KR102584030B1 - 일종 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈 - Google Patents

일종 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 집적회로 칩 제조 설비 분야에 관련되어, 구체적으로 일종 화학, 기계적 평탄화 장비중 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈에 관한 것이다.
1. 본 발명은 로딩 앤 언로딩 부분과 폴리싱 부분을 통해 모듈화하여, 하나의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 정합체 모듈을 이루어, 이런 배치는 장비 구조를 간단화하고, 장비의 제조효율을 향상하고, 장비 부지 공간을 줄여준다.
2. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈을 이동하여, 폴리싱 헤드가 대응하는 폴리싱 패드로 돌아간 후 다시 클리닝하는 과정을 간소화하고, 이송 시간을 절약하거나 두 개의 폴리싱 헤드가 두 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 대응하여 웨이퍼를 이송을 통해, 웨이퍼 이송 시간을 절약하고, 효율을 현저하게 제고한다.
3. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈 위치 이동 및 클리닝 부분 단독 방치 및 기계 핸드로 웨이퍼 이송을 결합하여, 복 폴리싱 플랫폼 사이의 프로세스 실현 및 연합운영으로, 장비 제조 효율을 대폭 제고한다.
4. 폴리싱 로딩 앤 언로딩 전반 모듈은 수요에 따라 자유로이 확장할 수 있으며, 세개 및 더욱 많은 해당 모듈로 모여두어, 웨이퍼 제조 유연성을 제고하고, 제조 효율을 제고하며, 장비의 공간을 단축하고, 생산량을 증가한다.

Description

일종 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈
본 발명은 반도체 집적회로 칩 제조 설비 분야에 관련되어, 구체적으로 일종 화학, 기계적 평탄화 장비중 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈에 관한 것이다.
집적회로는 각 업종에서 점점 매우 중요한 역할을 발휘하여, 현대 정보사회의 초석이다. 반도체 업종이 극적으로 발전되고, 집성회로 특징 사이즈가 끊임없이 미세화로 향함에 따라, 반도체 필름 표면의 평탄화는 부속품의 고성능, 저원가, 높은 완성율에 대해 큰 영향을 미치고 있다.
화학, 기계적 평탄화(Chemical Mechanical Planarization, CMP) 장비는 집적회로 제조분야에서 7개 관건적인 장비중의 하나이다. 이의 원리는 폴리싱 액체 화학 에칭과 폴리싱 패드 기계마찰의 종합적 밸런싱 역할을 이용하여, 웨이퍼 표면의 재료에 대하여 미세한 제거를 진행한다. 집적회로 제조중에서, CMP는 우선 칩 제조전의 공정인 평탄과, 부속품 격리, 부속품 구조에 사용되고, 다음은 칩 제조후의 공정인 금속 상호 연결에도 사용된다. 동시에 CMP는 집적회로 3D 밀봉포장 TSV공정에서도 관건적인 공정방법이다. 상대적으로 다양화되고 관건적인 애플리케이션을 구비하여, CMP는 집적회로 제조중의 기준 공정과 핵심장비로 되었다.
현재, 화학, 기계적 평탄화 기술은 온라인 측정, 온라인 엔드 포인트 탐지, 클리닝 등 기술을 하나로 집결함으로 발전하여, 화학, 기계적 평탄화 기술은 집성 회로에서 미세화, 다층화, 박형화, 평탄화 공예 발전의 산물로 향하고있다. 동시에 웨이퍼가 200mm에서 300mm로 심지어 더욱 큰 과도직경, 생산율 증가, 제조원가 감소, 전반 기질 평탄화에 필요한 공예적 기술이다.
한 개의 전형적인 화학, 기계적 평탄화 장비는 일반적으로 복수 폴리싱 유닛 및 클리닝, 웨이퍼 이송, 건조 등 보조 장비가 포함된다. 폴리싱 유닛은 일반적으로 작업대, 폴리싱 디스크, 폴리싱 헤드, 폴리싱 암, 트리머, 폴리싱 액체 암 등이 포함되며, 폴리싱 디스크, 폴리싱 헤드, 폴리싱 암, 트리머, 폴릭싱 액체 암은 공예적 가공 위치에 따라 작업대에 배치된다. 실제적인 웨이퍼 가공 과정에서 폴리싱 유닛은 클리닝, 웨이퍼 이송 등 모듈 공간적 배치에서 화학, 기계적 평탄화 장비의 전반 폴리싱 산출에 대하여 커다란 영향을 미치고 있다. 웨이퍼는 폴리싱 유닛과 외부 및 폴리싱 유닛 사이의 이송에서 일반적으로 트랜스퍼 스테이션 또는 유사한 역할을 일으키는 장비를 통해 실현한다. 트랜스퍼 스테이션과 폴리싱 유닛의 공간적 배치에 관하여, 트랜스퍼 스테이션과 3개 폴리싱 유닛이 정방형으로 배치되어 있는것을 채용한다. 하나의 트랜스퍼 스테이션은 3개의 폴리싱 유닛에 로딩 및 언로딩을 제공하여, 이런 기술적 배치는 공예과정이 복잡한 단점이 존재한다. 또 하나는 4개 폴리싱 유닛이 나란히 배열되어, 웨이퍼 이송은 평탄화 장비 단말에 위치한 로딩 및 언로딩 구역과 폴리싱 유닛 배열방향을 따라 설치한 두 개의 선형 이송 메커니즘으로 완성하고, 선형 이송 메커니즘의 다른 일측은 클리닝 구역이다. 상기 각 선형 이송 메커니즘은 두 개의 폴리싱 유닛을 위해 작업을 제공하고, 각 폴리싱 유닛을 위해 두 개의 이송 스테이션을 설치하며, 폴리싱 유닛의 폴리싱 헤드는 이중 하나의 이송 스테이션에서 웨이퍼를 로딩 및 언로딩한다. 이런 배치의 단점은 각 폴리싱 유닛이 비록 두개의 이송 스테이션을 설치하지만 폴리싱 과정에서 폴리싱 유닛은 이중의 하나에서만 직접 웨이퍼를 로딩 및 언로딩하여, 웨이퍼 이송효율의 차원에서 볼 때 개진할 공간이 있다.
