JP6960304B2 - ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 - Google Patents
ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6960304B2 JP6960304B2 JP2017208973A JP2017208973A JP6960304B2 JP 6960304 B2 JP6960304 B2 JP 6960304B2 JP 2017208973 A JP2017208973 A JP 2017208973A JP 2017208973 A JP2017208973 A JP 2017208973A JP 6960304 B2 JP6960304 B2 JP 6960304B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- black matrix
- pigment
- pigment dispersion
- group
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017208973A JP6960304B2 (ja) | 2017-10-30 | 2017-10-30 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
| CN201811252561.5A CN109725488A (zh) | 2017-10-30 | 2018-10-25 | 黑色基质用颜料分散组合物及含有其的黑色基质用颜料分散抗蚀剂组合物 |
| TW107138076A TWI772548B (zh) | 2017-10-30 | 2018-10-26 | 黑矩陣用顏料分散組成物及含有其的黑矩陣用顏料分散抗蝕劑組成物 |
| KR1020180128583A KR102605836B1 (ko) | 2017-10-30 | 2018-10-26 | 블랙 매트릭스용 안료 분산 조성물 및 이를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017208973A JP6960304B2 (ja) | 2017-10-30 | 2017-10-30 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019082533A JP2019082533A (ja) | 2019-05-30 |
| JP2019082533A5 JP2019082533A5 (enExample) | 2020-12-03 |
| JP6960304B2 true JP6960304B2 (ja) | 2021-11-05 |
Family
ID=66295715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017208973A Active JP6960304B2 (ja) | 2017-10-30 | 2017-10-30 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6960304B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102605836B1 (enExample) |
| CN (1) | CN109725488A (enExample) |
| TW (1) | TWI772548B (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7401389B2 (ja) | 2020-04-27 | 2023-12-19 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、およびブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
| JP7479189B2 (ja) | 2020-05-07 | 2024-05-08 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、およびブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
| JP7538014B2 (ja) * | 2020-11-25 | 2024-08-21 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス |
| JP7569209B2 (ja) * | 2020-11-25 | 2024-10-17 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス |
| JP7619797B2 (ja) * | 2020-12-21 | 2025-01-22 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス |
| JP2022129982A (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-06 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス |
| TW202311404A (zh) | 2021-08-31 | 2023-03-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 組成物、遮光膜、固體攝像元件、圖像顯示裝置、硬化膜的製造方法 |
| JP2023049863A (ja) * | 2021-09-29 | 2023-04-10 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、硬化膜の製造方法 |
| WO2023068201A1 (ja) * | 2021-10-20 | 2023-04-27 | 三菱ケミカル株式会社 | 顔料分散液、感光性樹脂組成物、硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置 |
| JP2023128803A (ja) | 2022-03-04 | 2023-09-14 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、硬化膜の製造方法 |
| CN118843833A (zh) * | 2022-03-18 | 2024-10-25 | 三菱化学株式会社 | 感光性树脂组合物、颜料分散液、固化物、黑色矩阵和图像显示装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000329926A (ja) * | 1999-05-18 | 2000-11-30 | Toray Ind Inc | 顔料分散樹脂溶液組成物、その製造方法およびカラーフィルター |
| JP5932435B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-06-08 | サカタインクス株式会社 | カラーフィルター用青色顔料分散組成物及びそれを含有するカラーフィルター用青色顔料分散レジスト組成物 |
| JP6113466B2 (ja) * | 2012-11-19 | 2017-04-12 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
| JP2014157179A (ja) | 2013-02-14 | 2014-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | ブラックマトリックス、カラーフィルタ、液晶表示装置及びブラックマトリックスの形成方法 |
| KR102112520B1 (ko) * | 2013-03-07 | 2020-05-19 | 도레이 카부시키가이샤 | 블랙 매트릭스 기판 |
| JP2015102792A (ja) | 2013-11-27 | 2015-06-04 | 凸版印刷株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス基板、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
| JP2015138180A (ja) | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタ、液晶表示パネルおよび液晶表示装置 |
| JP6543453B2 (ja) * | 2014-10-14 | 2019-07-10 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物 |
| JP2016091015A (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-23 | サカタインクス株式会社 | トリアリールメタン系色素含有カラーフィルター用着色組成物及びそれを含有するトリアリールメタン系色素含有カラーフィルター用レジスト組成物 |
| JP6420666B2 (ja) * | 2015-01-07 | 2018-11-07 | 株式会社Adeka | 着色剤分散液、着色組成物及びカラーフィルタ |
-
2017
- 2017-10-30 JP JP2017208973A patent/JP6960304B2/ja active Active
-
2018
- 2018-10-25 CN CN201811252561.5A patent/CN109725488A/zh active Pending
- 2018-10-26 KR KR1020180128583A patent/KR102605836B1/ko active Active
- 2018-10-26 TW TW107138076A patent/TWI772548B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109725488A (zh) | 2019-05-07 |
| TWI772548B (zh) | 2022-08-01 |
| JP2019082533A (ja) | 2019-05-30 |
| KR20190049500A (ko) | 2019-05-09 |
| KR102605836B1 (ko) | 2023-11-27 |
| TW201925379A (zh) | 2019-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6960304B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 | |
| JP5281412B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物およびそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 | |
| JP6543453B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物 | |
| JP5932435B2 (ja) | カラーフィルター用青色顔料分散組成物及びそれを含有するカラーフィルター用青色顔料分散レジスト組成物 | |
| JP6113466B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 | |
| KR20210027114A (ko) | 블랙 매트릭스용 안료 분산 조성물 및 이를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 | |
| JP2023118756A (ja) | 着色組成物、及び、着色レジスト組成物 | |
| JP2025156570A (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
| TWI890899B (zh) | 黑矩陣用顏料分散組成物、黑矩陣用光阻組成物及黑矩陣 | |
| TWI855245B (zh) | 黑矩陣用顏料分散組成物、及黑矩陣用顏料分散光阻組成物 | |
| CN114539847B (zh) | 黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵 | |
| JP7507006B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
| JP7538014B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
| JP2025102052A (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
| CN116731561A (zh) | 黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物及黑矩阵 | |
| CN113589645A (zh) | 黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201023 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201023 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210817 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210906 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211005 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211011 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6960304 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |