KR102430868B1

KR102430868B1 - 제분 재질의 최적화된 제분을 위한 여러 제분 패시지를 가진 곡물 제분기 및 롤 스탠드와 그에 대응하는 프로세스

Info

Publication number: KR102430868B1
Application number: KR1020207036706A
Authority: KR
Inventors: 마이클 슈나이더
Original assignee: 뷔홀러 아게
Priority date: 2018-05-25
Filing date: 2019-04-10
Publication date: 2022-08-09
Also published as: CN112236233B; JP2023052592A; CN112236233A; JP2021524804A; EP3801909A1; US11618033B2; BR112020023940A2; US20210252520A1; DK3801909T3; KR20210011990A; EP3801909B1; WO2019223930A1; RU2757420C1

Abstract

본 발명은 알갱이형 과일 등의 제분 및 분쇄를 위한 제분 설비(1) 및 그에 대응하는 방법, 특히 제분 라인들(3)의 최적화된 제어를 위한 최적화된 폐쇄-루프 및 개방 루프 제어 방법과 대응하는 폐쇄-루프 및 개방-루프 제어 장치에 관한 것이다. 프로세싱 라인(3)은, 예를 들어, 제분 재질을 제분하기 위한 제분 롤 페어들(B1, B2, Bx; C 1, C2, Cx)과, 예를 들어, 제분 재질을 선별 또는 체질하는 체질 패시지(S)를 구비할 수 있다. 제분 설비(1)는 많은 설비(1)의 최적화된 제어를 위한 중안 폐쇄-루프 및 개방-루프 제어 장치(4)를 구비하며, 메모리 프로그램 가능 제어기들(201/PLC)(10)은 네트워크 인터페이스(202)를 통해 중앙 폐쇄-루프 및 개방-로프 제어 장치(4)에 접속되고, 전송되는 제어 파라메타들(4311,...431x)에 의해 어드레싱 및 제어된다. 제어 장치(4)는 특히 웹 기반 방식 및 중앙식으로 동일하거나 다른 제분기(2)의 다른 패시지들(3)의 프로세싱 장치(31)를 제어한다. 제어 파라메타(4311,...431x)의 생성 동안에, 패시지-지정(43211,...4321x) 및 환경-지정(43221,...4322x) 관리/동작 파라메타들간의 구별이 도출된다.

Description

제분 재질의 최적화된 제분을 위한 여러 제분 패시지를 가진 곡물 제분기 및 롤 스탠드와 그에 대응하는 프로세스

본 발명은 특정 초도 생산 파라메타들을 가진 초도 제품을 프로세싱하고 분쇄하여, 정의된 최종 제품 성질들/분산 성질들을 가진 목표로 한 최종 제품을 생성하는 기계적 프로세스 및 디바이스 기술에 관한 것으로, 특히, 본 발명은, 예를 들어, 돌맹이 또는 다른 거친 재질들의 분쇄와 같은, 제분(milling) 또는 연삭(grinding) 기술의 애플리케이션의 식품 산업, 농축 사료 산업 또는 유사한 기술 영역의 배치-지향 프로세스들(batch-oriented processes)의 제분 통제 및/또는 제어 기술에 관한 것이다. 본 발명은, 제분 재질을 제분 또는 분쇄하는 여러개의 제분 패시지(milling passage)를 가진 롤 스탠드를 가진 곡물 제분기들과 같은 연삭/제분 설비들의 제어 및 모니터링, 즉, 제분 및 롤링 시스템(milling and rolling system), 특히, 하나 이상의 롤 스탠드(roll stand)들을 가진 곡물 제분 설비와 같이, 분산 제품들의 기계적 프로세싱 설비의 프로세스 디바이스들의 자동화된 통제 및 제어를 위한 통제 및 제어 디바이스들에 그 초점이 특정하게 맞추어져 있다. 본 발명은, 또한, 곡물을 프로세싱하고 분쇄하기 위한 곡물 제분기 및 다른 설비들, 특히, 분쇄, 운송, 세분화 및 패키징을 위한 설비들에 대한 제어 디바이스들과, 그러한 설비들의 최적화된 제어 및 모니터링을 위한 최적화된 통제 및 제어 프로세스들 및 통제 디바이스들에 대한 기술 최적화에 관한 것이다. 또한, 본 발명에 따른 디바이스의 가능한 애플리케이션들은, 설비들 및/또는 프로세스들의 제어 및/또는 통제와, 프로세스 모니터링(측정, 모니터링)을 위해, 곡물 제분기 설비에 있어서의 제품 준비 및 프로세싱 동안, 하나 이상의 롤 드라이브(roll drive)들의 롤링 온도, 롤 갭(roll gap), 롤 속도, 롤 압축력 및/또는 에너지 소모와 같은 동작 파라메타들의 실시간 또는 준(quasi)-실시간 측정, 실시간 모니터링 및 실시간 통제/제어; 및/또는 수분, 단백질 콘텐츠, 전분 손상, 밀가루(또는 제분 중간 생산품)의 회분(ash content)(광재질), 잔여 전분 콘텐츠, 제분 분말도(milling fineness)와 같은, 예를 들어, 측정량들(measurement quantities)과 같은, 재료 또는 품질 파라메타들의 실시간 또는 준 실시간 측정을 하는 제분 및 롤링 시스템에 관한 것이다. 그러나, 본 발명은 광석 또는 시멘트 등과 같은 거친 알갱이형 재질(coarse-grained material)들을 연삭하기 위한 SAG(SemiAutogenrously Grinding) 제분기들로서 알려진 것 또는 볼 제분기(ball mill)일 수 있으며, 이는 제분 시스템에 아주 일반적으로 이용된다. 또한, 그와 같은 제분기로, 제분 드럼(milling drum)의 회전 속도, 제분 드럼의 에너지 소모, 거친 알갱이형 초도/투입 재질의 인피드(infeed), 광물 제분시에 수분 인피드(water infeed) 및/또는 출고에 나타나는 제분된 재질의 배출 속도와 같은 다양한 제어 변수들 또는 유도 변수들(guidance variables)을 조정함에 의해 처리량 및 생산품 품질 파라메타들이 제어될 수 있다. 또한 이 제분기들에 있어서, 제분될 재질의 알갱이 크기 분포는 중요한 품질 특성이다. 특히, 그것은 부유선별(flotation)과 같이, 제분 시스템의 추가적인 콤포넌트 다운스트림(component downstream)의 수율에 영향을 줄 수 있다. 전형적으로, 제분 설비 및 제분 시스템에서는, 높은 제품 품질 및 낮은 에너지 소모와 재질 요건, 즉, 원가로 가능한 높은 처리량 및 수율을 목표로 한다.

그러므로, 본 발명은, 바람직한 애플케이션에 있어서, 롤들 또는 롤 페어들(roll pairs)을 포함하는 롤링 시스템, 생산품 프로세싱 설비들 및 제분 설비들과, 그러한 제분 및 롤링 시스템 및/또는 생산품 프로세싱 설비들의 최적화된 동작을 위한 대응하는 프로세스에 관한 것이다. 언급된 설비들은, (ⅰ) 곡물 제분, (ⅱ) 산업 제과점을 위한 밀가루 준비, (ⅲ) 특정 제분을 위한 설비들, (ⅳ) 가축이나 애완 동물의 고품질 사료 제조를 위한 생산 설비들, (ⅴ) 생선 및 갑각류의 사료 제조를 위한 특정 설비들, (ⅵ) 활성제(active ingredients)의 혼합물 제조를 위한 예비 혼합 및 농축 설비(premix and concentrate installation), (ⅶ) 오일 시드(oil seed)로부터의 오일 생산, (ⅷ) 추출 폐기물 및 화이트 플레이크(white flake)들의 처리, (ⅸ) 바이오매스들(biomasses)의 프로세싱 및 에너지 펠릿들(energy pellets)의 제조를 위한 고전력 설비들, (ⅹ) 에탄올 제조를 위한 설비들, (xi) 완전한 미곡 프로세싱 설비들, (xii) 식품, 시드 및 플라스틱을 위한 분류 설비들(sorting installations), (xiii) 곡물 및 콩 처리, (xiv) 산업 맥아 및 맥아 처리 설비들, (xv) 코코아 빈, 견과(nut) 및 커피 빈 들을 프로세싱하는 기계 및 설비들, (xvi) 초콜렛과, 충전재(filler)들 및 도료(coating)들을 제조하기 위한 기계 및 설비들, (xvii) 조식 곡물, 식품 및 사료 재료, 애완 동물 사료, 아쿠아피드(aquafeed) 및 약제(pharmaceutical product)들을 가공 성형(조리 및 성형)하는 시스템들 및 설비들, (xviii) 미용, 전자 화학 산업을 위한 인쇄 잉크(printing ink)들, 도료들 및 입자 분산(particle dispersion)들의 제조를 위한 기계 및 프로세스 설비의 제조와 습식 제분 기술에 대한 토탈 솔루션 계획(planning of total solutions), (xix) 밀기울(wheat bran), 미곡 강화(rice fortification) 등으로부터의 호분(aleurone)의 분리 및 특성화(characterisation)를 위한 완전한 설비를 포함한다.

기계적 프로세스 기술의 많은 프로세스들은, 예를 들어, 분쇄에 의해, 입자 크기와 같은 입자 성질을 변경하기 위한 것 또는 예를 들어, 초도 재질을 체질(screening)하고 선별(sifting)함에 의해, 혼합물의 상태를 변경하기 위한 것이다. 최종 제품의 분산 성질의 특성화, 즉, 적당한 측정 파라메타들의 선택에 의해 선택된 구성 및 입자 측정 기술은 관련 프로세스의 측정들의 성공을 입증하는데 보통 이용된다. 이것에 있어서는, 빈번하게, 프로세싱될 초도 제품/재질의 분산 조건에 의해 프로세스의 성공이 결정적으로 판정된다. 따라서, 전형적으로, 기계적 제분 프로세스들에 있어서, 그 재질들은, 입자 크기가 감소됨에 따라, 분쇄하기가 더욱 어렵고, 분리도 또한 더욱 어려워진다. 이 경우에 관심있는 기계적 프로세싱 기술의 프로세스들은, 그들이 제분기의 선별 및 체질 패시지내에서의 체질과 같은 구성의 변경과 연관되는지 또는 제분기의 제분 패시지내에서의 분쇄와 같은 분산 조건의 변경과 연관되는지로, 분류될 수 있다. 초도 재질 또는 최종 제품은, 크기, 형상, 강성 구조(rigidity structure), 컬러, 공극성(porosity), 동질성(homogeneity)등과 같은 다양한 성질을 그 특성으로 할 수 있다. 그 특성들은 프로세스 재질내에서, 예를 들어, 1차 입자, 규칙적 구조들의 응집(agglomerate) 등으로서 다르게 배열될 수 있다. 그 특성들 및 그들의 배열/혼합 조건은 제품 성질에 결정적일 수 있다. 재질-변경 산업에 있어서 기계적 프로세스 및 그에 대응하는 디바이스들의 중요성은 막대하며, 화학, 영양학적 및 사료 생산 뿐만이 아니라 빌딩 자재(building material)의 제조를 구비한다. 본 발명은 필수적으로, 예를 들어, 곡물 제분기에 이용되는 제분 설비들에 관한 것이다. 그러나, 기본적으로, 그것은 이들 애플리케이션에 제한되지 않으며, 여러 프로세싱 라인들을 구비한 기계적 프로세스 기술의 프로세싱 시스템들 및 설비들의 제어, 점검 및 모니터링에 전반적으로 이용될 수 있다.

제분 설비 또는 곡물 제분기와 같은 기계적 프로세싱 디바이스의 영향을 평가하고, 그에 따라 프로세싱 디바이스에 있어서의 동작 또는 프로세스 파라메타들을 제어/통제하는 것은, 분산 제품들의 제조, 특성화 및/또는 평가/모니터링에 결정적이다. 이것을 하기 위해서는 그 성질들, 특히, 초도 또는 임의 중간 및 최종 제품의 물리적, 화학적 또는 분산 성질들을 기록하고 구성(특성화)할 필요가 있다. 예를 들어, 체질 프로세스와 같은 분리 프로세스의 선택 및 제어가 크기 및 형상 분포와 그들의 비율들을 결정하는 것이 중요하다. 기계적 프로세싱 디바이스의 전형적인 애플리케이션에서는, 최종 제품의 특정 제품 성질 및 특성들이 예상된다. 목표들 중의 하나는, 초도 제품에 의거하여, 프로세싱 디바이스에 있어서의 동작 또는 프로세스 파라메타들을 적절하게 선택함에 의해, 목표로 하고 재생 가능한 방식(targeted and reproducible way)으로, 성질, 특히, 최종 제품의 분산 성질들을 획득하는 것이다. 그렇게 하는데 있어서, 프로세스 재질의 분산 성질들은, 목표로 한 제품 성질들, 예를 들어, 추가적인 프로세스에 있어서 밀가루의 성질들에 대한 밀가루의 입자 크기에 직접적인 영향을 준다. 그러므로, 프로세스 디바이스에 있어서의 동작 또는 프로세스 파라메타들의 선택은, 제품 성질들, 특히 분산 성질들의 결정 또는 측정에 기반한다. 빈번하게 요구되는 제품 성질들은, 작동자 또는 인간의 예상의 의해 빈번하게 결정되는 프로세싱, 애플리케이션 및/또는 제품과 관련된 실증적 최적화 및 채택에 기초한, 특정 동작 및/또는 프로세스 파라메타들의 결정으로부터 결과한다. 초도 제품 특성들, 특히, 원하는 제품 성질들이 획득될 수 있는 초도 제품의 분산 크기를 알게 되면, 관련 프로세스 단계 및/또는 전체 프로세스에 있어서, 이것에 설정될 프로세싱/프로세스 디바이스의 동작 또는 프로세싱 파라메타들이 결정될 것이다. 특히, 프로세싱 프로세스동안 제품의 상태 또는 동작을 사전에 알지 못하거나 또는 단지 부정확하게 알거나 예측할 수 있다는 것이 이들 프로세스들의 일반적인 특성이다. 비록 입자 또는 제품 성질 측정 기술이 과거에 비해 오늘날 매우 진보되었지만, 대부분의 시스템에서는 완벽한 설명(complete description)이 불가능하다. 분산 성질들과 같은 최종 제품 성질들에 대한 기계, 장치 및/또는 프로세스/동작 파라메타들의 영향은, 모든 경우 또는 대부분의 경우에, 각 초도 제품 및 원하는 최종 제품마다, 운영자의 경험 또는 직관에 기초하여 및/또는 실험적으로 결정될 수 밖에 없다. 다수의 파라메타들의 개요를 유지하기 위해, 구조화된 프로세스가 여기에서 주도적인 역할을 한다. 기계적 프로세스 기술의 많은 경우에, 분산 성질들은, 초도 제품, 중간 제품 및 목표로 한 제품 성질들 간의 링크(link)를 형성한다. 적절한 프로세싱 설비가 선택된 후에는, 모든 측정 및 제어 개념의 경우에, 초도 재질이 측정 성질에 의거하여, 어느 동작 및 프로세싱 파라메타들이, 최종 제품의 획득된 성질들에 대해 특히 직접적인 종속성을 드러내는지가 기본적으로 결정된다. 그렇지 않을 경우, 특정 설비에 의한 프로세싱시의 재생 가능 생산 및 확장성(scalability)이 그러한 복잡한 프로세스에서는 불가능하게 된다.

예를 들어, 제분 재질을 분쇄하는 제분 설비에 대해 요건들이 보여질 수 있다. 적절한 제분 설비를 선택한 후에는, 제분 재질의 분쇄 동작이 분명하게 특성화될 수도 없고, 최종 제품 및/또는 입자 성질들에 대한 제분 설비의 동작 및 프로세스 파라메타들의 영향이 분명하게 예측 가능하지도 않기 때문에, 제분 재질에 의거하여 프로세스 동작이 결정되어야 한다. 운영자가 가늠해야 하는 것은, 예를 들어, 제분 롤들간의 갭의 폭과 같은 제분기 또는 제분 설비의 기하학적 파라메타, 감지 가능 처리량, 또는 속도/특정 에너지들이 최종 제품의 성질, 특히 제품의 분산 성질에 어떻게 영향을 미치는가 이다. 제분 재질의 분쇄에 있어서, 가장 중요한 제어 파라메타, 즉, 분산 크기는 목표로 한 입자 크기 또는 입자 크기들의 분포이다. 복잡한 상호 연결성 때문에, 예를 들어, 입자 크기들의 결과하는 분포에 대한, 롤의 회전 속도, 처리량, 패시지에 있어서의 제품 유도, 제분 몸체 두께 및 제분 몸체 크기의 영향은, "시행 착오" 프로세스 및 실증적 값들에 기초하여, 실험적으로 결정된다. 또한, 제분 재질 성질들 및 측정들과, 동작 및 프로세스 파라메타와, 목표로 한 최종 제품 성질들간의 상호 작용의 복잡성으로 인해, 대응하는 통제 및 제어 기술들에서는, 지금까지 거의 유일하게 입자 크기만이 물리적 양으로서 고려될 수 있었다.

본 발명에서 중요한 것은 제분 재질을 분쇄하는 제분 및 연삭 설비이다. 이하에서 이용되는 용어, 제분 설비는 제분 재질을 프로세싱하는데 이용되는, 거친(coarse) 고형(solid) 제분 재질로부터, 단지 탈곡되거나 스퀘싱(squashing)된 최종 제품 또는 입상(grainy) 및/또는 분말(밀가루 형태) 최종 제품을 생산하기 위한 모든 기술적 디바이스들 및 프로세스들(및 곡물 제분기에 있어서 플랜트(plant)), 특히, 곡물 제분기를 구비한다. 이러한 애플리케이션의 측면에서의 제분 재질은, 특히, 밀가루, 세몰리나, 거친 알갱이형 밀가루 및 그리스트(grist)와 같이, 제분 제품 또는 제분 최종 제품으로 제분되는 모든 유형의 알갱이 및 곡물을 구비한다. 그러한 제분 설비들은, 이용에 있어서, 곡피(husking)를 위한 헐링 제분(hulling milling)의 문맥에서, 곡물 알갱이(cereal grain)과 같은 제분 재질을 헐링하고 그에 후속하여 스퀘싱(squashing)한다. 알갱이 및 곡물 유형과 품종들은, 예를 들어, 밀, 호밀(rye), 스펠트밀(spelt), 옥수수 등을 구비하는데, 이들은 고 연삭(high grinding)의 원리에 따라 밀가루와 같은 다양한 유형의 제분 제품들로 프로세싱된다. 이 경우, 곡물은, 수분이 껍질(겨)내로 관통하여, 밀가루 몸체로부터 보다 더 잘 분리될 수 있도록, 제분전에, 통상적으로 수분으로 세정되고 헹구어진다. 그 다음, 곡물은 롤 스탠드(roll stand)와 그에 대응하는 제분 패시지에서 제분된다. 그 다음, 제분 재질은 제분 패시지에 있는 선별기/진동 선별기상의 체질 패시지에서 적절하게 체질된다. 여기에서, 전체 밀가루 몸체가 가능한 한 많이 분쇄될 때까지, 밀가루는 체질되고, 그리스트는 제분 패시지에서 다시 추가로 제분된다. 이러한 제품 유도(제분 및 임의 선별)를 패시지라고 한다. 제분/연삭 설비의 제분 라인은 여러개의 패시지를 구비할 수 있으며, 제분 재질은 제분 라인에서 제분 제품/제분 최종 제품으로 프로세싱된다.

종래 기술에 있어서, 다양한 속도 및 서로 다른 방향으로 회전하는 주로 4개 또는 8개의 롤들을 가진 롤 스탠드에서 곡물이 제분된다(진전). 활면 롤(smooth roll)과 홈이 있으며 트위스트(twist)를 가진 롤로 구분된다. 플루팅(fluting) 및 다양한 속도에 의해, 곡물 알갱이는 파쇄된다. 각각의 제분 프로세스에 있어서, 다른 크기의 알갱이 부분들이 생산된다. 선별기들(또한 진동하는 선별기들)에 있어서의 다수의 체질들에 의해, 알갱이 부분들은 크기에 따라 분류되고 분리될 수 있다. 이에 따라 사전 정의된 제분 제품이 체질되고 잔여 그리스트는 롤 스탠드상으로 다시 도입되어, 모든 제분 제품이 파쇄될 때까지, 다시 한번, 제분 제품이 분리 제거된다. 획득될 제분 제품은, 예를 들어, 밀가루(알갱이 크기＜180㎛), 거친 알갱이형 밀가루(알갱이 크기 180-300㎛), 세몰리나(알갱이 크기 300-1000), 그리스트(알갱이 크기＞1000㎛), 통밀 밀가루(180㎛를 빠져 나간 것의 대략 80%; 세정된 곡물 알갱이의 모든 콤포넌트들을 포함)로서 사전 정의될 수 있다. 종래 기술의 설비들에 있어서, 제분을 위한 곡물 및 그러한 제품들은 전형적으로 10-16개의 패시지들을 통과한다. 곡물 제분에 있어서, 용어, 패시지, 스트랜드(strand) 또는 통과(run-through))는 제품이 제분기내로 유도되는 것으로 정의된다. 상술한 제분 및 선별을 구성하는 이러한 제품 유도를 패시지라 한다. 일반적으로, 패시지는 유형, 그리스트 패시지, 진동 선별기 패시지, 밀기울 마무리기(finisher), 세몰리나 세정 기계, 퇴산(breaking up) 및 판분쇄(comminution)로 구분된다. 그리스트 패시지(예를 들어, 패시지들(B1 내지 B5))에 있어서, 그리스트는 홈이 있는 롤들상에서 연속적으로 분쇄된다. 퇴산 패시지(예를 들어, 패시지들(C1, C2, C4))에 있어서, 밀가루 또는 세몰리나 소판(platelet)들은 미세한 홈이 있는 활면 롤들상에서 프로세싱된다. 제분 패시지(예를 들어, 패시지들(C3 및 C5 내지 C11))에 있어서, 세몰리나 및 거친 알갱이형 밀가루는 적당한 유형의 밀가루로 분쇄된다. 세몰리나들 및 거친 알갱이형 밀가루는, 별도의 패시지들(C1B 및 C2B)상에서 별도로 처리되어야 하는, 달라붙은 밀기울 부분을 항상 포함한다.

제분 설비들은 식품 산업, 농축 사료 산업 또는 화학 산업에서 처럼 반복성 및 고장 안전성의 높은 벤치마크가 필요한 배치-지향 프로세스를 구비한다. 이러한 프로세스들의 제어는 복잡한 제어 개념과 지능적이고 적응적인 제어 디바이스들을 요구한다. 또한, 다양한 계수들 및 프로세스 파라메타들의 영향이 대부분 잘 알려져 있고, 역학(dynamic)들이 프로세스를 결정하며, 그에 따라, 관련 프로세스들이 대응하는 방정식 또는 공식에 의해 간단하게 구성될 수 있거나, 수반된 장치 및 디바이스가 간단하게 활성화되고 제어될 수 있는 다른 산업 영역과는 다르게, 제분시에는 제분 품질에 영향을 미치는 관련 계수들의 개수가 월등히 높고, 마찬가지로 프로세싱된 최종 제품들의 수율이 월등히 높은 것이 사실이다. 그러므로, 최종 제품의 예견된 품질 및 수율(예를 들어, 회분, 수율, 소성 품질(baking quality) 등)의 측면에서 원하는 결과를 획득하기 위해서는, 제분업자 즉, 인간의 경험이, 초기 재질/원료를 분석한 후, 그들의 직관 및 노-하우(know-how)에 기초하여 수동으로 전체적인 제분 또는 연삭 설비를 조정하고 설정해야 할 필요가 있다. 이러한 최적화는 원가의 최소화, 특히, 에너지 효율을 고려해야 한다. 또한, 초기 재질의 제분 성질들, 예를 들어, 롤링된 밀 또는 곡물의 제분 성질이 제분 프로세스에 기본이라는 점을 고려해야 한다. 전형적으로, 제분 설비가 시니어 제분업자(senior miller)에 의해 제어되어야 함에 따라, 시니어 제분업자는 생산된 밀가루의 성질을 설정하는데 있어서 결정적인 영향을 미치고 그 설정을 제어한다. 그것은, 예를 들어, 특정 단백질 범위와 같은, 특정 알갱이 속성에 영향을 주기 위해 밀의 생산 위치 또는 지역에 관련된 밀 등급(wheat grade)의 선택과 함께 시작한다. 또한, 제분업자는 제분 설비에서 주어지는, 밀 혼합(blend)/그리스트를 제어한다. 또한, 제분업자는 제분기 흐름, 롤 속도, 속도 격차(speed differential), 홈이 있는 롤들의 분배, 예를 들어, 샤프-투-사프(sharp-to-sharp) 및 활면 롤들에 대한 롤 압력을 결정할 수 있다. 제분업자는 체질 및 세정과 조합된 다른 통제 선택 사항을 가지며, 최종적으로 생산된 최종 밀가루를 혼합하기 위한 제분기 흐름 선택에 있어서도 다른 통제 선택 사항을 가진다. 이들 파라메타들과 통제 선택 사항들의 모두는 특정 품질로 밀가루를 일관성있게 생산하기 위해 제분업자에 의해 이용된다.

상기의 예시들이 특정하게 보여준 바와 같이, 예를 들어, 다른 것들 중에서도 곡물 제분기들에서 이용되는 제분 롤들은 일정하게 모니터링될 필요가 있고, 동작 및 제어 파라메타들은 적절하게 조정되거나 정정될 필요가 있다. 최종 제품의 동작들을 최적화하고 특성들을 설정하는 것 외에, 통제 제어 이상 또는 다른 동작적 이상(anomalies)으로 확대되는 시운전(dry-run)이라고 하는 것이 발생할 수 있다. 예를 들어, 비정상 상태가 너무 오랜동안 지속되면, 제분 롤의 온도가 임계 범위까지 증가하여, 화재를 유발하거나 롤에 손상을 유발할 수 있다. 동작의 이상들은 다른 방식으로 특히 품질, 수율 또는 에너지 소모와 같은 설비의 최적 동작에 영향을 줄 수 있다. 많은 영역에서 제분 설비들이 적어도 부분적으로 자동화되어 있지만, 자동화된 제어 및 최적화된 동작과 연관된 현재의 시스템들의 자동화는 어렵다. 종래 기술에 있어서, 제분 시스템들은 여전히 그들의 실증적 값들에 따라 운영 스태프들에 의해 수동으로 설정되는 경우가 빈번하다.

제분 설비의 통제 및 모니터링에 있어서, 각 패시지는 별도로 모니터링되고, 그의 동작은 적절하게 적응적으로 되거나 최적화되어야 함을 알아야 한다. 그렇게 하는데 있어서, 제분 설비에서 제어가 국소적으로 실행될 수 있으며, 이는 개별 운영자 또는 제분업자에 의해 제어되는 제분기의 개수에 관한 모니터링 선택 사항들을 제한한다. 또한 종래 기술의 설비들은, 각 패시지가 다른 패시지들의 동작과 완전히 무관하게 운영자에 의해 평가됨에 따라, 다른 효율성 이유 때문에 문제가 있다. 또한, 이러한 유형의 제어의 증가는, 병렬 운전 및/또는 유사하게 편재된 설비들의 동작에 관련하여 이용할 수 있는 가치있는 정보가 고려되지 않기 때문에, 에러를 유발한다.

종래 기술 시스템들의 동작의 제어 또는 통제의 자동화와 관련하여, 상술한 이유 때문에, 이것들은, 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)를 가진 PLC 제어 및 접속 입력 디바이스에 의한, 제어 지시의 전송 및 신호 전송으로 거의 제한된다. 여기에서, PLC는 기계 또는 설비를 제어 또는 통제하는 디바이스로서 이용될 수 있고 디지탈에 기반하여 프로그래밍될 수 있는 프로그램 가능 로직 제어기(Programmable Logic Controller)를 나타낸다. 투입 재질의 품질이 변경되면, 전형적으로, 양호한 제품 품질을 가진 높은 처리량이 다시 달성될 수 있을 때까지는 특정 시간이 소요된다. 또한, 운영자는, 예를 들어 다운스트림 콤포넌트들 중 하나로의 산출 피드백(yield feedback)을 이용하여 생산되는 간접 품질 제어를 가끔씩 이용할 수만 있다. 이것은, 제분 프로세스에 있어서 이상이 발생할 때 제분 시스템의 양호한 설정 또는 어느 정도의 제때 개입을 어렵게 한다. 그러나, 제분 롤 시스템의 통제 및 제어가 한명의 운영자(시니어 제분업자)에 의해 이루어지면, "손으로(by hand)" 그러한 제어를 착수할 수 있도록 하기 위해 전체 생산 흐름의 완전한 숙달이 절대적으로 요구된다. 그러므로, 제어의 결과는 운영자, 즉, 감독자급 시니어 제분업자의 관련된 숙달 지식 및 경험에 필수적으로 의존하게 된다. 예를 들어, 특정 기간(일요일, 밤 근무등)동안에 자격을 덜 갖춘 개인이 운영을 위해 채용되면, 상황에 따라, 박력분(light flour)등의 보다 낮은 수율로 인해 제분기의 설정에 대한 결과의 감손이 발생할 수 있다. 시니어 제분업자를 프로세서-지원 제어 디바이스로 교체하기 위한 시도는, 시니어 제분업자의 복잡한 지식 및 경험이, 통제-제어 디바이스에 의해, 특히, 규칙적인 루틴의 인간 개입없이 유지되는 독립적이고 자율적으로 기능하는 통제 디바이스에 의해 간단하게 자동화될 수 없음을 보여주었다.

제분 및 분쇄 시스템과 관련하여, 종래 기술에 다양한 제분 및 분쇄 시스템이 알려져 있다. 곡물 및 곡물 제분기들의 경우, 롤 스탠드는 단연코 가장 중요한 제분 디바이스이다. 옥수수, 보통 밀, 듀럼밀(durum), 밀, 호밀, 보리 또는 맥아가 프로세싱될지의 여부에 상관없이, 롤 스탠드가 모든 곡물 품종의 가장 이상적인 프로세싱을 주로 제공한다. 곡물 제분기에 이용되는 프로세스는 단계형 분쇄이다. 배유(endosperm)는, 여러개의 홈이 있는 스틸 롤 페어들(steel roll pairs) 또는 활면 스틸 롤 페어들을 통과함에 의해 단계적으로 분쇄된다. 그것은 밀기울 및 발아체로부터의 체질을 통해 선별기에서 분리된다. 롤 스탠드의 롤 페어들에 있어서, 전형적으로, 하나의 롤은 다른 것들보다 더 빠르게 회전한다. 두 롤들의 역회전에 의해, 그 재질은 롤 갭(roll gap)내로 도출된다. 플루팅(fluting)의 형상, 깊이 및 트위스트는, 속도 격차와 함께 각 단계에서 제분의 세기를 결정한다. 충격 제분기(impact mill)들이 알려져 있다. 충격 제분기는, 예를 들어, 곡물 제분기(곡물 및 제분 부산물), 사료 공장(사료, 두류(pulses)), 맥주 공장(매시(mash) 여과를 위한 미세 그리스트의 제조), 오일 제분(그리스트 및 그리스트 오일 케이크의 추출), 또는 파스타 공장(파스타 폐기물)의 가장 다양한 제품들을 제분하는데 적합하다. 그 제품은 예비 컨테이너(preliminary container)로부터 충격 제분기 또는 해머(hammer) 제분로 지향되고, 비터 로터(beater rotor)에 의해 운반된다. 입자들은 로터를 둘러싸고 있는 체질 슬리브(screen sleeve)의 개구들을 통과할 때까지 분쇄된다. 마지막으로, 플레이킹 롤링 제분기(flaking rolling mill)가 대응하는 증기 장치(steaming apparatue)와 함께 코어(core)를 형성하는 플레이킹 설비들이 알려져 있다. 업스트림 증기 장치(upstream steaming apparatus)에 있어서, 플레이킹 재질은 플레이킹 롤링 제분기내로 들어가기 전에, 수열적으로(hydrothermically) 처리된다. 그 설비는 그로트(groat)(전체적으로 세정되고 껍질이 벗겨진 귀리들) 및 그라우트(grout)(절단된 귀리), 옥수수, 소프트 밀(soft wheat), 보리, 메밀 및 미곡을 프로세싱하는데 적합하다. 곡류 및 유사한 제품으로부터 밀가루 및 세몰리나를 제조하는데 있어서의 특정 문제들 및 요건들로 인해, 바위에 대한 제분 기술과 다르게, 플랜트 원료 등으로부터 플래이크(flack)의 제조를 위한 아주 고유한 제분 기술을 포함하는 제분 롤 스탠드라고 하는 독립적 유형의 롤링 제분기가 개발되었음을 알아야 한다.

종래 기술의 디바이스에서는, 롤 스탠드에 있어서의 제분 재질의 분배 및 투여가, 전형적으로, 운영자(시니어 제분업자)의 상호 작용을 요구한다. 종래 기술의 롤 스탠드에 있어서, 제분 재질은 통상적으로 관련 제분 패시지의 입구내의 중심부로 도입되어 백업(back-up)된다. 그 다음, 제분 재질은, 임의 경우에 패들 롤(paddle roll)을 이용하여 중력에 의해 운반되고, 피드 롤(feed roll)을 통해 롤 갭내로 분배된다. 제분 프로세스의 초기에는, 입구의 주입 높이가, 예를 들어, 운영자에 의해 수동으로 목표 레벨로서 우선적으로 특정된다. 그렇게 하는데 있어서, 한편으로는, 충분하게 비어있는 버퍼 볼륨(buffer volume)이 이용 가능하지만(가능한 깊은 레벨), 다른 한편으로는 제분 재질이 배출 유닛의 종단에 이르도록(가능한 높은 레벨) 하는 것이 고려되어야 한다. 측정 디바이스(예를 들어, 부하 셀(load cell))에 의해, 동작시에 목표 레벨과 실제 레벨간의 편차가 검출된다. 통제 디바이스는, 실제 레벨이 가능한 목표 레벨에 대응하도록 배출이 조정되는 것을 보장한다. 부하 셀들은, 제분 재질의 주입 레벨이 직접적이 아닌 간접적으로 측정되고, 그에 따라 제분 재질의 성질에 크게 좌우되는 캘리브레이션(calibration)이 실행되어야 한다는 단점을 가진다. 이것은, 또한, 명시적인 것은 아니지만 종래 기술(예를 들어 용량성 센서들)의 모든 측정 원리에 적용된다. 종래 기술에 있어서, 가장 간단한 경우에, 제분 재질은 중력으로 인해 배출 유닛의 종단 방향으로만 흐른다. 따라서, 모든 경우에, 제분 재질이 배출 유닛의 종단에 존재하고 롤의 종단으로 배출될 수 있다는 것이 보장될 수 없다. 롤의 종단에 있는 제분 갭으로 제분 재질이 운반되지 않은 경우에, 심각한 손상이 발생할 수 있다. 종래 기술의 일부로서, 배출 유닛의 종단으로 제분 재질을 운송하는 것을 지원하는 분배 디바이스들(예를 들어, 패들 롤들)이 있다. 종래 기술을 형성하는 모든 시스템들의 단점들 중의 하나는, 이러한 분배 기능이 동작시에 및 제분 재질과 무관하게 자동으로 제어 및 통제될 수 없다는 것이다. 그러한 롤 스탠드에 있어서의 단점은, 운영자가 주입 높이를 목표 레벨로서 수동으로 정의해야 한다는 것이다. 목표 레벨의 "실증적" 설정은, 제분 재질의 분배가 피드 롤의 길이를 따라 확실하게 이루어짐을 보장해야 한다. 피드 롤을 따르는 제분 재질 분배의 테스트/모니터링은, 한다 하더라도, 단지 가시적으로 실행된다. 동작에 있어서, 부적절한 목표 레벨이 설정되고/되거나 분배 유닛이 부적절하게 사전 설정된다면, 제분 재질이 배출 유닛의 종단에 도달하지 못하게 되는 일이 발생한다. 본 기술 분야의 숙련자에게는 정정 설정이 어렵다. 동작에 있어서 제분 재질 성질이 변경되면, 종래 기술의 중요한 패시지들에서는 고장의 위험이 더 커진다. 다른 한편, 중요한 것은, 제품이 입구에서 혼합되지 않음에 따라 제품의 중앙 도입에 의해 제분 재질이 분리되지 않는다는 것이다. 2 이상의 인피딩 튜브(infeeding tube)들로 인해 서로 다른 제분 재질 품질들이 입구내로 흐르는 경우에, 특히, 입구에서 분리되는 제분 재질의 위험이 존재한다.

상술한 종래 기술의 제분 시스템들의 모두에 있어서 곡물 제분기의 특정 성질들을 고려하지 않으면, 이상적인 제분 상황을 허용하지 않은 파괴적 영향(disruptive effect)이 항상 존재할 수 있다고 알려져 있다(예를 들어, DE-OS 27 30 166 참조). 이러한 파괴적 영향은 불균일 롤 온도, 롤 페어의 스프링 특성의 변화, 제분 갭 또는 제분 압력의 변화등을 포함한다. 본 발명은, 특히, 제분 곡물에 대해 설명한 제분 시스템들의 안정적이고 적응적인 제어 및 통제를 위한 제어 및 통제 장치와, 파괴적 영향 또는 다른 동작적인 이상들의 시기 적절한 검출과 함께, 곡물 제분 설비들의 프로세스 요소들(제분 재질 및 시스템 요소들)과 이들 할당 가능한 동작 프로세스 파라메타들에 영향을 주는 제어 및 통제 장치에 관한 것이다. 적어도 부분적으로 상호 종속적인, 즉, 다양한 상관된 파라메타들이 고려되어야 하기 때문에, 그러한 제어 및 통제 시스템들의 제공 및 자동화가 복잡하다고 알려져 있다(예를 들어, EP0013023B1, DE2730166A1). 따라서, 제분 디바이스들의 동작은, 예를 들어, 곡물 또는 곡물 혼합물과 재배 지역의 유형, 수확 시기, 원하는 품질 기준, 개별적인 곡물 품종들의 특정 무게 및/또는 습기 또는 곡물 혼합의 비율들, 공기 온도, 상대적 습도, 제분 설비에 이용되는 설비 요소들의 기술적 데이터 및/또는 특정 프로세스 양들로서의 원하는 밀가루 품질과 거리의 선택, 제분 압력, 제분 롤 모터들의 온도 및/또는 전력 소모, 혼합 비율에 관련된 밀가루의 품질 및/또는 제분 재질의 달성된 습기 및/또는 흐름 속도의 선택과 같은, 다수의 파라메타들에 의해 영향을 받으며, 이는 곡물 제분 설비에 있어서의 제분 프로세스의 충분히 구분된 제어를 더욱 어렵게 한다. 이들 프로세스 양들 및 동작 프로세스 파라메타들의 적은 일부는 충분히 그들의 공차를 벗어나서 제분기의 동작에 대해 큰 영향을 미치는 경우가 빈번하다. 프로세스의 이러한 복잡성은, 설비들의 자동화를 위한 모든 노력에도 불구하고, 시니어 제분업자, 또는 "인간의 경험"이 입력 신호 양들에 각각 할당된 제어 신호들의 변화가 바람직하게 나타나는지를 결정해야 함에 따라, 시니어 제분업자가 여전히 존재한다는 사실 때문에 감사할 일이다. 그들이 상술한 입력 신호 양들과 제어 신호 양들간에 최적의 할당을 발견했다면, 이러한 할당은 전형적으로 곡물 제분 설비내의 대응하는 메모리 할당 및 어드레싱에 의해 보장된다.

일반적으로, 오늘날 알려진 고 제분 플랜트(high milling plant)는 각각의 제분 패시지 이후의 반복적인 제분 및 선별을 그 특징으로 한다. 이것은 소프트 밀과 듀럼밀 제분기 및 옥수수 제분기들에 적용된다. 이전의 프로세스에서는, 이러한 절차가 15 내지 20회 반복되었다. 오늘날 시스템들은 12회 내지 15회의 제분과 함께 양호한 동작 유도로 동일한 결과를 달성한다. 그렇게 하는데 있어서, 양호한 운영자/제분업자는, 특히 각 곡물 알갱이의 여러 부분들의 매우 주의깊은 단계적 종결에 의해 다양한 곡물 품질 및 목표 제분 유도를 혼합함으로써 매우 다양한 원료들로부터, 예를 들어, 추가적인 프로세싱 기술들, 제과점, 파스타 공장들에 의해 요구되는 품질을 달성할 수 있다. 요구된 요건을 충족시키기 위해, 제분 설비는 특정 양의 원료, 즉, 제분 재질에 대해, 대응하는 품질 및 제품 파라메타들을 가진 특정 양의 제분 최종 제품을 계산해 내야 하며, 곡물 제분기는 제분 제품(예를 들어, 밀가루, 세몰리나 등)의 가능한 높은 수율을 달성하는 것을 목표로 한다. 단지 요구된 품질 기준 및 프레임워크 파라메타들을 유지함으로써, 제분 설비의 동작이 양호하게 된다. 필수적인 측면은 제분기에 있어서 제분 및 체질 패시지들의 개수에 직접 의존하는 요구된 동작 리소스들의 규모이다. 최근의 모든 노력들이 보여주는 것은, 직접적인 감소가 없는 고 제분에 있어서, 그것이 제분 제품 품질의 수율이든지 간에, 제분업자의 제분 프로세스와 그러한 제분 설비의 제어의 개발이 둔화될 정도로 추가적인 노력없이는 제분이 단축되거나 최적화될 수 없다는 것이다.

특히, 제분 설비들의 프로세스 기술 제어 및 동작을 위한 동적 반응 프로세스의 경우, 그것이 제분 설비 또는 제분 패시지내의 재질 운송 또는 복잡한 배치 프로세스들의 자동화와 관련되면, 모든 제분 프로세스에서는 대응하는 해법들이 없다. 생산/프로세스 및 분배 제어 시스템을 통해 프로세스 안전성을 획득하는 것은 어렵다. 법적 조항들에 의해 요구되고 인증을 위해 요구되는 원료/제분 재질의 공급자까지의 제분 최종 제품의 이력 추적은 종래 기술의 디바이스에 의해서는 충분히 보장되지 못한다. 이것은, 특히, 식품, 합성 사료 및 사료 산업의 설비들과 같은, 곡물 제분기들의 자동화 및 제어 영역과 연관된다.
종래 기술의 문서 EP 00113023A1은 곡물을 제분하는 프로세스 및 그에 대응하는 곡물 제분 설비를 개시한다. EP 00113023A1은 시니어 제분업자와 제어 시스템간의 작업의 보다 양호한 분할 및 시니어 제분업자에 의한 프로세스 및 곡물 제분의 유도를 보다 쉽게 하는 것에 관한 것이다. 그 프로세스를 위해, 그것은 (ⅰ) 습도, 대기 온도, 곡물 품종들과 같은 특정된 프로세스 파라메타들, (ⅱ) 수율, 회분 또는 최종 제품의 수분, 및 (ⅲ) 전체적으로 프로세스 파라메타들이라고 명시되는 롤 갭, 롤 압력 또는 롤 속도와 같이 제분 프로세스를 제어할 수 있고 제분 프로세스내에서 통제될 수 있는 파라메타들과 같은 동작 프로세스 파라메타와 함께 시작된다. 제분 설비의 제분 요소들을 제어하는 입력 신호들은 프로세스 파라메타들의 질적 및 양적 평가에 기반한다. EP 0013023은 그의 교시에 있어서 의식적으로 곡물 제분기이 프로세스 유도에 있어서 시니어 제분업자, 즉 인간의 포함을 기반으로 한다. 다시 말해, 그 발명은 시니어 제분업자에 의해 목표 파라메타들들에 개선된 접근 및 제분기의 안정적인 유도를 보장하기 위한 수단임에 틀림없다. 그 발명을 통해, 컴퓨터 지원 평가에 적절한 프로세스 파라메타들과 제어를 위한 입력 신호들의 가능한 설정에 대해 계산될 수 있는 영향이, 할당된 제어 신호들에 의한 제어를 위한 입력 신호 파라메타들로서 그룹 단위로 이용되고 적절한 그룹으로 요약된다. 시니어 제분업자는 프로세스 유도를 기억하지만, 측정된 데이터에 기초하여 생성된 입력 신호 파라메타들로부터의 지원을 획득한다. 이것에 있어서, 파라메타들의 세부 분할은 시니어 제분업자와, 자동화된 신호 파라메타 생성간의 투명한 공조를 가능하게 한다. DE 10 2008 040 095 A1에는 곡물들의 프로세싱을 위한 설비가 개시된다. 그 발명에 따른 설비는 관련 유닛에 할당되는 국소 통제 시스템 및 설비의 유닛들의 상당 부분에 걸쳐있는 글로벌 통제 시스템을 구비한다. 그 설비는 설비의 구성을 생성하는 고정된 글로벌 통제 세트들과 고정된 국소 통제 세트들을 적용함에 의해 통제된다. 최종 제품 및 원하는 성질들은, 시스템의 시니어 제분업자에 의해 정의되고 제품 레시피를 특정한다. 설비의 프로세싱 유닛들은 센서들을 구비하고, 그의 결과는 국소 또는 글로벌 통제를 위해(예를 들어, 시각적 또는 청각적 경고로서) 시니어 제분업자에게 지향된다. 본 경우에 있어서 시니어 제분업자에게 지향되는 센서 정보는 국소 및 글로벌 설비 구성 및 제품 레시피를 고려한다. 마지막으로, WO 2014/187799A1은 제분 설비에 의한 곡물 제분 프로세스를 개시한다. 동작 파라메타들에 의해 정의된 설비의 설정에 기초한 프로세스 시뮬레이션 모듈에 의해, 결과하는 밀가루의 수율 및 성질 파라메타들이 시뮬레이션된다. 시뮬레이션된 밀가루에 기초하여, 수율, 성질 및 공차 파라메타들 중 가장 적은 편차를 가진 가장 가까운 통상용 밀가루가 할당된다. 시뮬레이션된 밀가루에서 시작하여, 각각의 밀가루에 대한 품질값이 계산된다. 반복적으로, 프로세스 시뮬레이션 모듈에 있어서의 동작 파라메타들은, 결과하는 통상 밀가루에 대해 충분한 품질값이 달성될 때까지, 확대된다.

본 발명의 목적은 종래 기술로부터 알려진 단점 및 기술적 문제점들을 해결하기 위한 것이다. 특히, 롤 시스템의 제분 라인 및/또는 패시지들의 최적화 및 간단한 제어를 위한 최적화된 지능적 및/또는 적응적 제어/통제 디바이스가 제공되며, 그에 의해 최적화되고 자동화된 제분 및/또는 연삭이 착수될 수 있다. 그렇게 하는데 있어서, 제분기의 동작 안전성이 증가되어야 하고, 동시에, 그 동작이 최적화되어야 한다. 특히, 운영자의 작업이 기술적으로 단순화되어야 한고 동일 운영자에 의해 더 많은 제분 설비들이 동작될 수 있어야 한다. 또한, 실시간 또는 준-실시간으로 긴급히 발생하는 이상에 응답할 수 있도록 하는 기술적 수단들이 제공되어야 하며, 패시지 및/또는 제분 설비들이 전체적인 영향을 자동으로 기록할 수 있고 그에 따라 동작이 적응적으로 될 수 있다.

본 발명에 따르면, 이들 목적들은 특히 독립 청구항들의 특징부의 요소들에 의해 달성된다. 바람직한 실시 예들이 종속항들 및 상세한 설명에 의해 강조된다.

특히, 이 목표들은 다수의 제분 제품들의 산업적 생산을 위한 하나 이상의 프로세싱 라인들을 가진 하나 이상의 제분기들을 구비한 제분 설비에 대한 본 발명에 의해 달성되며, 프로세싱 라인 및/또는 패시지는 제분 재질을 제분하기 위한 제분 롤 페어들(B₁ (B₁₁/B₁₂), B₂, B_x: C₁ (C₁₁/C₁₂), C₂, C_x)을 가진 적어도 하나의 제분 패시지(B,C)와 제분 재질을 선별하고 체질하기 위한 적어도 하나의 다운스트림 체질 패시지(S)를 구비하고, 프로세싱 라인을 통해, 특정 수율 파라메타들과 제분된 제품 파라메타들을 가진 특정 제분 제품이 생산될 수 있고, 제분 설비의 각 제분기는 할당된 I/O 인터페이스들을 통해 프로세싱 라인들에 할당된 프로세싱 디바이스들(B_x/C_x/S_x)의 국소 제어 및/또는 통제를 위한 적어도 하나의 PLC(Programmable Logic Controller)를 구비하되, 상기 제분 설비는, 제분 설비의 최적화된 제어를 위한 중앙 통제 및 제어 디바이스를 구비하고, PLC는, 네트워크 인터페이스(202)에 의해 중앙 통제 및 제어 디바이스와 양방향으로 접속되고 중앙 통제 및 제어 디바이스에 의해 전달된 제어 파라메타들에 응답할 수 있으며, 프로세싱 라인의 프로세싱 디바이스(B_x/C_x/S_x)는, 할당된 I/O 인터페이스들을 통해 원격으로 PLC에 의해 통제 및 제어 디바이스의 전달된 제어 파라메타들에 기초하여 활성화될 수 있고, 그의 동작은 최적화된 방식으로 개별적으로 통제되고/되거나 원격으로 제어되는 것을 특징으로 한다. 프로세싱 디바이스들(B_x/C_x/S_x)의 국소 기계 프로세스들의 프로세스 디바이스들(B_x/C_x/S_x)의 원격 제어 및 통제는, 예를 들어, 통제 및 제어 디바이스에 의해 실시간 데이터 교환으로 실행될 수 있다. 통제 및 제어 디바이스는, 예를 들어, 네트워크 인터페이스를 구비하며, 그에 의해, 통제 및 제어 디바이스는 PLC와 네트워크 인터페이스들을 구비한 제분기의 제어 시스템을 액세스한다. 중앙 통제 및 제어 디바이스는 패시지-지정 및/또는 패시지-포괄 배치 파라메타(passage-encompassing batch parameter)들에 의거하여 전달될 제어 파라메타들을 생성하는 수단을 추가로 구비하며, 패시지-지정 및/또는 환경-지정 파라메타들 중 하나 이상의 파라메타에 기초한 제어 파라메타들 중 적어도 하나에 의해, 할당된 프로세싱 디바이스들(B_x/C_x/S_x)을 가진 다양한 제분 라인들은 통제 및 제어 디바이스에 의해 중앙식으로 최적화되고/되거나 개별적으로 통제된다. 패시지-포괄 파라메타들은, 예를 들어, 습도 및/또는 공기압 및/또는 주변 온도를 구비한 위치-종속적 측정 파라메타들을 구비하고, 패시지-지정 파라메타들은, 예를 들어, 제분 롤 페어들(B₁, B₂, ... , B_x: C₁, C₂, ... , C_x)의 에너지 소모 및/또는 예비 압력 및/또는 제분 재질의 입력 온도를 구비하는 프로세싱 디바이스들(B_x/C_x/S_x)의 국소 동작 파라메타들을 구비한다. 통제 및 제어 디바이스에 의해, 예를 들어, 패시지-포괄 파라메타들은 적어도 2개의 제분 패시지에 대해 글로벌하게, 즉, 디바이스 포괄적으로, 최적화되고 통제될 수 있으며, 패시지-지정 파라메타들은 관련된 제분 패시지와 관련하여 독립적으로 최적화되고 통제된다. 중앙 통제 및 제어 디바이스는, 예를 들어, 동작 프로세스 레시피(recipe)들을 구비하고, 배치 제어(batch control)는 동작 프로세스 레시피에 기초하여 제분 라인들 또는 패시지들 중 하나의 프로세싱 유닛들(B_x/C_x/S_x)의 정의된 프로세싱 시퀀스로 통제 및/또는 제어되며, 특정 성질 파라메타들을 가진 최종 제품의 정의된 양은, 동작 프로세스 레시피에 기초하여, 특정 성질 파라메타들을 가진 하나 이상의 투입 재질로부터 생성된다. 동작 프로세스 레시피의 제분 프로세스 동안, 동작 제어 파라메타들 및/또는 배치 파라메타들은 통제 및 제어 디바이스에 의해 계속적으로 모니터링되며, 정의 가능한 파라메타 값들의 요동 또는 이상이, 정의된 제어 파라메타들 및/또는 배치 파라메타들과, 모니터링된 제어 파라메타들 및/또는 배치 파라메타들간의 정의된 편차로서 검출되면, 제어 파라메타들은 통제 및 제어 디바이스에 의해 자동으로 정정되고/되거나 적응화된다. 패시지-지정 측정 파라메타들은, 제분 설비의 하나 이상의 롤 스탠드(roll stand)의 흐름 및/또는 전력 소모에 관련되는 적어도 측정 파라메타들을 추가로 구비한다. 하나 이상의 롤 스탠드들은, 예를 들어, 홈이 있는 롤들(B₁ (즉, 롤 페어 B₁₁, B₁₂), B₂ (B₂₁, B₂₂), ..., B_x (B_x1, B_x2)) 및/또는 활면 롤들(C₁ (즉, 롤 페어 C₁₁, C₁₂), C₂ (C₂₁, C₂₂), ... C_x (C_x1, C_x2))일 수 있다. 패시지-지정 측정 파라메타들은, 예를 들어, 제분기의 모든 롤 스탠드의 흐름 및/또는 전력 소모와 관련된 적어도 측정 파라메타들을 구비할 수 있다. 최적화된 배치 프로세스의 프로세스-특유의 동작 제어 파라메타들에 의해, 예를 들어, 최종 제품의 품질 파라메타들은 표준 범위내에 정의될 수 있고, 특정 밀가루 수율은 투입 제품들에 의거하여 결정될 수 있다. 결과적으로, 표준 범위로부터의 편차들이 트리거(trigger)되고 검출될 수 있다. 최종 제품의 정의된 성질 파라메타들은, 적어도 입자 크기 분포 및/또는 전분 손상 및/또는 단백질 품질 및/또는 수분 콘텐츠(water content)를 구비한다. 모니터링된 동작 제어 파라메타들 및/또는 배치 파라메타들은, 예를 들어, 적어도 수율 및/또는 에너지 소모 및/또는 처리량/기계 구동 시간을 구비할 수 있다. 중앙 통제 및 제어 디바이스는, 예를 들어, 다양한 제분 라인들의 디스플레이 가능 단일 웹-기반 모니터링 시스템을 구비하며, 그에 의해, 제분 설비는 최적화된 방식으로 중앙식으로 모니터링 및/또는 제어된다. 작동 디바이스 및/또는 통제 및 제어 디바이스의 제어 시스템의 모니터링 또는 제어 디스플레이는, 예를 들어, 근접 센서 및/또는 움직임 센서를 구비할 수 있으며, 그 디스플레이는 제분 설비 및/또는 제분기의 운영자까지의 측정된 거리에 기초한 제분 설비의 근접 센서 및/또는 움직임 센서의 측정 결과에 따라 자동으로 스위칭 온 및 오프된다. 이것은, 에너지 절약 기능 뿐만이 아니라, 디스플레이의 서비스 수명/동작 시간이 크게 증가되게 한다.

특히, 본 발명의 장점들 중 하나는, 제분 설비들이 디바이스를 포괄하는 신규한 방식으로 최적화될 수 있다는 것이다. 프로세스 기능 또는 프로세싱 기능은 특정 제분 방법을 위한 제분 설비의 제분 패시지들의 적당한 선택 후에 가능한 많이 최적화되어야 하며, 그 설비의 동작에 대해 재생 가능하여야 한다. 그러나, 전형적으로, 분쇄동작이 고유하게 특성화될 수 도 없고, 입자 성질에 대한 프로세스 또는 동작 파라메타들의 영향이 확실하게 예측될 수도 없기 때문에, 제분 설비의 기하학적 파라메타들 또는 제분 디바이스들의 처리량, 속도 또는 특정 에너지, 에너지 소모는 어느 정도로 및 어떤 방식으로 든 그 성질에 영향을 주며, 특히, 제분 제품의 분산 성질들은 동작 파라메타들의 최적화된 통제에 결정적이다. 본 발명에 따른 디바이스에 의한 중앙 제어 가능성과, 패시지-지정 및 글로벌 동작 또는 프로세스 파라메타들에 대한 분리된 제어 가능성을 통해, 실시간 동작의 효율적인 제어 및 파라메타 기반 적응화와 관련된, 신규한 유형의 제분 설비의 최적화된 동작이 가능하게 된다.

이하에서는 본 발명의 도시된 예시들이 예시들을 이용하여 설명된다. 도시된 예시들은 이하의 첨부 도면에 의해 도시된다.
도 1은 본 발명에 따른 예시를 개략적으로 나타낸 것으로, 롤 스탠드들(B_x/C_x)을 가진 패시지(3)는 통제되고/되거나 제어되고/되거나 모니터링되고, B 패시지(본 명세서에서는 홈이 있는 롤들 (B₁ (롤 페어(B₁₁, B₁₂)), ..., B_x (B_x1/B_x2))) 및 C 패시지(본 명세서에서는 활면 롤들(C₁ (롤 페어(C₁₁/C₁₂)), ..., C_x))로 세분된다. 제분 설비(1)는 다양한 제분 제품들의 산업적 제조를 위한 하나 이상의 프로세싱 라인/패시지(3)를 각각으로 가진 하나 이상의 제분기 또는 작동 디바이스(2)(플랜트)를 구비한다. 이 경우, 프로세싱 라인 또는 패시지(3)는, 제분 재질을 제분하기 위한 제분 롤 페어들(B₁, B₂, ..., B_x; C₁, C₂, ..., C_x)를 가진 적어도 하나의 제분 패시지(B,C), 및/또는 제분 제품을 선별하고 체질하는 적어도 하나의 체질 패시지(S₁, ..., S_x )를 구비할 수 있다. 특정 수율 파라메타들과 제분 제품 파라메타들을 가진 특정 제분 제품은, 제분 라인(3)을 통해 생산된다. 제분 설비(1)의 각 작동 디바이스 또는 제분기(2)는 할당된 I/O 인터페이스(32)들을 통해 하나 이상의 제분 라인들(3)에 할당된 프로세싱 디바이스들(31/B_x/C_x/S_x)의 국소 제어 및/또는 통제를 위한 적어도 하나의 원격 응답 가능 프로그램 가능 로직 제어기(201)(전형적으로 PLC로 표기됨)를 구비한다. 제어 디바이스(4)는, 특히, 예를 들어, 하나 이상의 제분기(2)의 여러 패시지들(3)의 프로세싱 디바이스들(31)을 웹 기반 및 중앙식으로 제어한다.
도 2는 본 발명에 따른 예시를 개략적으로 나타낸 도면으로서, 통제 및 제어 디바이스(4)는 인터페이스(42)에 의해, 전세계적 백본 네트워크(worldwide backbone network), 즉, 인터네 및/또는 인트라넷에 접속된다. 통제 및 제어 디바이스(4)는 네트워크 인터페이스(42)에 의해 데이터 전송 네트워크(41)와 네트워크 인터페이스(202)를 통해 작동 디바이스(20)의 제어 시스템(플랜트 제어 시스템)에 접속된다. 웹 서버 애플리케이션(72)은 원격 클라이언트(7) 또는 브라우저(browser)에게 원하는 디스플레이 및 입력/출력 선택 사항 및/또는 제어/모니터링 페이지들(721/722)을 제공하며, 원격 클라이언트(72)는 네트워크 인터페이스(71)에 의해 네트워크(41)에 접속된다. 통제 및 제어 디바이스는, 또한, 기계/프로세스 서버로서의 국소 통제 및 제어 디바이스와, 클라이언트로서의 원격 시스템(7)간의 데이터 상호 교환이 가능하도록 필요한 데이터 서비스들 또는 인터페이스들을 제공한다. 이러한 예시에 있어서, 웹 서버(72)의 데이터 및/또는 웹 페이지들의 원격 뷰잉(remote viewing)을 위한 단일한 전제 조건은, 표준 브라우저 인터페이스가 요구된다는 것이다. PLC(201)가 작동 디바이스(2), 예를 들어, 제분기의 제어 시스템(20)에 이용되면, 제어 시스템(20)과의 실시간 데이터 교환을 위한 최적화 또는 임의 회사 지정 제어 소프트웨어와, 그에 필적하는 데이터 교환 서비스가 필요하게 된다. 예를 들어, PLC(201)는, 대응하는 프로토콜(예를 들어, OPC UA)을 통해, 제어 클라이언트(예를 들어, OPC UA 클라이언트)와 통제 및 제어 디바이스(4)의 대응하는 해독기에 의해 표준화 또는 독점 방식으로 응답할 수 있다. 이러한 예시적인 실시 예에 있어서, (예를 들어, 신 서버(thin server)로서 실현되는) 웹 서버/데이터 서비스(46)는 작동 디바이스(2)(예를 들어 신 클라이언트(thin client)로서 실현됨) 또는 프로세스와 인터넷간의 접속을 제공한다. PLC(201) 또는 독점 제어기는 플랜트 제어 시스템(20)을 구비하며, 그에 의해, 프로세싱 라인(3)의 프로세싱 유닛(31)은 제어되고/되거나 통제될 수 있다. AB, Schneider/Modicon 또는 Simens로부터의 PLC들과 같은, 대부분의 PLC들은, PLC 제조자 또는 제 3 제공자의 대응하는 통신 프로토콜과의 적어도 하나의 직렬 접속을 지원한다. 전형적으로, 신 서버 제조자의 관련 데이터 전달 구동기는 내장 소프트웨어 애플리케이션으로서 제공된다. PLC들을 필요로 한 특정의 예시들에서는, 실시간 데이터 교환을 위한 최적화 또는 회사 지정 소프트웨어/프로토콜들, 대응하는 원격 서버 및 그에 필적하는 데이터 교환 서비스가 필요할 수 있다.
도 3은 종래 기술에 알려진 것과 같은 8개의 제분 롤들을 가진 롤 스탠드(33)에 기반한 프로세싱 라인(3)을 개략적으로 도시한 도면이다. 그러한 8개의 롤 스탠드(33)는, 예를 들어, 2등분으로 구성된다. 즉, 좌측 절반은 그리스트 패시지(331) 및 우측 절반은 판분쇄 패시지(332)로 이루어진다. 그리스트 패시지(331)는, 예를 들어, 홈이 있는 롤들(3311/3312)을 구비하며, 도 3에는, 보다 빠른 구동 롤(3311)이 2개의 화살표로 표시된다. 롤들(3311 및 3312) 각각의 아래에는 스트리퍼 브러시(stripper brush)(3313)가 배치된다. 판분쇄 패시지(332)에는, 롤 세정 스트리퍼 나이프(roll clean stripper knife)(3323)의 표면을 유지하기 위해 다수의 활면 롤들(3321 또는 3322)이 이용된다. 특정 제분 작업에 의거하여, 각각의 하부 롤 페어(3315, 3316 또는 3325, 3326)는, 대응하는 상부 롤들과 동일한 유형의 거칠게 홈이 파인 롤, 정밀하게 홈이 파인 롤 또는 활면 롤러들로서 형성된다. 그 재질은, 예를 들어, 대응하는 인피드 실린더(333)에 의해 롤 스탠드(33)의 좌측 및 우측으로 지향될 수 있다. 그렇게 하는데 있어서, 예를 들어, 고 제분 전력을 위해, 롤 스탠드의 좌측 절반과 우측 절반은 동일하게 되도록 고안되며, 그에 따라 좌측 및 우측 절반들의 각각은 제분 제품의 절반을 프로세싱할 수 있게 된다. 피드 실린더(333)에 있어서, 예를 들어, 피드 실린더(333)내로 흐르는 각각의 도착 재질량이 제품 피드 시스템을 통해 동일한 량으로 배출되도록 제품 피드(3332)를 제어하는 센서(3331)가 형성될 수 있다. 그 재질은, 피드 채널(334)을 통해 롤 갭으로 직접 지향될 수 있다. 롤들(3311, 3312 또는 3321, 3322)의 주변으로 지향되는 2개의 공기 채널들(335)에 의해 고정될 수 있는 피드 채널(334)에서 공기 흐름이 생성된다. 상부 롤 페어(3311, 3312)에 의해 연삭된 재질은 제품 제거 통풍구(funnel)(336)를 통해 하부 롤 페어(3315,3316)의 제분 갭내로 직접 지향된다. 또한, 하부 롤 페어(3315,3316)에 있어서, 공기 채널(335)를 통해 공기가 흡입된다. 4개의 롤 페어들 모두(3311, 3312, 3315, 3316, 3321, 3322, 3325, 3326)는 제분 갭과 관련하여 설정 디바이스(3314 및 3317 또는 3324 및 3327)에 의해 설정될 수 있다. 이물질에 대비하는 디바이스, 체결 및 체결 해제 디바이스와 같은 모든 다른 디바이스들은, 예를 들어, 4-롤 플랜트들에서 이용되는 것과 같이, 8-롤 플랜트들에서 이용될 수 있다. 제품 제거 통풍구에 있어서, 공기 유도가 실현될 수 있다. 이것은 거친 알갱이의 밀가루 및 밀가루 제분 제품에게 장점을 제공하는데, 그 이유는, 개별적인 공기 및 제품 유도에 의해 강하 제품 흐름의 보다 정밀한 유도가 가능하기 때문이다. 제분 롤 페어들(3311, 3312-3321, 3322)의 각각은, 예를 들어, 휠과 그에 대응하는 조정 요소들로 구성된 그들 자신의 제분 갭 설정 디바이스(3314, 3317, 3324, 3327)를 제시한다. 또한, 제분 갭 설정 디바이스(3314, 3317, 3324, 3327)를 자동으로 조정하는 하나 이상의 서보모터(servomotor)(337)들이 제공될 수 있다. 디스플레이를 통해, 2개의 제분 롤들의 순시 갭 값(momentary gap value)이 모니터링될 수 있다. 추가로, 서보모터들은 제어 디바이스와 저장 매체를 통해 자동으로 작동될 수 있으며, 제어 디바이스와 저장 매체는 작동 디바이스의 제어 시스템(20)의 집적화된 콤포넌트로서 실현될 수 있다. 특히, 서보 모터(337)와, 그에 따른 제분 갭 설정 디바이스들(3314, 3317, 3324, 3327) 뿐만이 아니라, 프로세싱 유닛(31) 및 I/O 인터페이스(32)로서의 제품 제어 시스템(3332) 및 센서들(3331)은 작동 디바이스(20)의 제어 시스템에 의해 모니터링되고, 제어되고 자동으로 통제될 수 있다.
도 4는 "글로벌"한, 패시지-포괄 파라메타들 및 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x/43221, ..., 4322x)로부터의 발췌를 개략적으로 도시한 도면이다. 짙은 회색은 패시지-포괄 관련 파라메타들(43221, ..., 4322x)이고, 옅은 회색은 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)이다. 이하에 있어서, 글로벌한 또는 패시지-포괄 파라메타들(43221, ..., 4322x)은 프로세싱 디바이스들(31)을 가진 다양한 프로세싱 라인들 또는 패시지들(3)에 있어서 동일하거나 대응하는 영향을 주는 파라메타들을 의미하는데, 그 이유는 그들의 지리학적 할당 또는 디바이스-지정 등가 때문이다. 본 발명에 따르면, 그들은 여러 프로세싱 라인들(3)의 제어/통제 및 모니터링을 생성하기 위해 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 중앙식으로 이용된다. 이에 비해, 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)은 단지 특정 프로세싱 라인(3) 또는 프로세싱 디바이스들(31) 중의 하나의 디바이스에 대해서만 특정하게 관련된다.
도 5는 제어 디바이스(4)에 의한 원격 기계 제어를 위해 웹 서버상의 이동 애플리케이션에 의한 원격 액세스와, 국소 동작 패널이 없는 기계들의 원격 동작을 위한 HMI(Human-Machine Interface) 식별을 가진 이동 애플리케이션을 가진 본 발명에 따른 예시의 블럭도를 개략적으로 도시한 도면이다. 제어 디바이스(4)는 동일하거나 다른 제분기들(2)의 여러 패시지들(3)의 프로세싱 디바이스들(31) 및/또는 동일하거나 다른 제분 설비들(1) 또는 프로세스 산업의 범용 설비들의 프로세싱 디바이스들(31)을, 프로세싱 라인들(3)에 응답하는 국소 PLC(201)에 의해, 중앙식으로 제어한다.

도 1은 본 발명에 따른 예시를 개략적으로 나타낸 것으로, 롤 스탠드들(B_x/C_x)을 가진 패시지 또는 프로세싱 라인(3)은 제어되고/되거나 모니터링되고, 예를 들어, B 패시지(본 명세서에서는 홈이 있는 롤들 (B₁ (롤 페어(B₁₁, B₁₂)), ..., B_x (B_x1/B_x2))) 및 C 패시지(본 명세서에서는 활면 롤들(C₁ (롤 페어(C₁₁/C₁₂)), ..., C_x))로 추가로 세분된다. 그러한 프로세싱 라인들 또는 패시지들(3)은, 또한, 예를 들어, 롤 스탠드들과는 다른 프로세싱 유닛들(31)을 구비한다. 일반적으로, 패시지들(스트랜드 또는 통과)은 제분기, 예를 들어, 곡물 제분기로의 제품 도입을 나타낸다. 이 경우, 롤 스탠드로 제분된 곡물 또는 알갱이 재질은 진동하는 선별기로 체질된다. 모든 밀가루가 분쇄될 때까지, 밀가루가 체질되고 그리스트가 다시 제분된다. 이러한 제품 유도(제분 및 선별)를 본 명세서에서는 패시지라 한다. 곡물 및 알갱이 제품은 (제분 다이어그램에 따라) 10-16개의 패시지들을 통과할 수 있다. 그러나, 본 발명은 프로세스 산업의 설비들의 프로세스-제어 프로세싱 라인들과 전반적으로 관련된다. 본 명세서에 있어서 프로세스 산업의 설비들은 화학적, 물리적, 생물학적 또는 다른 기술적 프로세스들 및 절차들에 있어서 물질 및 재질들의 산업적 프로세싱을 위한 설비이다. 여기에서, 물질 및 재질들은, 예를 들어, 대응하는 프로세싱 라인들을 통해 구현되거나, 형성되거나, 혼합 또는 분리되거나, 캐스팅(casting)되거나, 제분되거나, 압착된다. 다양한 전형적인 프로세스들로는, 증류 및 결정화에 의해 반응 제품의 화학적 반응 및 준비, 초코렛의 생산 및 프로세싱, 정유(rectification)에 의한 원유 준비, 유리의 용융(melting of glass), 알갱이 재질(곡물과 같은 유기 재질 또는 바위와 같은 무기 재질)의 제분 또는 빵의 산업적 굽기 또는 파스타의 제조 및 프로세싱(예를 들어, 파스타의 산업적 제조) 등이 있다.

그러나, 본 발명은, 제분 설비를 이용하는 다른 프로세싱 설비들에 대해서도 필수적으로 설명된다. 참조 번호 1은 프로세싱 라인에 의해 프로세싱되는 다양한 제분 제품들 또는 다른 제품들의 산업적 제조를 위한 하나 이상의 프로세싱 라인들(3)을 각각으로 가진 하나 이상의 제분기들 또는 작동 디바이스들(2)(플랜트)을 구비한 제분 설비 또는 프로세싱 설비를 나타낸다. 프로세싱 라인(3)은, 예를 들어, 제분 재질을 제분하기 위한 제분 롤 페어들(B₁, B₂, ..., B_x; C₁, C₂, ..., C_x)을 가진 적어도 하나의 제분 패시지(B,C)를 구비한다. 제분 또는 분쇄 설비(1)의 선택은 초도 제품 및/또는 최종 제품의 도량형 특성(metrological characterisation) 및/또는 초도 제품의 양적 사양(quantity specification)에 의해 결정될 수 있다. 특히, 제분 설비(1)의 선택에 있어서, (ⅰ) 제품의 건조, 습기 또는 물기, (ⅱ) 제품의 경도(hard), 부서짐(brittle) 또는 가소성(plastic), (ⅲ) 초도 제품의 입자 크기, (ⅳ) 최종 제품의 분말도(fineness), (ⅴ) 제품 처리량과 같은 소수의 파라메타들이면 충분하다. 상술한 바와 같이, 적어도 하나의 롤, 특히 제분 설비(1) 또는 프로세싱 라인(3)의 제분 롤 페어의 2개의 롤들(31)은 활면 롤(C₁, C₂,..., Cx), 홈이 있는 롤(B₁, B₂,..., Bx), 또는 플레이트(plate)가 나사로 죄어 있는 롤 베이스 몸체(roll base body)로 고안될 수 있다. 활면 롤들(C₁, C₂,..., Cx)은 원통형이거나 접시형일 수 있다. 홈이 있는 롤들(B₁, B₂,..., Bx)은 다양한 홈이 있는 기하학적 구조, 예를 들어, 지붕 모양 또는 사다리꼴의 홈이 있는 기하학적 구조 및/또는 원주형 표면상에 중첩된 세그먼트들일 수 있다. 적어도 하나의 롤, 특히, 제분 롤 페어의 2개의 롤들, 특히 적어도 하나의 제분 롤, 특히 제분 롤 페어의 2개의 제분 롤들은 500mm 내지 2000mm의 범위의 길이와, 250mm 내지 300mm 범위의 직경을 가진다. 롤, 특히 제분 롤의 원주형 표면은, 바람직하게, 롤 몸체에 움직일 수 없게 접속되며, 특히, 그와 일체로 형성된다. 이에 따라 제품, 특히, 제분의 간단한 제조 및 신뢰성 있고 견고한 프로세싱이 가능하게 된다. 롤들은, 롤들, 특히 롤 페어의 2개의 롤들 중 적어도 하나의 상태를 특정하는 측정치를 기록하는 적어도 하나의 센서를 갖도록 고안될 수 있다. 특히, 이것은, 롤들, 특히, 롤 페어의 2개의 롤 중 적어도 하나의 원주형 표면의 상태일 수 있다. 그 상태는, 예를 들어, 롤들, 특히, 롤 페어의 2개의 롤 중 적어도 하나의, 온도, 압력, 힘(하나 이상의 방향으로의 힘 성분), 마모, 진동, 변형(확장 또는 굴절 경로), 회전 속도, 회전 가속도, 주변 습도, 위치 또는 배향일 수 있다. 센서들은, 예를 들어, MEMS(Micro-Electro-Mechanical System) 센서로서 고안될 수 있다. 센서는 바람직하게, 적어도 하나의 데이터 전송기와의 데이터 접속으로서, 데이터 전송기는 데이터 수신기에 적어도 하나의 센서의 측정치들을 무접촉 전송하도록 고안된다. 적어도 하나의 데이터 전송기의 도움으로, 그 측정치들은 롤의 일부가 아닌 데이터 수신기에 무접촉으로 전송될 수 있다. 제분 설비는 프로세스 또는 제품 또는 동작 파라메타들을 기록하기 위한 측정 유닛들 및 다른 센서들, 특히, 하나 이상의 롤들의 전류/전력 소모를 측정하는 측정 디바이스들을 구비한다. 다른 것들 중에서, 센서들은 (ⅰ) 적어도 하나의 온도 센서, 바람직하게는 롤을 따라 롤의 온도 또는 온도 프로파일을 측정하는 여러개의 온도 센서들, (ⅱ) 하나 이상의 압력 센서들, (ⅲ) (하나 이상의 방향으로의 힘 성분을 결정하기 위한) 하나 이상의 힘 센서, (ⅳ) 트위스트, 즉, 프로세싱, 특히 소정 위치에서 제분을 저해하는 롤의 원주형 표면상에서 프로세싱될 제품의 접착을 결정하는 하나 이상의 진동 센서들, (ⅴ) (확장 및/또는 굴절을 결정하기 위한) 하나 이상의 변형 센서들, (ⅵ) 특히, 롤의 정적 상태를 결정하는 하나 이상의 회전 속도 센서들, (ⅶ) 하나 이상의 회전 가속도 센서들, (ⅷ) 바람직하게 롤의 접경측(abutting side)상에 배열되어, 주변 습도를 결정하는 하나 이상의 센서들, (ⅸ) 롤의 위치 및/또는 배향을 결정하기 위한, 특히, 롤들의 병행성 및 롤 페어의 롤둘간의 갭의 폭의 의거하여 위치 및/또는 배향을 결정하기 위한 하나 이상의 자이로스코프 센서들 및/또는 (ⅹ) 롤 페어의 두 롤들간의 갭의 폭, 특히, 제분 롤 페어의 2개의 제분 롤들간의 제분 갭의 폭을 결정하는 하나 이상의 센서, 예를 들어, 롤의 접경측에 배열된 센서, 특히 MEMS 센서일 수 있다. 또한 이들의 임의 조합도 가능하다. 예를 들어, 롤은 여러개의 온도 센서들과 변형 센서들을 포함할 수 있다. 본 발명의 문맥에서 모든 센서들이 하나 이상의 롤들의 전력 소모를 측정하는 측정 유닛으로 지정된 동일 유형의 센서일 수 있다.

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또한, 하나 이상의 프로세싱 라인들(3)은 제분 재질을 선별 또는 체질하는 적어도 하나의 다운스트림 패시지(S₁, ..., S_x )를 구비한다. 본 발명의 측면에 있어서 제분 롤들은 통상적으로 2개의 제분 롤들의 제분 롤 페어 사이로 지향되는 알갱이형 제분 재질을 제분하도록 고안된다. 제분 롤들, 특히, 본 발명에 따른 제분 롤 페어의 제분 롤들은, 통상적으로, 스틸(steel), 특히 스테인리스 스틸(stainless steel)과 같은 금속을 포함하거나 그 금속으로 이루어질 수 있는, (특히, 원주형 표면상의) 비탄성 표면을 필수적으로 가진다. 제분 롤 페어의 제분 롤들 사이에는, 통상적으로, 비교적 고형이고 빈번하게 수력으로 제어되는 제분 갭이 존재한다. 많은 제분 설비들에 있어서, 제분 재질은, 필수적으로, 그러한 제분 갭을 통해 아래방향으로 수직하게 향한다. 많은 제분 설비들(3)에 있어서 제분 재질은 중력에 의해 제분 롤 페어의 제분 롤들로 지향되고, 이러한 인피드는 선택적으로 공기압에 의해 지원된다. 제분 재질은, 통상적으로, 알갱이형이고, 제분 갭을 통해 유체 흐름처럼 이동한다. 이러한 성질들을 통해, 제분 롤 및 적어도 하나의 그러한 제분 롤을 포함하는 제분 설비(3)는, 예를 들어, 종이를 운송하는데 사용되는 기술에 이용되는 다른 롤들과 구별된다.

