KR100620167B1

KR100620167B1 - 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트

Info

Publication number: KR100620167B1
Application number: KR1020020086370A
Authority: KR
Inventors: 이수용
Original assignee: 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date: 2002-12-30
Filing date: 2002-12-30
Publication date: 2006-09-01
Also published as: KR20040059865A

Abstract

본 발명은 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트에 관한 것으로서, CVD 장치의 공정챔버(1; 도 1에 도시) 내측에 고정되는 쉐도우링(3)과 웨이퍼(W; 도 1에 도시)를 정렬하기 위해 사용되는 장치에 있어서, 원판으로 형성되고, 일측면에 동일한 중심을 가짐과 아울러 쉐도우링(3)의 내측 지름과 동일한 지름을 가지는 원을 기준으로 서로 다른 색채(13,14,15)를 가짐으로써 이들 색채(13,14,15)의 경계를 이루는 정렬기준부(11,12)가 형성되며, 쉐도우링(3)의 하측에서 정렬기준부(11,12)를 쉐도우링(3)의 내측면(3a)에 일치시킴으로써 웨이퍼(W; 도 1에 도시)를 대신하여 쉐도우링(3)과 정렬되는 것으로서, CVD 장치의 공정챔버내에서 웨이퍼가 쉐도우링과 정렬시 웨이퍼를 대신하여 쉐도우링과 용이하고도 정확하게 정렬되도록 함으로써 웨이퍼와 쉐도우링간의 정렬을 위한 시간과 작업자의 노고를 감소시킴과 아울러 웨이퍼의 증착공정을 안정적으로 실시할 수 있는 효과를 가지고 있다.

Description

쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트{CALIBRATION PLATE OF A WAFER TYPE FOR SETTING A SHADOW RING}

도 1은 종래의 CVD 장치의 공정챔버를 개략적으로 도시한 단면도이고,

도 2는 종래의 CMP 장치의 공정챔버에서 쉐도우링과 웨이퍼가 정렬된 상태를 도시한 평면도이고,

도 3은 종래의 CMP 장치의 공정챔버에서 쉐도우링과 웨이퍼가 정렬되지 않은 상태를 도시한 평면도이고,

도 4는 본 발명에 따른 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트를 도시한 평면도이고,

도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트를 쉐도우링과 정렬시키는 과정을 도시한 평면도이다.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >

3 ; 쉐도우링 3a ; 내측면

10 ; 정렬플레이트 11,12 ; 정렬기준부

본 발명은 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 CVD 장치의 공정챔버내에서 웨이퍼가 쉐도우링과 정렬시 웨이퍼를 대신하여 쉐도우링과 용이하고도 정확하게 정렬되도록 하는 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트에 관한 것이다.

반도체 소자를 제조하기 위한 공정에서 웨이퍼 표면에 분자기체를 반응시켜서 필요한 재질의 막을 형성하는 공정을 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition; 이하 "CVD"라 한다) 공정이라 하며, CVD 공정에서 텅스텐(tungsten) 증착공정은 웨이퍼 가장자리에 텅스텐이 증착됨을 방지하기 위하여 CVD 장치의 공정챔버에서 웨이퍼 상측에 쉐도우링(shadow ring)이 설치된다.

종래의 CVD 장치의 공정챔버를 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다.

도 1은 종래의 CVD 장치의 공정챔버를 개략적으로 도시한 단면도이다. 도시된 바와 같이, 진공 상태인 공정챔버(1)의 내부 하측에 히터(2)가 설치되고, 히터(2) 상측에 웨이퍼(W)가 위치하며, 웨이퍼(W)의 상측에는 쉐도우링(3)이 고정된다.

웨이퍼(W)는 미도시된 웨이퍼 이송아암에 의해 공정챔버(1) 내부로 로딩/언로딩되며, 웨이퍼(W)가 공정챔버(1)내에서 텅스텐 증착공정시 가장자리에 증착되지 않도록 그 중심이 미리 쉐도우링(3)의 중심과 일치되도록 도 2에서 나타낸 바와 같이, 정렬시킨다.

