CN208744518U - 一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块 - Google Patents
一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块 Download PDFInfo
- Publication number
- CN208744518U CN208744518U CN201821615178.7U CN201821615178U CN208744518U CN 208744518 U CN208744518 U CN 208744518U CN 201821615178 U CN201821615178 U CN 201821615178U CN 208744518 U CN208744518 U CN 208744518U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- module
- polishing
- handling
- platform
- fixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn - After Issue
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 79
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000007521 mechanical polishing technique Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块,包含一个装卸模块和两个抛光模块,装卸模块居中,两个抛光模块位于其两侧,所述装卸模块在与装卸模块和两个抛光模块排列方向相垂直的方向上有两个装卸位置,分别对应所述两个抛光模块,装卸模块可在两个装卸位置之间来回移动。装卸模块包含直线运动模块、装卸台模块、装卸台固定块,所述直线运动模块固定在固定架上,装卸台固定块固定在直线运动模块的滑动块上,直线运动模块可以使装卸台模块在两个装卸位置即第一装卸位置和第二装卸位置之间来回移动。本实用新型通过装卸台模块的移动,省却了抛光头转回对应抛光垫上方后再转回来清洗,可以节省传输时间,显著提高了效率。
Description
技术领域
本实用新型属于磨削或抛光装置技术领域,具体涉及一种半导体集成电路芯片制造过程中使用的化学机械平坦化设备的抛光装卸部件模块。
背景技术
集成电路在各行各业中发挥着越来越非常重要的作用,是现代信息社会的基石。随着半导体行业的飞速发展,集成电路特征尺寸不断趋于微细化,因此半导体薄膜表面的高平坦化对器件的高性能、低成本、高成品率有着重要的影响。
化学机械平坦化(Chemical Mechanical Planarization,CMP)设备是集成电路制造领域的七大关键设备之一。其原理是利用抛光液化学刻蚀和抛光垫机械摩擦的综合平衡作用,对晶圆表面材料进行精细去除。在集成电路制造中,CMP首先被用于芯片制造前道工艺的平坦化、器件隔离、器件构造,其次在芯片制造后道工艺的金属互连也需使用。同时,CMP在集成电路3D封装TSV工艺中也是关键的工艺手段。正是因为具有相对多样且关键的应用,CMP已经成为集成电路制造中的标准工艺和核心装备。
目前,化学机械抛光技术已经发展成集在线量测、在线终点检测、清洗等技术于一体的化学机械抛光技术是集成电路向微细化、多层化、薄型化、平坦化工艺发展的产物。同时也是晶圆由200mm向300mm乃至更大直径过渡、提高生产率、降低制造成本、衬底全局平坦化所必需的工艺技术。
一个典型的化学机械平坦化设备通常包括多个抛光单元以及清洗、晶圆运输、干燥等辅助装置。抛光单元通常包括工作台、抛光盘、抛光头、抛光臂、修整器、抛光液臂等,抛光盘、抛光头、抛光臂、修整器、抛光液臂按照工艺加工位置布置在工作台上。实际的晶圆加工过程中发现,抛光单元与清洗、晶圆运输等模块的空间布置对于化学机械平坦化设备整体的抛光产出有极大的影响。晶圆在抛光单元与外部以及在抛光单元之间的传输通常依靠装卸台或起类似作用的装置来实现。关于装卸台与抛光单元的空间布局,有的采用装卸台与三个抛光单元为正方形布局的形式。由于一个装卸台需要给三个抛光单元提供装卸服务,因此这种技术布局的缺点是工艺过程复杂。另有采用将四个抛光单元并排排列,晶圆传输由位于平坦化设备端部的装卸区和沿抛光单元排列方向设置的两个线性运输机构完成,线性运输机构的另一侧为清洗区。上述每一个线性运输机构为两个抛光单元提供服务,并为每个抛光单元设置两个传输工位,抛光单元的抛光头可以从其中一个传输工位装卸晶圆。但这种布局的缺点是每个抛光单元虽然设置两个传输工位,但抛光过程中抛光单元只从其中一个直接装卸晶圆,因此从晶圆传输效率的角度分析还有需要改进的余地。