본 발명의 목적은 기존 화학, 기계적 평탄화 설비 중에 존재하는 웨이퍼 이송율이 낮고, 이송 메커니즘 구조가 복잡한 문제를 해결하기 위해, 일종 화학, 기계적 평탄화 장비에 사용되는 이동 로딩 앤 언로딩 모듈을 포함한 폴리싱 로딩 앤 언로딩 모듈을 제공하여, 로딩 앤 언로딩 부분과 폴리싱 부분을 통해 모듈화하여, 장비구조를 간단화하고, 장비의 제조효율을 제고하고, 장비의 부지공간을 줄일 수 있다.
본 발명의 목적은 아래 기술방안을 통해 실현할 수 있다.
폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈은 하나의 로딩 앤 언로딩 모듈과 두 개의 폴리싱 모듈이 포함되어 있으며, 로딩 앤 언로딩 모듈은 중간에 위치하여 있고, 두 개의 폴리싱 모듈은 양쪽에 위치하여 있으며, 로딩 앤 언로딩 모듈에는 로딩 램프 모듈이 포함되어 있다. 상기 로딩 앤 언로딩 모듈은 두 개의 폴리싱 모듈의 배열 방향과 서로 수직으로 되는 방향에 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치가 있으며, 로딩 앤 언로딩 모듈은 상기 두개의 로딩 앤 언로딩 위치 사이에서 왕복 이동하면서 상기 두 개의 폴리싱 모듈과 대응한다.
상기 로딩 앤 언로딩 위치에는 각각 하나의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 설치되어, 상기 두 개의 폴리싱 모듈과 대응 된다. 이때, 로딩 앤 언로딩 모듈에는 고정 프레임, 물탱크, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록, 제2로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록, 제1 격리커버, 제2 격리커버가 포함되며, 상기 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응되고, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제2 로딩 앤 언로딩 위치에 대응되며, 물탱크와 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록은 고정 프레임에 고정 및 설치되고, 두 개의 격리커버는 각각 대응되는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정프레임에 고정되어, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈 하부와 액체를 격리하며, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 각각 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록과 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록에 고정되고, 제1 로딩 앤 언로딩 위치와 로딩 앤 언로딩 위치와 대응한다.
상기 폴리싱 모듈에는 고정 플랫폼, 폴리싱 패드, 폴리싱 헤드, 폴리싱 회전축이 포함되며, 폴리싱 패드는 고정플랫폼에 위치하며, 폴리싱 회전축은 폴리싱 헤드를 구동하여 로딩 앤 언로딩 위치로 회전한다.
상기 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 상기 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치 사이에서 왕복 이동을 할 때 로딩 앤 언로딩 모듈에는 고정 프레임, 물 탱크, 직선이동 모듈, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록, 격리커버가 포함되며, 상기 물 탱크와 직선이동 모듈은 고정 프레임에 고정되고, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록은 직선이동 모듈의 슬라이딩 블록에 고정되며, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록에 고정되고, 또한 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블럭 하단에는 격리 커버를 고정하여 로딩 앤 언로딩 플랫폼 하부와 액체를 격리하고, 직선이동 모듈은 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치 즉 제1 로딩 앤 언로딩 위치와 제2 로딩 앤 언로딩 위치 사이에서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈을 왕복이동 시킨다.
로딩 앤 언로딩의 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치에는 각각 제1 노즐 모듈과 제2노즐 모듈이 설치되어 있으며, 제1 노즐 모듈과 제2 노즐 모듈은 고정 프레임 위에 고정되어 있다.
제1 노즐 모듈과 제2 노즐 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치와 제2 로딩 앤 언로딩 위치의 변두리에 설치되어 있다.
로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 수직 방향에서 상승, 하강되어, 폴리싱 헤드와 웨이퍼의 이송을 완성한다.
로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 상기 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치 사이에서 왕복 이동을 하는 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈에 대하여, 본 발명은 상기 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 응용하여 웨이퍼를 이송하는 방법을 제시하여, 구체적인 절차에는 다음과 같은 절차를 포함한다.
