KR102638293B1 - 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법 - Google Patents
저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 표면 처리 후 프라이머 도포 및 왁스 테이프 점착의 공정으로 이어지는, 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법을 제공함으로써, 간편한 시공 및 완벽한 실링으로 수분 유입을 완전히 차단할 뿐만 아니라 부식을 방지하며 이러한 기능을 20년 이상 장기간 유지할 수 있도록 하며, 또한, 간단하고 최소한의 전처리로 시공이 가능하고, 특히 자외선에 강한 무독성 프라이머 및 왁스 테이프를 사용함에 따라 크랙이 발생하지 않아 지하 및 지상 모두 시공 가능하며, 각종 설비 등의 가동 중단 없이 시공 가능할 뿐만 아니라 별도 경화 시간이 필요치 않는 등 시공이 간편하고 시공 불량률을 감소시킬 수 있도록 하는, 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 표면 처리 후 프라이머 도포 및 왁스 테이프 점착의 공정으로 이어지는, 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법에 관한 것이다.
일반적으로 각종 유체 등을 보관하기 위해서 저장탱크가 설치된다. 보다 구체적으로 각종 화학산업, 전기ㆍ전자산업, 기계ㆍ금속산업, 농ㆍ축산업, 섬유공업 등 각종 산업현장에서는 오일 뿐만 아니라 각종 화학약품 등 다양한 유체를 저장하기 위한 저장탱크가 마련된다.
한편, 저장탱크의 하부 측에는 저장탱크의 하부를 지지하는 파운데이션(foundation)이 형성되며, 상기 저장탱크와 파운데이션 사이에 애뉼러 플레이트(annular plate)가 구비된다. 구체적으로 수직 쉘(shell)의 하측에 환형의 플레이트(plate)가 용접 등의 방법으로 결합되어 전체적으로 애뉼러 플레이트를 형성하며 이를 매개로 파운데이션과 접촉한다.
여기서, 상기와 같은 저장탱크는 우수 등의 외부 환경으로 인해 수분이 유입될 경우 저장탱크 내부의 유체에 영향을 끼칠 뿐만 아니라 저장탱크 자체를 부식시키는 등의 문제점을 초래하며, 특히 애뉼러 플레이트와 파운데이션 사이 등에서 이러한 수분 유입 및 부식이 빈번히 발생하고 있는 실정이다.
이를 해결하기 위하여 등록특허 제10-0882840호 "방수페인트 조성물의 제조방법 및 그에 의하여 제조된 방수페인트 조성물"에서와 같이, 페인트 코팅을 통해 수분 유입을 차단하고자 하였으나, 페인트 코팅의 경우 부적절한 조성을 설계 또는 불완전한 표면처리 및 코팅에 의해 그 기능이 제대로 구현되지 못하는 경우가 빈번하며, 더욱이 주변환경 등 기타 요인에 의해 코팅층이 쉽게 손상되는 문제점이 있다.
이에 대하여 등록특허 제10-2261753호 "폴리에틸렌계 재생 방수시트 및 이를 이용한 방수시트의 접합방법"에서는 폴리에틸렌 소재의 테이프를 부착하여 수분 유입 등을 방지하고자 하였다. 하지만 폴리에틸렌 테이프의 경우 테이프 밑으로 수분이 쉽게 침투할 뿐만 아니라 심한 박리현상으로 인해 그 기능이 제대로 구현되지 못하며, 특히 자외선에 취약(2~3년 내에 폴리에틸렌 열화)하여 지상 시공에는 절대 권장되지 않고 있는 실정이다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위하여 발명된 것으로, 표면 처리 후 프라이머 도포 및 왁스 테이프 점착의 공정으로 이어지는, 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법을 제공함으로써, 간편한 시공 및 완벽한 실링으로 수분 유입을 완전히 차단할 뿐만 아니라 부식을 방지하며 이러한 기능을 20년 이상 장기간 유지할 수 있도록 함을 과제로 한다.
또한, 본 발명은 간단하고 최소한의 전처리로 시공이 가능하고, 특히 자외선에 강한 무독성 프라이머 및 왁스 테이프를 사용함에 따라 크랙이 발생하지 않아 지하 및 지상 모두 시공 가능하며, 각종 설비 등의 가동 중단 없이 시공 가능할 뿐만 아니라 별도 경화 시간이 필요치 않는 등 시공이 간편하고 시공 불량률을 감소시킬 수 있도록 함을 과제로 한다.
본 발명은 시공 부위의 표면 오염물을 제거하는 표면 처리단계(S1); 상기 표면처리를 거친 표면에 프라이머를 도포하는 하도 도포단계(S2); 및 상기 프라이머가 도포된 부분에 왁스 테이프를 점착시키는 왁스테이프 시공단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 하는, 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법을 과제의 해결 수단으로 한다.
여기서 상기 하도 도포단계(S2)는, 마스킹 테이프를 붙인 후, 상기 왁스 테이프(20)가 부착되는 영역과 대응되는 영역으로 도포하되, 플레이트 하부 측 갭이 있을 경우 프라이머(10)를 갭에 밀어 넣거나, 메움재로 메우거나 또는 절단된 왁스 테이프(20)를 밀어 넣어 시공 후 도포하는 것이 바람직하다.
그리고 상기 왁스테이프 시공단계(S3)는, 쉘 측 일부가 덮이도록 왁스 테이프(20)를 접촉 후 가압하여 점착시키고, 쉘과 플레이트 사이 용접부에 위치된 왁스 테이프(20)를 용접면을 따라 가압하여 점착시킨 후, 쉘 측 왁스테이프(20)의 가장자리 끝단을 가압하여 밀봉하고, 플레이트의 상부면에 위치된 왁스 테이프(20)를 가압하여 점착시키며, 파운데이션의 수평면과 수직면에 있는 왁스 테이프(20)를 가압하여 점착시켜 시공하는 것이 바람직하다.
본 발명은 간편한 시공 및 완벽한 실링으로 수분 유입을 완전히 차단할 뿐만 아니라 부식을 방지하며 이러한 기능을 20년 이상 장기간 유지할 수 있는 효과가 있다. 또한, 본 발명은 간단하고 최소한의 전처리로 시공이 가능하고, 특히 자외선에 강한 무독성 프라이머 및 왁스 테이프를 사용함에 따라 크랙이 발생하지 않아 지하 및 지상 모두 시공 가능하며, 또한 각종 설비 등의 가동 중단 없이 시공 가능할 뿐만 아니라 별도 경화 시간이 필요치 않는 등 시공이 간편하고 시공 불량률을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법을 나타낸 공정 흐름도
도 2는 본 발명에 따른 왁스테이프 시공단계를 도식화한 개념도이다.
도 2는 본 발명에 따른 왁스테이프 시공단계를 도식화한 개념도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다.
그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예로 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이다.
본 명세서에서 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.
그리고 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
따라서, 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 구성 요소, 잘 알려진 동작 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다.
또한, 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭하고, 본 명세서에서 사용된(언급된) 용어들은 실시예를 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.
본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함하며, '포함(또는, 구비)한다'로 언급된 구성 요소 및 동작은 하나 이상의 다른 구성요소 및 동작의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다.
또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법을 나타낸 공정 흐름도이고, 도 2는 본 발명에 따른 왁스테이프 시공단계를 도식화한 개념도이다.
본 발명은 도 1 및 2에 도시된 바와 같이, 표면 처리단계(S1), 하도 도포단계(S2) 및 왁스테이프 시공단계(S3)를 포함하여 구성된다.
상기 표면 처리단계(S1)는, 시공하고자 하는 부위의 녹, 도장층, 이물질 등의 오염물을 제거하는 단계로써, 표면처리 공도구(예를 들면, 철 브러쉬, 끌, 사포, 망치 또는 그라인더 등)를 이용하여 표면을 벗겨내어 각종 오염물을 제거하고, 애뉼러 플레이트와 파운데이션 사이의 이물질과 물기를 제거한다.
상기 하도 도포단계(S2)는, 마스킹 테이프(프라이머가 도포되지 않는 부분 또는 그 경계를 표시하는 통상의 테이프)를 붙인 후, 상기 표면처리를 거친 표면에 프라이머(10)를 도포하는 단계로써, 후술되어질 왁스 테이프(20)가 부착되는 영역과 대응되는 영역으로 도포한다.
