KR19990084603A - 반도체 제조장치의 웨이퍼 지지대 - Google Patents

반도체 제조장치의 웨이퍼 지지대 Download PDF

Info

Publication number
KR19990084603A
KR19990084603A KR1019980016499A KR19980016499A KR19990084603A KR 19990084603 A KR19990084603 A KR 19990084603A KR 1019980016499 A KR1019980016499 A KR 1019980016499A KR 19980016499 A KR19980016499 A KR 19980016499A KR 19990084603 A KR19990084603 A KR 19990084603A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
semiconductor manufacturing
wafer support
base portion
manufacturing apparatus
Prior art date
Application number
KR1019980016499A
Other languages
English (en)
Inventor
김용갑
신승렬
Original Assignee
윤종용
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자 주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019980016499A priority Critical patent/KR19990084603A/ko
Publication of KR19990084603A publication Critical patent/KR19990084603A/ko

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼가 놓이며 상기 웨이퍼의 지름보다 큰 하지부와, 상기 웨이퍼가 상기 하지부에 놓여질 때 상기 하지부의 주위로 상기 웨이퍼가 상기 하지부로 벗어나지 않고 미끄러지게 할 수 있는 경사부를 갖는 턱을 구비한다. 이렇게 되면, 본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼가 하지부 상에 정확히 놓여지지 않더라도 상기 경사부로 인하여 웨이퍼가 하지부 상에 잘 놓여지게 할 수 있다.

Description

반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조 장치에 있어서 웨이퍼(반도체 기판)는 웨이퍼 지지대 상에 놓여진 상태에서 제조공정을 수행한다. 상기 웨이퍼 지지대는 반도체 제조 장치에 따라 커버 플레이트(cover plate), 서셉터(susceptor) 또는 히터블럭(heater block) 등의 형태로 불린다. 그리고, 상기 웨이퍼 지지대 상에 웨이퍼를 로봇(robot)을 이용하여 로딩(놓을때)시킨다. 여기서, 종래의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대에 관하여 설명한다.
도 1 및 도 2는 각각 종래의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대의 측면도 및 평면도이다.
구체적으로, 종래의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼(1)가 지지되는 하지부(3)와, 상기 웨이퍼(1)가 상기 하지부(3)로부터 벗어나지 않게 하는 턱(5)을 구비한다.
그런데, 상기 하지부(3) 상에 웨이퍼(1)를 로봇를 이용하여 로딩할 때 로봇의 움직임이 조금이라도 벗어날 경우 도 1에 도시한 바와 같이 웨이퍼(1)가 턱(5)에 걸리는 문제점이 발생한다.
이렇게 웨이퍼(1)가 상기 웨이퍼 지지대의 턱(5)에 걸려진 상태로 제조공정을 진행하면 도 3에 도시한 바와 같이 두께가 3500Å일 경우 웨이퍼(1) 상에 증착되는 막질의 내부 두께가 차이가 나 내부 균일도가 떨어지는 문제점이 있다. 도 3에서, 참조부호 a는 정상의 두께를 나타내며, 참조부호 b는 비정상의 두께를 나타낸다. 또한, 웨이퍼 내의 숫자는 막질의 두께를 나타낸다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 문제점을 개선하여 하지부에 웨이퍼를 정확하게 로딩할 수 있는 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대를 제공하는 데 있다.
도 1 및 도 2는 각각 종래의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대의 측면도 및 평면도이다.
도 3은 종래의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대를 이용할 경우 웨이퍼 상에 증착되는 막의 두께를 도시한 도면이다.
도 4 및 도 5는 각각 본 발명에 의한 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대의 측면도이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼가 놓이며 상기 웨이퍼의 지름보다 큰 하지부와, 상기 웨이퍼가 상기 하지부에 놓여질 때 상기 하지부의 주위로 상기 웨이퍼가 상기 하지부로 벗어나지 않고 미끄러지게 할 수 있는 경사부를 갖는 턱을 구비한다. 이렇게 되면, 본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼가 하지부 상에 정확히 놓여지지 않더라도 상기 경사부로 인하여 웨이퍼가 하지부 상에 잘 놓여지게 할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 4 및 도 5는 각각 본 발명에 의한 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대의 측면도이다.
구체적으로, 본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼(11)가 지지되는 하지부(13)와, 상기 하지부(13)의 주위로 웨이퍼(11)가 상기 하지부(13)로부터 벗어나지 않게 하는 턱(15)을 구비한다.
특히, 본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 상기 웨이퍼(11)의 지름보다 큰 하지부(13)를 구비하고, 상기 웨이퍼(11)가 상기 하지부(13)에 로봇을 이용하여 놓여질 때 상기 하지부(13)의 주위로 상기 웨이퍼(11)가 상기 하지부로 벗어나지 않고 미끄러지게 할 수 있는 경사부(17)를 갖는 턱(15)을 구비한다.
이렇게 되면, 로봇에 의하여 웨이퍼(11)가 웨이퍼 지지대의 하지부(13) 상에 정확히 놓여지지 않더라도 상기 경사부(17)로 인하여 웨이퍼(11)가 하지부(13) 상에 잘 놓여지게 되어, 종래 기술에 따른 웨이퍼(11)가 턱(15)에 걸리는 문제점을 해결할 수 있다.
결과적으로, 본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼(11)가 상기 웨이퍼 지지대의 턱(15)에 걸려지지 않은 상태로 제조공정을 수행하기 때문에 웨이퍼(11) 상에 증착되는 막질의 두께의 균일도가 떨어지는 종래의 문제점을 해결할 수 있다.
이상, 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식으로 그 변형이나 개량이 가능하다.
상술한 바와 같이 본 발명의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는 웨이퍼의 지름보다 큰 하지부를 구비하고, 상기 웨이퍼가 상기 하지부에 로봇을 이용하여 놓여질 때 상기 하지부의 주위로 상기 웨이퍼가 상기 하지부로 벗어나지 않고 미끄러지게 할 수 있는 경사부를 갖는 턱을 구비하여 웨이퍼를 하지부 상에 잘 놓여지게 할 수 있다.

