KR19990066949A

KR19990066949A - 케라틴 섬유의 산화 염색 방법 및 이 방법에 사용되는 조성물

Info

Publication number: KR19990066949A
Application number: KR1019980702873A
Authority: KR
Inventors: 프로렁스 로렁; 다마리스 브라이다-발레리오
Original assignee: 앙드랄 크리스토프; 로레알
Priority date: 1995-10-20
Filing date: 1996-10-03
Publication date: 1999-08-16
Also published as: DK0855896T3; PL326867A1; ES2163656T3; US6251378B1; FR2740035A1; EP0855896B1; PT855896E; HUP9900035A2; WO1997015271A1; ATE205076T1; PL186298B1; KR100266303B1; JPH10512292A; DE69615039T2; DE69615039D1; AR004026A1; BR9610941A; CA2232426C; FR2740035B1; JP3202023B2

Abstract

본 발명은 케라틴 섬유, 특히 인간의 케라틴 섬유, 예컨대 모발의 염색 방법에 관한 것인데, 적어도 하나의 산화 염료를 함유하는 염료 조성물 그리고 적어도 하나의 산화제를 함유하는 산화 조성물을 사용하고, 상기 염료 조성물 및/또는 상기 산화 조성물은 적어도 하나의 세라미드형 화합물을 함유한다.

본 발명은 또한 적어도 하나의 산화 염료 그리고 적어도 하나의 세라미드형 화합물 (본 방법에 사용됨) 을 함유하는 염료 조성물에 관한 것이다.

Description

케라틴 섬유의 산화 염색 방법 및 이 방법에 사용되는 조성물

케라틴 섬유 착색에는 주요한 2개의 유형이 있다: 여러 번의 세척 후에 흐릿해지는 일시적인 색상을 섬유에 제공하는 착색된 분자인 직접 염료 및/또는 안료를 사용하는 직접 착색, 그리고 산화 염색 전구체 및 산화제 (오래가는 색을 섬유에 제공함) 를 사용하는 소위 "산화 염색" 착색.

산화 염색과 관련해서, 산화 염료 전구체 (통상, 산화 염기로서 공지되어 있음), 특히 오르토- 또는 파라페닐렌디아민, 오르토- 또는 파라아미노페놀, 그리고 헤테로 고리형 화합물 을 함유하는 염료 조성물을 통상 사용한다. 산화 염료 전구체, 즉 산화 염기는 무색이거나 약간의 색이 있는 화합물인데, 이러한 화합물은 산화 생성물과 결합될 때, 산화 응축의 공정에 의해 착색된 화합물과 염료를 제공할 수 있다.

이들 산화 염기로 얻은 농담의 정도는 커플링제 또는 착색 개질제와 산화 염기의 결합으로 변할 수 있는데, 착색 개질제는 특히 방향족 메타-디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 어떤 헤테로고리 화합물, 예컨대 인돌린 화합물에서 선택된다.

산화 염기 및 커플링제에 사용되는 분자의 따라, 다양한 색을 얻는다.

상기에 나타나 있는 바와 같이, 산화 염색에 의한 모발은 염색된 상태로 오래 지속되지만, 그러한 염색이 수행된 결과, 케라틴 섬유는 약간 저하된다. 이러한 이유는 산화제 그리고 통상의 아주 알칼리성 매질의 존재의 결과, 케라틴 섬유가 저하되고, 거칠어지고 부서지기 쉽기 때문이다.

산화 염료의 도움으로 얻은 소위 "퍼머넌트(permanent)" 염색은 또한 어느정도의 요구 조건을 만족시켜야 한다. 따라서, 농담의 정도를 원하는 강도로 얻을 수 있어야 하고 외부의 작인 (作因) (빛, 나쁜 날씨, 세척, 퍼머넌트-웨이브, 발한, 마찰) 에 대해 우수한 견고함을 가져야 한다.

놀랍고도 예기치 못하게, 출원인은 케라틴 섬유의 산화 염색용 조성물 중 세라미드형의 사용해서 이러한 섬유를 착색하게 되는데, 이러한 착색으로, 이들 섬유는 섬유가 겪게되는 외부의 공격 인자에 대해 우수한 내구성을 나타낸다는 것을 발견했다.

이러한 발견이 본 발명의 기초를 이룬다.

본 발명은 케라틴 섬유, 특히 인간의 케라틴 섬유, 예컨대 모발의 염색 방법에 관한 것인데, 하기가 이들 섬유에 사용되는 것을 특징으로 한다:

- 염색에 적합한 매질에 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀, 헤테로 고리 염기 및 하기식 (I) 의 파라-페닐렌디아민에서 선택되는 적어도 하나의 산화 염기, 그리고 이들 화합물과 산의 부가염을 함유하는 적어도 하나의 염료 조성물:

(식중,

R₁은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬, 페닐 또는 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내고,

R₂는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼, R₃수소 원자, 할로겐 원자, 예컨대 염소, 브롬, 요오드 또는 플루오르 원자, 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₁-C₄히드록시알콕시 라디칼을 나타내고,

R₄는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 낸다);

- 사용할 때만 염료 조성물에 첨가되거나 각각의 방법으로 동시에 또는 연속적으로 사용되는 산화 조성물에 존재하는 산화제를 사용해서 산성, 중성 또는 염기성 pH 에서 현상되는 색;

상기 염료 조성물 및/또는 산화 조성물은 적어도 하나의 세라미드형 화합물을 함유한다.

본 발명에 따른 염색 방법으로 색상은 빛과 나쁜 날씨와 같은 대기의 작인에 관한, 그리고 모발이 겪는 발한과 각종 처리 (세척, 퍼머넌트 웨이브) 에 관한 저항성이 탁월하다. 또한, 이렇게 염색된 섬유는 산화 염색 방법에 의해 덜 손상되고 세라미드형 화합물을 사용하지 않는 염색 공정을 사용할 때보다 더 부드럽고 부서지기 쉽지 않다.

본 발명에 따른 염색 방법의 특히 바람직한 구현예에 따라, 상기의 염료 조성물이 상기 산화 조성물과 사용시에 혼합되는데, 이러한 산화 조성물은 매질 중 색을 현상시키는데 충분한 양으로 존재하는 적어도 하나의 산화제를 염색하기에 적합한 매질 중에 함유한다. 그 다음, 얻은 혼합물은 케라틴 섬유에 적용되고, 섬유가 린스되고, 삼푸로 세척되고, 다시 린스되고 건조된 후, 약 3 내지 50 분, 바람직하게는 약 5 내지 30 분 동안 섬유 위에 남아있다.

염료 조성물 및/또는 산화 조성물에 사용될 수 있는 세라미드형 화합물은 원래 공지되어 있다. 상기 화합물은 원래 세라미드류, 예컨대 글리코세라미드, 유사 세라미드 및 네오세라미드를 포함하는데, 천연 또는 합성이 될 수 있다.

세라미드형화합물은 예를 들어 특허 출원 DE-A-4,424,530, DE-A-4,424,533, DE-A-4,402,929, DE-A-4,420,736, WO 95/23807, WO 94/07844, EP-A-0,646,572, WO 95/16665, FR-A-2,673,179, EP-A-0,227,994, WO 94/07844, WO 94/24097 및 WO 94/10131 에 서술되어 있는데, 가르침은 여기에 참고로 포함되어 있다.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 천연 또는 합성 세라미드형 화합물은 바람직하게는 하기식 (II) 에 상응한다:

[여기서,

- R₅은 하기를 나타낸다:

- 포화 또는 불포화된, 선형 또는 분지형, C₅-C₅₀탄화수소 라디칼 {이러한 라디칼은 산 R₁₀COOH (R₁₀는 모노- 또는 폴리히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된, C₁-C₃₅탄화수소 라디칼이고, 라디칼 R₁₀의 히드록실(들)은 임의의 모노- 또는 폴리히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된 C₁-C₃₅지방산에 의해 에스테르화될 수 있다) 에 의해 에스테르화될 수 있는 하나 이상의 히드록실기로 치환될 수 있다}; 또는

- 라디칼 R"-(NR-CO)-R' (R 은 수소 원자 또는 모노 또는 폴리히드록실화된, 바람직하게는 모노히드록실화된, C₁-C₂₀탄화수소 라디칼을 나타내고, R' 및 R" 은 탄소 원자의 합이 9 내지 30 인 탄화수소 라디칼이고, R' 는 2가 라디칼이다); 또는

- 라디칼 R₁₁-O-CO (CH₂)_p(R₁₁은 C₁-C₂₀탄화수소 라디칼이고, p 는 1 내지 12 의 정수이다) ;

- R₆는 수소 원자 또는 (글리코실)_n, (갈락토실)_m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼을 나타내는데, 여기서, n 은 1 내지 4 의 정수이고, m 은 1 내지 8 의 정수이고;

- R₇은 수소 원자 또는 히드록실화된 또는 히드록실화되지 않은, 포화 또는 불포화된, C₁-C₃₃탄화수소 라디칼을 나타내는데, 히드록실(들)은 무기산 또는 산 R₁₀COOH (R₁₀은 상기와 동일하다) 에 의해 에스테르화될 수 있고, 히드록실(들)은 (글리코실)_n, (갈락토실)_m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에스트화될 수 있고, 또한, R₇는 하나 이상의 C₁-C₁₄알킬 라디칼로 치환될 수 있고; 바람직하게는, R₇는 C₁₅-C₂₆α-히드록시알킬 라디칼을 나타내는데, 히드록실기는 C₁₆-C₃₀α-히드록시산에 의해 임의로 에스테르화될 수 있고;

- R₈는 수소 원자, 또는 메틸 또는 에틸 라디칼, 또는 임의로 히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된, C₃-C₅₀탄화수소 라디칼 또는 라디칼 -CH₂-CHOH-CH₂-0-R₁₂{여기서, R₁₂은 C₁₀-C₂₆탄화수소 라디칼 또는 라디칼 R₈-O-CO-(CH₂)_p(R₁₁는 C₁-C₂₀탄화수소 라디칼이고, p 는 1 내지 12 의 정수이다) 이다} 를 나타내고; ;

- R₉는 수소 원자 또는 임의의 모노- 또는 폴리히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된, C₁-C₃₀탄화수소 라디칼인데, 히드록실(들)은 (글리코실)_n, (갈락토실)_m, 술포갈락토실 라디칼, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에스테르화될 수 있는데, R₇및 R₉가 수소를 나타내거나 R₇가 수소를 나타내고 R₉가 메틸을 나타낼 경우, R₈은 수소 원자, 또는 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내지 않아야 한다].

