後の累積移動回数)をカウントする。設定回数カウンタ処理部14は、予め設定された回数とカウントした回数とを比較することによって、保護ウィンドゥ2の清掃タイミングであるか否かを判定する。設定回数カウンタ処理部14は、保護ウィンドゥ2の清掃後に予め設定された回数だけXYテーブル3が移動したことをカウントすると、保護ウィンドゥ2の清掃タイミングであることを動作指令部12に通知する。   The control device 10 includes a set number counter processing unit 14 in addition to the table operation information input unit 11, the operation command unit 12, and the motor control unit 13. The set number counter processing unit 14 stores the number of times set in advance by the user (the number of times the XY table 3 is moved before cleaning). The set number counter processing unit 14 uses the information about the movement of the XY table 3 (notification indicating that the XY table 3 has been moved) sent from the operation command unit 12 to XY after cleaning the protective window 2 last time. The number of times the table 3 has been moved (cumulative number of movements after cleaning) is counted. The set number counter processing unit 14 determines whether or not it is the cleaning timing of the protective window 2 by comparing the preset number with the counted number. When the set number counter processing unit 14 counts that the XY table 3 has moved a predetermined number of times after cleaning the protective window 2, it notifies the operation command unit 12 that it is the cleaning timing of the protective window 2.

換言すると、設定回数カウンタ処理部14は、予め設定された回数を読み出すとともに、XYテーブル3の移動回数をカウントして所定のタイミングで動作指令部12に拭き取り装置6の動作指令を出す。本実施の形態の動作指令部12は、設定回数カウンタ処理部14から拭き取り装置6の動作指令があった場合にモータ制御部13に動作指示を送って拭き取り装置6を動作させる。   In other words, the set number counter processing unit 14 reads a preset number of times, counts the number of movements of the XY table 3, and issues an operation command for the wiping device 6 to the operation command unit 12 at a predetermined timing. The operation command unit 12 of the present embodiment sends an operation instruction to the motor control unit 13 to operate the wiping device 6 when there is an operation command for the wiping device 6 from the set number counter processing unit 14.

つぎに、レーザ加工装置100の動作手順について説明する。図8は、実施の形態2に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。図8の左側に示したフローチャートがワークWの加工に関する加工制御の処理手順であり、図8の右側に示したフローチャートが保護ウィンドゥ2の清掃に関する清掃制御の処理手順である。なお、実施の形態2のレーザ加工装置100の動作手順のうち、実施の形態1のレーザ加工装置100と同様の動作を行う手順についてはその説明を省略する。   Next, an operation procedure of the laser processing apparatus 100 will be described. FIG. 8 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the second embodiment. The flowchart shown on the left side of FIG. 8 is a processing procedure for processing control related to the processing of the workpiece W, and the flowchart shown on the right side of FIG. 8 is a processing procedure for cleaning control related to cleaning of the protective window 2. Of the operation procedures of the laser processing apparatus 100 according to the second embodiment, the description of the procedure for performing the same operation as that of the laser processing apparatus 100 according to the first embodiment is omitted.

レーザ加工装置100は、ワークWへレーザビームLを照射して、ワークWの加工エリアAnをレーザ加工する(ステップS31)。加工エリアAnのレーザ加工が完了すると、レーザ加工装置100の加工制御部31は、ワークWへのレーザビームLの照射を停止してXYテーブル3を移動させることによって加工ヘッド1を次の加工位置上に移動させる(ステップS32)。このとき、テーブル動作情報入力部11へは、加工制御部31からテーブル動作情報が入力される(ステップS41)。テーブル動作情報入力部11は、加工制御部31からのテーブル動作情報を動作指令部12に送る。   The laser processing apparatus 100 irradiates the workpiece W with the laser beam L and laser-processes the processing area An of the workpiece W (step S31). When the laser processing of the processing area An is completed, the processing control unit 31 of the laser processing apparatus 100 stops the irradiation of the laser beam L onto the workpiece W and moves the XY table 3 to move the processing head 1 to the next processing position. Move upward (step S32). At this time, table operation information is input from the processing control unit 31 to the table operation information input unit 11 (step S41). The table motion information input unit 11 sends table motion information from the machining control unit 31 to the motion command unit 12.

動作指令部12は、テーブル動作情報に基づいてXYテーブル3の移動を検知する。動作指令部12は、XYテーブル3の移動を検知すると、XYテーブル3が移動したことを設定回数カウンタ処理部14に通知する。   The operation command unit 12 detects the movement of the XY table 3 based on the table operation information. When the movement command unit 12 detects the movement of the XY table 3, the operation command unit 12 notifies the set number counter processing unit 14 that the XY table 3 has moved.

設定回数カウンタ処理部14は、XYテーブル3が移動したことの通知をカウントすることによって、XYテーブル3を移動させた回数をカウントする。設定回数カウンタ処理部14は、予め設定された回数とカウントした回数とを比較することによって、保護ウィンドゥ2の清掃が必要であるか否かの判定を行う(ステップS42,S43)。   The set number counter processing unit 14 counts the number of times the XY table 3 has been moved by counting the notification that the XY table 3 has moved. The set number counter processing unit 14 determines whether or not the protective window 2 needs to be cleaned by comparing the preset number with the counted number (steps S42 and S43).

設定回数カウンタ処理部14は、保護ウィンドゥ2の清掃後に予め設定された回数だけXYテーブル3が移動したことをカウントすると保護ウィンドゥ2の清掃タイミングであると判定して(ステップS43、Yes)、動作指令部12に拭き取り装置6の動作指令を送る。設定回数カウンタ処理部14は、動作指令部12に拭き取り装置6の動作指令を送ると、カウンタの値をリセットする。   The set number counter processing unit 14 determines that it is the cleaning timing of the protective window 2 when it counts that the XY table 3 has moved a preset number of times after cleaning of the protective window 2 (Yes in step S43) and operates. An operation command for the wiping device 6 is sent to the command unit 12. When the set number counter processing unit 14 sends an operation command of the wiping device 6 to the operation command unit 12, the counter value of the counter is reset.

