KR102659470B1 - 입자 정량 장치 - Google Patents

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Abstract

입자상 시료에 있어서의 입자를 정확하게 인식할 수 있는 입자수의 범위를 보다 넓게 하는 입자 정량 장치를 제공한다. 관찰 장치(1)는, 입자상 시료를 나타내는 시료 화상을 취득하는 촬상 카메라(107)와, 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 컴퓨터(108)를 구비한다. 컴퓨터(108)는, 시료 화상의 주파수 영역 표현을 취득하고, 주파수 영역 표현을, 고주파수 성분 및 저주파수 성분으로 분리하고, 고주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 고주파수 화상을 취득하고, 저주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 저주파수 화상을 취득하고, 고주파수 화상 및 저주파수 화상에 기초하여 입자상 시료를 인식 또는 정량한다.

Description

입자 정량 장치
본 발명은 입자 정량 장치에 관한 것이다.
세포의 배양이나, 약제 감수성 검사 등에서의 세균의 배양 등에 있어서, 세포, 세균 등의 상태를 계측하는 기술이 필요하다. 일례로서, 배양 용기 하측 방향으로부터 배양 상태를 카메라 등으로 검출하고, 그 특징량을 기초로 세포수, 세균수를 산정하는 기술이 알려져 있다.
세포량ㆍ세포수 등을 계측하는 방법으로서, 투과 화상의 전체적인 강도 변화로부터 입자상 물체의 농도를 산정하는 방식이 있다. 소위 탁도 계측에서 이용되는 방법이다. 도 11과 같이, 입자 농도가 많아지면, 입자에 의한 광산란 또는/및 회절 또는/및 광흡수에 의해, 카메라 등으로 검출되는 투과광이 감소하므로, 그 투과광 강도 변화로부터 입자수를 산정한다고 하는 방법이다. 이러한 방법의 예는 특허문헌 1에 기재된다.
이러한 방법에서는, 입자가 고농도로 존재하는 경우에, 입자에 의한 광산란ㆍ흡수에 의한 강도 감소 개소가 많아져, 전체로서 충분한 강도 변화가 생기고, 입자수ㆍ농도의 산정이 용이하게 된다고 하는 이점이 있다.
또 다른 방법으로서, 입자상 물체의 특징량으로부터 입자를 식별하고, 입자를 개별적으로 카운트한다고 하는 방식이 있다. 예를 들어, 입자의 크기에 대하여 충분히 미세하게 측정할 수 있는 카메라 등으로 검출하고, 투과 화상의 콘트라스트로부터 입자를 식별하고, 입자를 개별적으로 계수하는 입자 카운트 방식이 있다. 이러한 방법의 예는 특허문헌 2에 기재된다.
입자 카운트 방식에서는, 입자를 1개 단위로 식별하고, 계수하기 때문에, 저농도 또는 입자수가 적을 때라도 입자수의 변화를 감도 좋게 검출할 수 있어, 고감도, 고정밀도의 검출이 가능하게 된다고 하는 이점이 있다. 이에 의해, 예를 들어 입자수의 약간의 변화를 고정밀도로 검출할 수 있게 되고, 또한 배양 시의 세포의 증식 조짐을 보다 조기에 검지할 수 있다.
일본 특허 공개 제2007-306889호 공보 일본 특허 공개 제2002-214228호 공보
그러나, 종래의 기술에서는 입자를 정확하게 인식할 수 있는 입자수의 범위가 좁다고 하는 과제가 있었다.
예를 들어 특허문헌 1과 같이 투과광 강도 변화를 사용하는 방법에서는, 입자수가 적을 때에는 입자에 의한 광산란ㆍ흡수량이 전체에 대하여 얼마 안되고, 투과광 강도 변화가 작다. 그 때문에, 입자수ㆍ농도를 정확하게 산정하는 것이 곤란하게 된다.
한편, 예를 들어 특허문헌 2와 같은 입자 카운트 방식에서는, 입자수가 많아지면, 입자끼리의 접촉, 입자끼리의 겹침이 확률적으로 많아져, 입자의 개별 식별이 곤란하게 된다. 통상 그 분포는 푸아송 분포로 나타내어지며, 간편적인 계수 손실 모델이 알려져 있다(도 12). 즉, 일정 면적 내에 존재하는 입자수가 많아지면, 입자를 개별적으로 계수하는 효율이 저하되게 된다. 입자수가 더 많은 영역에서는, 입자끼리의 광투과 방향으로의 겹침이 많아진다. 그 결과, 다중 산란 등에 의해 투과광 강도가 전체적으로 저하되기 때문에, 취득 화상이 불선명해지고, 화상 처리에서의 입자 식별능이 나빠지고, 계수 손실이 발생하게 된다(도 13). 이러한 이유 등에 의해, 입자 카운트를 행하는 경우, 일정 면적 내에 존재하는 입자수가 많아지면, 도 12, 도 13에 도시하는 영향이 겹쳐, 외관 상의 입자 계수값이 반대로 적어져 버려(예를 들어, 도 14), 정확한 입자수, 입자 농도의 산정이 곤란하게 된다. 특히, 입자수가 증가하고 있음에도 불구하고, 입자수가 적어져 버린다고 하는 오인식을 야기하기 쉽게 되어 있다. 개개의 입자를 식별하고, 계수하는 경우에는, 이러한 원리적으로 피할 수 없는 과제가 있다.