实用新型内容
本实用新型目的在于针对现有化学机械平坦化设备中存在的晶圆传输效率低、传输机构结构复杂的问题提出一种化学机械平坦化设备用的一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块,通过将装卸部分和抛光部分进行模块化,可以简化设备结构,提高设备的制造效率,缩小设备的占地空间。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块,包含一个装卸模块和两个抛光模块,装卸模块居中,两个抛光模块位于其两侧,所述装卸模块在与装卸模块和两个抛光模块排列方向相垂直的方向上有两个装卸位置,分别对应所述两个抛光模块,装卸模块可在两个装卸位置之间来回移动。
上述抛光模块包含固定平台,抛光垫,抛光头,抛光转轴,抛光垫位于固定平台上,抛光转轴可带动抛光头旋转至装卸位置。
上述装卸模块包含固定架、水槽、直线运动模块、装卸台模块、装卸台固定块、隔离罩,所述水槽和直线运动模块固定在固定架上,装卸台固定块固定在直线运动模块的滑动块上,装卸台模块固定在装卸台固定块上,并且装卸台固定块下部固定有隔离罩使装卸台下部与液体隔离,直线运动模块可以使装卸台模块在两个装卸位置即第一装卸位置和第二装卸位置之间来回移动。
装卸模块的两个装卸位置上分别设置有第一喷嘴模块和第二喷嘴模块,第一喷嘴模块和第二喷嘴模块都固定在固定台上。
第一喷嘴模块和第二喷嘴模块分别设置在第一装卸位置和第二装卸位置的边缘。
装卸台模块可在垂直方向上上升和下降,与抛光头完成晶圆移转。
与现有化学机械平坦化设备技术相比,本实用新型具有以下有益技术效果:
1,本实用新型通过将装卸部分和抛光部分进行模块化,拼接成一个抛光装卸整体模块,这种布局简化了设备结构,提高了设备的制造效率,并且缩小设备的占地空间。
2,通过装卸台模块的移动,就省却抛光头转回对应抛光垫上方后再转回来清洗,节省了传输时间,提高了效率。
3,通过装卸台模块的位移运动以及清洗部分单独放置,再配合机械手传输晶圆,使得多个抛光模块之间工序实现并联运行,大幅度提高设备的制造效率。
4,抛光装卸整体模块可以根据需要进行自由扩展,可以由三个以及更多的该模块进行拼接,进一步提高晶圆制造的柔性,提高制造效率,缩小设备的空间,增加产量。
附图说明
图1为本实用新型抛光装卸整体模块的立体效果图;
图2为图1所示模块中的装卸模块的结构示意图;
图中使用的附图标记的含义:
1:第一装卸位置,2:第一抛光头转轴,3:第一抛光头,4:第一抛光垫,5:第一固定平台,6:第二装卸位置,7:第二抛光头转轴,8:第二抛光头,9:第二抛光垫,10:第二固定平台,11:水槽,12:第一喷嘴模块,13:直线运动模块,14:第二喷嘴模块,15:装卸台模块,16:装卸台固定块,17:隔离罩,18:固定架。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
本实用新型公开了一种化学机械平坦化设备用的抛光装卸部件模块。本抛光装卸部件模块由1个装卸模块和2个抛光模块组成,布局如图1所示,包含第一装卸位置,第一抛光头转轴2,第一抛光头3,第一抛光垫4,第一固定平台5,第二装卸位置6,第二抛光头转轴7,第二抛光头8,第二抛光垫9,第二固定平台10。
抛光垫,抛光转轴及其他部件组成固定在固定平台上,抛光头固定在抛光转轴上。抛光转轴带动抛光头旋转至装卸位置,完成动作后,旋转至抛光垫上方进行抛光。第一装卸位置对应第一抛光头3,第二装卸位置6对应第二抛光头8。
装卸模块的结构如图2所示,包含:第一装卸位置1,第二装卸位置6,水槽11,第一喷嘴模块12,直线运动模块13,第二喷嘴模块14,装卸台模块15,装卸台固定块16,隔离罩17,固定架18。水槽11和直线运动模块13固定在固定架18上。装卸台固定块16固定在直线运动模块13上,装卸台模块15固定在装卸台固定块16上,并且装卸台固定块16下部固定有隔离罩17使装卸台下部与液体隔离。直线运动模块13可以使装卸台模块15在第一装卸位置1与第二装卸位置6来回移动,在第一装卸位置1与第二装卸位置6边缘对应有第一喷嘴模块12和第二喷嘴模块14。两个喷嘴模块都固定在固定架18上
本实用新型的传输晶圆过程如下:
首先,装卸台模块15停止在第一装卸位置1,等待第一装卸位置1对应的携带已完成第一阶段抛光晶圆的第一抛光头3转移到第一装卸位置1;
装卸台模块15上升接取晶圆,接取晶圆后装卸台模块15直接移动到第二装卸位置6,然后第一装卸位置对应的第一抛光头3在第一装卸位置上部进行清洗。通过装卸台模块15的移动,这样第一抛光头3就不需要转回第一抛光垫4上方后再转回来清洗,因此节省了传输时间,提高了效率。
与此同时,第二抛光头8转移到第二装卸位置6,然后将在第二装卸位置6上的装卸台模块15上的已经抛光好的晶圆取走,机械手再将待抛光的晶圆装载在第二装卸位置6上的装卸台模块15上。
当第一装卸位置对应的抛光头已经清洗完成时,在第二装卸位置6上的装卸台模块15移动至第一装卸位置的第一抛光头3下。随后装卸台模块15上升,第一装卸位置对应的第一抛光头3完成吸附并转移至抛光区域抛光,开始下一片晶圆的抛光。
然后第一装卸位置的装卸台模块15移动至第二装卸位置6,与此同时第二装卸位置6对应的第二抛光头8运动转移到第二装卸位置6上部,装卸台模块15上升,吸取已经抛光完毕的晶圆,吸取完毕后,装卸台模块15由第二装卸位置6移动至第一装卸位置,第二装卸位置6对应的第二抛光头8在第二装卸位置6上部进行清洗。这样的好处是第二抛光头8就不需要转回第二抛光垫9上方后再转回来清洗,因此节省了传输时间,提高了效率。
与此同时,机械手将在第一装卸位置上的装卸台模块15上的已经抛光好的晶圆取走,并装载上待抛光的晶圆,然后装卸台模块15停止在第一装卸位置上等待第一装卸位置对应的第一抛光头3卸载抛光好的晶圆,再次开始循环。
本实用新型的晶圆装载部件结构的优点:通过将装卸部分和抛光部分进行模块化,可以拼接成图1所示布局。此布局简化了设备结构,提高设备的制造效率,缩小设备的占地空间。并且可以根据需要进行自由扩展,可以由3个以及更多的图1所示布局的模块进行拼接,进一步提高晶圆制造的柔性,提高制造效率,缩小设备的空间,增加产量。并且通过装卸台模块15的位移运动以及清洗部分单独放置,再配合机械手传输晶圆,使得多个抛光模块之间工序实现并联运行,大幅度提高设备的制造效率。
以上具体实施方式的描述并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块,其特征在于包含一个装卸模块和两个抛光模块组成,装卸模块居中,两个抛光模块位于其两侧,所述装卸模块在与装卸模块和两个抛光模块排列方向相垂直的方向上有两个装卸位置,分别对应所述两个抛光模块,装卸模块可在所述两个装卸位置之间来回移动。
2.根据权利要求1所述的抛光装卸部件模块,其特征在于所述抛光模块包含固定平台,抛光垫,抛光头,抛光转轴,抛光垫位于固定平台上,抛光转轴可带动抛光头旋转至装卸位置。
3.根据权利要求2所述的抛光装卸部件模块,其特征在于所述装卸模块包含固定架(18)、水槽(11)、直线运动模块(13)、装卸台模块(15)、装卸台固定块(16)、隔离罩(17),所述水槽(11)和直线运动模块(13)固定在固定架(18)上,装卸台固定块(16)固定在直线运动模块(13)的滑动块上,装卸台模块(15)固定在装卸台固定块(16)上,并且装卸台固定块(16)下部固定有隔离罩(17)使装卸台模块下部与液体隔离,直线运动模块(13)可以使装卸台模块(15)在两个装卸位置即第一装卸位置(1)和第二装卸位置(6)之间来回移动。
4.根据权利要求3所述的抛光装卸部件模块,其特征在于所述装卸模块的第一装卸位置(1)和第二装卸位置(6)上分别设置有第一喷嘴模块(12)和第二喷嘴模块(14),第一喷嘴模块(12)和第二喷嘴模块(14)都固定在固定架(18)上。
5.根据权利要求4所述的抛光装卸部件模块,其特征在于所述第一喷嘴模块(12)和第二喷嘴模块(14)分别设置在第一装卸位置(1)和第二装卸位置(6)的边缘。
6.根据权利要求3所述的抛光装卸部件模块,其特征在于所述装卸台模块可在垂直方向上上升和下降,与抛光头完成晶圆移转。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201821537319 | 2018-09-20 | ||
CN2018215373198 | 2018-09-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN208744518U true CN208744518U (zh) | 2019-04-16 |
Family
ID=66085459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201821615178.7U Withdrawn - After Issue CN208744518U (zh) | 2018-09-20 | 2018-09-30 | 一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN208744518U (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109304665A (zh) * | 2018-09-20 | 2019-02-05 | 杭州众硅电子科技有限公司 | 一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块 |
CN110103119A (zh) * | 2018-09-20 | 2019-08-09 | 杭州众硅电子科技有限公司 | 一种抛光装卸部件模块 |
CN111673607A (zh) * | 2020-04-28 | 2020-09-18 | 北京烁科精微电子装备有限公司 | 一种化学机械平坦化设备 |
-
2018
- 2018-09-30 CN CN201821615178.7U patent/CN208744518U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109304665A (zh) * | 2018-09-20 | 2019-02-05 | 杭州众硅电子科技有限公司 | 一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块 |
CN110103119A (zh) * | 2018-09-20 | 2019-08-09 | 杭州众硅电子科技有限公司 | 一种抛光装卸部件模块 |
WO2020057330A1 (zh) * | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 杭州众硅电子科技有限公司 | 一种抛光装卸部件模块 |
CN111673607A (zh) * | 2020-04-28 | 2020-09-18 | 北京烁科精微电子装备有限公司 | 一种化学机械平坦化设备 |
CN111673607B (zh) * | 2020-04-28 | 2021-11-26 | 北京烁科精微电子装备有限公司 | 一种化学机械平坦化设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109304665A (zh) | 一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块 | |
CN109304670A (zh) | 一种柔性的抛光装卸部件模块 | |
TWI806931B (zh) | 化學機械研磨設備 | |
CN208744518U (zh) | 一种包含可移动装卸模块的抛光装卸部件模块 | |
CN203282328U (zh) | 抛光装置以及基板处理装置 | |
US20210323119A1 (en) | High throughput polishing modules and modular polishing systems | |
CN114147611B (zh) | 一种晶圆抛光系统 | |
TWI825934B (zh) | 晶圓拋光系統 | |
CN110103119A (zh) | 一种抛光装卸部件模块 | |
WO2020048311A1 (zh) | 一种化学机械平坦化设备和晶圆传输方法、晶圆平坦化单元 | |
CN111633532A (zh) | 一种具有化学机械抛光单元的基板减薄设备 | |
CN208977580U (zh) | 一种柔性的抛光装卸部件模块 | |
JP2006516825A (ja) | 1つ以上のピボット可能なロード/アンロードカップを使用して半導体ウェーハを研磨するための装置及び方法 | |
TW201722621A (zh) | 拋光機 | |
CN210550361U (zh) | 晶圆平坦化设备研磨头旋转机构 | |
CN110125794A (zh) | 晶圆平坦化设备 | |
CN105328562A (zh) | 一种化学机械研磨方法 | |
CN206527637U (zh) | 基板翻转装置及具备其的化学机械研磨系统 | |
KR20070077979A (ko) | 화학적 기계적 연마 장치 및 이를 이용한 웨이퍼의 연마방법 | |
WO2006026625A2 (en) | Polishing wafers using pivotable load/unload cups | |
JP2002124493A (ja) | 半導体ウェーハの研磨装置 | |
CN202053156U (zh) | 化学机械研磨设备 | |
WO2023009116A1 (en) | High throughput polishing modules and modular polishing systems | |
CN114454085A (zh) | 一种化学机械抛光方法及抛光系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
AV01 | Patent right actively abandoned | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20190416 Effective date of abandoning: 20200827 |