KR102674331B1 - 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법 및 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치 - Google Patents
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Abstract
본 출원의 실시예는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법 및 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치를 개시하였으며, 입사광선을 광필터에 조사하고, 광필터 상의 교정 필터막을 투과 후 고정 파장을 갖는 교정 광선을 얻으며; 교정 광선을 파브리 페로 캐비티를 통해 스트로브하고, 파브리 페로 캐비티 투과 후 스트로브 광선을 얻으며; 스트로브 광선을 영상 칩에 조사하여 이미징하고 출력 신호를 얻는다. 가변 파브리 페로 캐비티의 스트로브 파장과 어느 한 위치의 교정 필터막에 의해 투과된 교정 광선의 파장이 매칭될 시에만, 해당 위치의 광선은 스트로브되어 영상 칩에 도달할 수 있으며, 해당 대응 위치의 영상 칩의 출력 신호는 자체 교정의 검측 신호로 사용될 수 있다. 또한, 광필터 상에서의 교정 필터막 외의 다른 위치의 정상적인 이미징에 영향주지 않으며, 해당 방법은 동작이 간단하고, 정확하며 실행 가능하다.
Description
본 발명은 필터 분야에 관한 것으로, 특히 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법 및 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치에 관한 것이다.
Fabry-Perot 캐비티 구조의 가변 광학 필터 원리는 이전의 다광속 간섭 원리로 거슬러 올라갈 수 있다. 간단하게 말하면, Fabry-Perot 캐비티는 두 개의 고반사율을 제공할 수 있는 경면 및 하나의 공진 공간을 제공할 수 있는 캐비티로 구성되고, 입사광은 F-P 캐비티에 제한되어 다수회 반복 진동, 간섭되며, 간섭 광신호가 어떠한 조건에 도달 시 출사된다. 해당 구조의 필터는 주로 F-P 캐비티의 길이 또는 캐비티의 굴절율을 조절하는 것을 통해 공진 조건을 변경하며, 필터링 효과를 달성한다. 따라서 F-P 캐비티(파브리 페로 캐비티)는 스펙트럼 정밀 구조분석, 레이저 공진 캐비티, 광학 필터 등 방면에서 광범하게 운용된다.
Fabry-Perot 캐비티는 광학 필터에 응용되며, 수직 입사 시, 캐비티 길이의 광학 두께가 입사광 반파장의 정수배인 경우, 이 파장에서의 빛은 저소모로 투과되며, 해당 조건을 만족시키지 못하는 파장은 반사되어 필터링 기능을 구현한다.
Fabry-Perot(패브리 페로 캐비티) 간섭에 기반한 가변 필터링 소자(tuneable FPI)는 마이크로 분광기 및 소형 내지 미니 하이퍼 스펙트럼 카메라에 응용될 수 있다. 가시광-근적외선(400~1000nm)의 하이퍼 스펙트럼 영상 분야에서, 다른 해결수단에 비해, Fabry-Perot 캐비티는 가장 간단한 시스템 구조와 광로를 제공하며, 따라서 하이퍼 스펙트럼 카메라의 원가, 부피 및 전력소모를 대폭 감소할 수 있다.
일반적으로, 마이크로 가변 파브리 페로 캐비티는 전압 신호에 의해 구동되어 파로리 페로 캐비티의 캐비티 길이를 조절함으로써 스펙트럼 상의 상이한 밴드의 빛을 스트로브한다. 구동 전압의 증가 또는 감소에 의해, 파브리 페로 캐비티 중 두 경면 사이의 상대적 위치(d(캐비티 길이))는 감소되거나 또는 증가된다. 또한 d의 감소 또는 증가는 파브리 페로 캐비티로부터 필터링된 파봉 위치를 조절할 수 있어 스펙트럼 상의 가변 필터링을 구현할 수 있다.
여기서, 전압 제어 곡선은, 온도, 기계 및 시간 변화에 따라 드리프트를 형성하며, 이는 가변 파브리 페로 캐비티가 적용될 시의 주요한 오차 원인이다. 따라서, 실제 응용에서 해당 유형의 오차를 감소하는 것은 소자 및 모델 디자인의 중요한 부분으로 되었다. 현재의 해결 방법은 온도 교정 테이블을 사용하는 해결수단 또는 전기용량 피드백에 기반한 폐루프 해결수단에만 제한된다. 스펙트럼 영상 시스템 중의 파브리 페로 캐비티 교정 방법에 대해 아직 비교적 간단하고, 실용적인 기술수단이 존재하지 않는다.
상기를 감안하여, 스펙트럼 영상 시스템 중 파브리 페로 캐비티에 대한 교정 방법 및 장치를 디자인하는 것은 매우 중요하다.