상기식 (II) 의 화합물 중에서, 구조가 DOWNING (Journal of Lipid Research Vol. 35, p, 2060-2068, 1994) 에 기술되는 세라미드 및/또는 글리코세라미드, 또는 프랑스 특허 출원 FR-2,673,179에 서술되어 있는 것이 바람직한데, 그의 가르침이 여기에 참고로 서술되어 있다.

본 발명에 따라 특히 바람직한 세라미드형의 화합물은 식 (II) 의 화합물인데, R₅은 임의로 히드록실화된, C₁₄-C₂₂지방산에서 유래한 포화 또는 불포화된 알킬을 나타내고, R₆는 수소 원자를 나타내고, R₇는 임의로 히드록실화된 선형 불포화된 C_11-17, 바람직하게는 C_13-15라디칼을 나타낸다.

그와 같은 화합물의 예는 하기와 같다:

- N-리노레오일디히드로스핀고신,

- N-올레오일디히드로스핀고신,

- N-팔미토일디히드로스핀고신,

- N-스테아로일디히드로스핀고신,

- N-베헤노일디히드로스핀고신,

- N-2-히드록시팔미토일디히드로스핀고신,

- N-스테아로일피토스핀고신,

- N-팔미트아미도헥사데칸디올, 또는 이들 화합물의 혼합물.

또한, 특정의 혼합물, 예컨대 DOWNING 분류에 따른 세라미드(들) 2 및 세라미드(들) 5 의 혼합물을 사용할 수 있다.

식 (II) 의 화합물을 사용할 수 있는데, 여기서, R₅은 지방산에서 유래한 포화 또는 불포화된 알킬 라디칼을 나타내고, R₆는 갈락토실 또는 술포갈락토실 라디칼을 나타내고, R₇는 포화 또는 불포화된 C₁₂-C₂₂탄화수소 라디칼, 바람직하게는 기 -CH=CH-(CH₂)₁₂-CH₃을 나타낸다.

예로서, 글리코세라미드의 혼합물로 이루어진 제품 (상표명 GLYCOCER, WAITAKI INTERNATIONAL BIOSCIENCES 사 판매) 을 언급할 수 있다.

또한, 특허 출원 EP-A-0,227,994 및 W0 94/07844 에 서술되어 있는 식 (II) 의 화합물을 사용할 수 있다.

그와 같은 화합물의 예는 다음과 같다: QUESTAMIDE H (비스-(N-히드록시에틸-N-세틸)말론아미드) (QUEST 사 판매), 및 세틸산 N-(2-히드록시에틸)-N-(3-세틸록시-2-히드록시프로필)아미드.

또한, 특허 출원 WO 94/24097 에 서술되어 있는 N-도코사노일-N-메틸-D-글루카민을 사용할 수 있다.

본 발명의 방법에 사용되는 염료 조성물 중 산화 염기로서 사용될 수 있는 비스(페닐)알킬렌디아민 중에서, 특히 하기식 (III) 에 상응하는 화합물, 그리고 산과의 그의 부가염을 언급할 수 있다.

{여기서,

Z₁및 Z₂는 동일하거나 상이하고, 히드록실 라디칼 또는 라디칼 NHR₁₆(여기서, R₁₆은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타낸다) 을 나타내고, R₁₃은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬 또는 C₁-C₄아미노알킬 라디칼 (여기서, 아미노 잔기는 치환될 수 있다) 을 나타내고,

R₁₄및 R₁₅는 동일하거나 상이하고, 수소 또는 할로겐 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내고,

Y 는 하기 라디칼을 구성하는 군에서 선택된 하나의 라티칼:

-(CH₂)_m-; -(CH₂)_m-O-(CH₂)_m-; -(CH₂)_m-CHOH-(CH₂)_m- 및

(여기서, n 은 0 내지 8 의 정수이고, m 은 0 내지 4 의 정수이다) 이다}.

상기 식 (III) 의 비스(페닐)알킬렌디아민 중에서, 특히 하기를 언급할 수 있다: N,N'-비스(β-히드록시에틸-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민, 그리고 산과의 그의 부가 염.

식 (III) 의 이들 비스(페닐)알킬렌디아민 중에서, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올 또는 산과의 그의 부가 염 중의 하나가 특히 바람직하다.

본 발명의 방법에 사용되는 염료 조성물 중 산화 염기로서 사용될 수 있는 파라-아미노페놀 중에서, 하기식 (IV) 의 화합물, 그리고 산과의 그의 부가 염을 언급할 수 있다:

(여기서,

R₁₇은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, (C₁-C₄)알콕시(C₁-C₄)알킬, C₁-C₄아미노알킬 또는 히드록시(C₁-C₄)알킬아미노(C₁-C₄)알킬 라디칼을 나타내고,

R₁₈은 수소 또는 플루오르 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬, C₁-C₄아미노알킬, 시아노(C₁-C₄)알킬 또는 (C₁-C₄)알콕시 (C₁-C₄)알킬 라디칼을 나타내는데, 라디칼 R₁₇및 R₁₈중의 적어도 하나는 수소원자를 나타낸다).

상기 식 (IV) 의 파라-아미노페놀 중에서, 특히 하기를 언급할 수 있다: 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀 및 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀, 그리고 산과의 그의 부가 염.

본 발명의 방법에 사용되는 염료 조성물 중 산화 염기로서 사용될 수 있는 오르토-아미노페놀 중에서, 특히 하기를 언급할 수 있다: 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 그리고 산과의 그의 부가 염.

본 발명의 방법에 사용되는 염료 조성물 중 산화 염기로서 사용될 수 있는 헤테로 고리 염기 중에서, 특히 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 및 피라졸 유도체, 그리고 산과의 그의 부가 염을 언급할 수 있다.

피리딘 유도체 중에서, 특히, 예를 들어, GB 특허 1,026,978 및 1,153,196 에 서술되어 있는 화합물, 예컨대 2,5-디아미노필기딘 그리고 산과의 그의 부가 염을 언급할 수 있다.

피리미딘 유도체 중에서, 특히 독일 특허 DE 2,359,399 또는 일본 특허 JP 88-169,571 및 JP 91-333,495 에 서술되어 있는 화합물, 예컨대 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘 및 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 그리고 산과의 그의 부가 염을 언급할 수 있다.

피라졸 유도체 중에서, 특히 특허 DE 3,843,892 및 DE 4,133,957 그리고 특허 출원 Wo 94/08969 및 WO 94/08970 에 서술되어 있는 화합물, 예컨대 4,5-디아미노-l-메틸피라졸, 3,4-디아미노피라졸 및 4,5-디아미노-l-(4'-클로로벤질)피라졸, 그리고 산과의 그의 부가 염을 언급할 수 있다.

상기 식 (I) 의 파라페닐렌디아민 중에서, 특히 하기를 언급할 수 있다: 파라-페닐렌디아민, 파라-톨루일렌디아민, 2-클로로파라페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-비스(β-히드록시에틸)-3-메틸아닐린, 4-아미노-3-클로로-N,N-비스(P-히드록시에틸)아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-(에틸,β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라페닐렌디아민 및 2-β-히드록시에틸록시-파라페닐렌디아민, 그리고 산과의 그의 부가 염.

상기 식 (I) 의 파라-페닐렌디아민 중에서, 파라-페닐렌디아민, 파라톨루일렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸록시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민 및 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 그리고 산과의 그의 부가 염이 가장 바람직하다.

세라미드형의 화합물(들)은 염료 조성물의 전체 중량에 대해 또는 산화 조성물의 전체 중량에 대해 바람직하게는 약 0.0001 내지 10 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.001 내지 5 중량 % 를 나타낸다.

산화 염기(들) 은 염료 조성물의 전체 중량에 대해 바람직하게는 약 0.0001 내지 20 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 10 중량 % 를 나타낸다.

본 발명의 염색 방법에 사용되는 염료 조성물은 통상 산화 염색에서 통상 사용되는 화합물에서 선택되는 하나 이상의 커플링제를 함유하는데, 그 예는 하기와 같다: 메타-디페놀, 메타-아미노페놀, 메타-페닐렌디아민, 모노- 또는 폴리히드록실화된 나프탈렌 유도체, 세사몰, 그리고 그의 유도체, 헤테로 고리 화합물, 예컨대 피리딘 커플링제 및 인돌 커플링제, 그리고 산과의 그의 부가 염.

커플링제(들) 은 염료 조성물의 전체 중량에 대해 바람직하게는 약 0.0005 내지 20 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.01 내지 10 중량 % 를 나타낸다.

본 발명의 방법에 사용되는 염료 조성물 (식 (I) 의 파라-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀, 헤테로 고리 염기 및 커플링제) 에 사용될 수 있는 산과의 부가 염 은 특히 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 술페이트 및 타르트레이트로부터 선택된다.

본 발명에 따른 염색 방법에 사용되는 염료 조성물용 (지지체 또는) 염색에 적합한 매질은 통상 물, 또는 물에 충분하게 용해되지 않는 화합물을 용해시키기 위한 적어도 하나의 유기 용매와 물의 혼합물로 이루어진다. 유기 용매로서, 예를 들어 하기를 언급할 수 있다: C₁-C₄저급 알카놀, 예컨대 에탄올 및 이소프로판올; 글리세롤; 글리콜 및 글리콜 에테르, 예컨대 2-부톡시에탄올, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 및 모노메틸 에테르, 그리고 방향족 알코올, 예컨대 벤질 알코올 또는 페녹시에탄올, 유사한 생성물 그리고 그의 혼합물.

용매는 염료 조성물의 전체 중량에 대해 바람직하게는 약 1 내지 40 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 30 중량 % 의 비로 존재할 수 있다.

본 발명에 따른 염색 공정에서 사용되는 염료 조성물의 pH 는 통상 3 내지 11.5, 더욱 바람직하게는 7 내지 11 이다. 상기 pH 는 케라틴 섬유의 염색에 통상 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용해서 원하는 값에 맞출 수 있다.

산성화제 중에서, 예로서, 무기 또는 유기 산, 예컨대 염산 및 오르토인산, 카르복실산, 에컨대 타르타르산, 시트르산 및 락트산 및 술폰산을 언급할 수 있다.

염기성화제 중에서, 예로서, 암모니아수, 알칼리성 카르보네이트, 알카놀아민, 예컨대 모노-, 디- 및 트리에탄올아민 그리고 그의 유도체, 소듐 히드록시드, 포테슘 히드록시드, 그리고 하기식 (V) 의 화합물을 언급할 수 있다.

(여기서, W 는 히드록실기 또는 C₁-C₄알킬 라디칼로 임의로 치환된 프로필렌 잔기이고; R₁₉, R₂₀, R₂₁, 및 R₂₂는 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬 또는 C₁-C₄히드록시알킬 라디칼을 나타낸다).

