KR102605836B1 - 블랙 매트릭스용 안료 분산 조성물 및 이를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 - Google Patents

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7401389B2 (ja) 2020-04-27 2023-12-19 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物、およびブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物
JP7479189B2 (ja) 2020-05-07 2024-05-08 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物、およびブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物
JP7538014B2 (ja) * 2020-11-25 2024-08-21 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス
JP7569209B2 (ja) * 2020-11-25 2024-10-17 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス
JP7619797B2 (ja) * 2020-12-21 2025-01-22 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス
JP2022129982A (ja) * 2021-02-25 2022-09-06 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス
TW202311404A (zh) 2021-08-31 2023-03-16 日商富士軟片股份有限公司 組成物、遮光膜、固體攝像元件、圖像顯示裝置、硬化膜的製造方法
JP2023049863A (ja) * 2021-09-29 2023-04-10 富士フイルム株式会社 組成物、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、硬化膜の製造方法
WO2023068201A1 (ja) * 2021-10-20 2023-04-27 三菱ケミカル株式会社 顔料分散液、感光性樹脂組成物、硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置
JP2023128803A (ja) 2022-03-04 2023-09-14 富士フイルム株式会社 組成物、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、硬化膜の製造方法
CN118843833A (zh) * 2022-03-18 2024-10-25 三菱化学株式会社 感光性树脂组合物、颜料分散液、固化物、黑色矩阵和图像显示装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014102346A (ja) * 2012-11-19 2014-06-05 Sakata Corp ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000329926A (ja) * 1999-05-18 2000-11-30 Toray Ind Inc 顔料分散樹脂溶液組成物、その製造方法およびカラーフィルター
JP5932435B2 (ja) * 2012-03-29 2016-06-08 サカタインクス株式会社 カラーフィルター用青色顔料分散組成物及びそれを含有するカラーフィルター用青色顔料分散レジスト組成物
JP2014157179A (ja) 2013-02-14 2014-08-28 Toppan Printing Co Ltd ブラックマトリックス、カラーフィルタ、液晶表示装置及びブラックマトリックスの形成方法
KR102112520B1 (ko) * 2013-03-07 2020-05-19 도레이 카부시키가이샤 블랙 매트릭스 기판
JP2015102792A (ja) 2013-11-27 2015-06-04 凸版印刷株式会社 黒色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス基板、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2015138180A (ja) 2014-01-23 2015-07-30 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ、液晶表示パネルおよび液晶表示装置
JP6543453B2 (ja) * 2014-10-14 2019-07-10 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物
JP2016091015A (ja) * 2014-10-31 2016-05-23 サカタインクス株式会社 トリアリールメタン系色素含有カラーフィルター用着色組成物及びそれを含有するトリアリールメタン系色素含有カラーフィルター用レジスト組成物
JP6420666B2 (ja) * 2015-01-07 2018-11-07 株式会社Adeka 着色剤分散液、着色組成物及びカラーフィルタ

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014102346A (ja) * 2012-11-19 2014-06-05 Sakata Corp ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物

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