상기의 가변 파브리 페로 캐비티가 응용될 시 전압 제어 곡선이 온도, 기계 및 시간의 변화에 따라 드리프트 오차가 용이하게 발생하고, 오차의 저감이 어려우며, 동작이 편리하지 않고, 자체 교정을 구현할 수 없는 등 문제에 대해, 본 출원의 실시예는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법 및 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치를 제공하여 상기 문제를 해결하고자 한다.
본 발명의 제1 측면에 따르면, 본 출원의 실시예는,
입사광선을 광필터에 조사하고, 광필터 상의 교정 필터막을 투과 후 고정 파장을 갖는 교정 광선을 얻는 단계(S1);
교정 광선을 파브리 페로 캐비티를 통해 스트로브하고, 파브리 페로 캐비티 투과 후 스트로브 광선을 얻는 단계(S2);
스트로브 광선을 영상 칩에 조사하여 이미징하고 출력 신호를 얻는 단계(S3)를 포함하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법을 제공한다.
일부 실시예에서, 단계 S2에서 파브리 페로 캐비티의 구동 전압을 제어하는 것을 통해 교정 광선을 스트로브하여 스트로브 광선을 얻는다. 파브리 페로 캐비티의 구동 전압과 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이는 일정한 관계를 만족하며, 즉, 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선의 규칙에 부합된다. 파브리 페로 캐비티의 구동 전압을 제어하는 것을 통해 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이를 변경하여 일정 파장의 빛을 스트로브할 수 있다.
일부 실시예에서, 출력 신호는 교정 전압을 포함하며, 교정 전압은 교정 광선이 스트로브될 시 파브리 페로 캐비티의 구동 전압이다. 교정 전압은 교정 광선의 파장에 대응된다.
일부 실시예에서, 교정 전압과 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선 중의 전압을 비교하여 새로운 제어 곡선을 재피팅한다. 최종적으로 파브리 페로 캐비티 응용에서의 실시간 자체 교정을 구현한다.
일부 실시예에서, 광필터는 기판 및 밴드패스 필터막을 포함하며, 밴드패스 필터막은 기판의 표면에 코팅되어 일정 파장 범위의 이미징 광선이 밴드패스 필터막을 투과하도록 한다. 밴드패스 필터막은 파브리-페로 간섭계의 투과율을 제고시킬 수 있으며, 충분히 많은 이미징 광선이 파브리 페로 캐비티를 투과하며 영상 칩에 조사되어 이미징되도록 할 수 있다.
일부 실시예에서, 교정 필터막은 광필터 상의 파브리 페로 캐비티에 대응하는 클리어 애퍼츄어 내의 일부 영역에 마련된다. 따라서 교정 필터막을 투과하는 교정 광선은 직접 파브리 페로 캐비티의 클리어 애퍼츄어 내에 조사될 수 있다.
일부 실시예에서, 교정 필터막은 광필터 상의 영상 칩에 대응하는 엣지 위치의 일부 영역에 마련된다. 따라서 실시간 자체 교정을 구현할 수 있으며, 교정 필터막 외의 다른 위치에서의 정상적인 이미징 기능에 영향주지 않는다.
일부 실시예에서, 교정 필터막은 다수개 마련되며, 광필터의 상이한 위치에 분포되어 다수의 상이한 고정 파장의 빛이 교정 필터막을 투과하도록 한다. 다수의 교정 필터막을 마련하는 것을 통해 다수의 상이한 교정 전압을 얻을 수 있어 보다 정확한 피팅을 구현한다.
본 발명의 제2 측면에 따르면, 본 출원의 실시예는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치를 제공하였으며, 순차적으로 이격되어 배열된 광필터, 파브리 페로 캐비티 및 영상 칩을 포함하고, 광필터의 일부 영역에는 교정 필터막이 마련되어 고정 파장의 빛이 교정 필터막을 투과하도록 하며, 파브리 페로 캐비티의 전압 신호를 변경시켜 교정 필터막을 투과하는 빛을 스트로브하고, 영상 칩을 통해 이미지 신호를 생성한다.
일부 실시예에서, 광필터는 기판 및 밴드패스 필터막을 포함하며, 밴드패스 필터막은 기판의 표면에 코팅되어 일정 파장 범위의 이미징 광선이 밴드패스 필터막을 투과하도록 한다.
일부 실시예에서, 교정 필터막은 광필터 상의 파브리 페로 캐비티에 대응하는 클리어 애퍼츄어 내의 일부 영역에 마련된다. 따라서 교정 필터막을 투과하는 교정 광선은 직접 파브리 페로 캐비티의 클리어 애퍼츄어 내에 조사될 수 있다.
일부 실시예에서, 교정 필터막은 광필터 상의 영상 칩에 대응하는 엣지 위치의 일부 영역에 마련된다. 따라서 실시간 자체 교정을 구현할 수 있으며, 교정 필터막 외의 다른 위치에서의 정상적인 이미징 기능에 영향주지 않는다.
일부 실시예에서, 교정 필터막은 다수개 마련되며, 광필터의 상이한 위치에 분포되어 다수의 상이한 고정 파장의 빛이 교정 필터막을 투과하도록 한다. 다수의 교정 필터막을 마련하는 것을 통해 다수의 상이한 교정 전압을 얻을 수 있어 보다 정확한 피팅을 구현한다.
일부 실시예에서, 교정 필터막을 투과하는 빛이 파브리 페로 캐비티에 의해 스트로브될 시, 파브리 페로 캐비티의 구동 전압은 교정 전압이며, 교정 전압과 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선 중의 전압을 비교하여 새로운 제어 곡선을 재피팅한다. 최종적으로 파브리 페로 캐비티 응용에서의 실시간 자체 교정을 구현한다.
본 출원의 실시예는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법을 개시하였으며, 교정 필터막을 통해 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선을 피팅하며, 가변 파브리 페로 캐비티의 스트로브 파장과 어느 한 위치의 교정 필터막에 의해 투과된 교정 광선의 파장이 매칭될 시에만, 해당 위치의 광선은 스트로브되어 영상 칩에 도달할 수 있으며, 해당 대응 위치의 영상 칩의 출력 신호는 자체 교정의 검측 신호로 사용될 수 있다. 또한, 광필터 상에서의 교정 필터막 외의 다른 위치의 정상적인 이미징에 영향주지 않으며, 해당 방법은 동작이 간단하고, 정확하며 실행 가능하다. 본 출원의 다른 일 실시예는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치를 개시하였으며, 해당 장치를 통해 상기 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법을 사용할 수 있고, 가변 파브리 페로 캐비티에 대한 실시간 자체 교정을 구현하며, 장치가 간단하고, 원가가 저렴하다.
도면과 함께 실시예에 대한 추가 이해를 제공하며, 도면은 본 명세서에 병합되어 본 명세서의 일부를 구성한다. 도면은 실시예를 도시하였으며, 설명과 함께 본 발명의 원리를 해석한다. 다른 실시예 및 실시예의 많은 예상 장점들은 아래의 상세한 설명을 통해 보다 잘 이해될 수 있기에 용이하게 알 수 있게 될 것이다. 도면의 소자는 반드시 서로의 비례에 따른 것이 아닐 수 있다. 동일한 도면 부호는 대응하는 유사 부품을 지칭한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법의 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법의 파브리 페로 캐비티 제어 곡선의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법의 스펙트럼 응답도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치의 개략도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치의 광필터의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치의 광필터의 평면도이다
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법의 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법의 파브리 페로 캐비티 제어 곡선의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법의 스펙트럼 응답도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치의 개략도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치의 광필터의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치의 광필터의 평면도이다
이하, 도면 및 실시예와 함께 본 출원을 더 상세하게 설명한다. 여기서 설명되는 구체적인 실시예는 관련 발명의 해석에만 사용되며, 해당 발명에 대한 한정이 아님을 이해해야 할 것이다. 또한, 설명해야 할 것은, 설명의 편의상 도면에는 발명과 관련된 부분만 도시한다.
그리고, 충돌되지 않는 한, 본 출원 중의 실시예 및 실시예 중의 특징은 서로 조합될 수 있다. 이하, 도면을 참조하면서 실시예와 함께 본 출원을 상세하게 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예는,
입사광선을 광필터에 조사하고, 광필터 상의 교정 필터막을 투과 후 고정 파장을 갖는 교정 광선을 얻는 단계(S1);
교정 광선을 파브리 페로 캐비티를 통해 스트로브하고, 파브리 페로 캐비티 투과 후 스트로브 광선을 얻는 단계(S2);
스트로브 광선을 영상 칩에 조사하여 이미징하고 출력 신호를 얻는 단계(S3)를 포함하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법을 제공한다.