S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에서 정지하여, 해당 위치에 대응하는 제1단계 폴리싱을 완성하여 웨이퍼를 휴대한 제1 폴리싱 헤드를 대기하는 단계;
S2: 제1 폴리싱 헤드를 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 하강시켜 제2 로딩 앤 언로딩 위치로 이동하는 단계;
S3: 제1 폴리싱 헤드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치 상단에서 클리닝 후, 제2 로딩 앤 언로딩 위치의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈로 이동한 웨이퍼는 제2 폴리싱 헤드가 흡착하여, 제2 단계의 폴리싱을 진행하며, 제2 폴리싱 헤드가 제2 폴리싱 패드로 이전한 후, 기계 핸드는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 폴리싱 할 새로운 웨이퍼를 적재하는 단계;
S4: 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 제1 폴리싱 헤드가 클리닝을 완성할 때, 제2 로딩 앤 언로딩 위치에 있는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 제1 로딩 앤 언로딩 위치의 제1 폴리싱 헤드 하단으로 이동 후, 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승되며, 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 제1 폴리싱 헤드는 폴리싱 할 웨이퍼를 흡착하여 폴리싱 구역에 전이하여 폴리싱을 완성하는 단계;
S5: 제1 로딩 앤 언로딩 위치의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 하강 후 제2 로딩 앤 언로딩 위치로 이동하여, 이와 동시에 제2 로딩 앤 언로딩 위치에 대응한 제2 폴리싱 헤드는 이동하여 제2 로딩 앤 언로딩 위치 상단으로 전이하여, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승하고, 제2 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 받아들이고, 흡수 완성 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 하강되고 이어서 제2 로딩 앤 언로딩 위치는 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 이동하는 단계;
S6: 제2 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 제2 폴리싱 헤드는 제2 로딩 앤 언로딩 위치 상단에서 클리닝을 하고, 이와 동시에 기계핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에서 제2 단계의 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져간 후, 제1 폴리싱 헤드에서 제1 단계의 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 대기하는 단계;
S7: 제1 폴리싱 헤드가 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승하여 제1 단계의 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 접수하여 하강 후에 제2 로딩 앤 언로딩 위치로 이동하는 단계;
S8: 상기 절차를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;
로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈 즉 상기 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치 사이에서 왕복 이동을 하는 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈에 대하여, 본 발명은 더 나아가 또 다른 일종의 상기 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하여 웨이퍼 이송을 진행하는 방법을 제시하여, 구체적으로 다음과 같은 절차를 포함한다.
S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에서 정지하여, 해당 위치에 대응하는 제1단계에서 폴리싱 패드로 폴리싱을 완성하여 웨이퍼를 휴대한 제1 폴리싱 헤드를 대기하는 단계;
S2: 제1 폴리싱 헤드를 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 하강시켜 제2 로딩 앤 언로딩 위치로 이동하는 단계;
S3: 제1 폴리싱 헤드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치 상단에서 클리닝 후, 기계 핸드는 제2 로딩 앤 언로딩 위치의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 위치한 웨이퍼를 가져간 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 새로운 웨이퍼를 적재하는 단계;
S4:제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 제1 폴리싱 헤드가 클리닝을 완성할 때, 제2 로딩 앤 언로딩 위치에 있는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 제1 로딩 앤 언로딩 위치의 제1 폴리싱 헤드 하단으로 이동 후, 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승되며, 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 제1 폴리싱 헤드는 폴리싱 할 웨이퍼를 흡착하여 폴리싱 구역에 전이하여 폴리싱을 완성하는 단계;
S5: 상기 절차를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료하는 단계;
같은 도리로, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 먼저 제2 로딩 앤 언로딩 위치에 정지할 수 있고, 제2 로딩 앤 언로딩 위치에서 웨이퍼를 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 이송하고, 나머지 웨이퍼 이송 절차는 위와 같다.
로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈 즉 상기 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치 사이에서 왕복 이동을 하는 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈에 대하여, 본 발명은 더 나아가 또 다른 일종의 상기 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하여 웨이퍼 이송을 진행하는 방법을 제시하여, 구체적으로 다음과 같은 절차를 포함한다.
S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에서 정지하여, 해당 위치에 대응하는 폴리싱을 완성하여 웨이퍼를 휴대한 제1폴리싱 헤드를 대기하는 단계;
S2: 제1 폴리싱 헤드가 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 제1 폴리싱 헤드는 폴리싱 구역으로 전이하는 단계;
S3: 기계 핸드는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈위에 웨이퍼를 가져간 후, 제1 폴리싱 헤드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 되돌아가, 제1 폴리싱 헤드 클리닝을 시작하는 단계;
S4: 클리닝 완료 후, 제1 폴리싱 헤드는 폴리싱 구역으로 되돌아가고, 기계 핸드는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 새로운 웨이퍼를 적재하는 단계;
S5: 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승되고, 제1 폴리싱 헤드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 되돌아가서 폴리싱할 웨이퍼 흡착을 완성 후 로딩 앤 언로딩 모듈이 하강되고, 제1 폴리싱 헤드는 폴리싱 구역으로 전이되어 폴리싱을 진행하고, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 하강되는 단계;
S6: 상기 절차를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;
같은 도리로, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 먼저 제2 로딩 앤 언로딩 위치에 정지할 수 있고, 제2 로딩 앤 언로딩 위치에서 웨이퍼를 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 이송하고, 나머지 웨이퍼 이송 절차는 위와 같다.
동일하게, 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치에 각각 한 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈의 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 설치할 수 있어, 본 발명은 상기 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하여 웨이퍼를 이송하는 방법을 제시하여, 구체적으로 다음과 같은 절차를 포함한다.
S1:제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에서 제1 폴리싱 헤드가 제1 단계의 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 대기하여 제1 폴리싱 헤드 회전축이 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 회전하는 단계;
S2: 폴리싱을 완성한 웨이퍼는 제1 폴리싱 헤드 회전축으로 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 회전한 후, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승되어, 제1 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 적재하는 단계;
S3: 이어서 제1 폴리싱 헤드는 제1 폴리싱 패드 상단에 되돌아가고, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 하강하고, 기계 핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈위 제1 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 제2 로딩 앤 언로딩 위치 위의 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈로 가져가고, 제1 폴리싱 헤드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 되돌아가 제1 폴리싱 헤드를 클리닝 하는 단계;
S4: 클리닝 완료 후, 제1 폴리싱 헤드는 제1 폴리싱 패드로 되돌아간다. 제2 폴리싱 헤드는 제2 로딩 앤 언로딩 위치로 되돌아간 후, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승하고, 제2 폴리싱 헤드는 제1 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져가고, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 하강되며, 제2 폴리싱 헤드는 제2 폴리싱 패드 상단으로 돌아가 폴리싱을 진행하고, 이와 동시에, 기계 핸드는 폴리싱을 진행하지 않은 웨이퍼를 제1 로딩 앤 언로딩 위치인 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 방치하는 단계;
S5:제1 폴리싱 헤드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 회전하여 폴리싱 할 웨이퍼를 가져가 폴리싱을 시작하며, 제2 폴리싱 헤드가 폴리싱 완성 후, 제2 폴리싱 헤드는 제2 로딩 앤 언로딩 위치로 회전하여 제2단계의 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 방치하고, 제2 폴리싱 헤드는 제2 폴리싱 패드로 회전하여, 기계 핸드는 폴리싱 완료한 웨이퍼를 가져가는 단계;
S6: 제2 폴리싱 헤드는 제2 로딩 앤 언로딩 위치로 회전하여 제2 폴리싱 헤드를 클리닝하며, 클리닝 완료한 제2 폴리싱 헤드는 제2 폴리싱 패드로 되돌아가고, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에서 제1 폴리싱 헤드가 완성할 제1 단계 폴리싱 웨이퍼를 대하여 제1 폴리싱 헤드 회전축은 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 되돌아가는 단계;
S7: 상기 절차를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료하는 단계;
두 개의 로딩 앤 언로딩 위치에 각각 한 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈을 설치한 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈하에서, 본 발명은 상기 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하여 웨이퍼를 이송하는 방법을 제시하여, 구체적으로 다음과 같은 절차를 포함한다.
S1: 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에서 제1 폴리싱 헤드 폴리싱 할 웨이퍼를 대기하여 폴리싱 회전축이 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 회전하는 단계;
S2: 제1 폴리싱 헤드를 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 회전 후, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승하여, 웨이퍼를 적재하는 단계;
S3:제1 폴리싱 헤드(3,8)가 폴리싱 구역으로 되돌아온 후, 기계 핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에서 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져가고, 제1 폴리싱 헤드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 되돌아와 제1 폴리싱 헤드를 클리닝 하는 단계;
S4: 클리닝 완성 후, 제1 폴리싱 헤드는 폴리싱 구역으로 되돌아가, 기계 핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 새로운 폴리싱 웨이퍼를 적재하는 단계;
S5: 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폰 모듈이 상승하여, 제1 폴리싱 헤드를 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 되돌아가, 폴리싱할 웨이퍼를 흡착하여 폴리싱 구역으로 전이하여 폴리싱 하며, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 하강하는 단계;
S6: 상기 절차를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료하는 단계;
같은 도리로, 두 번째 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 두 번째 로딩 앤 언로딩 위치에서 두 번째 폴리싱 헤드가 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 대기하고, 나머지 웨이퍼 이송 절차는 위와 같다.
종래의 화학, 기계적 평탄화 장비 기술과 비교하면, 본 발명은 아래와 같은 유익한 효과에 갖고 있다.
1. 본 발명은 로딩 앤 언로딩 부분과 폴리싱 부분을 통해 모듈화하여, 하나의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 정합체 모듈을 이루어, 이런 배치는 장비 구조를 간단화하고, 장비의 제조효율을 향상하고, 장비 부지 공간을 줄여준다.
2. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈을 이동하여, 폴리싱 헤드가 대응하는 폴리싱 패드로 돌아간 후 다시 클리닝하는 과정을 간소화하고, 이송 시간을 절약하거나 두 개의 폴리싱 헤드가 두 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 대응하여 웨이퍼를 이송을 통해, 웨이퍼 이송 시간을 절약하고, 효율을 현저하게 제고한다.
3. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈 위치 이동 및 클리닝 부분 단독 방치 및 기계 핸드로 웨이퍼 이송을 결합하여, 복 폴리싱 플랫폼 사이의 프로세스 실현 및 연합운영으로, 장비 제조 효율을 대폭 제고한다.
4. 폴리싱 로딩 앤 언로딩 전반 모듈은 수요에 따라 자유로이 확장할 수 있으며, 세개 및 더욱 많은 해당 모듈로 모여두어, 웨이퍼 제조 유연성을 제고하고, 제조 효율을 제고하며, 장비의 공간을 단축하고, 생산량을 증가한다.
아래 첨부도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 설명하고, 첨부도면은 아래와 같다.
도1은 본 발명 폴리싱 로딩 앤 언로딩 정합체 모듈의 입체 효과도이다.
도2는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치 사이에서 왕복 이동하는 로딩 앤 언로딩 모듈의 구조 사시도이다.
도3은 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치에 각각 한 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈의 로딩 앤 언로딩 모듈의 구조 사시도이다.
아래 첨부도면과 구체적인 실시예를 결합하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다. 본 실시예는 본 발명의 기술방안을 전제로 실시하여, 상세한 실시 방식과 구체적인 조작 과정을 제시하였지만, 본 발명의 보호 범위는 아래 서술한 실시예에 한하지 않는다.
본 실시예는 일종 화학, 기계적 평탄화 장비용 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 제공하였다. 본 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈은 1개 로딩 앤 언로딩 모듈과 2개 폴리싱 모듈로 구성되어, 배치는 도1에서 도시한 바와 같이, 제1 로딩 앤 언로딩 위치, 제1 폴리싱 헤드 회전축(2), 제1 폴리싱 헤드(3), 제1 폴리싱 패드(4), 제1 고정플랫폼(5), 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6), 제2 폴리싱 헤드 회전축(7), 제2 폴리싱 헤드(8), 제2 폴리싱 패드(9), 제2 고정플랫폼(10)이 포함된다.