본 발명은 이러한 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 입자상 시료에 있어서의 입자를 정확하게 인식할 수 있는 입자수의 범위를 보다 넓게 하는 입자 정량 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 관한 입자 정량 장치의 일례는,
입자상 시료를 나타내는 시료 화상을 취득하는 화상 취득 수단과,
상기 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 데이터 처리 수단
을 구비하는 입자 정량 장치이며,
상기 데이터 처리 수단은,
상기 시료 화상의 주파수 영역 표현을 취득하고,
상기 주파수 영역 표현을, 고주파수 성분 및 저주파수 성분으로 분리하고,
상기 고주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 고주파수 화상을 취득하고,
상기 저주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 저주파수 화상을 취득하고,
상기 고주파수 화상 및 상기 저주파수 화상에 기초하여 상기 입자상 시료를 인식하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 관한 입자 정량 장치의 일례는,
입자상 시료를 나타내는 시료 화상을 취득하는 화상 취득 수단과,
상기 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 데이터 처리 수단
을 구비하는 입자 정량 장치이며,
상기 데이터 처리 수단은,
상기 시료 화상에 기초하여, 광학적으로 고개구수의 광로를 통과하는 성분의 광에 의한 고개구수 화상과, 광학적으로 저개구수의 광로를 통과하는 성분의 광에 의한 저개구수 화상을 취득하고,
상기 고개구수 화상 및 상기 저개구수 화상에 기초하여 상기 입자상 시료를 정량하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 관한 입자 정량 장치의 일례는,
입자상 시료를 나타내는 시료 화상을 취득하는 화상 취득 수단과,
상기 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 데이터 처리 수단
을 구비하는 입자 정량 장치이며,
상기 데이터 처리 수단은,
상기 시료 화상에 있어서 입자가 존재하는 입자 영역을 추출하고,
상기 입자 영역의 화소수를 산정하고,
상기 시료 화상의 화소수에 대한, 상기 입자 영역의 화소수의 비율에 기초하여, 상기 입자상 시료를 정량하는 것을 특징으로 한다.
본 명세서는 본원의 우선권의 기초가 되는 일본 특허 출원 번호 제2019-138526호의 개시 내용을 포함한다.
본 발명에 관한 입자 정량 장치에 따르면, 입자상 시료에 있어서의 입자를 정확하게 인식할 수 있는 입자수의 범위가 보다 넓어진다.
도 1은 제1 실시 형태에 관한 관찰 장치의 개략 구성도.
도 2는 입자상 시료를 항온 상태에서 배양하였을 때의 화상의 경시 변화의 일례.
도 3은 촬상 광학계에 있어서의 고NA 성분 및 저NA 성분의 설명도.
도 4는 도 1의 관찰 장치의 동작의 일례를 도시하는 흐름도.
도 5는 도 1의 관찰 장치의 동작에 관한 화상의 예.
도 6은 고주파수 화상의 전체 화소에 대한 휘도의 히스토그램.
도 7은 고주파수 화상에 있어서의 고휘도 화소의 총수의, 배양 경과 시간에 따른 변화를 도시하는 도면.
도 8은 저주파수 화상의 전체 화소에 대한 휘도의 히스토그램.
도 9는 저주파수 화상에 있어서의 저휘도 화소의 총수의, 배양 경과 시간에 따른 변화를 도시하는 도면.
도 10은 입자 존재 영역의 화소의 총수의, 배양 경과 시간에 따른 변화를 도시하는 도면.
도 11은 종래 기술에 의한, 투과광 강도로부터 입자상 시료를 검출하는 방식의 설명도.
도 12는 종래 기술에 의해 화상으로부터 입자 식별하여 입자수를 카운트할 때의, 계수 손실 모델에 의한 입자량에 대한 계수 효율 변화를 설명하는 시뮬레이션도.
도 13은 종래 기술에 의한, 입자끼리의 겹침에 의한 산란ㆍ회절 등에 의한 광투과 강도 감소에 의한, 계수 손실의 영향을 설명하는 시뮬레이션도.
도 14는 종래 기술에 의한, 계수 손실이 발생하는 경우의, 실제 입자수와 식별 계수 입자수의 관계를 설명하는 시뮬레이션도.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다. 또한, 도면은 본 발명의 원리에 준한 구체적인 실시 형태를 도시하고 있지만, 이것들은 본 발명의 이해를 위한 것이며, 결코 본 발명을 한정적으로 해석하기 위해 사용되는 것은 아니다.
[제1 실시 형태]
(1) 장치의 구성의 개요
제1 실시 형태에 관한 장치를 도 1에 따라 설명한다. 도 1은, 제1 실시 형태에 관한 관찰 장치(1)의 구성을 도시하는 개략 구성도이다. 관찰 장치(1)는, 입자상 시료를 관찰하기 위한 장치이다. 입자상 시료란, 예를 들어 입자, 세포 또는 세균을 포함하는 시료를 의미한다. 「입자」의 의미는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 세포 또는 세균 등의 생물을 포함하는 것으로서 정의되어도 되고, 라텍스 입자나 폴리스티렌 비즈 등의 무생물이어도 된다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 관찰 장치(1)는, 주요한 구성 요소로서, 조명용 광학계(101)와, 샘플 용기(102)와, 받침대(103)와, XY 스테이지(104)와, 대물 렌즈(105)와, 대물 렌즈 액추에이터(106)와, 촬상 카메라(107)와, 컴퓨터(108)를 구비한다.
조명용 광학계(101)는, 입자상 시료를 균일하게 조명한다. 예를 들어 입자상 시료가 샘플 용기(102)의 저면에 배치되어 있는 경우에는, 샘플 용기(102)의 저면을 균일하게 조명한다. 조명용 광학계(101)는, 광원 및 쾰러 조명 광학계 등으로 구축된다.
샘플 용기(102)는, 입자상 시료를 유지할 수 있는 저장부를 갖는 것으로 한다. 입자상 시료는, 예를 들어 1개 이상의 샘플액으로서 제공 가능하다. 샘플 용기(102)로서는, 예를 들어 샤알레, 디쉬, 마이크로타이터 플레이트와 같은 것이 사용된다. 샘플 용기(102)는, 그 오목부 내부 또는 웰 내에 세포, 세균 등의 생체 관련의 입자상 시료를 유지한다. 샘플 용기(102)는, 세포 배양 또는 세균 배양 등의 작업에 사용할 수 있고, 특히 동정 배양이나 약제 감수성 검사를 위한 배양 등에 사용할 수 있다.
받침대(103)는, 샘플 용기(102)를 보유 지지할 수 있다. 받침대(103)로서는, 샘플 용기(102) 내의 측정 시료면의 상면 및 하면(즉 광로에 있어서의 상류 또는 하류)이 광을 투과하는 구조이면 적합하다. 광을 투과하는 구조로서는, 투명한 부재를 사용해도 되고, 차폐 구조체 등이 없는 공극으로 해도 된다.
