KR102419501B1 - 유리 시트 내에 압축에 영향을 미치는 방법 및 유리 제조 시스템 - Google Patents

유리 시트 내에 압축에 영향을 미치는 방법 및 유리 제조 시스템 Download PDF

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Abstract

유리 시트 내에 압축에 영향을 미치는 방법 및 유리 제조 시스템은 여기에 개시된다. 예를 들어, 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트의 압축에 영향을 미치는 방법은 여기에 기재된다. 부가적으로, 압축 목표를 충족하는 유리 시트를 제조하는 유리 제조 시스템은 여기에 기재된다. 또한, 다른 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트들 사이에서 압축 균일성을 유지하기 위한 방법은 여기에 기재된다.

Description

유리 시트 내에 압축에 영향을 미치는 방법 및 유리 제조 시스템 {METHODS AND GLASS MANUFACTURING SYSTEM FOR IMPACTING COMPACTION IN A GLASS SHEET}
본 출원은 2014년 9월 30일자에 출원된 미국 가 특허출원 제62/057,372호의 우선권을 주장하고, 이의 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다.
본 개시는 유리 시트 내에 압축에 영향을 미치는 방법 및 유리 제조 시스템에 관한 것이다.
코닝사는 평면 패널 디스플레이와 같은 다양한 장치에 사용될 수 있는 고품질의 박형 유리 시트를 형성하기 위해 퓨전 공정 (fusion process)으로 알려진 공정을 개발했다. 퓨전 공정이 다른 방법에 의해 생산된 유리 시트와 비교할 때 유리 시트의 표면이 우수한 평탄성 및 평활성을 갖는 유리 시트를 생성하기 때문에 이 공정은 평면 패널 디스플레이에 사용되는 유리 시트를 제조하기 위한 대표적인 기술이다. 퓨전 공정은 미국 특허 제3,338,696호 및 제3,682,609호에 처음 기재되었고, 그 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다. 퓨전 공정의 개발 이후, 코닝사는 유리 제조 시스템 및 관련 유리 제조 공정을 지속적으로 개선해왔다. 유리 제조 시스템 및 연관된 유리 제조 공정에 대한 개선은 본 개시의 주제이다.
본 개시는 일반적으로 유리 제조 분야에 관한 것으로, 및 또한 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트의 압축에 영향을 미치는 방법, 압축 목표를 충족하는 유리 시트를 제조하는 유리 제조 시스템, 및 다른 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트 사이의 압축 균일성 (compaction uniformity)을 유지하기 위한 방법에 관한 것이다.
방법 및 유리 제조 시스템은 또한 본 출원의 독립항에 기재된다. 상기 방법 및 유리 제조 시스템의 유리한 구체 예는 종속항에 기재된다.
몇몇 구체 예는 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트에서 압축에 영향을 미치는 방법을 제공한다. 상기 방법은 유리 시트 내에 압축 목표를 충족시키기 위해 유리 시트의 베타-OH를 조절하기 위해 유리 시트를 제조하는데 사용된 배치 물질을 선택하는 단계를 포함한다. 예를 들어, 상기 선택하는 단계는 다음 단계 중 하나 이상을 더욱 포함할 수 있다: (a) 상기 배치 물질에 사용하기 위한 B2O3 소스를 선택하는 단계로, 여기서 B2O3 소스는: (1) 만약 있다면, 유리 시트의 베타-OH를 낮추는 건식 물리적 특성을 갖는 미리결정된 양의 제1 B2O3 물질; 및 (2) 만약 있다면, 유리 시트의 베타-OH를 증가시키는 습식 물리적 특성을 갖는 미리결정된 양의 제2 B2O3 물질을 포함하는, 선택 단계; (b) 유리 시트의 베타-OH를 조절하기 위해 배치 물질 내에 사용하기 위한 SiO2 소스를 선택하는 단계; (c) 유리 시트의 베타-OH를 조절하기 위해 배치 물질 내에 사용하기 위한 수화된 미네랄을 선택하는 단계; 및 (d) 유리 시트의 베타-OH를 조절하기 위해 배치 물질로부터 또는 배치 물질에 할라이드의 양을 첨가, 제거 또는 변화시키는 단계.
다른 구체 예는 압축 목표를 충족하는 유리 시트을 제조하는 유리 제조 시스템을 제공한다. 유리 제조 시스템은: (1) 용융 유리를 형성하기 위해 용융 배치 물질을 위한 용융 용기; (2) 용융 유리를 가공하기 위한 하나 이상의 용기; (3) 가공된 용융 유리를 수용하고 및 유리 시트를 형성하기 위한 형성 장치; 및 (4) 여기서 유리 시트에서 압축 목표를 충족하기 위해 유리 시트의 베타-OH를 조절하기 위해 선택된 배치 물질을 포함한다.
또 다른 구체 예에서, 방법은 다른 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트 사이의 압축 균일성을 유지하기 위한 단계를 제공한다. 상기 방법은: (1) 다른 유리 제조 시스템 중 각각의 하나에 의해 제조된 유리 시트에 대한 압축을 결정하는 단계; (2) 다른 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트 사이의 압축 차이를 결정하는 단계; (3) 다른 유리 제조 시스템에 의해 만들어질 유리 시트에 대한 공통의 압축 목표를 결정하는 단계를 포함한다. 그 다음, 상기 유리 제조 시스템의 각각에 대하여, 다음을 실행한다: (a) 하나의 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트의 압축이 공통의 압축 목표를 충족하는 지를 결정하는 단계; (b) 만약 충족한다면, 그 다음 하나의 유리 제조 시스템에 의해 유리 시트를 제조하는데 사용되는 배치 물질에 변화가 없고; (c) 그렇지 않다면, 그 다음 하나의 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트의 압축이 공통의 압축 목표에 비해 높거나 또는 낮은지를 결정하는 단계; (d) 만약 높다면, 그 다음 (i) 유리 시트가 더 낮은 베타-OH를 갖도록 사용된 배치 물질을 변화시키는 단계, (ii) 하나의 유리 제조 시스템에 의해 변화된 배치 물질로 제조된 유리 시트에 대한 압축을 결정하는 단계, 및 (iii) 하나의 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트의 압축이 공통의 압축 목표를 충족하는 지를 결정하는 단계 (a)로 회귀하는 단계; 및 및 (e) 만약 낮다면, 그 다음 (i) 유리 시트가 더 높은 베타-OH를 갖도록 사용된 배치 물질을 변화시키는 단계, (ii) 하나의 유리 제조 시스템에 의해 변화된 배치 물질로 제조된 유리 시트에 대한 압축을 결정하는 단계, 및 (iii) 하나의 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트의 압축이 공통의 압축 목표를 충족하는 지를 결정하는 단계 (a)로 회귀하는 단계.
본 개시의 부가적인 특색 및 장점은 하기 상세한 설명, 도면들 및 하기 청구 범위에서, 부분적으로, 서술될 것이고, 부분적으로 하기 상세한 설명으로부터 유도되거나, 또는 여기에 기재된 방법들을 실행시켜 습득될 것이다.
전술한 배경기술 및 하기 상세한 설명 모두는 본 개시의 다양한 구체 예를 제공하고, 청구 범위의 본질 및 특징을 이해하기 위한 개요 또는 틀거리를 제공하도록 의도된 것으로 이해될 것이다. 수반되는 도면은 본 개시의 또 다른 이해를 제공하기 위해 포함되고, 본 명세서에 혼입되며, 본 명세서의 일부를 구성한다. 도면은 본 개시의 다양한 구체 예를 예시하고, 상세한 설명과 함께 본 개시의 원리 및 작동을 설명하기 위해 제공된다.
하기 상세한 설명은 수반되는 도면을 참조하여 판독하는 경우, 더 잘 이해될 수있고, 여기서 동일한 구조는 가능한 한 동일한 참조번호로 나타낸다:
도 1은 유리 시트를 제조하는 퓨전 인발 공정을 사용하는 대표적인 유리 제조 시스템의 개략도이다;
도 2는 유리 시트 내에 압축에 영향을 미치는 대표적인 방법을 예시하는 흐름도이다; 도 3은 도 2에 나타낸 방법을 실행하기 위한 드라이버 (driver)일 수 있는 대표적인 사항 또는 상황을 예시하는 도표이다;
도 4는 다른 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트들 사이의 압축 균일성을 유지하기 위한 대표적인 방법을 예시하는 흐름도이다;
도 5a-5b는 대표적인 유리 조성물에 건식:습식 원료 비의 변화의 실험적인 효과를 나타내는 그래프이다; 및
도 6a-6b는 또 다른 대표적인 유리 조성물에서 건식:습식 원료 비의 변화의 실험적인 효과를 나타내는 그래프이다.
도 1을 참조하면, 본 개시의 몇몇 구체 예에 따라 유리 시트 (102)를 제조하기 위해 퓨전 인발 공정을 사용하는 대표적인 유리 제조 시스템 (100)의 개략도는 나타낸다. 유리 제조 시스템 (100)은 용융 용기 (110), 용융 내지 청징관 (115), 청징 용기 (120), 청징 용기에서 교반 챔버 연결관 (125), 교반 챔버 (130) (예를 들어, 혼합 용기 (130)), 교반 챔버에서 보울 (bowl) 연결관 (135), 보울 (140) (예를 들어, 전달 용기 (140)), 하강관 (145), (주입관 (155), 형성 장치 (160), 및 풀 롤 어셈블리 (pull roll assembly: 165)를 포함하는) 퓨전 인발 머신 (FDM) (150), 및 이동용 앤빌 기계 (TAM) (170)을 포함한다. 유리 제조 용기 (115, 120, 125, 130, 135, 140, 145 및 155)는 백금, 또는 백금-로듐, 백금-이리듐 및 이의 조합과 같은 백금-함유 금속으로부터 제조될 수 있지만, 이들은 또한 팔라듐, 레늄, 루테늄, 및 오스뮴, 또는 이의 합금과 같은 다른 내화성 금속을 포함할 수 있다. 형성 장치 (160) (예를 들어, 아이소파이프 (isopipe) (160))는, 세라믹 물질 또는 유리-세라믹 내화성 물질로부터 만들어질 수 있다.
용융 용기 (110)에서는 유리 배치 물질 (111)이 화살표 (112)에 의해 나타낸 바와 같이 도입되고 용융되어 용융 유리 (114)를 형성한다. 청징 용기 (120) (예를 들어, 청징관 (120))는 용융 내지 청징관 (115)에 의해 용융 용기 (110)에 연결된다. 청징 용기 (120)는 용융 용기 (110)로부터 용융 유리 (114) (이 지점에서 나타내지 않음)를 수용하는 고온 가공 구역을 갖고, 여기서 기포는 용융 유리 (114)로부터 제거된다. 청징 용기 (120)는 청징 용기에서 교반 챔버 연결관 (125)에 의해 교반 챔버 (130)에 연결된다. 교반 챔버 (130)는 교반 챔버에서 보울 연결관 (135)에 의해 보울 (140)에 연결된다. 보울 (140)은 FDM (150)으로 하강관 (145)을 통해 용융 유리 (114) (도시되지 않음)를 전달한다.
FDM (150)는 주입관 (155), 형성 용기 (160) (예를 들어, 아이소파이프 (160)) 및 풀 롤 어셈블리 (165)를 포함한다. 주입관 (155)은 하강관 (145)으로부터 용융 유리 (114) (도시되지 않음)를 수용하고, 주입관 (155)으로부터 용융 유리 (114) (도시되지 않음)는 그 다음 성형 용기 (160)로 흐른다. 형성 용기 (160)는 용융 유리 (114) (도시되지 않음)를 수용하는 개구 (162)를 포함하고, 상기 용융 유리는 홈통 (164)으로 흐르고, 그 다음 두 개의 대립 측면 (166a 및 166b)을 넘치고 하향으로 흘러 루트 (168)에서 함께 융합되어 유리 시트 (109)를 형성한다. 풀 롤 어셈블리 (165)는 유리 시트 (109)를 수용하여 인발된 유리 시트 (111)를 생산한다. TAM (170)은 인발된 유리 시트 (111)를 수용하고, 인발된 유리 시트 (111)를 개별 유리 시트 (102)로 분리한다.
이하 상세히 기재되는 바와 같이, 몇몇 구체 예는 방향적으로 유리 시트 (102)의 수분 함량 (베타-OH)을 조절하고 및 유리 시트 (102)의 압축 특성에 영향을 미치기 위해 원료 (111) (배치 물질 (111)) 선택을 사용한다. 이 논의에서, 베타-OH는 표준 Fourier Transform Infrared (FTIR) 분광학 기술을 사용하여 측정된 바와 같은 유리 샘플의 수분 함량의 표현으로 정의된다. 더욱이, 압축은 일반적으로 이의 분자 구조가 이의 초기 상태로부터 고밀도 평형 상태로 돌아감에 따라 발생하는 유리의 고밀도화로 정의된다. 특히, 수분 함량 (베타-OH)이 유리 시트 (102)의 압축 특성에 직접적으로 영향을 미치는 유리 조성물 (111) (배치 물질 (111))의 특성과 반비례 관계를 가질 수 있다는 것을 우연히 발견하였다. 예를 들어, 더 습한 원료 (wetter raw materials) (111)는 베타-OH를 증가시킬 수 있는 반면, 더 건조한 (dryer) 원료 ((111)는 베타-OH를 감소시킬 수 있다. 더군다나, 퓨전 공정에서 유리 시트 (102)를 생산하는데 사용되는 주어진 유리 조성물 (111) (배치 물질 (111))에 대해, 압축 성능은 또한 증가된 유동이 더 큰 압축을 결과하는 유동에 의해 영향을 받을 수 있다. 더 건조한 물질의 사용은 이 차이를 상쇄할 수 있어, 더 높은 유동 인발이 더 낮은 유동 인발과 유사한 압축을 갖는 것을 가능하게 한다. 몇몇 구체 예에서, 베타-OH 및 압축에 영향을 미칠 수 있는 원료 (111)는 SiO2 소스, B2O3 소스 및 수화된 미네랄을 포함하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 구체 예에서, 배치 물질 (111)에 할라이드의 첨가는 건조 효과를 가질 수 있다. 또 다른 구체 예에서, B2O3 소스는 디스플레이 유리 조성물 (111)에 베타-OH에 대해 큰 효과를 가질 수 있다. 원료 (111), 배치 물질 (111) 및 유리 조성물 (111)의 용어는 여기에서 상호 교환적으로 사용되고, 여기에 첨부된 청구항들의 범주를 제한하지 않는다.
도 2를 참조하면, 유리 시트 (102)에서 압축에 영향을 미치는 대표적인 방법 (200)을 예시하는 흐름도는 제공된다. 상기 방법 (200)은 배치 물질 (111)을 선택하는 단계 (202)를 포함한다. 이들 배치 물질 (111)은 유리 시트 (102)를 만드는데 및 압축 목표를 충족하도록 유리 시트 (102)의 베타-OH를 조절하는데 사용될 수 있다. 선택 단계 (202)는 또한 배치 물질 (111)에 사용하기 위한 B2O3 소스를 선택하는 단계를 포함할 수 있고, 여기서 B2O3 소스는, 만약 있다면, 유리 시트의 베타-OH를 낮추는 건조한 물리적 특성을 갖는 제1 B2O3 물질 (예를 들어, 무수 붕산)의 미리결정된 양, 및 만약 있다면, 유리 시트의 베타-OH를 증가시키는 습식 물리적 특성을 갖는 제2 B2O3 물질 (예를 들어, 붕산)의 미리결정된 양을 포함한다 (단계 204a). 몇몇 구체 예에서, 선택 단계 (202)는 유리 시트 (102)의 베타-OH를 조절하기 위해 배치 물질 (111)에 사용하기 위한 SiO2 소스를 선택하는 단계를 더욱 포함할 수 있다 (단계 204b). 부가적인 구체 예에서, SiO2 소스는 같거나 또는 다를 수 있다 (예를 들어, 입자 크기, 조성물, 수분 함량 및/또는 기타 특징). 몇몇 구체 예에서, 선택 단계 (202)는 유리 시트 (102)의 베타-OH를 조절하기 위해 배치 물질 (111)에 사용하기 위한 수화된 미네랄을 선택하는 단계를 포함할 수 있다 (단계 204c). 하나의 실시 예에서, 수화된 미네랄은, 유리 시트 (102)의 베타-OH를 조절하기 위해 배치 물질 (111)에서 첨가, 제거, 또는 이의 변화된 양을 가질 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 선택 단계 (202)는 또한 유리 시트 (102)의 베타-OH를 조절하기 위해 배치 물질 (111)에 또는 배치 물질로부터 할라이드의 양을 첨가, 제거 또는 변화하는 단계를 포함할 수 있다 (단계 204d). 압축 목표는, 몇몇 물리적 특징으로 명명되는, 연화점, 어닐링점, 변형점, 유리 전이 온도 (Tg), 및 이의 조합일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 몇몇 구체 예에서, 압축 목표는 변형점이다. 그러나, 명목상 유리 조성물 및 제조 공정 조건이 일정하게 유지되면, 압축, 및 연화점, 어닐링점, 변형점 및 Tg와 같은 다른 물리적 특성 사이에 상관관계가 확립되어 압축시 대리 측정으로 이들의 사용을 가능하게 한다. 물론, 이들 물리적 특성은 여기에 기재된 구체 예가 압축 목표를 정의하기 위해 많은 특성을 사용할 수 있기 때문에 첨부된 청구항의 범주를 제한하지 않아야 한다. 컨트롤러 (프로세서/메모리) 및 다른 타입의 장비 (예를 들어, 시험 장비)는, 유리 시트 (102)의 압축을 결정하는데, 유리 시트 (102)에 대한 압축 목표를 결정하는데, 및 유리 시트 (102)를 만드는데 사용된 단계 (02, 204a, 204b, 204c 및 204d)에 대한 배치 물질 (111)을 선택하는데 사용될 수 있다.
전술한 바와 같은, 여기에 기재된 구체 예 및 기능적 작동은, 본 명세서에 개시된 구조 및 이들 구조적 균등물, 또는 그들 중 하나 이상의 조합을 포함하는, 디지털 전자 회로 또는 컴퓨터 소프트웨어, 펌웨어, 또는 하드웨어로 실행될 수 있다. 여기에 기재된 구체 예는, 하나 이상의 컴퓨터 프로그램 제품, 즉, 데이터 처리 장치에 의해 실행되거나 또는 데이터 처리 장치의 동작을 조절하기 위해 유형 프로그램 캐리어 (tangible program carrier) 상에 인코딩된 컴퓨터 프로그램 명령의 하나 이상의 모듈로서 실행될 수 있다. 유형 프로그램 캐리어는 컴퓨터 판독가능 매체일 수 있다. 컴퓨터 판독가능 매체는 기계-판독가능 저장 장치, 기계 판독가능 저장 기판, 메모리 장치, 또는 이들 중 하나 이상의 조합일 수 있다.
용어 "프로세서" 또는 "컨트롤러"는, 예를 들어, 프로그램 가능한 프로세서, 컴퓨터, 또는 다수의 프로세서 또는 컴퓨터를 포함하는, 데이터를 처리하기 위한 모든 장비, 장치 및 기계를 포괄할 수 있다. 프로세서는, 하드웨어 이외에, 해당 컴퓨터 프로그램에 대한 실행 환경을 생성하는 코드, 예를 들어, 프로세서 펌웨어, 프로토콜 스택, 데이터베이스 관리 시스템, 운영 체제, 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 구성하는 코드를 포함할 수 있다.
(프로그램, 소프트웨어, 소프트웨어 응용 프로그램, 스크립트 또는 코드로 또한 알려진) 컴퓨터 프로그램은, 컴파일되거나 또는 해석된 언어, 또는 선언적 또는 절차적 언어를 포함하는, 프로그램 언어의 어떤 형태로 작성될 수 있고, 및 이는 독립실행형 프로그램으로 또는 모듈로서, 구성 요소, 서브루틴 또는 컴퓨팅 환경에 사용하기에 적합한 다른 유닛을 포함하는, 어떤 형태로 배포될 수 있다. 컴퓨터 프로그램이 반드시 파일 시스템의 파일과 일치할 필요는 없다. 프로그램은 다른 프로그램 또는 데이터 (예를 들어, 마크업 (markup) 언어 문서에 저장된 하나 이상의 스크립트)를 유지하는 파일의 일부에, 문제의 프로그램 전용의 단일 파일에, 또는 다중 조정된 파일 (예를 들어, 하나 이상의 모듈, 서브 프로그램, 또는 코드의 일부를 저장하는 파일)에 저장될 수 있다. 컴퓨터 프로그램은 하나의 컴퓨터 또는 한 사이트에 위치하거나 또는 다중 사이트에 분산되어 있고 및 통신 네트워크에 의한 상호연결된 다수의 컴퓨터에서 실행되도록 배포될 수 있다.
여기에 기재된 프로세스는 입력 데이터를 조작하고 및 출력을 생성함으로써 기능을 수행하기 위한 하나 이상의 컴퓨터 프로그램을 실행하는 하나 이상의 프로그램 가능한 프로세서에 의해 수행될 수 있다. 프로세스 및 논리 흐름은 또한, 예를 들어, FPGA (현장 프로그램 가능한 게이트 어레이) 또는 ASIC (주문형 집적 회로)와 같은 특수 목적의 논리 회로에 의해 수행될 수 있으며, 장치는 또한 특수 목적의 논리 회로로서 실행될 수 있다.
컴퓨터 프로그램의 실행에 적합한 프로세서는, 예를 들어, 범용 및 특수 목적의 마이크로프로세서, 및 임의의 종류의 디지털 컴퓨터의 임의의 하나 이상의 프로세서 모두를 포함한다. 일반적으로, 프로세서는 판독 전용 메모리 또는 랜덤 액세스 메모리 또는 둘 모두로부터 명령 및 데이터를 수신할 것이다. 컴퓨터의 필수 요소는 명령을 수행하기 위한 프로세서 및 명령 및 데이터를 저장하기 위한 하나 이상의 데이터 메모리 장치이다. 일반적으로, 컴퓨터는 또한, 데이터를 저장하기 위한 하나 이상의 대용량 저장 장치, 예를 들어, 자기, 자기 광학 디스크 또는 광학 디스크로부터 데이터를 수신하거나 또는 저장 장치에 데이터를 전송하기 위해 또는 모두를 위해 동작 가능하게 결합되거나 또는 포함할 것이다. 그러나, 컴퓨터는 이러한 장치를 가질 필요가 없다. 게다가, 컴퓨터는 다른 장치, 몇 가지 예를 들어, 이동 전화, 개인 휴대 정보 단말기 (PDA)에 내장될 수 있다.
컴퓨터 프로그램 명령 및 데이터를 저장하기에 적합한 컴퓨터 판독 가능한 매체는, 예를 들어, EPROM, EEPROM 및 플래시 메모리 장치와 같은 반도체 메모리 장치를 포함하는, 비휘발성 메모리, 매체 및 메모리 장치를 포함하는 모든 형태의 데이터 메모리; 내부 하드 디스크 또는 제거 가능한 디스크와 같은 자기 디스크; 자기 광학 디스크; 및 CD ROM 및 DVD-ROM 디스크를 포함한다. 프로세서 및 메모리는 특수 목적 논리 회로에 의해 보충되거나 또는 그 안에 혼입될 수 있다.
사용자와의 상호작용을 제공하기 위해, 여기에 기재된 구체 예는, 정보를 사용자에게 디스플레이하기 위한 디스플레이 장치, 예를 들어, CRT (cathode ray tube) 또는 LCD (liquid crystal display) 모니터, 및 이와 유사한 것, 및 사용자가 컴퓨터에 입력을 제공할 수 있는 키보드 및 포인팅 장치, 예를 들어, 마우스 또는 트랙볼, 또는 터치 스크린을 갖는 컴퓨터상에서 구현될 수 있다. 다른 종류의 장치는 사용자와의 상호작용을 제공하는데 사용될 수 있고; 예를 들어, 사용자로부터의 입력은, 음향, 말하기 또는 촉각 입력을 포함하는, 임의의 형태로 수신될 수 있다.
여기에 기재된 구체 예는, 백 엔드 구성요소 (back end component), 예를 들어, 데이터 서버를 포함하는, 또는 미들웨어 구성요소, 예를 들어, 애플리케이션 서버를 포함하는, 또는 프런트 엔드 구성요소, 예를 들어, 사용자가 여기에 기재된 주제의 실행과 상호작용할 수 있는 웹 브라우저 (Web browser) 또는 그래픽 사용자 인터페이스 (graphical user interface)를 갖는 클라이언트 컴퓨터를 포함하는, 또는 하나 이상의 이러한 백 엔드, 미들웨어, 또는 프런트 엔드 구성요소의 임의의 조합을 포함하는 컴퓨팅 시스템에서 구현될 수 있다. 시스템의 구성요소들은 디지털 데이터 통신의 임의의 형태 또는 매체, 예를 들어, 통신 네트워크에 의해 상호접속될 수 있다. 통신 네트워크의 실시 예는 근거리 통신망 ("LAN") 및 광역 통신망 ("WAN"), 예를 들어, 인터넷을 포함한다.
컴퓨팅 시스템은 클라이언트 및 서버를 포함할 수 있다. 클라이언트 및 서버는 일반적으로 서로 멀리 떨어져 있으며 통상적으로 통신 네트워크를 통해 상호작용한다. 클라이언트 및 서버의 관계는, 각각의 컴퓨터에서 실행되고 서로 클라이언트-서버 관계를 갖는 컴퓨터 프로그램에 의해 일어난다.
몇몇 구체 예들에서 사용될 수 있는 대표적인 유리 조성물 (111)은 표 1에 제공된다:
산화물 (wt.%) 최소 최대
SiO2 59 64
Al2O3 17 20
B2O3 0 11
MgO 1 4
CaO 4 8
SrO 0 4
BaO 0 9
SnO2 0 1
Fe2O3 0 1
K2O 0 1
Na2O 0 1
ZrO2 0 1
몇몇 구체 예에서, 대표적인 유리 조성물 (111)은, 몇 가지 예로서, 수화된 칼슘 메타보레이트 (CaO-B2O3-2H2O), 콜레마나이트 (2CaO-3B2O3-5H2O), 및 대표적인 조성물에 대한 목표 산화물의 하나 이상의 원소 및 물을 포함하는 잠재적인 기타 자연적 수화된 미네랄을 포함할 수 있다. 다른 구체 예에서, 대표적인 유리 조성물 (111)은 대표적인 조성물에 대한 목표 산화물의 원소의 불화물, 염화물, 또는 브롬화물 형태이거나 또는 포함할 수 있다. 또 다른 구체 예에서, 아연 및 인산은 대표적인 유리 조성물 (111)에 바람직하다면 첨가될 수 있다.
물론, 청구항은, 구체 예가 유리 조성물 (111)의 광범위한 다양성으로 사용될 수 있는 것으로 인식되어야 하기 때문에 표 1에 제공된 조성물로 제한되지 않아야 한다. 예를 들어, 표 2는 몇몇 구체 예에 사용될 수 있는 또 다른 비-제한 대표적인 유리 조성물 (111)을 제공한다.
산화물 (wt.%) 최소 최대
SiO2 56 66
Al2O3 16 22
B2O3 0 12
MgO 0 5
CaO 0 10
SrO 0 5
BaO 0 10
SnO2 0 1
Fe2O3 0 0.5
K2O 0 0.1
Na2O 0 0.1
ZrO2 0 0.5
또한, 아연 및 인은 원한다면 표 2에서 확인된 대표적인 유리 조성물 (111)뿐만 아니라 위에서 열거된 대표적인 수화된 물질에 첨가될 수 있다는 점에 주목해야 한다.
도 3을 참조하면, 유리 시트 (102)에서 특정 압축 목표를 충족하도록 배치 물질 (111)을 변경하기 위한 대표적인 방법 (200)을 구현하기 위한 드라이버일 수 있는 대표적인 사항 또는 상황을 예시하는 다이어그램은 제공된다. 비-제한적인 드라이버는, 흐름 목표 변화 (flow target changes), 유리 조성물 변화, 고객 압축 이슈 (customer compaction issues), 유리 제품 확장, 및 선간 (line-to-line) 압축 이슈를 감소시키려는 바람을 포함할 수 있다.
흐름 목표 변화와 관련하여, 비용 절감 목적으로 주어진 퓨전 인발 (주어진 유리 제조 시스템 (100))에 대한 최종 흐름 목표를 증가시키길 원한다면, 그 다음 더 높은 흐름에서 특정한 압축 목표 및 용량을 고려할 것이며, 결과로서, 배치 물질 (111) 내에 더 건조한 물질의 양을 증가시켜 목표에 대한 압축을 감소시킬 것이다.
유리 조성물의 변화와 관련하여, 새로운 유리 조성물 시도는 주어진 인발 디자인 및 흐름 목표 제약과 조합하여 이 방법론을 사용하려는 시도를 할 수 있다.
고객 압축 이슈와 관련하여, 특정 제품 라인 또는 제품 라인-대-제품 라인 내에서 유리 시트 (102) 내에 압축 변동성으로 고객 불만 또는 고객 투명성 이슈가 존재할 수 있고, 이는 배치 물질 (111)에서 건식-대- 습식 물질 비에 대한 조정 또는 더 건조한 원료의 사용할 가치가 있어 압축 변동성의 감소를 가져온다.
유리 제품 확장과 관련하여, 이러한 방법론은, 만약 압축의 감소 (또는 증가)가, 예를 들어, 더 높은 디스플레이 제작 온도에서 더 우수한 치수 안정성을 갖는 것과 같은, 기존 제품의 적용을 확장하기 위한 수단이라면, 고려될 수 있다.
다른 유리 제조 시스템에 의해 제조된 유리 시트 (102)의 선간 압축 차이를 감소시키는 이슈는 아래에서 더 상세하게 기재된다 (도 4 참조).
몇몇 구체 예에서, 압축 목표는 특정 사항-상황의 어드레싱 (addressing)을 가능하게 결정되거나 또는 추정될 수 있다. 이러한 결정시, 각각의 유리 시트 (102)는 압축 목표가 충족되었는지, 너무 높거나, 너무 낮은지를 결정하기 위해 검사될 수 있다 (박스 2 참조). 압축 목표가 충족되면, 배치 물질 (111)에서 어떠한 변화도 필요하지 않을 것이다 (즉, 사항-상황이 만족됨) (박스 3). 유리 시트 (102)의 압축이 압축 목표보다 더 높다면, 배치 물질 (111)은 유리 시트 (102)가 더 낮은 베타-OH (예를 들어, 건식-대-습식 물질 비를 증가)를 갖도록 변화될 수 있고, 변화된 배치 물질 (111)로 제조된 유리 시트 (102)에 대한 압축은 결정될 수 있으며, 및/또는 변화된 배치 물질 (111)로 제조된 유리 시트 (102)의 압축이 공통의 목표 압축을 충족하는 지를 결정할 수 있다 (박스 4). 유리 시트 (102)의 압축이 압축 목표보다 더 낮다면, 그 다음 배치 물질 (111)은 유리 시트 (102)가 더 높은 베타-OH (예를 들어, 건식-대-습식 물질 비의 감소)를 갖도록 변화될 수 있고, 변화된 배치 물질 (111)로 제조된 유리 시트 (102)에 대한 압축은 결정될 수 있으며, 및/또는 변화된 배치 물질 (111)로 제조된 유리 시트 (102)의 압축이 공통의 목표 압축을 충족하는 지를 결정할 수 있다 (박스 5).
