KR19990088440A - 케라틴섬유의산화염색용조성물및그조성물을이용한염색방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 염색에 적합한 매체 중에, 하나 이상의 산화 베이스 및, 직접 염료로서의 하나 이상의 특정 양이온성 염료를 함유하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물, 및 이 조성물을 이용한 염색 방법에 관한 것이다.

Description

케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물 및 그 조성물을 이용한 염색 방법{COMPOSITION FOR THE OXIDATION DYEING OF KERATIN FIBRES AND DYEING PROCESS USING THIS COMPOSITION}
본 발명은 염색에 적합한 매체 내에, 하나 이상의 산화 베이스 및, 직접 염료로서의 하나 이상의 특정 양이온성 염료를 함유하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물, 및 이 조성물을 이용한 염색 방법에 관한 것이다.
케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 산화 염료 전구체, 특히 오르토- 또는 파라-페닐렌디아민, 오르토- 또는 파라-아미노페놀 및 산화 베이스라고 통칭하는 복소환 베이스를 함유하는 염료 조성물로 염색하는 것이 공지되어 있다. 산화 염료 전구체 즉, 산화 베이스는 무색이거나, 색이 엷은 화합물로서, 산화시키는 생성물과 배합 시, 산화 축합 공정으로 염료 및 착색 화합물을 형성한다.
또한, 이 산화 베이스로 수득된 음영(shade) 은 그것들과 커플러 또는 변색제를 배합함으로서, 변화할 수 있고, 여기에서 변색제는 특히 방향족 메타-디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 특정 복소환 화합물로부터 선택된다.
산화 베이스 및 커플러로 사용되는 각종 화합물는 매우 다양한 색을 수득할 수 있도록 한다.
또한 직접 염료, 즉 산화제의 부재 하에 색을 부여할 수 있는 착색된 물질이 산화 염료 전구체 및 커플러와 배합시켜 사용되어, 수득되는 음영을 더욱 다양하게 할 수 있고, 그것들을 반짝거리게 할 수 있다.
대다수의 이 직접 염료는 니트로벤젠 화합물계에 속하고, 염료 조성물에 혼입될 경우, 특히 샴푸 시, 잔존력이 불충분하다는 결점을 가진다.
이 산화 염료에 의한 소위 "퍼머넌트" 착색은 특정 수의 필요 조건을 또한 만족시켜야 한다. 따라서, 원하는 강도로 음영이 수득되도록 해야 하며, 외부 제제 (빛, 나쁜 날씨, 세척, 퍼머넌트-웨이빙, 땀, 문지름) 에 대한 내성이 좋아야 한다.
염료는 또한 회색 모발을 커버할 수 있어야 하고, 마지막으로 가능한 한 비선택적이어야 하는데, 다시 말해 동일한 케라틴 섬유에 따라 최소의 가능한 색 차이만을 허용하도록 해야 하며, 이는 실제로 케라틴 섬유의 끝과 뿌리 사이에 상이하게 감지(손상)될 수 있다.
본 발명은 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 산화 염색을 위한 신규 조성물을 제공하기 위한 것으로, 그 조성물은 잔존력이 우수함과 동시에 반짝임이 풍부한 착색을 창출한다.
따라서, 본 출원인은 하기의 것들을 배합함으로써, 이제 반짝거림이 풍부하고, 잔존력이 우수한 신규 염료를 수득할 수 있음을 발견하였다 :
- 하나 이상의 산화 베이스,
- 하나 이상의 하기 화학식 1 의 양이온성 직접 염료.
이 발견은 본 발명의 기초를 이루었다.
따라서, 본 발명의 첫 번째 목적은 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물을 제공하는 것으로, 이 조성물은 염색에 적합한 매체 내에 하기의 것들을 함유함을 특징으로 한다 :
- 하나 이상의 산화 베이스,
- 하나 이상의 하기 화학식 1 의 양이온성 직접 염료 :
[식 중에서,
A 는 하기 구조체 A1 내지 A3 로부터 선택되는 기를 나타내고 :
(식 중, 구조체 A1 내지 A3 에서,
- R1은 C1- C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼 또는, C1- C4알킬 라디칼이나 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
- R2는 C1- C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내며;
- R3및 R4는 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, C1- C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, 둘이 함께 하나 이상의 C1- C4알킬, C1- C4알콕시 또는 니트로 라디칼로 치환된 벤젠 고리를 형성하며; 또한 R3는 수소 원자를 나타낼 수도 있고;
- R5및 R6은 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, C1- C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, 둘이 함께 하나 이상의 C1- C4알킬, C1- C4알콕시 또는 니트로 라디칼로 치환되거나, 비치환된 벤젠 고리를 형성하며; R5는 수소 원자일 수도 있고;
- R7및 R8은 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자, C1- C4알킬 또는 C1- C4알콕시 라디칼 또는 니트로 라디칼을 나타내고;
- Z 는 산소 또는 황 원자 또는 기 NR2(식 중에, R2는 상기 의미와 동일할 수 있다) 를 나타내며;
- 고리원 L 은 기 -CH, -CR 또는 -N+R9(X-)r을 나타내고;
- 고리원 M 은 기 -CH, -CR 또는 -N+R9(X-)r을 나타내며;
- r 은 0 또는 1 의 정수이고;
- R 은 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고;
- R9는 원자 O-또는 C1- C4알킬 또는 C1- C4알콕시 라디칼을 나타내고;
- X-는 염소, 메틸 술페이트, 에틸 술페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트로부터 선택되는 음이온을 나타내며; 또한 하기와 같이 간주하고 :
- 화학식 A3 의 기에서, 하나 이상의 고리원 L 및 M 은 기 -N+R9(X-)r을 나타내고;
- R6이 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고, Z 가 황 원자를 나타낼 경우, R5가 C1- C4알킬 라디칼 이외의 것이며;
- R6이 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고, Z 가 황 원자를 나타낼 경우, 또한 라디칼 R10및 R11중 하나가 수소 원자를 나타낼 경우, R5은 수소 원자 이외의 것이며;
- R9가 O-일 경우, r 이 0 이고;
- L 또는 M 이 라디칼 -N+R9(X-)r(식 중에, R9이 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고, r = 1 인 경우, 라디칼 R8및 R9중 하나 이상이 수소 원자 이외의 것이며;
- L 이 라디칼 -N+R9(X-)r을 나타낼 경우, M 이 기 -CH 또는 -CR 을 나타내고;
- M 이 라디칼 -N+R9(X-)r을 나타낼 경우, L 은 기 -CH 또는 -CR 을 나타내고;
- Z 가 기 NR2(식 중에, R2은 C1- C4알킬 라디칼임) 일 경우, 라디칼 R1, R5및 R6중 하나 이상이 C1- C4알킬 라디칼 이외의 것이며;
- Z 가 황 원자를 나타내고, R1이 C1- C4알킬 라디칼을 나타낼 경우, 또는 라디칼 R10및 R11중 하나가 수소 원자를 나타낼 경우, R5및 R6은 둘이 함께 비치환 벤젠 고리를 형성할 수 없다); 또한,
B 는 하기 (a) 및 (b) 중 어느 하나를 나타낸다 :
(a) 하기 구조체 B1 의 기 :
(식 중, 구조체 B1 에서,
- R10은 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자, C1- C4알킬, C1- C4알콕시 또는 히드록시 라디칼, 기 -NHR13, -NR14R15, -NHCO(C1- C4)알킬 또는 니트로를 나타내거나, R11과 함께 5- 또는 6-원 탄소 고리 또는, 질소, 산소 및 황에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고;
- R11은 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자, C1- C4알킬 또는 C1- C4알콕시 라디칼을 나타내거나, R12또는 R13과 함께 5- 또는 6-원 탄소 고리 또는, 질소, 산소 및 황에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고;
- R12는 수소 원자, 히드록실 라디칼, 라디칼 -NHR13또는 라디칼 -NR14R15를 나타내며;
- R13은 수소 원자, C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬, C2- C4폴리히드록시알킬 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
- R14및 R15은 상호 동일하거나 상이할 수 있고, C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬 또는 C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다); 또는,
(b) 5- 또는 6-원 질소 복소환기, 산소 및 황으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 5- 또는 6-원 질소 복소환기 및/또는 하나 이상의 카르보닐기 (여기에서, 상기 복소환은 하나 이상의 C1- C4알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있다)].
상기 특성을 갖는 5- 또는 6-원 질소 복소환기들 중에, 특히 하기 구조체 B2 의 기를 들 수 있다 :
[식 중, 구조체 B2 에서 :
- R16및 R17은 상호 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C1- C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
- Y 는 하기 기를 나타내며 :
- n 은 0 또는 1 의 정수이다].
상기 화학식 1 의 양이온성 직접 염료는 종래 기술의 공지 화합물로, 예를 들어 특허 출원 FR-A-2,140,205 및 그것의 첨가 증명서(Certificate of Addition), 또한 특허 출원 FR-A-2,189,006 에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 선택성이 거의 나타내지 않고, 빛 및 나쁜 날씨와 같은 주변 제제, 또한 발한 및, 모발에 가해지는 각종 처리에 대해 모두 우수한 내성을 가지는 강한, 염색성 착색을 제공한다. 이 성질들은 특히 염색성에 대한 가치가 있다.
본 발명의 목적은 또한 이 염료 조성물을 이용한 케라틴 섬유의 산화 염색 방법을 제공하는 것이다.
상기 화학식 1 의 화합물에 있어, C1- C4알킬 및 알콕시 라디칼이 바람직하게 메틸, 에틸, 부틸, 메톡시 및 에톡시 라디칼로부터 선택된다.
본 발명에 따른 염료 조성물에 사용되는 산화 베이스(들) 의 성질은 결정적인 요소는 아니다. 그것들은 특히, 파라-페닐렌디아민, 이중 베이스, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 복소환 산화 베이스들 중에서 선택된다.
본 발명에 따른 염료 조성물 중의 산화 베이스로서 사용가능한 파라-페닐렌디아민들 중에, 하기 화학식 2 의 화합물 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다 :
[식 중에서,
- R18은 수소 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼, (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬 라디칼, 질소성기로 치환된 C1- C4알킬 라디칼, 페닐기 또는 4'-아미노-페닐기를 나타내고;
- R19는 수소 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼, (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬 라디칼 또는 질소성기로 치환된 C1- C4알킬 라디칼을 나타내며;
- R20는 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 또는 불소 원자와 같은 할로겐 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C1- C4히드록시 라디칼, 아세틸아미노 (C1- C4)알콕시 라디칼, C1- C4메실아미노알콕시 라디칼 또는 카르바모일아미노 (C1- C4)알콕시 라디칼을 나타내고;
- R21은 수소 또는 할로겐 원자 또는 C1- C4알킬 라디칼을 나타낸다].
상기 화학식 2 의 질소성기들 중에, 특히 아미노, 모노(C1- C4)알킬아미노, 디(C1- C4)알킬아미노, 트리(C1- C4)알킬아미노, 모노히드록시(C1- C4)알킬아미노, 이미다졸리늄 및 암모늄 라디칼을 들 수 있다.
상기 화학식 2 의 파라-페닐렌디아민들 중에, 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-비스(β-히드록시에틸)-2-메틸아닐린, 4-아미노-2-클로로-N,N-비스(β-히드록시에틸)아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루우로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-(에틸-β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민 및 N-(β-메톡시에틸)-파라-페닐렌디아민 및, 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다.
상기 화학식 2 의 파라-페닐렌디아민들 중에, 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민 및 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민 및, 그것들의 산 부가염이 가장 바람직하다.
본 발명에 따라, 용어 "이중 베이스"가 아미노 및/또는 히드록실기를 갖는 2 개 이상의 방향족 기를 함유하는 화합물을 말하는 것으로 이해되어 진다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 산화 베이스로서 사용될 수 있는 이중 베이스들 중에, 특히 하기 화학식 3 에 해당하는 화합물 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다 :
[식 중에서,
- Z1및 Z2은 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, C1- C4알킬 라디칼 또는 링커 팔 G 로 치환될 있는 -NH2또는 히드록실 라디칼을 나타내고;
- 링커 팔 G 는 탄소수 1 내지 14 의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌 사슬을 나타내고, 이는 하나 이상의 질소성기 및/또는 하나 이상의 헤테로 원자, 예컨대 산소, 황 또는 질소 원자에 의해 중간 삽입되거나, 말단 종결될 수 있으며, 하나 이상의 히드록실 또는 C1- C6알콕시 라디칼로 임의 치환될 수 있고;
- R22및 R23은 수소 또는 할로겐 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼, C1- C4아미노알킬 라디칼 또는 링커 팔 G 를 나타내며;
- R24, R25, R26, R27, R28및 R29는 상호 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 링커 팔 G 또는 C1- C4알킬 라디칼을 나타낸다].
또한, 이 화학식 3 의 화합물은 분자 당, 오직 하나의 링커 팔 G 를 함유하는 것으로 간주한다.
상기 화학식 3 의 질소성기들 중에, 특히 아미노, 모노(C1- C4)알킬아미노, 디(C1- C4)알킬아미노, 트리(C1- C4)알킬아미노, 모노히드록시(C1- C4)알킬아미노, 이미다졸리늄 및 암모늄 라디칼을 들 수 있다.
상기 화학식 3 의 이중 베이스들 중에, 특히 N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)-테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,5-디옥사옥탄 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다.
상기 화학식 3 의 이중 베이스들 중에, 특히 N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,5-디옥사옥탄 또는 그것들의 산 부가염이 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 산화 베이스로서 사용될 수 있는 파라-아미노페놀들 중에, 특히 하기 화학식 4 에 해당하는 화합물 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다 :
[식 중에서,
- R30는 수소 원자 또는 할로겐 원자, 또는 C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬, (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬, C1- C4아미노알킬 또는 히드록시(C1- C4)알킬아미노(C1- C4)알킬 라디칼을 나타내고;
- R31은 수소 원자 또는 할로겐 원자, 또는 C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬, C2- C4폴리히드록시알킬, C1- C4아미노알킬, C1- C4시아노알킬 또는 (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬 라디칼을 나타내며;
R30및 R31라디칼 중 하나 이상이 수소 원자를 나타내는 것으로 이해된다].
상기 화학식 4 의 파라-아미노페놀들 중에, 특히 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀 및 4-아미노-2-플루오로페놀 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물 중 산화 베이스로서 사용될 수 있는 오르토-아미노페놀들 중에, 특히 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 산화 베이스로서 사용될 수 있는 복소환 베이스들 중에, 특히 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체, 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다.
피리딘 유도체들 중에, 특히 특허 GB 1,026,978 및 GB 1,153,196 에 기재된 화합물, 예를 들어 2,5-디아미노피리딘, 2-(4-메톡시페닐)아미노-3-아미노피리딘, 2,3-디아미노-6-메톡시피리딘, 2-(β-메톡시에틸)아미노-3-아미노-6-메톡시피리딘 및 3,4-디아미노피리딘, 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다.
피리미딘 유도체들 중에, 특히 독일 특허 DE 2,359,399 또는 일본 특허 JP 88-169,571 및 JP 91-10659 또는 특허 출원 WO 96/15765 에 기재된 화합물, 예컨대 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 2-히드록시-4,5,6-트리아미노피리딘, 2,4-디히드록시-5,6-디아미노피리미딘 및 2,5,6-트리아미노피리미딘, 및 특허 출원 FR-A-2,750,048 에 기재된 피라졸피리미딘 유도체를 들 수 있고, 이들 중에 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 2,5-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민, 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민, 2,7-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민, 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-5-올; 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아민)에탄올; 2-(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아민)에탄올; 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올; 2-[(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올; 5,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 2,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민 및 2,5-N7,N7-테트라메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민 및 그것들의 산 부가염, 또한 호변이성 평형이 존재할 경우는 호변이성 형태 및 그것들의 산 부가염이 포함된다.
