KR19980064196A - 디벤조일메탄 유도체, 1,3,5-트리아진 유도체 및 아미드화합물을 함유하는 조성물, 및 그의 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미용 및/또는 피부과학적으로 허용가능한 지지체에 i) 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, ii) 일종 이상의 특정 1,3,5-트리아진 유도체, 및 iii) 일종이상의 아미드 화합물을 함유하는 신규 미용 및/또는 피부 과학 조성물에 관한 것이다. 이들 조성물은 특히 광 안정성이 있다.
본 발명은 또한 미용 및/또는 피부과학 분야에서의 이들 조성물의 용도에 관한 것이다.

Description

디벤조일메탄 유도체, 1,3,5-트리아진 유도체 및 아미드 화합물을 함유하는 조성물, 및 그의 용도
본 발명은 UV 복사, 특히 태양 복사에 대하여 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 신규 미용 및/또는 피부 과학 조성물 (이후 하기에서 태양광 차단 (antisun) 조성물로 언급한다.) 에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 미용 및/또는 피부 과학적으로 허용 가능한 지지체에 세 가지 특정 차단제의 배합물을 함유하며광안정성이 개선된 신규의 미용 및/또는 피부 과학적 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한 미용 및/또는 피부 과학 분야에서 이들 조성물의 용도에 관한 것이다.
280 nm 내지 400 nm 의 파장을 갖는 광 복사는 인간의 외피를 태우며, 특히 UV-B 선으로 알려진 파장 280 내지 320 nm 를 갖는 광선은 자연적으로 피부가 타는 것에 유해할 수 있는 피부 화상 및 홍반을 유발시킨다는 것이 알려져 있다. 이러한 이유 뿐만 아니라 심미적인 이유로, 피부의 색을 조절하기 위하여 자연적인 피부의 태움을 조절하기 위한 수단이 계속적으로 요구되어 왔으며; 따라서, UV-B 복사는 차단되어야 한다.
또한 피부를 태우는 파장 320 내지 400 nm 의 UV-A 선은 특히 태양 복사에 계속적으로 노출된 피부 또는 민감성 피부의 경우에, 피부의 태움에 대한 나쁜 변화를 유발하기 쉽다는 것도 공지이다. UV-A 선은 특히 피부의 탄력성을 저하시키고 주름이 생기게 하여, 피부의 노화를 촉진시킨다. 이들은 홍반 반응의 자극을 증진시키거나 또는 특정 개인에 대하여 이러한 반응을 확장하며 광독성 또는 광알레르기성 반응을 유발시킬 수 도있다. 그러므로, 예를 들어 피부의 고유의 탄력성을 보존하는 것과 같은 심미적 및 미용적인 이유 때문에, 피부에 작용하는 UV-A 선의 제어를 점점더 많은 수의 사람이 희망하고 있다. 따라서, UV-A 복사도 차단되는 것이 바람직하다.
그러므로, 전체 UV 복사에 대한 피부 및 모발의 보호 (이러한 보호는 가능한 완전히 효과적인 것이다.)를 위해서, UVA 범위에 활성인 차단제 및 UVB 범위에 활성인 차단제의 배합물이 태양광 차단 조성물의 제조에 사용되는 것이 일반적이다.
이러한 관점에서, 특히 유리한 현행 UV-A 차단제의 계는 일반적으로 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄이며, 이것은 높은 고유의 흡수능을 갖는다. UV-A 범위에서 활성인 차단제로서 공지된 현행 제품인 이들 디벤조일메탄 유도체는 특히 유럽 특허 출원 EP-A-0,114,607 호 뿐만 아니라, 프랑스 특허 출원 FR-A-2,326,405 호 및 FR-A-2,440,933 호에 기술되어 있으며; 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄은 더욱이 Givaudan사에서 상표명 Parsol 1789 로 현재 시판되고 있다.
유사하게, 1,3,5-트리아진 유도체, 특히 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진은 BASF 사에서 상표명 Uvinul T 150 으로 시판되며, UVB 복사에 대하여 높은 흡수능을 가지며, 그러므로 이들을 UV 복사 범위 전체에 걸쳐서 광범위하고 효과적인 보호를 제공하는 제품을 수득하기 위한 목적을 위하여 상술한 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄과 배합하여 사용하는 것이 매우 유리하다.
그러나, 본 출원인은 이들 1,3,5-트리아진 유도체는 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄과 사용될 때, UV 복사 하에서, 상당한 화학 붕괴를 진행시킨다는 단점을 갖는다. 이러한 조건하에서, 두 차단제의 배합은 피부 및 모발에 대하여 광범위하고, 연장된 태양광 차단 보호를 더 이상 할 수 없다.
현재, 상술한 광보호 분야에서 상당한 연구를 수행한 후, 출원인은 일종이상의 1,3,5-트리아진 유도체, 특히 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진과 배합된 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄을 함유하는 조성물에 아미드 화합물을 도입하면 이들 조성물에서 1,3,5-트리아진 유도체의 광안정성이 부여되며, 그러므로 이들 조성물의 전체 효능이 상당히 실질적으로 향상된다는 것을 발견하였다.
그러므로, 본 발명의 주제는 미용 및/또는 피부과학적으로 허용가능한 지지체에 하기 성분 i), ii) 및 iii)을 함유하는 신규 미용 및/또는 피부과학 조성물이다:
i) 하기 화학식 (I)에 해당하는 일종이상의 1,3,5-트리아진 유도체:
(I)
[식중:
- X2및 X3, 는 동일하거나 상이하며, 산소 또는 -NH- 라디칼을 나타내고;
- R1, R2및 R3, 는 동일하거나 상이하며, 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 1 내지 6 의 에틸렌 옥시드 단위를 포함하며 그의 말단 OH 기는 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼; 하기 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택되며:
(II)
(III)
(IV)
(식중:
- R4는 수소 또는 메틸 라디칼이고;
- R5는 C1-C9알킬 라디칼이며;
- n 은 0 내지 3 의 정수이고;
- m 은 1 내지 10 의 정수이며;
- A 는 C4-C8알킬 라디칼이거나 C5-C8시클로알킬 라디칼이고;
- B 는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C8알킬 라디칼; C5-C8시클로알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 아릴 라디칼이며;
- R6는 수소 또는 메틸 라디칼이다.)];
ii) 하기 화학식 (V)에 상응하는 일종이상의 디벤조일메탄 유도체:
(V)
[식중, 서로 동일하거나 상이한 R7, R8, R9및 R10은 독립적으로 수소 원자, 히드록시 라디칼, 또는 직쇄 또는 측쇄 C1-C8알킬 라디칼, 혹은 직쇄 또는 측쇄 C1-C8알콕시 라디칼을 나타낸다] 및
iii) 일종이상의 아미드 화합물.
그러므로, 본 발명에 따라, 일종이상의 1,3,5-트리아진 유도체화 배합된 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄을 함유하는 미용 및/또는 피부과학 조성물이 제조될 수 있으며, 이들 조성물은 광에 작용하기 쉬울지라도 조성물중의 1,3,5-트리아진 유도체의 농도는 비교적 일정하게 남아 있는다.
본 발명의 주제는 또한 조성물 중에 있는 1,3,5-트리아진 유도체의 UV 복사 안정성 (광안정성) 을 향상시키기 위하여, 상기 정의된 바와 같은 하나 이상의 1,3,5-트리아진 유도체와 배합된 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄을 함유하는 미용 및/또는 피부과학 조성물의 제조에 사용되는 아미드 화합물의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 주제는 또한 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄 및 상기 정의된 바와 같은 1,3,5-트리아진 유도체, 특히 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐) 아닐리노]-1,3,5-트리아진을 함유하는 미용 및/또는 피부 과학 조성물의 UV 복사에 대한 안정성 (광안정성) 을 증가시키는 방법이며, 이 방법은 아미드 화합물의 유효량을 상기 조성물에 도입하는 것으로 이루어 진다.
아미드 화합물의 유효량이란 표현은 조성물 중에 함유된 디벤조일메탄 유도체의 광안정성이 현저하고 의미 있는 향상을 얻기에 충분하도록 하는 양을 의미한다. 조성물을 위하여 선택된 미용학적으로 허용 가능한 지지체의 성질에 따라 변할 수 있는 사용된 안정화제의 최소량은 하기 예시되는 것과 같은, 광안정성 측정에 대한 표준 시험의 방식으로 쉽게 결정될 수 있다.
본 발명의 다른 특성, 양상 및 장점은 하기의 상세한 기술을 읽음에 따라 명백해질 것이다.
본 발명에 따른 조성물에 있는 제 1 화합물은 특히 1,3,5-트리아진 유도체이다. 그러므로, 본 발명의 문맥에서 사용될 수 있는 1,3,5-트리아진 유도체는 하기 화학식 (I) 에 해당하는 것에서 선택된다:
[화학식 1]
(I)
[식중:
- X2및 X3, 는 동일하거나 상이하며, 산소 또는 -NH- 라디칼을 나타내고;
- R1, R2및 R3, 는 동일하거나 상이하며, 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 1 내지 6개 의 에틸렌 옥시드 단위를 함유하며 그의 말단 OH 기는 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼; 하기 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택된다:
[화학식 2]
(II)
[화학식 3]
(III)
[화학식 4]
(IV)
(식중:
- R4는 수소 또는 메틸 라디칼이고;
- R5는 C1-C9알킬 라디칼이며;
- n 은 0 내지 3 의 정수이고;
- m 은 1 내지 10 의 정수이며;
- A 는 C4-C8알킬 라디칼이거나 C5-C8시클로알킬라디칼이고;
- B 는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C8알킬 라디칼; C5-C8시클로알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 아릴 라디칼이며;
- R6는 수소 또는 메틸 라디칼이다.)].