動作指令部12は、設定回数カウンタ処理部14から拭き取り装置6の動作指令を受けるとモータ制御部13に動作指示を送る。そして、モータ制御部13は、モータMを駆動制御し、モータMが拭き取り装置6を動作させる。これにより、保護ウィンドゥ2の清掃処理として、保護ウィンドゥ2上に付着している加工粉塵Hが除去される(ステップS44)。換言すると、レーザ加工装置100は、ステップS32の処理と、ステップS41〜S44の処理を同時に行う。   When the operation command unit 12 receives an operation command for the wiping device 6 from the set number counter processing unit 14, the operation command unit 12 sends an operation instruction to the motor control unit 13. The motor control unit 13 controls driving of the motor M, and the motor M operates the wiping device 6. Thereby, the processing dust H adhering on the protection window 2 is removed as a cleaning process of the protection window 2 (step S44). In other words, the laser processing apparatus 100 performs the process of step S32 and the processes of steps S41 to S44 simultaneously.

一方、設定回数カウンタ処理部14は、予め設定された回数だけXYテーブル3が移動したことをカウントするまでは保護ウィンドゥ2の清掃タイミングではないと判定して(ステップS43、No)、動作指令部12に拭き取り装置6の動作指令を送らない。このため、予め設定された回数だけXYテーブル3が移動するまでは、動作指令部12はモータ制御部13に動作指示を送ることなく次のテーブル動作情報を待つ。   On the other hand, the set number counter processing unit 14 determines that it is not the cleaning timing of the protective window 2 until it counts that the XY table 3 has moved a preset number of times (No in step S43), and the operation command unit. The operation command of the wiping device 6 is not sent to 12. Therefore, the operation command unit 12 waits for the next table operation information without sending an operation instruction to the motor control unit 13 until the XY table 3 moves a preset number of times.

この後、レーザ加工装置100は、実施の形態1のレーザ加工装置100と同様に、加工エリアA(n+1)のレーザ加工を行なう(ステップS33)。レーザ加工装置100では、ステップS31〜S33の処理およびステップS41〜S44の処理が繰り返し行われる。   Thereafter, laser processing apparatus 100 performs laser processing on processing area A (n + 1), similarly to laser processing apparatus 100 of the first embodiment (step S33). In the laser processing apparatus 100, the processes in steps S31 to S33 and the processes in steps S41 to S44 are repeated.

なお、本実施の形態では、XYテーブル3の移動を開始した後に保護ウィンドゥ2を清掃するか否かを判定する場合について説明したが、XYテーブル3の移動を開始する前に保護ウィンドゥ2を清掃するか否かを判定してもよい。例えば、加工エリアAnの加工が完了した後に、保護ウィンドゥ2を清掃するか否かを判定してもよいし、加工エリアAnの加工が完了するまでの間に、保護ウィンドゥ2を清掃するか否かを判定してもよい。さらに、加工エリアA(n−1)の加工が完了した後に、保護ウィンドゥ2を清掃するか否かを判定してもよい。   In this embodiment, the case where it is determined whether or not the protective window 2 is to be cleaned after the movement of the XY table 3 has been described has been described. However, the protective window 2 is cleaned before the movement of the XY table 3 is started. It may be determined whether or not to do so. For example, it may be determined whether or not the protective window 2 is to be cleaned after the processing of the processing area An is completed, and whether or not the protective window 2 is to be cleaned before the processing of the processing area An is completed. It may be determined. Further, it may be determined whether or not the protective window 2 is to be cleaned after the processing of the processing area A (n-1) is completed.

XYテーブル3の移動を開始する前に保護ウィンドゥ2を清掃するか否かを判定した場合であって、XYテーブル3が次に移動する際に保護ウィンドゥ2を清掃すると判定した場合、レーザ加工装置100はXYテーブル3の次の移動の際に保護ウィンドゥ2を清掃する。   When it is determined whether or not the protective window 2 is to be cleaned before the movement of the XY table 3 is started, and it is determined that the protective window 2 is to be cleaned when the XY table 3 moves next, the laser processing apparatus 100 cleans the protective window 2 during the next movement of the XY table 3.

また、本実施の形態では、XYテーブル3の移動回数が所定回数となった場合に保護ウィンドゥ2の清掃を行うこととしたが、レーザ加工を開始してからの時間が所定時間となった場合に保護ウィンドゥ2の清掃を行ってもよい。この場合、設定回数カウンタ処理部14は、予め使用者によって設定される時間(清掃までにレーザ加工を行う時間)を記憶しておく。   In the present embodiment, the protective window 2 is cleaned when the number of movements of the XY table 3 reaches a predetermined number. However, when the time after the start of laser processing reaches a predetermined time. The protective window 2 may be cleaned. In this case, the set number counter processing unit 14 stores a time set in advance by the user (time for performing laser processing before cleaning).

また、レーザ加工を開始してからの加工穴の個数が所定数となった場合に保護ウィンドゥ2の清掃を行ってもよい。この場合、設定回数カウンタ処理部14は、予め使用者によって設定される個数(清掃までにレーザ加工を行う穴数)を記憶しておく。   Further, the protective window 2 may be cleaned when the number of processed holes after the start of laser processing reaches a predetermined number. In this case, the set number counter processing unit 14 stores the number set in advance by the user (the number of holes for laser processing before cleaning).

レーザ加工による保護ウィンドゥ2の汚染は、1つの加工エリアを加工しただけでは発生しない場合がある。加工内容によっては1時間程度で汚れが許容量を超える場合もあれば、1日程度は拭き取りが必要でない場合もある。このため、保護ウィンドゥ2を清掃するまでに加工できる処理時間やワークWの枚数を設定回数カウンタ処理部14に設定しておく。これにより、加工エリアの移動毎に毎回清掃を行う必要がなくなるので効率良く保護ウィンドゥ2の清掃を行うことが可能となる。   Contamination of the protective window 2 due to laser processing may not occur only by processing one processing area. Depending on the contents of processing, the dirt may exceed the allowable amount in about one hour, or the wiping may not be required for about one day. For this reason, the processing time that can be processed before the protective window 2 is cleaned and the number of workpieces W are set in the set number counter processing unit 14. This eliminates the need for cleaning each time the processing area is moved, so that the protective window 2 can be efficiently cleaned.

このように実施の形態2によれば、XYテーブル3が所定回数だけ移動した後に保護ウィンドゥ2の清掃を行うので、保護ウィンドゥ2の清掃を加工処理の内容に応じた適切なタイミングで効率良く行うことが可能となる。   As described above, according to the second embodiment, since the protective window 2 is cleaned after the XY table 3 has moved a predetermined number of times, the protective window 2 is efficiently cleaned at an appropriate timing according to the content of the processing. It becomes possible.

実施の形態3.
つぎに、図9および図10を用いてこの発明の実施の形態3について説明する。XYテーブル3の移動時間よりも保護ウィンドゥ2の清掃処理の処理時間が長い場合には、レーザビームLが拭き取り装置6にあたってしまう可能性がある。レーザビームLが拭き取り装置6に照射されると、ワークWにレーザビームLが届かずに加工不良を引き起こす場合がある。そこで、実施の形態3では、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了するまでレーザ加工を開始しないようレーザ加工処理を制御する。
Embodiment 3 FIG.
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. When the processing time of the cleaning process of the protective window 2 is longer than the movement time of the XY table 3, the laser beam L may hit the wiping device 6. If the wiping device 6 is irradiated with the laser beam L, the laser beam L may not reach the workpiece W and cause processing defects. Therefore, in the third embodiment, the laser processing is controlled so that the laser processing is not started until the cleaning processing of the protective window 2 is completed.

図9は、実施の形態3に係る制御装置の構成を示すブロック図である。図9の各構成要素のうち図5に示した実施の形態1の制御装置10と同一機能を達成する構成要素については同一番号を付しており、重複する説明は省略する。   FIG. 9 is a block diagram illustrating a configuration of the control device according to the third embodiment. Among the constituent elements in FIG. 9, constituent elements that achieve the same functions as those of the control device 10 of the first embodiment shown in FIG. 5 are given the same numbers, and redundant descriptions are omitted.

制御装置10は、テーブル動作情報入力部11、動作指令部12、モータ制御部13に加えて、清掃完了判定部15を有している。本実施の形態の動作指令部12は、モータ制御部13に動作指示を送る際に、モータ制御部13に動作指示を送っていることを示す情報(以下、モータ動作情報という)を清掃完了判定部15に送信する。モータ動作情報は、例えばモータ制御部13への動作指示と同じ信号であってもよい。   The control device 10 includes a cleaning completion determination unit 15 in addition to the table operation information input unit 11, the operation command unit 12, and the motor control unit 13. When the operation command unit 12 according to the present embodiment sends an operation instruction to the motor control unit 13, information indicating that the operation instruction is being sent to the motor control unit 13 (hereinafter referred to as motor operation information) is determined to be cleaned. It transmits to the part 15. The motor operation information may be, for example, the same signal as an operation instruction to the motor control unit 13.

清掃完了判定部15は、モータ動作情報に基づいて保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了したか否かを判断し、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了するまでの間、加工制御部31にレーザ加工を開始しないよう指示(ウェイト指令)を送る。   The cleaning completion determination unit 15 determines whether or not the cleaning process of the protective window 2 has been completed based on the motor operation information, and performs laser processing on the processing control unit 31 until the cleaning process of the protective window 2 is completed. Send an instruction (wait command) not to start.

つぎに、レーザ加工装置100の動作手順について説明する。図10は、実施の形態3に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。図10の左側に示したフローチャートがワークWの加工に関する加工制御の処理手順であり、図10の右側に示したフローチャートが保護ウィンドゥ2の清掃に関する清掃制御の処理手順である。なお、実施の形態3のレーザ加工装置100の動作手順のうち、実施の形態1,2のレーザ加工装置100と同様の動作を行う手順についてはその説明を省略する。   Next, an operation procedure of the laser processing apparatus 100 will be described. FIG. 10 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the third embodiment. The flowchart shown on the left side of FIG. 10 is a processing procedure for processing control related to the processing of the workpiece W, and the flowchart shown on the right side of FIG. 10 is a processing procedure for cleaning control related to cleaning of the protective window 2. Note that, among the operation procedures of the laser processing apparatus 100 of the third embodiment, the description of the procedure for performing the same operation as the laser processing apparatus 100 of the first and second embodiments is omitted.

レーザ加工装置100は、ワークWへレーザビームLを照射して、ワークWの加工エリアAnをレーザ加工する(ステップS51)。加工エリアAnのレーザ加工が完了すると、レーザ加工装置100の加工制御部31は、ワークWへのレーザビームLの照射を停止し、XYテーブル3を移動させることによって加工ヘッド1を次の加工位置上に移動させる(ステップS52)。このとき、テーブル動作情報入力部11へは、加工制御部31からテーブル動作情報が入力される(ステップS61)。テーブル動作情報入力部11は、加工制御部31からのテーブル動作情報を動作指令部12に送る。   The laser processing apparatus 100 irradiates the workpiece W with the laser beam L and laser-processes the processing area An of the workpiece W (step S51). When the laser processing of the processing area An is completed, the processing control unit 31 of the laser processing apparatus 100 stops the irradiation of the laser beam L onto the workpiece W and moves the XY table 3 to move the processing head 1 to the next processing position. Move upward (step S52). At this time, table operation information is input from the processing control unit 31 to the table operation information input unit 11 (step S61). The table motion information input unit 11 sends table motion information from the machining control unit 31 to the motion command unit 12.

動作指令部12は、テーブル動作情報に基づいてXYテーブル3の移動を検知し、モータ制御部13に動作指示を送る。モータ制御部13は、動作指令部12からの動作指示に従ってモータMを駆動制御し、モータMが拭き取り装置6を動作させる。これにより、保護ウィンドゥ2の清掃処理として、保護ウィンドゥ2上に付着している加工粉塵Hが除去される(ステップS62)。   The operation command unit 12 detects the movement of the XY table 3 based on the table operation information and sends an operation instruction to the motor control unit 13. The motor control unit 13 drives and controls the motor M according to the operation instruction from the operation command unit 12, and the motor M operates the wiping device 6. Thereby, the processing dust H adhering on the protection window 2 is removed as a cleaning process of the protection window 2 (step S62).

動作指令部12は、モータ制御部13への動作指示と同時に、モータ動作情報を清掃完了判定部15に送信する。清掃完了判定部15は、モータ動作情報に基づいて保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了したか否かを判断する(ステップS63)。   The operation command unit 12 transmits motor operation information to the cleaning completion determination unit 15 simultaneously with an operation instruction to the motor control unit 13. The cleaning completion determination unit 15 determines whether or not the cleaning process for the protective window 2 has been completed based on the motor operation information (step S63).

動作指令部12がモータ制御部13に動作指示を送っている間は、モータMと拭き取り装置6が動作している。また、動作指令部12がモータ制御部13に動作指示を送っている間は、モータMと拭き取り装置6が動作していることを示す情報(モータ動作情報)が清掃完了判定部15に送られる。したがって、清掃完了判定部15は、動作指令部12からモータ動作情報を受けている間は、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了していないと判断する。保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了していなければ(ステップS63、No)、レーザ加工装置100では保護ウィンドゥ2の清掃が続けられる。すなわち、清掃完了判定部15は、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了するまでの間、ステップS62とステップS63の処理を繰り返す。また、清掃完了判定部15は、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了するまでの間、加工制御部31にレーザ加工を開始しないようウェイト指令を送る。   While the operation command unit 12 sends an operation instruction to the motor control unit 13, the motor M and the wiping device 6 are operating. Further, while the operation command unit 12 sends an operation instruction to the motor control unit 13, information (motor operation information) indicating that the motor M and the wiping device 6 are operating is sent to the cleaning completion determination unit 15. . Therefore, the cleaning completion determination unit 15 determines that the cleaning process of the protective window 2 has not been completed while receiving the motor operation information from the operation command unit 12. If the cleaning process for the protective window 2 has not been completed (step S63, No), the laser processing apparatus 100 continues to clean the protective window 2. That is, the cleaning completion determination unit 15 repeats the processes of step S62 and step S63 until the cleaning process of the protective window 2 is completed. The cleaning completion determination unit 15 sends a wait command to the processing control unit 31 so as not to start laser processing until the cleaning process of the protective window 2 is completed.

なお、清掃完了判定部15は、テーブル動作情報に基づいてXYテーブル3が移動し終わったか否かを判断してもよい。この場合、清掃完了判定部15は、拭き取り装置6が動作している間(モータ動作情報が送られてくる間)にXYテーブル3が移動を終えると、加工制御部31に次のレーザ加工を始めないようウェイト指令を出す。そして、清掃完了判定部15は、拭き取り装置6が停止すると、加工制御部31へのウェイト指令を停止する。   The cleaning completion determination unit 15 may determine whether or not the XY table 3 has been moved based on the table operation information. In this case, when the XY table 3 finishes moving while the wiping device 6 is operating (while the motor operation information is sent), the cleaning completion determination unit 15 causes the processing control unit 31 to perform the next laser processing. A wait command is issued so as not to start. Then, the cleaning completion determination unit 15 stops the weight command to the processing control unit 31 when the wiping device 6 stops.

清掃完了判定部15は、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了すると(ステップS63、Yes)、加工制御部31に清掃完了を通知する(ステップS64)。この後、レーザ加工装置100は、実施の形態1のレーザ加工装置100と同様に、加工エリアA(n+1)のレーザ加工を行なう(ステップS53)。レーザ加工装置100では、ステップS51〜S53の処理およびステップS61〜S64の処理が繰り返し行われる。   When the cleaning process of the protective window 2 is completed (step S63, Yes), the cleaning completion determination unit 15 notifies the processing control unit 31 of the cleaning completion (step S64). Thereafter, laser processing apparatus 100 performs laser processing on processing area A (n + 1), similarly to laser processing apparatus 100 of the first embodiment (step S53). In the laser processing apparatus 100, the process of step S51-S53 and the process of step S61-S64 are performed repeatedly.

ここで、従来のレーザ加工タイミングと、本実施の形態のレーザ加工タイミングの違いについて説明する。図11は、本実施の形態のレーザ加工タイミングを説明するための図である。   Here, the difference between the conventional laser processing timing and the laser processing timing of the present embodiment will be described. FIG. 11 is a diagram for explaining the laser processing timing of the present embodiment.

従来は、(a)に示すようにXYテーブル3の移動を開始した後(t11)、XYテーブル3の移動が完了すると(t12)、レーザ加工が開始されていた。一方、本実施の形態のレーザ加工装置100は、(b)に示すようにXYテーブル3の移動を開始した際に(t21)、拭き取り装置6の動作を開始する(t22)。そして、XYテーブル3の移動が完了しても(t23)、レーザ加工を開始せず、拭き取り装置6の動作が終了した後に(t24)、レーザ加工を開始する。これにより、拭き取り装置6が保護ウィンドゥ2の加工粉塵Hを拭き取り終えるまでレーザ加工の開始を待機させている。このように、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了するまでレーザ加工を開始させないので、レーザ加工装置100は、使用者の所望の時間(使用者に設定される時間)だけ清掃処理を行うことができる。例えば、1回の清掃処理として拭き取り装置6を保護ウィンドゥ2の下で1往復させてもよいし、所望の回数だけ往復動作させてもよい。   Conventionally, as shown in (a), after starting the movement of the XY table 3 (t11), when the movement of the XY table 3 is completed (t12), laser processing is started. On the other hand, the laser processing apparatus 100 of this Embodiment starts the operation | movement of the wiping apparatus 6 (t22), when the movement of the XY table 3 is started as shown in (b) (t21). Then, even when the movement of the XY table 3 is completed (t23), laser processing is not started, and after the operation of the wiping device 6 is completed (t24), laser processing is started. Thereby, the start of laser processing is made to wait until the wiping device 6 finishes wiping the processing dust H of the protective window 2. Thus, since laser processing is not started until the cleaning process of the protective window 2 is completed, the laser processing apparatus 100 can perform the cleaning process only for a user's desired time (time set by the user). . For example, the wiping device 6 may be reciprocated once under the protective window 2 as a single cleaning process, or may be reciprocated a desired number of times.

このように実施の形態3によれば、保護ウィンドゥ2の清掃処理が完了するまでレーザ加工を開始させないので、加工不良を引き起こすことなく使用者の設定した時間だけ清掃処理を行うことが可能となる。   As described above, according to the third embodiment, since the laser processing is not started until the cleaning processing of the protective window 2 is completed, it is possible to perform the cleaning processing only for the time set by the user without causing processing failure. .