웨이퍼(W)가 공정챔버(1)내에서 쉐도우링(3)과 정렬되면 정렬된 웨이퍼(W)를 기준으로 삼아 웨이퍼 이송아암(미도시)이 다른 웨이퍼(W)를 공정챔버(1) 내부로 로딩시 정렬 위치로 로딩되도록 웨이퍼 이송아암(미도시)을 셋팅한다.

이와 같은 종래의 CMP 장치의 공정챔버는, 내측에 위치하는 웨이퍼(W)를 쉐도우링(3)과 정렬시 육안으로 이들을 정렬하거나 더미(dummy) 증착을 실시하여 웨이퍼(W)상에 나타난 증착된 상태를 육안을 통해 파악하여 이들을 정렬하고 있다.

그러나, 이러한 방법 등으로 웨이퍼(W)를 쉐도우링(3)에 정렬시 정렬의 기준없이 단순히 육안으로 대략적으로 정렬하기 때문에 웨이퍼(W)와 쉐도우링(3)의 정확한 정렬이 어려울 뿐만 아니라 정렬에 많은 시간이 소요되는 문제점을 가지고 있었다.

특히, 도 3에서 나타낸 바와 같이, 웨이퍼(W)를 쉐도우링(3)과 육안으로 정렬시 웨이퍼(W)가 쉐도우링(3)의 하측에 위치하게 되어 웨이퍼(W)와 쉐도우링(3)이 제대로 정렬이 되었는지를 알 수 없다는 문제점을 가지고 있었다.

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 CVD 장치의 공정챔버내에서 웨이퍼가 쉐도우링과 정렬시 웨이퍼를 대신하여 쉐도우링과 용이하고도 정확하게 정렬되도록 함으로써 웨이퍼와 쉐도우링간의 정렬을 위한 시간과 작업자의 노고를 감소시킴과 아울러 웨이퍼의 증착공정을 안정적으로 실시할 수 있는 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트를 제공하는데 있다.

이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은, CVD 장치의 공정챔버 내측에 고정되는 쉐도우링과 웨이퍼를 정렬하기 위해 사용되는 장치에 있어서, 원판으로 형성되고, 일측면에 원판의 중심과 동일한 중심을 가짐과 아울러 쉐도우링의 내측 지름과 동일한 지름을 가지는 원을 기준으로 서로 다른 색채를 가짐으로써 이들 색채의 경계를 이루는 정렬기준부가 형성되며, 쉐도우링의 하측에서 정렬기준부를 쉐도우링의 내측면에 일치시킴으로써 웨이퍼를 대신하여 쉐도우링과 정렬되는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.

도 4는 본 발명에 따른 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트를 도시한 평면도이고, 도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트를 쉐도우링과 정렬시키는 과정을 도시한 평면도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트(10)는 CVD 장치의 공정챔버(1; 도 1에 도시) 내측에 고정되는 쉐도우링(3)과 웨이퍼(W; 도 1에 도시)를 정렬하기 위해 사용되는 장치로서, 원판으로 형성됨과 아울러 쉐도우링(3)의 내측면(3a)과 일치시키는 정렬기준부(11,12)가 형성된다.

정렬플레이트(10)는 웨이퍼(W)의 형상과 동일한 형상인 원판 형상으로 형성된다.

정렬기준부(11,12)는 도 4 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 정렬플레이트(10)의 일측면에 정렬플레이트(10)의 중심, 즉 원판의 중심과 동일한 중심을 가짐과 아울러 쉐도우링(3)의 내측 지름과 동일한 지름을 가지는 원을 기준으로 서로 다른 색채(13,14,15)를 가짐으로써 이들 색채(13,14,15)의 경계를 이룬다.

