KR102569151B1 - 피가공물 컨테이너 시스템 - Google Patents

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밍-치엔 치우
치아-호 추앙
싱-민 웬
신-민 슈에
슈-훙 린
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구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드
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Abstract

본 개시는 보관 조립체를 포함하는 피가공물(workpiece) 컨테이너 시스템을 개시한다. 보관 조립체는 시트 부재와 시트 커버를 포함한다. 시트 부재는 그 중심 영역을 에워싸고 피가공물을 수용하도록 구성된 피가공물 수용 영역을 획정하고; 시트 부재 상에서 기하학적 중심 영역에서 오프셋된 피가공물의 평면 투영부 내에 하부 확산 유도 구성요소가 마련된다. 시트 커버는 시트 부재와 협동하여 피가공물을 수용하는 엔클로져를 형성하도록, 그 피가공물 수용 영역 주위의 둘레 영역에서 시트 부재와 맞물리도록 구성되며; 시트 커버 상에서 피가공물의 평면 투영부 위에 상부 확산 유도 구성요소가 마련되고, 이 상부 확산 유도 구성요소는 투영 상태로 볼 때에 시트 부재의 기하학적 중심 영역과 중첩된다.

Description

피가공물 컨테이너 시스템{WORKPIECE CONTAINER SYSTEM}
관련출원에 대한 교차참조
본 출원은 2021년 2월 5일자로 출원된 미국 출원 제17168207호 및 2020년 9월 30일자로 출원된 대만 특허 출원 제109134304호의 이익을 주장하며, 상기 미국 출원 및 대만 특허 출원은 참조에 의해 본 명세서에 포함되어, 본 명세서의 일부를 구성한다.
기술분야
본 개시는 포토마스크, 레티클(reticle) 및 웨이퍼와 같은 취약한 물체를 보관, 이송, 선적 및 처리하기 위한 컨테이너에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 극자외선(Extreme UltraViolet; EUV) 리소그래피 프로세스용의 레티클을 보관, 이송, 선적 및 처리하기 위한 유지 시스템에 관한 것이다.
반도체 산업에서, 피가공물 컨테이너(예컨대, 포토마스크/레티클 리테이너)는 잠재적인 주변 위험으로부터의 피가공물의 보호 수준을 높이기 위한 요구 사항을 충족시키기 위해 탑재 하중(payload)의 정밀도 요건이 증대되도록 발전되어 왔다.
예컨대, 새로운 세대의 레티클 리테이너에는 종종 이중 포드(dual-pod) 구성이 마련되며, 이중 포드 구성은 레티클을 수용/보관하기 위한 보관 조립체(예컨대, 내측 포드 유닛)와, 보관 조립체를 수용/이송하기 위한 이송 조립체(예컨대, 외측 포드 유닛)를 포함한다. 이송 중에, 레티클은 보관 조립체 내부에 패킹(packing)될 수 있다. 보관 목적으로, 내부에 레티클을 수용하는 컨테이너 시스템은 (예컨대, 대기 환경 하의 로봇에 의해) 외측 포드 개방 기구로 이송될 수 있다. 그 후, 이송 조립체는 개방 기구에 의해 개방될 수 있고, 이에 따라 이송 조립체로부터 보관 조립체의 회수가 가능하다. 다음에, 내측 포드가 (예컨대, 진공 환경 하에서 로봇에 의해) 진공 레티클 라이브러리로 운반되어, 이 라이브러리 내에 보관될 수 있다. 리소그래피 프로세스를 실행하기 위해, 보관 조립체는 수용된 레티클을 채용하는 후속하는 노광 프로세스 이전에 노광 장치 내부의 지정 위치에 도달할 시에 개방될 수 있다.
그러나, 피가공물을 보관/이송하기 위해 컨테이너 시스템을 사용하는 경우, 보관 조립체 내부에는 미립자 오염물, 가스상 오염물(예컨대, 탈가스 또는 습기), 또는 공기 중 분자 오염물(Airborne Molecular Contaminants; AMC)이 존재할 수 있다. 오염물은 수용된 피가공물에 악영향을 줄 수 있다. 따라서, 컨테이너 시스템을 위한 오염 제어 기구가 필요하다.
본 개시의 열거된 특징들이 상세하게 이해될 수 있도록, 위에서 간략하게 요약한 본 개시를 첨부 도면에 그 일부가 도시되어 있는 실시예를 참고하여 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 첨부 도면은 본 개시의 단지 전형적인 실시예를 예시하는 것에 불과한 것으로, 본 개시의 범위를 제한하는 것으로 고려되어서는 안 되며, 본 개시에 대해 동등한 효과를 갖는 기타 실시예도 인정될 수 있다는 점을 유념해야 한다.
도 1은 본 개시의 일부 실시예에 따른 피가공물 컨테이너 시스템의 개략적인 단면도.
도 2a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 피가공물 컨테이너 시스템의 등각도.
도 2b는 본 개시의 일부 실시예에 따른 피가공물 컨테이너 시스템의 개략적인 단면도.
도 3은 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 부재의 등각 분해도.
도 4는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 구성요소의 등각 분해도.
도 5는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 평면도.
도 6a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 개략적인 단면도.
도 6b는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 개략적인 분해도.
도 7은 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 평면도.
하지만, 첨부된 도면은 단지 본 개시의 예시적인 실시예를 도시하는 것으로, 본 개시의 범위를 제한하는 것으로 고려되어서는 안 되며, 본 개시에 대해 동등한 효과를 갖는 기타 실시예도 인정될 수 있다는 점을 유념해야 한다.
상기 도면은 어떤 예시적인 실시예에서 사용된 방법, 구조 및/또는 재료의 일반적인 특성을 설명하고, 이하에서 주어진 설명을 보충하고자 하는 것이라는 점을 유념해야 한다. 그러나, 이들 도면은 축척대로 도시되지 아니하였으며, 주어진 임의의 실시예의 정확한 구조나 성능 특성을 정확하게 반영하지 않을 수 있으며, 예시적인 실시예에 의해 포괄되는 값이나 성질의 범위를 한정하거나 또는 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 예컨대, 층, 영역 및/또는 구조적 요소들의 상대적인 두께 및 위치 설정은 명료성을 위해 축소되거나 과장될 수 있다. 다양한 도면에 있어서 유사하거나 동일한 참조 부호의 사용은 유사하거나 또는 동일한 요소 또는 피쳐(feature)의 존재를 나타내고자 하는 것이다.
본 개시는 이제 개시의 예시적 실시예를 나타내고 있는 첨부 도면을 참조하여 더욱 완벽하게 설명될 것이다. 그러나, 본 개시는 여러 상이한 형태로 구현될 수 있고, 여기에 기술되는 예시적인 실시예로만 제한되는 것으로 이해해서는 안 된다. 오히려, 그러한 예시적인 실시예는 본 개시가 철저하고 완전해지고, 당업자들에게 본 개시의 범위를 완전하게 전달할 수 있도록 제공된다. 유사한 참조 부호는 전체적으로 유사한 요소들을 가리킨다.
본 명세서에서 사용된 용어는 오직 특정의 예시적 실시예를 설명하기 위한 것이며, 본 개시를 한정하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같은 단수 표현들은 문맥에서 달리 명시적으로 나타내지 않는다면, 복수의 형태도 포함하고자 한 것이다. 또한, 본 명세서에서 사용될 때 "포함한다" 및/또는 "포함하는" 또는 "구비하다" 및/ 또는 "구비하는" 또는 "갖는다" 및/또는 "갖는"이라는 용어들은 언급한 피쳐, 영역, 정수, 단계, 작동, 요소 및/또는 구성요소들의 존재를 기술하는 것이지, 하나 이상의 다른 피쳐, 영역, 정수, 단계, 작동, 요소, 구성요소, 및/또는 그 그룹의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
달리 정의하지 않은 한, 본 명세서에 사용된 기술적 및 과학적 용어를 포함하는) 모든 용어는 본 개시가 속하는 기술분야의 당업자들에 의해 공통적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다. 또한, 일반적으로 사용되는 사전에 정의된 바와 같은 용어는 관련 기술 및 본 개시의 맥락에서의 그 의미와 일관된 의미를 갖는 것으로서 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명시적으로 규정되지 않는 한 이상적이거나 지나치게 형식적인 의미로 해석되지 말아야 한다는 것이 이해될 것이다.
상세한 설명은 첨부된 도 1 내지 도 7의 도면과 관련한 예시적인 실시예로 이루어질 것이다. 본 개시를 상세히 설명하기 위하여 도면을 참조하며, 도시한 요소들은 반드시 축척대로 도시하지 않았으며, 동일 또는 유사한 요소들은 다수의 도면에 걸쳐 동일 또는 유사한 참조 부호와 동일 또는 유사한 기술 용어들로 나타낸다.
도 1은 본 개시의 몇몇 실시예에 따른 피가공물 컨테이너 시스템의 개략적인 단면도를 예시한다. 도시의 간략화와 명료화를 위해, 예시적 디바이스의 일부 상세/하위 구성요소들은 본 도면에서 명시적으로 참조 부호를 부여받거나 도시되지 않을 수 있다.
도 1을 참고하면, 예시적인 피가공물 컨테이너 시스템(100)은 피가공물(예컨대, 레티클)을 보관하도록 구성된 내측 포드[예컨대, 보관 조립체(120)]와, 보관 조립체(120)를 수용하도록 구성된 외측 포드[예컨대, 이송 조립체(110)]를 포함한다.
예시한 실시예에서, 보관 조립체(120)는, 밀폐 시에 피가공물[예컨대, 레티클(R1)]을 수용하는 내부 체적을 협동하여 형성하도록, 시트 부재(122)와, 이 시트 부재(122)와 맞물리도록 구성된 시트 커버(121)를 포함한다.
시트 부재(122)는 반도체 장치의 로봇 아암에 의해 한 챔버에서 다른 챔버로 이송 가능하게 구성된다. 예컨대, 예시적인 시트 부재(122)에는 보관부(125)[예컨대, 피가공물(R1)이 수용/지지되는 중앙부]와, 보관부(125)로부터 측방향 외측으로 연장되는 한 쌍의 플랭크부(126)가 형성된다. 보관부(125)에는 피가공물을 수용하기 위한 피가공물 수용면(122a)이 마련된다. 예시한 실시예에서, 시트 부재(122)에는, 레티클(R1)을 지지하기 위해 보관부(125)의 상부면 상에 배치되는 지지 요소[예컨대, 지지 포스트(124)]가 더 마련된다. 한 쌍의 플랭크부(126)는 보관부(125)의 양 측부에 배치된다. 본 절결도에서, 플랭크부(126)에는 보관부(125)보다 얇은 두께가 제공된다. 상기한 두께 차는 시트 부재(122)의 에지부 근처에 단차형 프로파일을 생성한다. 단차형 프로파일 쌍은 포크형 구조를 갖는 로봇 아암과의 접촉 인터페이스로서 기능하도록 구성된다. 상기한 구성으로 인해, 시트 부재(122)는 포크형 아암에 의해 측방향으로 유지되고 수직방향으로 지지된다.
일부 시나리오에서, 보관된 피가공물은 기판[예컨대, 극자외선 리소그래피 레티클(R1)]일 수 있다. 리소그래피 프로세스 동안에 기능면에 대한 손상 또는 포토레지스트층에 투영되는 이미지에 대한 왜곡을 방지하도록, 레티클(R1)의 기능면[즉, 마스크 레이아웃 패턴을 호스팅(hosting)하는 하향면]이 오염물이 없는 상태로 유지되는 것이 필수적이다.
몇몇 실시예에서, 시트 커버(121)는 시트 부재와 협동하여 피가공물을 수용하는 엔클로져를 형성하도록 그 피가공물 수용 영역(122a) 주위의 둘레 영역에서 시트 부재(122)와 맞물리도록 구성된다. 민감하고 취약한 피가공물을 보관 조립체(120) 외부의 입자/오염물로부터 보호하기 위해, 시트 부재(122)와 시트 커버(121)의 맞물림이 소정 기밀도로 이루어질 수 있다. 더욱이, 그 민감하고 취약한 내용물을 철저히 보호하기 위해, 시트 커버(121)와 시트 부재(122)에는 전자기 인터페이스(ElectroMagnetic Interference; EMI) 차폐 특성이 제공될 수 있다. EMI 차폐 능력을 제공하기에 적합한 재료로는 금속과 같은 도전성 재료가 있을 수 있다. 몇몇 실시예에서, 시트 부재(122)와 시트 커버(121)는 거의, 알루미늄과 같은 금속으로 형성된다. 몇몇 실시예에서, (구리 또는 금과 같은) 금속 코팅과 같은 표면 처리, 소수성 처리 및/또는 친수성 처리가 보관 조립체(120)의 표면의 선택적 영역에 더욱 제공될 수 있다.
상기한 미립자 오염물 이외에, 실링(sealing)된 보관 조립체 내부에는 가스상 오염물 또는 공기 중 분자 오염물(AMC)이 존재할 수 있다. 보관 조립체가 실링식으로 맞물릴 수 있다하더라도, 피가공물이 프로세싱 중에 컨테이너 시스템 내부로부터 제거되고, 컨테이너 시스템 내에 재배치될 때에 공기가 보관 조립체 내로 진입할 가능성이 있다. 예컨대, 공기 중의 수분이 보관 조립체(120) 내에서 확인될 수 있다. 적절한 이슬점 온도에서, 수분의 일부가 공기로부터 응결되어, 레티클(R1) 상에 퇴적될 수 있다. [NH3(암모니아) 및 SO2(이산화황)과 같은] 가스상 또는 증기 오염의 다른 소스는 포토마스크 수명 중에 레티클/포드 세정 공정으로부터 나온 용매 잔여물이다. 이들 화학물과 수분의 일부는 석영으로 형성된 레티클 상의 헤이즈(haze) 형성을 촉진할 수 있다. 레티클(R1)의 패턴화된 표면 상에 헤이즈 형성 및/또는 수증기 응결은 광학계를 간섭할 수 있고, 이는 리소그래피 프로세스 중에 반도체 웨이퍼 상에 전사되는 패턴의 왜곡을 초래할 수 있다.
예시적인 내측 포드(120)에는, 내측 포드(120)로부터 가스상 오염물 또는 공기 중 분자 오염물의 감소 또는 제거를 가능하게 하는 하나 이상의 확산 유도 구성요소[예컨대, 구성요소(127, 128, 129)]가 마련된다. 예컨대, 확산 유도 구성요소를 마련함으로써, (예컨대, 보관 조립체 내부의 습도가 실질적으로 주위 습도보다 높은 경우 또는 시스템이 세정 건조 공기로 퍼지되는 경우) 보관 조립체로부터 외부 환경으로의 수분 확산이 가능하다.
내부 수분은 하나 이상의 확산 유도 구성요소를 통해 내측 포드(120) 밖으로 확산 가능할 수 있다. 이와 같이, 레티클 상의 물 퇴적 또는 헤이즈 형성이 완화될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 확산 유도 구성요소는 보관 조립체의 커버/베이스 상에 형성되고, 내측 포드의 내부와 외부 사이의 유체 연통을 가능하게 하는 복수 개의 채널/포트/관통 구멍을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 확산 유도 구성요소는 필터 요소를 더 포함할 수 있는데, 이 필터 요소는 미립자 오염물이 확산 유도 구성요소를 통과하는 것을 방지하도록 구성된다.
보관 조립체(120)에 있는 커버 유닛[예컨대, 커버 부재(121)]의 상향면이 상부 확산 유도 구성요소[예컨대, 수용된 피가공물 위에 배치되는 확산 유도 구성요소(129)]를 위한 알맞은 위치에 있긴 하지만, 상부 장착 확산 부재는 특정 어플리케이션에서는(특히 피가공물의 저부 페이스 주위의 영역에서는) 충분한 습기 추출 효율을 제공하지 않을 수 있다.
예컨대, 몇몇 실시예에서, 시트 부재(122)의 상부면과 수용된 피가공물의 저부 페이스 간의 거리는 조립 시에 0.3 mm 이하이다. 협소한 거리는 피가공물 아래의 공기 흐름 유도에 유리하지 않을 수 있다. 이와 같이, 피가공물 아래의 수분과 같은 가스상 오염물이 상부 장착 확산 부재를 향해 피가공물 위로 이동하는 게 어려울 수 있다.
확산 효율을 더욱 증대시키기 위해, 예시적인 실시예의 시트 부재(122)에는, 피가공물 아래에 배치되는 하부 확산 유도 구성요소(127)가 마련된다. 상기한 구성은 증대된 추출 효율을 위해 피가공물 아래의 수분의 확산을 용이하게 한다.
예시한 실시예에서, 이송 조립체(110)는 시트 부재(122)를 수용하도록 구성된 외측 베이스(112)와, 이 외측 베이스(112)[그리고 보관 조립체(120)]와 맞물리도록 구성된 외측 커버(111)를 포함한다. 몇몇 실시예에서, 외측 베이스(112)와 외측 커버(111) 중 어느 하나 또는 양자 모두에는, 보관된 피가공물이나 보관 조립체 상에 축적된 전하의 해제를 가능하게 하는 정전하 소산 특성이 제공될 수 있다. 예컨대, 몇몇 실시예에서 외측 포드(110)는 도전성 섬유와 혼합되는 폴리머 재료로 구성될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 외측 커버(111)와 외측 베이스(112) 중 어느 하나 또는 양자 모두는 탄소 섬유가 매립된 수지 재료로 형성된다.
몇몇 실시예에서, 외측 포드(110)에는, 소스에서 나온 세정 건조 공기(CDA), 여분의 CDA 또는 (질소와 같은) 건조 불활성 가스의 진입을 허용하도록 구성된 하나 이상의 가스 유입 포트(도시하지 않음)가 더 마련될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 외측 포드(110)에는, 외측 포드(110) 내부에 있는 가스의 감소 또는 제거를 가능하게 하도록 구성된 하나 이상의 가스 유출 포트가 더 마련될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 가스 유입 및/또는 유출 포트에는, 포트 내부의 흐름을 제어하도록 구성된 밸브가 더 마련될 수 있다.
몇몇 실시예에서, 피가공물을 압박/유지하기 위해 시트 커버(121)의 상부면 상에 압박 유닛[예컨대, 홀드다운 핀(hold down pin)(141)]이 제공될 수 있다. 예시적인 외측 포드(110)에는, 보관 조립체(120)의 홀드다운 핀(141)에 대응하게 배치되는 가압 요소(171)가 더 마련된다. 외측 커버(111)가 외측 베이스(112)에 커플링될 때, 가압 요소(171)는 피가공물(R1)을 압박/유지하도록 홀드다운 핀(141)을 가압하여, 피가공물이 수용되었을 때에 피가공물의 움직임을 억제한다.
예시한 실시예에서, 가압 요소(171)는 홀드다운 핀(141)을 그 노출 부분[예컨대, 홀드다운 핀(141)의 상부면]에서 가압하도록 구성된다. 예시한 실시예에서, 홀드다운 핀(141)(예컨대, 그 압력 수용면의 노출 부분)의 투영된 영역의 폭은 가압 요소(171)의 그것보다 작다.
몇몇 실시예에서, 가압 요소(171)와 홀드다운 핀(141)에는 전하 소산 특성이 더 제공된다. 따라서, 외측 커버(111)가 외측 베이스(112)에 커플링될 때, 가압 요소(171)가 홀드다운 핀(141)을 가압하여 피가공물(R1)을 압박하고, 수용된 피가공물(R1)로부터 홀드다운 핀(141)과 가압 요소(171)를 통해 외측 커버(111)로의 전하 소산 경로(이 도면에서 음영 화살표로 나타냄)를 형성한다. 몇몇 공정 시나리오에서, 외측 커버(111)는 수용된 피가공물(R1)에 축적된 전하가 전하 소산 경로를 통해 그라운드로 소산되도록 하기 위해 접지될 수 있다. 홀드다운 핀(141)을 위한 재료는 도전성 또는 전하 소산 재료를 포함할 수 있고, 이에 의해 홀드다운 핀(141)을, 이를 통한 접지를 가능하게 하도록 전하 소산 경로의 부분으로 형성할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 홀드다운 핀(141)과 가압 요소(171)에는 약 106 내지 1011 Ω 범위의 표면 저항값이 제공된다. 몇몇 실시예에서, 홀드다운 핀(141)과 가압 요소(171)에는 약 105 Ω 미만의 표면 저항값이 제공된다.
예시한 실시예에서, 외측 포드(110)는, 외측 베이스(112) 상에 배치되고 보관 조립체(120)를 지지하도록 구성된 지지 구조체(190)를 더 포함한다. 지지 구조체(190)는 외측 베이스(112)와 일체로 형성될 수도 있고, 외측 베이스(112) 상에 장착될 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 보관 조립체(120)의 지지 요소(124)와 외측 포드(110)의 지지 구조체(190)에는 전하 소산 특성이 더 제공된다. 따라서, 외측 커버(111)가 외측 베이스(112)에 커플링될 때[그리고 이에 따라 시트 부재(122) 상의 지지 요소(124)가 피가공물(R1)과 접촉할 때], 수용된 피가공물(R1)로부터 지지 요소(124), 시트 부재(122) 및 지지 구조체(190)를 통해 외측 베이스(112)로의 전하 소산 경로(이 도면에서 음영 화살표로 나타냄)가 형성될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 지지 요소(124)와 지지 구조체(190)는 약 106 내지 1011 Ω 범위의 표면 저항값을 갖는다. 몇몇 실시예에서, 지지 요소(124)와 지지 구조체(190)는 약 105 Ω 미만의 표면 저항값을 갖는다.
계속해서 도 1을 참고하면, 예시적인 시스템은 레티클(R1)의 관찰을 가능하게 하도록, 시트 부재(122)의 피가공물 수용 영역(122a)에 형성된 제1 관찰 구역(Z11)을 갖는다. 몇몇 실시예에서, 제1 관찰 구역(Z11)에는 신호 전달 구조체(예컨대, 개구 또는 신호 전달 부재)를 포함하는 윈도우가 마련될 수 있다. 예컨대, 예시적인 시트 부재(122)는 제1 관찰 구역(Z11)에 배치되는 내측 광학 부재(1221)를 포함한다. 몇몇 실시예에서, 내측 광학 부재(1221)는 적외광, 가시광 또는 자외광에 대한 신호 전달 재료로 형성될 수 있다. 내측 광학 부재(1221)의 적절한 재료는 유리(예컨대, 석영 유리), 아크릴, 투명 플라스틱 또는 다른 동등한 재료를 포함할 수 있다. 예시한 실시예에서, 내측 광학 부재(1221)는 시트 부재(122)[피가공물 수용 영역(122a]에 매립식으로 배치되는 석영 유리 조각을 포함할 수 있다.
예시한 실시예에서, 제1 관찰 구역(Z11)은 레티클(R1)(개략도에 명시적으로 도시하지 않음)의 수용 시에 레티클(R1)의 식별 피쳐(예컨대, 1-D 또는 2-D 바코드)의 관찰을 가능하게 하도록 이에 상응하게 구성된다. 몇몇 실시예에서, 레티클(R1)의 식별 피쳐는 레티클의 윈도우 대향면 상에 그리고 제1 관찰 구역(Z11)으로부터 볼 수 있도록 형성된다.
예시한 실시예에서, 외측 베이스(112)는 제2 관찰 구역(Z12)이 이 베이스 상에 형성된다. 제2 관찰 구역(Z12)은 보관 조립체(120)의 제1 관찰 구역(Z11)과 관찰 가능하게 정렬되도록 배치된다. 이와 같이, 컨테이너 시스템(100)에 유지된 레티클(R1)의 신속한 육안 식별 또는 광학적 확인[예컨대, 레티클(R1)의 상태 및 식별]은 외측 포드를 개방할 필요 없이 제2 관찰 구역(Z12) 및 제1 관찰 구역(Z11)을 통한 광 스캐닝에 의해 달성될 수 있다. 따라서, 포드 개방 빈도는 반도체 제조 프로세스 동안에 감소될 수 있으며, 이는 결국 잠재적으로 해로운 환경 요인에 민감한 정밀 피가공물을 노출시키는 것을 최소화한다.
예시한 실시예에서, 외측 베이스(112)는 시트 부재(122)를 지지하도록 구성되는 상부 데크(112a)와, 이 상부 데크(112a) 반대측의 하부 데크(112b)를 포함하는 중공형 본체를 갖는다. 몇몇 실시예에서, 예시적인 상부 데크(112a)와 하부 데크(112b) 양자 모두에는 거의 수평의 플레이트의 구조가 제공될 수 있다. 예시적인 하부 데크(112b)는 상부 데크(112a)를 실링하도록 구성된다. 몇몇 실시예에서, 하부 데크(112b)와 상부 데크(112a)는 일체로 형성된다. 예시적인 제2 관찰 구역(Z12)에는, 상부 데크(112a)와 하부 데크(112b) 각각에 배치되는 2개의 중첩하는 신호 전달 구조체[예컨대, 외측 광학 부재(1121)]를 포함하는 윈도우가 마련된다.
몇몇 실시예에서, 상부 데크(112a) 및/또는 하부 데크(112b)에 매설되는 외측 광학 부재(1121)는 적외광, 가시광 또는 자외광에 대한 신호 전달 재료로 형성될 수 있다. 외측 광학 부재(1121)의 적절한 재료는 유리(예컨대, 석영 유리), 아크릴, 투명 플라스틱 또는 동등한 재료를 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 외측 광학 부재(1121)의 투과율값은 전술한 스펙트럼 범위 중 하나 이상에서의 광 신호에 대하여 80 %를 상회한다. 특정 어플리케이션 요건에 따라, 몇몇 실시예에서 광학 부재(예컨대, 외측 광학 부재 및/또는 내측 광학 부재)는 오목면/볼록면을 포함할 수 있다.
몇몇 실시예에서, 내측 광학 부재(1221)는 600 nm 내지 950 nm 범위의 파장에 관하여 외측 광학 부재(1121)보다 낮은 반사율값을 갖는다. 몇몇 실시예에서, 광학 부재를 위한 대응하는 파장 범위는 약 630 nm 내지 930 nm 범위일 수 있다. 몇몇 실시예에서, 전술한 파장 범위에 대한 외측 광학 부재(1121)의 반사율값은 15 % 미만일 수 있다. 몇몇 실시예에서, 전술한 파장 범위에 대한 내측 광학 부재(1221)의 반사율값은 0.5 % 미만일 수 있다. 몇몇 실시예에서, 내측 광학 부재(1221)에는 반사 방지 코팅이 더 마련될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 내측 광학 부재(1221)에는 EMI 차폐 특성을 갖는 층이 더 마련될 수 있다.
먼지 억제 및/또는 방진 요건이 엄격한 몇몇 실시예에서, 외측 베이스(112)에 있는 제2 관찰 구역(Z12)의 외측 광학 부재(1121)에는 유사한 실링 메커니즘이 마련될 수 있다. 그러나, 내측 실링만으로 충분한 어플리케이션에서, 외측 광학 부재(1121)는 구조적 복잡성, 중량 및 비용 우려의 감소를 위해 실링 메커니즘을 사용하지 않고 구성될 수 있다.
몇몇 실시예에서, 외측 베이스의 저부 페이스 전체가 제2 관찰 구역으로서 작용하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 외측 광학 부재는 외측 베이스의 저부 전체를 차지할 수 있다.
도 2a와 도 2b를 동시에 참고하기 바란다. 도 2a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 피가공물 컨테이너 시스템의 등각도를 예시한다. 도 2b는 본 개시의 일부실시예에 따른 피가공물 컨테이너 시스템의 개략적인 단면도를 예시한다. 도시의 간략화와 명료화를 위해, 예시적인 디바이스에 관한 일부 상세/하위 구성요소는 본 도면에서 명시적으로 참조 부호를 부여받거나/도시되지 않을 수 있다.
도 2a를 참고하면, 예시적인 보관 조립체(220)는, 협동하여 기판[예컨대, 레티클(R2)]을 수용하기 위한 내부 체적을 형성하도록 구성된 시트 부재(222)와 시트 커버(221)를 포함한다. 예시한 실시예에서, 시트 부재(222)는 그 기하학적 중심 영역(C)을 통과하는 종축(L2)을 획정하는 거의 직사각형 프로파일을 갖는다. 시트 부재(222)는 보관부(225)와, 종축(L2)을 따라 연장되는 한 쌍의 플랭크부(226)를 포함한다. 예시적인 플랭크부(226)는 감소된[예컨대, 보관부(225)보다 얇은] 두께를 갖는다. 예시한 실시예에서, 예시적인 시트 부재(222)의 상부 페이스는 피가공물 수용 영역(222a)과, 피가공물 수용 영역을 둘러싸는 둘레 영역(222b)을 획정한다. 시트 커버(221)와 시트 부재(222)를 위한 적절한 재료 및/또는 코팅은 전술한 실시예에서 설명한 것과 유사할 수 있다.
몇몇 실시예에서, 시트 커버(221)는 밀폐 시에 외측 포드[예컨대, 이송 조립체(120)]로부터의 압력을 통해 시트 부재(222)와의 압박식 맞물림을 형성하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 시트 커버(221)와 시트 부재(222) 간의 압박식 맞물림은 실질적으로 평면형 금속간 인터페이스를 통해 형성된다. 예시한 실시예에서, 금속 인터페이스는 시트 부재(222)의 둘레 영역(222b) 상에 형성된다. 일반적으로, 압박식 맞물림은 먼지와 습기가 보관 조립체(220)의 상부 부재와 하부 부재 사이의 접촉 인터페이스를 통해 진입하는 것을 방지하는 실링 밀폐를 형성한다. 몇몇 실시예에서, 시트 커버와 시트 부재 중 어느 하나 또는 양자 모두에는, 주위 오염에 대한 제지 능력을 더욱 향상시키기 위해 각각의 맞물림 인터페이스 영역에 추가의 실링 요소(예컨대, 실링 가스켓 또는 O링)가 마련될 수 있다.
하부 확산 유도 구성요소가 피가공물 수용 영역에 있는 시트 부재(222)의 보관부(225)에 마련되고, 보관 조립체의 내부로부터 피가공물(R2) 아래에 있는 가스상 오염물의 추출을 가능하게 하도록 구성된다. 수용된 레티클(R2)의 패턴 영역(P) 아래에 있는 가스상 오염물이 효율적으로 감소될 수 있을 것으로 예상된다. 예시한 실시예에서, 하부 확산 유도 구성요소에는, 피가공물(R2)의 패턴 영역(P)에 있는 평면 투영부(예컨대, z-방향을 따른, 본 도면에 나타낸 x-y 평면에 대한 투영부) 내에 배치되는 복수 개의 확산 포트 조립체(227a)가 형성된다.
보관부(225) 상에서의 확산 포트 조립체(227a)의 배치 위치는 중량 분포, 구조적 무결성, 디바이스 구성요소의 전체 중량 제한과 같은 다양한 인자를 고려할 수 있다. 우선 첫번째로, 예시적인 확산 포트 조립체(227a)가 그 기하학적 중심 영역(예컨대, 영역 C)으로부터 오프셋되어 시트 부재(222) 위의 피가공물 수용 영역에 배치된다. 확산 포트 조립체의 중심에서 벗어난 배치로 인해, 중심 영역의 재료가 원래 상태로 유지될 수 있고, 이에 의해 시트 부재(222)의 전체적인 구조적 무결성이 (예컨대, 열팽창, 기계 가공 중의 뒤틀림 등에 대하여) 보다 양호하게 유지될 수 있으며, 질량 분포가 보다 양호한 전체 밸런스를 위해 그 기하학적 중심 측에 더 근접하게 유지될 수 있다. 추가로, 예시적인 확산 포트 조립체의 위치는 윈도우 및 기판 지지 메커니즘과 같은 다른 미리 지정된 기능적 구성요소를 피한다. 몇몇 실시예에서, 기하학적 중심 영역(C)에는 약 25 내지 30 mm의 폭/반경 형태가 제공된다.
예시한 실시예에서, 시트 커버(221)에는 (예컨대, 그 상부면 위에) 주위와 [피가공물(R2) 위에 있는] 보관 조립체(220)의 내부 체적 사이의 유체 연통을 가능하게 하는 상부 확산 유도 구성요소(229)가 마련된다. 따라서, 피가공물(R2) 위에 있는 가스상 오염물 또는 공기 중 분자 오염물의 추출 또는 감소가 마이크로 유체 유동 효과(예컨대, 대류 또는 확산)를 통해 달성될 수 있다.
도 2b를 함께 참고하면, 피가공물(R2)은 시트 부재(222')와 시트 커버(221')를 포함하는 내측 포드(220')에 수용된다. 상부 확산 유도 구성요소(229/229')의 배치 위치는 피가공물(R2)의 상부면 위에서의 먼지/가스상 오염물 제거의 효율에 영향을 줄 수 있다. 예컨대, 예시적인 상부 확산 유도 구성요소(229/229')는, 시트 커버(222)의 기하학적 중심 영역 위를 덮는 대체로 원형의 확산 포트 패턴을 획정한다. 예시적인 시트 커버(221)와 시트 부재(222)의 기하학적 중심이 실질적으로 정렬되기 때문에, 상부 확산 포트[예컨대, 구성요소 229/229']는 폐쇄 시에 투영 상태로 볼 때에 시트 부재(222)의 기하학적 중심 영역과 중첩된다. 확산 포토의 중심 중첩 배치는 일반적으로 보다 큰 평면형 크기를 지닌 필터막의 수용을 가능하게 한다. 추가로, 예시적인 상부 확산 유도 구성요소(229/229')는 그 중심 영역 위에서 피가공물(R2)과 완전히 중첩되게 배치된다.
테스트 결과, 확산 포트(예컨대, 구성요소 229/229')의 중앙 배치는 증대된 세정 효율을 촉진하는 것으로 확인되었다. 예컨대, 상부 확산 포트의 실질적인 중앙 배치는 상부 확산 유도 구성요소(229/229')를 통과하는 대부분의 내향 가스 흐름(예컨대, 자연 확산에 의하거나 CDA 퍼징을 통한 강제 유입 가스 흐름)이 피가공물의 상부면의 중앙 영역 측으로 지향되게 한다. 이와 같이, 피가공물(R2)의 상부페이스 위에 있는 가스상 오염물이 보다 효율적으로 피가공물(R2)로부터 쓸려나갈 것이다. 더욱이, 상부 확산 포트의 실질적으로 기하학적 대칭 배치는 보다 균일한 방식으로 피가공물 위에 있는 오염물을 제거하는 것을 가능하게 한다. 예컨대, 예시한 실시예에서 상부 확산 유도 구성요소(229)는 그 중심 영역이 투영 상태로 볼 때에 시트 부재(222)의 중심 영역(C)과 중첩되도록 배치된다. 상기한 확산 포트의 중심 배치는 가능한 최대 평면형 영역을 지닌 필터막의 활용을 가능하게 하고, 이에 의해 확산 효율 및 세정 균일도를 증가시킨다.
(도 2a에 도시한 바와 같은) 몇몇 실시예에서, 시트 커버(221)의 측벽(221a)에는, 복수 개의 공기 흐름 채널(228)과, 공기 흐름 채널(228)을 덮도록 배치된 적어도 하나의 필터 부재(228a)가 더 마련된다.
작동 사용 중에(예컨대, 컨테이너 시스템이 습식 세정/세척된 후), 그 내측면에는 물 잔여물이 있을 수 있다. 물 잔여물은 먼지를 끌어당기고, 이에 따라 수용된 피가공물의 오염 가능성을 증가시킬 수 있다. 보관 조립체의 표면 특징을 변경하는 것에 의해, 보관 조립체는 세정 후에 보다 용이하게 건조될 수 있다. 따라서, 세정 후의 베이킹/건조 프로세스로 인한 정지 시간이 감소될 수 있다. 더욱이, 보관 조립체(220)의 표면 처리(예컨대, 소수성 처리)는 미세 먼지의 정지 마찰을 줄일 수 있고, 미세 먼지를 씻어내는 것을 보다 용이하게 할 수 있으며, 이에 의해 보관 조립체의 방진 능력을 증가시킬 수 있다.
내측 컨테이너 포드[예컨대, 보관 조립체(220)]는 상이한 영역들로 분할될 수 있고, 이 상이한 영역들 상에 친수성 및 소수성의 상이한 표면 처리가 적용된다. 몇몇 실시예에서, 시트 커버(221)와 시트 부재(222) 중 어느 하나 또는 양자 모두는 선택적으로 또는 전체적으로 표면 처리될 수 있다. 예컨대, 몇몇 실시예에서, 시트 커버(221)의 내부면(예컨대, 내측 포드의 폐쇄 시에 내측방향으로 노출된 표면)과 시트 부재(222)가 (예컨대, 수용된 피가공물의 수직 투영부에 대응하는 영역에서) 친수성 처리를 받을 수 있는 한편, 나머지 영역은 비처리 상태로 유지되거나, 소수성 처리될 수 있다.
몇몇 실시예에서, 시트 부재(222)의 피가공물 수용 영역(222a)은 제1 타입 처리로 처리된다. 몇몇 실시예에서, 제1 타입 처리 영역은 친수성 처리 영역을 포함한다. 주위 조건 변화(예컨대, 장비 오작동)로 인해 물의 응결이 발생할 시, 피가공물 수용 영역(222a)(예컨대, 수용된 레티클의 수직 투영부 아래의 내부 중앙 영역)에 발생되는 액적이 보다 작은 웨팅각(wetting angle)(이것은 보다 낮은 전체 액적 높이를 의미함)을 형성할 수 있고, 이에 따라 보관된 레티클과 응결 접촉할 가능성을 줄일 수 있다.
몇몇 실시예에서, 시트 부재의 내부면은 제2 타입 처리로 더욱 처리된다. 예컨대, 시트 부재(222)는 피가공물 수용 영역(222a) 주위에 배치된 제2 타입 처리 영역(예컨대, 둘레 영역)을 포함한다. 몇몇 실시예에서, 제2 타입 처리 영역은 소수성 처리 영역을 포함한다. 소수성 처리가 제공되는 시트 부재(222)는 세정 후에 보다 용이하게 건조될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 시트 부재(222)의 외측면(예컨대, 내측 포드의 폐쇄 시에 외측방향으로 노출되는 표면)도 또한 소수성 처리로 처리될 수 있다.
몇몇 실시예에서, 시트 부재(222)와 시트 커버(221)는 거의 금속으로 형성된다. 더욱이, 소수성 처리 영역에는 약 1011 Ω 미만의 표면 저항값이 제공된다. 예컨대, 보관 조립체 위에 있는 소수성 코팅은 정전하 소산 용량을 유지하기 위해 1 um 미만으로 유지될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 소수성 처리 영역 위에 있는 소수성 층은 약 1 um 미만의 두께를 갖는다.
도 3은 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 부재의 등각 분해도를 예시한다. 도시의 간략화와 명료화를 위해, 예시적인 디바이스의 일부 상세/하위 구성요소들은 본 도면에서 명시적으로 참조 부호를 부여하지는 않는다.
예시한 실시예에서, 시트 부재(322)는 그 기하학적 중심 영역(C)을 통과하는 종축(L3)을 획정하고 보관부(325)를 갖는 주요 본체(322a)를 포함한다. 주요 본체(322a)는, 각각 두께가 감소된[즉, 보관부(325)의 두께보다 얇은], 종축(L3)을 따라 연장되는 한 쌍의 플랭크부(326)를 더 포함한다. 이전 실시예에서 설명한 재료, 표면 처리 및/또는 코팅 구성이 예시적인 시트 부재(322)에 적용될 수 있다.
예시적인 시트 부재(322)는 주요 본체(322a)의 저부 페이스 상에 배치되는 복수 개의 확산 포트 조립체(327a)를 포함한다. 예시한 실시예에서, 확산 포트 조립체(327a)는 주요 본체(322a)를 관통하여 배치되는 복수 개의 포트(327b)와, 포트(327b)를 덮도록 구성되는 필터막(327c)을 포함한다. 예시한 실시예에서, 확산 포트 조립체(327a)에는 필터막(327c)을 유지하도록 구성되는 하부 필터 커버[예컨대, 필터 커버(327d)]가 더 마련된다. 예시적인 필터 커버(327d)는 필터막(327c)과 유사한 평면형 영역이 마련된 천공 플레이트로 형성된다. 몇몇 실시예에서, 필터 커버는 스냅핏 조립체를 통해 시트 부재(322)의 저부 페이스 상에 체결될 수 있다. 예시한 실시예에서, 확산 포트 조립체(327a)에는, 시트 부재(322)의 저부 페이스 상에 필터 커버(327d)를 체결하도록 구성되는 (나사와 같은) 커버 유지 부재(327e)가 더 마련된다.
시트 부재(322)에 있는 주요 본체(322a) 상의 확산 포트 조립체(327a)의 구성은 조립 시에 시트 부재(322)의 외측면(예컨대, 저부 페이스)의 전체 평탄도와 같은 다양한 인자를 고려할 수 있다. 예컨대, 예시적인 필터 커버(327d)는 주요 본체(322a)에 매립되도록 구성되어, 필터 커버(327d)의 외향면이 시트 부재(322)의 저부 페이스로부터 돌출하지 않는다. 예시한 실시예에서, 확산 포트 조립체(327a)에는, 시트 부재(322)에 있는 주요 본체(322a)의 저부 페이스에 대한 리세스 피쳐(327f)가 마련되며, 이 리세스 피쳐는 필터 커버(327d)를 수용하도록 구성된다. 몇몇 실시예에서, 리세스 피쳐(327f)를 마련하는 것은 또한 주요 본체(322a)의 전체 질량을 줄이는 중량 삭감 조치를 제공한다.
시트 부재를 위한 재료는, 이 재료가 노출되는 주위 환경(예컨대, 노광 디바이스 내부의 조건)과 같은 다양한 인자를 고려할 수 있다. 우선 첫번째로, 종래의 필터 구성요소는 통상 특정 베이스 재료(예컨대, 테플론/PTFE)를 포함한다. 그러나, 특정한 정밀 어플리케이션(예컨대, EUV 리소그래피 프로세스)에서, 필터 요소 내의 특정 내용물의 극한의 주위 조건(예컨대, EUV 방출)으로의 노출은 제조 프로세스에 불리한 바람직하지 않은 부산물(예컨대, 탈가스)의 생성을 초래할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 하부 필터막[예컨대, 필터막(327c)]은 불소 함량이 거의 없다. 몇몇 실시예에서, 필터막은 실질적으로 니켈과 같은 금속 재료로 형성될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 금속 필터막은 전주(electroforming) 프로세스에 의해 제조될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 필터 커버와 커버 파스너도 또한 불소 함량이 거의 없다. 필터 커버와 커버 파스너에 적합한 재료는 알루미늄과 같은 금속일 수 있다.
본 도면에 도시한 바와 같이, 시트 부재(322)에는 수용된 기판의 관찰을 가능하게 하도록 보관부(325) 내에 제1 관찰 구역(Z31)이 마련된다. 예시한 실시예에서, 시트 부재(322)는 제1 관찰 구역(Z31)에 매립된 2개의 내측 광학 부재(3221, 3222)를 포함한다. 몇몇 실시예에서, 내측 광학 부재(3221/3222)는 제1 관찰 구역(Z31)에 실링식으로 설치될 수 있다. 예컨대, 내측 광학 부재(3221/3222)의 구성은 광 투과성 부재 주위에 실링 부재(예컨대, O링)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 내측 광학 부재(3221/3222)의 구성은 먼지 및 습기가 광학 부재와 시트 부재 사이의 구조적 인터페이스를 통해 내부 체적으로 진입하는 것을 충분히 방지할 수 있는 실링 엔클로져를 제공한다. 몇몇 실시예에서, 광학 부재(3221/3222)는 기밀 레벨 실링을 달성하도록 구성될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 2개의 내측 광학 부재(3221, 3222)의 적절한 재료는 이전 실시예에서 설명한 것과 유사할 수 있다.
도 4는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 등각 분해도이다.
예시한 실시예에서, 시트 커버(421)는 본체(4210)와, 본체(4210)의 2개의 대향 측부 간의 유체 연통을 가능하게 하도록 구성된 상부 확산 유도 구성요소[총칭하여 구성요소(429)라고 함]를 포함한다. 예시적인 상부 확산 유도 구성요소(429)에는 본체(4210)의 중앙 영역을 관통하도록 배치되는 복수 개의 구멍(429b), 구멍(429b)을 덮도록 배치된 상부 필터막(429c), 및 상부 필터막(429c)을 유지하도록 구성된 필터 리테이너가 마련된다.
필터 리테이너[예컨대, 상부 필터 커버(429d)]는 또한 그 아래에 유지되는 필터막/시트에 대한 유체 접근을 가능하게 하도록 구성된다. 예컨대, 상부 필터 커버(429d)에는, 상부 필터막(429c)에 대한 유체 진입을 허용하는 관통공(429j)이 형성된다. 예시한 실시예에서, 상부 필터 커버(429d)가 본체(4210) 상에 장착될 때, 본체(4210)에 형성된 구멍(429b)은 상부 필터 커버(429d)에 형성된 관통공(429j)과 정렬하게 된다. 관통공(429j)과 구멍(429b)의 정렬로 인해, 본체(4210)의 대향 측부들 사이의 유체 연통이 가능하다. 본체(4210)의 구멍(429b)은 본 예에 도시한 바와 같이 원형 패턴과 같은 대칭 패턴을 형성하도록 배열될 수 있다. 구멍(429b)의 대칭 패턴은 그 아래의 피가공물 위에 균일한 흐름을 생성하는 것을 지원할 수 있다.
상부 필터막(429c)은 미립자 오염물(예컨대, 먼지)이 이 필터막을 통과하는 것을 방지하도록 구성된다. 몇몇 실시예에서, 상부 필터막(429c)은 직물계 재료를 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 상부 필터막(429c)은 하부 필터막[예컨대, 도 3에 도시한 필터막(327c)]과는 실질적으로 상이한 재료 조성을 갖는다. 예컨대, 상부 필터막(429c)은 불소계 코팅(예컨대, PTFE)을 지닌 직물계 재료를 포함할 수 있고, 하부 필터막[예컨대, 필터막(327c)]은 불소 함량이 거의 없다.
몇몇 실시예에서, 필터 리테이너[예컨대, 상부 필터 커버(429d)]는 하나 이상의 파스너[예컨대, 상부 커버 유지 부재(429q)]를 통해 본체(4210)에 커플링될 수 있다. 따라서, 예시적인 상부 필터 커버(429d)에는 유지 부재(429q)를 수용하도록 구성된 리테이너 시트(429k)가 더 마련된다. 예시한 실시예에서, 리테이너 시트(429k)는 상부 필터 커버(429d)의 4개의 각각의 코너에 배치되는 4개의 나사를 포함한다. 다른 실시예에서는, 유지 클립, 후크 등과 같은 다른 형상 및 형태의 파스너가 활용될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 리테이너 시트(429k)의 배치 위치는 필터 시트를 향해 균일한 응력을 가하도록 필터 리테이너 아래에서 필터 시트 주위에 대칭으로 구성될 수 있다. 예컨대, 예시한 예에서는 4개의 리테이너 시트(429k)가 관통공(429j)에 의해 획정되는 원형 패턴의 2개의 상호 수직한 이등분선[본 도면에서 점선으로 나타냄]의 맞은편에 배치된다. 더욱이, 본체(4210)의 기하학적 중심 영역에는 상부 필터 커버(429d)를 수용하는 형상 및 크기를 갖는 리세스 피쳐(429s)가 더 형성되고, 이에 의해 시트 커버(421)의 전체 두께가 감소될 수 있다.
예시한 실시예에서, 상부 확산 유도 구성요소(429)에는 필터 커버(429d)와 시트 커버(421) 간의 실링 맞물림을 향상시키기 위한 실링 부재가 더 마련된다. 예컨대, 필터 모듈(429)은 필터 커버(429d)의 둘레와 시트 커버(421) 사이에 배치되는 실링 링(429g)을 포함한다.
도 5는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 평면도를 예시한다. 도시의 간략화와 명료화를 위해, 예시적인 디바이스의 일부 상세/하위 구성요소들은 본 도면에서 명시적으로 참조 부호를 부여받지는 않는다.
시트 커버 위에서의 확산 유도 구성요소[예컨대, 상부 확산 유도 구성요소(529)]를 위한 배치 위치는 다양한 요인, 몇가지만 말하자면 예컨대 하부 확산 유도 구성요소 아래에 배치되는 피가공물[예컨대, 레티클(R2)]의 상부면에 대한 유체 흐름 및 유체 균일도를 고려할 수 있다. 예시한 실시예에서, 상부 확산 유도 구성요소(529)는 시트 커버(521)의 기하학적 중심과 거의 정렬되는 기하학적 중심(529r)을 갖는다. 동심으로 배치되는 상부 확산 유도 구성요소(529)는 피가공물의 중심 영역으로부터 그 4개의 에지를 향해 퍼지는 흐름이 균일하게 생성되는 것을 용이하게 한다. 추가로, 상부 확산 유도 구성요소(529)의 동심 배치는 또한 상부 필터막(529c)이 큰 평면형 영역을 갖도록 구성되게 한다. 상부 필터막(529c)의 큰 면적은 보다 많은 유체 흐름을 지원할 수 있다. 대량의 유체 흐름과 균일한 흐름 모두가 유리하게는 피가공물의 상부 페이스 위에 있는 미립자/가스상 오염물 제거의 효율에 기여할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 상부 필터막의 크기는 피가공물의 평면형 영역의 25 % 이상이다. 몇몇 실시예에서, 상부 필터막의 직경은 약 90 mm이다.
몇몇 실시예에서, 필터 리테이너의 파스너 시트[예컨대, 시트(529k)]는 시트 커버의 2개의 대칭축을 포함하는 영역에서 동시에 오프셋되도록 구성된다. 예컨대, 예시적인 리테이너 시트(529k)는 시트 커버(521)의 2개의 교차하는 대칭축(A1 , A2) 사이에 포함되는 영역(S)(도 5에서 음영 영역으로 나타냄)에서 오프셋되도록 배치된다. 예시한 실시예에서, 대칭축들 중 하나(예컨대, 축 A1)는 예시적인 시트 커버(521)의 수직 이등분선을 포함한다. 특히, 축(A1)은 시트 커버(521)의 한 쌍의 플랭크(526)를 통과한다. 다른 대칭축(예컨대, 축 A2)은 시트 커버(521)의 대각선을 포함한다. 2개의 대칭축(A1, A2)은 기하학적 중심(529r)에서 교차하고, 이에 의해 2개 쌍의 수직방향 대각을 형성한다. 예시적인 영역(S)은 90도 미만의 수직방향 대각의 쌍에 의해 획정된다. 몇몇 실시예에서, 예각의 수직방향 대각은 45도 이하이다. 몇몇 실시예에서, 보다 작은 수직방향 대각의 값은 약 35도 내지 40도이다.
리테이너 시트(529k)와 상부 필터 커버의 기하학적 중심(529r) 사이의 거리가 너무 짧은 경우, 상부 필터 커버의 4개 코너에 형성된 4개의 리테이너 시트(529k)가 영역(S)을 오프셋/회피하는 것이 불가능할 수 있다. 상부 확산 유도 구성요소(529)의 동심 배치로 인해, 상부 필터 커버가 큰 직경을 갖도록 구성될 수 있고, 이에 의해 오프셋팅 구성을 유지하면서 구조적 무결성을 제공하기 위해 리테이너 시트(529K)가 충분히 큰 평면형 영역을 갖게 제조될 수 있다.
도 6a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 개략적인 단면도를 예시한다. 도 6a는 도 5의 절결선 B-B를 따른 개략적인 단면도에 상당할 수 있다. 도 6b는 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 구성요소의 개략적인 분해도를 예시한다. 도시의 간략화와 명료화를 위해, 예시적인 디바이스의 일부 상세/하위 요소들은 본 도면에서 명시적으로 참조 부호를 부여받지는 않는다.
도 6a 및 도 6b를 함께 참고하면, 시트 커버(621)는 본체(6210)와 상부 확산 유도 구성요소를 포함하며, 상부 확산 유도 구성요소에는 본체(6210)를 관통하여 배치된 복수 개의 구멍(629b), 이 구멍(629b)을 덮도록 배치되는 상부 필터막(629c), 및 상부 필터막(629c)에 대한 유체 접근을 가능하게 하면서 상부 필터막(629c)을 유지하도록 구성된 상부 필터 커버(629d)가 마련된다. 상부 필터 커버(629d)가 본체(6210) 상에 장착될 때, 본체(6210)에 형성된 구멍(629b)은 상부 필터 커버(629d)에 형성된 관통공(629j)과 정렬하게 된다.
예시한 실시예에서, 상부 필터 커버(629d)는 리테이너 시트(629k)에 의해 수용되는 상부 커버 유지 부재(629q)에 의해 본체(6210) 상에 장착된다. 예시한 실시예에서, 상부 필터 커버(629d)의 중앙 영역(629r)은 시트 커버(621)에 있는 본체(6210)의 외측면(6210a)보다 높지 않다. 리테이너 시트(629k)는 외측면(6210a)보다 높은 상부면을 갖는다.
예시한 바와 같이, 상부 확산 유도 구성요소(629)는 필터 커버(629d)의 둘레와 시트 커버(621)의 본체(6210) 사이에 배치되는 실링 링(629g)을 더 포함한다. 예시적인 필터 커버(629d)의 둘레에는 실링 링(629g)을 수용하기 위한 하향 환형 홈(629y)이 형성될 수 있다.
본 절결도에서, 예시적인 관통공(629j)과 구멍(629b)에는 거의 균일한 폭이 제공된다. 그러나, 관통공 및/또는 구멍의 단면 구성은 이를 통과하는 공기 흐름 방향과 같은 여러 인자를 고려할 수 있다. 예컨대, 하향 감소 폭이 제공되는 관통공 및/또는 구멍은 공기의 내향 흐름을 촉진할 수 있다. 이와 반대로, 상향 감소 폭이 제공되는 관통공 및/또는 구멍은 공기의 외향 흐름을 촉진할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 관통공 및/또는 구멍에는 테이퍼진 상/하 단면 프로파일이 제공될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 관통공(629j) 및/또는 구멍(629b)에는 챔퍼(chamfer)가 더 마련될 수 있다.
도 7은 본 개시의 일부 실시예에 따른 시트 커버의 평면도를 예시한다. 도시의 간략화와 명료화를 위해, 예시적인 디바이스의 일부 상세/하위 구성요소들은 본 도면에서 명시적으로 참조 부호를 부여받지는 않는다.
리소그래피 프로세스를 실행하기 위해, 보관 조립체는 수용된 레티클을 채용하는 후속하는 노광 프로세스 이전에 노광 장치 내부의 지정 위치/스테이션(예컨대, 피가공물 적재 스테이션)에 도달할 시에 개방될 수 있다. 지정 위치에서의 보관 조립체의 위치 및/또는 배향은, 후속 절차(예컨대, 보관 조립체의 분해) 중에 민감한 보관 조립체 및/또는 그 내부에 수용된 레티클을 불의의 손상으로부터 보호하기 위해 검사될 수 있다.
몇몇 어플리케이션에서(예컨대, EUV 노광 장치에서), 보관 조립체의 위치 및/또는 배향의 정확도는 광학식 포지셔닝 센서(optical positioning sensor)(예컨대, 레이저 스캐닝 디바이스)와 같은 광학적 수단을 통해 검사될 것이다. 예컨대, 도 7은 레이저 광학식 포지셔닝 절차의 작동 시나리오 하의 시트 커버의 평면도를 개략적으로 보여준다. 예시한 프로세스에서, 2개의 요격 레이저 빔(L1, L2)(점선으로 나타냄)이 예시적인 시트 커버(721)의 상부면을 가로질러 생성된다. 특히, 레이저 빔 L1은 시트 커버(721)의 수직 이등분선을 따라 배열되고, 레이저 빔 L2는 45도 이하의 각도(A)로 레이저 빔 L1과 교차하도록 배열된다.
시트 커버(721)가 정확하게 위치 설정/배향되지 않은 경우, 시트 커버(721)의 구성요소들이 레이저 빔(L1, L2)들 중 어느 하나 또는 양자 모두를 차단할 수 있다. 예컨대, 보관 조립체가 x-y 평면에 대해 틸팅될 때, 시트 커버(721)의 상부면이 레이저 빔(L1, L2)을 차단할 수 있다. 레이저 빔(L1, L2)들 중 어느 하나가 시트 커버(721)에 의해 차단된 것으로 확인되었을 때, (예컨대, 디스플레이와 같은 출력 유닛에 의해) 위치 설정의 실패를 나타내는 출력이 생성될 수 있다.
예시적인 유지 시트(729k)에는, 유지 효과를 보장하도록(예컨대, 충분한 나사 길이를 유지하도록) 필터 커버(729d)의 중심 영역(729r)에 있는 상부면으로부터 돌출하는 (예컨대, z-방향을 따르는) 보다 두꺼운 두께가 제공될 수 있다. 내측 포드가 정확하게 위치 설정되면, 유지 시트(729k)의 기하학적 비대칭/반경방향 편향 배치는 광학적 위치 설정 프로세스 중에 2개의 레이저 빔(L1, L2)을 회피할 수 있고, 이에 따라 레이저 빔의 차단을 피할 수 있다. 예시한 실시예에서, 시트 커버(721)의 유지 시트(729k)는 시트 커버(721)의 2개의 대칭축(예컨대, 수직 이등분선과 대각선)을 포함하는 영역에서 오프셋되도록 배치된다. 즉, 필터 커버(729d)의 이등분선[예컨대, 유지 시트(729k)들 중 2개를 통과하는 라인(BT)]은 시트 커버(721)의 수직 이등분선과 대각선에서 동시에 오프셋되도록 배치된다.
따라서, 본 개시의 일양태는 보관 조립체를 포함하는 피가공물 컨테이너 시스템을 제공한다. 보관 조립체는 시트 부재와 시트 커버를 포함한다. 시트 부재는 그 기하학적 중심 영역을 에워싸고 피가공물을 수용하도록 구성된 피가공물 수용 영역을 획정하고; 시트 부재 상에서 기하학적 중심 영역에서 오프셋된 피가공물의 평면 투영부 내에 하부 확산 유도 구성요소가 마련된다. 시트 커버는 시트 부재와 협동하여 피가공물을 수용하는 엔클로져를 형성하도록, 그 피가공물 수용 영역 주위의 둘레 영역에서 시트 부재와 맞물리도록 구성되며; 시트 커버 상에서 피가공물의 평면 투영부 위에 상부 확산 유도 구성요소가 마련되고, 이 상부 확산 유도 구성요소는 투영 상태로 볼 때에 시트 부재의 기하학적 중심 영역과 중첩된다.
몇몇 실시예에서, 상부 확산 유도 구성요소는 시트 커버의 기하학적 중심과 거의 정렬되는 기하학적 중심을 갖는다.
몇몇 실시예에서, 상부 확산 유도 구성요소는 상부 필터 커버와, 이 상부 필터 커버에 의해 시트 커버 상에 유지되도록 구성된 상부 필터막을 포함한다. 상부 필터 커버는 상부 필터막에 대한 유체 접근을 가능하게 하도록 구성된다. 상부 필터 커버의 중심 영역은 시트 커버의 외측면보다 높지 않다.
몇몇 실시예에서, 상부 필터 커버는 상부 커버 유지 부재를 수용하도록 구성된 리테이너 시트를 더 포함한다. 리테이너 시트는 외측면보다 높은 상부면을 갖는다.
몇몇 실시예에서, 리테이너 시트는 시트 커버의 2개의 대칭축을 포함하는 영역에서 동시에 오프셋되도록 배치된다.
몇몇 실시예에서, 대칭축들 중 하나는 시트 커버의 수직 이등분선을 포함한다.
몇몇 실시예에서, 대칭축들 중 하나는 시트 커버의 대각선을 포함한다.
몇몇 실시예에서, 상부 필터막의 크기는 피가공물의 평면형 영역의 25 % 이상이다.
몇몇 실시예에서, 하부 확산 유도 구성요소는 시트 부재의 기하학적 중심 영역 주위의 피가공물 수용 영역에 배치되는 확산 포트 조립체를 포함한다. 상기 확산 포트 조립체는 하부 필터 커버, 하부 필터 커버에 의해 유지되도록 구성된 하부 필터막, 및 하부 커버 유지 부재를 포함한다. 상부 확산 유도 구성요소에는, 하부 필터막과 실질적으로 상이한 재료 조성을 갖는 상부 필터막이 마련된다.
몇몇 실시예에서, 하부 필터막은 불소 함량이 거의 없다.
따라서, 본 개시의 일양태는 보관 조립체를 포함하는 피가공물 컨테이너 시스템을 제공한다. 보관 조립체는, 그 기하학적 중심 영역을 에워싸고 피가공물을 수용하도록 구성된 피가공물 수용 영역을 획정하는 시트 부재; 및 시트 부재와 협동하여 피가공물을 수용하는 엔클로져를 형성하도록, 그 피가공물 수용 영역 주위의 둘레 영역에서 시트 부재와 맞물리도록 구성되는 시트 커버를 포함한다. 시트 커버 상에서 피가공물의 평면 투영부 위에 상부 확산 유도 구성요소가 마련된다. 상부 확산 유도 구성요소는 시트 커버의 기하학적 중심과 거의 정렬되는 기하학적 중심을 갖는다.
몇몇 실시예에서, 상부 확산 유도 구성요소는 상부 필터 커버와, 이 상부 필터 커버에 의해 시트 커버 상에 유지되도록 구성된 상부 필터막을 포함한다. 상부 필터 커버는 상부 필터막에 대한 유체 접근을 가능하게 하도록 구성된다. 상부 필터 커버의 중심 영역은 시트 커버의 외측면보다 높지 않다.
몇몇 실시예에서, 상부 필터 커버는 시트 커버와의 유지 맞물림을 형성하도록 구성된 리테이너 시트를 더 포함한다. 리테이너 시트는 시트 커버의 2개의 대칭축을 포함하는 영역에서 동시에 오프셋되도록 구성된다.
몇몇 실시예에서, 대칭축들 중 하나는 시트 커버의 수직 이등분선을 포함한다.
몇몇 실시예에서, 대칭축들 중 하나는 시트 커버의 대각선을 포함한다.
몇몇 실시예에서, 리테이너 시트는 시트 커버의 외측면보다 높은 상부면을 갖는다.
몇몇 실시예에서, 상부 필터막의 크기는 피가공물의 평면형 영역의 25 % 이상이다.
몇몇 실시예에서, 시트 부재 상에서 기하학적 중심 영역으로부터 오프셋된 피가공물의 평면 투영부 내에 하부 확산 유도 구성요소가 마련된다. 하부 확산 유도 구성요소는 시트 부재의 기하학적 중심 영역 주위의 피가공물 수용 영역에 배치되는 확산 포트 조립체를 포함한다. 상기 확산 포트 조립체는 하부 필터 커버, 하부 필터 커버에 의해 유지되도록 구성된 하부 필터막, 및 하부 커버 유지 부재를 포함한다. 상부 확산 유도 구성요소에는, 하부 필터막과 실질적으로 상이한 재료 조성을 갖는 상부 필터막이 마련된다.
몇몇 실시예에서, 하부 필터막은 불소 함량이 거의 없다.
몇몇 실시예에서, 시스템은 보관 조립체를 수용하도록 구성된 이송 조립체를 더 포함한다.
앞서 제시하고 설명한 실시예는 단지 예일 뿐이다. 따라서, 많은 그러한 세부사항이 도시되지도 않고 설명되지도 않는다. 비록, 본 기술의 수많은 특징들 및 장점들을 구조 및 기능의 세부 사항들과 함께 상기한 상세한 설명에서 기재하였지만, 본 개시는 단지 예시적인 것에 불과하며, 그 원리 내에서 세부 사항들, 특히 부품의 형상, 크기 및 배치에 있어서의 변경이 청구범위에서 사용된 용어들의 광범위한 포괄적 의미에 의해 구축되는 최대 범위까지 가능할 수 있다. 따라서, 전술한 실시예가 청구범위의 범주 내에서 수정될 수 있다는 점이 이해될 것이다.

Claims (20)

  1. 피가공물(workpiece) 컨테이너 시스템으로서,
    보관 조립체를 포함하고, 상기 보관 조립체는
    그 기하학적 중심 영역을 에워싸고 피가공물을 수용하도록 구성된 피가공물 수용 영역을 획정하는 시트 부재로서, 상기 시트 부재 상에서 기하학적 중심 영역에서 오프셋된 피가공물의 평면 투영부 내에 하부 확산 유도 구성요소가 마련되는 것인, 시트 부재; 및
    상기 시트 부재와 협동하여 피가공물을 수용하는 엔클로져를 형성하도록, 상기 피가공물 수용 영역 주위의 둘레 영역에서 상기 시트 부재와 맞물리도록 구성되는 시트 커버
    를 포함하고,
    상기 시트 커버 상에서 피가공물의 평면 투영부 위에 상부 확산 유도 구성요소가 마련되고, 상기 상부 확산 유도 구성요소는 투영 상태로 볼 때에 상기 시트 부재의 기하학적 중심 영역과 중첩되며,
    상기 상부 확산 유도 구성요소는 상부 필터 커버를 포함하고,
    상기 상부 필터 커버는 상부 커버 유지 부재를 수용하도록 구성된 리테이너 시트를 더 포함하며,
    상기 리테이너 시트는 상기 시트 커버의 외측면보다 높은 상부면을 갖는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상부 확산 유도 구성요소는 시트 커버의 기하학적 중심과 정렬되는 기하학적 중심을 갖는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 상부 확산 유도 구성요소는 상기 상부 필터 커버에 의해 시트 커버 상에 유지되도록 구성된 상부 필터막을 포함하고,
    상기 상부 필터 커버는 상부 필터막에 대한 유체 접근을 가능하게 하도록 구성되며,
    상기 상부 필터 커버의 중심 영역은 시트 커버의 외측면보다 높지 않은 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 리테이너 시트는 상기 시트 커버의 2개의 대칭축을 포함하는 영역에서 동시에 오프셋되도록 배열되는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 대칭축들 중 하나는 상기 시트 커버의 수직 이등분선을 포함하는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 대칭축들 중 하나는 상기 시트 커버의 대각선을 포함하는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 상부 필터막의 크기는 피가공물의 평면형 영역의 25 % 이상인 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  8. 제3항에 있어서,
    상기 하부 확산 유도 구성요소는 상기 시트 부재의 기하학적 중심 영역 주위의 피가공물 수용 영역에 배치되는 확산 포트 조립체를 포함하고,
    상기 확산 포트 조립체는 하부 필터 커버, 하부 필터 커버에 의해 유지되도록 구성된 하부 필터막, 및 하부 커버 유지 부재를 포함하며,
    상기 상부 필터막은 상기 하부 필터막과 상이한 재료 조성을 갖는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 하부 필터막은 불소 함량이 없는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 시트 커버는 본체를 포함하고,
    상기 본체에는 복수 개의 구멍이 형성되고, 상기 상부 필터 커버는 복수 개의 관통공을 포함하며,
    상기 상부 필터 커버가 상기 본체 상에 장착될 때 상기 복수 개의 구멍은 상기 복수 개의 관통공과 정렬하는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 상부 확산 유도 구성요소는 상기 상부 필터 커버와 상기 시트 커버 사이에 배치되는 실링 링을 포함하고,
    상기 상부 필터 커버는 상기 실링 링을 수용하기 위한 하향 환형 홈을 더 포함하는 것인 피가공물 컨테이너 시스템.
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