피라졸 유도체들 중에, 특히 특허 DE 3,843,892, DE 4,133,957 및 특허 출원 WO 94/08969, WO 94/08970, FR-A-2,733,749 및 DE 195 43 988 에 기재된 화합물들, 예컨대 4,5-디아미노-1-메틸피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4'-클로로벤질)피라졸, 4,5-디아미노-1,3-디메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-페닐]피라졸, 4,5-디아미노-1-메틸-3-페닐피라졸, 4-아미노-1,3-디메틸-5-히드라지노피라졸, 1-벤질-4,5-디아미노-3-메틸-피라졸, 4,5-디아미노-3-tert-부틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-tert-부틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-(4'-메톡시페닐)피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-히드록시메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-이소프로필피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-이소프로필피라졸, 4-아미노-5-(2'-아미노에틸)아미노-1,3-디메틸피라졸, 3,4,5-트리아미노피라졸, 1-메틸-3,4,5-트리아미노피라졸, 3,5-디아미노-1-메틸-4-메틸아미노피라졸 및 3,5-디아미노-4-(β-히드록시에틸)아미노-1-메틸피라졸 및 그것들의 산 부가염들을 들 수 있다.
산화 베이스(들)은 본 발명에 따른 염료 조성물의 총 중량에 대해 바람직하게 약 0.0005 내지 12 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 6 중량 % 를 나타낸다.
본 발명에 따른 화학식 1 의 양이온성 직접 염료(들)은 바람직하게 하기 것들 중 선택된다 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2'-메틸페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
- 하기 화학식의 2-[(1,3-디아미노-6-메틸-4-페닐)아조]-3-메틸벤조티아졸리움 요오다이드 :
- 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-3-벤조티아졸리움 클로라이드 :
- 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-4-페닐-3-티아졸리움 퍼클로레이트 :
- 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아조-2-디페닐-3,4-티아졸리움 퍼클로레이트 :
- 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-3-벤조티아졸리움 클로라이드 :
- 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-4-페닐-3-티아졸리움 퍼클로레이트 :
- 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메톡시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2'-아세트아미도-4'-히드록시-5'-메틸페닐-2-아조피리딘 N 옥시드 :
- 하기 화학식의 2'-아세트아미도-4'-디메틸아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2'-아미노-4'-디메틸아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메틸페닐-2-아조메톡시-1-피리디늄 퍼클로레이트 :
- 하기 화학식의 2',5'-디메틸-4-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2'-디메틸아미노-4'-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노-2'-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
- 하기 화학식의 3',5'-디메틸-4'-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노-2'-니트로페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 8'-히드록시퀴놀린-5':2'-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2'-니트로-4'-디메틸아미노페닐-2-아조메톡시-1-피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-5-니트로피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-5-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2'-아세틸아미노페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-아미노나프탈렌-1':2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2',5'-디메틸-4-히드록시페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-아미노나프탈렌-1':2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메틸페닐-2-아조-2-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-4,6-디메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2',5'-디메틸-4'-히드록시페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-5-클로로피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노-2'-메틸페닐-2-아조-5-클로로피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-5-클로로피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7':2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7':2-아조-1-메톡시피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메틸페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 2'-메틸-5'-옥소-4'-페닐디히드로피라졸릴-2-아조-1-메톡시피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 3'-메틸-2',4',6'-트리옥시헥사히드로피리미디닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
- 하기 화학식의 4'-(N-페닐아미노)페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-(N-페닐아미노)페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-아미노페닐-2-아조-1,3-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조-1,4-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,3-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 4'-N-페닐아미노페닐-2-아조-1,6-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,5-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,6-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
- 하기 화학식의 2',4',6'-트리옥소헥사히드로피리미디닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
- 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,3-디메틸벤즈이미다졸리움 퍼클로레이트 :
및
- 하기 화학식의 2',4'-디아미노-3'-피리딘-2-아조피리딘 N-옥시드 :
본 발명에 따라 사용되는 화학식 1 의 양이온성 직접 염료(들) 은 바람직하게 염료 조성물의 총 중량에 대해 약 0.001 내지 10 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.01 내지 5 중량 % 를 나타낸다.
또한, 본 발명에 따른 염료 조성물은 특히 음영(shade)을 변형시키거나, 반짝임을 풍부하게 하기 위해, 하나 이상의 커플러 및/또는, 화학식 1 의 화합물 이외의 하나 이상의 부가의 직접 염료를 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물 중에 존재할 수 있는 커플러들 중에, 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 복소환 커플러, 및 그것들의 산 부가염을 들 수 있다.
그 커플러들은 존재할 경우, 염료 조성물의 총 중량에 대해 약 0.0001 내지 10 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 5 중량 % 를 나타낼 수 있다.
일반적으로 본 발명의 염료 조성물의 영역 내에서 사용가능한 산 부가염 (산화 베이스 및 커플러) 은 특히 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 술페이트, 타르트레이트, 락테이트 및 아세테이트로부터 선택된다.
본 발명에 따른 염료 조성물에 있어 염색에 적합한 매체 (즉, 지지체) 는 일반적으로 물 또는, 물과 하나 이상의 유기 용매의 혼합물로 구성되어, 충분히 물-가용성을 갖지 않는 화합물을 용해시킨다. 예를 들어, 유기 용매로 C1- C4알칸올, 예컨대 에탄올 및 이소프로판올을 들 수 있다.
용매는 염료 조성물의 총 중량에 대해 바람직하게 약 1 내지 40 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 30 중량 % 를 나타낸다.
본 발명의 따른 염료 조성물의 pH 는 일반적으로 약 3 내지 12, 바람직하게는 약 5 내지 12 이다. 케라틴 섬유를 염색하는데 주로 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 이용하여, pH 를 원하는 값으로 조정할 수 있다.
산성화제들 중에, 예를 들어, 유기 또는 무기산, 예컨대 염산, 오르토인산, 황산, 카르복실산, 예컨대 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 락트산, 및 술폰산을 들 수 있다.
염기성화제들 중에, 예를 들어 수성 암모니아, 알칼리성 카르보네이트, 알칸올아민, 예컨대 모노-, 디- 및 트리에탄올아민, 2-메틸-2-아미노프로판올 및 그것들의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식 5 의 화합물을 들 수 있다 :
[식 중에서, W 는 히드록실기 또는 C1- C4알킬 라디칼로 임의 치환된 프로필렌 잔기이고; R32, R33, R34및 R35는 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, C1- C4알킬 또는 C1- C4히드록시알킬 라디칼을 나타낸다].
본 발명에 따른 염료 조성물은 또한 모발을 염색하기 위한 조성물에 통상적으로 사용되는 각종 보조제를 함유할 수 있다.
말할 필요도 없이, 당 기술 분야 숙련가는 본 발명에 따른 염료 조성물과 본질적으로 관련된 유리한 성질이 상정되는 첨가(들)에 의한 역효과가 없거나, 실질적으로 없도록, 이 또는 저러한 임의적 보완 화합물을 주의해서 선택해야 한다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 각종 형태, 예컨대 액체 형태, 압력이 가해질 수 있는 크림 또는 겔 형태, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간 모발을 염색하기에 적합한 다른 임의의 형태일 수 있다.
본 발명의 목적은 또한 상기 염료 조성물을 이용한, 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발의 염색 방법을 제공하는 것이다.
본 방법에 따라, 상기 염료 조성물을 섬유에 적용하면, 염료 조성물 사용 시, 그 조성물에 첨가되거나, 동시에 또는 연속해서 적용되는 산화용 조성물에 존재하는 산화제에 의해 산성, 중성 또는 알칼리성 pH 에서 색이 발색된다.
본 발명에 따른 특히 바람직한 한 구현예에 따라, 상기 염료 조성물을 사용 시, 염색에 적합한 매체 내에 발색하기에 충분한 양으로 존재하는 하나 이상의 산화제를 함유하고 있는 산화용 조성물과 혼합한다. 이어서, 그 수득된 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하고, 그 섬유 상에서 약 3 내지 50 분, 바람직하게는 5 내지 30 분간 방치한 후, 섬유를 헹구고, 샴푸로 세척하여, 다시 헹군 후, 건조시킨다.
상기 산화용 조성물 중에 존재하는 산화제는 케라틴 섬유 염색에 통상 사용되는 산화제들에서 선택될 수 있고, 이 산화제들로는, 과산화수소, 우레아 퍼옥시드, 알칼리 금속 브로메이트, 퍼보레이트와 퍼술페이트와 같은 과염, 2-전자 옥시도리덕타아제, 퍼옥시다아제 및 락타아제와 같은 효소를 들 수 있다. 과산화수소가 특히 바람직하다.
상기 산화제를 함유하는 산화용 조성물의 pH 는 염료 조성물과 혼합된 후, 케라틴 섬유에 적용하는 수득된 조성물의 pH 가 바람직하게 약 3 내지 12, 더욱 바람직하게는 5 내지 11 이 되도록 한다. 케라틴 섬유에 주로 사용되거나, 상기 정의된 산성화제 또는 염기성화제를 이용하여 pH 를 원하는 값으로 조정한다.
상기 산화용 조성물은 또한 모발 염색용 조성물에 통상 사용되는 각종 보조제를 함유할 수 있다.
최종적으로 케라틴 섬유에 적용되는 조성물은 각종 형태, 예컨대 액체 형태, 크림 또는 겔 형태, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간 모발을 염색하기에 적합한 다른 임의의 형태일 수 있다.
본 발명의 또다른 목적은 다중-구획 염색 장치, 또는 "키트" 또는, 1차 구획은 상기 염료 조성물을 함유하고, 2차 구획은 상기 산화용 조성물을 함유하는 다른 임의의 다중-구획 팩키징 시스템을 제공하는 것이다. 이 장치들에는 예를 들어 본 출원인의 특허 FR-2,586,913 에 기재된 장치와 같이 모발 상에 원하는 혼합물을 전달하는 수단이 장착되어 있을 수 있다.
하기 실시예들은 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 그 영역을 한정하지 않는다.
염색 실시예 1 내지 4
본 발명에 따른 하기 염료 조성물을 제조한다 (g 함량)
실시예 1 2 3 4
4'-디메틸아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 (화학식 1 의 화합물) 0.5 - 4.0 -
4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,3-디메틸피리디늄 메토술페이트 (화학식 1 의 화합물) - 0.5 - 4.0
파라-페닐렌디아민 (산화 베이스) 0.324 0.324 0.324 0.324
5-아미노-2-메틸페놀 (커플러) 0.369 - 0.369 -
메타-아미노페놀 (커플러) - 0.327 - 0.327
일반 염료 지지체 (*) (*) (*) (*)
탈미네랄수 qs 100 g 100 g 100 g 100 g
(*) : 일반 염료 지지체 :
- 2 mol 의 글리세롤로 폴리글리세롤화된 올레일 알코올 4.0 g
- 78 % 의 활성 물질(A.M.)을 함유하는, 4 mol 의 글리세롤로 폴리글리세롤화된 올레일 알콜 5.69 g A.M.
- 올레산 3.0 g
- Akzo 사가 상표명 Ethomeen 012 로 시판하는, 2 mol 의 에틸렌 옥시드를 함유하는 올레일아민 7.0 g
- 55 % 의 A.M.을 함유하는 소듐염, 디에틸아미노프로필 라우릴아미노숙시나메이트 3.0 g A.M.
- 올레일 알콜 5.0 g
- 올레산 디에탄올아민 12.0 g
- 프로필렌 글리콜 3.5 g
- 에틸 알콜 16.5 g
- 35 % 의 A.M.을 함유하는 수성 용액의 소듐 메타비술파이트 0.455 g A.M.
- 암모늄 아세테이트 0.8 g
- 항산화제, 금속이온봉쇄제 q.s.
- 방향제, 보존제 q.s.
- 20 % 의 NH3를 함유하는 수성 암모니아 10.0 g
상기 각 염료 조성물을, 사용 시, 약 3 의 pH 를 갖는 동 중량의 20-부피 과산화수소 (6 중량 %) 와 혼합한다.
수득된 각 혼합물은 약 10 ± 0.2 의 pH 를 가지고, 90 % 가 퍼머넌트 웨이브 형태인 백색 모발을 갖는 회색 모발의 머리단(lock)에 30 분간 적용한다.
이어서, 머리단을 물로 헹구고, 표준 샴푸로 세척하며, 다시 헹군 후, 건조시킨다.
모발을 하기 표에서와 같은 음영에서 염색한다 :
실시예 수득된 음영
1 강한 적색
2 강한 자주색
3 강한 적색
4 강한 자주색
본 발명은 염색에 적합한 매체 내에, 하나 이상의 산화 베이스 및, 직접 염료로서 하나 이상의 특정 양이온성 염료를 함유하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 산화 염료 조성물, 및 이 조성물을 이용한 염색 방법을 제공하며, 상기 염료 조성물은 잔존력이 우수함과 동시에 윤기가 많이 나는 착색 효과를 가져온다.

Claims (27)

  1. 염색에 적합한 매체 내에 하기의 것들을 함유함을 특징으로 하는, 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물 :
    - 하나 이상의 산화 베이스,
    - 하나 이상의 하기 화학식 1 의 양이온성 직접 염료 :
    [화학식 1]
    [식 중에서,
    A 는 하기 구조체 A1 내지 A3 로부터 선택되는 기를 나타내고 :
    (식 중, 구조체 A1 내지 A3 에서,
    - R1은 C1- C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼 또는, C1- C4알킬 라디칼이나 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
    - R2는 C1- C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내며;
    - R3및 R4는 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, C1- C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, 둘이 함께 하나 이상의 C1- C4알킬, C1- C4알콕시 또는 니트로 라디칼로 치환된 벤젠 고리를 형성하며; 또한 R3는 수소 원자를 나타낼 수도 있고;
    - R5및 R6은 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, C1- C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, 둘이 함께 하나 이상의 C1- C4알킬, C1- C4알콕시 또는 니트로 라디칼로 치환되거나, 비치환된 벤젠 고리를 형성하며; R5는 수소 원자일 수도 있고;
    - R7및 R8은 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자, C1- C4알킬 또는 C1- C4알콕시 라디칼 또는 니트로 라디칼을 나타내고;
    - Z 는 산소 또는 황 원자 또는 기 NR2(식 중에, R2는 상기 의미와 동일할 수 있다) 를 나타내며;
    - 고리원 L 은 기 -CH, -CR 또는 -N+R9(X-)r을 나타내고;
    - 고리원 M 은 기 -CH, -CR 또는 -N+R9(X-)r을 나타내며;
    - r 은 0 또는 1 의 정수이고;
    - R 은 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고;
    - R9는 원자 O-또는 C1- C4알킬 또는 C1- C4알콕시 라디칼을 나타내고;
    - X-는 음이온을 나타내며; 또한 하기와 같이 간주하고 :
    - 화학식 A3 의 기에서, 하나 이상의 고리원 L 및 M 은 기 -N+R9(X-)r을 나타내고;
    - R6이 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고, Z 가 황 원자를 나타낼 경우, R5가 C1- C4알킬 라디칼 이외의 것이며;
    - R6이 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고, Z 가 황 원자를 나타낼 경우, 또한 라디칼 R10및 R11중 하나가 수소 원자를 나타낼 경우, R5은 수소 원자 이외의 것이며;
    - R9가 O-일 경우, r 이 0 이고;
    - L 또는 M 이 라디칼 -N+R9(X-)r(식 중에, R9이 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고, r = 1 인 경우, 라디칼 R8및 R9중 하나 이상이 수소 원자 이외의 것이며;
    - L 이 라디칼 -N+R9(X-)r을 나타낼 경우, M 이 기 -CH 또는 -CR 을 나타내고;
    - M 이 라디칼 -N+R9(X-)r을 나타낼 경우, L 은 기 -CH 또는 -CR 을 나타내고;
    - Z 가 기 NR2(식 중에, R2은 C1- C4알킬 라디칼임) 일 경우, 라디칼 R1, R5및 R6중 하나 이상이 C1- C4알킬 라디칼 이외의 것이며;
    - Z 가 황 원자를 나타내고, R1이 C1- C4알킬 라디칼을 나타낼 경우, 또는 라디칼 R10및 R11중 하나가 수소 원자를 나타낼 경우, R5및 R6은 둘이 함께 비치환 벤젠 고리를 형성할 수 없다); 또한,
    B 는 하기 (a) 및 (b) 중 어느 하나를 나타낸다 :
    (a) 하기 구조체 B1 의 기 :
    (식 중, 구조체 B1 에서,
    - R10은 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자, C1- C4알킬, C1- C4알콕시 또는 히드록시 라디칼, 기 -NHR13, -NR14R15, -NHCO(C1- C4)알킬 또는 니트로를 나타내거나, R11과 함께 5- 또는 6-원 탄소 고리 또는, 질소, 산소 및 황에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고;
    - R11은 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자, C1- C4알킬 또는 C1- C4알콕시 라디칼을 나타내거나, R12또는 R13과 함께 5- 또는 6-원 탄소 고리 또는, 질소, 산소 및 황에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고;
    - R12는 수소 원자, 히드록실 라디칼, 라디칼 -NHR13또는 라디칼 -NR14R15를 나타내며;
    - R13은 수소 원자, C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬, C2- C4폴리히드록시알킬 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
    - R14및 R15은 상호 동일하거나 상이할 수 있고, C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬 또는 C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다); 또는,
    (b) 5- 또는 6-원 질소 복소환기, 산소 및 황으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 5- 또는 6-원 질소 복소환기 및/또는 하나 이상의 카르보닐기 (여기에서, 상기 복소환은 하나 이상의 C1- C4알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있다)].
  2. 제 1 항에 있어서, 음이온 X_가 클로라이드, 메틸 술페이트, 에틸 술페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 5- 또는 6-원 질소성 복소환기가 하기 구조체 B2 의 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [식 중, 구조체 B2 에서 :
    - R16및 R17은 상호 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, C1- C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
    - Y 는 하기 기를 나타내며 :
    - n 은 0 또는 1 의 정수이다].
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 산화 베이스(들)이 파라-페닐렌디아민, 이중 베이스, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 복소환 산화 베이스들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 4 항에 있어서, 파라-페닐렌디아민이 하기 화학식 2 의 화합물 및 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [화학식 2]
    [식 중에서,
    - R18은 수소 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼, (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬 라디칼, 질소성기로 치환된 C1- C4알킬 라디칼, 페닐기 또는 4'-아미노-페닐기를 나타내고;
    - R19는 수소 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼, (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬 라디칼 또는 질소성기로 치환된 C1- C4알킬 라디칼을 나타내며;
    - R20는 수소 원자, 염소, 브롬, 요오드 또는 불소 원자와 같은 할로겐 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C1- C4히드록시 라디칼, 아세틸아미노 (C1- C4)알콕시 라디칼, C1- C4메실아미노알콕시 라디칼 또는 카르바모일아미노 (C1- C4)알콕시 라디칼을 나타내고;
    - R21은 수소 또는 할로겐 원자 또는 C1- C4알킬 라디칼을 나타낸다].
  6. 제 5 항에 있어서, 화학식 2 의 파라-페닐렌디아민이 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-비스(β-히드록시에틸)-2-메틸아닐린, 4-아미노-2-클로로-N,N-비스(β-히드록시에틸)아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루우로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-(에틸-β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민 및 N-(β-메톡시에틸)-파라-페닐렌디아민 및, 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 4 항에 있어서, 이중 베이스가 하기 화학식 3 의 화합물 및 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [화학식 3]
    [식 중에서,
    - Z1및 Z2은 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, C1- C4알킬 라디칼 또는 링커 팔 G 로 치환될 있는 -NH2또는 히드록실 라디칼을 나타내고;
    - 링커 팔 G 는 탄소수 1 내지 14 의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌 사슬을 나타내고, 이는 하나 이상의 질소성기 및/또는 하나 이상의 헤테로 원자, 예컨대 산소, 황 또는 질소 원자에 의해 중간 삽입되거나, 말단 종결될 수 있으며, 하나 이상의 히드록실 또는 C1- C6알콕시 라디칼로 임의 치환될 수 있고;
    - R22및 R23은 수소 또는 할로겐 원자, C1- C4알킬 라디칼, C1- C4모노히드록시알킬 라디칼, C2- C4폴리히드록시알킬 라디칼, C1- C4아미노알킬 라디칼 또는 링커 팔 G 를 나타내며;
    - R24, R25, R26, R27, R28및 R29는 상호 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자, 링커 팔 G 또는 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고; 또한,
    이 화학식 3 의 화합물은 분자 당, 오직 하나의 링커 팔 G 를 함유하는 것으로 간주한다].
  8. 제 7 항에 있어서, 화학식 3 의 이중 베이스가 N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)-테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'- 비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,5-디옥사옥탄 및 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 4 항에 있어서, 파라-아미노페놀이 하기 화학식 4 의 화합물 및 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [화학식 4]
    [식 중에서,
    - R30는 수소 원자 또는 할로겐 원자, 또는 C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬, (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬, C1- C4아미노알킬 또는 히드록시(C1- C4)알킬아미노(C1- C4)알킬 라디칼을 나타내고;
    - R31은 수소 원자 또는 할로겐 원자, 또는 C1- C4알킬, C1- C4모노히드록시알킬, C2- C4폴리히드록시알킬, C1- C4아미노알킬, C1- C4시아노알킬 또는 (C1- C4)알콕시(C1- C4)알킬 라디칼을 나타내며;
    R30또는 R31라디칼 중 하나 이상이 수소 원자를 나타내는 것으로 이해된다].
  10. 제 9 항에 있어서, 화학식 4 의 파라-아미노페놀이 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀 및 4-아미노-2-플루오로페놀 및 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 4 항에 있어서, 오르토-아미노페놀이 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀 및, 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 4 항에 있어서, 복소환 산화 베이스가 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체, 및 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 산화 베이스(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0005 내지 12 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 산화 베이스(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 6 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 1 의 양이온성 직접 염료(들) 이 하기의 것들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2'-메틸페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
    - 하기 화학식의 2-[(1,3-디아미노-6-메틸-4-페닐)아조]-3-메틸벤조티아졸리움 요오다이드 :
    - 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-3-벤조티아졸리움 클로라이드 :
    - 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-4-페닐-3-티아졸리움 퍼클로레이트 :
    - 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아조-2-디페닐-3,4-티아졸리움 퍼클로레이트 :
    - 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-3-벤조티아졸리움 클로라이드 :
    - 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7'-아자-2-메틸-4-페닐-3-티아졸리움 퍼클로레이트 :
    - 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메톡시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2'-아세트아미도-4'-히드록시-5'-메틸페닐-2-아조피리딘 N 옥시드 :
    - 하기 화학식의 2'-아세트아미도-4'-디메틸아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2'-아미노-4'-디메틸아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메틸페닐-2-아조메톡시-1-피리디늄 퍼클로레이트 :
    - 하기 화학식의 2',5'-디메틸-4-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2'-디메틸아미노-4'-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노-2'-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
    - 하기 화학식의 3',5'-디메틸-4'-히드록시페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노-2'-니트로페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 8'-히드록시퀴놀린-5':2'-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2'-니트로-4'-디메틸아미노페닐-2-아조메톡시-1-피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-5-니트로피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-5-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2'-아세틸아미노페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-아미노나프탈렌-1':2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2',5'-디메틸-4-히드록시페닐-2-아조-6-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-아미노나프탈렌-1':2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메틸페닐-2-아조-2-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-4,6-디메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2',5'-디메틸-4'-히드록시페닐-2-아조-4-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-5-클로로피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노-2'-메틸페닐-2-아조-5-클로로피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디에틸아미노페닐-2-아조-5-클로로피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7':2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 6'-히드록시벤조모르폴린-7':2-아조-1-메톡시피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 2',4'-디아미노-5'-메틸페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 2'-메틸-5'-옥소-4'-페닐디히드로피라졸릴-2-아조-1-메톡시피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 3'-메틸-2',4',6'-트리옥시헥사히드로피리미디닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조피리딘 N-옥시드:
    - 하기 화학식의 4'-(N-페닐아미노)페닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-(N-페닐아미노)페닐-2-아조-3-메틸피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-아미노페닐-2-아조-1,3-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 4'-디(β-히드록시에틸)아미노페닐-2-아조-1,4-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,3-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 4'-N-페닐아미노페닐-2-아조-1,6-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,5-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,6-디메틸피리디늄 메토술페이트 :
    - 하기 화학식의 2',4',6'-트리옥소헥사히드로피리미디닐-2-아조피리딘 N-옥시드 :
    - 하기 화학식의 4'-디메틸아미노페닐-2-아조-1,3-디메틸벤즈이미다졸리움 퍼클로레이트 :
    및
    - 하기 화학식의 2',4'-디아미노-3'-피리딘-2-아조피리딘 N-옥시드 :
  16. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 1 의 양이온성 직접 염료(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.001 내지 10 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 16 항에 있어서, 화학식 1 의 양이온성 직접 염료(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.01 내지 5 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 하나 이상의 커플러, 및/또는 제 1 항에 따른 화학식 1 의 양이온성 직접 염료 이외의 하나 이상의 부가의 직접 염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 18 항에 있어서, 커플러가 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 복소환 커플러, 및 그것들의 산 부가염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 18 항에 있어서, 커플러(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0001 내지 10 중량 % 를 나타냄을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 20 항에 있어서, 커플러(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 5 중량 % 를 나타냄을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 산 부가염이 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 술페이트, 타르트레이트, 락테이트 및 아세테이트로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에서 정의된 하나 이상의 염료 조성물을 상기 섬유에 적용하는 것과, 사용 시 염료 조성물에 첨가되거나, 동시 또는 연속적으로 적용되는 산화용 조성물에 존재하는 산화제에 의해 산성, 중성 또는 알칼리성 pH 에서 색이 발색되는 것을 특징으로 하는, 케라틴 섬유의 염색 방법.
  24. 제 23 항에 있어서, 산화용 조성물에 존재하는 산화제가 과산화수소, 우레아 퍼옥시드, 알칼리 금속 브로메이트, 퍼보레이트, 퍼클로레이트 및 퍼술페이트와 같은 과염, 과산 및 효소로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  25. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에서 정의된 염료 조성물을 함유하는 1차 구획, 및 산화제를 함유하는 2차 구획으로 이루어진, 다중-구획 염색 장치 또는 다중-구획 염색 키트(kit).
  26. 제 1 항에 있어서, 케라틴 섬유가 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유인 것을 특징으로 하는 조성물.
  27. 제 23 항에 있어서, 케라틴 섬유가 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유인 것을 특징으로 하는 염색 방법.
KR1019990018225A 1998-05-26 1999-05-20 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물 및 그 조성물을 이용한 염색 방법 KR100323640B1 (ko)

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FR9806604A FR2779054B1 (fr) 1998-05-26 1998-05-26 Composition de teinture d'oxydation des fibres keratiniques et procede de teinture mettant en oeuvre cette composition
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