KR20000023070A - 술폰화 폴리에스테르 및 실리콘 화합물 함유 수성 화장용조성물 - Google Patents

술폰화 폴리에스테르 및 실리콘 화합물 함유 수성 화장용조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명의 주된 대상은 수성 상 중에
i) 필수적으로 하기 화학식 (1)의 디카르복실레이트 반복 단위를 갖는 수용성 또는 수분산성 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 (이 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량은 20,000 미만임),
ii) 수성 상 중의 에멀젼 형태로서 하나 이상의 실리콘 화합물을 포함하는 화장용 또는 피부학용 조성물이다.
[-CO-A-CO-O-(CH2-CH2O)n-]
상기 식에서,
- A는 1,4-페닐렌 또는 술포-1,3-페닐렌기이고,
- n은 1 내지 4이고,
- 상기 화학식 (1)의 단위의 35 몰% 이상은 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1)의 단위이고,
- 상기 화학식 (1)의 단위의 7 몰% 이상은 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이다.
이 조성물은 케라틴성 물질을 메이크업하는 것을 목적으로 한다.

Description

술폰화 폴리에스테르 및 실리콘 화합물 함유 수성 화장용 조성물{AQUEOUS COSMETIC COMPOSITION COMPRISING A SULFONATED POLYESTER AND A SILICONE COMPOUND}
본 발명은 특히 화장품 및/또는 피부학 분야에서 사용하고자 하는 술폰화 폴리에스테르 타입의 특정 친수성 겔화제 및 실리콘 화합물을 함유하는 국소 적용용의 신규한 내수성의 묻어남이 없는 막형성 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 인간의 케라틴성 물질, 예컨대, 피부, 손톱, 속눈썹, 눈썹, 모발 또는 입술과 같은 점막을 메이크업하거나 화장 처리하기 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다. 이 조성물은 겔, 페이스트 또는 캐스트 제품, 특히 스틱의 형태로 제공될 수 있다.
파운데이션 또는 립스틱과 같은 피부 또는 입술의 메이크업 또는 보호용 제품은 일반적으로 예컨대 왁스 및 오일과 같은 지방 상, 안료 및/또는 충진제, 및 경우에 따라 화장용 또는 피부학용 활성 물질과 같은 첨가제로 이루어진다. 이들은 그의 용도에 따라 조성물에 요구되는 점도 (consistency)를 얻게 할 수 있는 겔화제를 포함할 수 있다.
상기 조성물이 피부 또는 입술에 적용될 때 이들 조성물은 묻어나는 단점, 다시 말하면, 적어도 그 일부가 침착되는 단점을 나타내어, 이들이 접촉될 수 있는 특정 물체, 특히 안경, 컵, 담배, 의복 또는 피부 상에 자국을 남기게 된다. 이로 인하여 적용된 막의 지속력은 평범하여 파운데이션 또는 립스틱 조성물을 정기적으로 새로이 발라야 한다. 게다가, 특히 블라우스 컬러 상의 마음에 안드는 이런 자국의 외관으로 인해 일부 여성들이 상기 타입의 메이크업을 사용하는 것을 단념시킬 수 있다.
휘발성 오일, 특히 휘발성 실리콘 오일 및/또는 휘발성 탄화수소 함유 오일을 함유하는 소위 "묻어남이 없는 (transfer-free)" 메이크업 조성물은 출원 EP-A-602,905호 및 JP-A-6165809호에서 공지되어 있다. 그러나, 상기 조성물들은 종종 특히 입술에 바르기에 성가시며 매트 (matt) 형 메이크업이 된다.
중합체 수분산액을 함유하는 입술용 조성물은 또한 출원 EP-A-775,483호에서 제공되어졌다. 그러나, 이들 조성물이 묻어남이 없는 우수한 성질을 갖는 막을 제공하더라도, 이들 막은 불행하게도 시간이 지남에 따라 불편해지는 단점을 갖는다. 더우기, 이들 막은 통상 사용하는 메이크업 리무버로 지우기가 종종 어렵다.
본 발명의 목적은 전술한 단점을 나타내지 않고 묻어남이 완전히 없고, 광택성, 케라틴 물질에 적용 후 및 적용 동안 팽팽하게 당김이 없는 성질, 그리고 쉽게 지워질 수 있는 성질을 발현하는 수성 막형성 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 상기 조성물이 술폰화 폴리에스테르 타입의 특정 친수성 겔화제 및 수성 에멀젼 상태의 실리콘 화합물을 사용하여 얻어질 수 있다는 것을 발견하였다. 적용 후 우수한 광택성 및 우수한 보유력을 나타내고 전혀 묻어남이 없는 막을 남기는 조성물이 얻어진다. 케라틴성 물질에 상기 조성물을 적용하는 동안 및 그 후 막은 특히 전혀 끈적이지 않고 편안하다 (팽팽하게 당김이 없음). 이 막은 또한 상쾌감을 제공하며 통상 사용하는 메이크업 리무버로 쉽게 지워진다. 더우기, 이 조성물은 케라틴 물질에 쉽게 적용된다.
그러나, 술폰화 테레프탈산 공중합체 올리고머 및 수성 에멀젼 상태의 2 중량%의 아미노실리콘을 함유하는 막형성 조성물은 1998년 9월 18일에 공개된 출원 FR-A-2,760,642호에서 공지되어 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 선행 기술의 단점을 해결할 수 있는 화장용 또는 피부학용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 주된 대상은, 친수성 겔화제가 수용성 또는 수분산성 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머이고, 수성 상 중의 에멀젼 형태로서 적어도 1종의 실리콘 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는, 술폰화 폴리에스테르 타입의 친수성 겔화제를 수성 상 중에 함유하는 국소 적용용 신규한 막형성 조성물이다.
본 발명에 따라 사용되는 특정한 겔화제는 필수적으로 하기 화학식 (1)의 디카르복실레이트 반복 단위를 갖는 수용성 또는 수분산성 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머로서, 상기 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량은 20,000 미만, 바람직하게는 15,000 미만이다.
<화학식 1>
[-CO-A-CO-O-(CH2-CH2O)n-]
상기 식에서,
- A는 1,4-페닐렌, 술포-1,3-페닐렌 및 경우에 따라 1,3-페닐렌기이고,
- n은 1 내지 4이고,
- 상기 화학식 (1)의 단위의 35 몰% 이상은 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1)의 단위이고,
- 상기 화학식 (1)의 단위의 7 몰% 이상은 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이다.
바람직하게는, 화학식 (1)의 단위의 40 몰 % 이상, 더욱 바람직하게는 40 내지 90 몰%는 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1)의 단위이다. 바람직하게는, 화학식 (1)의 단위의 10 몰% 이상, 더욱 바람직하게는 10 몰% 내지 25 몰%는 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이다.
상기 코폴리에스테르 올리고머 사슬의 말단은 유사하거나 상이할 수 있으며 하기 화학식 (2)의 기에 의해 필수적으로 표시된다.
-CO-A-CO-O-(CH2-CH2-O)n-H
상기 식에서, A와 n은 상기 정의한 바와 같다.
상기 올리고머는 또한 사슬 말단에서 나타날 수 있으며, 소량으로-A-CO-OH 및 -A-CO-OR (식 중, A는 상기에서 정의된 것이며, R은 C1-C4알킬기를 나타낸다)의 기를 나타낼 수 있다.
A가 술포-1,3-페닐렌기를 표시하는 경우, A는 더욱 구체적으로 알칼리 금속 술포네이트이며, 특히 나트륨 또는 칼륨 술포네이트 또는 암모늄 또는 모노-, 디-, 트리- 또는 테트라 (저급 알킬)암모늄 술포네이트이다. 용어 "(저급 알킬)암모늄"은 바람직하게는 알킬 라디칼(들)이 저급 알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬인 암모늄을 의미하는 것으로 이해된다. 이는 바람직하게는 술폰산나트륨이다.
코폴리에스테르 올리고머는 경우에 따라 A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위 20 몰% 이하, 바람직하게는 0.5 내지 5 몰%로 이루어질 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시태양에 따르면, 상기 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량은 5,000 내지 14,000, 더욱 바람직하게는 8,000 내지 10,000이다. 중량 평균 분자량은 100 ℃에서 LiBr 10-2N 함유 디메틸아세트아미드 중에서 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된다. 결과는 폴리스티렌 당량으로 표현된다.
상기 코폴리에스테르 올리고머는 용융 경로, 용매 경로 또는 계면 경로에 의한 폴리에스테르의 제조를 위한 표준 방법에 의해 얻을 수 있으며, 상기 방법들은
·이산과 디올의 에스테르화 반응 및 중축합 반응,
·디에스테르 및 디올의 트랜스에스테르화 반응 및 중축합 반응,
·히드록시산의 자가축합 반응,
·디올 및 산 염화물을 사용하는 쇼튼-바우만 (Schotten-Baumann) 반응 및 중축합 반응,
·락톤의 중합화 반응
을 포함하며, A가 1,4-페닐렌기를 나타내고, n은 1과 동일한 화학식 (1) 단위의 최소 함량은 다양한 단량체의 초기 화학양론적 비율과 부반응을 조절함에 의해 조절된다.
특히 유리한 제조 방법은 트랜스에스테르화 및/또는 에스테르화 촉매를 사용하는 용융 경로에 의한 트랜스에스테르화/중축합화 반응 및/또는 에스테르화/중축합화 반응에 의한 것이다.
다양한 이산 및/또는 디에스테르의 초기 화학양론적 비율과 에테르화 제한 시약 (제한 시약은 지방족 또는 방향족 아민 또는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물 또는 아세테이트 등의 염기성 화합물일 수 있다)을 사용함에 의해 A는 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1) 단위의 최소 함량을 조절함으로써, 상기 구조를 조절한다.
압력, 온도 및 시간 사이에 적절한 타협을 함으로써 당업계의 숙련가에 공지된 방식으로 분자량을 조절한다.
본 발명에 따라 사용된 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머는
에스테르화 및/또는 트랜스에스테르화 반응 촉매 및 에테르화 제한 시약의 존재 중에서
* 7/100 이상, 바람직하게는 10/100 이상, 매우 구체적으로는 10/100 내지 25/100의 (술포이소프탈산, 무수물 또는 디에스테르 (SIp)) / [(테레프탈산, 무수물 또는 디에스테르 (Tp)) + (SIp) + (이소프탈산, 무수물 또는 디에스테르 (Ip))] 몰비,
* 20/100 이하, 바람직하게는 5/100 이하의 (Ip)/[(Tp)+(SIp)+(Ip)] 몰비,
* 2/1 내지 3/1의 (에틸렌 글리콜(EG))/[(Tp)+(SIp)+(Ip)] 몰비
에 해당하는 비교량에 따라
- 테레프탈산, 무수물 또는 디에스테르 (Tp),
- 술포이소프탈산, 무수물 또는 디에스테르 (SIp),
- 임의로는 이소프탈산, 무수물 또는 디에스테르 (Ip),
- 및 에틸렌 글리콜 (EG)
를 근거로 단량체 조성물의 에스테르화 및/또는 트랜스에스테르화/중축합화 반응에 의해 제조될 수 있다.
테레프탈산 단량체 (Tp)는 바람직하게는 저급 디에스테르 (C1-C4디알킬 디에스테르), 바람직하게는 디메틸 디에스테르의 형태로서 사용된다.
술포이소프탈산 단량체 (SIp)는 바람직하게는 저급 디에스테르 (C1-C4알킬 디에스테르), 바람직하게는 메틸 디에스테르의 알칼리 금속 (특히 나트륨) 술포네이트의 형태로 사용된다. 아주 구체적으로는 디메틸 5-(소디오옥시-술포닐)이소프탈레이트를 언급할 수 있다.
임의의 이소프탈산 단량체 (Ip)는 바람직하게는 이소프탈산의 형태로 사용된다. 모든 "이산" 단량체가 디에스테르의 형태로서 사용될 때, 이들 "이산" 단량체 및 에틸렌 글리콜 사이의 트랜스에스테르화 (내부교환) 반응은 130 ℃ 이상, 바람직하게는 140 내지 220 ℃, 매우 구체적으로는 180 내지 220 ℃의 온도에서 수행되며, 이 온도에서, 형성된 메탄올 (메틸 디에스테르의 바람직한 케이스)은 반응 혼합물로부터 바람직하게는 증류에 의해 제거된다.
