KR20000019570A - 화학기상 증착장치의 가스 공급장치와 그 제어방법 - Google Patents

화학기상 증착장치의 가스 공급장치와 그 제어방법 Download PDF

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Abstract

박막 형성 공정에서 퍼지가스와 반응원료를 다양한 방법으로 공급할 수 있으며, 반응원료의 소비를 절감할 수 있는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치와 그 제어방법에 대해 개시한다. 본 발명에 의한 화학기상 증착장치의 가스 공급장치는, 다수의 반응원료 공급장치를 구비하여 그 각각을 반응기와 연결하여 서로 다른 반응원료를 비연속적으로 혹은 순차적으로 반응기로 공급함으로써 양질의 박막을 형성시키며, 각각의 반응원료 공급장치에 통과밸브를 구비하여 사용하지 않은 반응원료의 유출을 방지한다. 따라서, 본 발명에 의하면, 반응가스의 공급을 다양화시켜 박막의 균일도 및 막질의 향상과 반응원료의 소비를 절감할 수 있는 효과가 있다.

Description

화학기상 증착장치의 가스 공급장치와 그 제어방법
본 발명은 가스 공급장치에 관한 것으로, 특히 반도체 제조공정 등에 다용도로 적용되어 박막형성 공정에서 박막의 균일도(uniformity) 및 막질을 향상시킬 수 있는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 가스 공급장치의 제어방법에 관한 것으로, 특히 사용하지 않는 반응원료의 소비를 방지할 수 있는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치 제어방법에 관한 것이기도 하다.
반도체 기판 상에 형성되는 박막 두께의 균일성이 장비의 구조적 문제로 인해 저하되는 문제가 공정 중에 자주 발생되고 있다. 그래서, 반도체 소자의 제조공정 중에서 기판 상에 고품질의 박막을 형성시키기 위해 장비 자체 및 공정처리방법 등을 개선하는 노력이 계속되고 있다. 최근에, 반응원료를 비연속적으로 공급하여 박막을 형성하는 방법, 한 종류의 박막을 한 원자층씩 형성시키거나, 혹은 반응원료를 한 종류씩 순차적으로 공급함으로써 반도체 기판의 표면 반응에 의하여 박막을 순차적으로 형성하는 공정이 많이 이용되고 있다. 이 공정에 의하면, 박막의 균일도가 향상되며 박막의 성질이 우수하고 또한 박막내의 불순물의 함유량을 최소화시킬 수 있다. 따라서, 최근에 이 공정을 반도체 제조공정에 많이 채택하고 있는 추세에 있다.
종래에는, 반도체 기판에 절연막 및 금속막 등의 박막을 형성시키기 위해, 한 종류 또는 여러 종류의 반응원료를 동시에 연속적으로 반응기에 공급하여 반응원료를 열분해함으로써 반도체 기판 상에 박막을 형성하는 방법이 많이 사용되었다.
그러나, 이러한 방법으로 증착한 박막은 반응원료의 흐름방향과 속도, 온도, 사용되는 반응원료의 종류에 따라 박막 두께의 균일성과 박막의 성질 및 박막의 불순물 농도가 크게 다르게 나타나는 결점이 있었다.
또한, 최근에 사용된 방법으로서, 반응원료를 비연속적으로 공급하여 박막을 형성하는 방법, 한 종류의 박막을 한 원자층씩 형성시키거나, 혹은 반응원료를 한 종류씩 순차적으로 공급하는 방법에 있어서, 반응에 사용되지 않은 대기상태의 반응원료를 계속 폐기함으로써 반응원료의 소비가 많다는 문제점도 있었다.
따라서, 본 발명의 기술적 과제는 박막형성 공정에서 반응원료를 비연속적으로, 혹은 한 종류씩 순차적으로 공급하여 양질의 박막을 형성시킬 수 있는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치 및 그 제어방법을 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 다른 기술적 과제는 공정전후의 대기상태에 있는 반응원료의 소비를 방지할 수 있는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치 및 그 제어방법을 제공하는 데 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반응원료 공급장치의 구성도,
도 2는 제1 적용례로서, 반응원료 증발기를 적용한 반응원료 공급장치의 구성도,
도 3은 제2 적용례로서, 본 발명에 의한 다수의 반응원료 공급장치가 반응기와 연결된 가스 공급장치의 구성도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 운반가스 유량조절기 12 : 반응원료 공급관
14, 14', 14" : 반응원료 탱크 26 : 통과밸브
28 : 제1 퍼지가스 공급관 40 : 특정반응가스 공급관
상기 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명에 의한 화학기상 증착장치의 가스 공급장치는: 반응원료를 운반하는 운반가스의 유량을 조절하는 운반가스 유량조절부와; 상기 공급되는 운반가스의 출입을 제어하는 유입밸브와 유출밸브를 포함하며, 상기 반응원료를 저장하는 반응원료 저장부와; 상기 반응원료 저장부로부터 배출되어 반응기로 공급되는 반응원료의 흐름을 제어하는 공급밸브와; 상기 유출밸브와 공급밸브 사이에 설치되어 운반가스나, 반응원료를 배기펌프로 배출시키기 위한 배기밸브와; 상기 운반가스 유량제어기를 안정화시킴과 동시에 상기 반응원료 저장부로부터 반응원료의 유출을 방지하기 위해, 운반가스가 상기 반응기 또는 배기밸브로 진행할 수 있도록 상기 유입밸브와 유출밸브 사이에 설치된 통과밸브를 구비하는 반응원료 공급장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이 때, 상기 반응원료 공급장치는, 서로 다른 2개 이상의 반응원료를 공급할 수 있도록 적어도 2개 이상 마련되어 반응기와 연결되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 공급밸브와 반응기 사이에, 반응을 수행중인 다른원료의 역확산을 방지하기 위해 일정량의 퍼지가스를 공급하기 위한 제1 퍼지가스 공급부가 설치된 것이 바람직하다. 이 때, 상기 제1 퍼지가스 공급부에는, 상기 제1 퍼지가스 공급부에 공급되는 퍼지가스량을 일정량으로 제어할 수 있는 퍼지가스 유량조절부가 더 구비된 것도 바람직하다.
또한, 상기 공급밸브와 반응기 사이에, 반응 완료 후 잔류 반응원료를 배출시키기 위해 퍼지가스의 공급 및 제어를 수행하는 제2 퍼지가스 공급부 및 제2 퍼지밸브가 설치된 것이 좋다. 이 때, 상기 공급밸브와 반응기 사이에, 반응을 수행중인 다른원료의 역확산을 방지하기 위해 일정량의 퍼지가스를 공급하기 위한 제1 퍼지가스 공급부가 설치된 것이 더욱 바람직하다.
한편, 본 발명에 의한 화학기상 증착장치의 가스 공급장치의 제어방법은, 반응공간이 형성된 반응기와; 공급되는 운반가스의 출입을 제어하는 유입밸브와 유출밸브를 포함하며, 상기 반응기로 공급되는 반응원료를 저장하는 반응원료 저장부와; 상기 유출밸브의 다음에 설치되어 운반가스와 반응원료를 배기펌프로 배출시키기 위한 배기밸브와; 상기 유입밸브와 유출밸브 사이에 설치된 통과밸브를 구비하는 반응원료 공급장치를 포함하는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치에 대해 적용된다.
그 제어방법은, 상기 반응원료 저장부로부터의 반응원료 소모를 방지하기 위해, 운반가스가 상기 반응기 또는 배기밸브로 직접 진행할 수 있도록 상기 유입 및 유출밸브를 닫는 동시에 상기 통과밸브를 개방하는 것을 특징으로 한다.
이 때, 상기 통과밸브를 개방하여 운반가스를 반응기내로 공급하여 반응기 내의 잔류 반응원료를 배출시키는 것도 바람직하다.
또한, 상기 반응원료 저장부에서 반응기로 반응원료를 공급하기 전에 배기밸브를 이용하여 반응원료를 안정화시키는 것이 바람직하다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 설명한다.
본 발명의 실시예에 따른 화학기상 증착장치의 가스 공급장치와 그 제어방법에 있어서, 동일 기능을 수행하는 구성요소는 동일 명칭과 동일 참조번호를 사용하였으며, 같은 구조와 동작에 대한 반복적인 설명은 생략한다.
[제1 실시예]
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반응원료 공급장치의 구성도이다. 도 1을 참조하면, 반응원료를 운반하기 위한 운반가스의 유량을 조절하는 운반가스 유량조절기(10)와 반응기가 반응원료 공급관(12)으로 연결되어 있다. 상기 운반가스는 반응원료와의 상호 반응을 방지하기 위해 비활성기체를 사용하는 것이 좋다.
반응원료 공급관(12) 상에는 박막형성의 원료인 반응원료를 저장하는 반응원료 탱크(14)가 설치되는데, 운반가스의 출입에 따라 반응원료가 반응기로 공급될 수 있도록 반응원료 공급관(12)과 반응원료 탱크(14) 사이에 유입밸브(16)와 유출밸브(18)가 설치되어 있다. 일반적으로 반응원료 탱크(14)에 저장된 반응원료는 고체 혹은 액체상태를 유지하고 있으며, 이 고체 혹은 액체상태의 반응원료는 반응원료 탱크(14)를 가열하거나 반응원료 공급관(12) 상에서 가열하여 기화시킨다.
유출밸브(18)를 통해 반응기로 공급되는 반응원료의 흐름을 제어하기 위해 공급밸브(20)가 유출밸브(18)와 반응기 사이에 설치되어 있다.
반응이 완료된 후, 운반가스 유량조절기(10)는 개폐 시간이 길고, 안정화 시간이 길어서 항상 온(ON) 상태를 유지하거나, 혹은 온/오프(ON/OFF) 스위칭할 경우에는 일정시간의 안정화 시간이 필요하며, 또한 반응원료를 공급하기 위해서도 반응원료의 안정화 시간이 필요하다. 이를 위해 반응전후에, 상기 반응물질을 안정화시키기 위해 반응원료나 운반가스를 배출시킬 수 있도록 유출밸브(18)와 공급밸브(20) 사이에 배기밸브(22)가 설치되며, 배기밸브(22)에는 배기펌프(24)가 연결되어 있다. 또한, 반응원료 탱크(14)내의 반응원료의 불필요한 유출을 방지하기 위해 운반가스를 통과시키는 통과밸브(26)가 유입밸브(16)와 유출밸브(18) 사이에 설치되어 있다.
한편, 반응기에서 공정이 진행중인 반응원료의 역확산을 방지하기 위해 일정량의 퍼지가스를 공급하는 제1 퍼지가스 공급관(28)이 공급밸브(20)와 반응기 사이에 설치되어 있다. 또한, 제1 퍼지가스 공급관(28)에 공급되는 퍼지가스량을 일정량으로 제어할 수 있는 퍼지가스 유량조절기(미도시)가 제1 퍼지가스 공급관(28) 상에 설치되어 있다. 상기 퍼지가스는 반응원료와 반응을 일으키지 않는 비활성기체를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 퍼지가스는 운반가스와 같거나 다를 수 있다.
또한, 반응완료 후, 잔류 반응원료를 배출시키기 위해 퍼지가스를 다량 공급하는 제2 퍼지가스 공급관이 제1 퍼지가스 공급관(28)에 연결되어 있다. 제2 퍼지가스 공급관에 공급되는 퍼지가스량을 일정량으로 제어할 수 있는 제2 퍼지밸브(34)가 제2 퍼지가스 공급관 상에 설치되어 있다.
상기와 같이 구성된 반응원료 공급장치의 동작은 다음과 같다.
상기 반응원료 공급장치의 동작은, 반응원료 공급 동작, 반응원료 제거 동작, 반응원료 공급대기 동작 및 반응원료 안정화 동작으로 구분할 수 있다.
반응원료 공급 동작은 운반가스 유량조절기(10)로부터 조절된 운반가스는 유입밸브(16)를 통해 반응원료 탱크(14)로 유입되고, 상기 운반가스는 반응원료를 유출밸브(18)를 통해 반응원료 공급관(12)으로 배출시킨다. 이 때, 반응원료의 공급량은 운반가스의 유량과 반응원료 탱크(14)의 온도를 제어함으로써 조절할 수 있다. 이후, 반응원료는 공급밸브(20)를 거쳐 반응기로 공급되어 박막형성공정이 진행된다. 이 때, 통과밸브(26), 배기밸브(22) 및 제2 퍼지밸브(34)는 폐쇄된다.
또한, 박막형성공정이 진행되는 동안에 반응기로부터 반응원료가 역확산되는 것을 방지하기 위해 제1 퍼지가스 공급관(28)을 통해 소량의 퍼지가스를 항상 공급한다.
상기 박막형성공정이 완료되면 반응원료 제거 동작을 진행한다. 이 때, 반응기 및 반응원료 공급관(12) 내의 잔류 반응원료를 제거하기 위해 두가지 방법을 사용할 수 있다. 그 제1 방법은 제2 퍼지밸브(34)를 개방하여 반응기 내의 잔류 반응원료를 제거하는 방법이다. 또한, 그 제2 방법은 운반가스 유량조절기(10)로부터 공급되는 운반가스를 통과밸브(26)와 공급밸브(22)를 개방하여 다량의 운반가스를 반응기로 공급하여 잔류 반응원료를 제거하는 방법이다. 이 때, 유입밸브(16), 유출밸브(18) 및 다른 밸브는 모두 폐쇄시킨다.
다음으로, 반응원료 공급대기 동작을 진행하는데 두가지 제어방법으로 진행할 수 있다. 그 제1 방법은 반응원료의 개폐시간이 길 경우, 유량조절기(10), 유입밸브(16), 유출밸브(18), 공급밸브(20), 통과밸브(26) 및 배기밸브(22) 등의 모든 밸브를 폐쇄시키는 방법이다. 또한, 그 제2 방법은 반응원료의 개폐시간이 짧을 경우, 운반가스 유량조절기(10)로부터 공급되는 운반가스를 통과밸브(26)와 배기밸브(22)를 개방하고, 유입밸브(16), 유출밸브(18) 및 공급밸브(20)는 폐쇄시켜 운반가스를 배기펌프로 바로 배출시켜 운반가스 유량조절기(10)의 안정화상태를 유지하는 방법이다.
마지막으로, 반응원료 안정화 동작으로 상기 반응원료 공급대기 동작 상태에 따라서 다르게 진행된다. 그 제1 방법은, 상기 반응원료 공급대기 동작에서 모든 밸브가 닫혀있는 경우에, 통과밸브(26)와 배기밸브(22)를 개방하여 운반가스 유량조절기(10)를 안정화시킨 후, 유입밸브(16)와 유출밸브(18)를 개방한 후 통과밸브(26)를 닫아서 반응원료를 안정화시킨다. 그 제2 방법은, 상기 대기동작에서 운반가스 유량조절기(10)가 이미 안정화 상태를 유지한 경우에, 유입밸브(16)와 유출밸브(18)를 개방한 후 통과밸브(26)를 닫아서 반응원료를 안정화시킨다.
상기한 반응원료 공급장치의 반응원료 제거 동작에서 살펴보면, 잔류 반응원료를 배출할 경우에 통과밸브(26)를 개방하고 유입밸브(16)와 유출밸브(18)를 폐쇄시킴으로써 반응원료 탱크(14)내의 반응원료가 배출되는 것을 방지할 수 있으므로 반응원료의 소비를 줄일 수 있음을 알 수 있다.
[제1 적용례]
도 2는 본 발명의 제1 적용례로서, 반응원료 증발기를 적용한 반응원료 공급장치의 구성도이다. 도 2를 참조하면, 본 적용례와 제1 실시예와의 차이점은, 반응원료 공급관(12)과 반응원료 탱크(14) 사이에, 반응원료의 기화를 위한 반응원료 증발기(36)가 설치되어 있다는 것이다. 또한, 반응원료 탱크(14)와 반응원료 증발기(36) 사이에 반응원료의 공급량의 제어와 효율적인 기화를 위해 미세유량펌프(38)가 설치되어 있다. 반응원료 증발기(36)와 미세유량펌프(38)를 제외하면 본 적용례에 의한 반응원료 공급장치는 제1 실시예와 같은 구성을 하고 있다.
반응원료 증발기(36)는 반응원료 탱크(14)에 저장된 반응원료가 액체상태이므로 우수한 막질을 형성시키기 위해 반응원료의 기화를 미리서 수행하기 위해 설치되어 있다. 이에 따라, 반응원료 공급시 공급밸브(20)를 통해 반응기로 공급되는 반응원료는 이미 기화된 상태로 공급된다. 이하, 반응원료 공급장치의 동작은 제1 실시예와 같다.
[제2 적용례]
도 3은 본 발명의 제2 적용례로서, 다수의 반응원료 공급장치가 적용된 가스 공급장치의 구성도이다. 도 3을 참조하면, 제1 실시예에서 제시된 반응원료 공급장치가 다수 구비되고, 이 반응원료 공급장치들이 하나의 반응기에 연결되어 있다. 본 적용례에서는 두 개의 반응원료 공급장치(B, C)가 반응기와 연결되어 있다.
여기에, 특정반응가스 공급장치(A)가 더 마련된다. 상기 특정반응가스 공급장치를 구성하는 특정반응가스 공급관(40)이 반응기와 연결되어 있다. 특정반응가스 공급관(40) 상에는 반응기내로 특정반응가스(A가스)의 공급을 제어하는 공급밸브(20)가 설치되며, 특정반응가스의 배출을 위한 배기밸브(22)가 설치되어 있다.
제1 실시예 및 제1 적용례와 마찬가지로, 반응기에서 공정이 진행중인 다른 반응원료의 역확산을 방지하기 위해 제1 퍼지가스 공급관(28)과 퍼지가스 유량조절기(미도시)가 구비되며, 반응이 완료된 잔류 반응원료를 배출시키기 위해 퍼지가스를 다량 공급하는 제2 퍼지가스 공급관과 제2 퍼지밸브(34)가 구비되어 있다.
상기와 같이 구성된 제2 적용례를 도 3을 참조하여 설명한다.
먼저, B성분의 박막에 A가스를 반응시키고, 그 위에 C성분의 박막을 증착한 후 다시 A가스를 반응시켜, BACA층을 연속적으로 형성하는 공정을 수행한다고 가정한다. 이하, A는 A가스를 공급하는 A가스 공급장치이고, B는 B반응원료를 공급하는 B반응원료 공급장치이며, C는 C반응원료를 공급하는 C반응원료 공급장치이다.
B의 운반가스 유량조절기(10)로부터 조절된 운반가스는 유입밸브(16)를 통해 B반응원료 탱크(14')로 유입되어 B반응원료를 유출밸브(18)를 통해 반응원료 공급관(12)으로 배출시킨다. 이후, B반응원료는 공급밸브(20)를 거쳐 반응기로 공급되어 박막형성공정이 진행된다.
이 때, 박막형성공정이 진행되는 동안에 반응기로부터 B반응원료가 역확산되는 것을 방지하기 위해 B의 제1 퍼지가스 공급관(28)을 통해 소량의 퍼지가스를 공급할 뿐만 아니라 A의 제1 퍼지가스 공급관(28)과 C의 제1 퍼지가스 공급관(28)을 통해 소량의 퍼지가스를 공급한다. 이 때, A와 C는 상기 제1 실시예에서와 같이 반응원료 공급대기 동작 상태를 유지한다. 이하, 각 공정 단계에서 기술하지 않는 가스는 반응원료 공급대기 동작 상태를 유지한다.
한편, 상기 B박막형성 공정이 완료되면 반응기 및 반응원료 공급관(12) 내에 잔류하는 B반응원료를 제1 실시예에서와 같이 제거한다. 이 때, 다음 공정을 진행하기 위한 A가스는 상기 제1 실시예의 안정화 동작상태를 유지할 수 있다.
다음으로, 증착된 B성분의 박막에 A가스를 반응시키기 위하여 상기 제1 실시예에서 기술한 안정화 동작을 거쳐서 A가스를 반응기로 공급한다.
상기 A가스와 B성분의 박막과의 반응공정이 완료되면 반응기 및 공급관 내에 잔류하는 A가스를 제1 실시예에서와 같이 제거한다. 이 때, 다음 공정을 진행하기 위한 반응원료 C는 상기 제1 실시예의 안정화 동작 상태를 유지할 수 있다.
다음으로, C반응원료를 증착하기 위해 상기 제1 실시예에서 기술한 안정화 동작을 거쳐서 C반응원료를 반응기로 공급하여 박막 형성공정을 진행한다.
한편, 상기 C박막형성 공정이 완료되면 반응기 및 반응원료 공급관(12) 내에 잔류하는 C반응원료를 제1 실시예에서와 같이 제거한다. 이 때, 다음 공정을 진행하기 위한 A가스는 상기 제1 실시예의 안정화 동작 상태를 유지할 수 있다.
다음으로, 증착된 C성분의 박막에 A가스를 반응시키기 위하여 상기 제1 실시예에서 기술한 안정화 동작을 거쳐서 A가스를 공급한다.
상기 A가스와 C성분의 박막과의 반응공정이 완료되면 반응기 및 공급관 내에 잔류하는 A가스를 제1 실시예에서와 같이 제거한다. 이때 다음 공정을 진행하기 위한 반응원료 B는 상기 제1 실시예의 안정화 동작상태를 유지할 수 있다.
이하, 상기 B반응원료의 박막형성공정 및 배출과정과 같은 방식으로 공정이 진행된다. 또한, 상기 A가스의 반응공정 및 배출과정도 되풀이되어 진행된다.
상기와 같이 본 발명에 의한 가스 공급장치를 이용하여 서로 다른 반응원료를 순차적으로 반응기로 공급하여 박막형성 공정을 진행함으로써 균일도가 뛰어난 BACA층을 연속적으로 형성할 수 있다. 이에 따라, 균일도와 막질이 우수한 박막을 증착시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 반응원료 공급장치에 구비된 통과밸브(26)를 통해 운반가스 유량조절기(10)를 안정화시킴으로써 반응원료의 소비를 절감할 수 있으며, 반응원료 배출공정에 운반가스 유량조절기(10)를 통한 운반가스를 사용할 수 있다.
또 다른 동작 방법으로서, B와 A를 동시에 공급하고 일정시간 배출공정을 수행한 후, 다시 C와 A를 동시에 공급한 후 배출공정을 함으로서 반응가스를 비연속적으로 공급하여 박막을 형성할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 반응원료를 순차적으로 기판에 공급하거나, 비연속적으로 공급함으로써 박막의 균일도 및 막질을 향상시킬 수 있으며, 박막내의 불순물 함유량을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 반응원료 공급장치에 통과밸브를 설치함으로써 반응원료 탱크내의 반응원료가 반응에 관여하지 않을 경우에 유출되는 것을 방지하여 반응원료의 소비를 절감할 수 있는 효과가 있다.
또한, 반응원료 공급장치에 통과밸브를 설치함으로써 별도의 퍼지밸브 없이 운반가스 유량조절기를 통한 운반가스를 이용하여 잔류 반응원료 배출공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.

Claims (9)

  1. 반응원료를 운반하는 운반가스의 유량을 조절하는 운반가스 유량조절부와;
    상기 공급되는 운반가스의 출입을 제어하는 유입밸브와 유출밸브를 포함하며, 상기 반응원료를 저장하는 반응원료 저장부와;
    상기 반응원료 저장부로부터 배출되어 반응기로 공급되는 반응원료의 흐름을 제어하는 공급밸브와;
    상기 유출밸브와 공급밸브 사이에 설치되어 운반가스나, 반응원료를 배기펌프로 배출시키기 위한 배기밸브와;
    상기 운반가스 유량제어기를 안정화시킴과 동시에 상기 반응원료 저장부로부터 반응원료의 유출을 방지하기 위해, 운반가스가 상기 반응기 또는 배기밸브로 진행할 수 있도록 상기 유입밸브와 유출밸브 사이에 설치된 통과밸브를 구비하는 반응원료 공급장치를 포함하는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 반응원료 공급장치는, 서로 다른 2개 이상의 반응원료를 공급할 수 있도록 적어도 2개 이상 마련되어 반응기와 연결되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착장치의 가스 공급장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 공급밸브와 반응기 사이에, 반응을 수행중인 다른원료의 역확산을 방지하기 위해 일정량의 퍼지가스를 공급하기 위한 제1 퍼지가스 공급부가 설치된 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착장치의 가스 공급장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제1 퍼지가스 공급부에는, 상기 제1 퍼지가스 공급부에 공급되는 퍼지가스량을 일정량으로 제어할 수 있는 퍼지가스 유량조절부가 더 구비된 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착장치의 가스 공급장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 공급밸브와 반응기 사이에, 반응 완료 후 잔류 반응원료를 배출시키기 위해 퍼지가스의 공급 및 제어를 수행하는 제2 퍼지가스 공급부 및 제2 퍼지밸브가 설치된 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착장치의 가스 공급장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 공급밸브와 반응기 사이에, 반응을 수행중인 다른원료의 역확산을 방지하기 위해 일정량의 퍼지가스를 공급하기 위한 제1 퍼지가스 공급부가 설치된 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착장치의 가스 공급장치.
  7. 반응공간이 형성된 반응기와; 공급되는 운반가스의 출입을 제어하는 유입밸브와 유출밸브를 포함하며, 상기 반응기로 공급되는 반응원료를 저장하는 반응원료 저장부와; 상기 유출밸브의 다음에 설치되어 운반가스와 반응원료를 배기펌프로 배출시키기 위한 배기밸브와; 상기 유입밸브와 유출밸브 사이에 설치된 통과밸브를 구비하는 반응원료 공급장치를 포함하는 화학기상 증착장치의 가스 공급장치의 제어방법에 있어서,
    상기 반응원료 저장부로부터의 반응원료 소모를 방지하기 위해, 운반가스가 상기 반응기 또는 배기밸브로 직접 진행할 수 있도록 상기 유입 및 유출밸브를 닫는 동시에 상기 통과밸브를 개방하는 것을 특징으로 하는 가스 공급장치의 제어방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 통과밸브를 개방하여 운반가스를 반응기내로 공급하여 반응기 내의 잔류 반응원료를 배출시키는 것을 특징으로 하는 가스 공급장치의 제어방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 반응원료 저장부에서 반응기로 반응원료를 공급하기 전에 배기밸브를 이용하여 반응원료를 안정화시키는 것을 특징으로 하는 가스 공급장치의 제어방법.
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