구체적인 실시예에서, 단계 S2에서 파브리 페로 캐비티의 구동 전압을 제어하는 것을 통해 교정 광선을 스트로브하여 스트로브 광선을 얻는다. 일반적으로, 마이크로 가변 파브리 페로 캐비티는 전압 신호를 통해 파브리 페로 캐비티를 구동하며, 구체적으로 두 가지 방식을 포함한다. 한가지는 파브리 페로 캐비티의 두 경면에 두 개의 상대적 전극을 형성하며, 두 전극에 전압을 인가하여 전기용량에 의해 구동되는 파브리 페로 캐비티를 형성하는 것이며, 다른 한가지는 압전 액추에이터를 통해 파브리 페로 캐비티의 가동 경면이 이동하도록 구동하고, 압전 액추에이터의 상하 전극에 전압을 인가하여 압전 액추에이터를 구동하는 것이다. 따라서, 전압 신호를 변경하는 것을 통해 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이를 변경하며 광선을 스트로브한다. 바람직한 실시예에서, 전기용량 구동의 방식으로 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이를 제어하고, 파브리 페로 캐비티의 구동 전압과 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이가 일정한 관계를 만족시키면 도 2에 도시된 바와 같은 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선을 얻을 수 있으며 아래의 공식을 만족시킨다:
여기서, V는 파브리 페로 캐비티의 구동 전압을 나타내고, k는 파브리 페로 캐비티 구조의 탄성 계수를 나타내며, 
는 진공에서의 유전 상수를 나타내고, A는 파브리 페로 캐비티 전기 용량에 의해 동되는 전극의 면적을 나타내고; 
은 파브리 페로 캐비티의 초기 캐비티 길이이고; d는 파브리 페로 캐비티의 현재 캐비티 길이이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 파브리 페로 캐비티의 구동 전압이 V1인 경우, 대응하는 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이는 d1이고, 파브리 페로 캐비티의 구동 전압이 V2인 경우, 대응하는 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이는 d2이다. 따라서, 구동 전압의 증가 또는 감소에 따라 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이도 감소되거나 증가된다. 파브리 페로 캐비티의 캐비티 길이와 빛의 파장은 아래의 공식을 만족시킨다:
여기서, λ는 스트로브된 빛의 파장이고, d는 파브리 페로 캐비티의 현재 캐비티 길이이며, m은 양의 정수이다.
이상의 두 개 공식으로 파브리 페로 캐비티를 투과 후 스트로브된 빛의 파장을 산출할 수 있으며, 반대로, 기지의 파브리 페로 캐비티 투과 후 스트로브된 빛의 파장을 통해 파브리 페로 캐비티의 구동 전압을 추산할 수 있다. 교정 광선이 파브리 페로 캐비티 투과후 스트로브될 시, 파브리 페로 캐비티가 실제로 측정한 구동 전압은 교정 전압이며, 교정 전압은 교정 광선의 파장에 대응된다. 다른 일 측면으로, 교정 광선의 파장에 따라 상기 두 공식을 통해 파브리 페로 캐비티의 구동 전압을 산출할 수 있으며, 산출된 구동 전압과 실제 측정한 교정 전압을 비교하면, 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선을 재피팅할 수 있으며, 정상적인 이미징 광선의 영상 효과에 영향주지 않아 실시간 자체 교정 기능을 구현할 수 있다. 다른 선택 가능한 실시예에서, 다른 전압 신호에 의해 구동되는 파브리 페로 캐비티의 전압과 캐비티 길이는 다른 제어 곡선 공식을 만족하며, 이상의 방식을 통해 파브리 페로 캐비티에 대해 자체 교정을 진행할 수도 있다.
구체적인 실시예에서, 광필터는 기판 및 밴드패스 필터막을 포함하며, 밴드패스 필터막은 기판의 표면에 코팅되어 일정 파장 범위의 이미징 광선이 밴드패스 필터막을 투과하도록 한다. 파브리-페로 간섭계 자체의 투과성이 이상적이지 못하므로, 금지대 투과율이 매우 높아지며, 밴드패스 필터막을 마련하여 파브리-페로 간섭계의 투과율을 제고시킬 수 있으며, 충분한 이미징 광선이 파브리 페로 캐비티를 투과하며 영상 칩에서 이미징되도록 보장한다. 바람직한 실시예에서, 밴드패스 필터막은 기판에 마련되어 교정 필터막의 일면을 향한다. 즉, 기판에 우선 한층의 밴드패스 필터막을 코팅한 후 밴드패스 필터막의 일부 영역에 작은 교정 필터막을 코팅한다. 물론, 밴드패스 필터막은 기판에서 교정 필터막과 떨어진 일면에 마련될 수도 있다. 즉, 기판의 일면에 교정 필터막을 마련하고, 기판의 다른 일면에 밴드패스 필터막을 마련한다. 밴드패스 필터막과 교정 필터막의 광로는 중첩될 수 있으며, 중첩되지 않을 수도 있다. 상기 교정 필터막과 밴드패스 필터막의 광로가 중첩된 경우 밴드패스 필터막은 일정 파장 범위의 이미징 광선이 투과되도록 하며, 교정 필터막은 일정 파장 범위 내의 어느 하나의 고정 파장이 투과되도록 한다. 또한, 기판은 투명 기판이며, 유리 기판 또는 다른 광학 수지 기판을 포함한다. 이를 통해 효과적으로 스펙트럼 영상 시스템의 광선의 이미징 효과를 제고시킬 수 있으며, 장치가 간단하고, 원가가 저렴하며, 정확도가 높다.
구체적인 실시예에서, 교정 필터막은 광필터 중 파브리 페로 캐비티에 대응하는 클리어 애퍼츄어 내의 일부 영역에 마련된다. 따라서 교정 필터막을 투과하는 교정 광선은 파브리 페로 캐비티의 클리어 애퍼츄어를 벗어나지 않고 직접 파브리 페로 캐비티의 클리어 애퍼츄어 내에 조사될 수 있어, 교정 효과에 영향을 주지 않는다. 바람직한 실시예에서, 교정 필터막은 광필터 중 영상 칩에 대응하는 엣지 위치의 일부 영역에 마련된다. 교정 필터막이 영상 칩에 대응하는 엣지 위치에 마련되어 실시간 교정을 구현할 수 있을 뿐만 아니라 교정 필터막 외의 다른 위치의 정상적인 이미징 기능에 영향주지 않으며, 따라서 최종적으로 자체 교정의 목적을 달성한다.
구체적인 실시예에서, 교정 필터막은 다수개 마련되며 광필터의 상이한 위치에 분포되어 다수의 상이한 고정 파장의 빛이 교정 필터막을 투과하도록 한다. 다수의 교정 필터막을 마련하는 것을 통해 다수의 상이한 교정 전압을 얻을 수 있어 보다 정확한 피팅을 구현한다. 바람직한 실시예에서, 교정 필터막은 3개로 설정되어, 각각 영상 칩에 대응하는 엣지의 단점에 마련될 수 있으며, 밴드패스 필터막은 스펙트럼 상 일정 파장 범위의 빛을 투과할 수 있고, 교정 필터막은 고정 파장의 협대역 광선만 투과하며, 따라서, 해당 3개의 교정 필터막은 밴드패스 필터 스펙트럼 범위의 3개의 상이한 파장의 위치에 대응되며, 최종적으로 도 3에 도시된 바와 같은 스펙트럼 응답도를 얻을 수 있다. 또한, 3개의 교정 전압이 존재하여 3개 위치에 대응하는 영상 칩 화소에 신호 출력이 존재하도록 한다. 해당 3개의 교정 전압과 파브리 페로 캐비티에 의해 최초로 캘리브레이팅된 제어 곡선 중의 해당되는 파장에 대응하는 전압을 비교하고, 드리프트가 발생되면, 상기 공식에 따라 새로운 제어 곡선을 재피팅할 수 있어 파브리 페로 캐비티가 스펙트럼 영상 응용에서의 실시간 자체 교정을 구현한다.
본 출원의 실시예에 따른 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법에 대해, 대응되게 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치를 제공하였으며, 해당 스펙트럼 수집 장치는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법을 사용하여 자체 교정을 진행할 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 해당 스펙트럼 장치는 순차적으로 이격되어 배열된 광필터(1), 파브리 페로 캐비티(2) 및 영상 칩(3)을 포함하며, 광필터(1)의 일부 영역에는 교정 필터막(11)이 마련되어 고정 파장의 빛이 교정 필터막(11)을 투과하도록 하고, 파브리 페로 캐비티(2)의 전압 신호를 변경시켜 교정 필터막(11)을 투과하는 빛을 스트로브하며, 영상 칩(3)을 통해 이미지 신호를 생성한다.
구체적인 실시예에서, 도 5에 도시된 바와 같이, 광필터(1)는 기판(10) 및 밴드패스 필터막(12)을 포함하며, 밴드패스 필터막(12)은 기판(10)의 표면에 코팅되어 일정 파장 범위의 이미징 광선이 밴드패스 필터막(12)을 투과하도록 한다. 파브리-페로 간섭계 자체의 투과성이 이상적이지 못하므로, 금지대 투과율이 매우 높아지며, 밴드패스 필터막(12)을 마련하여 파브리-페로 간섭계의 투과율을 제고시킬 수 있으며, 충분한 이미징 광선이 파브리 페로 캐비티(2)를 투과하며 영상 칩에서 이미징되도록 보장한다. 바람직한 실시예에서, 밴드패스 필터막(12)은 기판(10)에 마련되어 교정 필터막(11)의 일면을 향한다. 즉, 기판(10)에 우선 한층의 밴드패스 필터막(12)을 코팅한 후 밴드패스 필터막(12)의 일부 영역에 작은 교정 필터막(11)을 코팅한다. 물론, 밴드패스 필터막은 기판(10)에서 교정 필터막(11)과 떨어진 일면에 마련될 수도 있다. 즉, 기판(10)의 일면에 교정 필터막(11)을 마련하고, 기판(10)의 다른 일면에 밴드패스 필터막(12)을 마련한다. 밴드패스 필터막(12)과 교정 필터막(11)의 광로는 중첩될 수 있으며, 중첩되지 않을 수도 있다. 상기 교정 필터막(11)과 밴드패스 필터막(12)의 광로가 중첩된 경우 밴드패스 필터막(12)은 일정 파장 범위의 이미징 광선이 투과되도록 하며, 교정 필터막(11)은 일정 파장 범위 내의 어느 하나의 고정 파장이 투과되도록 한다. 또한, 기판(10)은 투명 기판이며, 유리 기판 또는 다른 광학 수지 기판을 포함한다. 이를 통해 스펙트럼 수집 장치는 구조가 간단하고, 원가가 저렴하며, 정확도가 높다.
구체적인 실시예에서, 도 6에 도시된 바와 같이, 교정 필터막(11)은 광필터(1) 중 파브리 페로 캐비티(2)에 대응하는 클리어 애퍼츄어 내의 일부 영역에 마련된다. 따라서 교정 필터막(11)을 투과하는 교정 광선은 파브리 페로 캐비티(2)의 클리어 애퍼츄어를 벗어나지 않고 직접 파브리 페로 캐비티(2)의 클리어 애퍼츄어내에 조사될 수 있어, 교정 효과에 영향을 주지 않는다. 바람직한 실시예에서, 교정 필터막(11)은 광필터(1) 중 영상 칩(3)에 대응하는 엣지 위치의 일부 영역에 마련된다. 교정 필터막(11)이 영상 칩(3)에 대응하는 엣지 위치에 마련되어 실시간 교정을 구현할 수 있을 뿐만 아니라 교정 필터막(11) 외의 다른 위치의 정상적인 이미징 기능에 영향주지 않으며, 따라서 최종적으로 자체 교정의 목적을 달성한다.
구체적인 실시예에서, 교정 필터막(11)은 다수개 마련되며 광필터(1)의 상이한 위치에 분포되어 다수의 상이한 고정 파장의 빛이 교정 필터막(11)을 투과하도록 한다. 다수의 교정 필터막(11)을 마련하는 것을 통해 다수의 상이한 교정 전압을 얻을 수 있어 보다 정확한 피팅을 구현한다. 바람직한 실시예에서, 교정 필터막(11)은 3개로 설정되어, 각각 영상 칩(3)에 대응하는 엣지의 단점에 마련될 수 있으며, 밴드패스 필터막(12)은 스펙트럼 상 일정 파장 범위의 빛을 투과할 수 있고, 교정 필터막(11)은 고정 파장의 협대역 광선만 투과하며, 따라서, 해당 3개의 교정 필터막(11)은 밴드패스 필터 스펙트럼 범위의 3개의 상이한 파장의 위치에 대응된다, 또한 3개의 교정 전압이 존재하여 3개 위치에 대응하는 영상 칩 화소에 신호 출력이 존재하게 된다. 최종적으로 도 3에 도시된 바와 같은 스펙트럼 응답도를 얻는다. 해당 3개의 교정 전압과 파브리 페로 캐비티(2)에 의해 최초로 캘리브레이팅된 제어 곡선 중의 해당되는 파장에 대응하는 전압을 비교하고, 드리프트가 발생되면, 상기 공식에 따라 새로운 제어 곡선을 재피팅할 수 있어 파브리 페로 캐비티(2)가 스펙트럼 영상 응용에서의 실시간 자체 교정을 구현한다.
구체적인 실시예에서, 교정 필터막(11)을 투과하는 빛은 파브리 페로 캐비티(2)에 의해 스트로브될 시 파브리 페로 캐비티(2)의 구동 전압은 교정 전압이며, 교정 전압과 파브리 페로 캐비티(2)의 제어 곡선 중의 전압을 비교하여 새로운 제어 곡선을 재피팅하며, 최종적으로 파브리 페로 캐비티(2)의 실시간 자체 교정을 구현한다.
본 출원의 실시예는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법을 개시하였으며, 입사광선을 광필터에 조사하고, 광필터 상의 교정 필터막을 투과 후 고정 파장을 갖는 교정 광선을 얻으며; 교정 광선을 파브리 페로 캐비티를 통해 스트로브하고, 파브리 페로 캐비티 투과 후 스트로브 광선을 얻으며; 스트로브 광선을 영상 칩에 조사하여 이미징하고 출력 신호를 얻는다. 교정 필터막을 마련하여 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선을 피팅하며, 가변 파브리 페로 캐비티의 스트로브 파장과 어느 한 위치의 교정 필터막에 의해 투과된 교정 광선의 파장이 매칭될 시에만, 해당 위치의 광선은 스트로브되어 영상 칩에 도달할 수 있으며, 해당 대응 위치의 영상 칩의 출력 신호는 자체 교정의 검측 신호로 사용될 수 있다. 또한, 광필터 상에서의 교정 필터막 외의 다른 위치의 정상적인 이미징에 영향주지 않으며, 해당 방법은 동작이 간단하고, 정확하며 실행 가능하다. 본 출원의 또 다른 일 실시예는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치를 공개하였으며, 해당 장치를 통해 상기 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법을 사용할 수 있어, 가변 파브리 페로 캐비티에 대한 실시간 자체 교정을 구현하며, 해당 장치는 구조가 간단하고, 원가가 저렴하며, 교정 정확도가 높다.
이상, 본 출원의 구체적인 실시형태를 설명하였으나, 본 출원의 보호 범위는 이에 한정되지 않으며, 본 기술분야의 통상의 기술자들에게 있어서 본 출원에 개시된 기술 범위 내에서 용이하게 생각해낼 수 있는 변경 또는 대체는 모두 본 출원의 보호 범위 내에 포함되어야 한다. 따라서, 본 출원의 보호 범위는 상기 청구항의 보호 범위를 기준으로 해야 한다.
본 출원의 설명에서, 이해해야 할 것은, 용어 “상”, “하”, “내”, “외” 등 방향 또는 위치 관계는 도면에 기반하여 도시한 방향 또는 위치 관계이며, 본 출원의 설명에 편리를 제공하고, 설명을 간략화하기 위한 것일 뿐이며, 가리키는 장치 또는 소자가 반드시 특정 방향을 구비하거나, 특정 방향으로 구성되고 동작되어야 함을 지시하거나 암시하지 않으며, 따라서 본 출원에 대한 제한으로 이해되지 말아야 한다. “포함하다”라는 표현은 청구항에 열거되지 않은 소자나 단계의 존재를 배제하지 않는다. 소자 앞의 “일” 또는 “하나”라는 표현은 다수의 이러한 소자의 존재를 배제하지 않는다. 서로 다른 종속 청구항에 기재된 일부 조치의 간단한 사실은 이러한 조치의 조합이 개선에 사용될 수 없음을 나타내는 것이 아니다. 청구항 중의 어떠한 참조 부호도 범위의 제한으로 해석되어서는 아니된다.
1 : 광필터
2 : 파브리 패로 캐비티
3 : 영상 칩
10 : 기판
11 : 교정 필터막
12 : 밴드패스 필터막
2 : 파브리 패로 캐비티
3 : 영상 칩
10 : 기판
11 : 교정 필터막
12 : 밴드패스 필터막
Claims (14)
- 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법에 있어서,
입사광선을 광필터에 조사하고, 상기 광필터 상의 교정 필터막을 투과 후 고정 파장을 갖는 교정 광선을 얻는 단계(S1);
상기 교정 광선을 상기 파브리 페로 캐비티를 통해 스트로브하고, 상기 파브리 페로 캐비티 투과 후 스트로브 광선을 얻는 단계(S2);
상기 스트로브 광선을 영상 칩에 조사하여 이미징하고 출력 신호를 얻는 단계(S3)를 포함하며,
상기 광필터는 기판 및 밴드패스 필터막을 포함하며, 상기 밴드패스 필터막은 상기 기판의 표면에 코팅되어 일정 파장 범위의 이미징 광선이 상기 밴드패스 필터막을 투과하도록 하는 것을 특징으로 하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 단계(S2)에서 상기 파브리 페로 캐비티의 구동 전압을 제어하는 것을 통해 상기 교정 광선에 대해 스트로브하여 상기 스트로브 광선을 얻는 것을 특징으로 하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법.
- 청구항 2에 있어서,
상기 출력 신호는 교정 전압을 포함하며, 상기 교정 전압은 상기 교정 광선이 스트로브될 시 상기 파브리 페로 캐비티의 구동 전압인 것을 특징으로 하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법.
- 청구항 3에 있어서,
상기 교정 전압과 상기 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선 중의 전압을 비교하여 새로운 제어 곡선을 재피팅하는 것을 특징으로 하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법.
- 삭제
- 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 교정 필터막은 상기 광필터 상의 상기 파브리 페로 캐비티에 대응하는 클리어 애퍼츄어 내의 일부 영역에 마련되는 것을 특징으로 하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법.
- 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 교정 필터막은 상기 광필터 상의 상기 영상 칩에 대응하는 엣지 위치의 일부 영역에 마련되는 것을 특징으로 하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법.
- 청구항 1내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 교정 필터막은 다수개 마련되며, 상기 광필터의 상이한 위치에 분포되어 다수의 상이한 고정 파장의 빛이 상기 교정 필터막을 투과하도록 하는 것을 특징으로 하는 가변 파브리 페로 캐비티 자체 교정 방법.
