KR19990053811A - 반도체 제조용 케미컬의 공급장치 및 그 제어방법 - Google Patents

반도체 제조용 케미컬의 공급장치 및 그 제어방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 반도체 제조용 케미컬의 공급장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.
본 발명이 공급장치는, 저장탱크; 상기 케미컬을 저장탱크로 공급할 수 있는 공급수단; 상기 공급수단과 연결되어, 상기 공급수단에 설정된 압력을 가압시킬 수 있는 가압수단; 상기 가압수단을 이용한 설정된 압력의 가압시 상기 설정된 압력의 변화를 센싱할 수 있는 센싱수단; 및 상기 센싱수단의 센싱신호의 입력으로 상기 설정된 압력의 변화를 판단하여 상기 공급수단을 제어할 수 있는 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 공급장치의 제어방법은, 저장탱크와 공급원을 연결하는 단계; 공급수단에 설정된 압력을 가압시키는 단계; 및 상기 설정된 압력의 변화를 판단하여 상기 공급수단을 제어하는 단계를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 케미컬의 공급장치의 리크를 사전에 확인하고, 조치를 취할 수 있음으로 인해 이로 인한 안전사고 등을 미연에 방지하여 생산성이 향상되는 효과가 있다.

Description

반도체 제조용 케미컬의 공급장치 및 그 제어방법
본 발명은 반도체 제조용 케미컬의 공급장치 및 그 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 케미컬(Chemical)을 저장탱크로 공급할 수 있는 공급수단의 리크(Leak)를 케미컬을 공급하기 전(前)에 확인할 수 있는 반도체 제조용 케미컬의 공급장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자 등의 제조에서는 매 단위공정의 수행시 다양한 종류의 케미컬 등을 사용한다.
이러한 반도체소자 등의 제조에 이용되는 케미컬 등은 고순도로 정제시켜 사용하여야 한다.
그리고 상기 케미컬을 일시로 저장하였다가 반도체 제조라인으로 공급하는 저장탱크가 대형화, 대용량화되어감에 따라 상기 저장탱크에 케미컬을 공급하는 공급원 또한 대형화되어가는 추세이다.
여기서 상기 공급원으로부터 저장탱크로의 케미컬의 공급시 종래에는 상기 공급을 위한 공급장치의 공급수단 등의 리크를 확인할 수 있는 수단 등이 없었고, 상기 리크를 확인할 수 있는 수단이 있다하더라도 그 기능이 미흡하여 케미컬의 공급시 상기 케미컬의 리크로 인한 위험성이 상존하고 있었다.
이에 따라 최근에는 오토매틱크린퀵커플러(Automatic Clean Quick Coupler : 이하 "ACQC" 라고 한다.) 등의 공급수단이 장착된 공급장치를 이용하여 상기 케미컬을 저장탱크로 공급하였다.
즉, 상기 ACQC는 스위치(Switch) 등의 조작에 의해 자동 또는 수동으로 공급을 수행하는 것으로써, 상기 ACQC를 공급수단으로 이용한 케미컬의 공급시 상기 ACQC의 커플러, 또는 공급수단의 공급라인 및 밸브(Valve) 등에서 리크가 발생하였을 때 센서(Sensor) 등이 이를 감지하여 경보를 발생시켰다.
그러나 상기 ACQC가 장착된 공급수단 등으로 이루어지는 공급장치를 이용한 케미컬의 공급시 발생되는 케미컬의 리크는 상기 케미컬을 공급하는 도중에 확인할 수 있었다.
이에 따라 상기 케미컬의 공급시 상기 케미컬의 리크로 인한 조치를 상기 케미컬의 리크가 발생한 후에 취할 수 있었다.
그러므로 상기 케미컬의 리크로 인한 안전사고 등에 항상 노출되어 있고, 사후에 조치를 취하는 등의 불합리한 요소들이 상존하였다.
따라서 종래의 케미컬의 공급장치는 케미컬의 공급시 발생하는 케미컬의 리크에 대한 조치를 사후에 수행함으로써 안전사고 등이 빈번하게 발생하여 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 케미컬의 공급시 발생하는 케미컬의 리크를 사전에 확인하고 조치를 취함에 따라 안전사고 등의 발생을 사전에 방지하여 생산성을 향상시키기 위한 반도체 제조용 케미컬의 공급장치 및 그 제어방법을 제공하는 데 있다.
도1은 본 발명에 따른 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이다.
도2는 본 발명에 따른 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 제어방법의 일 실시예를 나타내는 순서도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 저장탱크 12 : 공급원
14 : 공급부 16 : 공급라인
18 : 가압부 20 : 센서
22 : 제어부 24 : 디스플레이부
26 : 경보부
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조용 케미컬의 공급장치는, 반도체 제조라인에 사용되는 케미컬을 저장하는 저장탱크; 상기 케미컬을 저장탱크로 공급할 수 있는 공급수단; 상기 공급수단과 연결되어, 상기 공급수단에 설정된 압력을 가압시킬 수 있는 가압수단; 상기 가압수단을 이용한 설정된 압력의 가압시 상기 설정된 압력의 변화를 센싱할 수 있는 센싱수단; 및 상기 센싱수단의 센싱신호의 입력으로 상기 설정된 압력의 변화를 판단하여 상기 공급수단을 제어할 수 있는 제어수단을 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
상기 제어부에는 상기 설정된 압력을 효과적으로 관찰할 수 있도록 상기 센싱신호의 입력으로 표현되는 압력을 디스플레이할 수 있는 디스플레이수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.
상기 제어부에는 신속한 초치를 취하기 위하여 상기 센싱신호의 입력에 의해 경보를 알릴 수 있는 경보수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.
상기 저장탱크에 케미컬을 공급하는 공급원은 탱크로리이고, 다양하게는 드럼 등도 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 제어방법은, 반도체 제조라인에 사용하는 케미컬을 공급하는 저장탱크와 상기 저장탱크에 케미컬이 저장되도록 상기 케미컬을 공급하는 공급원을 연결하는 단계; 상기 저장탱크와 공급원을 연결하여 상기 케미컬을 공급하는 공급수단에 설정된 압력을 가압시키는 단계; 및 상기 설정된 압력의 변화를 판단하여 상기 공급수단을 제어하는 단계를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
상기 설정된 압력의 가압시 상기 압력을 디스플레이하는 단계를 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 설정된 압력의 가압시 상기 압력의 변화가 발생할 때 경보를 알리는 단계를 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 설정된 압력의 가압은 N2가스를 이용하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도1은 본 발명에 따른 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이고, 도2는 본 발명에 따른 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 제어방법의 일 실시예를 나타내는 순서도이다.
먼저, 도1은 반도체 제조라인에 사용되는 케미컬을 저장하는 저장탱크(10) 및 상기 저장탱크(10)에 케미컬을 공급하는 공급원(12)이 구비되어 있다.
그리고 상기 공급원(12)의 케미컬을 상기 저장탱크(10)로 이송, 즉 공급할 수 있는 공급수단이 구비되어 있다.
여기서 본 발명의 상기 공급원(12)은 주로 탱크로리 등으로 이루어질 수 있고, 응용예로써 드럼(Drum) 등을 이용할 수도 있다.
또한 본 발명의 상기 공급수단은 ACQC 등이 장착되는 공급부(14), 공급라인(16) 및 밸브(도시되지 않음) 등으로 이루어진다.
그리고 본 발명은 상기 공급수단에 설정된 압력을 가압시킬 수 있는 가압수단인 가압부(18)를 상기 공급수단의 공급라인(16) 상에 구비시킨다.
