KR19990088586A - 가요성이개선된광영상화조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 A)+B)의 총 중량을 기준으로 A) 알칼리 수용액내에서 광 영상화 조성물을 현상시키기에 충분한 산 작용성을 갖는 결합제 중합체 약 30 내지 약 80 중량%, B) 자유 라디칼 개시된 사슬 연장 부가 중합반응에 의해 중합체를 형성할 수 있는 부가 중합성의 비기체성 α,β-에틸렌형 불포화 화합물들 약 20 내지 약 70 중량%, 및 C) 광개시제 화학계 약 0.1 내지 약 20 중량%를 포함하는 음각 작용성 광 영상화 조성물에 관한 것이다. 상기 광중합성 성분 B)는 A)+B)의 총 중량을 기준으로 α,β-에틸렌형 불포화물을 갖는 비우렛 우레탄 올리고머 약 1 내지 약 70 중량%를 포함한다.

Description

가요성이 개선된 광 영상화 조성물{PHOTOIMAGEABLE COMPOSITION HAVING IMPROVED FLEXIBILITY}
본 발명은 인쇄 회로 분야에서 포토레지스트로서 사용되는 것과 같은 음각 작용성 광 영상화(photoimageable) 조성물에 관한 것이다. 상기 광 영상화 조성물은 광 영상화 성분의 일부로서 우레탄 비우렛 올리고머를 함유한다.
본 발명은 알칼리 수용액에서 현상될 수 있는 음각 작용성 광 영상화 조성물에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 1차 광 영상화 레지스트 뿐 아니라, 납땜 마스크 등을 형성하도록 경화가능한 조성물에도 응용가능하다.
이와 같은 광 영상화 조성물의 다양한 예가 개시되어 있다. 본 발명과 관련된 유형의 조성물의 기본 성분은 A) 결합제 중합체, B) 광중합성 α,β-에틸렌형 불포화 화합물(들) 및 C) 광개시제 화학계이다. 상기 결합제 중합체 A)는 충분한 산 작용성, 일반적으로 카르복실산 작용성을 지녀서 알칼리 수용액에 가용성이며, 그로 인해서 광 영상화 조성물은 알칼리 수용액내에서 현상가능하게 된다. 광 영상화가능한 화합물(들) B)는 단량체들 및/또는 단쇄 올리고머들이고, 이들의 상당 부분은 다수의 α,β-에틸렌형 불포화 작용성을 가진다.
광개시제 화학계 C)는 화학선에 노출되면 자유 라디칼을 발생시키는 화학물질을 포함한다. 이들 자유 라디칼은 광중합성 성분 B)의 α,β-에틸렌형 불포화 부분의 중합반응을 진행시킨다. 여기서, 광개시제 화학계 C)는 자유 라디칼을 발생시키는 화학적 화합물 뿐만 아니라, 광중합성 성분 B)의 α,β-에틸렌형 불포화 부분의 중합반응을 개시하는 자유 라디칼을 촉진시키는 촉매 또는 증감제를 포함하는 것으로 간주된다.
회로판은 거의 일정하게 기판의 반대 표면에 있는 회로 소자를 연결하기 위하여 관통 구멍을 갖는다. 회로판에 관통 구멍이 점차로 커지게 되면, 높은 텐팅 강도의 중요성은 더욱 커지게되므로, 그 결과 광 영상화 조성물의 가요성은 더 커질 필요가 있다. 또한 향상된 가요성은 크로스 해치 접착력을 개선시키는데 기여하는바, 자동화 폴리에스테르 제거 시스템과 더 우수한 상용성을 제공한다. 포토레지스트가 취약해지는 경우에, 이들 폴리에스테르 제거 시스템은 포토레지스트의 분쇄를 유도하고, 결과적으로 회로선에 결함을 야기하게 된다.
통상의 광 반응성 단량체(예, 에톡시화 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트)의 일부를 이소시아누르산, 우레탄계 올리고머로 대체하는 경우에, 텐팅 강도 및 가요성이 크게 개선된다는 사실이 발견되었었다. 그러나, 이 경우 가요성이 주목할 정도로 좋아지긴 했지만, 미세 라인 접착력(fine line adhesion)은 개선되지 않았으며, 상기 올리고머는 찌꺼기 형성의 주원인제인 것으로 확인되었다.
이소시아누르산 올리고머가 폴리에폭시모노메타크릴레이트의 생성물 및 헥사메틸렌 디이소시아네이트의 이소시아누레이트 삼량체로 구성되는 경우에 미세 라인 접착력은 개선되고, 찌꺼기의 발생은 적었다(유럽 특허 출원 EP 0 738927 A2 및 일본 특허 JP 08-2868372 참조). UV 경화성 포토레지스트에 폴리알콕시모노메타크릴레이트의 생성물을 사용하는 것이 헥사메틸렌 디이소시아네이트의 이소시아누레이트 삼량체를 주성분으로 하는 우레탄 화합물로 제조된 것에 비해 성능이 향상된다. 현재 상업적 필요조건은 미세 라인 접착력 및 현상제 찌꺼기 발생을 둘다 더욱 개선시킬 것을 요한다.
본 명세서에서, 우레탄 비우렛 올리고머는 광중합성 성분 B)의 적어도 일부로서 혼입된다. 우레탄 비우렛 올리고머는 현상제 찌꺼기의 형성을 최소화한다고 확인되었다. 현상제 찌꺼기 발생 문제를 개선시키는 동시에 우레탄 비우렛 올리고머는 포토레지스트의 미세 라인 접착력도 개선시키는 것으로 확인된 바 있다.
본 발명은, A)+B)의 총 중량을 기준으로 A) 알칼리 수용액내에서 광 영상화 조성물을 현상시키기에 충분한 산 작용성을 갖는 유기 중합체성 결합제 약 30 내지 약 80 중량%, B) 자유 라디칼 개시된 사슬 연장 부가 중합반응에 의해 중합체를 형성할 수 있는 부가 중합성의 비기체성 α,β-에틸렌형 불포화 화합물들 약 20 내지 약 70 중량%, 및 C) 부가 중합성 물질의 사슬 연장 부가 중합반응을 개시하도록 화학선에 의해 활성화될 수 있는 방사선에 민감한 유기의 자유 라디칼 생성 화학계 약 0.1 내지 약 20 중량%를 포함하는 음각 작용성 광 영상화 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 있어서, 성분 B)는 A)+B)의 총 중량을 기준으로 하기 화학식 1을 갖는 비우렛 우레탄 올리고머 약 1 내지 약 70 중량%를 포함한다.
R-CO-NH-Z-N-(CO-NH-Z-NH-CO-R)2
상기 식에서, R들은 서로 동일하거나 또는 상이하며, 하기 식을 갖고,
-Am-[-CO-NH-Z-NH-CO-]s-Ap-O-CO-CY=CH2
(여기서, m은 6 내지 20이고, p는 0 내지 20 이며, s는 0 내지 1임)
A들은 서로 동일하거나 또는 상이하며, -[O-CHY-CHY-]- (여기서, Y들은 동일하거나 또는 상이하며, H, CH3또는 C2H5로 이루어진 군 중에서 선택됨), -[O-(CH2)3~4-]-, -[O-(CH2)3~5-CO-]- 및 이의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택되며,
Z는 이가 알킬, 시클로알킬, 방향족 또는 알킬방향족 탄화수소 부분이다.
상기 화학식 1에서, 광 영상화 조성물의 필수 가요성을 얻기 위하여 m은 6 이상인 것이 중요하다. 미국 특허 제4,019,972호에 기재된 광 영상화 조성물은 유사한 광중합성 화합물을 포함한다. 그러나, 상기 특허의 실시예에서, 해당 화합물의 m은 1이다. 또한, 상기 특허에서는 칼럼 5, 9~14행에서 m이 5 이상인 것은 불리하다고 명백히 교시하고 있다. 상기 특허 제4,019,972호의 교시 내용과는 반대로, 본 발명자들은 구리 기판에 대한 접착력을 상실함이 없이 가요성이 증가된다는 사실을 발견하였다. m이 6 이상이 아닌 경우에는, 더욱 취약한 조성물이 생성된다.
앞서 A들이 서로 동일하거나 또는 상이하다고 한것은 A들이 임의의 한 올리고머 분자로 동일하거나 또는 상이할 수 있거나 또는 임의의 R기 중 하나와 동일하거나 또는 상이하다는 것을 의미이다. A들이 임의의 한 R기내에서 상이한 경우에, 상이한 A들은 랜덤하게 분포하거나 또는 상이한 A들은 블록화될 수 있다.
전술한 화학식 1에서, Z의 단순한 예로는 헥사메틸렌, 페닐렌 및 시클로헥실렌을 들 수 있고, 더욱 복잡한 이가 탄화수소 부분 역시 적합하다. Z의 선택은 일반적으로 특별히 중요하다고 간주되지는 않으며, 일반적으로 적합한 전구체의 입수가능성에 좌우된다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는한, 모든 %는 중량%이다. 성분 A)(결합제 중합체) 및 성분 B) (광 영상화 화합물)의 총량은 본 명세서에서 100 중량%에 해당하는 것으로 간주하고, 광개시제 화학계의 성분을 비롯한 기타 성분들은 A)+B)의 총 중량을 기준으로 부로서 계산된다.
본 발명은 알칼리 수용액에서 현상될 수 있고 실질적으로 산 작용성을 갖는 광 영상화 조성물에 관한 것이다. 이러한 광 영상화 조성물은 통상적으로 산 작용성, 통상 산가가 약 80 이상, 바람직하게는 약 100 이상, 더욱 바람직하게는 약 150 이상, 최대 약 250인 결합제 중합체 A)를 포함한다. 산 작용성은 통상 카르복실산 작용성이지만, 예컨대 술폰산 작용성 또는 인산 작용성이 포함될 수도 있다. 광 영상화 조성물용 결합제 중합체들은 통상 중량 평균 분자량이 약 20,000 내지 약 200,000, 바람직하게는 약 80,000 이상이다.
상기 중합체는 통상 산 작용성 단량체와 비산(非酸) 작용성 단량체의 혼합물로부터 유도된다. 이러한 산 작용성 단량체로 적합한 몇몇의 특정예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산, 2-히드록시에틸 아크릴로일 포스페이트, 2-히드록시프로필 아크릴로일 포스페이트, 2-히드록시-α-아크릴로일 포스페이트 등이 있다. 이러한 1종 이상의 산 작용성 단량체는 결합제 중합체를 형성하는데 사용될 수 있다.
산 작용성 단량체는 비산 작용성 단량체와 공중합되어 소정의 산가를 제공할 수 있는데, 이러한 비산 작용성 단량체의 예로서는 아크릴산의 에스테르 및 메타크릴산의 에스테르, 예컨대 메틸 아크릴레이트, 2-에틸 헥실 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, n-헥실 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 히드록시 에틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 2-에톡시 에틸 메타크릴레이트, t-부틸 아크릴레이트, 1,5-펜탄디올 디아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸 아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 1,3-프로판디올 디아크릴레이트, 데카메틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 데카메틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,4-시클로헥산디올 디아크릴레이트, 2,2-디메틸올 프로판 디아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 글리세롤 트리아크릴레이트, 2,2-디(p-히드록시페닐)프로판 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 폴리옥시에틸-2,2-디(p-히드록시페닐)프로판 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 폴리옥시프로필트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 부틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올 디메타크릴레이트, 1,2,4-부탄트리올 트리메타크릴레이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올 디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 1-페닐에틸렌-1,2-디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리메타크릴레이트, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트 및 1,4-벤젠디올 디메타크릴레이트; 2-메틸 스티렌 및 비닐 톨루엔 등의 스티렌 및 치환된 스티렌과, 비닐 아크릴레이트 및 비닐 메타크릴레이트 등의 비닐 에스테르를 들 수 있다.
결합제 중합체 A)의 함량은 광범위하게 변할 수 있는데, 통상 A)+B)의 총 중량을 기준으로 약 30 내지 약 80 중량%의 양으로 포함된다.
이러한 중합체 및 이러한 중합체를 사용하는 광 영상화 조성물의 예로는 본 명세서에서 참고로 인용하는 미국 특허 제3,953,309호, 제4,003,877호, 제4,601,951호 및 제4,695,527호에 기재되어 있다.
광중합성 폴리 α,β-에틸렌형 불포화물을 갖는 전술한 광중합성 성분 B)는 B)를 기준으로 우레탄 비우렛 올리고머 5 내지 약 100 중량%, 바람직하게는 약 25 내지 약 75 중량%를 포함하고, 환언하면 A)+B)의 총 중량을 기준으로 1 내지 약 70 중량%, 바람직하게는 약 5 내지 약 52.5 중량%를 포함한다.
헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI) 우레탄 비우렛 올리고머의 합성은 HDI의 이소시아누레이트 삼량체로 제조된 우레탄 화합물의 제법과 유사하다. 폴리이소시아네이트는 화학양론적 동량 또는 근사량의 아크릴레이트 말단화 알콜 또는 메타크릴레이트 말단화 알콜과 반응시킨다. 생성된 화합물은 삼작용성 우레탄 아크릴레이트/메타크릴레이트 올리고머이고, 이는 이후에 B)의 일부로서 부가 중합성의 비기체성 α,β-에틸렌형 불포화 화합물로 사용된다.
광중합성 성분 B)를 기준으로 0 내지 약 95 중량%, 바람직하게는 약 25 내지 약 75 중량%, 환언하면 A)+B)의 총중량을 기준으로 0 내지 약 69 중량%, 바람직하게는 약 5 내지 약 52.5 중량%의 상기 B)의 나머지 성분은 통상 일작용성 화합물 및 α,β-에틸렌형 불포화 작용가가 2 이상인 화합물을 비롯한 에틸렌형 불포화, 특히, α,β-에틸렌형 불포화를 갖는 단량체, 이량체, 또는 단쇄 올리고머이다. 통상, 일작용성 단량체 및 다작용성 단량체의 혼합물이 사용된다. 적합한 광중합성 화합물의 예로는 결합제 중합체, 특히 비산 작용성 화합물을 형성시키는데 적합한 전술한 바와 같은 단량체를 들 수 있으나, 이들로 국한되는 것은 아니다. 광중합성 성분 B)의 총량은 A)+B)의 총중량을 기준으로 약 20 내지 약 70 중량%의 광 영상화 조성물이다.
화학선에 노출되었을 때, 단량체가 중합 반응을 개시하기 위해서, 광 영상화 조성물은 광개시제 화학계를 포함한다. 일반적으로, 광개시제 화학계는 A)+B)의 총중량을 기준으로 약 0.1 내지 약 20 중량%로 포함된다. 광개시제 화학물질의 예로는 9-페닐 아크리딘, n-페닐 글리신, 방향족 케톤[예, 벤조페논, N,N'-테트라메틸-4,4'-디아미노벤조페논(미클러 케톤), N,N'-테트라에틸-4,4'-디아미노벤조페논, 4-메톡시-4'-디메틸아미노벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, p,p'-비스(디메틸아미노)벤조페논, p,p'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 나프토퀴논, 페난트라퀴논, 벤조인(예, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸 에테르, 벤조인 페닐에테르, 메틸벤조인, 에틸벤조인 등), 벤질 유도체(예, 디벤질, 벤질디페닐디설파이드, 벤질디메틸케탈(SIC)) 등], 아크리딘 유도체[예, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄 등], 티옥산톤(예, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤 등), 아세토페논(예, 1,1-디클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논 등)을 함유할 수도 있다. 비록, 자유 라디칼 발생제는 아니지만, 트리페닐포스펜이 광개시제 화학계에 촉매로서 포함될 수 있다. 비록 자유 라디칼 발생제는 아니지만 트리페닐포스펜은 광개시제 화학계에 촉매로서 포함될 수 있다.
광 영상화 조성물은 A)+B)의 총중량을 기준으로 1종 이상의 가소제를 약 0.5 내지 약 10 중량% 포함하는 것이 좋다. 적합한 가소제의 예로는 프탈레이트 에스테르(예, 디부틸프탈레이트, 디헵틸프탈레이트, 디옥틸프탈레이트, 디알릴프탈레이트), 글리콜(예, 폴리에틸렌-글리콜, 폴리프로필렌글리콜), 글리콜 에스테르(예, 트리에틸렌-글리콜디아세테이트, 테트라에틸렌글리콜디아세테이트, 디프로필렌글리콜-디벤조에이트), 포스페이트 에스테르(트리크레실포스페이트, 트리페닐포스페이트), 아미드(p-톨루엔설폰아미드, 벤젠설폰아미드, N-n-부틸아세톤아미드), 지방족 이염기산 에스테르(디이소부틸-아디페이트, 디옥틸아디페이트, 디메틸세바케이트, 디옥틸아젤레이트, 디부틸말레이트, 트리에틸시트레이트, 트리부틸시트레이트, 트리에틸아세틸시트레이트, 트리-n-프로필아세틸시트레이트, 트리-n-부틸아세틸시트레이트, 부틸-라우레이트, 디옥틸-4,5-디에폭시시클로헥산-1,2-디카르복실레이트, 글리세린트리아세틸에스테르를 들 수 있으나, 이들로 국한되지는 않는다.
또한, 광 영상화 조성물은 부가 중합체를 비롯한 당업계에서 알려진 다양한 부가 성분, 예를 들면 납땜 마스크, 염료, 발색제, 안정화제, 가요성화제, 충전제 등의 최종 경질 경화를 실시하는데 사용될 수 있는 물질을 포함할 수 있다.
광 영상화 조성물의 가공은 통상의 방법으로 실시할 수 있다. 통상의 방법에 있어서, 액체 조성물로부터 형성되거나 또는 건조 필름으로부터의 층으로서 전달되는 광 영상화 조성물 층을 구리 도금된 기판의 구리 표면에 도포한다. 광 영상화 조성물 층을 적절한 도판을 통해 화학선에 노출시킨다. 화학선에 노출시키는 것은 광 노출된 부위의 단량체를 중합시켜 현상제에 대해 내성을 갖는 가교 구조를 생성하게 만든다. 그 다음, 조성물을 묽은 알칼리성 수용액, 예를 들면 1%의 탄산나트륨 용액내에서 현상시킨다. 알칼리 용액은 결합제 중합체의 카르복실기와 함께 염을 형성하게 되어 이들은 가용성이면서 제거가능하게 된다. 현상후, 부식제를 사용하여 레지스트가 제거된 부위로부터 구리를 제거하여 인쇄 회로를 형성할 수 있다. 이어서, 적합한 박리제를 사용하여 남아있는 레지스트를 제거한다.
본 발명은 구리 표면에 잘 접착되는 미세 라인(75 미크론 미만)의 레지스트 측벽을 제공한다.
본 발명은 특정 실시예에 의거하여 더욱 상세하게 설명하고자 한다.
실시예
기본 광 영상화 조성물을 다음과 같이 제제화하였다.
성분 중량%*
1. 부틸아크릴레이트 메틸메타크릴산, 메틸메타크릴레이트의 56.7
삼공중합체(산가 150, 중량 평균 분자량 80,000)
2. 에톡시화 비스페놀 A 디메타크릴레이트 14.4
3. 폴리프로필렌 글리콜 메타크릴레이트 12.2
4. 우레탄 올리고머(A), (B), (C) 또는 (D)**16.7
5. p-톨루엔 설폰아미드(가소제) 5.0
6. 트리페닐메탄 염료 0.056
7. 9-페닐아크리딘(광개시제) 0.17
* 성분 1 내지 4를 100 중량%로 계산함; 나머지 성분들은 성분 1 내지 4를 기준으로 계산함.
** 전술한 우레탄 올리고머의 예는 다음과 같다.
(비교예 A 및 C)
R-(CH2)6-N-(CO-NH-(CH2)6-R)2(실시예 B 및 D)
R = -NH-CO-O-(-CHX-CH2-O-)6-CO-C(CH3)=CH2(여기서, X는 H 또는 CH3)
X = H(실시예 A 및 B); X = CH3 (실시예 C 및 D).
광 영상화 조성물의 특성은 하기 표 1에 나타내었다.
우레탄 올리고머 성분(8) HDI 이소시아누레이트의 에톡시화 트리메타크릴레이트 우레탄(A) HDI 비우렛의 에톡시화 트리메타클레이트 우레탄(B) HDI 이소시아누레이트의 프로폭시화 트리메타클레이트 우레탄(C) HDI 비우렛의 프로폭시화 트리메타클레이트 우레탄(D)
단계 7(2)에서 해상도(1) 및 2x 파단점(3) 45 40 47 43
단계 7(2)에서 해상도(1) 및 4x 파단점(3) 52 45 45 45
단계 9(2)에서 해상도 및 4x 파단점 75 65 75 70
단계 7(2)에서 접착력(1) 및 4x 파단점 55 45 55 55
단계 9(2)에서 접착력(1) 및 4x 파단점 35 25 25 22
단계 7(2)에서 텐트 강도(4), 건조(5) 179 252 247 268
단계 9(2)에서 텐트 강도(4), 건조(5) 276 340 291 315
단계 7(2)에서 텐트 강도(4), 수화(6) 485 592 389 421
단계 9(2)에서 텐트 강도(4), 수화(6) 545 571 412 536
단계 7(2)에서 스트리핑 시간(7) 40 38 39 34
단계 7(2)에서 크로스 해치 내성(10), 4x 파단점 25 30 - -
단계 9(2)에서 크로스 해치 내성(10), 2x 파단점 15 20 - -
단계 9(2)에서 스트리핑 시간(7) 48 42 45 44
Sn 도금후 단계7(2)에서 스트리핑 시간(7) 66 57 - -
Sn 도금후 단계9(2)에서 스트리핑 시간(7) 84 70 - -
단계7(2)에서 Sn 초벌도금(underplating)(9) 0.61 0.53 - -
단계9(2)에서 Sn 초벌도금(9) 0.33 0.35 - -
전술한 결과로 부터, (B) 및 (D)의 텐팅 강도가 (A) 및 (C)에 비해 증가된다는 점에 주목해야 한다.
화합물 E 및 F(비교예)는 본 발명의 6과 비교하였을때, 단일의 에톡시를 갖도록 제제화되었다. 즉, 전술한 이소이아누레이트(E)와 비우렛 제제에서 (E), (F) R = -NH-CO-C-CH2-CH2-O-CO-C(CH3)=CH2이다. 환언하면, (E) = (A) (여기서 m은 6이아니라 1임); (F) = (B) (여기서, m은 6이 아니라 1임). 이 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 비교예 (E) 및 (F)가 불량한 텐팅 강도를 나타낸다는 점에 주목해야 한다.
우레탄 올리고머 성분(8) HDI 이소시아누레이트의 모노에톡시화 트리메타크릴레이트 우레탄(E) HDI 비우렛의 모노에톡시화 트리메타클레이트 우레탄(F)
단계 7(2)에서 해상도(1) 및 2x 파단점(3) 41 43
단계 7(2)에서 해상도(1) 및 4x 파단점(3) 30 31
단계 9(2)에서 해상도 및 2x 파단점 60 61
단계 7(2)에서 접착력(1) 및 4x 파단점 32 45
단계 9(2)에서 접착력(1) 및 2x 파단점 24 24
단계 7(2)에서 텐트 강도(4), 건조(5) - -
단계 9(2)에서 텐트 강도(4), 건조(5) 88.5 74
단계 7(2)에서 텐트 강도(4), 수화(6) - -
단계 9(2)에서 텐트 강도(4), 수화(6) 66 <20
단계 7(2)에서 크로스 해치 내성(10), 4x 파단점 <5 <5
단계 9(2)에서 크로스 해치 내성(10), 2x 파단점 <5 <5
단계 7(2)에서 스트리핑 시간(7) - -
단계 9(2)에서 스트리핑 시간(7) - -
Sn 도금후 단계7(2)에서 스트리핑 시간(7) 64 48
Sn 도금후 단계9(2)에서 스트리핑 시간(7) 90 62
단계7(2)에서 Sn 초벌 도금(9) 0.48 0.67
단계9(2)에서 Sn 초벌 도금(9) 0.32 0.36
(1) 미크론으로 관찰된 최소치, 동일한 선 및 간격일때 해상도, 선이 400 미크론 공간을 갖을 때 접착력
(2) 스토퍼 21 솔리드 단계
(3) 30℃의 1% 탄산나트륨 일수화물에서 현상시킴
(4) 텐팅된 6 mm 구멍을 관통하는 2 mm 반경의 경사진 탐침에 대한 천공 강도
(5) 실온, 30%의 상대 습도에서 16 시간 동안 현상 및 유지시킨 후에 고온 공기 나이프 건조시킴
(6) 20℃ 수도물에서 4분간 침지시킨 이후
(7) 초 단위, 55℃의 3% 수산화나트륨 용액으로 컨베이어 분무함
(8) 38 미크론 두께의 건조 필름 포토레지스트 제제 15 중량%일때(화학적 구조에 대하여 부속물 #2, 시험 제제에 대하여 부속물 #3 참조)
(9) 주석을 최대 1 mil 도금한 후에 포토레지스트와 구리 계면사이에 유입되는 도금의 mil
(10) 1 mm 간격의 다중날 나이프로 절단한 후에 잔존하는 접착된 포토레지스트의 양
주: 단계 9(최적의 가교)에서, A와 E 또는 B와 F를 비교하면 고도로 알콕시화시킨 결과 초벌도금의 열화 또는 증가가 관찰되지 않음.
본 발명의 광 영상화 조성물은 가요성이 개선된 가요성의 인쇄 회로 기판을 생성하기에 적합하다.

Claims (2)

  1. 하기 성분 A)+B)의 총 중량을 기준으로,
    A) 알칼리 수용액내에서 광 영상화 조성물을 현상시키기에 충분한 산 작용성을 갖는 결합제 중합체 약 30 내지 약 80 중량%,
    B) 자유 라디칼 개시된 사슬 연장 부가 중합반응에 의해 고분자의 중합체를 형성할 수 있는 부가 중합성의 비기체성 α,β-에틸렌형 불포화 화합물(들) 약 20 내지 약 70 중량%를 포함하는 음각 작용성 광 영상화 조성물로서,
    상기 성분 B)는 상기 성분들 A)+B)의 총 중량을 기준으로 하기 화학식 1을 갖는 우레탄 비우렛 올리고머 약 1 내지 약 70 중량%를 포함하는 것인 음각 작용성 광 영상화 조성물.
    화학식 1
    R-CO-NH-Z-N-(CO-NH-Z-NH-CO-R)2
    상기 식에서, R들은 서로 동일하거나 또는 상이하며, 하기 식을 갖고
    -Am-[-CO-NH-Z-NH-CO-]s-Ap-O-CO-CY=CH2
    (여기서, m은 6 내지 20이고, p는 0 내지 20 이며, s는 0 내지 1임),
    A들은 서로 동일하거나 또는 상이하며, -[O-CHY-CHY-]- (여기서, Y들은 동일하거나 또는 상이하며, H, CH3또는 C2H5로 이루어진 군 중에서 선택됨), -[O-(CH2)3~4-]-, -[O-(CH2)3~5-CO-]- 및 이의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택되며,
    Z는 이가 알킬, 시클로알킬, 방향족 또는 알킬방향족 탄화수소 부분이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 우레탄 비우렛 올리고머는 A)+B)의 총 중량을 기준으로 약 5 내지 약 52.5 중량%를 포함하는 것인 음각 작용성 광 영상화 조성물.
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