아울러, 프라이머(10)의 도포 시 지나친 양의 프라이머 도포는 왁스 테이프의 점착시 왁스 테이프가 들뜨게 할 수 있으므로 시공 상황에 맞는 적절한 양으로 손이나 붓 등을 사용하여 도포하며 특히 손의 사용이 어려운 부분에는 붓을 사용하고, 플레이트 밑에 작은 갭(gap)이 있을 경우 프라이머(10)를 갭에 밀어 넣은 다음 플레이트 가장자리를 따라서 손으로 닦아내고 파운데이션 면에도 프라이머(10)를 도포한다. 한편, 애뉼러 플레이트와 파운데이션 사이의 갭이 클 경우(예를 들면, 5mm 이상), 메움재(예를 들면, Trenton Fill-Pro putty, Trenton Corporation)로 메우거나, 후술되어질 왁스테이프(20)를 크기에 맞게 잘라 말거나 접어서 밀어 넣는다. 이때 밀어 넣은 왁스테이프는 플레이트 가장자리와 동일선상에 있게 하여 수분 침투 등을 방지한다.
한편, 본 발명에서 사용된 프라이머(10)는 공지된 다양한 프라이머의 사용이 가능하지만, 바람직하게는 트렌톤 코퍼레이션(Trenton Corporation)에서 제조되는 Temcoat 3000 Primer 등의 프라이머를 사용할 수 있으며, 또한 미정질 왁스(microcrystalline wax, Trenton Corporation) 100 중량부에 대하여, 헥사플루오르지르코닉산(hexafluorozirconic acid)와 같은 부식억제재 1 ~ 10 중량부, 트리부틸아세틸시트레이트 (tributyl o-acetylcitrate)와 같은 가소제 1 ~ 5 중량부를 혼합시킨 프라이머를 사용할 수 있다. 이때 상기 프라이머의 조성 함량이 상기 범위를 벗어날 경우 왁스 테이프와 저장탱크간의 점착 성능을 저하시킬 우려가 있다.
상기 왁스테이프 시공단계(S3)는, 상기 프라이머(10)가 도포된 부분에 왁스 테이프(20)를 점착시키는 단계로써, 시공 부위의 표면과 왁스 테이프(20) 사이에 공기층이 생기지 않도록 충분히 가압하여 점착시킨다.
보다 구체적으로는 도 2의 'a'에서와 같이 쉘 측이 일부(예를 들면, 1cm 정도) 덮이도록 왁스 테이프(20)를 갖다 대고 붙이기 시작한다. 이때, 크기가 다른 왁스 테이프를 오버랩하여 랩핑할 수 있는데 예를 들면 12" 테이프의 시공 시 2" 테이프를 일부(예를 들면, 1cm 정도) 오버랩하여 쉘 측으로 랩핑할 수 있다. 그리고 도 2의 'b'에서와 같이 쉘과 플레이트 사이 용접부에 위치된 왁스 테이프(20)를 용접면을 따라 손으로 부드럽게 가압하면서 미끄러지듯 붙인다. 그리고 도 2의 'c'에서와 같이 쉘과 플레이트 위의 왁스 테이프(20)를 부드럽게 펴면서 공기층과 스며나오는 프라이머를 제거한다. 그리고 도 2의 'd'에서와 같이 쉘 측 왁스테이프(20)의 가장자리 끝단을 손가락으로 부드럽게 눌러 밀봉한다. 이후 도 2의 'e'에서와 같이 플레이트의 상부면을 따라 손가락으로 미끄러지듯 부드럽게 누르며 점착시키고 상기와 같은 방법으로 파운데이션을 시공한다. 구체적으로 도 2의 'f'에서와 같이 파운데이션의 수평면과 수직면에 있는 왁스 테이프(20)를 손으로 힘있게 눌러 붙인다. 이때 링-월(ring-wall) 타입의 경우는 턱이 최소 50mm 덮여지도록 시공하는 것이 바람직하지만 상기 수치에 반드시 한정되는 것은 아니다.
한편, 본 발명에서 사용된 왁스테이프(10)는 공지된 다양한 왁스테이프의 사용이 가능하지만, 바람직하게는 트렌톤 코퍼레이션(Trenton Corporation)에서 제조되는 Trenton #2 Wax-Tape 등의 왁스테이프를 사용할 수 있으며, 또한 미정질 왁스(microcrystalline wax, Trenton Corporation) 100 중량부에 대하여, 헥사플루오로티탄산(hexafluorotitanic acid)와 같은 부식억제재 1 ~ 10 중량부, 폴리프로필렌글리콜(Poly propylene glycol)과 같은 가소제 1 ~ 5 중량부를 부직포에 함침시킨 왁스테이프를 사용할 수 있다. 이때 상기 왁스 테이프의 조성의 함량이 상기 범위를 벗어날 경우 실링 효율이 저하될 우려가 있다.
이상과 같이 본 발명은 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법을 제공하는 것을 기본적인 기술적 사상으로 하고 있음을 알 수 있다. 그리고, 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서 당해 업계 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형 및 응용 또한 가능함은 물론이다
S1 : 표면 처리단계
S2 : 하도 도포단계
S3 : 왁스테이프 시공단계
S2 : 하도 도포단계
S3 : 왁스테이프 시공단계
Claims (3)
- 저장탱크를 지지하는 파운데이션의 상부면에 마련되는 플레이트와, 상기 플레이트의 상부면에 수직 결합되는 수직 쉘로 이루어지는 애뉼러 플레이트 중에서 상기 플레이트와 수직 쉘의 결합부위를 시공부위로 하여 시공하는 수분 유입 및 부식 방지 시공방법에 있어서,
시공 부위의 표면 오염물을 제거하는 표면 처리단계(S1);
상기 표면처리를 거친 표면에 프라이머를 도포하는 하도 도포단계(S2); 및
상기 프라이머가 도포된 부분에 왁스 테이프를 점착시키는 왁스테이프 시공단계(S3);를 포함하고,
상기 하도 도포단계(S2)는, 마스킹 테이프를 붙인 후, 상기 왁스 테이프(20)가 부착되는 영역과 대응되는 영역으로 도포하되, 플레이트 하부 측 갭이 있을 경우 프라이머(10)를 갭에 밀어 넣거나, 메움재로 메우거나 또는 절단된 왁스 테이프(20)를 밀어 넣어 시공 후 도포하며,
상기 왁스테이프 시공단계(S3)는, 쉘 측 일부가 덮이도록 왁스 테이프(20)를 접촉 후 가압하여 점착시키고, 쉘과 플레이트 사이 용접부에 위치된 왁스 테이프(20)를 용접면을 따라 가압하여 점착시킨 후, 쉘 측 왁스테이프(20)의 가장자리 끝단을 가압하여 밀봉하고, 플레이트의 상부면에 위치된 왁스 테이프(20)를 가압하여 점착시키며, 파운데이션의 수평면과 수직면에 있는 왁스 테이프(20)를 가압하여 점착시켜 시공하고,
상기 프라이머는 미정질 왁스(microcrystalline wax, Trenton Corporation) 100 중량부에 대하여, 부식억제재인 헥사플루오르지르코닉산(hexafluorozirconic acid) 1 ~ 10 중량부 및 가소제인 트리부틸아세틸시트레이트(tributyl o-acetylcitrate) 1 ~ 5 중량부를 혼합하여 사용하고,
상기 왁스테이프(20)는 미정질 왁스(microcrystalline wax, Trenton Corporation) 100 중량부에 대하여, 부식억제재인 헥사플루오로티탄산(hexafluorotitanic acid) 1 ~ 10 중량부 및 가소제인 폴리프로필렌글리콜(Poly propylene glycol) 1 ~ 5 중량부를 부직포에 함침시켜 사용하는 것을 특징으로 하는, 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법. - 삭제
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KR1020230020047A KR102638293B1 (ko) | 2023-02-15 | 2023-02-15 | 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법 |
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KR1020230020047A KR102638293B1 (ko) | 2023-02-15 | 2023-02-15 | 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법 |
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KR102638293B1 true KR102638293B1 (ko) | 2024-02-20 |
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ID=90056576
Family Applications (1)
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KR1020230020047A KR102638293B1 (ko) | 2023-02-15 | 2023-02-15 | 저장탱크 애뉼라 플레이트의 수분 유입 및 부식 방지 시공방법 |
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KR (1) | KR102638293B1 (ko) |
Citations (6)
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2023
- 2023-02-15 KR KR1020230020047A patent/KR102638293B1/ko active IP Right Grant
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Non-Patent Citations (1)
Title |
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JPWO2017056667 A1 |
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