한편, 정렬기준부(11,12)는 크기가 서로 다른 쉐도우링(3)의 내측면과 정렬되도록 복수로 형성되며, 본 실시예에서는 도 4에서 나타낸 바와 같이, 두 개가 형성된다. 따라서, 본 실시예에서처럼 지름이 d1,d2인 두 개의 정렬기준부(11,12)가 형성된 정렬플레이트(10)는 내측 지름이 d1과 d2인 쉐도우링(3) 각각의 정렬에 모두 사용될뿐만 아니라 정렬플레이트(10)의 지름인 d3와 동일한 내측 지름을 가지는 쉐도우링(3)의 정렬에도 사용된다.

이와 같은 구조로 이루어진 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트의 작용은 다음과 같이 이루어진다.

도 5a 및 도 5b는 쉐도우링(3)의 지름이 d2인 것을 예를 들었으며, 도 5a에서 나타낸 바와 같이, 정렬플레이트(10)를 공정챔버(1; 도 1에 도시)내의 쉐도우링(3) 하측에서 전후 및 좌우로 이동시켜서 도 5b에서 나타낸 바와 같이, 쉐도우링(3)의 지름과 동일한 d2의 지름을 가지는 정렬기준부(12)를 쉐도우링(3)의 내측면(3a)과 정렬시킨다.

정렬플레이트(10)의 정렬기분부(12)는 서로 다른 색채(14,15)에 의해 그 경계가 명확하므로 쉐도우링(3)의 내측면(3a)과 용이하고도 정확하게 정렬시킬 수 있다.

정렬플레이트(10)의 정렬기준부(12)가 공정챔버(1)내에서 쉐도우링(3)의 내 측면(3a)에 정렬되면 정렬된 정렬플레이트(10)를 기준으로 삼아 웨이퍼 이송아암(미도시)이 다른 웨이퍼(W)를 공정챔버(1) 내부로 로딩시 정렬 위치로 로딩되도록 웨이퍼 이송아암(미도시)을 셋팅한다.

그러므로, 정렬플레이트(10)에 정렬기준부(12)가 형성됨으로써 웨이퍼(W; 도 1에 도시)를 대신하여 쉐도우링(3)과 용이하고도 정확하게 정렬시킬 수 있어 웨이퍼(W; 도 1에 도시)와 쉐도우링(3)간의 정렬을 위한 시간과 작업자의 노고를 감소시킨다.

또한, 정렬플레이트(10)에 서로 크기가 다른 쉐도우링(3)의 내측면과 일치하는 정렬기준부(11,12)를 복수로 형성함으로써 다양한 크기의 쉐도우링(3)과의 정렬시 하나의 정렬플레이트(10)만으로도 정렬이 가능하다.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트는 CVD 장치의 공정챔버내에서 웨이퍼가 쉐도우링과 정렬시 웨이퍼를 대신하여 쉐도우링과 용이하고도 정확하게 정렬되도록 함으로써 웨이퍼와 쉐도우링간의 정렬을 위한 시간과 작업자의 노고를 감소시킴과 아울러 웨이퍼의 증착공정을 안정적으로 실시할 수 있는 효과를 가지고 있다.

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.

Claims

CVD 장치의 공정챔버 내측에 고정되는 쉐도우링과 웨이퍼를 정렬하기 위해 사용되는 장치에 있어서,

원판으로 형성되고, 일측면에 상기 원판의 중심과 동일한 중심을 가짐과 아울러 상기 쉐도우링의 내측 지름과 동일한 지름을 가지는 원을 기준으로 서로 다른 색채를 가짐으로써 이들 색채의 경계를 이루는 정렬기준부가 형성되며, 상기 쉐도우링의 하측에서 상기 정렬기준부를 상기 쉐도우링의 내측면에 일치시킴으로써 상기 웨이퍼를 대신하여 상기 쉐도우링과 정렬되는 것을 특징으로 하는 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트.
제 1 항에 있어서, 상기 정렬기준부는,

크기가 서로 다른 쉐도우링의 내측면과 정렬되도록 복수로 형성되는 것을 특징으로 하는 쉐도우링과의 정렬에 사용되는 웨이퍼 타입의 정렬플레이트.