実施の形態4.
つぎに、図12を用いてこの発明の実施の形態4について説明する。加工粉塵Hの量が少なくて加工不良の懸念が低い場合には、ワークWのレーザ加工中に保護ウィンドゥ2を清掃する必要がない場合がある。したがって、実施の形態4では1枚のワークWをレーザ加工して加工完了した後に保護ウィンドゥ2の清掃を行う。
Embodiment 4 FIG.
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. When the amount of machining dust H is small and the concern about machining defects is low, it may not be necessary to clean the protective window 2 during laser machining of the workpiece W. Therefore, in the fourth embodiment, the protective window 2 is cleaned after the laser beam machining of one workpiece W is completed.

実施の形態4に係る制御装置10は、実施の形態1の図5で説明した制御装置10と同様の構成を有しているのでその説明を省略する。図12は、実施の形態4に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。図12の左側に示したフローチャートがワークWの加工に関する加工制御の処理手順であり、図12の右側に示したフローチャートが保護ウィンドゥ2の清掃に関する清掃制御の処理手順である。なお、実施の形態4のレーザ加工装置100の動作手順のうち、実施の形態1のレーザ加工装置100と同様の動作を行う手順についてはその説明を省略する。   The control device 10 according to the fourth embodiment has the same configuration as that of the control device 10 described with reference to FIG. FIG. 12 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the fourth embodiment. The flowchart shown on the left side of FIG. 12 is a processing procedure for machining control relating to machining of the workpiece W, and the flowchart shown on the right side of FIG. 12 is a procedure for cleaning control relating to cleaning of the protective window 2. Of the operational procedures of the laser processing apparatus 100 according to the fourth embodiment, the description of the procedures for performing the same operations as those of the laser processing apparatus 100 according to the first embodiment will be omitted.

レーザ加工装置100は、ワークWへレーザビームLを照射して、ワークWの加工エリアAnをレーザ加工する(ステップS71)。加工エリアAnのレーザ加工が完了すると、レーザ加工装置100の加工制御部31は、ワークWへのレーザビームLの照射を停止してXYテーブル3を移動させ、加工ヘッド1を次の加工位置上に移動させる(ステップS72)。   The laser processing apparatus 100 irradiates the workpiece W with the laser beam L and laser-processes the processing area An of the workpiece W (step S71). When the laser processing of the processing area An is completed, the processing control unit 31 of the laser processing apparatus 100 stops the irradiation of the laser beam L onto the workpiece W, moves the XY table 3, and moves the processing head 1 to the next processing position. (Step S72).

XYテーブル3が移動して、加工ヘッド1が次の加工位置である加工エリアA(n+1)上に移動すると、レーザ加工装置100は、ワークWへレーザビームLを照射して、加工エリアA(n+1)をレーザ加工する(ステップS73)。   When the XY table 3 moves and the machining head 1 moves onto the machining area A (n + 1), which is the next machining position, the laser machining apparatus 100 irradiates the workpiece W with the laser beam L, and the machining area A ( n + 1) is laser processed (step S73).

レーザ加工装置100は、加工エリアへのレーザ加工とXYテーブル3の移動を繰り返すことによって、ワークW内の全ての加工エリアをレーザ加工する(ステップS74)。この後、加工制御部31からテーブル動作情報入力部11へ、ワークWのレーザ加工が完了したこと(加工完了通知)が送られる。テーブル動作情報入力部11は、加工制御部31からの加工完了通知を動作指令部12に送る。   The laser processing apparatus 100 performs laser processing on all processing areas in the workpiece W by repeating laser processing to the processing area and movement of the XY table 3 (step S74). Thereafter, the processing control unit 31 sends to the table motion information input unit 11 that the laser processing of the workpiece W has been completed (processing completion notification). The table operation information input unit 11 sends a processing completion notification from the processing control unit 31 to the operation command unit 12.

動作指令部12は、加工完了通知を受信するとモータ制御部13に動作指示を送る。モータ制御部13は、動作指令部12からの動作指示に従ってモータMを駆動制御し、モータMが拭き取り装置6を動作させる。これにより、保護ウィンドゥ2の清掃処理として、保護ウィンドゥ2上に付着している加工粉塵Hが除去される(ステップS81)。レーザ加工装置100が複数のワークWをレーザ加工する場合には、ステップS71〜S73の処理およびステップS81の処理が繰り返し行われる。   The operation command unit 12 sends an operation instruction to the motor control unit 13 upon receiving the machining completion notification. The motor control unit 13 drives and controls the motor M according to the operation instruction from the operation command unit 12, and the motor M operates the wiping device 6. Thereby, the processing dust H adhering on the protection window 2 is removed as a cleaning process of the protection window 2 (step S81). When the laser processing apparatus 100 performs laser processing on a plurality of workpieces W, the processes in steps S71 to S73 and the process in step S81 are repeated.

なお、本実施の形態の制御装置10の動作が、特許請求の範囲に記載のワーク単位清掃制御部の動作に対応している。換言すると、制御装置10は、実施の形態1で説明した制御機能に加えてワーク単位清掃制御部に対応する制御機能を有している。   In addition, operation | movement of the control apparatus 10 of this Embodiment respond | corresponds to operation | movement of the workpiece | work unit cleaning control part as described in a claim. In other words, the control device 10 has a control function corresponding to the work unit cleaning control unit in addition to the control function described in the first embodiment.

なお、本実施の形態では、ワークWのレーザ加工が完了した後に保護ウィンドゥ2の清掃を行う場合について説明したが、ワークWのレーザ加工を開始する前に保護ウィンドゥ2の清掃を行ってもよい。   In the present embodiment, the case where the protection window 2 is cleaned after the laser processing of the workpiece W is completed has been described. However, the protection window 2 may be cleaned before the laser processing of the workpiece W is started. .