그리고 본 발명은 상기 가압부(18)를 이용한 설정된 압력의 가압시 상기 압력을 센싱할 수 있는 센싱수단인 센서(20)가 구비된다.
또한 본 발명은 상기 센서(20)의 센싱신호의 입력으로 상기 공급수단을 제어할 수 있는 제어수단인 제어부(22)가 구비된다.
여기서 상기 제어부(22)는 상기 설정된 압력의 변화시 즉, 상기 설정된 압력이 저하될 때 상기 공급수단을 제어한다.
그리고 본 발명은 상기 센싱신호의 입력으로 표현되는 압력을 디스플레이(Display)할 수 있는 디스플레이수단인 디스플레이부(24) 및 상기 설정된 압력의 변화시 경보를 알릴 수 있는 경보수단인 경보부(26)를 상기 제어부(22)에 더 구비시킨다.
여기서 상기 디스플레이수단은 일반적으로 상기 압력을 디지털(Digital)로 표현할 수 있는 모니터(Monitor) 등을 구비시키고, 상기 경보수단은 알람(Alarm)기능을 수행할 수 있는 부저 등을 구비시킨다.
그리고 도2는 반도체 제조라인에 공급되는 케미컬을 일시 저장하는 저장탱크(10)와 상기 저장탱크(10)에 케미컬이 저장되도록 상기 케미컬을 공급하는 공급원(12)을 연결하는 단계와 상기 저장탱크(10)와 공급원(12)을 연결하여 상기 케미컬을 공급하는 공급수단에 설정된 압력을 가압시키는 단계 및 상기 설정된 압력의 변화를 판단하여 상기 공급수단을 제어하는 단계로 구비되어 있다.
또한 상기 설정된 압력의 가압시 상기 압력을 디스플레이하는 단계 및 상기 설정된 압력의 가압시 상기 압력의 변화가 발생할 때 경보를 알리는 단계가 더 구비된다.
여기서 본 발명은 전술한 바와 같이 상기 공급원(12)으로 탱크로리를 이용할 수 있고, 상기 설정된 압력의 가압은 N2가스를 이용한다.
그리고 상기 압력을 디스플레이하는 디스플레이부(24) 및 상기 압력의 변화시 경보를 알릴 수 있는 경보부(26)는 전술한 구성으로 이루어진다.
이러한 구성으로 이루어지는 본 발명은 상기 케미컬의 공급에 앞서 상기 공급수단으로 설정된 압력을 가압시켜 센서(20) 및 제어부(22) 등을 이용하여 사전에 리크를 확인하고, 그 조치를 취할 수 있다.
이에 따라 본 발명은 상기 케미컬의 리크의 발생을 사전에 방지할 수 있다.
전술한 구성으로 이루어지는 본 발명의 구체적인 실시예에 따른 작용 및 효과에 대하여 설명한다.
먼저, 케미컬의 공급원(12)인 탱크로리와 케미컬을 일시로 저장하는 저장탱크(10)를 공급수단을 이용하여 연결시킨다.
즉, 상기 공급라인(16)을 이용하여 상기 저장탱크(10)와 공급원(12)의 호스(Hose) 등을 연결시키는 것으로써, 상기 공급수단은 주로 ACQC 등이 장착되는 공급부(14), 공급라인(16) 및 밸브(도시되지 않음) 등으로 이루어진다.
그리고 상기 공급수단에 N2가스를 설정된 압력으로 가압시키고, 실시예에서는 2Kg/cm2의 압력으로 가압시킨다.
여기서 상기 설정된 압력으로의 가압시 상기 공급수단에 구비되는 밸브들은 모두 폐쇄시킨다.
즉, 상기 공급수단에 가해진 압력의 변화를 판단하기 위하여 상기 밸브들을 폐쇄시킨다.
이어서 상기 센서(20)를 이용하여 상기 설정된 압력을 센싱하고, 상기 제어부(22)는 센싱신호를 입력받는다.
그리고 상기 제어부(22)는 상기 설정된 압력의 변화를 판단하고, 상기 압력의 변화 즉, 압력이 저하될 때 상기 공급수단을 제어한다.
여기서 상기 공급수단의 제어는 후속되는 공정을 수행하지 않는 것이고, 상기 압력은 디스플레이부(24)에 디스플레이되고, 또한 경보부(26)를 이용하여 작업자에게 경보음을 제공한다.
이에 따라 작업자는 상기 케미컬의 공급수단 등으로 이루어지는 공급장치에 리크가 발생한 것으로 판단하고, 조치를 취한 후, 케미컬의 공급을 수행할 수 있다.
그리고 상기 제어부(22)는 상기 설정된 압력의 변화가 없을 때에는 상기 케미컬의 공급을 수행한다.
즉, 탈이온수(Deionized Wafer)로 상기 공급수단 등을 세정한 후, N2가스 등을 이용하여 건조시킨다.
그리고 상기 ACQC 등의 공급부(14)의 커플러를 체결시켜 상기 공급원(12)의 케미컬이 상기 저장탱크(10)로 공급되도록 한다.
이러한 구성으로 이루어지는 본 발명은 상기 케미컬의 공급장치에서 발생할 수 있는 케미컬의 리크를 사전에 확인하여 조치를 취할 수 있다.
이에 따라 상기 케미컬의 리크로 인해 발생하는 안전사고 또는 작업시간의 연장 등을 사전에 방지할 수 있다.
그리고 본 발명은 상기 N2가스를 이용하여 설정된 압력으로 가압시킴으로 인해 상기 케미컬의 공급장치를 세정하는 부수적인 효과도 얻을 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 케미컬의 공급장치의 리크를 사전에 확인하고, 조치를 취할 수 있음으로 인해 이로 인한 안전사고 등을 미연에 방지하여 생산성이 향상되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (8)

  1. 반도체 제조라인에 사용되는 케미컬(Chemical)을 저장하는 저장탱크;
    상기 케미컬을 저장탱크로 공급할 수 있는 공급수단;
    상기 공급수단과 연결되어, 상기 공급수단에 설정된 압력을 가압시킬 수 있는 가압수단;
    상기 가압수단을 이용한 설정된 압력의 가압시 상기 설정된 압력의 변화를 센싱(Sensing)할 수 있는 센싱수단; 및
    상기 센싱수단의 센싱신호의 입력으로 상기 설정된 압력의 변화를 판단하여 상기 공급수단을 제어할 수 있는 제어수단;
    을 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조용 케미컬의 공급장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어부에는 상기 센싱신호의 입력으로 표현되는 압력을 디스플레이(Display)할 수 있는 디스플레이수단이 더 구비됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조용 케미컬의 공급장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어부에는 상기 센싱신호의 입력에 의해 경보를 알릴 수 있는 경보수단이 더 구비됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조용 케미컬의 공급장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 저장탱크에 케미컬을 공급하는 공급원은 탱크로리(Tank Lorry)임을 특징으로 하는 상기 반도체 제조용 케미컬의 공급장치.
  5. 반도체 제조라인에 사용하는 케미컬을 공급하는 저장탱크와 상기 저장탱크에 케미컬이 저장되도록 상기 케미컬을 공급하는 공급원을 연결하는 단계;
    상기 저장탱크와 공급원을 연결하여 상기 케미컬을 공급하는 공급수단에 설정된 압력을 가압시키는 단계; 및
    상기 설정된 압력의 변화를 판단하여 상기 공급수단을 제어하는 단계;
    를 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 제어방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 설정된 압력의 가압시 상기 압력을 디스플레이하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 제어방법.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 설정된 압력의 가압시 상기 압력의 변화가 발생할 때 경보를 알리는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 제어방법.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 설정된 압력의 가압은 N2가스를 이용하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 제조용 케미컬의 공급장치의 제조방법.
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