Claims (1)

  1. 웨이퍼가 놓이며 상기 웨이퍼의 지름보다 큰 하지부; 및
    상기 웨이퍼가 상기 하지부에 놓여질 때 상기 하지부의 주위로 상기 웨이퍼가 상기 하지부로 벗어나지 않고 미끄러지게 할 수 있는 경사부를 갖는 턱을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대.
KR1019980016499A 1998-05-08 1998-05-08 반도체 제조장치의 웨이퍼 지지대 KR19990084603A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980016499A KR19990084603A (ko) 1998-05-08 1998-05-08 반도체 제조장치의 웨이퍼 지지대

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980016499A KR19990084603A (ko) 1998-05-08 1998-05-08 반도체 제조장치의 웨이퍼 지지대

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR19990084603A true KR19990084603A (ko) 1999-12-06

Family

ID=65891354

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980016499A KR19990084603A (ko) 1998-05-08 1998-05-08 반도체 제조장치의 웨이퍼 지지대

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR19990084603A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7062161B2 (en) 2002-11-28 2006-06-13 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Photoirradiation thermal processing apparatus and thermal processing susceptor employed therefor
KR100793006B1 (ko) * 2006-06-30 2008-01-08 호서대학교 산학협력단 비접촉식 웨이퍼 지지장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7062161B2 (en) 2002-11-28 2006-06-13 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Photoirradiation thermal processing apparatus and thermal processing susceptor employed therefor
KR100793006B1 (ko) * 2006-06-30 2008-01-08 호서대학교 산학협력단 비접촉식 웨이퍼 지지장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005350773A (ja) プラズマ処理中のアーク減少方法及び装置
JPH088198A (ja) 気相成長装置用サセプター
KR19990084603A (ko) 반도체 제조장치의 웨이퍼 지지대
JP2821088B2 (ja) ウェーハ載置台
WO2001031700A1 (fr) Porte-plaquette et dispositif de croissance epitaxiale
JP2003332408A (ja) クランプ機構及び処理装置
TW202115824A (zh) 基板處理設備及基板處理方法
KR100620167B1 (ko) 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트
KR102385266B1 (ko) 기판 처리 장치
KR100543441B1 (ko) 반도체 웨이퍼 이송 장치의 포지션 설정 방법 및 그 장치
KR20070000280A (ko) 반도체소자 제조설비의 기판 이송장치
KR20060136250A (ko) 반도체소자 제조설비의 기판 이송장치
JPH04158511A (ja) 熱処理装置
JPH07125804A (ja) ウエハ移載装置
KR102175073B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR20070025092A (ko) 웨이퍼 리프트 유닛의 리프트핑거
KR200466814Y1 (ko) 기판 처리 장치
KR20080101331A (ko) 식각공정장비의 에지링 구조
KR20080001119A (ko) 정렬 챔버의 내로우 후크
KR20010081843A (ko) 반도체 웨이퍼를 수용하기 위한 카세트
JP3996232B2 (ja) 半導体製造装置用のサセプタ及びこのサセプタを使用するウエーハ着脱方法
KR100446430B1 (ko) 웨이퍼 카세트 스테이지
KR200374866Y1 (ko) 웨이퍼 지지용 플래튼 조립체
KR20210048628A (ko) 기판 처리 장치
KR20210023427A (ko) 기판 지지 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination