KR19990087058A - 챔버에 가스를 공급하는 방법과 그 챔버내 분위기에서 주어진성분의 함량을 조절하는 방법 - Google Patents

챔버에 가스를 공급하는 방법과 그 챔버내 분위기에서 주어진성분의 함량을 조절하는 방법 Download PDF

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마르끄 레뛰르미
프레데릭 뾰제르
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쉬에르 피에르
레르 리뀌드, 소시에떼 아노님 뿌르 레뛰드 에 렉스쁠로와따시옹 데 프로세데 죠르쥬 끌로드
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Abstract

본 발명은 상류측이 가스원(5)에 연결된 하나 이상의 제1 라인(1, 9, 10)과 제1 라인에 연결된 두 개 이상의 제2 라인(1i, 9i, 10i)을 구비하는 공급 네트워크에 의해 유체 공급되는 챔버(3, 12)에 가스를 공급하기 위한 방법에 관한 것이다. 방법은 챔버의 하나 이상의 지점에서 챔버내 분위기의 주어진 성분의 함량을 측정하는 단계와, 측정된 함량을 상기 지점에서 챔버내 분위기의 상기 성분의 함량에 대한 하나 이상의 선정된 기준값과 비교하는 단계와, 필요시 이 비교의 결과에 따라 네트워크의 한 지점(Ai)에서의 가스 압력을 변화시키는 단계로 이루어진 것이 특징이다.

Description

챔버에 가스를 공급하는 방법과 그 챔버내 분위기에서 주어진 성분의 함량을 조절하는 방법.
본 발명은
­ 챔버내 분위기의 주어진 성분의 함량을 조절하는 방법과,
­ 이러한 조절 방법을 실행하여 챔버에 가스를 공급하는 공정과,
­ 열처리 오븐 또는 솔더링 오븐이나, 전자 요소를 솔더링/주석 도금하기 위한 다른 오븐 또는 기계나, 아니면 식료품의 포장 또는 냉각용 챔버의 경우에 대해 위의 방법 및 공정을 적용하는 용도에 관한 것이다.
예시적인 실례로서, 그러한 "터널" 또는 "챔버"는 예컨대 열처리 오븐, 솔더링 오븐, 회로상의 전자 요소의 리플로 솔더링(reflow soldering)용 오븐, 아니면 전자 요소의 웨이브 솔더링/주석 도금용 기계로 이루어질 수 있으며, 이것은 이들 기계가 전체 길이에 걸쳐 완전히 밀봉되어 있는 터널로서 설계되었거나, 또는 이들 기계가 예컨대 예열 구역을 둘러싸기 위해 솔더링 배스(bath) 위로 연장되거나 또는 솔더링 배스 크기를 넘거나 다소 못미치는 정도로 연장하는 차폐 시스템이 마련되어 있는 가의 여부와 무관하다.
그러한 장치의 사용자들은 보통 두가지 문제 영역에 직면한다:
1) 적용된 분위기의 불안정성
사용자가 이들 챔버내에 적용된 질소계 분위기의 잔류 산소 함량을 안정화시키려고 하는 용례의 보급된 실례를 여기에서 언급할 수 있다.
물론, 적용된 분위기를 안정화시키는 이 문제 영역은 해당 챔버내에서 처리될 요소 또는 생성물의 품질을 그대로의 품질로서 재현시키고자 하는 사용자의 욕구와 밀접하게 관련되어 있다.
또한, 실례로서, 예컨대 챔버내에서 처리되는 성분의 품질의 변화는, 불활성계 분위기인 경우에는, 분위기의 산화능(즉, 이 분위기내의 잔류 산소 또는 다른 산화 가스의 수준), 아니면 적용된 분위기내에서 관찰된 불안정성에 기인하여, 챔버내에 적용된 열전달의 불안전성에 관계되는데, 이때 이것이 조성에 대한 불안정성인지 또는 가스 유량에 대한 불안정성인지는 무관하다.
분위기내에서 관찰된 불안정성은 더 일반적으로는 챔버의 생산율 또는 오븐 주위의 외부 조건, 예컨대 통풍성에 관계된다.
이러한 제1 문제 영역에 있어서, 회로상에서 전자 요소를 리플로 솔더링하기 위한 오븐, 소위 "대류형" 오븐의 경우를 언급할 수 있으며, 이 오븐은 대류형임에 따라 기본적으로 대류형 모드로서 상기 전자 요소를 솔더링하는데 필요한 열 전달을 실행함으로써 오븐의 각각의 구역내에 매우 큰 용적의 가스를 순환시키게 된다.
실제로 그러한 대류형 오븐의 적어도 일부 구역(특히, 고온 구역)은 가스 재순환(리사이클링) 시스템으로서 작용하는 것이 공지되어 있다. 이들 재순환 구역에서, 연관된 가스 손실을 보상하기 위해 "비교적 낮은" 용적만이 구체적으로는 오븐의 추출구 또는 입구/출구를 통해 규칙적으로 첨가된다.
따라서, 이들 대류형 리플로 오븐은 한편으로 가스 소모가 심할 뿐만 아니라 다른 한편으로 이들 오븐 조절시 사용자가 커다른 어려움에 직면하는 것을 특징으로 하며, 오븐의 특정 구역에서의 가스 유동의 변화는 오븐내의 가스 이동의 분배 평형에 영향을 미치며(난류) 또 기존의 열적 분포(heat profile)에 상당한 영향을 준다(따라서, 생성되는 성분의 품질에도 필연적으로 영향을 미침).
이 주제에 대한 출원인의 연구를 통해, 실제로 이들 오븐은 정확한 작동으로써 후속 작업 조건의 전형이 되기 위해서는 생성 단계에서 조정이 이루어져야 하는 것을 알게 되었다. 따라서, 그러한 오븐 또는 오븐의 소정 구역에 선택적으로 공급되는 유량을 수동으로 변경함으로써, 한 구역씩 수동 재조정을 요하는 오븐의 다른 구역내의 유량을 상당히 변화시킬 필요가 있다.
이러한 조건들을 설명하기 위해, 따라서 전체적으로 50 Nm3/h의 유량의 질소가 공급되는 그러한 대류형 오븐의 조정을 예로 들 것이며, 이 조정은 예컨대 장치의 상류측(오븐의 모든 구역과 통하는 라인 세트의 상류)에 존재하는 질량 유량 조절기를 사용하여 매우 정밀하고 안정된 방식으로 실행된다. 조절 단계에서 구역 중 하나의 유량을 예컨대 20 Nm3/h에서 5 Nm3/h로 떨어뜨리는 것이 필요한 경우, 조절기는 50 Nm3/h의 전체 유량을 오븐에 계속 공급함으로써 모든 다른 라인에 걸쳐 15 Nm3/h의 초과량을 분배할 것이다. 따라서, 다른 구역내의 유량은 교정 불가능하게 변경됨으로써 그 구역 내부에서 발생하는 열전달을 변경하며, 그에 따라 생성된 성분의 전체 품질이 변경되는 것을 발견하였다(오븐은 반드시 생성 도중, 즉 "라이브(live)"한 상태에서 조정됨이 상기될 것이다).
2) 가스의 절약
따라서, 언급된 몇 가지 장치는 매우 많은 양의 가스를 소비하며, 그에 따라 사용자들은 항상 챔버내에 적용된 유량을 감소시키려고 즉, 적용된 가스 유량과 생성된 성분의 품질간을 적절히 조화시키려고 열중하고 있다.
가스 소비를 그와 같이 절약하기 위해 일반적으로 적용된 접근 방법 중에는 (예컨대 생산 중단을 처리하기 위해) 성분의 생성률에 의존하여, 사용되는 가스 유량을 감소시키는 방법이나, 사용된 분위기의 조성물, 예컨대 이 챔버내에 처리되는 요소의 특성(예컨대, 처리되는 금속의 산화도의 수준)에 의존하는 챔버내 분위기에서 허용되는 잔류 산소 함량을 최적화하는 방법 등이 있다.
제어된 산소 함량을 갖는 질소계 분위기의 예를 고려하면, 이들 문제를 해결하는 기존의 접근 방법 중 하나는 "유량 조절 분위기 제어" 방법이라고 말할 수 있다.
이 접근 방법에 따르면, 주어진 산소 순도에서 특정한 조정 과정(챔버내로의 가스 분사 유량 및 분배) 및 질소가 선택적으로 공급되는 과정이 적용되며, 이들 과정은 챔버 작동시에 변화 또는 교란이 효과적으로 존재하도록 충분히 제한됨으로써, 이 챔버내의 분위기중에 최대 허용 가능한 잔류 산소 함량이 초과되도록 할 수 있다.
이때, 선택된 가스 공급원은 조절 시스템과 연계하여 이루어지며, 이 조절 시스템은 챔버내의 분위기중 측정된 잔류 산소의 함량이 전술한 바의 변동 및 교란에 기인하여 주어진 한계치를 초과하는 경우에, 상기 잔류 산소의 함량이 상기 한계치 미만으로 복귀된 경우에만 챔버내의 가스 유량이 감소되도록 챔버내의 전체 가스 유량을 증가시킬 수 있게 한다.
확실히, 이러한 접근 방법은 사용된 가스 공급원의 순도와 챔버내의 실제적인 작업의 실제 조건에 적용된 유량에 적합화될 수 있지만, 결국 비교적 높은 전체 가스 소비를 유도할 수 있다. 전술한 바와 같이 본 출원인은 실제 대류형 리플로 솔더링 오븐 등의 일부 장치는 유량의 관점에서 조정하기가 매우 어려우며, 예컨대 솔더링 작업과 같은 경우의 통상의 리플로 피크의 키 존(key zone)과 같은 오븐의 일정 구역에 적용된 유량의 변화에 따라 오븐의 다른 구역내에 상당한 변화가 야기되며, 그에 따라 전체적으로 공정 자체내의 불안정성 현상이 야기되는 것도 역시 알게 되었으며,
­ 유량 변화는 일방 교란의 원인으로서, 공기가 챔버로 유입되는 것(가스 이동에 있어서의 평형의 변경)을 촉진하며 그에 따라 이 챔버내 분위기의 질적 저하를 촉진하며,
­ 전술한 바와 같이, 챔버 내부에서는 대류형 열 전달의 변화가 발생하며, 그에 따라 이 챔버를 빠져나갈 때, 솔더링된 제품의 품질의 변화가 얻어진다.
본 발명은 예컨대 열처리 작업, 솔더링 작업, 식료품 포장 작업 또는 냉각 가스를 사용하는 냉각 작업 등의 소정 분위기하의 작업을 실행하기 위해 가스가 공급되는 터널 또는 챔버 분야에 관한 것이다.
본 발명의 다른 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조로 하여 비한정적인 실례로서 주어지는, 다음에 기술된 실시예로부터 명백해질 것이다.
­ 도 1은 챔버의 네 개의 구역에 가스가 공급될 수 있도록, 네 개의 각개 제2 라인이 연결된 단일의 제1 라인에 의해 공급되는 챔버를 포함하는 장치를 개략적으로 도시하며,
­ 도 2는 가스 공급원에서 나오는 이송 파이프를 통해 상류측 접속부에서 가스 공급되는 두 개의 제1 라인을 갖춘 네트워크를 통해 가스가 공급되는 웨이브 솔더링 기계를 포함하며, 네 개의 제2 라인은 첫 번째 제1 라인에 연결되어 있으며, 한편 여섯 개의 제2 라인은 네트워크의 두 번째 제2 라인에 연결되어 있는 장치를 개략적으로 도시하고;
­ 도 3은 본 발명에 따른 네트워크내의 한 지점에서의 압력 변화를 가능하게 하는 시스템을 개략적으로 도시하며;
­ 도 4는 본 발명에 따른 네트워크내의 한 지점에서의 압력 변화를 가능하게 하는 또 하나의 시스템을 개략적으로 도시하고 있다.
본 발명은 가스를 챔버에 공급하기 위한 공정과, 이 챔버내의 분위기의 주어진 성분의 함량을 조절하는 방법을 제공함으로써, 전술한 다양한 기술적 문제를 개선하기 위한 것이다.
상류측이 가스 공급원에 연결되고, 이송 파이프를 통해 가스가 자체 공급되는 상류측 접속부(node)로부터 이어지는 하나 이상의 제1 라인과, 상류측이 제1 라인에 연결되고 하류측이 챔버내에 출현되는 (상기 제1 라인의) 두 개 이상의 각개 제2 라인을 포함하는 공급 네트워크를 통해 유체 공급되는 그러한 챔버내의 분위기의 성분의 함량을 조절하는 본 발명에 따른 방법은,
a) 챔버내의 분위기의 주어진 성분의 함량을 챔버내의 한 곳 이상의 지점에서 측정하는 단계와,
b) 상기 측정된 함량을 상기 지점에서 챔버내 분위기의 상기 성분의 함량에 대한 하나 이상의 선정된 제어값과 비교하는 단계와,
c) 상기 비교 단계의 결과에 따라, 필요한 경우, 바람직하게는 i) 제1 라인 또는 제1 라인들 중 한 라인상의, 관련 제1 라인과 첫 번째 각개 제2 라인의 접속점의 상류 위치와, j) 제1 라인 또는 제1 라인들 중 한 라인상의, 관련 제1 라인과 두 개의 제2 라인의 2개의 접속점 사이의 위치와, k) 상류측 접속부의 이송 파이프상의 위치들 중 한 지점에서의 가스 압력을 변화시키는 단계를 거쳐 실행되는 것을 특징으로 한다.
그에 따라, 전술한 내용을 읽어본 당업자에게는 명백하겠지만, 본 발명에 따른 조절 방법에 의해, 전체 또는 일부 챔버에 공급되는 가스의 유동을 압력을 통해 선택적으로 제어할 수 있으며, 또 네트워크의 관련 부분에 야기된 압력 (및 그에 따른 유량) 변화는 엄밀하게는 네트워크의 잔여부 및 그에 따른 챔버의 잔여부로 까지 영향을 미치지 않는다.
본 발명의 제1 실시예에 따라, 네트워크내의 선택된 지점에서의 압력을 변화시키는 단계 c)는
c1) 적절하게 제어된 솔레노이드 밸브를 네트워크내의 관련 지점에 배치하는 단계와,
c2) 이 지점 부근의 가스의 압력을 솔레노이드 밸브의 하류에서 측정하는 단계와,
c3) 단계 a) 동안에 얻어진 주어진 성분 함량의 측정치를, 상기 함량 측정치 및 단계 b) 동안에 얻어진 비교 결과에 따라 압력 제어값 Cp를 발생시킬 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 전송하는 단계와,
c4) 단계 c2)의 압력 측정치와 제어값 Cp를 비교하고, 그에 따라 필요한 경우 상기 압력을 제어값 Cp의 수준으로 복귀시키기 위해, 솔레노이드 밸브를 개방시킬 수 있는 양을 적절하게 변경할 수 있는 수단으로 상기 압력 제어값 Cp를 전송하는 단계
를 거쳐 실행된다.
예컨대, 데이터 획득 및 프로세싱 유닛으로서 전형적으로는 레귤레이터와 같은 (인공 지능의 관점에서) 매우 정교한 시스템과, 비례 솔레노이드 밸브에 작용하는 수단으로서 전자 카드를 사용하는 실시예 등을 적용할 수 있으며, 데이터의 "이전(transfer)"(예컨대 함량 측정의 이전) 및 "전송(transmission)"과 본 발명에 따른 시스템의 다양한 수단 사이의 피드백 작업은 4∼20 mA 신호의 이전, 0∼10 V 신호의 이전, 컴퓨터 논리 신호의 이전 등과 같이 당업자에 공지인 모든 수단에 의해 발생한다.
당업계자에게는 매우 자명하겠지만, 획득 유닛 및 솔레노이드 밸브에 작용하는 수단도 역시 단일체(entity)로 통합될 수 있다.
압력 제어값 Cp를 발생시킬 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛은 이미 밝혀진 바의 수학적 알고리즘에 따라 그와 같이 작동하며, 이 수학적 알고리즘은 특히 해당 챔버의 유형, 챔버 내부에서 실행되는 작업의 형태, 처리될 생성 방식 및 조작되어지는 분위기의 조성에 따라 다뤄지는 상황에 적용될 수 있다.
예시만을 위한 경우로써, 그러한 알고리즘은 해당 경우에 따라, PID, 한계형 로직(logic), 또는 퍼지 로직과 같은 다른 방식의 로직을 기초로 할 수 있다.
이어서, 유닛에 의해 재형성되는 새로운 압력 제어 밸브에 의해, 챔버내의 분위기의 성분의 정해진 함량을 바람직한 함량 제어 밸브의 수준으로 복구시키는 것이 가능해진다.
전자 카드는 한편으로는 압력 측정치와, 다른 한편으로는 레귤레이터에 의해 변경된 압력 제어값을 수용하면, 적절한 (예컨대 PID 유형의) 로직을 다시 사용하여, 솔레노이드 밸브의 하류에 요구되는 압력 수준을 복구하기 위해 솔레노이드 밸브가 개방되는 양을 변경하는 것이 가능하다.
따라서, 이러한 제1 실시예는 관련 성분의 함량이 오븐에 대한 공급 압력에 작용함으로써 조절되는 사실 때문에 챔버의 작동이 "압력 조절"되는 모드라고 말할 수 있다.
본 발명의 또 하나의 실시예에 따라, 네트워크내의 관련 지점에서의 압력을 변화시키는 단계 c)는 다음의 단계를 따른 방식으로 수행된다.
c1) 관련 지점이 배치된, 제1 라인이거나 이송 파이프인, 네트워크의 라인은 압력이 변화되는 네트워크내의 관련 지점에서 세 개 이상의 바이패스 라인으로 분할되며, 각각의 이들 바이패스 라인에는 솔레노이드 밸브와 이 솔레노이드 밸브 하류에 배치된 감압(減壓) 밸브가 장착되고, 각각의 바이패스 라인의 하류 단부는 네트워크의 관련 라인에 다시 연결되는 단계,
c2) 각각의 세 개의 감압 밸브를 선정된 압력 수준으로 미리 설정하는 단계,
c3) 단계 a) 동안에 얻은 주어진 성분의 함량의 측정치를, 측정된 함량 및 단계 b) 동안에 구한 비교 결과에 따라, 솔레노이드 밸브 중 하나를 선택적으로 개방할 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 전송함으로써, 솔레노이드 밸브가 개방된 바이패스 라인에만 가스를 통과시키는 단계.
각각의 라인내의 "선정된" 압력 수준은 실제 작업 조건하에서 실험적으로 결정되는 것이 좋다.
데이터 획득 및 프로세싱 유닛은 이 경우에도 역시, 이 유닛이 예컨대 프로그램 가능한 컨트롤러나, (건식 접촉을 시동하는) 다중 한계 릴레이, 아니면 PC 유형의 컴퓨터이던 간에 다소 고도한 시스템으로 이루질 수 있다.
본 발명에 따른 데이터의 "이전" 또는 "전송"이나, 다른 피드백 작업에 관해 전술한 설명도 역시 본 발명의 이러한 제2 실시에에 적용된다.
전술한 것을 읽을 때 제2 실시예에 의해 세 개의 선정된 불연속 수준에 따라 네트워크의 전체 또는 일부에 걸쳐 가스 공급압을 매우 유리하게 변화시키는 것이 가능해지는 것을 생각할 수 있다. 따라서, 본 발명의 이러한 실시예는 "다중 한계 수준 조절"(즉, 선정된 한계치에 따라 오븐용의 공급 압력에 작용함으로써 해당 성분의 함량을 조절하는 것)이라고 말할 수 있다.
이 실시예에 따라, 솔레노이드 밸브가 "정상 상태로 개방된" 또는 "정상 상태로 폐쇄된" 위치에 있는지는 중요하지 않은 문제일 수 있으며, 유닛은 선택된 라인을 작동시키기 위해 (그에 따라 켜기 위해) 선택된 형상에 적용된다. 따라서, 실례로서, "정상 상태로 폐쇄된" 밸브의 경우에, 유닛에 의해 송신된 신호는 이러한 정확한 순간에 켜지는 것이 바람직한 라인의 솔레노이드 밸브를 개방하고 미리 사용된 채널을 폐쇄될 수 있게 할 것이며, 물론, 제3 라인의 솔레노이드 밸브는 "정상 상태로 폐쇄"되었으므로 작동하지 않는다.
실례로서,
­ 제1 바이패스 라인에서, 감압 밸브 하류의 가스 공급 유량으로서 "대기(standby)" 유량 Qs에 해당하는 미리 설정된 감압 밸브의 제1 압력 수준 Ps와,
­ 제2 바이패스 라인에서, 감압 밸브 하류의 가스 유량으로서 "생성" 유량 Qprod에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 압력 수준 Pprod와,
­ 제3 바이패스 라인에서, 감압 밸브 하류의 가스 공급 유량으로서 "충전" 유량(또는 "터보(turbo)" 유량) Qfill에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 압력 Pfill를 포함하는 압력 수준을 적용하는 것이 가능할 것이다.
세 가지 유량의 각 위치는 Qs< Qprod< Qfill이다.
이어서, 그러한 조절 방법을 사용하여, (예컨대 열처리 오븐이나 전자 요소의 솔더링/주석 도금용의 오븐 또는 기계이건 간에) 챔버를 시동할 때, 챔버에 가스가 공급되고, "충전" 공급 라인이 작동하고 있는 (따라서 다른 바이패스 라인은 폐쇄되어 있는) 동안 먼저 충전 단계를 실행하는 방식으로 챔버에 공급한다.
이러한 챔버를 충전하는 제1 단계는, 예컨대, 해당 용례에 따라 몇 분에서 몇 십분으로 변경할 수 있는 선정된 시간 tfill에 대해 유지된다.
이러한 제1 충전 단계 동안에는, 처리될 생성물이 해당 작업을 (예정된 기준에 따라) 수행할 준비가 아직 안된 챔버에 진입하는 것을 방지하는 것이 좋다고 생각 할 수 있다.
유사하게는, 이 제1 충전 단계 동안에는, 많은 경우에 여전히 충전 단계에 있는 챔버내의 분위기의 바람직한 해당 성분 함량의 측정을 피하는 것이 좋을 수 있으며, 그에 따라 정화(예컨대 질소 정화)되고 있는 (측정을 실행하는데 필요한) 분석기를 내버려 두는 것이 좋을 것이다. 생각할 수 있는 바와 같이 분석기를 보호하기 위한 이러한 예방 조치는 사용되는 분석기 기술에 현저하게 의존하며,
선정된 충전 시간 tfill이 중첩된 후, 이어서 시스템은 처리될 생성물의 진입을 허용하고 챔버내의 분위기의 관련 성분의 함량을 측정하기 시작할 수 있다.
이어서, 이것은 "대기" 단계라고 말할 수 있는 제2 단계에 해당하며, 데이터 획득 및 프로세싱 유닛은, 그 감압 밸브가 대기 유량 Qs인 것으로 선정된 공급 유량에 해당하는 압력 수준으로 미리 설정된 "대기" 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 개방하기 위해 "충전" 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 폐쇄시키며,
­ 처리될 요소 또는 생성물이 (성분을 챔버의 입구에 취하기 위한 컨베이어 상류에 다소 이격된) 챔버의 입구에서 (예컨대 검출 셀(cell)에 의해) 검출되자마자, 이어서 시스템은 "생성" 단계로 불릴 수 있는 소정 단계에 있게되며, 이때 데이터 획득 및 프로세싱 유닛은 시스템을 "생성" 바이패스 라인으로 전환시키며, 제3 바이패스 라인에 해당하는 솔레노이드 밸브를 개방한다.
이러한 생성 단계 동안에는, 예컨대 몇 분의 지연 시간 tprod가 형성될 수 있으며, 그 이후에는 처리될 요소가 챔버의 입구에서 다시 검출되지 않은 경우 데이터 획득 및 프로세싱 유닛은 시스템을 "대기" 모드로 전환시키는 것이 유리할 것이며(이 시간 tprod는 이 챔버로 이전에 허용된 생성물의 챔버내의 잔류 시간을 고려할 필요가 있으므로 어떤 경우에는 몇 분보다 훨씬 더 길 수 있다),
­ 생성 유량 조건이 확립된 이후, 측정된 함량이 한계치 Sprod보다 낮은 경우에만 (챔버의 상류에 다소 이격되어 검출되는 것으로 고려될) 생성물의 진입을 허용하기 위해 챔버내의 분위기의 관련 성분의 함량의 측정치를 유리하게 취할 수 있으며,
­ "생성" 단계 동안의 소정 순간에서 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 도달하는 챔버내의 분위기의 관련 성분의 함량의 측정치가 제1의 선정된 한계치 S1(S1은 Sprod이상인 것이 좋다)보다 높은 경우, 유닛은 시스템을 "충전" 바이패스 라인으로 전환시킬 것이며, 측정된 함량이 챔버내의 분위기의 성분의 함량에 대해 한계치 S1 이하인 제2 선정된 한계치(S2) 아래로 돌아올 때까지 대기하며, 시스템이 "생성" 모드로 귀환하는 것을 허용할 것이다.
막 기술한 압력 변화 실시예는 좋은 실시예이며, 세 개의 (예컨대 충전/대기/생성) 바이패스 라인의 시스템을 사용한다. 본 발명의 범위에서 벗어나지 않고 두 개의 (예컨대 대기/생성의) 미리 설정된 채널을 구비한 시스템을 사용하는 것도 역시 가능하며, 이 시스템은 물론 전체적으로 낮은 성능을 가지지만 단순성 또는 비용상 이유로 사용자에 의해 적용될 수 있다.
유사하게는, 전술한 바의 3라인 시스템에 비해 하나 이상의 추가 바이패스 라인을 사용하는 것도 고려해볼 수 있는데, 이들 각각의 추가 라인은 미리 정해지고 설정된 압력 수준을 가지고 있어서, 예컨대 챔버내의 분위기의 관련 성분의 함량이 비교적 높은 선정된 수준을 초과하는 경우 전술한 바의 적용된 충전 수준을 넘는 유량을 형성함으로써, 높은 유량으로 챔버를 정화하는 것과, 예컨대 청각적 또는 시각적인 경고 및/또는 처리될 요소가 챔버로 진입하는 것을 방지하는 등의 안전 조치를 취할 수 있게 된다.
또한 예컨대, 세 개의 솔레노이드 밸브가 "정상 상태로 폐쇄된" 모드로 구성된 경우, 제4 바이패스 라인을 챔버 정화용 안전 라인으로서 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은 챔버에 가스를 공급하기 위한 공정에 관한 것이며, 전술한 것처럼 이 챔버내의 분위기의 주어진 성분의 함량을 조절하는 방법을 적용한다.
따라서, 도 1은 연속 오븐(3)의 경우를 도시하고 있으며, 연속 오븐(3)은 예컨대 열처리 작업 또는 솔더링 작업, 예컨대 전자 요소를 회로에 솔더링하는 작업을 실행하는 연속 오븐일 수 있다. 후자의 경우, 솔더링 오븐은 예컨대 방사 모드 ("적외선" 오븐) 또는 대류 모드로 작동될 수 있다.
도시한 실시예의 경우, 챔버(3)는 네 개의 구역, 즉 두 개의 입구 및 출구 장벽 구역(4)과, 오븐내의 고온 구역(또는 고온 구역 및 냉각 구역)으로의 두 개의 주입부를 통해 가스 공급된다.
여기에서 챔버(3)용의 공급 네트워크는 상류측에서 가스 공급원(5)에 연결된 단일의 제1 라인(1)으로 이루어지며, 제1 라인에는 챔버(3)내의 하류측에 나타난 네 개의 제2 라인(11, 12, 13, 14)이 연결되어 있다.
각각의 경우에 있어서, 각각의 제2 라인이 제1 라인에 연결된 지점은 문자 Ci로 표시되어 있다.
각각의 제2 라인(1i)은 압력 강하를 야기하는 수단(7)이 장착되어 있으며, 이 수단(7)은 예컨대 구경이 정해진 제한부(calibrated restriction), 스로틀 밸브, 사용자가 라인에 들어오는 유량을 감속시키기 위해 사용하는 차단 밸브(shutt­off valve) 또는 가스 패널로 이루어질 수 있지만, 더욱 일반적으로는 압력 강하를 야기하는 이 수단은 각 라인내에 사용되는 파이프 구조(pipework)의 구성체나, 분위기를 각 라인의 하류 단부에서 오븐에 분사하는 노즐의 구성체에 의해서도 역시 달성될 수 있다.
또한, 참조 번호 6은 이 공급원(5)으로부터 오는 가스의 압력을 필요한 경우 1차로 감소시키기 위한 가스 공급원(5)에 인접한 제1 라인의 상류측에 나타난 감압 밸브를 표시한다.
도면에 있어서, 오븐에 대한 공급 네트워크상의 가능한 위치가 문자 Ai와 커다란 검은 점으로 기호화되어 있으며, 그 위치에서 본 발명에 따라 가스의 압력이 챔버내의 분위기의 주어진 성분의 함량, 예컨대 산소의 소정의 하락을 수반하는 정도로 변화하는 것을 예상할 수 있다.
챔버내 분위기의 관련 성분 함량의 변화에 응답으로 챔버용의 공급 네트워크내의 압력을 변화시키기 위한 이러한 다수의 선택을 검토함으로써, 본 발명에 따라 챔버 전체 또는 일부로의 가스의 공급을 제어하는 것이 가능한 것을 고려할 수 있으며,
­ 지점 A1에서 압력을 제어하면 적어도 전체 챔버(3)에 대한 가스의 공급을 효과적으로 제어할 수 있으며,
­ 지점 A2에서 압력을 제어하면 적어도 세 개의 제2 라인(12, 13, 14)에서 챔버에 대한 공급을 제어할 수 있다.
도면을 검토함으로써, 압력을 지점 A2에서 제어하면 아무런 어려움 없이 제2 라인(12, 13, 14) 중 하나의 유량을 변화시킬 수 있으며, 다른 라인들은 그에 따른 영향을 전혀 받지 않는다. 따라서, 실례로서, A2지점에서의 압력이 고정되면, (예컨대 이 제2 라인의 스로틀 밸브(7)에 작용하여 오븐을 조절하는 작업 동안) 라인(14)내의 유량이 변화해도 다른 제2 라인(12, 13)내에는 아무런 변화도 야기되지 않으며, 전술한 바처럼 압력은 이들 라인의 상류에서 고정되어 있는 반면, 압력 강하는 게다가 각개의 압력 강하를 야기하는 수단(7)에 의해 각각의 이들 두 개의 라인에서 고정되어 있으며,
­ 물론, 장치의 지점 A3의 경우에서는 유사하다고 고려할 수 있다.
도 1은 특정한 네트워크 구성에 맞추어진 특정 실시예에 대해 양호하게 설명하지만, 특히 두 개의 고온 구역 중간 라인(12, 13)의 경우에 압력 변화를 요하는 경우에는, 라인 배치를 간단히 변경하여 이 목적을 실행하는 것에 주목한다.
도 2는 전체 길이에 걸쳐 폐쇄되어 있으며, 그에 따라 각각의 그 구역에서 제어된 분위기내에서 작동하는 웨이브 솔더링용 기계(12)의 경우를 개략적으로 도시하고 있다.
참조 번호 13은 기계의 입구 및 출구 장벽에 해당하며, 또한 기호 I, II, III은 각각 용제 처리 구역(fluxing zone), 예열 구역 및 기계의 솔더링(솔더링 포트) 구역을 나타낸다.
도 2에는, 웨이브 솔더링 기계(12)가 상류측 접속부(N)로부터 나오는 두 개의 제1 라인(9, 10)으로 이루어진 네트워크를 통해 공급되며, 이 상류측 접속부(N)는 상류측이 가스 공급원(5)에 연결된 이송 파이프(8)를 통해 가스가 공급되는 경우가 도시되어 있다.
제1 라인(10)에는 분사 노즐(11)을 통해 기계의 솔더링 구역내의 하류측에 나타난 네 개의 제2 라인(101, 102, 103, 104)이 연결되어 있다.
더욱이, 제1 라인(9)에는 여섯 개의 제2 라인(91, 92, 93, 94, 95, 96)이 연결되어 있으며, 이들 제2 라인 중 네 개는 기계의 예열 구역내의 터널내의 하류측에 그리고 다시 분사 노즐(11)을 거쳐 나타나며, 반면 이 제1 라인(9)에 연결된 두 개의 다른 제2 라인(91, 92)은 기계(12)내의 다른 구역, 예컨대 용제 처리 구역(1)이나, 입구/출구 장벽(13) 중 어느 하나에 나타나 있다.
또한, 여기에서, 문자 A1은 기계용의 공급 네트워크상의 위치의 예를 기호로 나타내고 있으며, 그 위치에서는 본 발명에 따라 가스의 압력이 변화할 수 있다.
따라서, 예컨대 압력을 지점 A0에서 제어하면 기계에 대한 전체 가스 공급이 제어될 수 있고, 한편 압력을 지점 A1에서 제어하면 기계의 솔더링 구역에 대한 가스 공급이 제어될 수 있으며, 다른 한편 압력을 지점 A5에서 제어하면 기계의 예열 구역에 대한 가스의 공급이 제어될 수 있다.
또한, 여기에서 라인의 특정 구성이 도시되었다. 특정한 방식을 한 쌍의 라인(102, 103또는 94, 95)내에서만 압력 변화가 필요한 경우, 라인 배치를 간단히 변경하여 이 목적을 실행할 수 있다.
본 발명에 따라 매우 유리하게도, 필요한 경우 특정 구역에 대한 가스 공급을 선택적, 의도적으로 제어하거나 조절하지 않을 수 있으면서 네트워크의 매우 부분적인 부분, 예컨대 지점 A5또는 A6에서 가스 공급 압력을 변화시킬 수 있는 것에 주목한다. 실례로서, 몇몇 용례에 있어서, 특히 매우 교란된 구역과 접촉하지 않는 것이 바람직할 수 있으며, 그 구역의 변화에 의해 열적 분포의 교란 또는 안정성의 관점에서 중대한 결과가 야기될 수 있다. 두 번째 실례로서, 두 개의 분사부(91, 92) 중 하나는 플럭서(fluxor)(스프레이 유형)를 추진하기 위한 가스로서 사용될 수 있다. 이어서, 이 라인내의 압력을 조절하지 않을 것을 강력히 권하는데, 그것은 그러한 조절의 결과로 추진 유량이 변하고 그에 따라 회로상에 용착되는 플럭스의 양이 변하기 때문이다.
도 3은 네트워크내의 지점 A1에서 본 발명에 따라 압력을 제어하는 실시예 중 하나를 도시하고 있다.
네트워크내의 라인들 중 하나는 두꺼운 실선으로 기호화되어 있으며, 이것은 이송 파이프(8)이거나 제1 라인(10)이다.
이 라인에는 해당 지점에서 적절한 제어를 하는 솔레노이드 밸브(20)와 압력 컨트롤러(21)의 수단에 의해 이 솔레노이드 밸브(20)의 하류의 압력을 측정하기 위한 탭이 장착되어 있다.
이어서 시스템의 작동은 다음 방식, 즉 데이터 획득 및 프로세싱 유닛(23)이 챔버내의 분위기의 주어진 성분(예컨대 산소)의 함량에 대한 측정 데이터를 수용하여(24a), 이 함량 측정치를 이전에 이 유닛(23)에 전달되어 있는 챔버내의 분위기의 이러한 주어진 성분의 함량에 대한 제어값과 비교하는 방식으로 기술될 수 있다.
이 비교치에 따라, 네트워크내의 관련 지점 Ai에 인가되어야 하는 새로운 제어값이 유닛(23)의 알고리즘에 의해 발생 및 전송될 수 있으며(24c), 이 새로운 압력 제어값은 (예컨대 전자 코드인) 수단(22)에 전송되며, 따라서 이 수단은 지점 A의 수준에서 압력을 조절한다.
이것을 실행하기 위해, 수단(22)은 솔레노이드 밸브(20) 하류의 압력 컨트롤러(21)에 의해 형성된 압력 측정치를 수용하여(24b), 수용된 측정치를 유닛(23)에 의해 발생된 압력 제어값과 비교하며, 필요한 경우 솔레노이드 밸브 하류의 압력을 발생된 압력 제어값의 수준으로 복귀시키기 위해 솔레노이드 밸브(20)가 개방되는 양에 대한 피드백 모드에서 이 비교의 결과에 따라 작용한다(24d).
도 4에는 예컨대 네 개의 제2 라인(101, 102, 103, 104) 상류의, 도 2의 라인(10)내의 지점 A1에서의 압력 변화의 또 하나의 실시예가 도시되어 있다.
이것을 실행하기 위해, 제1 라인(10)은 지점 A1에서 세 개의 평행한 바이패스 라인(301, 302, 303)으로 분기되는 구조를 가지며, 이 바이패스 라인(301, 302, 303)은 하류측에서 다시 합쳐져 제1 라인(10)에 다시 연결되어 있다.
각 바이패스 라인에는 솔레노이드 밸브(각각 311, 312, 313)와 각개 솔레노이드 밸브 하류의 감압 밸브(각각 321, 322, 323)가 장착되어 있다.
본 용례에 관해 광범위하게 전술한 바처럼, 데이터 획득 및 프로세싱 유닛(33)(예컨대 프로그램 가능한 컨트롤러)은 챔버내의 분위기의 주어진 성분(예컨대 산소)의 함량에 대한 데이터를 수용하여(34a), 수용된 함량치를 이 유닛(33)에 이전에 전달된 선정된 함량 제어값과 비교하고, 해당 순간에 사용중인 솔레노이드 밸브를 폐쇄하고 또 하나의 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 개방하기 위한 피드백 신호를 이 비교의 결과에 따라 공급하며(34b), 감압 밸브에 의해 미리 설정된 바이패스 라인의 압력 수준은 감압 밸브와 연관되어 있으며, 챔버내의 분위기의 관련 성분의 함량내의 관찰된 변화에 대한 반응으로 제1 라인(10)을 거쳐 챔버에 도달해야 하는 가스의 유량에 해당한다.
도 1에 관해 기술한 것에 "유사한" 시설을 사용하여 본 발명에 따른제1의 예시적인 실시예를 구성하였다.
챔버(3)는 전자 요소의 리플로 솔더링용의 대류 유형의 서머텍(THERMATEC)(프랑스 브랜드) 오븐이었다.
이 경우, 오븐은 단일의 제1 라인(1)뿐만 아니라 두 개의 제1 라인의 네트워크, 즉
­ 한편 오븐의 입구 장벽에, 다른 한편 이 경우 장벽 및 냉각 구역 모두로서 작용하는 오븐의 출구 장벽에 공급하는, 네 개의 제2 라인의 제1 열에 공급하는 첫 번째 제1 라인,
­ 오븐의 고온 구역에서 나타난 네 개의 제2 라인의 제2 열에 공급하는 두 번째 제2 라인
을 거쳐 공급된다.
각개 제2 라인에는 스로틀 밸브와 유량계의 조합체가 장착되어 있다.
이어서, 도 3에 관해 기술한 것과 같은 설비를 사용하여, 이 경우, 필요한 경우, 두 번째 제1 라인내의 지점에서 가스의 압력을 변화시켰으며, 이 지점은 제1 라인에 부착되고 고온 구역에서 모두 종결되는 (따라서 이들 라인만이 선택적으로 제어되도록 허용하는) 제2 라인의 열의 상류에 배치되어 있다.
전체 네트워크는 정상 작동시 극저온 질소가 42 Nm3/h의 유량으로 공급되어, 오븐의 고온 구역내의 잔류 산소 함량을 100 ppm 미만으로 유지할 수 있다.
사용자측에서 목표하는 것은 오븐의 전체 소비를 약 28 내지 30 Nm3/h의 질소 유량(즉, 약 30 %의 유량의 감소에 대응함)으로 낮추는 것이었다.
(회로 처리되거나 솔더링 크림이 사용되는 등의) 응용 분야에 관한 연구에 따르면, 얻어진 생성물의 품질 및 재현성에 불리한 영향을 미치지 않으면서도, 통상 그러한 솔더링 작업에 질소계 분위기가 제공되는 광범위한 공정 영역을 유지하여 오븐의 고온 구역내의 허용 가능한 잔류 산소 함량 한계를 3000 ppm까지 증가시킬 수 있었다.
도 3에 있는 시스템(레귤레이터(23), 전자 카드(22), 솔레노이드 밸브(20) 및 압력 게이지(21))을 사용하여, 이어서 다음 상태를 조절하였다:
­ 네 개의 제2 라인 중 제1 열은 조절하지 않았다. 대략 20 Nm3/h의 유량을 사용하여 공급하였다;
­ 오븐의 고온 구역내에 나타난 네 개의 제2 라인 중 제2 열만을, 대략 10 Nm3/h의 평균 유량이 달성될 수 있는 (따라서 전체 유량이 30 Nm3/h에 접근하는) 압력으로 조절하였다.
따라서 주목할 것은, 생성시, 고온 구역의 그러한 제2 라인의 유량(및 그에 따라, 본 용례의 도입부에서 전술한 바와 같이, 구역이 재순환 모드로 작동하는 질소 충만된 유량)을 조절하면, 고온 구역내의 어떠한 제2 라인도 그에 따라 전혀 분배되지 않는, 매우 탄력적이며 용이한 방식이 실행될 수 있었던 것이다.
본 발명에 따른 방법 및 공정에 의해, 이러한 특정한 경우에 있어서, 고온 구역에 도달하는 가스의 유량(재순환에 연관된 손실을 재발생시키는 것이 목적인 충만된 유량)만을 조절하는 것이 가능하기 때문에, 나머지 유량, 특히 냉각용으로 작용하는 출구 장벽에 대한 유량으로서 그 유량의 변화를 통해, 형성된 열적 분포에 상당한 변동을 야기하게 되는 그러한 나머지 유량과의 필연적인 "접촉"이 방지됨을 주목하여야 한다.
도 2에 관해 기술된 것과 유사한 설비를 사용하여 본 발명의제2 예시적인 실시예를 구성하였다.
챔버(12)는 세호(SEHO) 브랜드(모델 7250)의 웨이브 솔더링용 전자 요소용의 기계였다.
기계는 두 개의 제1 라인(9, 10)을 통해 공급되며, 제1 라인은 기계의 예열 구역 II, 기계의 용제 처리 구역 I의 스프레이 플럭서, 그리고 솔더링 배스 펌프용의 구역(III)에까지 공급하는 여섯 개의 제2 라인의 제1 열에 공급하며, 두 번째 제1 라인은 배스(bath) 위의 솔더링용 구역 III내에 나타난 네 개의 제2 라인의 제2 열에 공급한다.
각각의 제1 라인은 원래 감압 밸브(15, 16)와, 스로틀 밸브 및 유량계의 조합체와 함께 상류측에 마련되어 있었다.
더욱이, 사용된 기계의 모델은 장벽(13)을 구비하지 않았다.
모든 제2 라인은 도 2에 도시된 것과 같은 압력을 강하시키기 위한 수단은 없으며, 라인의 단부에 있는 분사 노즐(11)은 그러한 수단으로서 작용하였다.
이어서, 이 경우에, 도 4에 관해 기술한 것과 같은 장치를 사용하여 제1 라인(10)내의 지점 A1에서 가스의 압력을 필요한 경우 변경함으로써, 선택적인 방식으로 솔더링 구역 III내에 나타난 제2 라인만을 제어하는 것이 가능해 졌다.
통상적인 조절되지 않은 상황에서, 기계는 극저온에서 형성된 질소의 대략 25 Nm3/h의 전체 유량으로 작동한다. 이어서, 도 4의 시스템에 의해,
­ 19.7 Nm3/h인 평균 전체 유량이, 조절되지 않은 제1 라인(9)내의 12.5 Nm3/h에의 유량에, 그리고 평균적으로는 조절된 제1 라인(10)내의 평균 7.2 Nm3/h의 유량(지점 A1에서 3바의 평균 절대 압력)에 해당하는 대기 모드와,
­ 21 Nm3/h인 평균 전체 유량이, 제어되지 않은 제1 라인내의 12.5 Nm3/h의 유량에, 그리고 조절된 제1 라인(10)내의 평균 8.5 Nm3/h의 유량(지점 A1에서 3.6바의 평균 절대 압력)에 해당하는 (175 ppm = Sprod미만의 솔더링 구역내의 잔류 산소 함량에 대한) 생성 모드 및
­ "생성" 단계 동안의 소정 순간에서 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 도달하는 산소 함량의 측정치가 175 ppm(= S1, 따라서 이 경우에 Sprod와 동일)보다 큰 경우, 유닛은 시스템을 "충전" 바이패스 라인으로 전환하며 측정된 함량이 100 ppm과 동일한 제2 선정된 한계치(S2) 아래로 복귀할 때까지 대기하는 충전 모드
를 발생시켰다.
이어서, "충전" 공급 조건은, 25 Nm3/h의 평균 전체 유량이 조절되지 않은 제1 라인내의 12.5 Nm3/h에, 그리고 조절된 제1 라인(10)내의 12.5 Nm3/h의 평균 유량(지점 A1에서의 6.3바의 평균 절대 압력)에 해당하는 것이다.
본 발명에 따른 공급 공정의 채용을 통해, 사용자측은 평균 전체 유량을 단지 20 Nm3/h 정도의 유량으로 낮출 수 있다.
따라서, 생성시, 솔더링 구역 III에 대한 그러한 제2 라인내의 유량을 조절하는 것은 이 구역내의 소정의 다른 제2 라인이 그에 따라 전혀 분배되지 않고도 매우 탄력적이고도 용이한 방식으로 실행할 수 있는 것을 주목하여야 한다.
본 발명에 따른 방법 및 공정에 의해, 이같이 특정한 경우에, 솔더링 구역에 도달하는 가스의 유량만을 조절하는 것이 가능하기 때문에, 나머지 유량, 특히 플럭서에 대한 유량으로서 그 유량의 변화를 통해, 획득되는 용제 처리 품질에 상당한 변동을 야기하는 그러한 나머지 유량과의 필연적인 "접촉"이 방지됨도 알아야 한다.
비록 본 발명이 특정 실시예에 관해 기술되었지만, 그것에 의해 한정되지 않으며, 오히려 대조적으로는 당업자에게 자명한 변경 및 대체 형태가 가능하다.
따라서, 본 발명이 도 3 및 4에 관해 기술된 두 개의 압력 변화 실시예에 의해 더욱 상세히 기술되었지만, 광범위하게 전술한 솔레노이드 밸브 대신, "흐름/압력 변환기"라 불리는 상업적으로 구매 가능한 기구를 사용할 수 있으며, 그 용도는 쉽사리 이해되듯이, 주어진 성분의 수용 및 비교의 결과에 따라 필요시, 유닛이 확립되는 새로운 압력을 나타내는 신호를 변환기에 전송하는 것이다.
유사하게는, 비록 위에서 열처리 오븐이나 다른 솔더링 오븐 또는 기계의 경우를 가장 구체적으로 다루었지만, 본 발명에 의해 마련된 모든 이점은, 압력에 작용함으로써 함량을 조절하기 때문에, 품질을 제어하기에 바람직한 분위기를 사용하는 다른 유형의 장치에 훨씬 더 일반적으로 적용될 수 있다.

Claims (23)

  1. 챔버(3, 12)내 분위기에서 주어진 성분의 함량을 조절하는 방법으로, 상류측이 가스 공급원(5)에 연결되고 이송 파이프(8)를 통해 가스가 자체 공급되는 상류측 접속부(N)로부터 이어지는 하나 이상의 제1 라인(1, 9, 10)과, 상류측이 상기 제1 라인에 연결되고 하류측이 챔버내에 출현되는 두 개 이상의 각개 제2 라인(1i, 9i, 10i)을 포함하는 공급 네트워크에 의해 상기 챔버로 유체 공급되는 그러한 방법으로서,
    a) 상기 챔버내의 분위기의 주어진 성분의 함량을 챔버내의 한 곳 이상의 지점에서 측정하는 단계와,
    b) 상기 측정된 함량을 상기 지점에서 상기 챔버내 분위기의 상기 성분의 함량에 대한 하나 이상의 선정된 제어값과 비교하는 단계 및
    c) 단계 b)에서의 비교의 결과에 따라, 필요한 경우, 상기 네트워크내의 복수의 지점(Ai) 중 한 지점에서의 가스의 압력을 변화시키는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 가스의 압력을 상기 네트워크내의
    i) 상기 제1 라인 또는 제1 라인 중 하나상의, 관련 제1 라인과 첫 번째 각개 제2 라인(11, 91, 101)의 접속점의 상류 지점(A1, A4)과,
    j) 상기 제1 라인 또는 제1 라인 중 하나상의, 관련 제1 라인과 상기 각개 제2 라인(93/94, 94/95, 101/102, 102/103)과의 두 개의 접속점 사이의 지점 및
    k) 상류측 접속부(N)의 이송 파이프(8)상의 지점(A0)
    을 포함하는 지점(Ai) 중 하나에서 변화시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 네트워크내의 상기 지점에서의 압력을 변화시키는 단계 c)는
    c1) 적절하게 제어된 솔레노이드 밸브를 네트워크내의 상기 지점에 배치하는 단계와,
    c2) 네트워크내의 상기 지점 부근의 가스의 압력을 상기 솔레노이드 밸브의 하류에서 측정하는(21) 단계와,
    c3) 단계 a) 동안 얻어진 주어진 성분 함량의 상기 측정치를, 상기 함량 및 단계 b) 동안에 얻어진 비교 결과에 따라, 압력 제어값 Cp를 발생시킬 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛(23)에 전송하는(24a) 단계 및
    c4) 상기 압력 측정치를 제어값 Cp와 비교하고, 그에 따라 필요한 경우 상기 압력을 제어값 Cp의 수준으로 복귀시키기 위해, 솔레노이드 밸브(20)를 개방시킬 수 있는 양을 그에 따라 변경할 수 있는 수단(22)으로 상기 압력 제어값 Cp를 전송하는(24c) 단계
    를 거쳐 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 a) 동안 챔버내의 분위기에서 함량이 측정되는 상기 성분은 산소인 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 네트워크내의 상기 지점에서의 압력을 변화시키는 단계 c)는
    c1) 네트워크내의 상기 지점에서 네트워크의 관련 라인(제1 라인 및 이송 파이프)을 세 개의 바이패스 라인(301, 302, 303)으로 분할하는 단계와,
    c2) 각각의 세 개 이상의 감압 밸브를 선정된 압력 수준으로 미리 설정하는 단계 및
    c3) 단계 a) 동안에 얻은 주어진 성분의 함량의 측정치를, 상기 함량과 단계 b) 동안에 구한 비교치에 따라, 상기 솔레노이드 밸브 중 하나를 선택적으로 개방할 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 전송함으로써, 솔레노이드 밸브가 개방된 바이패스 라인에만 가스를 통과시키는 단계를 거쳐 실행되며,
    상기 각각의 바이패스 라인에는 솔레노이드 밸브(311, 312, 313)와 이 솔레노이드 밸브의 하류에 배치된 감압 밸브(321, 322, 323)가 장착되며, 각각의 상기 바이패스 라인의 하류 단부는 다시 네트워크의 관련 라인에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 단계 a) 동안 챔버내의 분위기에서 함량이 측정된 상기 주어진 성분은 산소인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 각각의 세 개 이상의 바이패스 라인내의 상기 미리 설정된 압력 수준은,
    ­ 제1 바이패스 라인에서, 감압 밸브의 하류의 가스 유량으로서 대기(standby) 유량 Qs에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 제1 압력 수준 Ps와,
    ­ 제2 바이패스 라인에서, 감압 밸브의 하류의 가스 유량으로서 생성 유량 Qprod에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 제2 압력 수준 Pprod및
    ­ 제3 바이패스 라인에서, 감압 밸브 하류의 가스 유량으로서 충전 유량 Qfill에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 제3 압력 수준 Pfill
    에 각각 해당하며,
    세 개의 유량의 각각의 상태는 Qs< Qprod< Qfill인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 챔버(3, 12)에 가스를 공급하기 위한 방법으로, 상류측이 상기 가스의 공급원(5)에 연결되고 이송 파이프(8)를 통해 상기 가스가 자체 공급되는 상류측 접속부(N)로부터 이어진 하나 이상의 제1 라인(1, 9, 10)과, 상류측이 상기 제1 라인에 연결되고 하류측이 챔버내에 출현되는 두 개 이상의 각개 제2 라인(1i, 9i, 10i)을 포함하는 공급 네트워크에 의해 상기 챔버로 유체 공급되는 그러한 방법으로서,
    a) 상기 챔버내의 분위기의 주어진 성분의 함량을 챔버내의 한 곳 이상의 지점에서 측정하는 단계와,
    b) 상기 측정된 함량을 상기 지점에서 상기 챔버내 분위기의 상기 성분의 함량에 대한 하나 이상의 선정된 제어값과 비교하는 단계 및
    c) 단계 b)에서의 비교의 결과에 따라, 필요한 경우, 상기 네트워크내의 복수의 지점(Ai) 중 한 지점에서의 가스의 압력을 변화시키는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 가스의 압력을 상기 네트워크내의
    i) 상기 제1 라인 또는 제1 라인 중 하나상의, 관련 제1 라인과 첫 번째 각개 제2 라인(11, 91, 101)의 접속점의 상류 지점(A1, A4)과,
    j) 상기 제1 라인 또는 제1 라인 중 하나상의, 관련 제1 라인과 상기 각개 제2 라인(93/94, 94/95, 101/102, 102/103)과의 두 개의 접속점 사이의 지점 및
    k) 상류측 접속부(N)의 이송 파이프(8)상의 지점(A0)
    을 포함하는 지점(Ai) 중 하나에서 변화시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 네트워크내의 상기 지점에서의 압력을 변화시키는 단계 c)는
    c1) 적절하게 제어된 솔레노이드 밸브를 네트워크내의 상기 지점에 배치하는 단계와,
    c2) 네트워크내의 상기 지점 부근의 가스의 압력을 상기 솔레노이드 밸브의 하류에서 측정하는(21) 단계와,
    c3) 단계 a) 동안 얻어진 주어진 성분 함량의 상기 측정치를, 상기 함량 및 단계 b) 동안에 얻어진 비교 결과에 따라, 압력 제어값 Cp를 발생시킬 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛(23)에 전송하는(24a) 단계 및
    c4) 상기 압력 측정치를 제어값 Cp와 비교하고, 그에 따라 필요한 경우 상기 압력을 제어값 Cp의 수준으로 복귀시키기 위해, 솔레노이드 밸브(20)를 개방시킬 수 있는 양을 그에 따라 변경할 수 있는 수단(22)으로 상기 압력 제어값 Cp를 전송하는(24c) 단계
    를 거쳐 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제8항 또는 제9항에 있어서, 네트워크내의 상기 지점에서의 압력을 변화시키는 단계 c)는
    c1) 네트워크내의 상기 지점에서 네트워크의 관련 라인(제1 라인 및 이송 파이프)을 세 개의 바이패스 라인(301, 302, 303)으로 분할하는 단계와,
    c2) 각각의 세 개 이상의 감압 밸브를 선정된 압력 수준으로 미리 설정하는 단계 및
    c3) 단계 a) 동안에 얻은 주어진 성분의 함량의 측정치를, 상기 함량과 단계 b) 동안에 구한 비교치에 따라, 상기 솔레노이드 밸브 중 하나를 선택적으로 개방할 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 전송함으로써, 솔레노이드 밸브가 개방된 바이패스 라인에만 가스를 통과시키는 단계를 거쳐 실행되며,
    상기 각각의 바이패스 라인에는 솔레노이드 밸브(311, 312, 313)와 이 솔레노이드 밸브의 하류에 배치된 감압 밸브(321, 322, 323)가 장착되며, 각각의 상기 바이패스 라인의 하류 단부는 다시 네트워크의 관련 라인에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 각각의 세 개 이상의 바이패스 라인내의 상기 미리 설정된 압력 수준은,
    ­ 제1 바이패스 라인에서, 감압 밸브의 하류의 가스 유량으로서 대기 유량 Qs에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 제1 압력 수준 Ps와,
    ­ 제2 바이패스 라인에서, 감압 밸브의 하류의 가스 유량으로서 생성 유량 Qprod에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 제2 압력 수준 Pprod및
    ­ 제3 바이패스 라인에서, 감압 밸브 하류의 가스 유량으로서 충전 유량 Qfill에 해당하는, 미리 설정된 감압 밸브의 제3 압력 수준 Pfill
    에 각각 해당하며,
    세 개의 유량의 각각의 상태는 Qs< Qprod< Qfill인 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 가스는 열처리 오븐, 솔더링 오븐이나 전자 요소의 솔더링/주석 도금용의 오븐 또는 기계로 공급되는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    ­ 오븐 또는 기계를 시동하는 제1 단계 동안, 상기 공급 네트워크를 통해 가스를 챔버내로 공급하는 단계와,
    ­ 상기 충전 단계를 선정된 시간 tfill에 대해 유지시키는 단계와,
    ­ 충전 시간 tfill이후에, 미리 설정된 압력 수준이 대기 유량 Qs에 해당하는 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 개방하기 위해 상기 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 의해, 미리 설정된 압력 수준이 충전 유량 Qfill에 해당하는 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 폐쇄하는 단계와,
    ­ 챔버내에서 처리될 성분이 챔버의 입구에서 검출되면, 미리 설정된 압력 수준이 생성 유량 Qprod에 해당하는 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 개방해서 생성 단계로 전환하기 위해, 상기 데이터 획득 및 프로세싱 유닛에 의해 선정된 압력 수준이 대기 유량 Qs에 해당하는 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 폐쇄하는 단계 및
    ­ 처리될 새로운 성분이 선정된 시간 tprod이후에 챔버의 입구에서 검출되지 않는 경우, 미리 설정된 압력 수준이 대기 유량 Qs에 해당하는 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 개방해서 대기 단계로 다시 전환하기 위해, 상기 데이터 획득 프로세싱 유닛에 의해, 미리 설정된 압력 수준이 생성 유량 Qprod에 해당하는 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 폐쇄하는 단계를 실행하며,
    상기 가스 공급 단계에서, 상기 데이터 획득 및 프로세싱 유닛은 그 감압 밸브가 충전 유량 Qfill에 해당하는 압력 수준으로 미리 설정되어 있는 바이패스 라인의 솔레노이드 밸브를 개방시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 네트워크의 두 개 이상의 제2 라인은 오븐 또는 기계의 고온 구역내에 나타나며, 상기 단계 c)에서 오븐 또는 기계의 고온 구역내에 나타나는 네트워크의 상기 두 개 이상의 제2 라인에만 공급하는 네트워크내의 지점에서 압력을 변화시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 가스를 열처리 오븐 또는 솔더링 오븐에, 또는 전자 요소를 솔더링/주석 도금하기 위한 오븐 또는 기계에 공급하기 위한 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 네트워크의 두 개 이상의 제2 라인은 오븐 또는 기계의 고온 구역내에 나타나며, 상기 단계 c)에서 오븐 또는 기계의 고온 구역내에 나타난 네트워크의 상기 두 개 이상의 제2 라인에만 공급하는 지점에서 압력을 변화시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 챔버(3, 12)에 가스를 공급하기 위한 장치에 있어서,
    ­ 상기 가스의 공급원(5)과,
    ­ 상류측이 상기 가스 공급원(5)에 연결되고 모든 라인이 이송 파이프(8)를 통해 상기 가스가 공급되는 상류측 접속부(N)로부터 이어진 하나 이상의 제1 라인(1, 9, 10)과, 상류측이 제1 라인에 연결되고 하류측이 챔버내에 출현되는 두 개 이상의 각개 제2 라인(1i, 9i, 10i)을 포함하는, 상기 챔버에 가스를 공급하기 위한 네트워크와,
    ­ 챔버내의 하나 이상의 지점에서 챔버내의 분위기의 주어진 성분의 함량을 측정하기 위한 수단과,
    ­ 측정된 함량을 상기 지점에서 챔버내의 분위기의 상기 성분의 함량에 대한 하나 이상의 선정된 제어값과 비교하기 위한 수단 및
    ­ 필요한 경우, 함량의 상기 비교의 결과에 따라 상기 네트워크내의 지점(Ai) 중 하나에서 가스의 압력을 변화시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제18항에 있어서, 필요시 압력이 변화되는 네트워크내의 상기 지점은
    i) 상기 제1 라인 또는 제1 라인 중 한 라인상의, 관련 제1 라인과 첫 번째 각개 제2 라인(11, 91, 101)의 접속점의 상류 지점과,
    j) 상기 제1 라인 또는 제1 라인 중 하나상의, 관련 제1 라인과 상기 각개 제2 라인(93/94, 94/95, 101/102, 102/103)의 두 개의 접속점 사이의 지점 및
    k) 상류측 접속부(N)의 이송 파이프(8)상의 지점
    중 하나인 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 제18항 또는 제19항에 있어서,
    c1) 네트워크내의 상기 지점에 배치되어 적절하게 제어되는 솔레노이드 밸브와,
    c2) 네트워크내의 상기 지점 부근의 가스의 압력을 상기 솔레노이드 밸브의 하류에서 측정하기 위한 수단(21)과,
    c3) 상기 측정된 함량 및 상기 함량의 비교치에 따라 압력 제어값 Cp를 발생시킬 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛(23) 및
    c4) 상기 압력 측정치를 제어값 Cp와 비교하고 필요시 상기 압력을 제어값 Cp의 수준으로 복귀시키기 위해 솔레노이드 밸브가(20)가 개방되는 양을 적절하게 변경할 수 있는 수단(22)
    을 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  21. 제18항 또는 제19항에 있어서,
    ­ 상기 지점이 배치된 네트워크의 관련 라인은 이 지점에서 세 개 이상의 바이패스 라인(301, 302, 303)으로 분할되고, 각각의 이들 바이패스 라인에는 솔레노이드 밸브(311, 312, 313)와 솔레노이드 밸브의 하류에 배치된 감압 밸브(321, 322, 323)가 장착되고, 각각의 바이패스 라인의 하류 단부는 네트워크의 관련 라인에 다시 연결되어 있으며,
    ­ 상기 측정된 값 및 함량의 상기 비교치에 따라, 상기 솔레노이드 밸브 중 하나를 선택적으로 개방시킴으로써 솔레노이드 밸브가 그에 따라 개방되는 바이패스 라인으로 가스만을 통과시킬 수 있는 데이터 획득 및 프로세싱 유닛(33)을 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  22. 제18항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 라인의 전체 또는 일부에는 압력 강하를 야기하기 위한 수단(7)이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  23. 제22항에 있어서, 압력 강하를 야기하기 위한 수단은
    ­ 구경이 정해진 제한부와,
    ­ 스로틀 밸브와,
    ­ 차단 밸브와,
    ­ 가스 패널과,
    ­ 라인내에 사용된 파이프 구조의 구성체 및
    ­ 관련 라인의 하류 단부에 배치된, 오븐에 가스를 분사하기 위한 노즐의 구성체
    중 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 장치.
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