このように実施の形態4によれば、ワークWの1枚分のレーザ加工が完了した後に保護ウィンドゥ2の清掃を行うので、加工粉塵Hの量が少ないレーザ加工を行う場合に簡単な制御でレーザ加工と保護ウィンドゥ2の清掃を行うことが可能となる。   As described above, according to the fourth embodiment, since the protective window 2 is cleaned after laser processing for one workpiece W is completed, simple control can be performed when laser processing with a small amount of processing dust H is performed. Laser processing and cleaning of the protective window 2 can be performed.

実施の形態5.
つぎに、図13を用いてこの発明の実施の形態5について説明する。実施の形態5では、水やアルコールなどの液体を霧状にして保護ウィンドゥ2に噴霧した後、保護ウィンドゥ2を拭き取り装置6で清掃する。
Embodiment 5 FIG.
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the fifth embodiment, after the liquid such as water or alcohol is atomized and sprayed on the protective window 2, the protective window 2 is cleaned by the wiping device 6.

図13は、実施の形態5に係るレーザ加工装置を示す図である。図13の各構成要素のうち図1に示した実施の形態1のレーザ加工装置100と同一機能を達成する構成要素については同一番号を付しており、重複する説明は省略する。   FIG. 13 is a diagram illustrating a laser processing apparatus according to the fifth embodiment. Of the constituent elements shown in FIG. 13, constituent elements that achieve the same functions as those of the laser processing apparatus 100 of the first embodiment shown in FIG.

レーザ加工装置100は、加工ヘッド1、XYテーブル3、ガス噴射機構(ガス噴射部)4、集塵ダクト(ガス吸込部)5、拭き取り機構7、制御装置10に加えて噴霧装置(液体噴霧部)8と液体タンク9とを有している。なお、図13のレーザ加工装置100では、XYテーブル3の図示を省略している。   The laser processing apparatus 100 includes a spraying device (liquid spraying unit) in addition to the processing head 1, the XY table 3, the gas injection mechanism (gas injection unit) 4, the dust collection duct (gas suction unit) 5, the wiping mechanism 7, and the control device 10. ) 8 and a liquid tank 9. In addition, in the laser processing apparatus 100 of FIG. 13, illustration of the XY table 3 is abbreviate | omitted.

噴霧装置8は、水やアルコールなどの液体を霧状にして保護ウィンドゥ2の下面に噴霧する装置である。噴霧装置8は、保護ウィンドゥ2の下面側に配置されており、液体を噴霧する噴霧口から保護ウィンドゥ2に液体を噴霧する。液体タンク9は、噴霧装置8へ供給する水やアルコールなどの液体を格納するタンクである。   The spraying device 8 is a device that sprays a liquid such as water or alcohol on the lower surface of the protective window 2 in the form of a mist. The spraying device 8 is disposed on the lower surface side of the protective window 2 and sprays the liquid onto the protective window 2 from a spraying port for spraying the liquid. The liquid tank 9 is a tank for storing a liquid such as water or alcohol supplied to the spraying device 8.

レーザ加工装置100では、噴霧装置8が液体タンク9の液体を霧状にして保護ウィンドゥ2に噴霧する。噴霧装置8がアルコールを保護ウィンドゥ2に噴霧する場合、アルコールは蒸発するが光路中に漂っていると加工エネルギーを低下させるガスになる場合がある。したがって、本実施の形態では、噴霧装置8がアルコールを噴霧する場合には、噴霧したアルコールが加工エネルギーを低下させない程度の分量だけ、噴霧装置8がアルコールを噴霧する。   In the laser processing device 100, the spray device 8 sprays the liquid in the liquid tank 9 on the protective window 2 in the form of a mist. When the spraying device 8 sprays alcohol onto the protective window 2, the alcohol evaporates, but if it is drifting in the optical path, it may become a gas that lowers the processing energy. Therefore, in this embodiment, when the spraying device 8 sprays alcohol, the spraying device 8 sprays the alcohol by an amount that does not reduce the processing energy.

また、噴霧装置8は、拭き取り装置6が保護ウィンドゥ2の加工粉塵Hを拭き取る前に、保護ウィンドゥ2に液体を噴霧する。本実施の形態では、拭き取り装置6が保護ウィンドゥ2を清掃した後に保護ウィンドゥ2に液体が残ってしまわない程度の分量だけ、噴霧装置8が液体を噴霧する。なお、噴霧装置8が噴霧する液体の量は、拭き取り装置6による保護ウィンドゥ2の清掃処理時間や拭き取り装置6の移動距離などに応じて変更してもよい。   Further, the spraying device 8 sprays the liquid onto the protective window 2 before the wiping device 6 wipes off the processing dust H of the protective window 2. In the present embodiment, after the wiping device 6 cleans the protective window 2, the spraying device 8 sprays the liquid by an amount that does not leave the liquid in the protective window 2. The amount of liquid sprayed by the spraying device 8 may be changed according to the cleaning processing time of the protective window 2 by the wiping device 6, the moving distance of the wiping device 6, and the like.

例えば、加工粉塵Hの集塵機構(ガス噴射機構4や集塵ダクト5)と、噴霧装置8とを同時動作させると、噴霧装置8から噴霧された液体が所望の方向に飛ばない場合がある。そのため、噴霧装置8が液体を噴霧している間は、ガス噴射機構4と集塵ダクト(集塵機)5の何れか一方または両方の動作を一時的に停止させてもよい。   For example, if the dust collection mechanism (the gas injection mechanism 4 and the dust collection duct 5) of the processed dust H and the spray device 8 are operated simultaneously, the liquid sprayed from the spray device 8 may not fly in a desired direction. Therefore, while the spraying device 8 is spraying the liquid, the operation of either or both of the gas injection mechanism 4 and the dust collection duct (dust collector) 5 may be temporarily stopped.

ガス噴射機構4や集塵ダクト5の動作を停止させるためには、例えばシャッタなどによってガス噴射機構4から集塵ダクト5への風の流れをシャットアウトする。また、ガス噴射機構4や集塵ダクト5の動作を停止させるために、ガス噴射機構4や集塵ダクト5の動作をオフに制御してもよい。   In order to stop the operation of the gas injection mechanism 4 and the dust collection duct 5, the flow of wind from the gas injection mechanism 4 to the dust collection duct 5 is shut out by, for example, a shutter. Further, in order to stop the operation of the gas injection mechanism 4 and the dust collection duct 5, the operation of the gas injection mechanism 4 and the dust collection duct 5 may be controlled to be off.