- 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치에 있어서,
순차적으로 이격되어 배열된 광필터, 파브리 페로 캐비티 및 영상 칩을 포함하되, 상기 광필터의 일부 영역에는 교정 필터막이 마련되어 고정 파장의 빛이 상기 교정 필터막을 투과하도록 하며, 파브리 페로 캐비티의 전압 신호를 변경시켜 상기 교정 필터막을 투과하는 빛을 스트로브하고, 상기 영상 칩을 통해 이미지 신호를 생성하며, 상기 광필터는 기판 및 밴드패스 필터막을 포함하며, 상기 밴드패스 필터막은 상기 기판의 표면에 코팅되어 일정 파장 범위의 이미징 광선이 상기 밴드패스 필터막을 투과하도록 하는 것을 특징으로 하는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치.
- 삭제
- 청구항 9에 있어서,
상기 교정 필터막은 상기 광필터 상의 상기 파브리 페로 캐비티에 대응하는 클리어 애퍼츄어 내의 일부 영역에 마련되는 것을 특징으로 하는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치.
- 청구항 9에 있어서,
상기 교정 필터막은 상기 광필터 상의 상기 영상 칩에 대응하는 엣지 위치의 일부 영역에 마련되는 것을 특징으로 하는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치.
- 청구항 9에 있어서,
상기 교정 필터막은 다수개 마련되며, 상기 광필터의 상이한 위치에 분포되어 다수의 상이한 고정 파장의 빛이 상기 교정 필터막을 투과하도록 하는 것을 특징으로 하는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치.
- 청구항 9 및 청구항 11 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
상기 교정 필터막을 투과하는 빛이 상기 파브리 페로 캐비티에 의해 스트로브될 시, 상기 파브리 페로 캐비티의 구동 전압은 교정 전압이며, 상기 교정 전압과 상기 파브리 페로 캐비티의 제어 곡선 중의 전압을 비교하여 새로운 제어 곡선을 재피팅하는 것을 특징으로 하는 자체 교정 기능을 구비하는 스펙트럼 수집 장치.
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Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001524762A (ja) | 1997-11-26 | 2001-12-04 | コーニング・レーザートロン・インコーポレーテッド | 空間可変フィルタによるレーザ波長の監視／制御方法および装置 |
| JP2017181361A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | パイオニア株式会社 | 波長選択装置及び分光測定装置 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6600846B2 (en) * | 2001-01-15 | 2003-07-29 | Coretek, Inc. | Single-etalon, multi-point wavelength calibration reference and fully integrated optical system using the same |
| US20030202799A1 (en) * | 2002-04-29 | 2003-10-30 | Zhou Dennis Chi | Optical channel monitor using an angle-tuned fabry-perot optical filter |
| JP2006210144A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Hitachi Displays Ltd | カラー陰極線管の製造方法 |
| JP5446110B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-03-19 | セイコーエプソン株式会社 | 受光装置 |
| CN101604055B (zh) * | 2008-12-12 | 2010-11-17 | 北京理工大学 | 一种并联双腔可调谐光纤法布里-珀罗滤波器 |
| US9366942B2 (en) * | 2011-12-09 | 2016-06-14 | Omnivision Technologies, Inc. | IR-cut filter having red absorbing layer for digital camera |
| FI125762B (en) * | 2012-10-11 | 2016-02-15 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Method for determining calibration parameters for a spectrometer |
| JP6390090B2 (ja) | 2013-11-19 | 2018-09-19 | セイコーエプソン株式会社 | 光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
| CN103558225B (zh) * | 2013-11-20 | 2016-02-24 | 太仓思比科微电子技术有限公司 | 一种cmos图像芯片测试方法 |
| EP3161434A4 (en) | 2014-06-27 | 2018-02-28 | Spectral Engines OY | Stabilized spectrometer and a method for stabilizing a spectrometer |
| WO2015197920A1 (en) * | 2014-06-27 | 2015-12-30 | Spectral Engines Oy | A method for determining the spectral scale of a spectrometer and apparatus |
| FI126791B (en) * | 2014-12-29 | 2017-05-31 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Mirror disk for an optical interferometer, method for manufacturing a mirror disk and optical interferometer |
| JP6958131B2 (ja) | 2017-08-31 | 2021-11-02 | セイコーエプソン株式会社 | 光学モジュール、電子機器、及び光学モジュールの制御方法 |
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001524762A (ja) | 1997-11-26 | 2001-12-04 | コーニング・レーザートロン・インコーポレーテッド | 空間可変フィルタによるレーザ波長の監視／制御方法および装置 |
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