명백히, 상기 정의에서, X2및/또는 X3이 -NH- 라디칼을 나타낼 때, 해당하는 라디칼 R2및/또는 R3은 암모늄 라디칼 또는 알칼리 금속이외의 것이다.
특히 더 바람직한 1,3,5-트리아진 유도체의 첫번째 부류는 특히 문헌 EP-A-0,517,104 호에 기술되어 있는 상기 화학식 (I) 에 해당하는 1,3,5-트리아진 유도체이며 하기 특성을 모두 갖는다:
- X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;
- R1은 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택되며;
- R2및 R3은 동일하거나 상이할 수 있으며; 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라다칼에서 선택된다.
본 발명에 따라 바람직한 두번째 부류의 1,3,5-트리아진 유도체인 제 2 군은 특히 문헌 EP-A-570,838 호에 기술되어 있는 상기 화학식 (I) 에 해당하는 1,3,5-트리아진 유도체이며 하기 특성을 모두 갖는다:
- X3는 -NH- 라디칼이며;
- R3는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;
- R1은 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV)의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되며;
- X2가 -NH- 라디칼이면, R2는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;
-X2가 산소이면, R2는 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV) 의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택된다.
특히 바람직한 1,3,5-트리아진 유도체의 두번째 부류는 하기 화학식에 해당하는 것이다:
[식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타내며 R 은 t-부틸 라디칼을 나타낸다.]
화합물의 세번째 바람직한 부류는 특히 미국 문헌 4,724,137 호에 기술된 화학식 (I) 에 해당하는 1,3,5-트리아진 유도체이며, 하기의 특성을 모두 갖는다:
- X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;
- R1, R2및 R3은 동일하고, C6-C12알킬 라디칼 또는 1 내지 6개의 에틸렌 옥시드 단위를 함유하며 말단 OH 기가 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼을 나타낸다.
이러한 세번째 부류의 특히 바람직한 1,3,5-트리아진은 2,4,6-트리스[p-(2'- 에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진이며, 이것은 공지된 차단제이고, UV-B 범위에서 활성이며, 고체형태이고 특히 BASF 사에서 상품명 Uvinul T 150 으로 시판된다. 이 제품은 하기 식에 해당한다.
[식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타낸다.]
1,3,5-트리아진 유도체은 일반적으로 조성물의 총 중량에 대하여 0.5 중량 % 내지 20 중량 %, 바람직하게는 1 중량 % 내지 10 중량 % 범위의 비율로 본 발명의 조성물에 존재한다.
상기에 지적한 바와 같이, 본 발명에 따라 사용될 수 있는 디벤조일메탄 유도체는 하기 화학식 V에 상응하는 화합물이다:
[화학식 5]
(V)
[식중, 서로 동일하거나 상이한 R7, R8, R9및 R10은 독립적으로 수소 원자, 히드록시 라디칼, 또는 직쇄 또는 측쇄 C1-C8알킬 라디칼, 혹은 직쇄 또는 측쇄 C1-C8알콕시 라디칼을 나타낸다].
본 발명에 따라, 물론 일종 이상의 디벤조일메탄 유도체를 사용하는 것이 가능하다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 디벤조일메탄 유도체중에서, 특히 하기의 유도체가 그의 비제한적인 예로 언급될 수 있다:
- 2-메틸디벤조일메탄,
- 4-메틸디벤조일메탄,
- 4-이소프로필디벤조일메탄,
- 4-t-부틸디벤조일메탄,
- 2,4-디메틸디벤조일메탄,
- 2,5-디메틸디벤조일메탄,
- 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄,
- 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2-메틸-5-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2,6-디메틸-4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 4,4'-디메톡시디벤조일메탄.
이들 물질은 그자체 잘알려져 있으며, 특히 상술한 문헌 FR-A-2,326,405 호, FR-A-2,440,933 호 및 EP-A-114,607 호에 기술되어 있다.
상술한 디벤조일메탄 유도체 중에서, 본 발명에 따라 특히 바람직한 것은 기보단사에서 상표명 Parsol 1789 로 시판되는 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄을 사용하는 것이며, 이러한 차단제는 하기 구조식에 해당한다:
본 발명에 따라 바람직한 또 다른 디벤조일메탄 유도체는 머크(Merck) 사에서 상표명 Eusolex 8020 으로 시판되고 있는 차단제인 4-이소프로필디벤조일메탄이며, 이것은 하기 구조식에 해당한다:
디벤조일메탄 유도체는 조성물의 총 중량에 대하여, 0.2 중량 % 내지 15 중량 % 범위의 비율로 본 발명의 조성물에 존재할 수 있다. 바람직하게는 이러한 비율은 0.2 % 내지 10 % 이다.