このように実施の形態5によれば、液体を霧状にして保護ウィンドゥ2に噴霧した後に、保護ウィンドゥ2を拭き取り装置6で清掃するので、拭き取り装置6は保護ウィンドゥ2に付着した加工粉塵Hを容易に拭き取ることが可能となる。   As described above, according to the fifth embodiment, since the protective window 2 is cleaned by the wiping device 6 after the liquid is atomized and sprayed on the protective window 2, the wiping device 6 is processed dust H adhering to the protective window 2. Can be easily wiped off.

なお、実施の形態1〜5で説明したレーザ加工装置100を組み合わせてもよい。例えば、実施の形態1〜4で説明したレーザ加工装置100は、実施の形態1〜4の順番で清掃処理回数が少なくなっている。ワークWのレーザ加工を行う際には、レーザ加工の種類や加工状況に応じて実施の形態1〜4で説明した清掃処理の何れかを選択してもよい。例えば、表面の銅箔を貫通してその次の層の樹脂までを加工する場合などの加工粉塵量が多いレーザ加工に対しては清掃回数を多くする。一方、ガラス繊維などの材料が含まれていない樹脂のみをレーザ加工する場合などの加工粉塵量が少ないレーザ加工に対しては清掃回数を少なくする。清掃回数の頻度などは、使用者によって予めレーザ加工装置100に設定しておく。   In addition, you may combine the laser processing apparatus 100 demonstrated in Embodiment 1-5. For example, the laser processing apparatus 100 described in the first to fourth embodiments has a smaller number of cleaning processes in the order of the first to fourth embodiments. When performing laser processing on the workpiece W, any of the cleaning processes described in the first to fourth embodiments may be selected according to the type and processing status of laser processing. For example, the number of cleanings is increased for laser processing with a large amount of processing dust, such as when processing through the copper foil on the surface to the next layer of resin. On the other hand, the number of cleanings is reduced for laser processing with a small amount of processing dust, such as when laser processing is performed only on a resin that does not contain glass fiber or other materials. The frequency of the number of cleanings is set in the laser processing apparatus 100 in advance by the user.

以上のように、本発明に係るレーザ加工装置は、加工粉塵を発生させるワークのレーザ加工に適している。   As described above, the laser processing apparatus according to the present invention is suitable for laser processing of a workpiece that generates processing dust.

実施の形態1に係るレーザ加工装置を示す図である。1 is a diagram showing a laser processing apparatus according to Embodiment 1. FIG. 拭き取り機構の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a wiping off mechanism. 加工ヘッドをY軸方向から見た場合の加工ヘッドの断面図である。It is sectional drawing of a processing head at the time of seeing a processing head from the Y-axis direction. 加工ヘッドをZ軸方向から見た場合の加工ヘッドの下面図である。It is a bottom view of a processing head when the processing head is viewed from the Z-axis direction. 実施の形態1に係る制御装置の構成を示すブロック図である。2 is a block diagram illustrating a configuration of a control device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the first embodiment. 実施の形態2に係る制御装置の構成を示すブロック図である。6 is a block diagram illustrating a configuration of a control device according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。6 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the second embodiment. 実施の形態3に係る制御装置の構成を示すブロック図である。FIG. 10 is a block diagram illustrating a configuration of a control device according to a third embodiment. 実施の形態3に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the third embodiment. 実施の形態3に係るレーザ加工装置のレーザ加工タイミングを説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the laser processing timing of the laser processing apparatus according to the third embodiment. 実施の形態4に係るレーザ加工装置の動作手順を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing an operation procedure of the laser processing apparatus according to the fourth embodiment. 実施の形態5に係るレーザ加工装置を示す図である。It is a figure which shows the laser processing apparatus which concerns on Embodiment 5. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 加工ヘッド
2 保護ウィンドゥ
3 XYテーブル
4 ガス噴射機構
5 集塵ダクト
6 拭き取り装置
7 拭き取り機構
8 噴霧装置
9 液体タンク
10 制御装置
11 テーブル動作情報入力部
12 動作指令部
13 モータ制御部
14 設定回数カウンタ処理部
15 清掃完了判定部
21 支持部
31 加工制御部
100 レーザ加工装置
H 加工粉塵
W ワーク
M モータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing head 2 Protective window 3 XY table 4 Gas injection mechanism 5 Dust collection duct 6 Wiping device 7 Wiping mechanism 8 Spraying device 9 Liquid tank 10 Control device 11 Table operation information input unit 12 Operation command unit 13 Motor control unit 14 Set number counter Processing unit 15 Cleaning completion determination unit 21 Support unit 31 Processing control unit 100 Laser processing device H Processing dust W Work M Motor

Claims (4)