XY 스테이지(104)는, 샘플 용기(102)를 얹은 받침대(103)를 X 방향 및 Y 방향으로 이동시킬 수 있다. XY 스테이지(104)는, 샘플 용기(102)를 온도 조절하는 히터 등을 구비해도 된다(도시하지 않음). 히터로서는, 예를 들어 투명 유리 히터를 그 저면 또는 주위에 배치할 수 있다. 또는 광학계 전체를 단열재로 둘러싸고, 내부를 히터로 온도 조절해도 된다.
대물 렌즈(105)는 대물 렌즈 액추에이터(106)에 보유 지지된다. 대물 렌즈 액추에이터(106)는, 대물 렌즈(105)를 Z 방향(조명광 축 방향)으로 이동시키는 액추에이터이며, 대물 렌즈(105)의 초점 위치를 샘플 용기(102)의 깊이 방향으로 주사할 수 있다. 대물 렌즈(105)의 동작에 의해, 샘플 용기(102)의 측정 시료면에 촬상 카메라(107)의 초점을 맞출 수 있다.
촬상 카메라(107)는, 입자상 시료를 나타내는 화상(시료 화상)을 취득하는 화상 취득 수단으로서 기능한다. 이러한 구성은, 입자가 투광성을 갖는 경우에 적합하다. 본 실시 형태에서는, 시료 화상은 투과 화상 즉 입자상 시료를 투과한 광에 의해 구성되는 화상으로 된다. 촬상 카메라(107)는, 대물 렌즈(105)의 초점 위치, 즉 입자상 시료의 상이 결상되는 위치에 설치된다. 대물 렌즈(105)가 무한원 보정 광학계 대응의 것이면, 촬상 카메라(107)와 대물 렌즈(105) 사이에 결상 렌즈를 설치한다. 촬상 카메라(107)는, 예를 들어 시료 화상을 현미경 화상으로서 촬상한다. 촬상 카메라(107)는, 촬상한 시료 화상을 전기 신호로 변환하고, 출력 또는 송신하는 기능을 구비한다. 본 실시 형태에서는, 촬상된 시료 화상은 컴퓨터(108)에 전송된다.
촬상 카메라(107)와 대물 렌즈(105) 사이에는, 필요에 따라 색 유리 필터, 간섭 필터 등의 광학 필터(도시하지 않음)를 적절하게 삽입해도 된다.
컴퓨터(108)는, 공지된 컴퓨터를 사용하여 구성할 수 있으며, 각종 연산 처리 및 제어를 행하는 연산부와, 정보를 기억하는 기억부를 구비한다. 기억부는, 반도체 메모리 장치 등의 일시적, 휘발성 또는 과도적 기억 매체를 포함해도 되고, 하드 디스크 등의 비일시적, 불휘발성 또는 비과도적 기억 매체를 포함해도 되고, 이들 양쪽을 포함해도 된다. 또한, 컴퓨터(108)는, 유저로부터의 입력을 접수하는 입력 장치(마우스, 키보드 등)와, 측정 결과를 표시하는 표시 장치(디스플레이 등)를 구비해도 된다. 컴퓨터(108)는, 본 실시 형태에 있어서, 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 데이터 처리 수단으로서 기능하고, 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 데이터 처리 공정을 실행한다.
본 실시 형태에서는, 관찰 장치(1)의 관찰 대상으로서, 생체 관련의 입자상 시료인 세포 또는 세균을 사용한다. 세포 또는 세균은, 96구멍 마이크로타이터 플레이트 내에서 배양되어, 경시 변화가 계측된다.
(2) 시료 화상의 특징
도 2는, 입자상 시료를 항온 상태에서 배양하였을 때의 화상(투과광 상)의 경시 변화의 일례이다. 도 2의 (a)는 관찰 개시 직후의 화상이고, 도 2의 (b)는 관찰 개시로부터 약 2시간 후의 화상이고, 도 2의 (c)는 관찰 개시로부터 6시간 후에 있어서의 화상이다. 이 도면은, 입자상 시료가 배양 시간에 따라 증식하고 있는 모습을 도시하고 있다. 약 2시간 후(도 2의 (b))에는, 입자상 시료를 개별적으로 식별하는 것이 가능하지만, 6시간 후(도 2의 (c))에는, 입자끼리 근접하거나, 또는 겹쳐 버려, 각 입자의 윤곽이 선명하지 않게 된다. 또한, 전체적으로 휘도가 작아져, 각 입자의 식별은 곤란하게 된다. 이 결과, 특허문헌 2와 같은 입자 카운트 방식에서는, 입자의 식별이 곤란해져, 정확한 계수가 곤란해져 버린다.
시료의 촬상 위치의 상을 취득하기 위해서는, 예를 들어 대물 렌즈 및 결상 렌즈를 사용하여, 촬상 카메라에 그 상을 결상시켜 검출하면 된다. 투과광 상에는, 각 렌즈에 의해 모여진 여러 가지 정보가 포함된다. 입자 등의 미세한 구조는, 직진 성분이 아니라, 주로 산란ㆍ회절 등으로 생기는 고주파수 성분이 크게 기여한다. 한편, 직진 성분은 화상의 강도의 크기에 기여한다.
(3) 시료 화상의 성분
도 3은, 촬상 광학계의 개요와, 고개구수 성분과 저개구수 성분의 분리를 설명하는 도면이다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서, 「개구수」(Numerical Aperture)를 간단히 「NA」라고 약기하는 경우가 있다.
렌즈 중앙 부근의 광로(L1)는, 저NA 성분의 광에 대응한다. 저NA 성분을 사용하면, 직진광 성분을 주로 포함하는 화상을 취득할 수 있으므로, 투과광 강도의 변화를 취득할 수 있고, 소위 탁도법으로 계측되는 강도 정보와 동등한 정보가 얻어진다. 또한, 렌즈 주연부의 광로(L2)는, 고NA 성분의 광에 대응한다. 고NA 성분을 사용하면, 산란 또는 회절된 성분을 결상시키게 되므로, 배경광 강도가 제외된 입자상을 추출할 수 있다.
본 실시 형태에 관한 관찰 장치(1)는, 근사적으로 저NA 성분에 의한 화상(저NA 화상)의 강도 정보를 해석한다. 즉, 입자가 존재하는 경우에 생기는 휘도 저하에 기초하여 입자를 식별하고, 그 존재 영역(또는 그 영역을 구성하는 화소)을 추출한다. 한편, 고NA 성분에 의한 화상(고NA 화상)으로부터, 미세한 구조에 의존하는 강도 정보를 취득하고, 이것에 기초하여 입자의 존재 영역(또는 그 영역을 구성하는 화소)을 추출한다. 그리고, 양쪽 화상의 영역을 합쳐 입자의 영역으로 한다. 이에 의해, 보다 넓은 범위의 입자수(또는 입자 농도)에 대하여, 입자를 정확하게 인식 또는 정량할 수 있다.
이들 각 성분에 관한 화상을 검출하기 위해, 종래의 기술에서는 저NA용 및 고NA용의 2종류의 광학 검출계를 마련하고, 각각에 대하여 화상을 취득할 필요가 있었다. 이에 비해, 본 발명자는, 실제로 2종류의 광학 검출계를 준비하지 않아도, 화상의 주파수 영역 표현을 사용하면, 고NA 성분 및 저NA 성분을 실질적으로 분리할 수 있다고 하는 점에 착안하였다. 예를 들어, 투과광 상의 주파수 영역 표현(예를 들어 푸리에 변환)을 취득하고, 이 주파수 영역 표현을 고주파수 성분 및 저주파수 성분으로 분리하면, 실질적으로 고NA 성분 및 저NA 성분에 상당하는 성분(또는 근사적으로 이들에 상당하는 성분)을 취득할 수 있다.
이 원리에 기초하여, 본 실시 형태에 관한 관찰 장치(1)는, 1개의 시료 화상으로부터 2종류의 화상을 구축하고, 이에 의해, 측정 시간을 단축함과 함께, 장치 비용도 저감할 수 있다. 주파수 영역 표현의 취득은, 예를 들어 2차원 FFT(고속 푸리에 변환) 처리에 의해 행할 수 있다. 또한, 얻어진 주파수 영역 표현을, 고주파수 성분과 저주파수 성분으로 분리하고, 각 성분에 대하여 IFFT(역고속 푸리에 변환) 처리를 행함으로써, 고주파수 성분에 의한 고주파수 화상과, 저주파수 성분에 의한 저주파수 화상을 취득할 수 있다. 이들 2종류의 화상을 사용함으로써, 더 넓은 범위의 입자수(또는 입자 농도)에 대하여, 입자를 정확하게 인식 또는 정량할 수 있다.
(4) 장치의 작용의 개요
도 4는, 관찰 장치(1)의 동작의 일례를 도시하는 흐름도이며, 즉 관찰 장치(1)에 의해 실행되는 입자 인식 방법 및 입자 정량 방법의 예를 도시한다. 또한, 도 5에 관찰 장치(1)의 동작에 관한 화상의 예를 도시한다. 이 예에서는 입자상 시료로서 배양되는 세균을 사용하고 있다. 도 4에 도시하는 처리는, 관찰 장치(1)가 시료 화상을 취득함으로써 개시된다(스텝 S1). 스텝 S1은 화상 취득 공정이다. 이 처리는, 예를 들어 촬상 카메라(107)가 입자상 시료를 촬상함으로써 실행된다. 촬상 카메라(107)는, 촬상된 시료 화상을 컴퓨터(108)에 송신해도 되고, 컴퓨터(108)는 시료 화상을 수신해도 된다.
도 5의 예에서는, 입자상 시료로서, 배양되는 세균을 사용하고 있다. 도 5의 (a)는 스텝 S1에 있어서 취득되는 시료 화상의 예이다. 이 예는, 배양 시간 약 150분차의 배양 세균의 투과 화상이다. 컴퓨터(108)는, 시료 화상의 화소의 휘도값에 대하여, 공간 영역 표현을 취득한다. 예를 들어, 2차원으로 배열된 각 위치의 화소의 휘도값을 취득한다.
다음에, 컴퓨터(108)는, 후속의 스텝 S2 내지 S5를 포함하여 구성되는 데이터 처리 공정을 실행한다. 먼저 컴퓨터(108)는, 시료 화상의 주파수 영역 표현을 취득한다(스텝 S2). 이 처리는, 예를 들어 공간 영역 표현에 대하여, 푸리에 변환그 밖의 주파수 영역 변환을 실행함으로써 행해진다. 본 실시 형태에서는, 푸리에 변환의 예로서 2차원 FFT를 사용한다.
도 5의 (b)는, 도 5의 (a)를 2차원 FFT 처리하여 얻어지는 주파수 영역 표현의 화상이다. 도 5의 (b)의 화상에 있어서, 중심은 주파수(공간 주파수) 0의 성분을 나타내고, 주연에 접근할수록 주파수가 높은 성분을 나타낸다. 화상 중의 각 화소의 휘도는, 그 위치에 대응하는 주파수 성분의 크기를 나타낸다. 본 명세서 및 도면에서는, 설명을 위해 주파수 영역 표현을 화상으로 한 경우를 예로 들지만, 주파수 영역 표현은 화상에 한하지 않고 임의의 형식으로 처리할 수 있다.
다음에, 컴퓨터(108)는, 취득한 주파수 영역 표현을, 고주파수 성분 및 저주파수 성분으로 분리한다(스텝 S3). 분리는 예를 들어 도 5의 (c) 및 도 5의 (d)에 도시하는 바와 같이 행할 수 있다. 도 5의 (b)의 화상에 있어서, 주파수 0의 점을 포함하는 저주파수 영역과, 주파수 0의 점을 포함하지 않는 고주파수 영역을 분리하는 경계선을 정의한다. 경계선은, 예를 들어 주파수 0의 점을 중심으로 한 소정 반경(예를 들어 반경 6화소)의 원으로 할 수 있다. 이 원의 내측이 저주파수 영역, 원의 외측이 고주파수 영역으로 된다. 저주파수 영역은 관심 영역(ROI)이라고 불리는 경우가 있다. 또한 원주 상의 점의 소속은 임의로 결정 가능하며, 저주파수 영역에 포함시켜도 되고, 고주파수 영역에 포함시켜도 된다.
다음에, 도 5의 (c)와 같이, 원의 내측 즉 저주파수 영역을 마스크하여 고주파수 성분을 취득한다. 마스크 처리는, 예를 들어 당해 영역의 성분의 크기(화상에서는 휘도)를 0으로 함으로써 실행된다. 마찬가지로, 도 5의 (d)와 같이, 원의 외측 즉 고주파수 영역을 마스크한 저주파수 성분을 취득한다.
스텝 S3 후, 컴퓨터(108)는, 각 성분의 공간 영역 표현을 취득한다(스텝 S4). 즉, 저주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 저주파수 화상을 취득하고, 고주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 고주파수 화상을 취득한다. 이 처리는, 예를 들어 주파수 영역 표현에 대하여, 스텝 S2의 변환의 역변환을 실행함으로써 행해진다. 본 실시 형태에서는, 스텝 S2에서 2차원 FFT가 사용되고 있으므로, 스텝 S4에서는 2차원 IFFT를 사용한다.
공간 영역 표현은, FFT 변환 전의 공간 영역 표현(즉 화상)과 동일 형식으로 표현할 수 있다. 도 5의 (e)는, 도 5의 (c)에 도시하는 고주파수 성분으로 이루어지는 고주파수 화상이고, 도 5의 (f)는, 도 5의 (d)에 도시하는 저주파수 성분으로 이루어지는 저주파수 화상이다. 이와 같이 하여, 서로 다른 특성을 갖는 2종류의 화상이 취득된다.
다음에, 컴퓨터(108)는, 얻어진 고주파수 화상 및 저주파수 화상에 기초하여, 입자상 시료를 인식 또는 정량한다(스텝 S5). 예를 들어, 컴퓨터(108)는, 시료 화상에 있어서 입자가 존재하는 영역을 인식한다. 이 경우에는, 관찰 장치(1)는, 입자상 시료를 인식하는 입자 인식 장치로서 기능한다. 또는, 예를 들어 컴퓨터(108)는, 시료 화상에 포함되는 입자의 양을 정량한다. 이 경우에는, 관찰 장치(1)는, 입자상 시료를 정량하는 입자 정량 장치로서 기능한다. 여기서, 「정량」이란, 입자의 수를 정확하게 계측하는 것 외에, 입자의 개수를 산출하는 것, 입자의 농도를 산출하는 것 등을 포함한다.
컴퓨터(108)는, 1개의 시료 화상에 대한 인식 또는 정량이 종료되면, 다른 시료 화상에 대한 인식 또는 정량을 개시해도 된다. 특히, 도 4에 도시하는 루프를 소정 시간마다 실행해도 된다. 즉, 촬상 카메라(107)는, 소정 시간마다 시료 화상을 취득해도 되고, 컴퓨터(108)는, 각 시료 화상에 대하여 입자상 시료를 인식 또는 정량해도 된다. 이와 같이 하면, 입자의 증가 모습을 나타내는 경시 변화에 관한 정보를 얻을 수 있다.
(5) 정량의 구체적 방법
입자상 시료를 정량하는 구체적 방법의 예를 이하에 설명한다.
도 6은, 고주파수 화상의 전체 화소에 대한 휘도의 히스토그램의 예이다. 이 히스토그램은 도 5의 (e)의 고주파수 화상의 것이다. 도면 중의 「m」은 시간 단위를 나타내며, 이 예에서는 「분」을 나타낸다. 예를 들어, 「0m」은 배양 개시 시점 즉 배양 경과 시간이 0분인 상태의 화상의 휘도 분포를 나타내고, 「34m」은 배양 경과 시간이 34분인 상태의 화상의 휘도 분포를 나타낸다.
도 6의 예에서는, 배양 시간이 커짐에 따라 휘도가 높은 화소가 증가하는 것이 측정되고 있다. 즉, 시료 화상에 있어서 입자가 존재하는 영역이 증가하고 있는 것을 검출하고 있다고 할 수 있으며, 따라서, 고주파수 화상에 있어서 휘도가 높은 화소는, 입자가 존재하는 영역에 대응한다고 할 수 있다. 특히, 배양 경과 시간이 작은 경우라도, 입자의 존재 영역의 변화를 유의미하게 식별할 수 있다.
도 7은, 고주파수 화상에 있어서의 고휘도 화소의 총수의, 배양 경과 시간에 따른 변화를 도시하는 도면이다. 여기서, 「고휘도 화소」란, 휘도가 소정의 역치 휘도를 초과하는 화소를 의미한다. 도 7은, 역치 휘도를 6 정도로 한 경우의 예이다. 이 역치를 도 6에 파선으로 나타낸다. 또한, 본 실시 형태에서는, 각 화소의 휘도를 0 내지 255의 256단계로 나타내며, 0이 가장 휘도가 낮고(어둡고), 255가 가장 휘도가 높은(밝은) 것으로 한다.
약 400분 미만의 시간대에서, 고휘도 화소의 수가 시간과 함께 증가하고 있다. 여기서, 입자의 양이 증가함에 따라 고휘도 화소의 수도 증가한다고 생각되므로, 고주파수 화상을 사용하면, 이 시간대에 있어서 입자의 양의 변화를 감도 좋게 검출할 수 있다고 할 수 있다.
도 8은, 저주파수 화상의 전체 화소에 대한 휘도의 히스토그램의 예이다. 이 히스토그램은 도 5의 (f)의 저주파수 화상의 것이다. 배양 경과 시간마다의 데이터를 개별적으로는 특정하지 않지만, 도 8의 (a)는 배양 경과 시간이 0분 내지 184분인 것을 도시하고, 도 8의 (b)는 배양 경과 시간이 214 내지 304분인 것을 도시하고, 도 8의 (c)는 배양 경과 시간이 334 내지 424분인 것을 도시한다.
도 8의 (a)로부터 알 수 있는 바와 같이, 약 200분보다 짧은 시간대의 화상에서는, 시간이 경과해도 히스토그램에 큰 변화는 없다. 그러나, 도 8의 (c)에 도시하는 바와 같이, 330분 정도를 초과하면, 휘도 분포가 저휘도측으로 시프트하는 모습이 검출된다. 따라서, 저주파수 화상에 있어서 휘도가 낮은 화소는, 입자가 존재하는 영역에 대응한다고 할 수 있다.
도 9는, 저주파수 화상에 있어서의 저휘도 화소의 총수의, 배양 경과 시간에 따른 변화를 도시하는 도면이다. 여기서, 「저휘도 화소」란, 휘도가 소정의 역치 휘도보다 작은 화소를 의미한다. 도 9는, 역치 휘도를 96 정도로 한 경우의 예이다. 이 역치를 도 8에 파선으로 나타낸다.
약 300분을 초과하면, 저휘도 화소의 수가 시간과 함께 증가하게 된다. 여기서, 입자의 양이 증가함에 따라 저휘도 화소의 수도 증가한다고 생각되므로, 저주파수 화상을 사용하면, 이 시간대에 있어서 입자의 양의 변화를 감도 좋게 검출할 수 있다고 할 수 있다.
또한, 500분 이후에는 저휘도 화소의 수가 거의 일정하게 되어 있다. 이것은, 입자가 시료 화상 전체에 존재하고, 포화되어 있기 때문이라고 생각된다. 이 시간대에서도, 시간이 경과해도 저휘도 화소수가 감소하는 일은 없으므로, 저주파수 화상을 사용하여 입자의 양을 잘못해서 인식할 가능성은 낮다고 할 수 있다.
이와 같이, 컴퓨터(108)는, 고주파수 화상에 있어서 입자가 존재하는 영역(제1 영역)을 추출하고, 저주파수 화상에 있어서 입자가 존재하는 영역(제2 영역)을 추출하고, 이들 2개의 영역에 기초하여 입자상 시료를 정량한다. 특히, 고주파수 화상의 각 화소의 휘도에 기초하여 제1 영역을 추출하고, 저주파수 화상의 각 화소의 휘도에 기초하여 제2 영역을 추출한다.
그리고, 이들 2개의 영역을 함께 고려함으로써, 입자의 정량이 가능하게 된다. 보다 구체적으로는, 고주파수 화상에 있어서의 제1 영역과, 저주파수 화상에 있어서의 제2 영역의 논리합을 취득해도 된다. 제1 영역 및 제2 영역은, 각 화상에 있어서의 입자의 존재 영역을 나타내므로, 이들을 합함(예를 들어 논리합을 취득함)으로써, 입자의 정량을 효율적으로 행할 수 있다. 즉, 컴퓨터(108)는, 제1 영역과 제2 영역의 논리합을 취함으로써, 입자 존재 영역의 논리합(논리합 영역)을 취득하고, 이 논리합 영역에 기초하여 입자상 시료를 정량해도 된다. 특히, 논리합 영역의 면적에 기초하여 입자상 시료를 정량해도 된다. 면적은 예를 들어 화소의 수에 의해 표시된다.
도 10은, 논리합 영역의 화소의 총수의, 배양 경과 시간에 따른 변화를 도시한다. 배양 경과 시간이 0분에서부터 1000분 이상까지 경과함에 따라, 입자가 적은 상태로부터, 입자가 밀집하여 입자끼리 겹쳐 버리는 상태까지 변화한다.
여기서, 도 7(고주파수 화상의 예)에서는 400분 정도까지밖에 입자의 증가를 반영하고 있지 않고, 그 이후는 입자의 증가에 따라 화소수가 감소하기 때문에 입자의 양의 오검출로 이어질 가능성이 있지만, 도 10의 예에서는 400분을 초과하고 나서도 잠시동안 입자의 증가를 정확하게 반영하고 있으며, 또한 포화하여 이후도 화소수는 감소하지 않고, 입자의 양의 오검출은 억제된다.
또한, 도 9(저주파수 화상의 예)에서는, 200분 정도까지는 입자의 증가를 반영하고 있지 않고, 그때까지는 입자의 증가에 따라 화소수가 감소하고 있기 때문에 입자의 양의 오검출로 이어질 가능성이 있지만, 도 10의 예에서는 100분 정도부터 입자의 증가를 정확하게 반영하고 있으며, 또한 그때까지도 화소수는 감소하지 않고, 입자의 양의 오검출은 억제된다.
입자의 양의 구체적인 값의 결정에는, 미리 구한 검량선을 사용할 수 있다. 예를 들어, 컴퓨터(108)는, 논리합 영역의 화소수를 나타내는 값과, 입자상 시료의 양을 관련짓는 검량선을 취득해도 된다. 이러한 검량선은, 컴퓨터(108)가 미리 기억하고 있어도 된다.
또한, 예를 들어 컴퓨터(108)는, 이러한 검량선과, 논리합 영역의 화소수에 기초하여, 입자상 시료를 정량해도 된다. 보다 구체적인 예로서는, 논리합 영역의 화소수에 따라 입자상 시료의 양을 부여하는 함수나, 논리합 영역의 화소수의 비율에 따라 입자상 시료의 양을 부여하는 함수를 사용할 수 있다.
보다 구체적인 예로서, 배양 시간과, 입자상 시료의 양(예를 들어 세포의 수)의 관계를 별도의 실험 등으로 구해 두고, 도 6 및 도 8에 도시하는 정보로부터, 배양 시간과 논리합 영역의 화소수의 수의 관계를 구한다. 이들 2종류의 관계에 기초하여, 논리합 영역의 화소수와, 입자상 시료의 양을 관련짓는 검량선을 작성할 수 있다. 그리고, 상술한 바와 같이, 이 검량선과, 원하는 시료 화상에 대한 논리합 영역의 화소수에 기초하여, 그 시료 화상에 있어서의 입자상 시료의 양을 결정할 수 있다.
이와 같이, 도 10과 같이 논리합 영역의 화소수에 기초하여 입자상 시료의 정량을 행하면, 입자를 정확하게 인식할 수 있는 입자수의 범위가 보다 넓어진다.
또한, 역치를 설정하는 것만으로, 각 영역의 추출 처리는 간단하게 행할 수 있고, 저비용화가 가능하게 된다. 또한 처리 속도도 고속으로 할 수 있다. 또한, 2종의 다른 화상을 1개의 시료 화상으로부터 작성하므로, 각 화상을 다른 광학적 조건에서 각각 촬상하는 구성과 비교하면, 촬상을 위한 노광 시간 등의 시간이 단축되고, 또한 장치 사이즈의 소형화가 가능하고, 처리 속도 향상, 저비용화를 실현할 수 있다.
또한, 도 4에 도시하는 바와 같은 루프를 (예를 들어 소정의 시간 간격으로) 실행하는 경우에는, 컴퓨터(108)는, 각 루프에 대하여, 경시 변화를 나타내는 정보를 출력해도 된다. 예를 들어, 고주파수 화상에 있어서의 제1 영역의 각 화소의 휘도의 경시 변화를 나타내는 정보와, 저주파수 화상에 있어서의 제2 영역의 각 화소의 휘도의 경시 변화를 나타내는 정보를 출력해도 된다. 혹은, 컴퓨터(108)는, 고주파수 화상에 있어서의 제1 영역의 화소수의 경시 변화를 나타내는 정보와, 저주파수 화상에 있어서의 제2 영역의 화소수의 경시 변화를 나타내는 정보를 출력해도 된다.
[그 밖의 실시 형태]
제1 실시 형태에 있어서, 이하와 같은 변형을 실시할 수 있다.
각 역치는 임의로 설계할 수 있다. 예를 들어, 주파수 영역 표현(도 5의 (b) 내지 (d))에 있어서 저주파수 영역과 고주파수 영역을 분리하는 원의 반경을 6으로 할 필요는 없고, 고주파수 화상에 있어서 고휘도 화소를 추출할 때의 역치 휘도(도 6)를 6으로 할 필요는 없고, 저주파수 화상에 있어서 저휘도 화소를 추출할 때의 역치 휘도(도 8)를 96으로 할 필요는 없다.
제1 실시 형태에서는, 논리합 영역에 기초하여 입자상 시료의 정량을 행하였지만, 논리합 영역을 사용할 필요는 없다. 예를 들어, 컴퓨터(108)는, 시료 화상의 주파수 영역 표현으로부터 0차 회절 성분을 제거함으로써 비0차 주파수 영역 표현을 취득하고, 비0차 주파수 영역 표현의 공간 영역 표현으로서 비0차 화상을 취득하고, 비0차 화상에 기초하여 입자상 시료를 인식 또는 정량해도 된다.
또는, 컴퓨터(108)는, 시료 화상에 기초하여, 광학적으로 고개구수의 광로를 통과하는 성분의 광에 의한 고NA(개구수) 화상과, 광학적으로 저개구수의 광로를 통과하는 성분의 광에 의한 저NA 화상을 취득하고, 고NA 화상 및 저NA 화상에 기초하여 입자상 시료를 인식 또는 정량해도 된다.
또는, 컴퓨터(108)는, 시료 화상에 있어서 입자가 존재하는 입자 영역을 추출하고, 입자 영역의 화소수를 산정하고, 시료 화상의 화소수에 대한, 입자 영역의 화소수의 비율에 기초하여, 입자상 시료를 인식 또는 정량해도 된다.
또는, 컴퓨터(108)는, 논리합 영역의 화소수의, 시료 화상의 화소의 총수에 대한 비율을 산정하고, 이 비율에 기초하여 입자상 시료를 인식 또는 정량해도 된다.
또는, 컴퓨터(108)는, 제1 영역의 화소수와, 제2 영역의 화소수에 기초하여 입자상 시료를 인식 또는 정량해도 된다.
시료 화상의 각 화소에 대하여 그 화소의 휘도에 기초하는 보정값을 미리 결정해 두고, 이 보정값을 각 화소에 승산하고, 그 결과에 기초하여 각 성분의 분리를 행해도 된다. 또한, 미리 1입자당 평균 화소수를 취득해 두고, 논리합 영역의 화소수를 이 평균으로 제산하여, 입자수를 산정하는 방식도 적용 가능하다. 이들 방식으로도, 제1 실시 형태와 마찬가지의 효과를 갖는다.
논리합 영역의 화소수가 포화되어 있는 상태에서는, 전체적인 휘도(예를 들어 각 화소의 휘도의 평균값)의 감소량에 기초하여, 입자상 시료의 양을 보정해도 된다. 논리합 영역의 화소수가 포화되어 있는 화상 또는 부분 화상(즉, 입자상 시료가 증가해도 이제는 저휘도 화소가 증가하지 않는 상태로 되어 있는 화상 또는 부분 화상)이라도, 입자상 시료가 증가하면 전체적인 휘도의 감소가 생기는 경우가 있다.
예를 들어, 어떤 시료 화상 또는 그 특정 부분의, 화소의 휘도의 통계적 양에 따라, 입자상 시료의 양을 보정하는 함수를 사용해도 된다. 화소의 휘도의 통계적 양이란, 예를 들어 도 8과 같은 휘도 히스토그램에 있어서의 피크 휘도의 값이어도 되고, 화소의 휘도의 평균값이어도 된다. 예를 들어, 피크 휘도가 감소함에 따라 입자상 시료의 양을 증가시키도록 보정하는 함수를 사용할 수 있다. 휘도의 감소는, 입자의 겹침이 증가하고 있는 정보이므로, 휘도의 감소량에 기초하는 보정을 행함으로써, 입자상 시료의 양의 측정 범위를 더 확장할 수 있고, 더 넓은 다이내믹 레인지를 얻을 수 있다.
시료 화상의 형식은 당업자가 임의로 설계 가능하다. 예를 들어, 8bit의 그레이 스케일 화상을 사용해도 되고, 16bit의 그레이 스케일 화상을 사용해도 된다. 또한, 컬러 화상을 그레이 스케일 화상으로 변환하고 나서 사용해도 된다.
제1 실시 형태에서는, 시료 화상으로서 투과광 상을 사용하였지만, 시료 화상은 투과 화상에 한하지 않고, 주파수 영역 표현으로 변환할 수 있는 화상이면 임의의 형식의 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, 공지된 수단으로 취득할 수 있는 상 잔상, 미분 간섭상 등을 시료 화상으로 할 수도 있다. 이 경우에도 처리는 마찬가지이다.