본 발명에 따른 염색 공정에 사용되는 염료 조성물은 또한 색조의 미묘한 차이를 작게하고 염료에 광택을 제공하기 위해 상기의 염료에 추가해서 직접 염료를 함유할 수 있다.

본 발명의 염색 방법에 사용되는 염료 조성물은 또한 모발 염색용 조성물에 전통적으로 사용되는 각종 보조제, 예컨대 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제 또는 그의 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쯔비터이온성 폴리머 또는 그의 혼합물, 무기 또는 유기 증점제, 산화방지제, 투과제, 금속이온봉쇄제, 방향제, 버퍼, 분산제, 컨디셔너, 예컨대 실리콘, 필름형성제, 방부제 및 불투명제를 함유할 수 있다.

말할 필요도 없이, 당업자는 이들 임의의 보충하는 화합물을 주의해서 선택할 것이고, 본 발명에 따른 염색 공정과 본질적으로 관련된 유익한 성질은 고려중인 부가에 의한 역효과가 없거나 실질적으로 없다.

본 발명의 염색 방법에 사용되는 염료 조성물은 각종 형태, 예컨대 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 어떤 다른 형태 (케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색하는데 적합함) 가 될 수 있다.

본 발명의 염색 방법에 사용되는 산화 조성물에 존재하는 산화제는 케라틴 섬유의 산화 염색에 전통적으로 사용되는 산화제로부터 선택될 수 있는데, 이들 중에서, 과산화 수소, 과산화 우레아, 알칼리 금속 브로메이트 및 과염, 예컨대 퍼보레이트 및 퍼술페이트를 언급할 수 있다. 과산화 수소가 특히 바람직하다.

상기의 산화제를 함유하는 산화 조성물의 pH 는, 염료 조성물을 혼합한 후, 케라틴 섬유에 사용되는 수득한 조성물의 pH 는 바람직하게는 약 3 내지 12, 더욱 바람직하게는 5 내지 11 이 될 정도이다. 케라틴 섬유의 염색에 통상 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용해서 원하는 값을 맞츤다.

상기의 산화 조성물은 또한 모발을 염색하기 위한 조성물에 전통적으로 사용되는 각종 보조제를 함유할 수 있다.

케라틴 섬유에 최종적으로 적용되는 조성물은 각종 형태, 예컨대 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 어떤 다른 형태 (케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색하는데 적합함) 가 될 수 있다.

본 발명의 방법에 사용되고 적어도 하나의 산화 염기 그리고 세라미드 형의 적어도 하나의 산화 염기를 함유하는 염료 조성물이 본 발명의 대상이다.

본 발명의 다른 대상은 다(多)구획 염색 장치 또는 "키트 (kit)" 또는 어떤 다른 다구획 포장 시스템인데, 첫번째 구획은 상기의 염료 조성물을 함유하고, 두번째 구획은 상기의 산화 조성물을 함유한다. 이들 장치는 원하는 혼합물을 모발에 적용하는 기구 (예컨대, 출원인의 명의로 특허 FR-2,586,913 에 서술되어 있는 장치) 가 설치될 수 있다.

하기의 실시예는 본 발명을 설명하기 위함이지 제한하는 것은 아니다.

실시예

비교예 1 및 2

하기 염료 조성물을 제조한다 (그램 함량):

실시예	1(*)	2
파라-페닐렌디아민	0.018	0.108
메타-아미노페놀	0.109	0.109
N-올레오일디히드로스핀고신 (세라미드)	0	2.5
통상의 염료 지지체	(**)	(**)
탈염수 q.s.	100 g	100 g
(): 본 조성물은 본 발명의 부분이 아니다.(*): 통상의 염료 지지체:- 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올 (50/50 혼합물) 18 g- 2-옥틸도데카놀 3 g- 15 몰의 에틸렌 옥시드로 옥시에틸렌화된 세틸스테아릴 알코올 3 g- 30 % 의 활성 물질(A.M.)을 함유하는 암모늄 라우릴 술페이트 12 g- 하기의 반복 단위를 갖는 양이온성 폴리머의 60 % A.M. 함유하는 수용액:3 g A.M.- 20 % NH₃을 함유하는 암모니아수 12 g- 암모늄 티오락테이트 (티오락트산의 50 eq. % 를 함유함) 0.8 g

사용시에, 각 염료 조성물은 20-체적 과산화 수소 수용액 (6 중량 %) 의 1.5 배의 중량과 혼합된다.

각 수득한 조성물은 30 분 동안 90 % 백색 모발을 포함하는 자연적인 회색 모발의 타래에 30 분 동안 적용된다. 그 다음, 모발의 타래를 린스, 표준 삼푸로 세척한 다음 건조시킨다.

그 다음, 이렇게 염색된 모발의 타래를 나쁜 날씨에 견디는 시험을 한다. 이러한 시험의 목적은 광(光) 및 연수(軟水) 의 동시 작용 하의 착색 (Xenotest) 의 저하를 평가하는 것이다.

이렇게 하기 위해서, 염색된 모발의 타래는 지지체 (판지 또는 플라스틱) 위에 고정된다. 이들 지지체는 60 % 의 상대 수분 함량 그리고 42.5 ± 2.5 ℃ 의 온도에서, 64 시간 동안, 크세논 램프 주위에서 회전하는 샘플 홀더 상에 배열된다. 64 시간 동안에, 빛의 작용이 12 시간 마다 중단되는 것은 30 분 동안 타래를 찬비를 맞추기 위해서이다.