제분 라인(3)을 통해, 특정 수율 파라메타들과 제분 제품 파라메타들을 가진 특정 제분 제품이 생산된다. 이러한 파라메타들은, 특히, 프로세싱 디바이스의 제분 설비(1)의 선택에 의존한다. 본 발명의 측면에서의 "제품" 또는 "제분 재질"은 특히 부피가 큰 상품(bulk goods) 또는 덩어리(mass)를 의미한다. 본 발명의 측면에서의 "부피가 큰 상품"은 부피가 큰 상품의 프로세싱 산업, 즉, 제분 산업(특히, 소프트 밀, 듀럼밀, 호밀, 옥수수 및 또는 보리의 제분) 또는 특정 제분 산업(특히, 콩, 메밀, 보리, 스펠트 밀, 수수/사탕수수, 의사-곡물 및/또는 콩과 식물(legume)들의 껍질 벗기기 및/또는 제분)의 곡물, 곡물 제분 제품 및 곡물 최종 제품의 프로세싱, 가축 및 애완 동물, 물고기 및 갑각류의 사료의 제조, 오일 시드의 프로세싱, 바이오매스(biomass)의 프로세싱 및 에너지 펠릿의 제조, 산업 맥아 및 맥아 처리 설비들, 코코아 빈, 견과(nut) 및 커피 빈 들의 프로세싱, 약제 산업 또는 고형물의 화학에 있어서의 비료의 제조에 이용되는, 분말형, 알갱이형 또는 펠릿형 제품을 의미한다. 본 발명의 측면에 있어서의 "덩어리"는, 초코렛 덩어리 또는 설탕 덩어리, 인쇄 잉크, 도료, 전자 재질 또는 화학 물질, 특히, 정제 화학 물질(fine chemical)과 같은 식품 덩어리를 의미한다. 본 발명의 특면에서, "제품의 프로세싱"은 (ⅰ) 특히, 제분 롤 페어로서, 이하에서 보다 상세하게 설명할 제분 롤들 또는 플레이킹 롤들의 페어들이 이용되는, 상술한 제분 산업 또는 특정 제분 산업의 곡물, 곡물 제분 제품 및 곡물 최종 제품과 같은, 부피가 큰 상품들의 제분, 분쇄 및/또는 플레이킹, (ⅱ) 예를 들어, 정제 롤들(fine rolls)의 페어가 이용될 수 있는 초콜렛 덩어리 또는 설탕 덩어리와 같은 식품 덩어리와 같은 덩어리의 정제, 및 (ⅲ) 특히 인쇄 잉크, 도료, 전자 재질 또는 화학 물질, 특히, 정제 화학 물질의 습식 제분 및/또는 분산을 의미한다.

제분 설비(1)의 각 작동 디바이스 또는 제분기(2)는, 할당된 I/O 인터페이스(32)를 통해 제분 라인들(3)에 할당된 프로세싱 디바이스(31/B_x/C_x/S_x)의 국소 제어 및/또는 통제를 위한 적어도 하나의 원격 응답 가능 프로그램 가능 로직 제어기(201)(PLC)를 구비한다. 제어 디바이스(4)는, 프로세싱 라인들(3)에 응답하는 국소 PLC(201)에 의해 동일하거나 다른 제분기(2)의 다양한 패시지들(3)의 프로세싱 디바이스들(31)을, 특히, 예를 들어, 웹 기반 및 중앙식으로 제어한다. 그렇게 하는데 있어서, 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)과 글로벌한, 즉, 패시지-포괄 파라메타들(43221, ..., 4322x)은 제어 디바이스(4)에 의해 구별되고 다르게 처리된다(또한, "글로벌한", 즉, 패시지 포괄 및 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x/43221, ...,4322x)의 발췌를 도시한 도 4를 참조하면, 패시지-포괄 관련 파라메타(43221, ..., 4322x)는 짙은 회색으로 강조되고, 패시지-지정 파라메타(43211, ..., 4321x)는 옅은 회색으로 강조됨). 글로벌 또는 패시지-포괄 파라메타(43221, ..., 4322x)는, 다양한 프로세싱 라인들 또는 패시지들(3) 상에서의, 예를 들어, 그들의 지리학적 할당 또는 디바이스-지정 등가로 인해, 프로세싱 디바이스들(31)과의 동일한 관련성, 대응하는 관련성 또는 적어도 패시지-포괄 관련성을 가지는 파라메타들을 의미한다. 본 발명에 따르면, 그들은 여러개의 프로세싱 라인들(3)의 제어/통제와 모니터링을 생성하기 위한 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 중앙식으로 이용된다. 이에 비해, 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)은, 단지 특정 프로세싱 라인(3)에 특정하게 관련되거나, 프로세싱 디바이스들(31) 중 하나의 디바이스에 특정하게 관련된다. 프로그램 가능 로직 제어기(201/PLC)는 네트워크 인터페이스(202)를 통해 중앙 통제 및 제어 디바이스와 양방향으로 접속되고, 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 전달된 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)의 수단에 의해 응답받을 수 있다. 프로세싱 라인(3)의 프로세싱 디바이스(31/B_x/C_x/S_x)는, 할당된 I/O 인터페이스(32)를 통해 원격으로 PLC들(201/PLC)에 의해 통제 및 제어 디바이스(4)의 전달된 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)에 기초하여 활성화될 수 있고, 그들의 동작은 개별적으로 및 국소적으로 통제된다.
초도 제품 및/또는 최종 제품의 특성화, 및/또는 초도 제품에 대한 양적 사양 및/또는 처리량에 대한 측정 파라메타들은, 사전 결정된 프로세스 기능에 의해, 프로세싱 디바이스들(31/B_x/C_x/S_x)을 제어하는 제어 파라메타들(4311,...,431x)과의 링크, 예를 들어, 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 패시지-지정 파라메타들(43211,...,4321x)과, 글로벌한, 즉, 패시지-포괄 파라메타들(43221,...,4322x)과의 프로세스 기술 링크(link)가 실행될 수 있다. 이것이 의미하는 것은, 프로세스 기능이 프로세싱 프로세스 동안 특정 제분 설비(1) 및/또는 프로세싱 라인/패시지(3) 및/또는 프로세싱 유닛(31)의 프로세싱 프로세스의 기술적, 특히, 예를 들어, 시간 종속적 구성이며, 이 프로세스 기능에 의해, 예를 들어, 초도 제품과 관련된 측정 파라메타들(습도, 입자성 등), 환경적 영향 파라메타들(공기압, 온도 등), 프로세싱 프로세스 동안의 중간 제품과 관련된 측정 파라메타들, 예를 들어, 에너지 소모, 롤 온도, 롤의 회전 속도와 같은 동작 파라메타들, 및 최종 제품의 측정 파라메타들(제분 분말도, 입자성, 처리량 등)간에 기술적 맥락(technical context)이 생산된다는 것이다. 분쇄 동작을 고유하게 특정하고/하거나 입자 성질에 대한 프로세스 파라메타들의 영향을 예측하는 것이 종종 어렵기 때문에, 실제 제분 설비에 의한 대응하는 프로세스 기능의 결정, 적어도 초기 결정이 제분 설비(1)의 관련 유형에 대해 실험적으로 실행될 수 있다. 예를 들어, 매핑 기능들로 최종 제품의 분산 성질을 제분기의 처리량, 회전 속도/특정 에너지 또는 기하학적 파라메타들과 연계시키는 것은 어렵다. 이 경우, 프로세스 기능은 프로세스-관련 양 및 및 파라메타들의 모두, 특히, 제분 설비(1) 또는 프로세싱 디바이스의 안전한 동작이 보장되는 프로세스 파라메타들 및 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)의 허용된 대역폭들에 기반해야 한다. 프로세스 기능을 결정하는 실험적인 도량형 양들은, 예를 들어, 프로세싱 라인(3) 내부의 입자 크기 분포, 회전 속도의 영향, 처리량, 입자 크기 분포에 대한 제분 몸체 두께 및 크기의 영향일 수 있다. 이 경우, 예를 들어, 제분 설비(1)의 완전한 프로세스 기능을 획득하기 위해 프로세싱 라인(3)의 프로세스 변경의 모든 프로세스 단계들에 대해 프로세스 기능이 결정될 수 있다.
패시지 디바이스(31)의 중앙 제어 시스템(4)은, 특히, 웹 기술, 즉, 웹 및/또는 네트워크 기반의 임의 개수의 패시지들(3)을 통해 집합적인 파라메타 변경들 및 집합적인 소프트웨어 갱신을 할 수 있게 하고 다양한 터미널들에 상호 접속을 제공하는 분산 네트워크 기술들에 기반할 수 있다. 임의 개수의 패시지들(3)을 통한 집합적 파라메타 변경들 및 집합적 소프트웨어 갱신과, 터미널로서 다양한 패시지 터미널들(31)에 대한 상호 접속은 본 발명에 따른 패시지 디바이스(31)들의 중앙식 제어 시스템의 장점이다. 패시지-포괄 파라메타들(43221, ..., 4322x)은 여러개의 프로세싱 라인들/패시지들(3)에 있어서의 배치의 동작 통제에 할당되지만, 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)과는 대조적으로, 결정된 개별적인 프로세싱 라인/패시지(3)에 접속되지는 않는다. 패시지-포괄 파라메타들(43221, ..., 4322x)은 대응하는 측정 디바이스 또는 센서들의 측정 파라메타일 수 있으며, 또는 다른 패시지-포괄 파라메타들(43221,...,4322x) 및/또는 패시지-지정 파라메타들(43211,...,4321x)로부터 대응하는 링크 또는 모델들에 의해 생성될 수 있다.

통제 및 제어 디바이스(4)가 인터페이스(42)에 의해 전세계적 백본 네트워크(worldwide backbone network), 즉, 인터네 및/또는 인트라넷에 접속되는 가능한 예시가 도 2에 예시적으로 도시된다. 통제 및 제어 디바이스(4)는 네트워크 인터페이스(42)에 의해, 데이터 전송 네트워크(41)와 네트워크 인터페이스(202)를 통해, 작동 디바이스(20)의 제어 시스템(플랜트 제어 시스템)에 접속된다. 웹 서버 애플리케이션(46)은 원격 클라이언트(7) 또는 브라우저(browser)에게 원하는 디스플레이 및 입력/출력 가능성들 및/또는 제어/모니터링 페이지들(721/722)을 제공하며, 원격 클라이언트(72)는 네트워크 인터페이스(71)에 의해 네트워크(41)에 접속된다.

패시지 디바이스(31)의 중앙 제어 시스템(4)은, 특히, 웹 기술, 즉, 웹 및/또는 네트워크 기반의 임의 개수의 패시지들(3)을 통해 집합적인 파라메타 변경들 및 집합적인 소프트웨어 갱신을 할 수 있게 하고 다양한 터미널들에 상호 접속을 제공하는 분산 네트워크 기술들에 기반할 수 있다. 임의 개수의 패시지들(3)을 통한 집합적 파라메타 변경들 및 집합적 소프트웨어 갱신과, 다양한 터미널들(31)에 대한 상호 접속은 본 발명에 따른 패시지 디바이스(31)들의 중앙식 제어 시스템의 장점이다. 패시지-포괄 파라메타들(43221, ..., 4322x)은 여러개의 프로세싱 라인들/패시지들(3)에 있어서의 배치의 동작 통제에 할당되지만, 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)과는 대조적으로, 결정된 개별적인 프로세싱 라인/패시지(3)에 접속되지는 않는다. 패시지-포괄 파라메타들(43221, ..., 4322x)은 대응하는 측정 디바이스 또는 센서들의 측정 파라메타일 수 있으며, 또는 다른 패시지-포괄 파라메타들(43221,...,4322x) 및/또는 패시지-지정 파라메타들(43211,...,4321x)로부터 대응하는 링크 또는 모델들에 의해 생성될 수 있다.

통제 및 제어 디바이스(4)가 인터페이스(42)에 의해 전세계적 백본 네트워크(worldwide backbone network), 즉, 인터네 및/또는 인트라넷에 접속되는 가능한 예시가 도 2에 예시적으로 도시된다. 통제 및 제어 디바이스(4)는 네트워크 인터페이스(42)에 의해, 데이터 전송 네트워크(41)와 네트워크 인터페이스(202)를 통해, 작동 디바이스(20)의 제어 시스템(플랜트 제어 시스템)에 접속된다. 웹 서버 애플리케이션(46)은 원격 클라이언트(7) 또는 브라우저(browser)에게 원하는 디스플레이 및 입력/출력 가능성들 및/또는 제어/모니터링 페이지들(721/722)을 제공하며, 원격 클라이언트(72)는 네트워크 인터페이스(71)에 의해 네트워크(41)에 접속된다. 통제 및 제어 디바이스(4)는, 또한, 기계/프로세스 서버로서의 국소 통제 및 제어 디바이스(4)와, 클라이언트로서의 원격 시스템(7)간의 데이터 상호 교환이 가능하도록 필요한 데이터 서비스들 또는 인터페이스들을 제공한다. 이러한 예시에 있어서, 웹 서버(72)의 데이터 및/또는 웹사이트들의 원격 뷰잉(remote viewing)을 위한 단일한 전제 조건은, 표준 브라우저 인터페이스가 필요하다는 것이다.

이러한 예시는 기계 제어 시스템을 위한 웹 서버 애플리케이션에 대한 액세스를 위한 이동 애플리케이션으로서 실현될 수 있다. 그 이용은, 예를 들어, 설비(1)가 접속되는 LAN(Local Area Network)으로 제한될 수 있다. 또한, 이동 애플리케이션은 원격으로 액세스 가능한 제어 시스템들에 대한 네트워크를 탐색하고, 필적하는 기계 제어 세스템들을 가진 설비(1)들을 선택할 수 있다. 예를 들어, 이를 하기 위해, UDP(User Datagram Protocol) 방송이 이용될 수 있으며, 거기에서는, 기계 제어 시스템이 입력 UDP 메시지들상의 특정 어드레스(255.255.25.250)에서 영구적으로 유지된다. 스마트폰이 설치된 이동 애플리케이션을 이용하여 대응하는 ANLAGEN_PLC_DISCOVERY 방송을 전송하면, 이 네트워크에 있어서의 모든 제어 시스템들은 이러한 방송을 수신하고, 이하의 예시에 나타난 바와 같이, 원하는 성질들로 응답한다.

{"ApplicationName":"MDDYZ_2nd_Gen",

"ApplicationVersion":"MDDYZ_2nd_Gen_RC_3.17.1_2019-03-22T10_28_48.610Z",

"FirmwareVersion":"FIRMWARE=03.00.35(b05)",

"MachineType":"MDDY",

" MachineNumber ": 1235545,

" MachinePartName1 ":"Passage 1",

" MachinePartName2 ":"Passage 2",

" NumberOfSides ":2,

" IpAddress ":" 10.76.243.31",

"MacAddress":"00:30:de:43:8a:a3''}

기계 제어 접속은, 예를 들어, Phoenix 엔진과 같은 상업적 엔진과 같은, 소프트웨어-기반 엔진에 의해 실현될 수 있다(도 5). Phoenix 엔진은 내장형 리눅스(linux) 및 코드시스 런타임(codesys runtime)을 가진 Wago PLC로 구성된 소프트웨어 프레임워크이다. 웹 서버 및 추가적인 것들은 집적화될 수 있다. 데이터베이스는 기계 제어 소프트웨어와 일반 웹-기반 디스플레이간에 중앙 인터페이스를 형성한다. 웹 서버와 기계 제어 소프트웨어간의 접속은, 예를 들어, 웹소켓(websocket)들에 의한 직접 접속에 의해 실현된다. 예시에 있어서, 그러므로, 디스플레이는 터치 디스플레이, 스마트폰, PC상의 임의 통상적인 브라우저에 의해 작동된다. 도 5는 제어 디바이스(4)(제어 로직)에 의한 원격 기계 제어를 위해 웹 서버상의 이동 애플리케이션에 의한 원격 액세스와, 국소 동작 패널이 없는 기계들의 원격 동작을 위한 HMI(Human-Machine Interface) 식별을 가진 이동 애플리케이션을 가진 본 발명에 따른 예시를 도시한 도면이다. 제어 디바이스(4)는 동일하거나 다른 제분기들(2)의 여러 패시지들(3)의 프로세싱 디바이스들(31) 및/또는 동일하거나 다른 제분 설비들(1) 또는 프로세스 산업의 범용 설비들의 프로세싱 디바이스들(31)을, 프로세싱 라인들(3)에 응답하는 국소 PLC(201)에 의해, 중앙식으로 제어한다. 여러 제분 설비들(1) 및/또는 프로세싱 라인들(3), 특히, 공기압, 습도 등의 환경 파라메타와 같은 동일하거나 유사한 집합적 파라메타들을 나타내는 지리적으로 필적하는 사이트들에 있는 제분 설비들(1) 및/또는 프로세싱 라인들(3)을 중앙 제어 디바이스(4)에 의해 원격으로 제어하면, 플랜트 제어 시스템(20) 또는 PLC들(201)로 전달되는 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)의 집합적 파라메타 적응화가 가능하게 되고, 임의 개수의 프로세싱 라인들 및 패시지들(3)을 통한 집합적 제어 및 집합적 소프트웨어 갱신이 가능하게 된다. 이것은, 또한 여러 터미널들에 대해 새로운 유형의 상호 접속이 가능하게 한다. 이 경우, 본 명세서에서 설명한 웹 기술이 기초로서 이용되어, 추가적인 독립성이 달성될 수 있게 된다. 추가적으로, 집합적, 즉, 글로벌 파라메타들은 예를 들어, 그리스트 패시지(331) 또는 선택 패시지(332)와 같은, 제분 패시지(33)에 있어서의 롤 페어의 2개의 롤들의 적응화의 집합적 파라메타들에 의한 제어와 같이, 프로세싱 라인 또는 패시지(3)내의 디바이스 요소들과 연관된다.

PLC(201)가 작동 디바이스(2), 예를 들어, 제분기의 제어 시스템(20)에 이용되면, 제어 시스템(20)과의 실시간 데이터 교환을 위한 최적화 또는 임의 회사 지정 제어 소프트웨어와, 그에 필적하는 데이터 교환 서비스가 필요하게 된다. 예를 들어, PLC(201)는, 대응하는 프로토콜(예를 들어, OPC UA)을 통해, 제어 클라이언트(예를 들어, OPC UA 클라이언트)와 통제 및 제어 디바이스(4)의 대응하는 해독기에 의해 표준화 또는 독점 방식으로 응답할 수 있다. 이러한 예시에 있어서, (예를 들어, 신 서버(thin server)로서 실현되는) 웹 서버/데이터 서비스(46)는 작동 디바이스(2)(예를 들어 신 클라이언트(thin client)(7)로서 실현됨) 또는 프로세스와 인터넷간의 접속을 제공한다. PLC(201) 또는 독점 제어기는 플랜트 제어 시스템(20)을 구비하며, 그에 의해, 프로세싱 라인(3)의 프로세싱 유닛(31)이 제어되고/되거나 통제될 수 있다. AB, Schneider/Modicon 또는 Simens로부터의 PLC들과 같은, 대부분의 PLC들은, PLC 제조자 또는 제 3 제공자의 대응하는 통신 프로토콜과의 적어도 하나의 직렬 접속을 지원한다. 전형적으로, 신 서버(46) 제조자의 관련 데이터 전달 구동기는 내장 소프트웨어 애플리케이션으로서 제공된다. PLC들을 필요로 한 특정의 예시들의 경우, 실시간 데이터 교환을 위한 최적화 또는 회사 지정 소프트웨어/프로토콜들, 대응하는 원격 서버 및 그에 필적하는 데이터 교환 서비스가 필요할 수 있다. 도 2에 따른 예시에 있어서, 웹 서버/데이터 서비스 디바이스(신 서버(46))는, 디바이스(3) 또는 프로세스와, 인터넷간의 접속을 생성한다. 이 경우, 전형적으로, PLC들(201) 또는 독점 제어기(201) 또는 제어 시스템(20)은 제어 시스템으로부터 데이터(20)를 추출하는데 필요하고, 네트워크(41)를 통해 제어 시스템(20)의 필요한 제어를 할 수 있게 하는데 필요하다. 예를 들어, Schneider/Modicon or Siemens 등으로부터의 PLC들과 같은, 많은 PLC는 PLC 제공자 또는 제 3 제조자의 통신 프로토콜들에 기반하여 적어도 하나의 직렬 접속을 지원한다. 신 서버(46)의 제공자로부터의 통신을 위한 대응하는 구동기는 내장된 소프트웨어 애플리케이션의 일부로서 이용 가능하게 되는 경우가 빈번하다. PLC(201)를 이용하면, 표준 PLC 프로토콜들은 신 서버(46)의 접속을 단순화시킨다. 프로세싱 유닛(31)이 임의 외부 통신 포트들을 가지고 있지 않은 제어기를 가지면, 프로세싱 유닛(31)에 추가적인 센서들 및 I/O 인터페이스(32)를 제공할 필요가 있다. 신 서버(46)가 설치되고 대응하는 구동기가 선택되면, 신 서버(46)는, 프로세싱 유닛(31) 및 제어 시스템(20)의 데이터가 네트워크 링크를 가지도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 게이트웨이 서버는 네트워크 변수 또는 원격 PC 접속에 PLC 레지스터를 매핑시킬 수 있다. 바람직하게, 신 서버(46)는 웹 서버가 프로세싱 유닛(31)의 데이터를 모니터링하고, OPC와 같은 표준 데이터 인터페이스를 제공할 수 있도록 구성될 수 있게 한다. 신 서버(46)에 대한 LAN 접속은, 예를 들어, 표준 이더넷, 다이얼-업 모뎀 라인들(dial-up modem lines) 또는 무선 접속(예를 들어, 802.11b 이더넷)을 구비할 수 있다. 네트워크 접속(예를 들어, 인터넷)을 통해, 신 서버(46)의 대응하는 웹 페이지에 대한 PC 브라우저(데스크탑, PC, 랩탑, PDA 또는 또 다른 신 크라이언트(7)) 액세스가 획득될 수 있다. 브라우저를 통해 신 서버(46)에 의해 제공되는 이러한 웹 페이지를 통해, 통제 및 제어 디바이스(4) 및/또는 제어 시스템(20) 또는 프로세싱 유닛(31)의 제어 시스템이 PLC들에 의해 모니터링되고, 그들의 제어 시스템은 적응화된다. 본 발명에 따른 디바이스(1)에 의해, 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)를 통해 여러 제분 라인들의 균일한 웹 기반 모니터링을 제공할 수 있게 되고, 그에 의해 제분 설비(1)는 중앙식으로 모니터링되고/되거나 최적화된 방식으로 제어된다. 예시에서 처럼, 통제 및 제어 디바이스(4) 및/또는 작동 디바이스(2)의 제어 시스템(20)의 모니터링 또는 제어 디스플레이(21/45)는 근접 센서 및/또는 움직임 센서(211/451)를 구비할 수 있으며, 디스플레이는 제분 설비(1) 및/또는 제분기(2)의 운영자까지의 측정 거리에 기초하여, 근접 센서 및/또는 움직임 센서의 측정 결과에 따라, 자동으로 스위칭 온/오프된다.

프로세싱 디바이스들(31/B_x/C_x/S_x)의 원격 제어 및 통제는, 통제 및 제어 디바이스(4)를 이용하여 프로세싱 디바이스들(31/B_x/C_x/S_x)의 기계 프로세스에 의해 실시간 데이터 교환으로 국소적으로 실행될 수 있다. 특히, 상술한 통제 및 제어 디바이스(4)는, 예를 들어, 네트워크 인터페이스(42)를 구비한다. 네트워크 인터페이스(42)를 통해 통제 및 제어 디바이스(4)의 네트워크 인터페이스(202)와 프로그램 가능 로직 제어기들(201/PLC)를 가진 제분기(2)의 제어 시스템(20)에 대한 액세스를 할 수 있게 된다. 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)는 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x) 및/또는 패시지-포괄(43221, ... 4322x) 배치 파라메타들(432)에 의거하여 전송될 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)을 생성하는 적절한 수단 및 데이터 프로세싱 프로세스들(44)을 구비할 수 있다. 그렇게 하는데 있어서, 본 발명에 따르면, 패시지-지정 및/또는 환경-지정 파라메타들(432) 중 하나 이상의 파라메타에 기초한 제어 파라메타들(4311, ..., 431x) 중 적어도 하나에 의해, 할당된 프로세싱 디바이스들(31/B_x/C_x/S_x)을 가진 다양한 제분 라인들(3)은 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 중앙식으로 최적화되고/되거나 개별적으로 통제된다. 적어도 제어 파라메타들(4311, ... 431x)은 적어도 2개의 서로 다른 프로세싱 라인들 또는 패시지들(3)에 대한 패시지-포괄 파라메타들(43221, ...., 4322x)에 기초하여 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 글로벌하게 최적화되고 제어되지만, 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)은 관련 패시지(3)의 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)의 최적화 및 제어에 대해 독립적으로 작용한다. 패시지-포괄 파라메타들(43221, ..., 4322x) 위치 종속적 측정 파라메타들은 적어도 습도 및/또는 공기압 및/또는 주변 온도를 구비할 수 있다. 패시지-지정 파라메타들(43211, ..., 4321x)은, 예를 들어 제분 롤 페어들(B₁, B₂, ..., B_x; C₁, C₂, ..., C_x) 의 에너지 소모 및/또는 예비 압력 및/또는 제분 재질의 입력 온도와 같은, 프로세싱 디바이스들(31/B_x/C_x/S_x)의 적어도 국소 동작 파라메타들을 구비할 수 있다. 패시지-지정 측정 파라메타들(43211, ..., 4321x)은, 적어도, 제분 설비(1)의 하나 이상의 롤 스탠드(31)의 흐름 및/또는 전력 소모와 연관된 측정 파라메타들을 구비할 수 있다.

최적화를 위해, 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)는 동작 프로세스 레시피(431)를 구비할 수 있으며, 제분 라인들(3) 중 하나의 프로세싱 유닛들(31/B_x/C_x/S_x)의 정의된 프로세싱 시퀀스를 가진 배치 제어(batch control)는, 동작 프로세스 레시피(431)에 기초하여 제어되고, 특정 성질 파라메타들을 가진 최종 제품의 정의된 양은, 특정 성질 파라메타들(51)을 가진 하나 이상의 투입 재질들(5)로부터의 동작 프로세스 레시피에 기초하여, 생성된다. 최종 제품(61)의 정의된 성질 파라메타들(61)은 적어도 입자 크기 분포(611) 및/또는 전분 손상(612) 및/또는 단백질 품질(613) 및/또는 수분 콘텐츠(614)를 구비할 수 있다. 동작 프로세스 레시피(431)의 제분 프로세스 동안, 동작 제어 파라메타들(4311, ... 431x) 및/또는 배치 파라메타들(432)은 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 계속적으로 모니터링된다. 모니터링된 동작 제어 파라메타들(4311, ... 431x) 및/또는 배치 파라메타들(432)은, 예를 들어, 적어도, 수율(62) 및/또는 에너지 소모 및/또는 처리량/기계 구동 시간을 구비할 수 있다. 정의 가능한 파라메타 값들의 요동 또는 이상이, 정의된 제어 파라메타들(4311, ...,431x) 및/또는 배치 파라메타들(432)과, 모니터링된 제어 파라메타들(4311, ..., 431x) 및/또는 배치 파라메타들(432)간의 정의된 편차로서 검출되면, 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)은 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 자동으로 정정되고/되거나 적응화된다. 표준 범위내의 최적화된 배치 프로세스의 프로세스-특유의 동작 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)에 의해, 최종 제품(6)과 특정 밀가루 수율(62)의 정의된 품질 파라메타들은 투입 제품들(5)에 의거하여 결정되거나 사전 정의될 수 있다.

동작 프로세스 레시피의 제분 프로세스 동안, 동작 제어 파라메타들은 통제 및 제어 디바이스에 의해 계속적으로 모니터링되며, 이상이 모니터링된 동작 프로세스 레시피로부터의 정의된 편차로서 검출되면, 경고 신호가, 예를 들어, 알람 유닛(alarm unit)에 전송된다. 배치 파라메타들은, 예를 들어, 제분 설비의 하나 이상의 롤 스탠드들의 흐름을 적어도 구비한다. 하나 이상의 롤 스탠드는, 예를 들어, 적어도 홈이 있는 롤들(B 패시지) 및/또는 활면 롤들(C 패시지)을 구비할 수 있다. 배치 프로세스 파라메타들은, 예를 들어, 적어도 제분 설비의 모든 롤 스탠드들의 흐름을 구비할 수 있다. 표준 범위내의 최적화된 배치 프로세스의 프로세스-특유의 배치 파라메타들에 의해, 예를 들어, 최종 제품과 특정 밀가루 수율의 정의된 품질 파라메타들은 투입 제품들에 의거하여 결정될 수 있다. 정의된 품질 파라메타들은, 예를 들어, 적어도 입자 크기 분포 및/또는 전분 손상 및/또는 단백질 품질 및/또는 수분 콘텐츠를 구비할 수 있다. 모니터링된 배치 프로세스 파라메타들은, 예를 들어, 적어도, 수율 및/또는 에너지 소모 및/또는 처리량/기계 구동 시간을 구비할 수 있다. 제분 프로세스 동안, 예를 들어, 이상의 검출시에, 통제 및 제어 디바이스의 모니터링된 배치 프로세스 파라메타들의 연속적인 장기간 변경(long-term change)들이 기록되며, 프로세스 레시피의 생성된 동작 제어 파라메타들과 모니터링된 동작 제어 파라메타들간의 정의된 편차가 측정된 장기간 변경에 의거하여 결정된다. 모니터링된 배치 프로세스 파라메타들은, 예를 들어, 본 발명에 따른 다수의 제어 시스템(20)들에 의해 네트워크(41)를 통해 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)로 전송되며, 다수의 제어 시스템들(20)은 중앙식으로 모니터링되고 제어된다. 다른 것들 중에서, 본 발명은, 기술적으로 신규한 방식으로, 생산에 있어서 장기간 또는 단기간 트렌드의 중앙-모니터링 및 제어 식별, 비정상들의 자동화된 인식, (ⅰ) 수율, (ⅱ) 에너지 및 (ⅲ) 처리량/기계 구동 시간 등에 대한 생산 파라메타들의 자동화된(24/7)(원격) 모니터링 및 검출이 가능하다는 장점을 가진다.

1: 프로세스 산업의 제분 설비 또는 범용 설비
2: 작동 디바이스(플랜트), 제분기
20: 작동 디바이스의 제어 시스템(플랜트 제어 시스템)
201: PLC(Programmable Logic Controller)
202: 플랜트 제어 시스템의 네트워크 인터페이스
203: 제어 클라이언트(예를 들어, OPC UA 클라이언트)
204: 해독기
21: 작동 디바이스(2)의 모니터링 또는 제어 디스플레이
211: 근접 센서 및/또는 움직임 센서들
3: 프로세싱 라인/패시지
31: 프로세싱 유닛들
B₁, B₂, ..., B_x : 홈이 있는 롤들
C₁, C₂, ..., C_x : 활면 롤들
S₁, S₂, ..., S_x : 선별/체질 디바이스들
32: I/O 인터페이스; 연동 요소들
33: 8개의 롤 패시지를 가진 롤 스탠드의 예시
331: 그리스트 패시지
3311/3312: 그리스트 패시지의 홈이 있는 롤들
3313: 스트리퍼 브러시
3314: 제분 갭을 설정하기 위한 설정 디바이스
3315/3316: 그리스트 패시지의 하부 롤 페어
3317: 제분 갭을 설정하기 위한 설정 디바이스
332: 판분쇄 패시지
3321/3322: 판분쇄 패시지의 활면 롤들
3323: 스트리핑 나이프(stripping knife)
3324: 제분 갭을 설정하기 위한 설정 디바이스
3325/3326: 판분쇄 패시지의 하부 롤 페어
3327: 제분 갭을 설정하기 위한 설정 디바이스
333: 인피드 실린더
3331: 센서
3332: 제품 제어 시스템
334: 피드 채널
335: 공기 채널
336: 제품 제거 통풍구
337: 서보모터
4: 통제 및 제어 디바이스
41: 데이터 전송 네트워크
42: 통제 및 제어 디바이스의 네트워크 인터페이스
43: 파라메타들
431: 동작 프로세스 레시피
4311,...431x: 제어 파라메타들
432: 배치 파라메타들
43211, ..., 4321x : 패시지-지정 파라메타들
43221, ..., 4322x : 패시지-포괄 파라메타들
44: 제어 파라메타들(4311,...431x)을 생성하는 수단
45: 통제 및 제어 디바이스(4)의 제어 디스플레이의 모니터링
451: 근접 센서들 및/또는 움직임 센서들
46: 네트워크 데이터 서비스/웹 서버/신 서버
47: 기계/프로세스 제어
5: 투입 제품
51: 투입 재질의 측정 파라메타들
6: 최종 제품
61: 최종 제품의 측정 파라메타들
611: 입자 크기 분포
612: 전분 손상
613: 단백질 품질
614: 수분 콘텐츠
62: 특정 수율
7: 웹 기반 제어 클라이언트/신 클라이언트
71: 네트워크 인터페이스
72: 브라우저 인터페이스
721: 작동 디바이스/제분 설비의 제어/조정
722: 작동 디바이스/제분 설비의 모니터링

Claims

다수의 제분 제품들의 산업적 생산을 위한 하나 이상의 프로세싱 라인들(3)을 가진 하나 이상의 제분기들(2)을 구비한 제분 설비(1)로서,
프로세싱 라인(3)은 제분 재질을 제분하기 위한 제분 롤 페어들(B₁, B₂, B_x: C₁, C₂, C_x)을 가진 적어도 하나의 제분 패시지(B,C)와 제분 재질을 선별하고 체질하기 위한 적어도 하나의 다운스트림 체질 패시지(S)를 구비하고, 프로세싱 라인(3)을 통해, 특정 수율 파라메타들과 제분된 제품 파라메타들을 가진 특정 제분 제품이 생산될 수 있고, 제분 설비(1)의 각 제분기(2)는 할당된 I/O 인터페이스들(32)을 통해 프로세싱 라인들(3)에 할당된 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)의 국소 제어 또는 통제를 위한 적어도 하나의 프로그램 가능 로직 제어기(201/PLC)를 구비하되,
상기 제분 설비(1)는, 제분 설비(1)의 최적화된 제어를 위한 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)를 구비하고, 프로그램 가능 로직 제어기들(201/PLC)은, 네트워크 인터페이스(202)에 의해 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)와 양방향으로 접속되고 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 전달된 제어 파라메타들(4311, ... 431x)에 응답할 수 있으며, 프로세싱 라인(3)의 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)은, 할당된 I/O 인터페이스들(32)을 통해 원격으로 프로그램 가능 로직 제어기들(201/PLC)에 의해 통제 및 제어 디바이스(4)의 제어 파라메타들(4311, ... 431x)에 기초하여 활성화될 수 있고, 그의 동작은 국소적으로 제어되고,
중앙 통제 및 제어 디바이스(4)는 패시지-지정(43211, ... 4321x) 또는 패시지-포괄(43221, ... 4322x) 배치 파라메타들(432)에 의거하여 전달될 제어 파라메타들(4311, ... 431x)을 생성하는 수단(44)을 구비하고, 패시지-포괄 파라메타들(43221, ... 4322x)은 프로세싱 디바이스들(31)을 가진 여러 개의 프로세싱 라인들(3)에 대해 동일하거나 대응하는 관련성을 가진 파라메타들을 구비하며, 여러 개의 프로세싱 라인들(3)의 제어/통제 및 모니터링을 생성하기 위해 통제 및 제어 디바이스(4)를 통해 중앙식으로 이용될 수 있고, 패시지-지정 파라메타들(43211, ... 4321x)은 특정 프로세싱 라인(3)에 대한 유일한 특정 관련성을 가진 파라메타들을 구비하거나 프로세싱 디바이스(31)들 중 하나에 특정되며,
패시지-지정 또는 환경-지정 파라메타들(432) 중 하나 이상의 파라메타에 기초한 제어 파라메타들(4311,...,431x) 중 하나에 의해, 할당된 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)을 가진 다양한 프로세싱 라인들(3)이 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 중앙식으로 최적화되고, 패시지-포괄 파라메타들(43221, ... 4322x)은, 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해, 프로세싱 라인들(3) 중 적어도 2개에 대한 디바이스들에 걸쳐 글로벌하게 최적화 및 제어 가능하게 되며, 패시지-지정 파라메타들(43211, ... 4321x)은 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 관련 프로세싱 라인(3)에 대해 독립적으로 최적화 및 제어 가능하게 되는
제분 설비(1).
제 1 항에 있어서,
프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)의 원격 제어 및 통제는, 통제 및 제어 디바이스(4)를 이용하여 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)의 국소 기계 프로세스들에 의해 실시간 데이터 교환으로 실행되는
제분 설비(1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
통제 및 제어 디바이스(4)는, 네트워크 인터페이스(42)를 구비하며, 네트워크 인터페이스(42)에 의해, 통제 및 제어 디바이스(4)의 네트워크 인터페이스(202)와 프로그램 가능 로직 제어기(201/PLC)를 구비한, 제분기(2)의 제어 시스템(20)이 액세스 가능하게 되고, 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)는 패시지-지정 파라메타들(43211,...,4321x)과 패시지-포괄 배치 파라메타(passage-encompassing batch parameter)들(43221,...,4322x)에 의거하여 통과될 제어 파라메타들(4311,...,431x)을 생성하는 수단(44)을 구비하며,
패시지-지정 또는 환경-지정 파라메타들(432) 중 하나 이상의 파라메타에 기초한 제어 파라메타들(4311,...,431x) 중 적어도 하나에 의해, 할당된 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)을 가진 다양한 프로세싱 라인들(3)이 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 중앙식으로 최적화되거나 개별적으로 통제되는,
제분 설비(1).
제 3 항에 있어서,
패시지-포괄 파라메타들(43221,...,4322x)은, 습도 또는 공기압 또는 주변 온도를 구비한 위치-종속적 측정 파라메타들을 구비하고, 패시지-지정 파라메타들(43211,...,4321x)은, 제분 롤 페어들(B₁, B₂, ... , B_x: C₁, C₂, ... , C_x)의 에너지 소모 또는 예비 압력 또는 제분 재질의 입력 온도를 구비하는 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)의 국소 동작 파라메타들을 구비하는
제분 설비(1).
제 3 항에 있어서,
통제 및 제어 디바이스(4)에 의해, 패시지-포괄 파라메타들(43221,...,4322x)은 적어도 2개의 제분 패시지에 대해 글로벌하게 최적화되고 통제되며, 패시지-지정 파라메타들(43211,...,4321x)은 관련된 제분 패시지와 관련하여 독립적으로 최적화되고 제어되는
제분 설비(1).
제 3 항에 있어서,
제어 파라메타들(4311,...,431x)은, 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해, 패시지-포괄 파라메타들(43221,...,4322x)에 기초하여, 적어도 2개의 서로 다른 프로세싱 라인들(3)에 대해 글로벌하게 최적화되고 제어되며, 패시지-지정 파라메타들(43211,...,4321x)은 관련 패시지(3)의 제어 파라메타들(4311,...,431x)의 최적화된 생성을 위해 독립적으로 최적화되고 제어되는
제분 설비(1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
중앙 통제 및 제어 디바이스(4)는 동작 프로세스 레시피(recipe)들(431)을 구비하고, 동작 프로세스 레시피(431)에 기초하여 프로세싱 라인들(3) 중 하나의 프로세싱 유닛들(B_x/C_x/S_x)의 정의된 프로세싱 시퀀스로 배치 제어(batch control)가 제어 가능하게 되며, 특정 성질 파라메타들(61)을 가진 최종 제품(6)의 정의된 양은, 동작 프로세스 레시피(431)에 기초하여, 특정 성질 파라메타들(51)을 가진 하나 이상의 투입 재질(5)로부터 생성될 수 있고,
동작 프로세스 레시피(431)의 제분 프로세스 동안, 동작 제어 파라메타들(4311,...,431x) 또는 배치 파라메타들(432)은 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 계속적으로 모니터링될 수 있고, 정의 가능한 파라메타 값들의 요동 또는 이상이, 정의된 제어 파라메타들(4311,...,431x) 또는 배치 파라메타들(432)과, 모니터링된 제어 파라메타들(4311,...,431x) 또는 배치 파라메타들(432)간의 정의된 편차로서 검출되면, 제어 파라메타들(4311,...,431x)은 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 자동으로 정정되거나 적응화되는,
제분 설비(1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
제분 설비(1)는 프로세싱 라인들(3) 및 할당된 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)과 자기 최적화 제어를 위한 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)를 가지며, 패시지-지정 측정 파라메타들(43211,...,4321x)은 제분 설비(1)의 하나 이상의 롤 스탠드들(31)의 흐름 또는 전력 소모와 관련된 적어도 측정 파라메타들을 구비하는
제분 설비(1).
제 8 항에 있어서,
하나 이상의 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)은 적어도 홈이 있는 롤들(B₁, B₂,..., B_x) 또는 활면 롤들(C₁, C₂,..., C_x)을 구비하는
제분 설비(1).
제 8 항에 있어서,
패시지-지정 측정 파라메타들(43211,...,4321x)은 적어도 제분기(2)의 모든 롤 스탠드의 흐름 또는 전력 소모와 관련된 측정 파라메타들을 구비하는
제분 설비(1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
표준 범위내의 최적화된 배치 프로세스의 프로세스-특유의 동작 제어 파라메타들(4311, ..., 431x)에 의해, 최종 제품(6)과 특정 밀가루 수율(62)의 정의된 품질 파라메타들이 투입 제품들(5)에 의거하여 결정될 수 있는
제분 설비(1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
최종 제품(61)의 정의된 성질 파라메타들은 적어도 입자 크기 분포(611) 또는 전분 손상(612) 또는 단백질 품질(613) 또는 수분 콘텐츠(614)를 구비하는
제분 설비(1).
제 7 항에 있어서,
모니터링된 동작 제어 파라메타들(4311,...,431x) 또는 배치 파라메타들(432)은 적어도 수율(62) 또는 에너지 소모 또는 처리량/기계 구동 시간을 구비하는
제분 설비(1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
중앙 통제 및 제어 디바이스(4)는 다양한 프로세싱 라인들(3)의 단일의 디스플레이 가능 웹-기반 모니터링 시스템을 구비하고, 그 시스템에 의해 제분 설비(1)는 모니터링될 수 있거나, 최적으로 제어될 수 있는
제분 설비(1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
통제 및 제어 디바이스(4) 또는 작동 디바이스(20)의 제어 시스템의 모니터링 또는 제어 디스플레이(21/45)는 근접 센서 또는 움직임 센서(211/451)를 구비하고, 디스플레이는 제분 설비(1) 또는 제분기(2)의 운영자까지의 측정된 거리에 기초한 제분 설비의 근접 센서 또는 움직임 센서의 측정 결과에 의거하여 자동으로 스위칭 온 및 오프되는
제분 설비(1).
다양한 제분 제품들의 산업적 제조를 위한 하나 이상의 프로세싱 라인들(3)을 가진 하나 이상의 제분기(2)를 구비하는 제분 설비(1)의 최적 제어 프로세스로서,
제분 롤 페어(B₁, B₂, ...,B_x; C₁, C₂, ...,C_x)들을 가진 적어도 하나의 제분 패시지(B,C)에 의해 프로세싱 라인(3)에서 제분 제품이 제분되고 적어도 하나의 다운스트림 체질 패시지(S₁, S₂,..., S_x)에 의해 체질 또는 선별되며, 제분 라인을 통해 특정 수율 파라메타들과 제분 파라메타들을 가진 특정 제분 제품이 생산되며, 제분 설비(1)의 각 제분기(2)는 할당된 I/O 인터페이스(32)들을 통해 프로세싱 라인들(3)에 할당된 프로세싱 디바이스들(31; B_x/C_x/S_x)의 국소 제어 또는 통제를 위한 프로그램 가능 로직 제어기(201/PLC)를 구비하되,
제분 설비(1)는 제분 설비(1)의 최적화된 제어를 위한 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)를 구비하고, 프로그램 가능 로직 제어기들(201/PLC)은, 네트워크 인터페이스(202)에 의해 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)와 양방향으로 접속되고 중앙 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 전달된 제어 파라메타들(4311, ... 431x)에 응답할 수 있으며, 프로세싱 라인(3)의 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)은, 할당된 I/O 인터페이스들(32)을 통해 원격으로 프로그램 가능 로직 제어기들(201/PLC)에 의해 통제 및 제어 디바이스(4)의 제어 파라메타들(4311, ... 431x)에 기초하여 활성화될 수 있고, 그의 동작은 국소적으로 제어되고,
중앙 통제 및 제어 디바이스(4)는 패시지-지정(43211, ... 4321x) 또는 패시지-포괄(43221, ... 4322x) 배치 파라메타들(432)에 의거하여 전달될 제어 파라메타들(4311, ... 431x)을 생성하는 수단(44)을 구비하고, 패시지-포괄 파라메타들(43221, ... 4322x)은 프로세싱 디바이스들(31)을 가진 여러 개의 프로세싱 라인들(3)에 대해 동일하거나 대응하는 관련성을 가진 파라메타들을 구비하며, 여러 개의 프로세싱 라인들(3)의 제어/통제 및 모니터링을 생성하기 위해 통제 및 제어 디바이스(4)를 통해 중앙식으로 이용될 수 있고, 패시지-지정 파라메타들(43211, ... 4321x)은 특정 프로세싱 라인(3)에 대한 유일한 특정 관련성을 가진 파라메타들을 구비하거나 프로세싱 디바이스(31)들 중 하나에 특정되며,
패시지-지정 또는 환경-지정 파라메타들(432) 중 하나 이상의 파라메타에 기초한 제어 파라메타들(4311,...,431x) 중 하나에 의해, 할당된 프로세싱 디바이스들(31;B_x/C_x/S_x)을 가진 다양한 프로세싱 라인들(3)이 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 중앙식으로 최적화되고, 패시지-포괄 파라메타들(43221, ... 4322x)은, 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해, 프로세싱 라인들(3) 중 적어도 2개에 대한 디바이스들에 걸쳐 글로벌하게 최적화 및 제어 가능하게 되며, 패시지-지정 파라메타들(43211, ... 4321x)은 통제 및 제어 디바이스(4)에 의해 관련 프로세싱 라인(3)에 대해 독립적으로 최적화 및 제어 가능하게 되는
제분 설비의 최적 제어 프로세스.