폴리싱 패드, 폴리싱 회전축 및 기타 부품은 고정 플랫폼에 고정되어 있고, 폴리싱 헤드는 폴리싱 회전축에 고정되어 있다. 폴리싱 회전축은 폴리싱 헤드를 이끌어 로딩 앤 언로딩 위치로 이동하고, 작동 완성 후, 폴리싱 패드 상단으로 회전하여 폴리싱을 진행한다. 제1 로딩 앤 언로딩 위치에는 제1 폴리싱 헤드(3)가 대응되며, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에는 제2 폴리싱 헤드(8)가 대응된다.
로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치사이에서 왕복 이동이 가능한 로딩 앤 언로딩 모듈 구조로서 도2에서 도시한 바와 같이, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1), 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6), 물탱크(11), 제1 노즐 모듈(13), 직선이동모듈(21), 제2 노즐모듈(16), 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22), 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(23), 격커버(24), 고정 프레임(20)이 포함된다. 물 탱크(11)과 직선이동모듈(21)은 고정 프레임(20)에 고정된다. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(23)은 직선이동모듈(21)에 고정되고, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(23) 위에 고정되며, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(23) 하단에는 격리커버(17)가 고정되어 로딩 앤 언로딩 플랫폼 하단과 액체를 격리한다. 직선이동모듈(21)은 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)을 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 제2로딩 앤 언로딩 위치(6)사이에서 이동하게 하며, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 제2로딩 앤 언로딩 위치(6) 변두리는 제1 노즐 모듈(13)과 제2 노즐 모듈(16)이 대응된다. 두 개의 노즐 모듈은 모두 고정 프레임(20) 위에 고정된다.
로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치사이에서 로딩 앤 언로딩 모듈에서 웨이퍼를 이송하는 과정은 다음과 같다.
우선, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에 정지하여, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에 대응한 제1 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 휴대한 제1 폴리싱 헤드(3)를 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 전이를 대기한다.
로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 웨이퍼를 접수한 후 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)을 직접 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 이동하고, 다음 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응한 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 로딩 앤 언로딩 위치 상단에서 클리닝을 진행한다. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22) 이동을 통해, 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 폴리싱 패드(4) 상단으로 돌아간 후 다시 돌아와 클리닝 할 필요 없어, 이송 시간을 절약하였을 뿐만 아니라, 효율도 향상한다.
이와 동시에 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 전이한 후, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)위의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(2)위의 폴리싱한 웨이퍼를 가져가고, 기계 핸드는 다시 폴리싱 할 웨이퍼를 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)위의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에 로딩한다.
제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 폴리싱 헤드가 클리닝을 완성할 때, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)위의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치의 제1 폴리싱 헤드(3)아래로 이동한다. 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 상승하고, 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 제1 폴리싱 헤드(3)는 흡착을 완성한 후 폴리싱 구역으로 전이하여 폴리싱을 진행하고, 다음 웨이퍼 폴리싱을 시작한다.
다음 제1 로딩 앤 언로딩 위치의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 이동하고, 이와 동시에 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 대응하는 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 상단으로 전이하여, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 상승하고, 폴리싱 완성한 웨이퍼를 흡착하고, 흡착 완료 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에서 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 이동하고, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 대응하는 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 상단에서 클리닝을 진행한다. 이런 이익점은 제2 폴리싱 헤드(8) 제2 폴리싱 패드(9)상단으로 돌아갔다가 다시 돌아와 클리닝을 진행할 필요없어, 이송시간을 절약하고, 효율을 향상한다.
이와 동시에, 기계 핸드는 제1로딩 앤 언로딩 위치위의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22) 위에서 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져가고, 폴리싱할 웨이퍼를 적재한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 정지하여 제1 로딩 앤 언로딩 위치에 대응하는 제1 폴리싱 헤드(3)가 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 언로딩하여, 다시 순환을 시작한다.
두 개의 로딩 앤 언로딩 위치에 각각 한 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈을 설치한 구조 사시도 도3에서 도시한 바와 같이, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1), 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6), 물탱크(11), 제1 격리커버(12), 제1 노즐 모듈(13), 제2로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록(14), 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15), 제2 노즐 모듈(16), 제2 격리커버(17), 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18), 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 모듈(19), 고정 프레임(20)으로 구성된다. 이중 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)에는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)가 대응되고, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)에는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)가 대응된다. 물탱크(11)와 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(19), 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(14)은 고정프레임(20)에 고정된다. 격리커버는 로딩 앤 언로딩 고정 플랫폼에 고정되어 로딩 앤 언로딩 플랫폼 하단과 액체를 격리한다. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록에 고정하여, 로딩 앤 언로딩 위치 변두리에 노즐 모듈이 대응되어 있다. 노즐 모듈은 고정 프레임(20)에 고정되어 있다.
두 개의 로딩 앤 언로딩 위치에 각각 설치한 한 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈의 로딩 앤 언로딩 모듈이 웨이퍼를 이송하는 과정에 대하여 상세히 설명을 진행하기로 한다.
시작할 때, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에서 제1 폴리싱 헤드(3) 제1단계의 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 대기하여 제1 폴리싱 헤드 회전축(2)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 회전한다.
이어서, 폴리싱한 웨이퍼는 제1 폴리싱 헤드 회전축(2)에서 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 회전할 때, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)이 상승하여, 이미 폴리싱한 웨이퍼를 로딩한다.
다음, 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 폴리싱 패드(4)상단으로 돌아가, 기계 핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18) 위에서 이미 완성한 제1단계 폴리싱 웨이퍼를 가져가서, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)위의 제2 로딩 앤 언로딩 모듈(15) 위에 방치하고, 제1폴리싱 헤드(3)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 되돌아와 제1 폴리싱 헤드(3)를 클리닝한다.
클리닝 완료 후, 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 폴리싱 패드(4)위로 돌아온다. 제2 폴리싱 헤드(8) 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 돌아온 후, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)이 상승하고, 제2 폴리싱 헤드(8)는 제1단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져가고, 동시에 기계 핸드는 폴리싱을 하지 않은 웨이퍼를 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)의 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18) 위에 방치하고, 두 개의 폴리싱 헤드는 두 개의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈과 대응하여 웨이퍼 이송을 진행하여 웨이퍼 이송 시간을 절약하고, 효율을 향상한다.
이어서, 두 번째 폴리싱 헤드(8)는 두 번째 폴리싱 패드(9)위로 돌아와 폴리싱을 시작하고, 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 회전하여 미 폴리싱한 웨어퍼를 가져가서 폴리싱을 시작한다. 제2 폴리싱 헤드(8)가 폴리싱 완성 후, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 회전하여, 두 번째 단계의 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15) 위에 방치하고, 제2 폴리싱 헤드(8)는 회전하여 제2 폴리싱 패드(9)로 돌아간다. 기계 핸드는 폴리싱한 웨어퍼를 가져가, 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 회전하여 돌아가서 제2 폴리싱 헤드(8)를 클리닝하며, 클리닝 완료한 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 폴리싱 패드(9) 상단으로 되돌아오나다. 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에서 제1 폴리싱 헤드(3) 상단의 웨이퍼 순환 시작을 대기한다.
본 발명의 웨이퍼 적재 조립부품 구조는 로딩 앤 언로딩 부분과 폴리싱 부분에 대한 모듈화를 통해 도1에서 도시한 바와 같은 배치를 형성함이 이의 우점이다. 해당 배치는 장비의 구조를 간단화하고, 장비의 제조효율을 향상하여, 장비의 부지공간을 축소한다. 그리고 수요에 따라 자유확장하여, 3개 및 더욱 많은 도1에서 도시한 바와 같은 배치의 모듈로 집결하여, 웨이퍼 제조의 유연성을 제고하고, 제조 효율을 제고하며, 장비의 공간을 축소하여, 생산량을 증가한다. 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)의 디동 6및 클리닝 부분을 통해 단독으로 방치하고, 기계 핸드를 결합하여 웨이퍼를 이송하여, 복수 폴리싱 모듈 사이 공정으로 하여금 병력 작동을 실현하여, 장비의 제조 효율을 대폭 제고한다.
상기를 통해 본 발명의 구체적인 실시예를 상세히 설명하였다. 본 분야의 기술자들은 창조적 노돌이 필요없이 본 발병의 구상을 통해 복수 수정과 변화를 진행할 수 있음을 이해해야 한다. 때문에 본 기술분야의 기술자들은 본 발명의 구상에 따라 기존 기술을 기반으로 논리적 분석, 추정 및 유한한 실험을 통해 기술적 방안을 취득할 수 있고, 모두 청구범위 내에서 확인한 보호범위 내에 있다.
1: 제1 로딩 앤 언로딩 위치 2: 제1 폴리싱 헤드 회전축
3: 제1 폴리싱 헤드 4: 제1 폴리싱 패드
5: 제1 고정 플랫폼 6: 제2 로딩 앤 언로딩 위치
7: 제2 폴리싱 헤드 회전축 8: 제2 폴리싱 헤드
9: 제2 폴리싱 패드 10: 제2 고정 플랫폼
11: 물 탱크 12: 제1 격리커버
13: 제1 노즐 모듈 14: 제2 로딩 앤 언로딩 고정 블록
15: 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈 16: 제2 노즐 모듈
17: 제2 격리커버 18: 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈
19: 제1 로딩 앤 언로딩 고정 블록 20: 고정 프레임
21: 직선이동모듈 22: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈
23: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 모듈 24: 격리커버

Claims (14)

  1. 하나의 로딩 앤 언로딩 모듈과 두 개의 폴리싱 모듈이 포함하고,
    상기 로딩 앤 언로딩 모듈은 중간에 위치하여 있고, 상기 두 개의 폴리싱 모듈은 양쪽에 위치하여 있으며, 상기 로딩 앤 언로딩 모듈에는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 포함되며,
    상기 로딩 앤 언로딩 모듈은 두 개의 폴리싱 모듈의 배열 방향과 서로 수직으로 되는 방향에 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)를 구비하며, 상기 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 상기 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 사이에서 왕복 이동하면서, 상기 두 개의 폴리싱 모듈과 각각 대응하고,
    상기 로딩 앤 언로딩 모듈의 상기 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 위에 각각 제1 노즐 모듈(13)과 제2 노즐 모듈(16)이 설치되고,
    상기 제1 노즐 모듈(13)과 제2 노즐 모듈(16)은 고정 프레임(20) 위에 고정되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)는 상기 두 개의 폴리싱 모듈에 대응하여 각각 하나의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에 제공되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 로딩 앤 언로딩 모듈에는 고정 프레임(20), 물탱크(11), 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18), 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15), 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(19), 제2로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(14), 제1 격리커버(12), 제2 격리커버(17)가 포함되고,
    상기 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에 대응되고, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)은 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 대응되며, 물탱크(11)와 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(19), 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(14)은 고정 프레임(20)에 고정 및 설치되고, 두 개의 격리커버는 각각 대응되는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정프레임에 고정되어, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈 하부와 액체를 격리하며, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18), 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)은 각각 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(19)과 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정블록(14)에 고정되고, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 로딩 앤 언로딩 위치(6)와 대응함을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 폴리싱 모듈에는 고정 프레임, 폴리싱 패드, 폴리싱 헤드, 폴리싱 회전축이 포함되고,
    상기 폴리싱 패드는 고정플랫폼에 위치하며, 폴리싱 회전축은 폴리싱 헤드를 구동하여 로딩 앤 언로딩 위치로 회전함을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 로딩 앤 언로딩 모듈에는 고정 프레임(20), 물 탱크(11), 직선이동 모듈(21), 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22), 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록(23), 격리커버(24)가 포함되고,
    상기 물 탱크(11)와 직선이동 모듈(21)은 고정 프레임(20)에 고정되고,
    로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록(23)은 직선이동 모듈(21)의 슬라이딩 블록에 고정되며,
    로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록(23)에 고정되고,
    또한 로딩 앤 언로딩 플랫폼 고정 블록(23) 하단에는 격리 커버(24)를 고정하여 로딩 앤 언로딩 플랫폼 하부와 액체를 격리하고,
    직선이동 모듈(21)은 두 개의 로딩 앤 언로딩 위치 즉, 상기 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 상기 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 사이에서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)을 왕복 이동시킴을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 노즐 모듈(3)과 제2 노즐 모듈(16)은 각각 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)와 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)의 변두리에 설치되어 있음을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 수직 방향에서 상승과 하강시킬 수 있고,
    폴리싱 헤드와 웨이퍼의 이전을 완성함을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈.
  9. 제1항의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하는 웨이퍼 이송방법에 있어서,
    S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에서 정지하여, 해당 위치에 대응하는 제1단계 폴리싱을 완성하여 웨이퍼를 휴대한 제1 폴리싱 헤드(3)를 대기하는 단계;
    S2: 제1 폴리싱 헤드(3)를 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 하강시켜 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 이동하는 단계;
    S3: 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1) 상단에서 클리닝 후, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈로 이동한 웨이퍼는 제2 폴리싱 헤드(8)가 흡착하여, 제2 단계의 폴리싱을 진행하며, 제2 폴리싱 헤드(8)가 제2 폴리싱 패드(9)로 이전한 후, 기계 핸드는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에 폴리싱 할 새로운 웨이퍼를 적재하는 단계;
    S4:제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에 대응하는 제1 폴리싱 헤드(3)가 클리닝을 완성할 때, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 있는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)의 제1 폴리싱 헤드(3) 하단으로 이동 후, 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승되며, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에 대응하는 제1 폴리싱 헤드(3)는 폴리싱 할 웨이퍼를 흡착하여 폴리싱 구역에 전이하여 폴리싱을 완성하는 단계;
    S5: 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 하강 후 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 이동하여, 이와 동시에 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 대응한 제2 폴리싱 헤드(8)는 이동하여 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 상단으로 전이하여, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승하고, 제2 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 받아들이고, 흡수 완성 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈은 하강되고 이어서 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 이동하는 단계;
    S6: 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 대응하는 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 상단에서 클리닝을 하고, 이와 동시에 기계핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈에서 제2 단계의 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져간 후, 제1 폴리싱 헤드(3)에서 제1 단계의 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 대기하는 단계;
    S7: 제1 폴리싱 헤드(3)가 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈이 상승하여 제1 단계의 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 접수하여 하강 후에 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 이동하는 단계;
    S8: 상기 S1 내지 S7 단계를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈로 웨이퍼를 이송하는 방법.
  10. 제1항의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하는 웨이퍼 이송방법에 있어서,
    S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에서 정지하여, 해당 위치에 대응하는 폴리싱을 완성하여 웨이퍼를 휴대한 제1폴리싱 헤드(3)를 대기하는 단계;
    S2: 제1 폴리싱 헤드(3)가 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 하강 후 제2 로딩 앤 언로딩위치(6)로 전이하는 단계;
    S3: 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)상단에서 클리닝을 진행하고, 기계 핸드는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에 위치한 웨이퍼를 가져가, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에 새로운 웨이퍼를 적재하는 단계;
    S4: 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에 대응하는 제1 폴리싱 헤드(3) 클리닝 완성할 때, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6) 위 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)을 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)의 제1 폴리싱헤드(3)하단으로 이동하고, 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 상승하여, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에 대응하는 제1 폴리싱 헤드(3)가 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 흡착하여 폴리싱 구역으로 전이하여 폴리싱하고, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 하강하는 단계;
    S5: 상기 S1 내지 S4 단계를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈로 웨이퍼를 이송하는 방법.
  11. 제1항의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하는 웨이퍼 이송방법에 있어서,
    S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에서 정지하여, 해당 위치에 대응하는 폴리싱을 완성하여 웨이퍼를 휴대한 제2폴리싱 헤드(8)를 대기하는 단계;
    S2: 제2 폴리싱 헤드(8)가 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 전이한 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 하강 후 제1 로딩 앤 언로딩위치(1)로 전이하는 단계;
    S3: 제2 폴리싱 헤드(8)은 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)상단에서 클리닝을 진행하고, 기계 핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)의 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에 위치한 웨이퍼를 가져가, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에 새로운 웨이퍼를 적재하는 단계;
    S4: 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 대응하는 제2 폴리싱 헤드(8) 클리닝 완성할 때, 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1) 위 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)을 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)의 제2 폴리싱헤드(8)하단으로 이동하고, 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 상승하여, 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)에 대응하는 제2 폴리싱 헤드(8)가 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 흡착하여 폴리싱 구역으로 전이하여 폴리싱하고, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 하강하는 단계;
    S5: 상기 S1 내지 S4 단계를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈로 웨이퍼를 이송하는 방법.
  12. 제1항의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하는 웨이퍼 이송방법에 있어서,
    S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)은 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)에서 정지하여, 해당 위치에 대응하는 폴리싱을 완성하여 웨이퍼를 휴대한 폴리싱 헤드(3,8)를 대기하는 단계;
    S2: 폴리싱 헤드(3,8)를 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)로 회전 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)이 상승하여 웨이퍼를 접수하고, 폴리싱 헤드(3,8)를 폴리싱 구역으로 전이하는 단계;
    S3: 기계 핸드는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에서 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져가고, 폴리싱 헤드(3,8)는 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)에 되돌아와 폴리싱 헤드(3,8)를 클리닝을 시작하는 단계;
    S4: 클리닝 완성 후, 폴리싱 헤드(3,8)는 폴리싱 구역으로 되돌아가, 기계 핸드는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)에 새로운 폴리싱 웨이퍼를 적재하는 단계;
    S5: 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폰 모듈(22)이 상승하여, 폴리싱 헤드(3,8)를 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)로 되돌아가, 폴리싱할 웨이퍼를 흡착 후 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(22)을 하강하고, 폴리싱 헤드(3,8)를 폴리싱 구역으로 전이하여 폴리싱하는 단계;
    S6: 상기 S1 내지 S5 단계를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈로 웨이퍼를 이송하는 방법.
  13. 제2항의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하는 웨이퍼 이송방법에 있어서,
    S1: 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)에서 제1 폴리싱 헤드(3)가 제1 단계의 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 대기하여 제1 폴리싱 헤드 회전축(2)이 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 회전하는 단계;
    S2: 폴리싱을 완성한 웨이퍼는 제1 폴리싱 헤드 회전축(2)으로 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 회전한 후, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)이 상승되어, 제1 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 적재하는 단계;
    S3: 이어서 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 폴리싱 패드 상단에 되돌아가고, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)이 하강하고, 기계 핸드는 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈위 제1 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 제2 로딩 앤 언로딩 위치 위의 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)로 가져가고, 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 되돌아가 제1 폴리싱 헤드(3)를 클리닝 하는 단계;
    S4: 클리닝 완료 후, 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 폴리싱 패드로 되돌아간다. 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 되돌아간 후, 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)이 상승하고, 제2 폴리싱 헤드(8)는 제1 단계 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 가져가고, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)이 하강되며, 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 폴리싱 패드 상단으로 돌아가 폴리싱을 진행하고, 이와 동시에, 기계 핸드는 폴리싱을 진행하지 않은 웨이퍼를 제1 로딩 앤 언로딩 위치인 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)에 방지하는 단계;
    S5: 제1 폴리싱 헤드(3)는 제1 로딩 앤 언로딩 위치(1)로 회전하여 폴리싱 할 웨이퍼를 가져가 폴리싱을 시작하며, 제2 폴리싱 헤드(8)가 폴리싱 완성 후, 제2 폴리싱 헤드는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 회전하여 제2단계의 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 제2 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(15)에 방치하고, 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 폴리싱 패드(9)로 회전하여, 기계 핸드는 폴리싱 완료한 웨이퍼를 가져가는 단계;
    S6: 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 로딩 앤 언로딩 위치(6)로 회전하여 제2 폴리싱 헤드(8)를 클리닝하며, 클리닝 완료한 제2 폴리싱 헤드(8)는 제2 폴리싱 패드(9)로 되돌아가고, 제1 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18)은 제1 로딩 앤 언로딩 위치에서 제1 폴리싱 헤드가 완성할 제1 단계 폴리싱 웨이퍼를 대하여 제1 폴리싱 헤드 회전축은 제1 로딩 앤 언로딩 위치로 되돌아가는 단계;
    S7: 상기 S1 내지 S6 단계를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈로 웨이퍼를 이송하는 방법.
  14. 제2항의 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈을 이용하는 웨이퍼 이송방법에 있어서,
    S1: 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18,15)은 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)에서 폴리싱 헤드(3,8)가 폴리싱을 완성할 웨이퍼를 대기하여 폴리싱 헤드 회전축은 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)로 회전하는 단계;
    S2: 폴리싱 헤드(3,8)를 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)로 회전 후, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18,15)이 상승하여 웨이퍼를 적재하는 단계;
    S3: 폴리싱 헤드(3,8)는 폴리싱 구역으로 되돌아가, 기계 핸드가 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18,15) 위에 폴리싱을 완성한 웨이퍼를 꺼내고, 폴리싱 헤드(3,8)는 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)로 돌아간 후 폴리싱 헤드(3,8)를 클리닝 하는 단계;
    S4: 클리닝 완성 후, 폴리싱 헤드(3,8)는 폴리싱 구역으로 되돌아가, 기계 핸드는 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18,15)에 새로운 폴리싱 웨이퍼를 적재하는 단계;
    S5: 이어서 로딩 앤 언로딩 플랫폰 모듈(18,15)이 상승하여, 폴리싱 헤드(3,8)를 로딩 앤 언로딩 위치(1,6)로 되돌아가, 폴리싱할 웨이퍼를 흡착 후 폴리싱 구역으로 전이하여 폴리싱하고, 로딩 앤 언로딩 플랫폼 모듈(18,15)을 하강하는 단계;
    S6: 상기 S1 내지 S5 단계를 반복하여 전부 웨이퍼 폴리싱을 완료한 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 로딩 앤 언로딩 조립부품 모듈로 웨이퍼를 이송하는 방법.
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