제1 실시 형태 또는 제2 실시 형태에서는, 입자상 시료는 투광성을 갖지만, 투광성을 갖지 않는 것을 사용해도 된다. 또한, 입자상 시료로서는 예를 들어 입자, 세포 또는 세균이 사용되지만, 이들 이외의 시료를 사용해도 된다.
시료 화상에 대하여 화상 보정을 행해도 된다. 예를 들어, 쉐이딩 보정, 감도 불균일 보정, 노이즈 제거, 스무싱 등등의 화상 처리를 행해도 된다. 또한, 광원 불균일, 검출기 감도 불균일 등의 보정을 행해도 된다. 이들 보정을 행하면, 보다 정확한 정량이 가능하게 된다.
관찰 장치의 광학계는 도 1과 같은 구성으로 할 필요는 없으며, 시료 화상을 취득하는 화상 취득 수단을 마련할 수 있는 구성이면 어떠한 것이어도 된다. 또한, 광학계를 포함하지 않고, 통신 네트워크 또는 가반형 기억 매체 등을 통하여 시료 화상을 취득하는 것이어도 된다.
관찰 장치는, 입자상 시료의 정량을 행하지 않는 것이어도 된다. 예를 들어, 입자의 존재 영역을 식별하고, 그 위치 또는 형상 등을 출력하는 장치여도 된다.
본 개시는, 상술한 실시 형태 및 변형예에 한정되는 것은 아니며, 여러 가지 다른 변형예도 포함한다. 각 실시 형태는, 본 개시를 이해하기 쉽게 설명하기 위해 상세하게 설명한 것이며, 반드시 설명한 모든 구성을 구비하는 것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 어떤 실시 형태의 구성의 일부를 다른 실시 형태의 구성의 일부로 치환하는 것이 가능하고, 또한 어떤 실시 형태의 구성에 다른 실시 형태의 구성의 일부를 첨가하는 것도 가능하다. 또한, 각 실시 형태의 구성의 일부에 대하여, 다른 실시 형태의 구성의 추가ㆍ삭제ㆍ치환을 하는 것이 가능하다.
1: 관찰 장치(입자 정량 장치)
101: 조명용 광학계
102: 샘플 용기
103: 받침대
104: XY 스테이지
105: 대물 렌즈
106: 대물 렌즈 액추에이터
107: 촬상 카메라(화상 취득 수단)
108: 컴퓨터(데이터 처리 수단)
S1: 스텝(화상 취득 공정)
S2, S3, S4, S5: 스텝(데이터 처리 공정)
본 명세서에서 인용한 모든 간행물, 특허 및 특허 출원은 그대로 인용에 의해 본 명세서에 원용되는 것으로 한다.

Claims (12)

  1. 입자상 시료를 나타내는 시료 화상을 취득하는 화상 취득 수단과,
    상기 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 데이터 처리 수단
    을 구비하는 입자 정량 장치이며,
    상기 데이터 처리 수단은,
    단일의 상기 시료 화상의 주파수 영역 표현을 취득하고,
    상기 주파수 영역 표현을, 고주파수 성분 및 저주파수 성분으로 분리하고,
    상기 고주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 고주파수 화상을 취득하고,
    상기 저주파수 성분의 공간 영역 표현으로서 저주파수 화상을 취득하고,
    동일한 상기 시료 화상으로부터 취득되는 상기 고주파수 화상 및 상기 저주파수 화상에 기초하여,
    상기 고주파수 화상에 있어서 입자가 존재하는 제1 영역을 추출하고,
    상기 저주파수 화상에 있어서 입자가 존재하는 제2 영역을 추출하고,
    상기 제1 영역과 상기 제2 영역의 논리합을 취함으로써 논리합 영역을 취득하고,
    상기 논리합 영역의 면적에 기초하여 상기 입자상 시료를 정량하는 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 데이터 처리 수단은, 상기 입자상 시료를 인식하고 정량하는 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 고주파수 성분의 분리는, 상기 주파수 영역 표현으로부터 0차 회절 성분을 제거하는 것인 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  4. 입자상 시료를 나타내는 시료 화상을 취득하는 화상 취득 수단과,
    상기 시료 화상에 관한 연산 처리를 행하는 데이터 처리 수단
    을 구비하는 입자 정량 장치이며,
    상기 데이터 처리 수단은,
    단일의 상기 시료 화상에 기초하여, 광학적으로 고개구수의 광로를 통과하는 성분의 광에 의한 고개구수 화상과, 광학적으로 저개구수의 광로를 통과하는 성분의 광에 의한 저개구수 화상을 취득하고,
    동일한 상기 시료 화상으로부터 취득되는 상기 고개구수 화상 및 상기 저개구수 화상에 기초하여,
    상기 고개구수 화상에 있어서 입자가 존재하는 제1 영역을 추출하고,
    상기 저개구수 화상에 있어서 입자가 존재하는 제2 영역을 추출하고,
    상기 제1 영역과 상기 제2 영역의 논리합을 취함으로써 논리합 영역을 취득하고,
    상기 논리합 영역의 면적에 기초하여 상기 입자상 시료를 정량하는 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 화상 취득 수단은, 소정 시간마다 상기 시료 화상을 취득하고,
    상기 데이터 처리 수단은, 각 상기 시료 화상에 대하여 상기 입자상 시료를 정량하는 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 데이터 처리 수단은,
    상기 고주파수 화상의 각 화소의 휘도에 기초하여 상기 제1 영역을 추출하고,
    상기 저주파수 화상의 각 화소의 휘도에 기초하여 상기 제2 영역을 추출하는 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 데이터 처리 수단은,
    상기 제1 영역의 화소수와, 상기 제2 영역의 화소수에 기초하여 상기 입자상 시료를 정량하는 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 데이터 처리 수단은,
    상기 제1 영역의 각 화소의 휘도의 경시 변화를 나타내는 정보와, 상기 제2 영역의 각 화소의 휘도의 경시 변화를 나타내는 정보를 출력하거나, 또는
    상기 제1 영역의 화소수의 경시 변화를 나타내는 정보와, 상기 제2 영역의 화소수의 경시 변화를 나타내는 정보를 출력하는 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 입자상 시료는 투광성을 갖고,
    상기 입자상 시료는 입자, 세포 또는 세균인 것을 특징으로 하는 입자 정량 장치.
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