본 발명에 따른 조성물의 제 3의 절대적으로 필요한 화합물은 아미드류의 화합물이다.
본 발명에서, 아미드 화합물이란 용어는 그의 화학 구조내에 적어도 하나의 아미드 기(또는 관능기)를 가지고 있는 화합물을 의미한다:
본 발명의 바람직한 구현예에서, 아미드 화합물은 하기 화학식 VI에 상응한다:
(VI)
(식에서, R11, R12및 R13은 동일하거나 상이하며, 독립적으로 수소 또는 일가의 포화 또는 불포화 지방족, 지환족 또는 고리형이며, 선택적으로 관능화된 탄소수 1 내지 30, 바람직하게는 탄소수 1 내지 22의 탄화수소라디칼을 나타내며, 여기에서, 라디칼 R11은 라디칼 R12또는 라디칼 R13과 탄소수 5 내지 18의 고리를 형성할 수 있으며, 라디칼 R12와 R13은 함께 탄소수 5 내지 18의 고리를 형성할 수 있다)
포화 지방족 탄화수소 라디칼의 예로는, 특히 직쇄 또는 측쇄의 치환 또는 비치환 C1-C30, 바람직하게는 C1-C22알킬 라디칼, 특히 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 펜틸, n-아밀, 이소아밀, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, t-옥틸, 데실, 라우릴 및 옥타데실 라디칼을 들 수 있다.
포화 고리형 탄화수소 라디칼의 예로는, 특히 시클로펜틸과 시클로헥실 라디칼을 들 수 있으며, 특히 알킬 라디칼과 선택적으로 치환된 것을 들 수 있다.
불포화 지방족 탄화수소 라디칼의 예로는, 직쇄 또는 측쇄, 치환 또는 비치환, C2-C30, 바람직하게는 C2-C22, 알케닐 또는 알키닐 라디칼, 특히 비닐, 알릴, 올레일 및 리놀레일 라디칼을 들 수 있다.
불포화 고리형 탄화수소 라디칼의 예로는, 특히 페닐 및 나프틸과 같은 아릴 라디칼을 들 수 있으며, 특히 알킬 라디칼, 예컨대 톨릴 라디칼로 선택적으로 치환된 것을 들 수 있으며, 불포화 지환족 라디칼의 예로는, 특히 벤질 및 페닐에틸 라디칼을 들 수 있다.
관능화된 라디칼이란 용어는 더욱 구체적으로 에스테르, 에테르, 알콜, 아민, 아미드 및 케톤 유형, 바람직하게는 에스테르 유형의 일종 이상의 관능기의 주쇄내, 그리고 측쇄상 모두에서 그의 화학 구조내에 함유된 라디칼을 의미한다.
본 발명에 적합한 화학식 VI의 아미드 화합물중에서, 하기 특성중 적어도 하나 그리고 더욱 바람직하게는 모두를 가지고 있는 화합물을 사용하는 것이 더욱 더 바람직하다.
- 아미드 화합물이 N-치환 아미드, 더욱 더 바람직하게는 N,N-이치환 아미드이며,
- R11은 직쇄 또는 측쇄, 바람직하게는 C1-C22, 더욱 더 바람직하게는 C1-C12, 알킬 라디칼, 혹 다르게는 하나 이상의 직쇄 또는 측쇄 C1-C12알킬 라디칼과 선택적으로 치환된 페닐 라디칼이고,
- R12는 직쇄 또는 측쇄, 바람직하게는 C1-C22및 더욱더 바람직하게는 C1-C12알킬 라디칼이며,
- R13은 R12에 정의된 것으로부터 선택된 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼이며, 혹 다르게는 하기 화학식 VII에 상응하는 에스테르 관능기를 가진 일가 라디칼을 나타낸다:
(VII)
(식에서, R14및 R15은 동일하거나 상이하며, 두개의 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 탄소수 1 내지 12, 더욱 바람직하게는 1 내지 8의 알키드 유형의 것을 나타낸다)
본 발명의 바람직한 구현예에 따라, 사용되는 상기 정의된 아미드 화합물은 실온에서 액체인 지방질 물질이다. 바람직하게는, 이들은 부수적으로 미용학적으로 받아들 일 수 있는 지지체의 제조에 보통 사용되는 지방상에서 우수한 용해도를 가지고 있는 오일이다.
1,3,5-트리아진 유도체, 특히 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진의 광안정화에서 완전히 만족스러운 특성을 가지고 있다고 증명된 특정한 아미드 오일의 예로는, 특히 하기의 것을 들 수 있다:
- N,N-디에틸-3-메틸벤즈아미드를 포함하는 하기 화학식 1의 N,N-디에틸메틸벤즈아미드:
(1)
- 하기 화학식 2의 에틸 N-부틸-N-아세틸아미노프로피오네이트:
(2)
따라서 아미드 화합물은 통상적으로 조성물의 총량에 대해 일반적으로 0.01 내지 50 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 30 중량%의 양으로 본 발명에 따른 조성물에 존재할 수 있다.