レーザビームをワーク上の加工位置に集光する集光レンズと、前記集光レンズの下面側であるレーザビームを照射する側に配設されて前記集光レンズを保護する保護部材と、を具備した加工ヘッドを有するとともに、前記加工ヘッドから前記レーザビームをワークに照射することによってワークのレーザ加工を行うレーザ加工装置において、
前記ワークの主面と平行な面内で前記加工ヘッドと前記ワークとの相対位置を移動させながら前記ワーク上に設定された複数の加工エリアを順番にレーザ加工するレーザ加工部と、
前記ワークにレーザビームを照射する側である前記保護部材の底面上を当該底面と接しながら移動することによって前記保護部材の底面を清掃する清掃部材と、
前記清掃部材の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
レーザ加工を開始してからの時間が所定時間となった場合、レーザ加工を開始してからの加工穴の個数が所定数となった場合またはレーザ加工を開始してからの前記ワークの加工枚数が所定枚数となった場合の何れかのタイミングであって、且つ前記複数の加工エリアの1つの加工エリアのレーザ加工が完了して次の加工エリアの上方に前記加工ヘッドが来るように前記レーザ加工部がレーザビームの照射を停止して前記加工ヘッドと前記ワークとの相対位置を移動させている間に前記清掃部材を動作させて前記清掃部材に前記保護部材の清掃を行なわせることを特徴とするレーザ加工装置。
A condensing lens that condenses the laser beam at a processing position on the workpiece; and a protective member that is disposed on the laser beam irradiating side on the lower surface side of the condensing lens and protects the condensing lens. In a laser processing apparatus for performing laser processing on a workpiece by irradiating the workpiece with the laser beam from the processing head,
A laser processing unit for sequentially laser processing a plurality of processing areas set on the workpiece while moving a relative position between the processing head and the workpiece in a plane parallel to the main surface of the workpiece;
A cleaning member that cleans the bottom surface of the protection member by moving while contacting the bottom surface of the protection member on the side that irradiates the workpiece with a laser beam;
A control unit for controlling the operation of the cleaning member;
With
The controller is
When the time since the start of laser processing is a predetermined time, when the number of processed holes after the start of laser processing reaches a predetermined number, or the number of workpieces processed since the start of laser processing The laser beam so that the machining head is positioned above the next machining area after the laser machining of one machining area of the plurality of machining areas is completed. while the processing unit is a laser beam irradiation is moved the stop and the machining head relative position between the workpiece, that to perform cleaning of the protective member to the cleaning member to operate the said cleaning member A featured laser processing apparatus.
前記制御部は、
前記清掃部材が前記保護部材の清掃を完了するまで、前記レーザ加工部にレーザビームの照射を開始させないことを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
The controller is
2. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser processing unit does not start laser beam irradiation until the cleaning member completes cleaning of the protection member.
前記保護部材に霧状の液体を噴霧する液体噴霧部をさらに備えることを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ加工装置。   The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising a liquid spraying unit that sprays a mist-like liquid onto the protective member. 前記加工ヘッド側にガスの噴射を行なうガス噴射部と、
前記加工ヘッド側のガスを吸い込むガス吸込部と、
をさらに備え、
前記ガス噴射部および前記ガス吸込部は、
前記ワークのレーザ加工を行なっている間は前記ガス噴射部から前記ガス吸込部へガスを流してレーザ加工時に発生する前記ワークからの粉塵を集塵し、前記液体噴霧部が前記液体を噴霧する間は前記ガス噴射部によるガスの噴射または前記ガス吸込部によるガスの吸込みの少なくとも一方を停止させることを特徴とする請求項3に記載のレーザ加工装置。
A gas injection part for injecting gas to the processing head side;
A gas suction portion for sucking gas on the processing head side;
Further comprising
The gas injection part and the gas suction part are
While performing laser processing on the workpiece, gas flows from the gas injection unit to the gas suction unit to collect dust from the workpiece generated during laser processing, and the liquid spraying unit sprays the liquid. The laser processing apparatus according to claim 3, wherein at least one of gas injection by the gas injection unit and gas suction by the gas suction unit is stopped during the interval.
JP2008178792A 2008-07-09 2008-07-09 Laser processing equipment Expired - Fee Related JP5356741B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008178792A JP5356741B2 (en) 2008-07-09 2008-07-09 Laser processing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008178792A JP5356741B2 (en) 2008-07-09 2008-07-09 Laser processing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010017732A JP2010017732A (en) 2010-01-28
JP5356741B2 true JP5356741B2 (en) 2013-12-04

Family

ID=41703119

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008178792A Expired - Fee Related JP5356741B2 (en) 2008-07-09 2008-07-09 Laser processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5356741B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101246909B1 (en) * 2011-01-11 2013-03-25 엔케이에스주식회사 Welding method for hot stamping coating steel sheets
US10547040B2 (en) * 2016-04-14 2020-01-28 Applied Materials, Inc. Energy storage device having an interlayer between electrode and electrolyte layer
JP6700614B2 (en) * 2017-03-28 2020-05-27 ブラザー工業株式会社 Laser processing equipment
WO2019082312A1 (en) * 2017-10-25 2019-05-02 株式会社ニコン Processing device and method for producing moving body
WO2020170953A1 (en) * 2019-02-19 2020-08-27 日本精工株式会社 Bearing part, and method and device to remove foreign bodies adhering to same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5038840B2 (en) * 1972-06-06 1975-12-12
JPH0268265A (en) * 1988-08-31 1990-03-07 Mitsubishi Electric Corp Monitor for boarding and alighting passenger
JP3077539B2 (en) * 1994-12-22 2000-08-14 松下電器産業株式会社 Laser processing method
JP3307280B2 (en) * 1997-06-05 2002-07-24 株式会社富士電機総合研究所 Laser processing equipment
JP4156944B2 (en) * 2003-02-14 2008-09-24 株式会社リコー Adhesive removing device and member peeling system provided with the adhesive removing device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010017732A (en) 2010-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5356741B2 (en) Laser processing equipment
US6677553B2 (en) Laser processing apparatus
US8330073B2 (en) Method and device for laser ablation of a surface coating from a wall, such as a coat of paint in a nuclear plant
JP6382220B2 (en) Material processing Low inertia laser scanning end effector operation
CN106513381A (en) Laser cleaning device and method for axis parts
JP6450783B2 (en) Nozzle for laser processing head
JP6071775B2 (en) Wafer processing method
JP2013108977A (en) Laser decontamination device
US20080037596A1 (en) Laser beam irradiation apparatus and laser working machine
KR101941291B1 (en) Laser machining apparatus
KR102280373B1 (en) Clean laser system with three-layered laser emission safety device
KR101070192B1 (en) Laser machining chuck and laser machining method using the same
JP2001321977A (en) Hybrid machining device
KR100710854B1 (en) A glass drilling apparatus and a method for drilling glass
KR20130091849A (en) Apparatus for removing particles in laser head
JP2002066781A (en) Protection mechanism and method for machining lens
JP4762601B2 (en) Thin film panel processing equipment
KR102312237B1 (en) Pulse laser beam spot shape detection method
KR100639402B1 (en) Method and apparatus for dry cleaning of image sensor using a laser
JP6116420B2 (en) Laser processing equipment
JP2007275966A (en) Substrate dividing method, ink jet recording head and its manufacturing method, and ink jet recorder
JP2011125871A (en) Laser beam machining apparatus
JP6037390B2 (en) Laser processing equipment
WO2023037460A1 (en) Laser oscillator and processing control device for laser processing apparatus
JP2008137036A (en) Laser cutting apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110411

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120803

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120814

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121005

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130312

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130531

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20130610

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130827

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130829

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees