KR19990051322A

KR19990051322A - Chemical supply system of semiconductor device manufacturing facilities

Info

Publication number: KR19990051322A
Application number: KR1019970070617A
Authority: KR
Inventors: 곽규환; 윤영환; 황경석
Original assignee: 윤종용; 삼성전자 주식회사
Priority date: 1997-12-19
Filing date: 1997-12-19
Publication date: 1999-07-05

Abstract

본 발명은 공정에 요구되는 케미컬을 위치되는 웨이퍼 상에 공급하도록 하는 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical supply system of a semiconductor device manufacturing facility for supplying a chemical required for a process onto a wafer to be located.

본 발명의 케미컬 공급시스템은, 선택적인 가압으로 일정량 수용된 케미컬을 각 제조설비로 이어지는 연결관을 통해 유동시키는 중앙공급부와; 상기 각 제조설비에 근접 위치되어 상기 연결관으로부터 유입되는 케미컬을 소정량 수용하도록 형성된 케미컬 저장조와; 상기 케미컬 저장조와 노즐 사이에 설치되며, 케미컬의 유동량 제어와 공급압력을 제공하는 케미컬 공급라인을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.The chemical supply system of the present invention includes a central supply unit for flowing a chemical contained in a predetermined amount by selective pressure through a connection pipe leading to each manufacturing facility; A chemical reservoir located close to each of the manufacturing facilities and configured to receive a predetermined amount of chemical flowing from the connection pipe; It is installed between the chemical reservoir and the nozzle, characterized in that it comprises a chemical supply line for controlling the flow rate of the chemical and supply pressure.

따라서, 본 발명에 의하면, 케미컬 공급을 중앙공급부를 통해 공급하는 방식으로 단순화시킴에 따라 제조설비가 차지하는 공간을 축소하게 되고, 공급되는 케미컬의 관리가 용이하며, 케미컬의 변질에 따른 공정 불량을 방지하게 되는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, as the chemical supply is simplified in a manner of supplying through the central supply unit, the space occupied by the manufacturing equipment is reduced, the management of the supplied chemical is easy, and the process defect due to the chemical deterioration is prevented. It is effective.

Description

Chemical supply system of semiconductor device manufacturing facilities

본 발명은 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 공정에 요구되는 케미컬을 위치되는 웨이퍼 상에 공급하도록 하는 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical supply system of a semiconductor device manufacturing facility, and more particularly to a chemical supply system of a semiconductor device manufacturing facility for supplying a chemical required for a process onto a wafer on which it is located.

통상적으로 웨이퍼는 사진, 확산, 식각, 화학기상증착 및 금속증착 등의 공정이 반복 수행됨에 따라 반도체장치로 제작된다.In general, a wafer is manufactured as a semiconductor device as a process of photographing, diffusion, etching, chemical vapor deposition, and metal deposition is repeatedly performed.

이러한 각 공정에는 웨이퍼 상에 요구되는 케미컬을 공급하기 위한 케미컬 공급시스템이 설치되어 있으며, 이러한 케미컬 공급시스템의 종래 기술에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Each of these processes is provided with a chemical supply system for supplying the chemical required on the wafer, and the prior art of such a chemical supply system will be described with reference to the accompanying drawings.

종래의 케미컬 공급시스템(10)은, 도1에 도시된 바와 같이, 소정량의 케미컬을 수용하게 되는 보틀(bottle)(12)이 있고, 이 보틀(12)에서 요구되는 제조설비(14)로 연결되는 연결라인 상에는 보틀(12)로부터 연결라인을 따라 유동하는 케미컬의 양을 제어하도록 하는 에어밸브(16a)가 설치된다.In the conventional chemical supply system 10, as shown in Figure 1, there is a bottle (12) to receive a predetermined amount of chemical, the manufacturing equipment 14 required in the bottle 12 On the connection line to be connected, an air valve 16a is installed to control the amount of chemical flowing from the bottle 12 along the connection line.

또한, 상술한 에어밸브(16a)에 연이은 연결라인 상에는 보틀(12) 내의 케미컬이 연결라인을 통해 유동하도록 펌핑 압력을 제공하는 펌프(18a)가 설치되며, 이 펌프(18a)의 후단에 연이어 제조설비(14)로 연결된 연결라인 상에는 유동하는 케미컬에 함유된 불순물 또는 공기 등을 필터링하는 필터(20a)가 설치된다.In addition, a pump 18a is provided on the connection line subsequent to the above-described air valve 16a to provide a pumping pressure so that the chemical in the bottle 12 flows through the connection line, and is subsequently manufactured at the rear end of the pump 18a. On the connection line connected to the facility 14, a filter 20a for filtering impurities or air contained in the flowing chemical is installed.

한편, 제조설비(14) 내부에는 다시 케미컬을 소정량 수용하도록 형성된 케미컬탱크(22)가 설치되어 있고, 이 케미컬탱크(22)는 웨이퍼 상에 케미컬을 공급하기 위한 노즐(24)까지 공급라인으로 연결되어 있다.On the other hand, the manufacturing tank 14 is provided with a chemical tank 22 formed to receive a predetermined amount of chemical again, the chemical tank 22 is supplied to the supply line to the nozzle 24 for supplying the chemical on the wafer It is connected.

상술한 바와 같이, 케미컬탱크(22)에 연이은 공급라인 상에는 다시 공급라인을 따라 유동하는 케미컬의 양을 제어하는 에어밸브(16b)가 설치되며, 이 에어밸브(16b)에 연이은 공급라인 상에는 케미컬탱크(22) 내의 케미컬을 공급라인을 따라 유동하도록 펌핑 압력을 제공하는 펌프(18b)가 설치되어 있다.As described above, the air tank 16b for controlling the amount of chemical flowing along the supply line is installed on the supply line subsequent to the chemical tank 22, and the chemical tank on the supply line subsequent to the air valve 16b. A pump 18b is provided that provides a pumping pressure to flow the chemical in 22 along the supply line.

그리고, 상술한 펌프(18b)에 연이은 공급라인 상에는 유동하는 케미컬에 함유된 불순물 또는 공기 등을 필터링 하도록 형성된 필터(20b)가 설치되어 있고, 이 필터(20b)와 노즐(24) 사이의 공급라인 상에는 다시 유동하는 케미컬을 순간적으로 제어하도록 하는 에어밸브(16c)가 설치된 구성으로 이루어져 있다.In addition, a filter 20b formed to filter impurities or air contained in a flowing chemical is provided on a supply line subsequent to the pump 18b described above, and a supply line between the filter 20b and the nozzle 24 is provided. The air valve 16c is configured to provide instantaneous control of the chemicals flowing again.

이러한 구성의 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템(10)에 의하면, 각 제조설비(14)에 보틀(12)과 에어밸브(16a)와 펌프(18b) 및 필터(20a)를 포함한 연결라인으로 연결되어 제조설비(14)에 케미컬을 공급하게 됨에 따라 제조설비(14)가 생산라인 내의 넓은 공간을 차지하게 된다.According to the chemical supply system 10 of the semiconductor device manufacturing facility of this structure, it is connected to each manufacturing facility 14 by the connection line containing the bottle 12, the air valve 16a, the pump 18b, and the filter 20a. As the chemical is supplied to the manufacturing facility 14, the manufacturing facility 14 occupies a large space in the production line.

이렇게 각각의 구성들을 포함한 연결라인으로 이루어진 케미컬 공급시스템(10)은, 통상 웨이퍼의 로딩에서부터 언로딩까지 일직선 상의 공정을 진행할 수 있도록 설치할 것을 요구하고 있다.In this way, the chemical supply system 10 having a connection line including each of the components is generally required to be installed so that a straight line process can be performed from loading to unloading the wafer.

그러나, 점차 웨이퍼의 크기는 대형화 추세이고, 그에 따른 제조설비의 크기 또한 대형화됨에 따라 한정된 생산라인 내에 설치하기 어려운 문제가 있다.However, the size of the wafer is gradually increasing in size, and as the size of the manufacturing equipment is also increased, there is a problem that it is difficult to install in a limited production line.

또한, 각 제조설비에 각각 연결되는 연결라인 상에 케미컬 공급을 위한 펌프 또는 필터 등을 설치하게 됨에 따라 설치비용과 관리가 어려운 문제가 있었다.In addition, as the pump or filter for the chemical supply is installed on the connection line respectively connected to each manufacturing facility, there was a problem that the installation cost and management is difficult.

그리고, 각 제조설비의 구동이 정지되면, 연결라인 상의 케미컬 관리가 어렵기 때문에 공기 유입이 가능한 펌프 또는 필터 등에서 케미컬이 변질되고, 이러한 상태로 웨이퍼 상에 공급될 경우 공정 불량을 초래하게 되며, 이렇게 변질된 케미컬을 공급함에 있어서 연결라인 상의 펌프와 필터에 무리한 힘 또는 이 압력 등에 의해 수명이 단축되는 비경제적인 문제가 있었다.In addition, when the operation of each manufacturing facility is stopped, chemical management on the connection line is difficult, and thus the chemical is deteriorated in a pump or filter capable of introducing air, and when supplied on the wafer in such a state, process defects are caused. In supplying the deteriorated chemicals, there is an uneconomical problem that the service life is shortened by excessive force or pressure on the pump and filter on the connection line.

본 발명의 목적은, 케미컬 공급시스템을 단순화시키도록 하여 제조설비가 차지하는 공간을 축소시키도록 하는 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템을 제공함에 있다.It is an object of the present invention to provide a chemical supply system of a semiconductor device manufacturing facility for simplifying a chemical supply system to reduce the space occupied by the manufacturing facility.

또한, 각 제조설비로의 케미컬 공급을 단순화시키고, 공급되는 케미컬의 관리가 용이하도록 하여 케미컬의 변질에 따른 공정 불량을 방지하도록 하고, 연결라인을 단순화시켜 공급시스템 설치 비용의 절감과 설치에 따른 관리가 용이하도록 하는 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템을 제공함에 있다.In addition, to simplify the chemical supply to each manufacturing facility, to facilitate the management of the supplied chemical to prevent process defects due to chemical deterioration, and to simplify the connection line to reduce the supply system installation cost and management according to the installation To provide a chemical supply system of the semiconductor device manufacturing equipment to facilitate the.

도1은 종래의 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템에 대한 케미컬의 공급 관계를 나타낸 흐름도이다.1 is a flowchart showing a chemical supply relationship to a chemical supply system of a conventional semiconductor device manufacturing facility.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템에 대한 케미컬의 공급 관계를 나타낸 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating a chemical supply relationship to a chemical supply system of a semiconductor device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of codes for main parts of drawing

10, 30: 케미컬 공급시스템 12: 보틀10, 30: chemical supply system 12: bottle

14: 제조설비 16a, 16b, 16c: 에어밸브14: manufacturing facilities 16a, 16b, 16c: air valve

18a, 18b: 펌프 20a, 20b: 필터18a, 18b: pump 20a, 20b: filter

22: 케미컬탱크 24: 노즐22: chemical tank 24: nozzle

32: 중앙공급부32: central supply

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템은, 선택적인 가압으로 일정량 수용된 케미컬을 각 제조설비로 이어지는 연결관을 통해 유동시키는 중앙공급부와; 상기 각 제조설비에 근접 위치되어 상기 연결관으로부터 유입되는 케미컬을 소정량 수용하도록 형성된 케미컬 저장조와; 상기 케미컬 저장조와 노즐 사이에 설치되며, 케미컬의 유동량 제어와 공급압력을 제공하는 케미컬 공급라인을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.The chemical supply system of the semiconductor device manufacturing equipment of the present invention for achieving the above object, the central supply unit for flowing a certain amount of the chemical accommodated by the selective pressure through a connecting pipe leading to each manufacturing facility; A chemical reservoir located close to each of the manufacturing facilities and configured to receive a predetermined amount of chemical flowing from the connection pipe; It is installed between the chemical reservoir and the nozzle, characterized in that it comprises a chemical supply line for controlling the flow rate of the chemical and supply pressure.

또한, 상기 케미컬 공급라인은 상기 케미컬 저장조에서 노즐로 이어지는 공급관 상에 케미컬의 유동 압력을 제공하는 펌프가 설치되고, 상기 공급관의 소정 위치에 유동하는 케미컬의 양을 제어하도록 하는 에어밸브를 설치함이 바람직하다.In addition, the chemical supply line is provided with a pump for providing a flow pressure of the chemical on the supply pipe leading from the chemical reservoir to the nozzle, and is provided with an air valve to control the amount of chemical flowing in a predetermined position of the supply pipe desirable.

그리고, 상기 에어밸브는 상기 케미컬 저장조와 상기 펌프 사이와 상기 펌프와 상기 노즐 사이에 각각 설치함이 바람직하다.The air valve is preferably installed between the chemical reservoir and the pump and between the pump and the nozzle, respectively.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체장치 제조설비의 케미컬 공급시스템을 개략적으로 나타낸 흐름도로서, 종래와 동일한 부분에 대하여 동일한 부호를 부여하고, 그에 따른 상세한 설명은 생략하기로 한다.2 is a flowchart schematically illustrating a chemical supply system of a semiconductor device manufacturing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention. The same reference numerals will be given to the same parts as in the related art, and detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 일 실시예에 따른 케미컬 공급시스템(30)은, 각 제조설비(14)에 구비된 케미컬탱크(22)는 중앙공급부(32)에 각각 연결된 연결라인을 통해 요구되는 케미컬을 공급받게 된다.Chemical supply system 30 according to an embodiment of the present invention, the chemical tank 22 provided in each manufacturing facility 14 is supplied with the required chemical through the connection line connected to the central supply unit 32, respectively. .

이러한 중앙공급부(32)는, 소정량의 케미컬을 수용하게 되며, 내부에 질소 가스 등의 공급에 따른 가압력으로 수용된 케미컬을 각 제조설비(14)의 케미컬탱크(22)까지 복수 갈래로 연결된 연결라인을 통해 유동시키게 된다.The central supply unit 32, the predetermined amount of the chemical, and the connection line connected to the chemical tank 22 of each manufacturing facility 14 to the chemical tank accommodated in the pressing force in accordance with the supply of nitrogen gas, etc. It flows through.

이러한 구성에 의하면, 종래 각 제조설비(14)에 각각 설치되던 보틀 및 연결라인 상에 설치되는 각 구성 들을 하나의 중앙공급부(32)로 통합하여 케미컬을 공급함에 따라 생산라인의 공간을 확보하게 되고, 중앙공급부(32)를 통해 통합 관리가 이루어짐에 따라 케미컬의 변질을 방지하게 된다.According to this configuration, by providing the chemicals by integrating the respective components installed on the bottle and the connection line, which is conventionally installed in each manufacturing facility 14 into a single central supply unit 32 to secure the space of the production line As the integrated management is made through the central supply unit 32, the chemicals are prevented from being deteriorated.

또한, 연결라인을 단순화시켜 케미컬 공급에 따른 각종 설치 비용의 절감과 설치되는 구성의 단순화로 각 구성의 관리가 용이하게 되는 효과가 있다.In addition, by simplifying the connection line there is an effect that the management of each configuration is easy by reducing the various installation costs and the simplified configuration of the installation according to the chemical supply.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.

Claims

A central supply unit for flowing a predetermined amount of chemicals by selective pressure through a connection pipe leading to each manufacturing facility;

A chemical storage tank located in proximity to each of the manufacturing facilities and configured to receive a predetermined amount of chemical flowing from the connection pipe;

A chemical supply line installed between the chemical reservoir and the nozzle to provide flow rate control and supply pressure of the chemical;

Chemical supply system of a semiconductor manufacturing equipment, characterized in that configured to include.

The method of claim 1,

The chemical supply line is provided with a pump for providing a flow pressure of the chemical on the supply pipe leading from the chemical reservoir to the nozzle, and an air valve for controlling the amount of chemical flowing in a predetermined position of the supply pipe is installed Chemical supply system of the semiconductor device manufacturing equipment.

The method of claim 2,

And the air valve is installed between the chemical reservoir and the pump, and between the pump and the nozzle, respectively.