타래의 색은 Minolta CM 2002 비색계(比色計)를 사용해서 나쁜 기후에 견디는 시험 전과 후에 Munsell 시스템으로 평가된다.

Munsell 표시에 따라, 색은 3개의 파라미터가 각각 농담의 정도, 즉 색조 (H), 강렬함, 즉 값 (V) 그리고 순도, 즉 색도 (C) 를 나타내는 표현 HV/C 에 의해 결정되고, 이러한 표현에서의 사선은 단지 약정이고 비를 나타내는 것은 아니다.

내광성 전과 후의 각 타래의 색의 차이는 빛의 작용으로 인한 착색의 저하를 반영하고, 하기 Nickerson 식 ("Couleur, Industrie et Technique"; p. 14-17; Vol. No. 5; 1978) 을 사용해서 계산된다:

△E = 0.4 Co△H + 6△H + 3△C

상기식에서, △E 는 두개의 타래 사이의 색의 차이를 나타내고, △H, △V 및 △C 는 파라미터 H, V 및 C 의 절대값에서의 변화를 나타내고, Co 는 색의 차이를 평가하기를 원하는 것에 대한 타래의 순도 (시험전의 타래의 순도) 를 나타낸다.

결과는 하기 표 II 에 나타나 있다.

실시예	시험 전의 색	시험 후의 색	착색의 저하
실시예	시험 전의 색	시험 후의 색	△H	△V	△C	△E
1(*)	5.2 R 3.2/2.5	9.85 YR 5.5/2.7	14.65	2.3	0.2	29
2	5.4 R 3.7/2.7	9.05 YR 4.3/2.7	13.4	0.6	0	18.1
(*): 예는 본 발명의 부분이 아니다.

이들 결과는 조성물 1 이 세라미드를 함유하지 않기 때문에, 본 발명의 부분을 형성하지 않는 조성물 1 이 본 발명에 따른 조성물 2 (세라미드를 함유하는 조성물) 로 얻은 착색보다 나쁜 날씨의 작용에 대한 저항성이 떨어지는 모발 상의 착색을 얻는다는 것을 나타내고 있다.

Claims

케라틴 섬유, 특히 인간의 케라틴 섬유, 예컨대 모발의 염색 방법으로서, 이들 섬유에 하기를 적용하는 것을 특징으로 하는 방법:

- 염색에 적합한 매질에 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀, 헤테로 고리 염기 및 하기식 (I) 의 파라-페닐렌디아민에서 선택되는 적어도 하나의 산화 염기, 그리고 이들 화합물과 산의 부가염을 함유하는 적어도 하나의 염료 조성물:

[화학식 I]

(식중,

R₁은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬, 페닐 또는 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내고,

R₂는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼을 나타내고,

R₃는 수소 원자, 할로겐 원자, 예컨대 염소, 브롬, 요오드 또는 플루오르 원자, 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₁-C₄히드록시알콕시 라디칼을 나타내고,

R₄는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 낸다);

- 사용할 때만 염료 조성물에 첨가되거나 각각의 방법으로 동시에 또는 연속적으로 사용되는 산화 조성물에 존재하는 산화제를 사용해서 산성, 중성 또는 염기성 pH 에서 현상되는 색;

상기 염료 조성물 및/또는 산화 조성물은 적어도 하나의 세라미드형 화합물을 함유한다.
제 1 항에 있어서, 상기의 염료 조성물이 상기 산화 조성물과 사용시에 혼합되는데, 이러한 산화 조성물은 매질 중 색을 현상시키는데 충분한 양으로 존재하는 적어도 하나의 산화제를 염색하기에 적합한 매질 중에 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 세라미드형의 화합물(들)이 하기식 (II) 에 상응하는 천연 또는 합성 분자로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:

[화학식 II]

[여기서,

- R₅은 하기를 나타낸다:

- 포화 또는 불포화된, 선형 또는 분지형, C₅-C₅₀탄화수소 라디칼 {이러한 라디칼은 산 R₁₀COOH (R₁₀는 모노- 또는 폴리히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된, C₁-C₃₅탄화수소 라디칼이고, R₁₀라디칼의 히드록실(들)은 임의의 모노- 또는 폴리히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된 C₁-C₃₅지방산에 의해 에스테르화될 수 있다) 에 의해 에스테르화될 수 있는 하나 이상의 히드록실기로 치환될 수 있다}; 또는

- 라디칼 R"-(NR-CO)-R' (R 은 수소 원자 또는 모노 또는 폴리히드록실화된, 바람직하게는 모노히드록실화된, C₁-C₂₀탄화수소 라디칼을 나타내고, R' 및 R" 은 탄소 원자의 합이 9 내지 30 인 탄화수소 라디칼이고, R' 는 2가 라디칼이다); 또는

- 라디칼 R₁₁-O-CO (CH₂)_p(R₁₁은 C₁-C₂₀탄화수소 라디칼이고, p 는 1 내지 12 의 정수이다) ;

- R₆는 수소 원자 또는 (글리코실)_n, (갈락토실)_m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼을 나타내는데, 여기서, n 은 1 내지 4 의 정수이고, m 은 1 내지 8 의 정수이고;

- R₇은 수소 원자 또는 히드록실화된 또는 히드록실화되지 않은, 포화 또는 불포화된, C₁-C₃₃탄화수소 라디칼을 나타내는데, 히드록실(들)은 무기산 또는 산 R₁₀COOH (R₁₀은 상기와 동일하다) 에 의해 에스테르화될 수 있고, 히드록실(들)은 (글리코실)_n, (갈락토실)_m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에스트화될 수 있고, 또한, R₇는 하나 이상의 C₁-C₁₄알킬 라디칼로 치환될 수 있고; 바람직하게는, R₇는 C₁₅-C₂₆α-히드록시알킬 라디칼을 나타내는데, 히드록실기는 C₁₆-C₃₀α-히드록시산에 의해 임의로 에스테르화될 수 있고;

- R₈는 수소 원자, 또는 메틸 또는 에틸 라디칼, 또는 임의로 히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된, C₃-C₅₀탄화수소 라디칼 또는 라디칼 -CH₂-CHOH-CH₂-0-R₁₂{여기서, R₁₂은 C₁₀-C₂₆탄화수소 라디칼 또는 라디칼 R₈-O-CO-(CH₂)_p(R₁₁는 C₁-C₂₀탄화수소 라디칼이고, p 는 1 내지 12 의 정수이다) 이다} 를 나타내고; ;

- R₉는 수소 원자 또는 임의의 모노- 또는 폴리히드록실화된, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화된, C₁-C₃₀탄화수소 라디칼인데, 히드록실(들)은 (글리코실)_n, (갈락토실)_m, 술포갈락토실 라디칼, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에스테르화될 수 있는데, R₇및 R₉가 수소를 나타내거나 R₇가 수소를 나타내고 R₉가 메틸을 나타낼 경우, R₈은 수소 원자, 또는 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내지 않아야 한다].
제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 세라미드 형의 화합물이 식 (II) 의 화합물 (여기서, R₅은 임의로 히드록실화된, C₁₄-C₂₂지방산에서 유래한 포화 또는 불포화된 알킬을 나타내고, R₆는 수소 원자를 나타내고, R₇는 임의로 히드록실화된 선형 불포화된 C_11-17, 바람직하게는 C_13-15라디칼을 나타낸다) 로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서, 세라미드가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:

- N-리노레오일디히드로스핀고신,

- N-올레오일디히드로스핀고신,

- N-팔미토일디히드로스핀고신,

- N-스테아로일디히드로스핀고신,

- N-베헤노일디히드로스핀고신,

- N-2-히드록시팔미토일디히드로스핀고신,

- N-스테아로일피토스핀고신,

- N-팔미트아미도헥사데칸디올, 또는 이들 화합물의 혼합물.
제 3 항에 있어서, 세라미드가 식 (II) 의 화합물 (여기서, R₅은 지방산에서 유래한 포화 또는 불포화된 알킬 라디칼을 나타내고, R₆는 갈락토실 또는 술포갈락토실 라디칼을 나타내고, R₇는 포화 또는 불포화된 C₁₂-C₂₂탄화수소 라디칼, 바람직하게는 기 -CH=CH-(CH₂)₁₂-CH₃을 나타낸다) 로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 6 항 중의 어느 한 항에 있어서, 비스(페닐)알킬렌디아민이 하기식 (III) 에 상응하는 화합물, 및 산과의 그의 부가염에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:

[화학식 III]

{여기서,

Z₁및 Z₂는 동일하거나 상이하고, 히드록실 라디칼 또는 라디칼 NHR₁₆(여기서, R₁₆은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타낸다) 을 나타내고, R₁₃은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬 또는 C₁-C₄아미노알킬 라디칼 (여기서, 아미노 잔기는 치환될 수 있다) 을 나타내고,

R₁₄및 R₁₅는 동일하거나 상이하고, 수소 또는 할로겐 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내고,

Y 는 하기 라디칼을 구성하는 군에서 선택된 하나의 라티칼:

-(CH₂)_m-; -(CH₂)_m-O-(CH₂)_m-; -(CH₂)_m-CHOH-(CH₂)_m- 및

(여기서, n 은 0 내지 8 의 정수이고, m 은 0 내지 4 의 정수이다) 이다}.
제 7 항에 있어서, 식 (III) 의 비스(페닐)알킬렌디아민이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법: N,N'-비스(β-히드록시에틸-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민, 그리고 산과의 그의 부가 염.
제 1 항 내지 제 8 항 중의 어느 한 항에 있어서, 파라-아미노페놀이 하기식 (IV) 의 화합물, 및 산과의 그의 부가 염에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:

[화학식 IV]

(여기서,

R₁₇은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, (C₁-C₄)알콕시(C₁-C₄)알킬, C₁-C₄아미노알킬 또는 히드록시(C₁-C₄)알킬아미노(C₁-C₄)알킬 라디칼을 나타내고,