따라서, 충분한 량의 아미드 화합물이 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 그리고 상기에 정의된 1,3,5-트리아진 유도체를 함유하고 있는 태양광 차단 조성물(antisun composition)에 첨가될 경우, 상기 1,3,5-트리아진 유도체의 광에 대한 안정성이 증가하고, 따라서 시간에 따른 태양광 차단 조성물의 효능이 증가한다.
본 발명에서 목표로 하는 미용 및/또는 피부 과학 조성물은 물론 상기에 언급된 세가지 차단제이외에 일종이상의 부가적인 친수성 또는 친유성 UVA- 및/또는 UVB-활성 태양광 차단제(흡수제)를 함유할 수 있다.
이들 부가적인 차단제는 특히 신남 유도체, 살리실 유도체, 벤질리덴 캄포 유도체, 벤즈이미다졸 유도체, 상기 언급되지 않은 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 그리고 출원 WO-93/04665에 기술된 차단 중합체 및 차단 규소로부터 선택될 수 있다. 다른 유기 차단제의 예는 특허출원 EP-A-487,404 호에 나타나 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 예컨대 디히드록시아세톤(DHA)와 같은 피부를 인공적으로 태우거나 그슬리는(자가 선탠제) 화학약품을 함유할 수 도 있다.
본 발명에 따른 미용 및/또는 피부 과학 조성물은 또한 모두가 물리적으로 UV선을 차단(반사 및/또는 확산)하는 그자체 잘알려진 작용을 하는 광 보호제인 안료 또는 산화티탄(금홍석 및/또는 아나타이저 형태의 무정형 또는 결정형), 산화철, 산화아연, 산화지르코늄 또는 산화세륨과 같은 코팅되거나 코팅되지 않은 산화금속의 나노안료(주 입자의 평균 크기가 일반적으로 5 내지 100 nm, 바람직하게는 10 내지 50 nm)를 함유할 수도 있다.
덧붙여 말하면, 표준 코팅제는 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트이다. 그와 같은 코팅 또는 비코팅된 산화금속 나노안료는 특히 특허출원 EP-A-518,722 및 EP-A-518,773에 기술되어 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 특히 지방족 물질, 유기용매, 이온 또는 비이온성 농후제, 연화제, 산화방지제, 항 자유라디칼제, 불투명화제, 안정제, 완화제, 실리콘, α-히드록시산, 항기포제, 보습제, 비타민, 방향제, 보존제, 계면활성제, 충진제, 금속이온봉쇄제, 중합체, 분사제, 염기화제 또는 산성화제, 염료, 혹은 미용 및/또는 피부 과학 분야, 특히 유화액 형태의 태양광 차단제의 제조에 통상적으로 사용되는 성분에서 선택되는 표준 미용 조정제를 함유할 수도 있다.
지방족 물질은 오일 또는 왁스 혹은 그의 혼합물로 구성될 수 있다. 오일이란 용어는 실온에서 액체인 화합물을 의미한다. 왁스란 용어는 실온에서 고체 또는 실질적으로 고체이며, 그의 융점이 일반적으로 35℃이상인 화합물을 의미한다.
오일로는, 미네랄 오일(페트롤륨 젤리); 식물성 오일(스워트 아몬드 오일, 마카다미아 오일, 포도씨오일, 조조바오일); 퍼히드로스쿠알렌, 지방 알콜, 지방산 또는 지방 에스테르(Finetex사에 의해 상표명 Finsolv TN으로 시판되고 있는 C12-C15 알킬 벤조에이트, 옥틸 팔리테이트, 이소프로필 라놀레이트, 카프리/카프릴산의 에스테르를 함유하는 트리글리세리드와 같은), 옥시에틸렌화 또는 옥시프로필렌화 지방 에스테르 및 지방 에테르와 같은 합성 오일; 실리콘 오일(시클로메티콘, 폴리디메틸실록산 또는 PDMS) 또는 플루오로 오일; 폴리알킬렌을 들 수 있다.
왁스성 화합물로는, 파라핀, 카르나우바 왁스, 밀랍 또는 수소첨가 캐스터 오일을 들 수 있다.
유기용매로는, 저급 알콜류와 폴리올류를 들 수 있다.
농후제는 특히 가교 폴리아크릴산 및 개질 또는 비개질 구아검 및 셀룰로스, 예컨대 히드록시프로필 구아검, 메틸히드록시에틸셀룰로스 및 히드록시프로필메틸셀룰로스에서 선택될 수 있다.
말할 필요도 없이, 선행기술에 숙련된 사람은 본 발명에 따른 삼성분 조합 과 본래 관련된 유리한 성질이 상기 첨가에 의해 나쁜 영향을 받지않거나, 실질적으로 나쁜 영향을 받지않는 그러한 방식으로 상기에 언급된 임의의 부가적인 화합물(특히 부가적인 차단제) 및/또는 그의 함량을 선택할 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 선행 기술에 숙련된 사람, 특히 수중유 혹은 유중수 형태의 유화액을 제조하고자 하는 사람에게 잘 알려진 기술에 따라 제조될 수 있다.
상기 조성물은 특히 크림, 밀크와 같은 단순 혹은 복합 유화액(O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W)의 형태로, 혹은 겔 또는 크림겔, 분말 또는 고체 스틱 형태일 수 있으며, 선택적으로 에어로졸로 포장되거나 기포 또는 스프레이 형태일 수 있다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 수중유 유화액의 형태이다.
유화액의 형태일 경우, 유화액의 수상은 공지된 방법(Bangham, Standish 및 Watkins, J.Mol.Biol. 13, 238(1965), FR 2,315,991 및 FR 2,416,008)에 따라 제조된 비이온성 액포 분산액을 함유할 수 있다.
본 발명의 미용 및/또는 피부 과학 조성물은 태양광 차단 조성물 또는 화장품으로서 자외선에 대해 사람의 피부 또는 모발을 보호하는 조성물로 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 미용 조성물이 자외선에 대해 사람의 피부를 보호하거나, 혹은 태양광 차단 조성물로 사용될 경우, 용매 또는 지방족 물질중의 현탁액 또는 분산액의 형태, 비이온성 액포 분산액의 형태 또는 다르게는 유화액, 바람직하게는 수중유 형태, 예컨대 크림 또는 밀크의 형태, 혹은 연고, 겔, 크림 겔, 고체 연필, 스틱, 에어로졸 기포 또는 스프레이의 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 미용 조성물이 모발을 보호하는데 사용될 경우, 모발용 삼푸, 로션, 겔, 유화액, 비이온성 액포 분산액 또는 라커의 형태일 수 있으며, 예컨대 삼푸전후, 염색 또는 표백전후, 모발의 퍼머넌트 웨이브 혹은 스트레이트 동안 또는 전후에 가해지는 헹굼 조성물, 스타일링 또는 처리 로션 혹은 겔, 헤어드라이 건조 또는 모발세팅 로션 또는 겔, 혹은 모발의 퍼머넌트 웨이브, 스트레이트, 염색 또는 표백 조성물을 구성할 수 있다.
상기 조성물이 속눈썹, 눈썹 또는 피부의 화장품, 예컨대 피부 처리 크림, 파운데이션, 립스틱 튜브, 아이샤도, 브러쉬, 마스카라 혹은 아이라이너로 사용될 경우, 유중수 혹은 수중유 유화액, 비이온성 액포 분산액 또는 현탁액과 같은 고체 또는 페이스트, 무수 혹은 수성 형태일 수 있다.
지침으로서, 수중유 형태의 지지체를 갖는 본 발명에 따른 태양광선 차단 배합물을 위해, 수상(친수성 차단제를 특히 함유하는)는 일반적으로 전체 배합물에 대해 50 내지 95 중량%, 바람직하게는 70 내지 90 중량%이며, 유상(친유성 차단제를 특히 함유하는)는 전체 배합물에 대해 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 30 중량%이고, (보조)유화제는 전체 배합물에 대해 0.5 내지 20 중량%, 바람직하게는 2 내지 10 중량%이다.
비제한적인 구체적인 실시예가 본 발명을 예시해 줄 것이다.
실시예:
통상적인 지지체가 하기 조성비를 가지고 있는 세개의 수중유 유화액 A, B 및 C가 제조되었다(함량은 조성물의 총중량에 대해 중량%로 표시되었다).
- ICI사에서 상표명 Arlacel 165으로 시판되고 있는 글리세릴 모노
스테아레이트/폴리에틸렌 글리콜 스테아레이트 혼합물(100 EO) 2%
- Finetex사에 의해 상표명 Finsolv TN으로 시판되고 있는
C12/C15알킬 벤조에이트 15%
- 에틸렌디아민테트라아세트산, 이나트륨염, 2H2O 0.1%
- 글리세롤 3%
- 소르비톨 2%
- Goodrich사에서 상표명 Pemulen TR1으로 시판되고 있는
가교된 아크릴산/(C10-C30) 알킬아크릴레이트 공중합체 0.5%
- 트리에탄올아민 0.5%
- 보존제 적정량
- 탈미네랄수 적정량 100%
에멀션 A(비교)는 또한, 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진(Uvinul T 150)인 1,3,5-트리아진 유도체를 함유한다. 에멀션 B(비교)는 또한 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄(Parsol 1789)와 조합된 Uvinul T 150을 함유한다. 본 발명에 따른 에멀션 C는 Uvinul T 150과 Parsol 1789 이외에 Merck사에서 상표명 R3535로 시판되고 있는 에틸 N-부틸-N-아세틸아미노프로피오네이트를 함유하고 있다.
상기에 언급된 각종 차단제를 함유하고 있는 에멀션 A, B, 및 C의 조성이 하기 표 1에 수록되어 있다(하기 함량 조성물의 총중량에 대해 중량%로 표시되어 있다).
화합물 A(비교) B(비교) C(본 발명)
Uvinul T150 1.5% 1.5% 1.5%
Parsol 1789 - 0.5% 0.5%
R3535 - - 15%
이들 각 에멀션에 대해, 하기 과정에 따라 UV 조사후 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진의 잔류 퍼센트를 측정한다:
각 배합물에 대해, 4개의 대조 샘플과 4개의 시험샘플을 제조하였다.
배합물 16 mg을 물로 미리 헹구고 건조시킨 빙점하의 PMMA(폴리메틸 메타크릴레이트)판에 위치시키고, 배합물을 2 cm × 4 cm의 면적에 바른다. 자연 UV선과 유사한 조건을 만들어 주기위해 상기 판을 온도가 약 35-40℃로 조정된 챔버내에 4시간동안 조사(Suntest CPS Heraeous)하고, 한편으로 다른 판의 조사시간동안 어둠속에서 대조 판을 저장한다.
이후 상기 샘플을 하기 방식으로 분석한다:
차단제를 용해시키기위해, 55 ml의 에탄올중에 각 판을 침적시킴으로써 차단제를 추출한다. 판과 차단제를 함유하고 있는 용매를 5분간 초음파로 처리하여 효율적인 추출을 보장한다.
수득된 용액을 고성능 액체 크로마토그래피로 분석한다.
시험된 각 배합물에서, UV 조사후 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진의 함량은 비조사 샘플에서 그의 농도에 대한 조사 샘플에서 그의 농도의 비로 나타나 있다.
2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진의 잔류 퍼센트의 결과가 하기 표 2에 나타나 있다:
유화액 잔류 Uvinul T150
유화액 A(비교) 93%
유화액 B(비교) 69%
유화액 C(본 발명) 87%
본 발명에 의하여 미용 및/또는 피부과학적으로 허용가능한 지지체에 i) 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, ii) 일종이상의 특정 1,3,5-트리아진 유도체, 및 iii) 일종이상의 아미드 화합물을 함유하는 신규 미용 및/또는 피부 과학 조성물이 제공 되며, 이 조성물은 특히 광 안정성이 있다.

Claims (23)

  1. 미용, 피부과학, 또는 미용 및 피부과학 모두에 허용가능한 지지체에 하기 성분 i), ii) 및 iii)을 함유하는 미용, 피부 과학, 또는 미용 및 피부 과학 조성물:
    i) 하기 화학식 (I) 에 해당하는 일종 이상의 1,3,5-트리아진 유도체:
    [화학식 1]
    (I)
    [식중:
    - X2및 X3, 는 동일하거나 상이하며, 산소 또는 -NH- 라디칼을 나타내고;
    - R1, R2및 R3, 는 동일하거나 상이하며, 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 1 내지 6개의 에틸렌 옥시드 단위를 포함하며 그의 말단 OH 기가 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼; 하기 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택되며:
    [화학식 2]
    (II)
    [화학식 3]
    (III)
    [화학식 4]
    (IV)
    (식중:
    - R4는 수소 또는 메틸 라디칼이고;
    - R5는 C1-C9알킬 라디칼이며;
    - n 은 0 내지 3 의 정수이고;
    - m 은 1 내지 10 의 정수이며;
    - A 는 C4-C8알킬 라디칼이거나 C5-C8시클로알킬라디칼이고;
    - B 는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C8알킬 라디칼; C5-C8시클로알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 아릴라디칼이며;
    - R6는 수소 또는 메틸 라디칼이다.)];
    ii) 하기 화학식 (V)에 상응하는 일종이상의 디벤조일메탄 유도체:
    〔화학식 5〕
    (V)
    [식중, 서로 동일하거나 상이한 R7, R8, R9및 R10은 독립적으로 수소 원자, 히드록시 라디칼, 또는 직쇄 또는 측쇄 C1-C8알킬 라디칼, 혹은 직쇄 또는 측쇄 C1-C8알콕시 라디칼을 나타낸다]; 및
    iii) 일종이상의 아미드 화합물.
  2. 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화학식 (I) 의 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    - X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;
    - R1은 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택되며;
    - R2및 R3은 동일하거나 상이하며; 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택된다.