이 내부교환 반응은 금속 트랜스에스테르화 반응 촉매 및 에테르화 제한 시약의 존재 하에서 수행된다. 상기 촉매는 바람직하게는 금속 카르복실레이트, 예컨대 망간 아세테이트, 아연 아세테이트, 코발트 아세테이트 또는 칼슘 아세테이트 또는 유기 또는 무기 티타네이트 (예: 부틸 티타네이트, 2,2',2"-니트릴로트리에틸 티타네이트 (또는 부가적으로 에테르화 제한 시약으로서 작용하는 티타늄 아미노트리에탄올레이트) 또는 칼슘 티타네이트이다. 바람직한 촉매는 유기 티타네이트로서, 이들은 존재하는 반응물의 중량에 대해 티타늄으로서 표현된 0.001 중량% 이상, 바람직하게는 0.002 중량% 내지 0.02 중량%의 티타늄 양으로 사용된다.
에테르화 제한 시약은 염기성 화합물, 예컨대 지방족 또는 방향족 아민 (트리에탄올아민, 구아니딘 카르보네이트, 디메틸아닐린, 나프틸아민 등) 또는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물 또는 아세테이트 (아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 벤조산나트륨 등)일 수 있다. 이는 존재하는 반응물의 중량에 대해 0.001 중량% 내지 0.05 중량%의 양으로 사용되는게 일반적이다.
내부교환 반응의 반응 시간은 1 내지 4 시간, 일반적으로 2 내지 3 시간이다.
메탄올 이론량의 90 % 이상이 증류 제거되었을 때, 반응 혼합물의 온도를 230 ℃까지 상승시켜 과량의 폴리올을 제거한다.
중축합 반응은 230 내지 280 ℃ 정도, 바람직하게는 240 내지 260 ℃ 정도의 온도로 미리 상승시키고, 10 Pa까지 떨어질 수 있는 압력까지 떨어진 진공 하에 점차로 배치시킨 또다른 반응기에서 수행되며, 대략 10 밀리바까지의 압력 강하는 40 분 정도 지속된다.
중축합 반응은 폴리올 분자를 제거하면서 일어나며, 7.5 리터 반응기 내에서, 교반기 샤프트의 모터 토크가 250 ℃의 반응물 온도의 경우 대략 0.5 내지 5 N.m와 동일한 값 및 앵커형 교반기를 사용한 교반 속도가 80 회전/분을 나타낼 때 상기 반응을 멈춘다. 그 후 질소로 진공을 풀고 중합체를 몰드 내에서 주형하고, 냉각 후 중합체를 분쇄한다. "이산" 단량체 중 하나가 이산 또는 무수물 형태, 및 다른 하나 또는 다른 것들이 디에스테르 형태로 존재하는 경우, 전술한 조건 하에서 상기 디에스테르 단량체와 에틸렌 글리콜의 트랜스에스테르화 반응을 먼저 수행한 후, 상기 매질 중에서 이산 또는 무수물 단량체와 에틸렌 글리콜의 에스테르화 반응을 행한 후 전술한 조건하에서 중축합 반응을 하여 상기 코폴리에스테르 올리고머를 얻으며, 에틸렌 글리콜의 총량은 2개의 반응 (트랜스에스테르화 반응 및 에스테르화 반응) 사이에서 나뉘어진다.
필요하다면, 에스테르화 반응은, 트랜스에스테르화 반응으로부터 얻어지는 반응 혼합물에, 내부교환 온도의 말단 온도에 해당하는 온도에서 미리 현탁시킨 이산 또는 무수물 형태의 단량체와 에틸렌 글리콜을 첨가하여 수행되며, 도입 시간은 1 시간 정도이다.
상기 에스테르화 반응은 트랜스에스테르화 반응에서와 동일한 형태의 촉매 및 에테르화 제한 시약의 존재하에서 230 내지 280 ℃, 바람직하게는 250 내지 260 ℃의 온도에서 수행된다. 이 반응은 동일한 비율의, 트랜스에스테르화 반응 동안에 사용된 것과 동일한 종류의 촉매 및 에테르화 제한 시약의 존재하에서 수행된다. 이 반응은 물을 제거하면서 수행되며, 물은 동시에 과량의 폴리올로부터 반응기로부터 제거된다.
상기 유형의 제조 방법은 특히 특허 출원 WO 95/32997에 개시되어 있다.
테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머는 본 발명에 따른 조성물 중에 조성물의 총 중량에 대해 0.5 중량% 내지 40 중량%의 함량으로 존재할 수 있다. 상이한 양의 특정한 겔화제가 원하는 형상, 겔, 페이스트 또는 고체에 의존하여 사용될 것이다. 고형 조성물의 경우, 특정 겔화제를 10 내지 40 중량%로 사용하는 것이 바람직할 것이며, 더욱 바람직하게는 15 내지 30 중량%로 사용하는 것이다. 겔화제 또는 페이스트 조성물의 경우, 특정 겔화제를 0.5 내지 10 중량%로 사용하는 것이 바람직할 것이며, 보다 바람직하게는 2 내지 5 중량%로 사용하는 것일 것이다.
본 발명에 따른 조성물 중에 존재하는 실리콘 화합물은 수성 에멀젼의 형태로서, 또한 실리콘 에멀젼으로서 알려져 있다.
용어 "수성 에멀젼"은 실리콘 화합물이 에멀젼의 연속상을 형성하는 수성상 중의 입자 또는 점적의 형태로 분산되는 수중유 (oil-in-water)의 에멀젼을 의미하는 것으로 이해된다.
이 에멀젼은 통상적인 에멀젼화 계에 의해 안정화될 수 있다.
이 실리콘 에멀젼은 10 nm 내지 50 ㎛, 바람직하게는 10 내지 1000 nm에 이르는 크기의 실리콘 점적 또는 입자를 가질 수 있다. 또한, 이는 실리콘 점적의 크기가 10 내지 80 nm인 마이크로에멀젼의 형태로 제공될 수 있다. 실리콘 마이크로에멀젼은 콜로이드성 입자의 안정한 에멀젼으로서 일반적으로 투명하다.
에멀젼 중의 실리콘 화합물은 바람직하게는 폴리유기실록산이며, 이는 오일의 형태, 특히 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 오일, 고무, 수지, 페이스티 제품 또는 왁스, 또는 그들의 혼합물로 제공될 수 있다. 상기 실리콘 화합물은 이들과 함께 통상 사용되는 계면활성제를 사용하여 수성 매질 중에서 일반적으로 쉽게 에멀젼화될 수 있으며, 계면활성제의 예는 (알킬)디메티콘 코폴리올 또는 문헌 EP-A-678,015호에서 인용된 것이다.
실리콘 고무, 왁스 및 수지들은 이들이 용해될 수 있는 실리콘 오일과 혼합될 수 있으며, 혼합물은 본 발명에 따른 조성물의 수성 상 중의 에멀젼의 형태이다.
일반적으로, 실리콘 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 (3)의 반복 단위를 갖는 중합체이다.
RnSiO(4-n)/2
상기 식에서, 상기 반복 단위에 존재하는 R 치환체는 유기기로서 동일 또는 상이할 수 있다. 추가로, 동일한 화합물은 상이한 반복 단위를 함유할 수 있다.
n = 2에 해당하는 반복 단위는 그의 사슬은 실리콘 결합으로 구성되는 선형 또는 고리형 구조를 갖는 화합물에 해당한다. 선형 중합체의 경우에, n = 3에 해당하는 단위는 말단기를 구성한다. 추가로, 실리콘 화합물은 반복 단위 사이에 삽입된 가교결합성 단위를 포함할 수 있다. 이들 가교결합성 단위는 n = 1 또는 n = 0인 상기 화학식 (3)에 해당한다.
n = 4인 반복 단위는 가교결합된 중합체에 해당하며, 그의 말단기는 n = 1, 2 또는 3인 단위일 수 있다.
화학식 (3)의 R 기는 특히, 알킬, 알케닐, 시클로알킬, 아릴, 알킬아릴 또는 히드록시기를 나타낼 수 있으며, 부가적으로 에테르, 아민, 카르복실, 히드록실, 티올, 에스테르, 술포네이트 또는 술페이트와 같은 관능기를 포함할 수 있다.
알킬기는 예를 들면, 1 내지 50개의 탄소 원자를 가지며, 시클로알킬기는 예컨대 5 또는 6의 탄소 원자를 가지고, 아릴기는 특히 페닐기이며, 알케닐기는 특히 2 내지 10개의 탄소 원자를 가지며, 알킬아릴기는 7 내지 20개의 탄소 원자를 가질 수 있다.
n = 3에 해당하는 말단기의 경우, 말단 규소에 결합된 R기는 부가적으로 OH기와 같은 또다른 기를 나타낼 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 실리콘 화합물 중에서, 구체적으로 폴리유기실록산, 특히 유기개질될 수 있거나 개질될 수 없는, 폴리알킬실록산, 폴리아릴실록산, 폴리알킬아릴실록산, 폴리에테르실록산 공중합체이나, 또는 실리콘 고무, 페이스트 제품, 왁스 및 수지, 유기관능기에 의해 개질된 폴리실록산 및 그의 혼합물로부터 선택된 비휘발성 실리콘을 언급할 수 있다.
이들은 보다 구체적으로는 폴리알킬실록산에서 선택되며, 그 중 25 ℃에서 점도가 10-5내지 2.5 m2/s, 바람직하게는 25 ℃에서 점도가 1 x 10-5내지 1 m2/s인 트리메틸실릴 말단기를 갖는 선형 폴리디메틸실록산을 주로 언급할 수 있으며, 구체적으로 하기 시판품을 언급할 수 있다:
- 롱-쁠랑에서 시판되는 47 및 70047 시리즈의 실비온 오일, 예컨대, 47V500000 오일,
- 다우 코닝사에서 시판되는 200 시리즈 오일,
- 제너럴 일렉트릭사에서 시판되는 비스카실 (Viscasil) 오일,
- 제너럴 일렉트릭사에서 시판되는 SF 시리즈의 특정 오일 (SF96, SF18).
롱-쁠랑사로부터 시판되는 48 시리즈의 오일과 같은, 디메틸실란올 말단기를 갖는 선형 폴리디메틸실록산을 언급할 수 있다.
골드쉬미트 (Goldschmidt)사에서 상품명 Abil Wax 9800 및 9801로 시판되는 제품 (폴리(C1-C20) 알킬실록산임)을 또한 언급할 수 있다.
폴리알킬아릴실록산 중에서 25 ℃에서 점도가 1 x 10-5내지 5 x 10-2m2/s인 선형 또는 분지쇄의 폴리디메틸메틸페닐실록산 및 폴리디메틸디페닐실록산, 및 구체적으로 하기 시판품을 언급할 수 있다:
- 롱-쁠랑사에서 시판하는 70641 또는 70633 V 30 실비온 오일,
- 롱-쁠랑사에서 시판되는 로도르실 (Rhodorsil) 70633 및 763 시리즈 오일,
- 다우 코팅사 제품인 DC 556 유체 또는 SF 558 오일,
- 바이엘사 제품인 PK 시리즈의 실리콘, 예컨대 PK20 제품,
- 바이엘사 제품인 PN 및 PH 시리즈의 실리콘, 예컨대 제품 PN1000 및 PH1000,
- 제너럴 일렉트릭사 제품인 SF 시리즈의 특정 오일, 예컨대 SF1023, SF1154, SF1250 및 SF1265,
- 골드쉬미트사 제품인 아빌 (Abil) AV 8853 오일.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 실리콘 고무는 특히 고분자량, 바람직하게는 200,000 내지 1,000,000의 폴리디유기실록산이다. 이들은 휘발성 실리콘, 폴리디메틸실록산 (PDMS) 오일, 폴리페닐메틸실록산 (PPMS) 오일, 이소파라핀, 메틸렌 클로라이드, 펜탄, 도데칸, 트리데칸, 테트라데칸 또는 그의 혼합물에서 선택될 수 있는 용매 중의 혼합물로서 또는 단독으로 사용될 수 있다. 보다 구체적으로는 하기 제품을 언급할 수 있다: 폴리디메틸실록산/메틸비닐실록산, 폴리디메틸실록산/디페닐실록산, 폴리디메틸실록산/페닐메틸실록산 또는 폴리디메틸실록산/디페닐실록산/메틸비닐실록산 고무.
구체적으로 하기와 같은 혼합물을 사용할 수 있다:
- 사슬 말단에서 히드록시화된 폴리디메틸실록산 (CTFA에 따른 디메티콘올) 및 고리형 폴리디메틸실록산 (CTFA에 따른 시클로메티콘)으로부터 형성된 혼합물, 예컨대 다우 코팅사에서 판매하는 제품 Q2-1401,
- 고리형 실리콘 오일과 폴리디메틸실록산 고무로부터 형성된 혼합물, 예컨대 제너럴 일렉트릭사 제품인 SF1214 (이것은 데카메틸시클로판타실록산에 용해된, 분자량이 500,000인 디메티콘 고무의 혼합물임),
- 상이한 점도를 갖는 2개의 PDMS의 혼합물, 특히 PDMS 고무 및 PDMS 오일의 혼합물, 예컨대 제너럴 일렉트릭사 제품인 SF1236 (이것은 분자량이 500,000이고 점도가 20 m2/s인 디메티콘 고무 15% 및 점도가 5 x 10-6m2/s인 SF96 오일 85 %의 혼합물임).
실리콘 왁스로서 문헌 FR-A-2,688,134호 및 EP-A-811,372호에 개시된 것을 언급할 수 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 유기폴리실록산 수지는 특히 R2SiO, RSiO3/2및 SiO2단위를 포함하는 가교결합된 실록산계이다. 상기 화합물들 중 보다 구체적으로 바람직한 제품은 R이 C1-C36알킬 또는 페닐을 표시하는 것이다.
이들 수지 중 상품명 다우 코팅 593 또는 제너럴 일렉트릭사 제품인 상품명 Silicone Fluid SS4230 및 SS4267로 시판되는 제품을 언급할 수 있으며, 이들은 디메틸/트리메틸실록산형이다.
유기개질된 실리콘은 실록산 사슬에 직접 부착되거나 탄화수소 함유 라디칼을 통하여 부착된 하나 이상의 유기관능기를 부가적으로 그들의 구조 내에 함유하는 상기에서 정의된 바와 같은 실리콘 화합물이다.
예컨대,
- 디메티콘 코폴리올, 특히 상품명 DC1248로 다우 코팅사에서 판매하는 것,
- 알킬 (디)메티콘 코폴리올, 특히 상품명 Q2-5200으로 다우 코닝사에서 판매하는 (C12) 알킬 메티콘 코폴리올,
- 유니온 카바이드사에서 판매하는 실웨트 (Silwet) L 722, L 7500, L 77 및 L 711 오일과 같은,
- 임의로 알킬기를 함유하는 폴리에틸렌옥시 및/또는 폴리프로필렌옥시기, 및
- 다우 코팅사에서 상품명 Q2-8220 및 DC929로 시판하는 제품 또는 게네스 (Genesee)사에서 상품명 GP4 Silicone Fluid 및 GP7100으로 판매되는 제품 등의 임의 치환된 아미노기 (치환된 아미노기는 특히 (C1-C4) 알킬아미노기이다),
- 게네스사 제품인 GP 72 A 및 GP 71에서와 같은 티올기,
- 치소 (Chisso) 코포레이션사 제품인 특허 EP 186,507호에서 개시된 생성물에서와 같은 카르복실레이트기,
- 골드쉬미트사 제품인 아빌 왁스 2428, 2434 및 2440 또는 SWS Silicones사에서 상품명 실리콘 공중합체 F-755로 시판되는 제품 등과 같은 알콜시화된 기,
- 구체적으로 프랑스 특허 출원 85FR-16334호에서 개시된 히드록시알킬 관능기를 갖는 폴리유기실록산 등의 히드록시화된 기,
- 프랑스 특허 출원 88FR-17433호에서 개시된 폴리유기실록산과 같은 아실옥시알킬기 (이들 화합물은 폴리유기실록산과 히드록시알킬 관능기의 에스테르화에 의해 제조될 수 있다),
- 알킬카르복실기와 같은 카르복실 타입, 2-히드록시알킬술포네이트 또는 2-히드록시알킬티오술페이트의 음이온계 기,
- 불소화 기.
를 함유하는 실리콘을 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서 사용될 수 있는 실리콘 화합물 중에서 일반적으로 비점이 60 내지 260 ℃이고 점도가 10-5m2/s 미만인 휘발성 실리콘을 언급할 수 있으며, 구체적으로,
- 3 내지 7개의 규소 원자, 바람직하게는 4 내지 6개의 규소 원자를 함유하는 고리형 실리콘, 예컨대 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산 및 그의 혼합물을 언급할 수 있다.
또한, 시클로공중합체, 예컨대 디메틸실록산/메틸알킬실록산을 언급할 수 있으며, 구체적으로 유니온 카바이드사가 판매하는 휘발성 실리콘 FZ 3109를 언급할 수 있다.
옥타메틸시클로테트라실록산 및 테트라(트리메틸실릴)펜타에리트리톨의 (50/50) 혼합물 및 옥타메틸시클로테트라실록산 및 1,1'-옥시(2,2,2',2',3,3'-헥사트리메틸실릴옥시)비스네오펜탄의 혼합물 등의, 규소로부터 유도된 화합물과 고리형 실리콘의 혼합물을 언급할 수도 있다.
- 또한, 상기 휘발성 실리콘으로서, 2 내지 10개의 탄소 원자를 갖고 25 ℃에서 점도가 10-5m2/s 이하인 휘발성 선형 실리콘, 예컨대 폴리디메틸실록산 (PDMS), 예컨대 헥사메틸디실록산, 데카메틸테트라실록산 또는 도데카메틸시클로헥사실록산 및 문헌 EP-A-811,372호에서 인용하는 것을 언급할 수 있다. 이 범주 내에 속하는 실리콘은 제목이 "Volatile Silicone Fluids for Cosmetics"인 논문 [Cosmetics and Toiletries, vol. 91, Jan 76, pp. 27-32에서 공개]에 개시되어 있다.
실리콘 화합물의 수성 에멀젼은 당업계의 숙련가의 지식을 기초로 그에 의해 쉽게 제조될 수 있다.
상업적으로 구입가능한 실리콘 수성 에멀젼 중에서
- 폴리디메틸실록산 에멀젼 (제너럴 일렉트릭사 제품인 SM2162),
- 스테아릴 디메티콘 에멀젼 (Wacker사 제품인 SLM23032),
- 아모디메티콘 마이크로에멀젼 (롱-쁠랑사 제품인 마이크로에멀젼 71827),
- 폴리디메틸실록산과 아미노에틸아미노프로필기의 양이온계 마이크로에멀젼 (다우 코닝사 제품인 DC939),
- 폴리디메틸실록산 마이크로에멀젼 (다우 코닝사 제품인 DC2-1281 또는 Siltech사 제품인 Siltech MFF 5015-70),
- 아미네이트된 폴리디메틸실록산의 양이온계 에멀젼 (Wacker사 제품인 Belsil ADM 6057 E),
- 페닐화된 폴리디메틸실록산 에멀젼 (롱-쁠랑사 제품인 Mirasil DPDM-E),
- 알킬화된 폴리디메틸실록산 에멀젼 (Wacker사 제품인 Silres M50E)를 언급할 수 있다.
실리콘 화합물은 조성물의 총 중량에 대해 실리콘 화합물의 건식 기준으로 0.1 내지 30 중량%의 비율로, 바람직하게는 2 내지 10 중량%의 비율로 조성물 중에 존재할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 조성물은 조성물의 총 중량을 기준으로 아미노실리콘 2 중량%를 포함하지 않는다.
추가로, 본 발명에 따른 조성물은 화장용 조성물, 특히 국소 적용 조성물에서 통상 사용하는 보조제를 함유할 수 있다. 보조제의 예를 들면, 염료, 안료, 진주 광택제, UV-차단제, 보존제, 농후제, 가소화제, 계면활성화제, 왁스, 오일, 방향제, pH-조절제 또는 보습제를 언급할 수 있다. 물론, 당업계의 숙련가는 이것 또는 이들의 임의의 보조제 및/또는 그들의 양을 선택하는데 주의를 기울여 본 발명에 따른 조성물의 유리한 성질을 계획된 첨가에 의해 영향을 받지 않거나 또는 실질적으로 해롭게 영향을 받지 않을 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 케라틴성 물질 및/또는 점막을 비치료학적으로 메이크업, 보호 또는 화장 처리하도록 사용될 수 있다. 메이크업 조성물은 특히 페이스트 또는 스틱 형태의 입술을 메이크업하기 위한 제품, 파운데이션, 아이샤도우, 페이스 파우더, 속눈썹 또는 모발용 마스카라, 아이라이너, 컨실러 (concealer)일 수 있거나, 또는 별법으로 신체를 메이크업하기 위한 조성물일 수 있다. 보호용 또는 화장용 트리트먼트 조성물은 안면, 목, 손, 신체, 손톱 또는 입술을 보호하기 위한 조성물, 탈취용 조성물 또는 햇빛 차단용 조성물일 수 있다.
본 발명은 또한 케라틴성 물질 및/또는 점막을 처리하거나 메이크업하기 위한 비치료학적 방법에 관한 것으로서, 케라틴성 물질 및/또는 점막에 전술한 조성물을 적용하는 것으로 이루어진다.
본 발명의 또다른 주된 대상은, 케라틴성 물질 및/또는 점막 상에 침착된 조성물의 막이 묻어남을 감소시키거나, 심지어 없애기 위한, 및/또는 상기 케라틴성 물질 및/또는 상기 점막 이외의 또다른 물체 상에 자국의 침착을 없애기 위한, 화장용 또는 피부학용 조성물 중의 전술한 바와 같은 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 및 수성 에멀젼 상태의 실리콘 화합물의 용도이다.
본 발명의 또다른 주된 대상은 광택있고 및/또는 상쾌하고 및/또는 편안한 조성물의 막을 생성하기 위한, 화장용 또는 피부학용 조성물 중의 전술한 바와 같은 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 및 수성 에멀젼 상태의 실리콘 화합물의 용도이다.
본 발명의 또다른 주된 대상은 광택있고 및/또는 상쾌하고 및/또는 편안하고 및/또는 묻어나지 않는 성질을 갖는 상기 조성물의 막을 생성하기 위한 전술한 바와 같은 조성물의 용도이다.
본 발명을 예시하고자 하나 그를 제한하고자 하는 것은 아닌 실시예를 하기에서 제공하고자 한다.
실시예 1:
테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머의 제조
열전달액의 순환용 쟈켓, 전기적으로 작동하는 밸브에 의해 조절되는 증류 컬럼, 및 Kyowa 토크계에 연결된 80 회전/분으로 회전하는 앵커형 교반기가 장치된 스테인레스 스틸로 제조된 7.5 리터 반응기에 하기 반응물을 도입한다:
- 11.47 몰의 디메틸 테테프탈레이트,
- 2.53 몰의 나트륨 디메틸 이소프탈레이트-5-술포네이트,
- 39.16 몰의 에틸렌 글리콜,
- 촉매 및 에테르화 제한 시약으로서 티타늄 아미노트리에탄올레이트의 형태인 54 중량 ppm의 티타늄.
혼합물을 180 ℃로 예열한다. 그 후 이를 약 130 분에 걸쳐 220 ℃의 온도로 상승시켜 메탄올 이론량의 90 % 이상을 증류 제거한다.
이어서 반응 혼합물을 30 분 동안 230 ℃로 올린다. 반응물이 이 온도에 도달하였을 때, 다음 조성을 갖는 현탁액을 60 분에 걸쳐 여전히 230 ℃에서 도입한다:
- 0.5 몰의 이소프탈산,
- 2.36 몰의 테레프탈산,
- 8 몰의 에틸렌 글리콜.
이어서 반응물을 60 분에 걸쳐 250 ℃의 온도까지 상승시킨다.
혼합물의 도입 시간 동안 그리고 250 ℃까지 가열하는 시간 동안, 물과 에틸렌 글리콜의 혼합물을 역행이 없이 증류 제거한다.
이어서 반응 혼합물을 250 ℃로 예열된 오토클레이브에 옮긴 후 100 밀리바의 감압하에 22 분 동안 놓는다. 이 온도 및 압력 조건 하에서 2 분 후에, 반응물을 캐스팅하고 냉각시킨다.
얻어진 코폴리에스테르는 하기 표 1에 나타난 구조적인 특징을 발현한다:
여기에서, "이산 단위의 몰%"는 사용된 이산 또는 디에스테르의 합한 양에 대하여 사용한 각 이산 또는 디에스테르의 함량 (%)에 해당한다.
"Tp"는 테레프탈산 단위를 의미한다.
"Ip"는 이소프탈산 단위를 의미한다.
"SIp"는 술포이소프탈산 단위를 의미한다.
코폴리에스테르의 "글리콜"부의 특성은 190 ℃에서 16 시간 동안 생성물의 메탄올분해 (methanolysis), 이어서 기체 크로마토그래피 기법 및 내부 표준화에 의한 정량적인 측정에 의한 분석에 의해 얻어진다.
- "디올 단위의 몰%"는 디올 단위의 합한 양에 대하여 옥시에틸렌 단위 "G", 디(옥시에틸렌) 단위 "2G", 트리(옥시에틸렌) 단위 "3G" 및 테트라(옥시에틸렌) 단위 "4G"의 함량 (%)에 해당한다.
*"%GT/∑단위"는 화학식 (1) 단위의 몰%에 해당한다.
<화학식 1>
[-CO-A-CO-O-(CH2-CH2-O)n-]
상기 식에서, A는 1,4-페닐렌, 술포-1,3-페닐렌 및 경우에 따라 1,3-페닐렌이고 n은 1 내지 4인 화학식 (1)의 합한 단위에 대해 A는 1,4-페닐렌이고 n은 1이다.
"%GT/∑단위"는 하기식에 의해 계산한다: %GT/∑단위 = (Tp 단위의 몰%) x (G 단위의 몰%)/100,
*폴리에스테르의 분자량 (Mw)은 100 ℃에서 DMAc/LiBr 중의 겔 투과 크로마토그래피 (GPC)에 의해 측정하고, 그 결과는 폴리스티렌 당량으로 주어진다.
이산 단위의 몰%
TpIpSIp 82315
%GT/∑단위 46.5
디올 단위의 몰%
G2G3G4G 56.830.7102.5
Mw 8000
실시예 2:
하기 조성을 갖는 스틱의 형태로 립스틱을 제조한다:
- 실시예 1의 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 20 %,
- 고형분 함량이 50 %인 알킬화 폴리디메틸실록산 에멀젼 (Wacker사 제품인 Silres M50E) 5 % AM,
- 안료 5 %,
- 프로필렌 글리콜 2.5 %,
- 물 100 %로 만들기에 충분량.
적용하기에 쉽고 완전한 광택성이며 완전히 "묻어남이 없는" 막을 얻을 수 있게 해 주는 립스틱을 얻는다.
실시예 3:
하기 조성을 갖는 스틱의 형태로 립스틱을 제조한다:
- 실시예 1의 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 20 %,
- 고형분 함량이 35 %인 아미네이트된 폴리디메틸실록산 에멀젼 (Wacker사 제품인 Belsil ADM 6057E) 10 % AM,
- 안료 5 %,
- 프로필렌 글리콜 2.5 %,
- 물 100 %로 만들기에 충분량
완벽히 광택성인 전적으로 "묻어남이 없는" 막을 얻을 수 있게 하는 립스틱을 얻는다.
실시예 4:
하기 조성을 갖는 겔의 형태로 아이라이너를 제조한다:
- 실시예 1의 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 10 %,
- 고형분 함량이 50 %인 페닐화된 폴리디메틸실록산 에멀젼 (롱-쁠랑사 제품인 Mirasil DPDM-E) 4 % AM,
- 블랙 안료 3 %,
- 프로필렌 글리콜 1.5 %,
- 물 100 %로 만들기에 충분량
완전히 광택성 막을 남기는 "묻어남이 없는" 메이크업을 얻을 수 있게 하는 아이라이너를 얻는다.
상술한 바와 같이 화학식 (1)의 디카르복실레이트 반복 단위를 갖는 수용성 또는 수분산성 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머의 특정 친수성 겔화제, 및 수성 상 중의 에멀젼 형태로서 하나 이상의 실리콘 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 본 발명의 화장용 또는 피부학용 조성물은 전술한 선행 기술의 단점을 극복하여 광택성이 있으며, 상쾌하고 묻어남이 없고 편안한 장점을 갖는다.

Claims (34)

  1. 수성 상 중에 술폰화된 폴리에스테르 타입의 친수성 겔화제를 함유하는 국소 적용용 막형성 조성물에 있어서,
    (i) 술폰화된 폴리에스테르 타입의 친수성 겔화제가 필수적으로 하기 화학식 (1)의 디카르복실레이트 반복 단위를 갖는 수용성 또는 수분산성 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머이며 (이 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량은 20,000 미만임),
    (ii) 상기 조성물은 또한 수성 상 중의 에멀젼 상태로서 하나 이상의 실리콘 화합물을 함유하며, 조성물의 총 중량에 대하여 아미노실리콘 2 중량%를 함유하지 않는
    것을 특징으로 하는 조성물.
    <화학식 1>
    [-CO-A-CO-O-(CH2-CH2O)n-]
    상기 식에서,
    - A는 1,4-페닐렌, 술포-1,3-페닐렌 및 경우에 따라 1,3-페닐렌기이고,
    - n은 1 내지 4이고,
    - 상기 화학식 (1) 단위의 35 몰% 이상은 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1)의 단위이고,
    - 상기 화학식 (1) 단위의 7 몰% 이상은 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이고,
    - 경우에 따라 상기 화학식 (1)의 단위의 20 몰% 이하가 A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이다.
  2. 제 1 항에 있어서, A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위가 0.5 몰% 내지 5 몰%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량이 15,000 미만인 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량이 5,000 내지 14,000에 이르는 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 4 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량이 8,000 내지 10,000에 이르는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 상기 화학식 (1)의 단위 40 몰% 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1)의 단위 40 내지 90 몰%를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위 10 몰% 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위 10 몰% 내지 25 몰%를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위 20 몰% 이하를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 10 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위 0.5 내지 5 몰%를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 조성물의 총 중량에 대해 0.5 내지 40 중량%에 이르는 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 고형분 형태의 조성물에서 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 조성물의 총 중량에 대해 10 내지 40 중량%에 이르는 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 고형분 형태의 조성물에서 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 조성물의 총 중량에 대해 15 내지 30 중량%에 이르는 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 겔 형태의 조성물에서 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 조성물의 총 중량에 대해 0.5 내지 10 중량%에 이르는 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 15 항에 있어서, 겔 형태의 조성물에서 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머가 조성물의 총 중량에 대해 2 내지 5 중량%에 이르는 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물의 수성 에멀젼이 10 nm 내지 50 ㎛에 이르는 점적 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물의 수성 에멀젼이 10 nm 내지 1000 nm에 이르는 점적 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물이 폴리유기실록산인 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물이 실리콘 오일, 고무, 수지, 페이스트 제품 및 왁스로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물이 휘발성 및 비휘발성 실리콘 오일로 형성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물이, 유기개질화될 수 있거나 되지 않을 수 있는, 폴리알킬실록산, 폴리아릴실록산, 폴리알킬아릴실록산, 폴리에테르실록산 공중합체이나, 또는 유기관능기에 의해 개질된 폴리실록산, 및 그들의 혼합물로 형성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물이 트리메틸실릴 말단기를 갖는 선형 폴리디메틸실록산, 디메틸실란올 말단기를 갖는 선형의 폴리디메틸실록산, 폴리디메틸메틸페닐실록산, 및 폴리디메틸디페닐실록산에 의해 형성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물이 건식 기준으로 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 내지 30 중량%에 이르는 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 화합물이 건식 기준으로 조성물의 총 중량에 대하여 2 내지 10 중량%에 이르는 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물이 화장용 또는 피부학용 조성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
  27. 제 26 항에 있어서, 염료, 안료, 진주 광택제, UV 차단제, 보존제, 농후제, 가소화제, 계면활성제, 왁스, 오일, 방향제, pH-조절제 및 보습화제에 의해 형성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 보조제를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
  28. 제 27 항에 있어서, 케라틴성 물질 및/또는 점막의 메이크업용, 보호용 또는 화장 처리용 조성물의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  29. 제 27 항 또는 제 28 항에 있어서, 상기 조성물이 입술을 메이크업하기 위한 제품, 파운데이션, 아이샤도우, 페이스 파우더, 마스카라, 아이라이너, 컨실러 (concealer), 신체를 메이크업하기 위한 조성물, 또는 안면, 목, 손, 신체, 손톱 또는 입술의 보호용 조성물, 탈취용 조성물 또는 햇빛 차단용 조성물의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  30. 제 1 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 케라틴성 물질 및/또는 점막에 적용하는 것을 특징으로 하는 케라틴성 물질 및/또는 점막을 메이크업 또는 처리하기 위한 비치료학적 방법.
  31. 필수적으로 하기 화학식 (1)의 디카르복실레이트 반복 단위를 갖는 수용성 또는 수분산성 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 (이 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량은 20,000 미만임), 및
    화장용 또는 피부학용 조성물 중의 수성 에멀젼 상태로 실리콘 화합물을 포함하는, 케라틴성 물질 및/또는 점막 상에 침착된 조성물의 막의 묻어남을 감소시키거나 심지어 없애기 위한 및/또는 상기 케라틴성 물질 및/또는 상기 점막 이외의 다른 물체 상에 자국의 침착을 없애기 위한 화장용 또는 피부학용 조성물.
    <화학식 1>
    [-CO-A-CO-O-(CH2-CH2O)n-]
    상기 식에서,
    - A는 1,4-페닐렌, 술포-1,3-페닐렌 및 경우에 따라 1,3-페닐렌기이고,
    - n은 1 내지 4이고,
    - 상기 화학식 (1)의 단위의 35 몰% 이상이 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1)의 단위이고,
    - 상기 화학식 (1)의 단위의 7 몰% 이상이 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이고,
    - 경우에 따라 상기 화학식 (1)의 단위의 20 몰% 이하가 A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이다.
  32. 제 31 항에 있어서, A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위가 0.5 몰% 내지 5 몰%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  33. 필수적으로 하기 화학식 (1)의 디카르복실레이트 반복 단위를 갖는 수용성 또는 수분산성 테레프탈산 코폴리에스테르 올리고머 (이 코폴리에스테르 올리고머의 중량 평균 분자량은 20,000 미만임), 및
    화장용 또는 피부학용 조성물 중의 수성 에멀젼 상태로 실리콘 화합물을 함유하는, 광택성이 있고 및/또는 상쾌하고 및/또는 편안한 상기 조성물의 막을 생성하기 위한 화장용 또는 피부학용 조성물.
    <화학식 1>
    [-CO-A-CO-O-(CH2-CH2O)n-]
    상기 식에서,
    - A는 1,4-페닐렌, 술포-1,3-페닐렌 및 경우에 따라 1,3-페닐렌기이고,
    - n은 1 내지 4이고,
    - 상기 화학식 (1)의 단위의 35 몰% 이상이 A가 1,4-페닐렌기이고 n은 1인 화학식 (1)의 단위이고,
    - 상기 화학식 (1)의 단위의 7 몰% 이상이 A가 술포-1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이고,
    - 경우에 따라 상기 화학식 (1)의 단위의 20 몰% 이하가 A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위이다.
  34. 제 33 항에 있어서, A가 1,3-페닐렌기인 화학식 (1)의 단위가 0.5 몰% 내지 5 몰%인 것을 특징으로 하는 조성물.
KR1019990038641A 1998-09-14 1999-09-10 술폰화 폴리에스테르 및 실리콘 화합물 함유 수성 화장용조성물 KR20000023070A (ko)

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