KR20000002958A - Device for supplying chemicals for manufacturing semiconductor apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체장치 제조용 화학약품공급장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 압력계에 캐리어가스의 과다한 축압이 가해져 일어나는 압력계의 오동작 및 고장을 방지토록 하기 위하여 오리피스가스켓을 채용한 반도체장치 제조용 화학약품공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical supply device for manufacturing a semiconductor device. More specifically, the present invention relates to a chemical supply device for manufacturing a semiconductor device employing an orifice gasket in order to prevent malfunction and failure of the pressure gauge caused by excessive accumulation of carrier gas on the pressure gauge.
반도체장치의 제조를 위한 여러 공정 중 인규산유리(PSG; Phospho-silicate glass)로 된 막의 형성공정이나 TEOS(Tetra-ethyl-orthosilicate)의 사용에 의한 2 내지 20μm의 두꺼운 산화막의 형성 등 웨이퍼 상에 막을 형성하는 성막공정을 위하여는 여러 종류의 화학약품들이 공정 중에 투입될 것이 요구되며, 이때에는 순도높은 화학약품이 가능한 한 균일한 농도 및 균일한 양으로 공급될 것이 요구된다.Among various processes for the manufacture of semiconductor devices, a film is formed on a wafer such as a process of forming a film made of Phospho-silicate glass (PSG) or a thick oxide film having a thickness of 2 to 20 μm by the use of tetra-ethyl-orthosilicate (TEOS). In order to form the film forming process, various kinds of chemicals are required to be introduced during the process, and in this case, high-purity chemicals are required to be supplied in as uniform concentration and uniform amount as possible.
이를 위하여 도 1에 도시한 바와 같은 종류의 화학약품공급장치가 주로 사용되고 있다.To this end, a chemical supply device of the kind shown in FIG. 1 is mainly used.
도 1에 나타낸 바와 같은 구성을 갖는 종래의 화학약품공급장치는 화학약품의 가압에 의한 이송을 위한 캐리어가스공급원(1), 상기 캐리어가스공급원(1)에 연결된 캐리어가스공급라인(2)을 경유하여 상기 캐리어가스공급원(1)에 연결된 화학약품탱크(3), 상기 화학약품탱크(3)에 연결된 화학약품공급라인(4)을 경유하여 상기 화학약품탱크(3)에 연결된 공정챔버(5)를 포함하며, 상기 캐리어가스공급라인(2)에는 압력의 감시 및 조절을 위한 압력계(6)가 연결되어 구성된다.Conventional chemical supply device having a configuration as shown in Figure 1 is a carrier gas supply source (1) for transport by pressure of the chemical, via a carrier gas supply line (2) connected to the carrier gas supply source (1) Process chamber (5) connected to the chemical tank (3) via the chemical tank (3) connected to the carrier gas supply source 1, the chemical supply line (4) connected to the chemical tank (3) It includes, the carrier gas supply line (2) is configured to be connected to a pressure gauge (6) for monitoring and adjusting the pressure.
이에 의한 공정의 수행은 통상 캐리어가스공급원(1)내의 캐리어가스가 소정의 압력으로 상기 화학약품탱크(3)에 공급되고, 캐리어가스의 압력으로 반응용의 화학약품이 에어밸브 및 화학약품공급라인(4)을 경유하여 공정챔버(5)의 액체흐름조절기(LFC ; liquid flow controller)로 유입되거나, 보다 원활한 반응을 위하여 공정챔버(5)로 유입되기 전에 가열가능한 자켓(Continue heating injection jacket)(도시하지 않음)을 경유하여 증기화(vaporization)되고, 공정챔버(5)의 샤워헤드를 통하여 분사되어 웨이퍼 상에 막질을 형성하게 된다. 특히, 화학약품탱크(3)에서 공정챔버(5)로의 화학약품의 균일한 공급을 위하여는 일정한 범위 즉, 최대압력과 최소압력으로 설정된 소정의 압력으로 캐리어가스가 화학약품탱크(3)에 공급되어야 하며, 이를 위하여 상기 캐리어가스공급원(1)이 상기 화학약품탱크(3) 내에서의 압력에 따라 간헐적으로 단속되면서 상기 화학약품탱크(3)를 캐리어가스로 충진되게 되며, 캐리어가스로는 통상 헬륨가스 등 불활성가스들이 사용된다.In this process, the carrier gas in the carrier gas supply source 1 is normally supplied to the chemical tank 3 at a predetermined pressure, and the reaction chemical is supplied to the air valve and the chemical supply line by the pressure of the carrier gas. A continuous heating injection jacket before entering the liquid flow controller (LFC) of the process chamber 5 via (4) or into the process chamber 5 for smoother reaction ( (Not shown) to be vaporized and sprayed through the showerhead of the process chamber 5 to form a film on the wafer. In particular, in order to uniformly supply the chemicals from the chemical tank 3 to the process chamber 5, the carrier gas is supplied to the chemical tank 3 in a predetermined range, that is, a predetermined pressure set to a maximum pressure and a minimum pressure. To this end, the carrier gas supply source 1 is intermittently intermittent according to the pressure in the chemical tank 3 to fill the chemical tank 3 with a carrier gas, which is usually helium. Inert gases such as gas are used.
그러나, 상기한 바와 같은 종래의 화학약품공급장치에서는 캐리어가스의 압력이 높기 때문에 순간적인 충진시에는 이에 연결된 압력계(6)가 오동작되거나 또는 고장을 받기 쉬우며, 압력계(6)의 빈번한 고장은 장치 전체의 가동율을 저하시켜 생산성을 떨어뜨리는 문제점으로 직결된다. 이는 압력계(6)가 연결되는 캐리어가스공급라인(2)의 가스켓이 도 2에 도시한 바와 같이 1/4인치 정도의 대구경가스켓(7)이기 때문에 캐리어가스공급원(1)으로부터의 캐리어가스의 압력에 의한 충격력이 그대로 압력계(6)에 전달되기 때문이다.However, in the conventional chemical supply device as described above, since the pressure of the carrier gas is high, the pressure gauge 6 connected thereto at the moment of filling is susceptible to malfunction or failure, and the frequent failure of the pressure gauge 6 is caused by the device. This leads to a problem of lowering the overall operation rate and lowering productivity. The pressure of the carrier gas from the carrier gas supply source 1 is because the gasket of the carrier gas supply line 2 to which the pressure gauge 6 is connected is a large diameter gasket 7 of about 1/4 inch as shown in FIG. 2. This is because the impact force by is transmitted to the pressure gauge 6 as it is.
또한, 캐리어가스의 압력을 낮추는 것은 사용되는 화학약품의 종류가 다양하며, 그에 따라 사용될 화학약품의 점도나 비중 등이 서로 현저하게 차이가 많이 나 낮은 압력의 캐리어가스공급원(1)으로는 충분한 화학약품의 공급을 달성하지 못할 수 있게 된다.In addition, lowering the pressure of the carrier gas is a variety of chemicals used, accordingly the viscosity or specific gravity of the chemicals to be used are significantly different from each other, the low enough carrier gas supply source (1) of sufficient chemicals The supply of drugs may not be achieved.
본 발명의 목적은 압력계로 가해지는 캐리어가스압력을 완화시켜 압력계의 고장을 방지토록 한 반도체장치 제조용 화학약품공급장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a chemical supplying device for manufacturing a semiconductor device to reduce the pressure of the carrier gas applied to the pressure gauge to prevent breakdown of the pressure gauge.
도 1은 종래의 반도체장치 제조용 화학약품공급장치의 구성을 개략적으로 도시한 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically showing a configuration of a chemical supply device for manufacturing a conventional semiconductor device.
도 2는 종래의 반도체장치 제조용 화학약품공급장치에 채용된 대구경가스켓을 개략적으로 도시한 평면도이다.2 is a plan view schematically illustrating a large diameter gasket employed in a chemical supply device for manufacturing a semiconductor device according to the related art.
도 3은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 화학약품공급장치의 구성을 개략적으로 도시한 구성도이다.3 is a configuration diagram schematically showing the configuration of a chemical supply device for manufacturing a semiconductor device according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 화학약품공급장치에 채용된 오리피스가스켓을 개략적으로 도시한 평면도이다.4 is a plan view schematically showing an orifice gasket employed in a chemical supply device for manufacturing a semiconductor device according to the present invention.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of code for main part of drawing
1 : 캐리어가스공급원 2 : 캐리어가스공급라인1: carrier gas supply source 2: carrier gas supply line
3 : 화학약품탱크 4 : 화학약품공급라인3: chemical tank 4: chemical supply line
5 : 공정챔버 6 : 압력계5: process chamber 6: pressure gauge
7 : 대구경가스켓 11 : 오리피스가스켓7: large diameter gasket 11: orifice gasket
본 발명에 따른 반도체장치 제조용 화학약품공급장치는, 화학약품의 가압에 의한 이송을 위한 캐리어가스공급원, 상기 캐리어가스공급원에 연결된 캐리어가스공급라인을 경유하여 상기 캐리어가스공급원에 연결된 화학약품탱크, 상기 화학약품탱크에 연결된 화학약품공급라인을 경유하여 상기 화학약품탱크에 연결된 공정챔버를 포함하며, 상기 캐리어가스공급라인에는 압력의 감시 및 조절을 위한 압력계로 이루어진 종래의 화학약품공급장치에 있어서, 상기 압력계에 연결되는 부분의 캐리어가스공급라인에 소구경의 내경을 갖는 오리피스가스켓을 취부시켜 이루어진다.Chemical supply apparatus for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a chemical carrier tank connected to the carrier gas supply source via a carrier gas supply source, a carrier gas supply line connected to the carrier gas supply source for the transport by chemical pressure, the In the conventional chemical supply apparatus comprising a process chamber connected to the chemical tank via a chemical supply line connected to the chemical tank, the carrier gas supply line comprises a pressure gauge for monitoring and regulating the pressure, An orifice gasket having an inner diameter of a small diameter is attached to a carrier gas supply line at a portion connected to the pressure gauge.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3 및 도 4에 개략적으로 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 화학약품공급장치는, 화학약품의 가압에 의한 이송을 위한 캐리어가스공급원(1), 상기 캐리어가스공급원(1)에 연결된 캐리어가스공급라인(2)을 경유하여 상기 캐리어가스공급원(1)에 연결된 화학약품탱크(3), 상기 화학약품탱크(3)에 연결된 화학약품공급라인(4)을 경유하여 상기 화학약품탱크(3)에 연결된 공정챔버(5)를 포함하며, 상기 캐리어가스공급라인(2)에는 압력의 감시 및 조절을 위한 압력계(6)로 이루어진 종래의 화학약품공급장치에 있어서, 상기 압력계(6)에 연결되는 부분의 캐리어가스공급라인(2)에 소구경의 내경을 갖는 오리피스가스켓(11)을 취부시켜 이루어짐을 특징으로 한다.3 and 4, the chemical supply apparatus for manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a carrier gas supply source 1 and a carrier gas supply source 1 for transport by chemical pressure. Chemical tank (3) connected to the carrier gas supply source (1) via the connected carrier gas supply line (2), the chemical tank via the chemical supply line (4) connected to the chemical tank (3) In the conventional chemical supply device comprising a process chamber (5) connected to (3), the carrier gas supply line (2) comprising a pressure gauge (6) for monitoring and regulating pressure, the pressure gauge (6) It characterized in that the orifice gasket (11) having an inner diameter of a small diameter is made to the carrier gas supply line (2) of the portion connected to.
본 발명에서는 종래의 화학약품공급장치에서의 대구경가스켓(7)을 대체하여 압력계(6)에 가해지는 캐리어가스의 압력을 완충하도록 직경 0.1 내지 0.3mm 정도의 범위의 소구경의 오리피스가스켓(11)(orifice gasket)을 상기 압력계(6)가 상기 캐리어가스공급라인(2)에 연결되는 부위에 취부시키므로써 상기 캐리어가스공급라인(2)을 경유하여 상기 캐리어가스공급원(1)으로부터의 압력이 직접적으로 그대로 압력계(6)에 전달되지 않고, 소구경의 오리피스가스켓(11)을 경유하여 완충되어 공급되도록 하므로써 캐리어가스의 공급시에 급격하게 캐리어가스의 고압이 압력계(6)로 전달되지 않도록 한다.In the present invention, a small diameter orifice gasket 11 in a range of about 0.1 to 0.3 mm in diameter to buffer the pressure of the carrier gas applied to the pressure gauge 6 in place of the large diameter gasket 7 in the conventional chemical supply device. By mounting an orifice gasket on the part where the pressure gauge 6 is connected to the carrier gas supply line 2, the pressure from the carrier gas supply source 1 is directly transmitted via the carrier gas supply line 2. As a result, the high pressure of the carrier gas is not suddenly transmitted to the pressure gauge 6 at the time of supply of the carrier gas by being buffered and supplied via the orifice gasket 11 having a small diameter.
상기에서 화학약품탱크(3)는 실질적으로 화학약품을 담고 있는 탱크가 될 수 있음은 물론 통상적인 반도체장치 제조용 화학약품공급장치에서 사용되는 소위 버블러(bubbler)가 될 수도 있으며, 본 발명이 반드시 화학약품탱크에 한정되는 것을 의미하는 것이 아님은 당해 기술분야에서 통상의 지식을 갖는 자에게는 용이하게 이해될 수 있음은 자명한 것이다.The chemical tank 3 may be a tank containing substantially chemicals as well as a so-called bubbler used in a chemical supply device for manufacturing a semiconductor device, and the present invention necessarily It is obvious that it is not meant to be limited to chemical tanks can be easily understood by those of ordinary skill in the art.
따라서, 본 발명에 의하면 캐리어가스의 과다한 축압에 의한 압력계(6)의 오동작 또는 고장을 예방하므로써 화학약품공급장치의 가동율을 높이고, 그에 따라 안정적인 장치의 운용을 가능하게 하여 전체적인 생산성을 향상시키는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to increase the operation rate of the chemical supply device by preventing malfunction or failure of the pressure gauge 6 due to excessive accumulation of carrier gas, thereby enabling stable operation of the device and improving overall productivity. have.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019980023973A KR20000002958A (en) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | Device for supplying chemicals for manufacturing semiconductor apparatus |
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| KR1019980023973A KR20000002958A (en) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | Device for supplying chemicals for manufacturing semiconductor apparatus |
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| KR1019980023973A KR20000002958A (en) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | Device for supplying chemicals for manufacturing semiconductor apparatus |
Country Status (1)
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| KR (1) | KR20000002958A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101304226B1 (en) * | 2011-11-02 | 2013-09-05 | 포이스주식회사 | Chemical supply system for manufacturing semi-conductor |
-
1998
- 1998-06-24 KR KR1019980023973A patent/KR20000002958A/en not_active Application Discontinuation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR101304226B1 (en) * | 2011-11-02 | 2013-09-05 | 포이스주식회사 | Chemical supply system for manufacturing semi-conductor |
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