  3. 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화학식 (I) 의 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    - X2및 X3는 동일하고 -NH- 라디칼을 나타내며;
    - R3는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;
    - R1은 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV)의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되며;
    - R2는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택된다.
  4. 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    - X2는 산소이며;
    - X3은 -NH- 라디칼이고;
    - R3는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;
    - R1은 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV)의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되며;
    - R2는 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV) 의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택된다.
  5. 제 4 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 화학식에 해당하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    [식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타내며 R 은 t-부틸 라디칼을 나타낸다.]
  6. 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    - X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;
    - R1, R2및 R3은 동일하고, C6-C12알킬 라디칼 또는 1 내지 6 의 에틸렌 옥시드 단위를 함유하며 말단 OH 가 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼이다.
  7. 제 6 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 화학식에 해당하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    [식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타낸다.]
  8. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.5 중량 % 내지 20 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    - 2-메틸디벤조일메탄,
    - 4-메틸디벤조일메탄,
    - 4-이소프로필디벤조일메탄,
    - 4-t-부틸디벤조일메탄,
    - 2,4-디메틸디벤조일메탄,
    - 2,5-디메틸디벤조일메탄,
    - 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄,
    - 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
    - 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄,
    - 2-메틸-5-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
    - 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
    - 2,6-디메틸-4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
    - 4,4'-디메톡시디벤조일메탄.
  10. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.2 내지 15 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 아미드 화합물이 하기 화학식 VI에 상응하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    〔화합물 6〕
    (VI)
    (식에서, R11, R12및 R13은 동일하거나 상이하며, 독립적으로 수소 또는 일가의 포화 또는 불포화 지방족, 지환족 또는 고리형이며, 선택적으로 관능화된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소라디칼을 나타내며, 여기에서, 라디칼 R11은 라디칼 R12또는 라디칼 R13과 탄소수 5 내지 18의 고리를 형성할 수 있으며, 라디칼 R12와 R13은 함께 탄소수 5 내지 18의 고리를 형성할 수 있다)
  13. 제 12 항에 있어서, 아미드 화합물이 하기특성의 적어도 하나를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 조성물:
    - 아미드 화합물이 N-치환 아미드이며,
    - R11은 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼, 혹 다르게는 하나 이상의 직쇄 또는 측쇄 C1-C12알킬 라디칼과 선택적으로 치환된 페닐 라디칼이며,
    - R12는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼이며,
    - R13은 R12에 정의된 것으로부터 선택된 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼이거나, 혹 다르게는 하기 화학식 VII에 상응하는 에스테르 관능기를 가진 일가 라디칼을 나타낸다:
    〔화학식 7〕
    (VII)
    (식에서, R14및 R15은 동일하거나 상이하며, 두개의 탄화수소 라디칼을 나타낸다)
  14. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 아미드 화합물이 에틸 N-부틸-N-아세틸아미노프로피오네이트인 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 아미드 화합물이 조성물 총량에 대해 0.01 내지 50 중량%의 양으로 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 수중유 유화액 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 1 항, 9 항 또는 10 항중의 어느 한 항에 정의된 디벤조일메탄 유도체, 및 제 1 항 내지 7 항 중의 어느 한 항에서 정의된 1,3,5-트리아진 유도체를 함유하는 미용, 피부 과학, 또는 미용 및 피부 과학 조성물의 UV 복사에 대한 안정성을 향상시키는 방법에 있어서, 제 1 항, 12 항, 13 항 또는 14 항 중의 어느 한 항에서 정의된 바와 같은 아미드 화합물의 유효량을 상기 조성물에 도입하는 것으로 이루어 지는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제 8 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 조성물의 총 중량에 대하여 1 중량 % 내지 10 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 11 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.2 내지 10 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 12 항에 있어서, R11, R12및 R13은 동일하거나 상이하며, 독립적으로 수소 또는 일가의 포화 또는 불포화 지방족, 지환족 또는 고리형이며, 선택적으로 관능화된 탄소수 1 내지 22의 탄화수소라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 13 항에 있어서,
    - 아미드 화합물이 N,N-이치환 아미드이며,
    - R11은 직쇄 또는 측쇄, C1-C22알킬 라디칼이고,
    - R12는 직쇄 또는 측쇄 C1-C22알킬 라디칼이며,
    - R14및 R15은 동일하거나 상이하며, 탄소수 1 내지 12의 알키드 유형의 두개의 탄화수소 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 15 항에 있어서, 아미드 화합물이 조성물 총량에 대해 0.1 내지 30 중량%의 양으로 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 21 항에 있어서, - R11은 직쇄 또는 측쇄, C1-C12알킬 라디칼이고,
    - R12는 직쇄 또는 측쇄 C1-C12알킬 라디칼이며,
    - R14및 R15은 동일하거나 상이하며, 탄소수 1 내지 8의 알키드 유형의 두개의 탄화수소 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
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