R₁₈은 수소 또는 플루오르 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬, C₁-C₄아미노알킬, 시아노(C₁-C₄)알킬 또는 (C₁-C₄)알콕시 (C₁-C₄)알킬 라디칼을 나타내는데, 라디칼 R₁₇및 R₁₈중의 적어도 하나는 수소원자를 나타낸다).
제 9 항에 있어서, 식 (IV) 의 파라-아미노페놀이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법: 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀 및 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀, 그리고 산과의 그의 부가 염.
제 1 항 내지 제 10 항 중의 어느 한 항에 있어서, 오르토-아미노페놀이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법: 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 그리고 산과의 그의 부가 염.
제 1 항 내지 제 11 항 중의 어느 한 항에 있어서, 헤테로 고리 염기가 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 및 피라졸 유도체, 그리고 산과의 그의 부가 염에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
제 12 항에 있어서, 헤테로 고리 산화 염기가 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 2,5-디아미노피리딘, 4,5-디아미노-1-메틸피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4'-클로로벤질)피라졸 및 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 그리고 산과의 그의 부가염에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 13 항 중의 어느 한 항에 있어서, 식 (I) 의 파라페닐렌디아민이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법: 파라-페닐렌디아민, 파라-톨루일렌디아민, 2-클로로파라페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-비스(β-히드록시에틸)-3-메틸아닐린, 4-아미노-3-클로로-N,N-비스(P-히드록시에틸)아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-(에틸,β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라페닐렌디아민 및 2-β-히드록시에틸록시-파라페닐렌디아민, 그리고 산과의 그의 부가 염.
제 14 항에 있어서, 식 (I) 의 파라-페닐렌디아민이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법: 파라-페닐렌디아민, 파라톨루일렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸록시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민 및 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 그리고 산과의 그의 부가 염.
제 1 항 내지 제 15 항 중의 어느 한 항에 있어서, 세라미드형의 화합물(들)이 염료 조성물의 전체 중량에 대해 또는 산화 조성물의 전체 중량에 대해 0.0001 내지 10 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
제 16 항에 있어서, 세라미드형의 화합물(들)이 염료 조성물의 전체 중량에 대해 또는 산화 조성물의 전체 중량에 대해 0.001 내지 5 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 17 항 중의 어느 한 항에 있어서, 산화 염기(들)이 염료 조성물의 전체 중량에 대해 0.0001 내지 20 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
제 17 항에 있어서, 산화 염기(들)이 염료 조성물의 전체 중량에 대해 0.005 내지 10 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 19 항 중의 어느 한 항에 있어서, 염료 조성물이 또한 하기로부터 선택되는 적어도 하나의 커플링제를 함유하는 것을 특징으로 하는 방법: 메타-디페놀, 메타-아미노페놀, 메타-페닐렌디아민, 모노- 또는 폴리히드록실화된 나프탈렌 유도체, 세사몰, 그리고 그의 유도체, 헤테로 고리 화합물, 예컨대 피리딘 커플링제 및 인돌 커플링제, 그리고 산과의 그의 부가 염.
제 20 항에 있어서, 커플링제(들) 이 염료 조성물의 전체 중량에 대해 0.0005 내지 20 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
제 21 항에 있어서, 커플링제(들) 이 염료 조성물의 전체 중량에 대해 0.01 내지 10 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 22 항 중의 어느 한 항에 있어서, 산과의 부가 염이 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 술페이트 및 타르트레이트로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 23 항 중의 어느 한 항에 있어서, (지지체 또는) 염색에 적합한 매질이 물, 또는 하기로부터 선택되는 적어도 하나의 유기 용매와 물의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법: C₁-C₄저급 알카놀, 글리세롤, 글리콜 및 글리콜 에테르, 방향족 알코올, 유사한 생성물 그리고 그의 혼합물.
제 1 항 내지 제 24 항 중의 어느 한 항에 있어서, 염료 조성물이 3 내지 11.5 의 pH 를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 내지 제 25 항 중의 어느 한 항에 있어서, 산화제가 과산화 수소, 과산화 우레아, 알칼리 금속 브로메이트 및 과염, 퍼보레이트 및 퍼술페이트로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
케라틴 섬유, 특히 인간의 케라틴 섬유, 예컨대 모발 염색의 조성물로서, 염색에 적합한 매질에 하기를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물:

- 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀, 헤테로 고리 염기 및 하기식 (I) 의 파라-페닐렌디아민에서 선택되는 적어도 하나의 산화 염기, 그리고 이들 화합물과 산의 부가염:

[화학식 I]

(식중,

R₁은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬, 페닐 또는 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내고,

R₂는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼을 나타내고,

R₃는 수소 원자, 할로겐 원자, 예컨대 염소, 브롬, 요오드 또는 플루오르 원자, 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₁-C₄히드록시알콕시 라디칼을 나타내고,

R₄는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 낸다); 그리고

- 적어도 하나의 세라미드형의 화합물.
다구획 장치 또는 다구획 염색 "키트", 염색에 적합한 매질에 하기를 함유하는 염료 조성물을 포함하는 첫번째 구획, 그리고 산화 조성물을 함유하는 두번째 구획:

비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀, 헤테로 고리 염기 및 하기식 (I) 의 파라-페닐렌디아민에서 선택되는 적어도 하나의 산화 염기, 그리고 이들 화합물과 산의 부가염:

[화학식 I]

(식중,

R₁은 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬, C₂-C₄폴리히드록시알킬, 페닐 또는 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내고,

R₂는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₂-C₄폴리히드록시알킬 라디칼을 나타내고,

R₃는 수소 원자, 할로겐 원자, 예컨대 염소, 브롬, 요오드 또는 플루오르 원자, 또는 C₁-C₄알킬, C₁-C₄모노히드록시알킬 또는 C₁-C₄히드록시알콕시 라디칼을 나타내고,

R₄는 수소 원자 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 낸다);

상기 염료 조성물 및/또는 산화 조성물은 적어도 하나의 세라미드형 화합물을 함유한다.