KR102500276B1 - 유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법을 개시한다. 본 발명은 디스플레이 기판의 표시 영역에 형성되며, 반도체 활성층, 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터;와, 디스플레이 기판의 표시 영역에 형성되며, 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 제 1 전극, 중간층, 및 제 2 전극을 포함하는 유기 발광 소자;와, 디스플레이 기판의 표시 영역의 바깥쪽으로 연장되는 비표시 영역에 형성되며, 제 2 전극에 전기적으로 연결되어 전극 컨택을 형성하는 전원 배선;과, 박막 트랜지스터, 유기 발광 소자, 및 전원 배선 사이에 형성되며, 이들을 서로 절연시키는 복수의 절연막;을 포함하되, 절연막중 어느 하나의 절연막에는 복수의 컨택 홀이 형성되며, 복수의 컨택 홀중 어느 하나의 컨택 홀을 통하여 전원 배선의 일부가 노출되며, 컨택 홀에 의하여 이격되게 배열된 절연막의 외면에는 제 2 전극과 전원 배선을 전기적으로 연결하는 배선 전극이 형성된다.

Description

유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법{Organic light emitting display apparatus and the fabrication method thereof}
본 발명은 유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법에 관한 것이다.
통상적으로, 유기 발광 디스플레이 장치(organic light emitting display apparatus)는 스마트 폰, 태블릿 퍼스널 컴퓨터, 랩 탑 컴퓨터, 디지털 카메라, 캠코더, 휴대 정보 단말기와 같은 모바일 장치나, 초박형 텔레비전, 광고판과 같은 전자 장치에 이용할 수 있다.
유기 발광 디스플레이 장치는 애노우드와 캐소우드 사이에 유기 발광층을 개재한다. 유기 발광 디스플레이 장치는 비표시 영역에서 캐소오드와 전원 배선이 서로 컨택(contact)할 수 있다. 캐소우드 컨택부(cathode contact portion)에서 막분리 현상을 방지하여 컨택 특성을 향상시킬 필요가 있다.
본 발명의 실시예들은 유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따른 유기 발광 디스플레이 장치는,
디스플레이 기판의 표시 영역에 형성되며, 반도체 활성층, 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터;
디스플레이 기판의 표시 영역에 형성되며, 상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 제 1 전극, 중간층, 및 제 2 전극을 포함하는 유기 발광 소자;
디스플레이 기판의 표시 영역의 바깥쪽으로 연장되는 비표시 영역에 형성되며, 상기 제 2 전극에 전기적으로 연결되어 전극 컨택을 형성하는 전원 배선; 및
상기 박막 트랜지스터, 유기 발광 소자, 및 전원 배선 사이에 형성되며, 이들을 서로 절연시키는 복수의 절연막;을 포함하되,
상기 절연막중 어느 하나의 절연막에는 복수의 컨택 홀이 형성되며, 복수의 컨택 홀중 어느 하나의 컨택 홀을 통하여 전원 배선의 일부가 노출되며, 상기 컨택 홀에 의하여 이격되게 배열된 절연막의 외면에는 상기 제 2 전극과 전원 배선을 전기적으로 연결하는 배선 전극이 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 배선 전극은 상기 제 1 전극과 동일한 층에 형성되며, 상기 컨택 홀을 통하여 전원 배선의 노출된 부분에 전기적으로 연결되며, 상기 배선 전극 상에는 표시 영역 및 비표시 영역에 걸쳐서 연장된 제 2 전극이 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 배선 전극은 상기 절연막의 윗면, 복수의 컨택 홀에 접하는 절연막의 측면과, 이웃하는 절연막 사이의 바닥면, 및 상기 전원 배선이 노출된 부분에 걸쳐서 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 배선 전극은 일체로 연장된다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수의 컨택 홀은 상기 절연막을 관통하여 상기 절연막의 하부에 형성된 다른 층의 절연막의 표면이 노출되게 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 컨택 홀의 깊이는 2 마이크로미터 이상이다.
일 실시예에 있어서, 상기 전원 배선, 배선 전극, 및 제 2 전극이 서로 전기적으로 연결되어서 전극 컨택부를 형성한다.
일 실시예에 있어서, 상기 중간층은, 유기 발광층; 및 상기 유기 발광층의 적어도 일면에 적층된 적어도 하나의 패턴층;을 포함하되, 상기 유기 발광층은 표시 영역의 각 서브 픽셀에 형성되고, 상기 패턴층은 표시 영역 및 비표시 영역에 걸쳐서 연장된다.
일 실시예에 있어서, 상기 패턴층은 상기 컨택 홀이 형성된 절연막의 윗면과, 이웃하는 절연막사이의 바닥면에서 상기 배선 전극 상에 형성되고, 상기 배선 전극은 상기 패턴층을 통과하여 제 2 전극에 전기적으로 연결된다.
일 실시예에 있어서, 상기 패턴층은 상기 컨택 홀에 접하는 절연막의 측면에 형성되지 않으며, 상기 절연막의 측면에서 상기 제 2 전극과 배선 전극이 직접적으로 연결된다.
일 실시예에 있어서, 상기 패턴층은 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 및 전자 주입층중 적어도 어느 하나를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 전원 배선은, 상기 게이트 전극과 동일층에 형성된 제 1 배선; 및 상기 제 1 배선에 전기적으로 연결되며, 소스 전극 및 드레인 전극과 동일층에 형성된 제 2 배선;을 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 절연막은 게이트 절연막, 층간 절연막, 평탄화막, 및 픽셀 정의막을 포함하되, 상기 게이트 절연막 상에는 제 1 배선과, 게이트 전극이 형성되며, 상기 층간 절연막 상에는 상기 제 2 배선과, 소스 전극과 드레인 전극이 형성되며, 상기 평탄화막 상에는 배선 전극과 제 1 전극이 형성된다.
본 발명의 다른 측면에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법은,
디스플레이 기판의 표시 영역에 반도체 활성층, 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터 및 상기 디스플레이 기판의 비표시 영역에 전원 배선을 형성하는 단계;
상기 전원 배선의 적어도 일부가 노출되며, 복수의 컨택 홀을 가지는 절연막을 형성하는 단계;
상기 디스플레이 기판의 표시 영역에 유기 발광 소자에 구비된 제 1 전극과, 중간층을 형성하고, 상기 디스플레이 기판의 비표시 영역에 제 1 전극과 동일한 층에 배선 전극을 형성하는 단계; 및
상기 전원 배선 및 배선 전극에 전기적으로 연결되며, 유기 발광 소자에 구비된 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법.
일 실시예에 있어서, 상기 절연막을 형성하는 단계에서는, 복수의 컨택 홀을 형성하는 것에 의하여 상기 절연막이 형성되는 부분과 상기 절연막이 형성되지 않는 부분과의 단차를 형성한다.
일 실시예에 있어서, 상기 배선 전극을 형성하는 단계에서는, 상기 배선 전극은 복수의 컨택 홀에 접하는 절연막 상에 형성되며, 상기 컨택 홀을 통하여 전원 배선의 노출된 부분에 전기적으로 연결한다.
일 실시예에 있어서, 상기 배선 전극은 상기 절연막의 윗면, 복수의 컨택 홀에 접하는 절연막의 측면, 이웃하는 절연막 사이의 바닥면, 및 상기 전원 배선이 노출되는 부분에 걸쳐서 연장된다.
일 실시예에 있어서, 상기 중간층을 형성하는 단계에서는, 상기 중간층은 유기 발광층과, 상기 유기 발광층의 적어도 일면에 적층된 적어도 하나의 패턴층을 포함하며, 상기 유기 발광층은 상기 표시 영역의 각 서브 픽셀에 형성되며, 상기 패턴층은 상기 표시 영역 및 비표시 영역에 걸쳐서 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 패턴층은 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 및 전자 주입층중 적어도 어느 하나를 포함하며, 상기 패턴층은 상기 컨택 홀이 형성된 절연막의 윗면과, 이웃하는 절연막 사이의 바닥면에서 상기 배선 전극 상에 형성되며, 상기 컨택 홀에 접하는 절연막의 측면에는 형성되지 않고, 상기 절연막의 측면에는 상기 제 2 전극과 배선 전극이 직접적으로 연결된다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 2 전극을 형성한 다음에는 상기 절연막의 윗면과, 이웃하는 절연막 사이의 바닥면으로 상기 제 2 전극을 향하여 레이저 빔을 조사하여 제 2 전극과 배선 전극 사이의 패턴층을 용융시키고, 그때, 상기 제 2 전극이 상기 패턴층을 통과하여 배선 전극에 전기적으로 연결된다.
이상과 같이, 본 발명의 유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법은 캐캐소우드 컨택부에서 복수의 컨택 홀을 가지는 절연막의 형성으로 컨택 특성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 효과는 상술한 내용 이외에도, 도면을 참조하여 이하에서 설명할 내용으로부터도 도출될 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치의 디스플레이 기판 상에 박막 트랜지스터와, 전원 배선을 형성한 것을 도시한 단면도이다.
도 2는 도 1의 디스플레이 기판 상에 보호막을 형성한 것을 도시한 단면도이다.
도 3은 도 2의 디스플레이 기판 상에 애노우드와, 배선 전극을 형성한 것을 도시한 단면도이다.
도 4는 도 3의 디스플레이 기판 상에 픽셀 정의막을 형성한 것을 도시한 단면도이다.
도 5는 도 4의 디스플레이 기판 상에 중간층을 형성한 것을 도시한 단면도이다.
도 6는 도 5의 디스플레이 기판 상에 제 2 전극을 형성한 것을 도시한 단면도이다.
도 7은 도 6의 디스플레이 기판 상에 밀봉 기판을 형성한 것을 도시한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고, 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의하여 한정되어서는 안된다. 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함한다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 따른 유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법의 일 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치(100)를 도시한 단면도이다.
도면을 참조하면, 상기 유기 발광 디스플레이 장치(100)는 디스플레이 기판(101)과, 상기 디스플레이 기판(101)에 마주보는 밀봉 기판(121)을 포함한다.
상기 디스플레이 기판(101)은 유연성을 가지는 절연성 소재나, 강성을 가지는 절연성 소재로 제조될 수 있다. 예컨대, 상기 디스플레이 기판(101)은 유연성을 가지는 필름이나, 강성을 가지는 글래스 기판이나, 금속 기판이나, 이들의 복합 기판일 수 있다. 상기 디스플레이 기판(101)은 투명하거나, 반투명하거나, 불투명할 수 있다.
상기 디스플레이 기판(101)은 후술한 박막 트랜지스터(TFT)와, 유기 발광 소자(organic light emitting display device, OLED)가 형성되는 표시 영역(display area, DA)과, 상기 표시 영역(DA)으로부터 디스플레이 기판(101)의 바깥쪽으로 연장되며, 전원 배선(106)(110)이 형성되는 비표시 영역(non-display area, NDA)을 포함한다.
상기 디스플레이 기판(101) 상에는 배리어막(102)이 형성될 수 있다. 상기 배리어막(102)은 상기 디스플레이 기판(101)의 윗면을 전체적으로 덮을 수 있다. 상기 배리어막(102)은 무기막이나, 유기막을 포함한다. 이를테면, 상기 배리어막(102)은 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiON), 알루미늄 옥사이드(AlO), 알루미늄나이트라이드(AlON) 등의 무기물이나, 아크릴, 폴리이미드, 폴리에스테르 등의 유기물 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다.
상기 배리어막(102)은 단일막, 또는, 다층막으로 형성될 수 있다. 상기 배리어막(102)은 산소와 수분을 차단하고, 디스플레이 기판(101)의 윗면을 평탄하게 한다.
상기 배리어막(102) 상에는 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)가 형성될 수 있다. 본 실시예에 있어서, 박막 트랜지스터는 탑 게이트 트랜지스터(top gate transistor)를 설명하나, 바텀 게이트 트랜지스터(bottom gate transistor) 등 다른 구조의 박막 트랜지스터가 구비될 수 있다.
상기 박막 트랜지스터(TFT)는 상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 형성될 수 있다. 상기 박막 트랜지스터는 반도체 활성층(103), 게이트 전극(105), 소스 전극(108), 및 드레인 전극(109)을 포함한다.
상기 배리어막(102) 상에는 반도체 활성층(103)이 형성될 수 있다. 상기 반도체 활성층(103)은 N형 불순물 이온이나, P형 불순물 이온을 도핑하는 것에 의하여 형성되는 소스 영역과 드레인 영역, 및 상기 소스 영역과 드레인 영역 사이에 개재되며, 상기 불순물이 도핑되지 않는 채널 영역을 포함한다.
상기 반도체 활성층(103)은 폴리 실리콘(poly silicon)과 같은 무기 반도체나, 유기 반도체나, 비정질 실리콘(amorphous silicon)일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 반도체 활성층(103)은 산화물 반도체일 수 있다. 예컨대, 산화물 반도체는 아연(Zn), 인듐(In), 갈륨(Ga), 주석(Sn), 카드뮴(Cd), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf)과 같은 4, 12, 13, 14족 금속 원소 및 이들의 조합에서 선택된 산화물을 포함한다.
상기 반도체 활성층(103) 상에는 게이트 절연막(104)이 증착될 수 있다. 상기 게이트 절연막(104)은 실리콘 옥사이드나, 실리콘 나이트라이드나, 금속 산화물과 같은 무기막일 수 있다. 상기 게이트 절연막(104)은 단일막, 또는, 다층막일 수 있다.
상기 게이트 절연막(104) 상에는 게이트 전극(105)이 형성될 수 있다. 상기 게이트 전극(105)은 Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo, Cr 등의 단일막, 또는, 다층막을 포함한다. 일 실시예에 있어서, 상기 게이트 전극(105)은 Al:Nd, Mo:W와 같은 합금을 포함한다.
상기 게이트 전극(105) 상에는 층간 절연막(107)이 형성될 수 있다. 상기 층간 절연막(107)은 실리콘 옥사이드나, 실리콘 나이트라이드 등과 같은 무기막으로 형성될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 층간 절연막(107)은 유기막을 포함할 수 있다.
상기 층간 절연막(107) 상에는 소스 전극(108)과, 드레인 전극(109)이 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 게이트 절연막(104) 및 층간 절연막(107)에는 이들을 선택적으로 제거하는 것에 의하여 컨택 홀이 형성되고, 컨택 홀을 통하여 소스 영역에 소스 전극(108)이 전기적으로 연결되고, 드레인 영역에 드레인 전극(109)이 각각 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 소스 전극(108)과, 드레인 전극(109) 상에는 보호막(111, 패시베이션막이나, 평탄화막)이 형성될 수 있다. 상기 보호막(111)은 상기 소스 전극(108)과, 드레인 전극(109)을 덮는다. 상기 보호막(111)은 실리콘 옥사이드나, 실리콘 나이트라이드와 같은 무기물, 또는, 아크릴(acryl), 폴리이미드(polyimide), BCB(Benzocyclobutene)와 같은 유기물을 포함한다.
상기 박막 트랜지스터(TFT) 상에는 유기 발광 소자(organic light emitting display device, OLED)가 형성될 수 있다. 상기 유기 발광 소자는 상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 형성될 수 있다. 상기 유기 발광 소자는 제 1 전극(113), 중간층(116), 및 제 2 전극(120)을 포함한다. 유기 발광 소자는 상기 보호막(111) 상에 형성될 수 있다.
상기 제 1 전극(113)은 보호막(111)의 일부를 제거하여 형성된 컨택 홀을 통하여 소스 전극(108)이나 드레인 전극(109)중 어느 한 전극에 전기적으로 연결될 수 있다.
제 1 전극(113)은 애노우드로 기능하며, 다양한 도전성 소재로 형성할 수 있다. 상기 제 1 전극(113)은 투명 전극, 또는, 반사형 전극을 포함한다. 이를테면, 상기 제 1 전극(113)이 투명 전극으로 사용시, 상기 제 1 전극(113)은 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등의 투명 도전막을 포함한다. 상기 제 1 전극(113)이 반사형 전극으로 사용시, 상기 제 1 전극(113)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 및 이들의 화합물로 반사막을 형성하고, 상기 반사막의 상부에 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등의 투명 도전막을 형성할 수 있다.
상기 픽셀 정의막(115)은 상기 보호막(111) 상에 형성된다. 상기 픽셀 정의막(115)은 상기 제 1 전극(113)의 일부를 덮는다. 상기 픽셀 정의막(115)은 상기 제 1 전극(113)의 가장자리를 둘러싸는 것에 의하여 각 서브 픽셀의 발광 영역을 한정한다. 상기 제 1 전극(113)은 서브 픽셀마다 패터닝될 수있다.
상기 픽셀 정의막(115)은 유기막, 또는, 무기막일 수 있다. 이를테면, 상기 픽셀 정의막(115)은 폴리이미드, 폴리아마이드, 벤조사이클로부텐, 아크릴 수지, 페놀 수지 등과 같은 유기물이나, 실리콘 나이트라이드와 같은 무기물로 형성할 수 있다.
상기 픽셀 정의막(115)은 단일막, 또는, 다중막일 수 있다.
상기 제 1 전극(113) 상에는 상기 픽셀 정의막(115)의 일부를 제거하여 노출되는 영역에 중간층(116)이 형성될 수 있다. 상기 중간층(116)은 복수의 층이 적층된 구조이다. 이를테면, 상기 중간층(116)은 유기 발광층(emissive layer, 118)과, 상기 유기 발광층(118)의 적어도 일면에 형성된 적어도 하나의 패턴층(117)(119)을 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 중간층(116)은 유기 발광층(118)을 구비하고, 그 외에 홀 주입층(hole injection layer, HIL), 홀 수송층(hole transport layer, HTL), 전자 수송층(electron transport layer, ETL), 전자 주입층(electron injection layer, EIL)중 적어도 어느 하나를 더 구비할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 이에 한정되지 않고, 상기 중간층(116)은 유기 발광층(118)을 구비하고, 산란층과 같은 다양한 기능층을 더 구비할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 제 1 전극(113)과 유기 발광층(118) 사이에는 제 1 패턴층(117)이 형성될 수 있다. 상기 제 1 패턴층(117)은 홀 주입층(HIL)과, 홀 수송층(HTL)을 포함할 수 있다. 유기 발광층(118)과 제 2 전극(120) 사이에는 제 2 패턴층(119)이 형성될 수 있다. 상기 제 2 패턴층(119)은 전자 수송층(ETL)과, 전자 주입층(EIL)을 포함할 수 있다.
상기 제 1 전극(113)과, 제 2 전극(120)에서 각각 주입되는 홀과 전자는 유기 발광층(118)에서 결합되면서 소망하는 색상의 빛을 발생시킬 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 유기 발광층(118)은 각 서브 픽셀에 대응하는 영역에 형성되며, 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)은 공통층으로서, 상기 표시 영역(DA)과, 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장될 수 있다.
상기 제 2 전극(120)은 상기 중간층(116) 상에 형성될 수 있다.
상기 제 2 전극(120)은 캐소우드로 기능할 수 있다. 상기 제 2 전극(120)은 투명 전극, 또는, 반사형 전극을 포함한다. 예컨대, 상기 제 2 전극(120)이 투명 전극으로 사용시, 상기 제 2 전극(120)은 일 함수가 작은 금속인 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg 및 이들의 화합물이 상기 중간층(116) 상에 증착되고, 상기 금속 및 이들의 화합물 상에 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등의 투명 도전막이 형성될 수 있다. 상기 제 2 전극(120)이 반사형 전극으로 사용시, 상기 제 2 전극(120)은 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg 및 이들의 화합물로 형성할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 2 전극(120)은 공통 전극일 수 있다. 상기 제 2 전극(120)은 상기 표시 영역(DA)과, 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장될 수 있다. 또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 2 전극(120)은 각 서브 픽셀에 대응하는 영역에 형성되는 1 부분과, 이웃하는 복수의 제 1 부분을 서로 전기적으로 연결하도록 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장되는 제 2 부분을 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 디스플레이 기판(101) 상에는 복수의 서브 픽셀을 형성할 수 있으며, 각 서브 픽셀별로 적색, 녹색, 청색, 또는, 백색의 색을 구현할 수 있다. 그러나, 본 개시는 이에 한정되지 않는다.
일 실시예에 있어서, 상기 중간층(116)은 서브 픽셀의 위치에 관계없이 전체 제 1 전극(113)에 공통적으로 형성될 수 있다. 이때, 유기 발광층(118)은 적색, 녹색, 및 청색의 빛을 방출하는 발광 물질을 포함하는 층이 수직으로 적층되거나, 적색, 녹색, 및 청색의 빛을 방출하는 발광 물질이 혼합되어 형성될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 백색광을 방출할 수 있다면, 다른 색의 조합이 가능함은 물론이다. 방출된 백색광을 소정의 컬러로 변환하는 색변환층이나, 컬러 필터를 더 구비할 수 있다.
상기 유기 발광 소자(OLED) 상에는 밀봉 기판(121)이 형성될 수 있다. 상기 밀봉 기판(121)은 외부의 수분이나, 산소 등으로부터 중간층(116) 및 다른 박막들을 보호하기 위하여 형성될 수 있다.
상기 밀봉 기판(121)은 강성을 가지는 글래스나, 고분자 수지나, 유연성을 가지는 필름일 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 밀봉 기판(121)은 유기 발광 소자(OLED) 상에 유기막과 무기막이 교대로 적층할 수 있다.
상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에는 캐소우드 컨택부(cathode contact portion)가 형성될 수 있다.
구체적으로, 상기 비표시 영역(NDA)에는 외부로부터 전원이 인가되는 전원 배선(106)(110)이 형성될 수 있다. 상기 전원 배선(106)(110)은 제 1 배선(106)과, 제 1 배선(106)에 전기적으로 연결되는 제 2 배선(110)을 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 전원 배선(106)(110)은 적어도 하나의 층으로 된 배선 구조라면 어느 하나에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 상기 전원 배선(106)(110)은 단일층이거나, 3층 구조 이상일 수 있다. 상기 전원 배선(106)(110)은 캐소우드(120)의 전압 강하(IR drop)를 위하여 메쉬형일 수 있다.
상기 제 1 배선(106)은 게이트 절연막(105) 상에 형성될 수 있다. 상기 제 1 배선(106)은 게이트 전극(105)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 상기 제 1 배선(106)은 층간 절연막(107)에 의하여 커버될 수 있다. 이때, 상기 제 1 배선(106)의 적어도 일부는 층간 절연막(106)에 의하여 커버되지 않고, 외부로 노출될 수 있다.
상기 제 2 배선(110)은 층간 절연막(17) 상에 형성될 수 있다. 상기 제 2 배선(110)은 소스 전극(108)과 드레인 전극(109)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 상기 제 2 배선(110)은 층간 절연막(107)의 개구를 통하여 상기 제 1 배선(106)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 2 배선(110)은 보호막(111)에 의하여 커버될 수 있다. 이때, 상기 제 2 배선(110)의 적어도 일부는 보호막(111)에 의하여 커버되지 않고, 외부로 노출될 수 있다. 상기 보호막(111)에는 캐소우드 컨택을 위한 복수의 컨택 홀(contact hole, 112)이 형성될 수 있다.
상기 컨택 홀(112)은 캐소우드 컨택 영역에 복수개 형성될 수 있다. 상기 컨택 홀(112)은 상기 보호막(111)을 관통하며, 상기 층간 절연막(107)의 표면이 노출되도록 형성될 수 있다. 캐소우드 컨택 영역에서는 상기 보호막(111)이 형성된 부분과, 상기 컨택 홀(112)에 의하여 보호막(111)이 형성되지 않는 부분과의 단차가 발생한다. 일 실시예에 있어서, 상기 컨택 홀(112)의 깊이는 2 마이크로미터 이상일 수 있다. 상기 컨택 홀(112)의 깊이가 2 마이크로미터 이상인 것은 상기 캐소우드 컨택 영역에서의 단차로 인하여 보호막(111)의 측면(111a)에 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)이 형성되지 않기 위한 최소한의 크기이다.
구체적으로, 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)은 증착 공정에 의하여 상기 보호막(111)의 외면에 증착될 수 있다. 증착(evaporation) 공정시, 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)은 보호막(111)의 수평면, 예컨대, 보호막(111)의 윗면(111b)이나, 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)에는 용이하게 증착될 수 있다. 상기 바닥면(107a)은 실질적으로 상기 보호막(111)의 하부층인 층간 절연막(107)의 노출되는 면이다.
증착 공정시, 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)은 보호막(111)의 수직면, 이를테면, 컨택 홀(112)에 접하는 보호막(111)의 측면(111a)에는 쉽게 증착되지 않는다. 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)이 상기 보호막(111)의 측면(111a)에 증착되더라도, 상기 보호막(111)의 측면(111a) 상에 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)의 적층은 쉽지 않다. 즉, 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)의 적층은 추후 설명되는 배선 전극(114)과 제 2 전극(120)의 전기적 접속이 가능할 정도로 얇게 증착된다.
상기 배선 전극(114)은 상기 보호막(111) 상에 형성될 수 있다. 상기 배선 전극(114)은 상기 제 1 전극(113)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 상기 배선 전극(114)은 실질적으로 제 1 전극(113)과 동일한 소재로 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 배선 전극(114)은 은(Ag)과 같은 반사막과, 상기 반사막의 적어도 일면에 ITO와 같은 투명 도전막이 적층된 구조일 수 있다.
상기 배선 전극(114)은 제 2 배선(110)의 노출된 부분에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 배선 전극(114)은 상기 보호막(111)의 측면(111a)에 적층된 구조일 수 있다. 구체적으로, 상기 배선 전극(114)은 상기 보호막(111)의 윗면(111b)과, 복수의 컨택 홀(112)에 접하는 보호막(111)의 측면(111a)과, 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)과, 상기 제 2 배선(110)의 노출된 부분에 걸쳐서 형성될 수 있다. 상기 배선 전극(114)은 일체로 연장될 수 있다.
상기 보호막(111)의 윗면에는 유기 발광 소자의 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)이 형성될 수 있다. 유기 발광층(118)은 표시 영역(DA)의 각 서브 픽셀의 대응되는 영역에 형성되는 반면에, 상기 제 1 패턴층(117)이나, 제 2 패턴층(119)은 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장될 수 있다.
전술한 바와 같이, 상기 캐소우드 컨택 영역에 있어서, 상기 보호막(111)의 윗면(111b) 및 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)에는 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)이 형성되지만, 상기 보호막(111)의 측면(111a)에는 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)이 형성되지 않는다.
유기 발광 소자의 제 2 전극(120)은 공통 전극일 수 있다. 상기 제 2 전극(120)은 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장될 수 있다. 상기 캐소우드 컨택 영역에 있어서, 상기 제 2 전극(120)은 상기 배선 전극(114) 상에 형성될 수 있다. 상기 제 2 전극(120)은 컨택 홀(112)에 접하는 보호막(111)의 측면(111a)에서 상기 배선 전극(114)에 직접적으로 접촉할 수 있다. 게다가, 제 2 전극(120)의 증착 이후, 상기 제 2 전극(120)은 레이저 드릴링(laser drilling) 방식에 의하여 상기 보호막(111)의 윗면(111b) 및 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)에서 상기 배선 전극(114)에 전기적으로 연결될 수 있다.
이처럼, 상기 제 1 배선(106), 제 2 배선(110), 배선 전극(114), 제 2 전극(120)은 서로 전기적으로 연결되어서 캐소우드 컨택부를 형성할 수 있다. 게다가, 상기 캐소우드 컨택 영역에 있어서, 복수의 컨택 홀(112)이 형성되므로, 캐소우드 컨택부는 접촉 면적을 넓힐 수 있다.
이상, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치(100)를 제조하는 과정을 도 1 내지 도 7을 참조하여 단계별로 설명하기로 한다.
도 1을 참조하면, 상기 디스플레이 기판(101) 상에는 배리어막(102)이 형성된다. 상기 배리어막(102)은 상기 디스플레이 기판(101)을 전체적으로 덮을 수 있다.
상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 상기 배리어막(102) 상에 반도체 활성층(103)이 형성된다. 상기 반도체 활성층(103) 상에는 게이트 절연막(104)이 형성된다. 상기 게이트 절연막(104)은 반도체 활성층(103)의 일부를 외부로 노출시키면서 상기 반도체 활성층(103)을 매립하게 된다. 상기 게이트 절연막(104) 상에는 게이트 전극(105)이 형성된다. 상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 상기 게이트 절연막(104) 상에는 제 1 배선(106)이 형성된다. 상기 제 1 배선(106)은 상기 게이트 전극(105)과 동일한 층에 형성될 수 있다.
상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 상기 게이트 전극(105) 상에는 층간 절연막(107)이 형성된다. 상기 층간 절연막(107)은 상기 게이트 전극(105)의 일부를 외부로 노출시키면서 상기 게이트 전극(105)을 매립하게 된다. 상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 상기 층간 절연막(107)은 상기 제 1 배선(106)의 일부를 외부로 노출시키면서 상기 제 1 배선(106)을 매립하게 된다.
상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 상기 층간 절연막(107) 상에는 소스 전극(108)과, 드레인 전극(109)이 형성된다. 상기 소스 전극(108)과, 드레인 전극(109)은 상기 게이트 절연막(104)의 일부 및 층간 절연막(107)의 일부를 제거하여 형성된 컨택 홀을 통하여 반도체 활성층(103)의 소스 영역 및 드레인 영역에 각각 전기적으로 연결된다. 상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 상기 층간 절연막(107) 상에는 제 2 배선(110)이 형성된다. 상기 제 2 배선(110)은 소스 전극(108)과 드레인 전극(109)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 상기 제 2 배선(110)은 층간 절연막(107)의 개구를 통하여 상기 제 1 배선(106)에 전기적으로 연결된다.
도 2를 참조하면, 상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 상기 소스 전극(108)과 드레인 전극(109) 상에는 보호막(111)이 형성된다. 상기 보호막(111)은 상기 소스 전극(108)이나 드레인 전극(109)중 어느 하나의 전극의 일부를 노출시키면서 상기 소스 전극(108)과 드레인 전극(109)을 매립하게 된다.
상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 상기 보호막(111)은 캐소우드 컨택을 위하여 복수의 컨택 홀(112)을 가지도록 형성된다. 상기 컨택 홀(112)은 복수개 형성될 수 있다. 복수의 컨택 홀(112)에 의하여 보호막(111)은 서로 이격되게 배열된다. 상기 컨택 홀(112)은 상기 보호막(111)을 관통하며, 상기 층간 절연막(107)의 표면이 노출되도록 형성된다. 상기 제 2 배선(110)의 일부는 상기 컨택 홀(112)을 통하여 외부로 노출된다. 상기 컨택 홀(112)의 깊이(d)는 2 마이크로미터 이상이다.
도 3을 참조하면, 상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 유기 발광 소자의 제 1 전극(113)은 상기 보호막(111)의 일부를 제거하여 형성된 컨택 홀을 통하여 상기 소스 전극(108)이나 드레인 전극(109)중 어느 하나의 전극에 연결된다. 상기 제 1 전극(113)은 금속 미러(metal mirror)로서 이용할 수 있도록 은(Ag)과 같은 반사막과, 상기 반사막의 적어도 일면에 ITO와 같은 투명 도전막이 적층된 구조일 수 있다.
상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 상기 보호막(111) 상에는 배선 전극(114)이 형성된다. 상기 배선 전극(114)은 상기 제 1 전극(113)과 동일한 층에 형성된다. 상기 배선 전극(113)은 실질적으로 제 1 전극(113)과 동일한 소재로 형성될 수 있다. 상기 배선 전극(114)은 제 2 배선(110)의 노출된 영역에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 배선 전극(114)은 상기 보호막(111)의 외면에 적층된다. 구체적으로, 상기 배선 전극(114)은 상기 보호막(111)의 윗면(111b)과, 복수의 컨택 홀(112)에 접하는 보호막(111)의 측면(111a)과, 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)과, 상기 제 2 배선(110)의 노출된 부분에 걸쳐서 형성된다. 상기 배선 전극(114)은 일체로 연장된다. 상기 바닥면(107a)은 실질적으로 상기 보호막(111)의 하부층인 층간 절연막(107)의 노출되는 면이다.
도 4를 참조하면, 상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 상기 보호막(111) 및 제 1 전극(113)의 가장자리를 덮도록 픽셀 정의막(115)이 형성된다. 상기 픽셀 정의막(114)은 상기 제 1 전극(113)의 일부를 노출시키고, 상기 제 1 전극(113)의 가장자리를 둘러싸는 것에 의하여 각 서브 픽셀의 발광 영역을 한정하게 된다.
상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 상기 픽셀 정의막(115)은 캐소우드 컨택 영역을 제외하고 상기 배선 전극(114) 상에 형성된다.
도 5를 참조하면, 상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 상기 제 1 전극(113)의 노출된 영역 상에는 유기 발광 소자의 중간층(116)이 형성된다.
구체적으로, 상기 제 1 전극(113) 상에는 공통층인 제 1 패턴층(117)을 형성하게 된다. 상기 제 1 패턴층(117)은 홀 주입층과, 홀 수송층을 포함할 수 있다. 상기 제 1 패턴층(117)은 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장된다. 상기 제 1 패턴층(117) 상에는 유기 발광층(118)을 형성하게 된다. 상기 유기 발광층(118)은 표시 영역(DA)의 각 서브 픽셀에 형성된다. 상기 유기 발광층(118) 상에는 공통층인 제 2 패턴층(119)을 형성하게 된다. 상기 제 2 패턴층(119)은 전자 수송층과, 전자 주입층을 포함할 수 있다. 상기 제 2 패턴층(119)은 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장된다.
상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 제 1 패턴층(117)과 제 2 패턴층(119)은 보호막(111)의 윗면(111b) 및 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)에 증착된다. 이에 반하여, 상기 제 1 패턴층(117)과 제 2 패턴층(119)은 컨택 홀(112)에 접하는 보호막(111)의 측면(111a)에는 증착되지 않는다.
구체적으로, 상기 캐소우드 컨택 영역은 복수의 컨택 홀(112)의 형성으로 인하여 보호막(111)이 형성된 부분과 보호막(111)이 형성되지 않은 부분과의 단차가 발생하게 된다. 증착 공정동안, 제 1 패턴층(117)과 제 2 패턴층(119)은 상기 보호막(111)의 윗면(111b) 및 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)에는 증착되지만, 상기 보호막(111)의 측면(111a)에는 증착되지 않는다. 또한, 상기 제 1 패턴층(117)과, 제 2 패턴층(119)은 상기 보호막(111)의 측면(111a)에 증착되더라도, 추후 설명되는 배선 전극(114)과 제 2 전극(120)의 전기적 접속이 가능하도록 얇게 증착된다.
도 6을 참조하면, 상기 디스플레이 기판(101)의 표시 영역(DA)에 있어서, 상기 중간층(116) 상에는 유기 발광 소자의 제 2 전극(120)이 형성된다. 상기 제 2 전극(120)은 공통 전극이다. 상기 제 2 전극(120)은 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)에 걸쳐서 연장된다.
상기 디스플레이 기판(101)의 비표시 영역(NDA)에 있어서, 상기 제 2 전극(120)은 상기 배선 전극(114) 상에 형성된다. 상기 제 2 전극(120)은 컨택 홀(112)에 접하는 보호막(111)의 측면(111a)에서 상기 배선 전극(114)에 직접적으로 접촉한다. 이에 따라, 상기 제 1 배선(106), 제 2 배선(110), 배선 전극(114), 및 제 2 전극(120)은 서로 전기적으로 연결되어서 캐소우드 컨택부를 형성할 수 있다.
한편, 상기 제 2 전극(120)의 증착 이후, 레이저 드릴링 방식에 의하여 상기 보호막(111)의 윗면(111b) 및 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)에 형성된 배선 전극(114) 및 제 2 전극(120)을 전기적으로 연결시키는 공정을 더 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 제 1 패턴층(118) 및 제 2 패턴층(119)은 상기 보호막(111)의 윗면(111b) 및 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)에서 배선 전극(114) 상에 증착되고, 상기 제 2 전극(120)은 상기 제 1 패턴층(118) 및 제 2 패턴층(119) 상에 형성된다.
상기 제 2 전극(120)의 증착 이후, 상기 보호막(111)의 윗면(111b) 및 이웃하는 보호막(111) 사이의 바닥면(107a)으로 상기 제 2 전극(120)을 향하여 레이저 빔을 조사하게 된다. 레이저 빔에 의하여 가열된 제 2 전극(120)의 열은 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)으로 전달되어서, 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)의 일부를 용융시키고, 그때, 상기 제 2 전극(120)은 상기 제 1 패턴층(117) 및 제 2 패턴층(119)을 통과하여 상기 배선 전극(114)에 전기적으로 연결될 수 있다.
도 7을 참조하면, 상기 디스플레이 기판(101)에는 밀봉 기판(121)이 결합된다. 상기 밀봉 기판(121)은 유기 발광 소자(OLED) 상에 형성된다.
상기와 같은 제조 과정을 통하여 유기 발광 디스플레이 장치(100)를 제조할 수 있다.
100...유기 발광 디스플레이 장치 101...디스플레이 기판
104...게이트 절연막 105...게이트 전극
106...제 1 배선 107...층간 절연막
110...제 2 배선 111...보호막
112...컨택 홀 113...제 1 전극
114...배선 전극 115...픽셀 정의막
116...중간층 117...제 1 패턴층
118...유기 발광층 119...제 2 패턴층
120...제 2 전극 121...밀봉 기판

Claims (16)

  1. 기판;
    상기 기판 상에 배치되며 반도체 활성층, 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터;
    상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 배치된 제2 전극, 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치된 중간층을 포함하는 유기 발광 소자;
    상기 박막 트랜지스터와 이격되어 배치된 전원 배선;
    단면도 상에서 상기 전원 배선과 상기 유기 발광 소자 사이에 배치되며, 최상층 절연막에 복수의 제1 컨택홀이 형성된 복수의 절연막; 및
    단면도 상에서 상기 제1 전극과 이격되어 배치되고, 상기 복수의 제1 컨택홀에 의해 노출된 상기 최상층 절연막의 표면을 따라 상기 최상층 절연막 상에 배치되며, 상기 전원 배선과 적어도 일부가 중첩되어 서로 접촉하는 배선 전극;을 포함하며,
    상기 제2 전극은 상기 배선 전극 위로 연장되어 상기 배선 전극과 접촉하고,
    상기 제2 전극은 상기 복수의 제1 컨택홀 내부에 배치된 제1 부분과 상기 복수의 컨택홀 외부로서 상기 최상층 절연막의 상부에 배치된 제2 부분을 포함하며, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분은 연속인, 유기 발광 디스플레이 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 중간층은 유기발광층을 포함하며,
    상기 유기발광층은 단면도 상에서 상기 제1 전극과 중첩하며 상기 복수의 제1 컨택홀과 중첩하지 않는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 중간층은 상기 제1 전극과 상기 유기발광층 사이에 배치된 제1 공통층을 더 포함하며,
    상기 제1 공통층은 상기 배선 전극 위로 연장되어 상기 배선 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치되며,
    상기 제1 공통층의 일부는, 상기 복수의 제1 컨택홀 내부에 배치된 제1 부분과 상기 복수의 컨택홀 외부로서 상기 최상층 절연막의 상부에 배치된 제2 부분을 포함하며, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분은 불연속인, 유기 발광 디스플레이 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 공통층은 홀 주입층(hole injection layer) 및 홀 수송층(hole transport layer) 중 적어도 하나를 포함하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 중간층은 상기 유기발광층과 상기 제2 전극 사이에 배치된 제2 공통층을 더 포함하며,
    상기 제2 공통층은 상기 배선 전극 위로 연장되어 상기 배선 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치되며,
    상기 제2 공통층의 일부는, 상기 복수의 제1 컨택홀 내부에 배치된 제1 부분과 상기 복수의 컨택홀 외부로서 상기 최상층 절연막의 상부에 배치된 제2 부분을 포함하며, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분은 불연속인, 유기 발광 디스플레이 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2 공통층은 전자 주입층(electron injection layer) 및 전자 수송층(electron transport layer) 중 적어도 하나를 포함하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    상기 배선 전극은 상기 제1 전극과 동일한 물질을 포함하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 최상층 절연막에는 상기 복수의 제1 컨택홀과 이격된 제2 컨택홀이 형성되며,
    상기 제2 컨택홀을 통해 상기 전원 배선과 상기 배선 전극이 서로 접촉하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 전원 배선은 제1 배선; 및
    상기 제1 배선 상에 배치되며 상기 제1 배선 및 상기 배선 전극과 접촉하는 제2 배선;을 포함하고,
    상기 복수의 절연막은 상기 최상층 절연막과 상기 제1 배선 사이에 배치된 층간 절연막을 포함하며, 상기 제1 배선과 상기 제2 배선은 상기 층간 절연막에 형성된 제3 컨택홀을 통해 서로 접촉하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    단면도 상에서 상기 층간 절연막의 일부는 상기 복수의 제1 컨택홀과 중첩하며,
    상기 층간 절연막의 상면은 상기 복수의 컨택홀과 중첩하는 영역에서 상기 배선 전극과 직접 접촉하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  12. 기판;
    상기 기판 상에 배치되며 반도체 활성층, 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터;
    상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 배치된 제2 전극, 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치된 중간층을 포함하는 유기 발광 소자;
    상기 박막 트랜지스터와 이격되어 배치된 전원 배선;
    단면도 상에서 상기 전원 배선과 상기 유기 발광 소자 사이에 배치되며, 복수의 제1 컨택 홀이 형성된 절연막;
    단면도 상에서 상기 제1 전극과 이격되어 배치되고, 상기 복수의 제1 컨택홀에 의해 노출된 상기 절연막의 표면을 따라 상기 절연막 상에 배치되며, 상기 전원 배선과 전기적으로 연결된 배선 전극;을 포함하며,
    상기 중간층의 일부는, 상기 복수의 제1 컨택홀 내부에 배치된 제1 부분과 상기 복수의 제1 컨택홀 외부로서 상기 절연막의 상부에 배치되며 상기 제1 부분과 불연속인 제2 부분을 포함하며,
    상기 중간층의 제1 부분 및 제2 부분은 각각 상기 배선 전극 및 상기 제2 전극에 의해 둘러싸이고, 서로 불연속인 상기 중간층의 제1 부분과 제2 부분 사이에서 상기 배선 전극과 상기 제2 전극은 직접 접촉하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 중간층은 유기발광층을 포함하며,
    상기 유기 발광층은 단면도 상에서 상기 제1 전극과 중첩하며 상기 복수의 제1 컨택홀과 중첩하지 않는, 유기 발광 디스플레이 장치.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 중간층의 일부는 홀 주입층(hole injection layer), 홀 수송층(hole transport layer), 전자 주입층(electron injection layer), 및 전자 수송층(electron transport layer) 중 적어도 하나를 포함하는 유기 발광 디스플레이 장치.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 제2 전극은 상기 배선 전극 위로 연장되며, 상기 제2 전극은 상기 복수의 제1 컨택홀 내부에 배치된 제1 부분과 상기 복수의 제1 컨택홀 외부로서 상기 절연막의 상부에 배치된 제2 부분을 포함하며, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분은 연속인, 유기 발광 디스플레이 장치.
  16. 제12항에 있어서,
    상기 절연막에는 상기 복수의 제1 컨택홀과 이격된 제2 컨택홀이 형성되며,
    상기 제2 컨택홀을 통해 상기 전원 배선과 상기 배선 전극이 서로 접촉하는, 유기 발광 디스플레이 장치.
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