도 4를 참조하면, 다른 유리 제조 시스템 (100)에 의해 제조된 유리 시트들 (102) 사이의 압축 균일성을 유지하기 위한 대표적인 방법 (400)을 예시하는 흐름도는 제시된다. 단계 (402)에서 시작하여, 압축은 여러 다른 유리 제조 시스템 (100) 중 임의의 하나에 의해 제조된 유리 시트 (102)에 대해 결정될 수 있다. 다른 유리 제조 시스템 (100)은, 동일한 셋-업 (예를 들어, 동일한 크기의 아이소파이프 (160)) 또는 다른 셋-업 (예를 들어, 다른 크기의 아이소파이프 (160))을 가질 수 있고, 및 동일한 배치 물질 (111) 또는 다른 배치 물질을 가질 수 있다. 단계 (404)에서, 압축 차이는 다른 유리 제조 시스템 (100)에 의해 제조된 유리 시트들 (102) 사이에서 결정될 수 있다. 단계 (406)에서, 공통의 압축 목표는 다른 유리 제조 시스템 (100)에 의해 만들어질 유리 시트 (102)에 대해 결정될 수 있다.
부가적인 구체 예에서, 단계 (408)에서, 하나의 유리 제조 시스템 (100)에 의해 제조된 유리 시트 (102)의 압축이 공통의 압축 목표를 충족하는 지가 결정될 수 있다. 단계 (408)의 결과가 YES인 경우, 그 다음 단계 (410)에서, 하나의 유리 제조 시스템 (100)에 의해 유리 시트 (102)를 만드는데 사용되는 배치 물질 (111)의 변화는 없다. 단계 (408)의 결과가 NO인 경우, 단계 (412)에서, 하나의 유리 제조 시스템 (100)에 의해 제조된 유리 시트 (102)의 압축이 공통의 압축 목표에 대해 높거나 낮은 지가 결정될 수 있다. 단계 (412)의 결과가 높다면, 그 다음 단계 (414)에서, 배치 물질 (111)은 유리 시트 (102)가 더 낮은 베타-OH를 갖도록 변화될 수 있고 (도 2에 연관한 논의 참조), 단계 (416)에서, 압축은 하나의 유리 제조 시스템 (100)에 의해 변화된 배치 물질 (111)로 제조된 유리 시트 (102)에 대해 결정될 수 있으며, 및 결정은 단계 (408)에서 하나의 유리 제조 시스템 (100)에 의해 제조된 유리 시트 (102)의 압축이 공통의 압축 목표를 지금 충족하는지에 따라 다시 만들어질 수 있다. 상기 방법은 또한 배치 물질 (111)이 더 낮은 베타-OH를 갖는 유리 시트 (102)를 만들도록 변화될 수 있는 단계 (414)에서, 배치 물질 (111)의 B2O3 소스를 붕산에 비해 더 많은 무수 붕산을 함유하거나 또는 모든 무수 붕산을 함유하도록 변화시키는 단계, 더 건조한 SiO2를 함유하도록 배치 물질의 SiO2 소스를 변화시키는 단계, 여기서 SiO2 소스는 하나 이상의 타입의 SiO2 (예를 들어, 미세 모래, 등)를 포함함, 더 건조한 수화된 미네랄을 함유하도록 배치 물질 (111)을 변화시키는 단계, 및/또는 할라이드의 양을 첨가 또는 증가하도록 배치 물질 (111)을 변화시키는 단계 중 하나 이상의 단계를 포함할 수 있다.
몇몇 구체 예에서, 단계 (408)의 결과가 낮다면, 그 다음 단계 (418)에서, 배치 물질 (111)은 더 높은 베타-OH를 갖는 유리 시트 (102)를 만들도록 변화될 수 있고 (도 2에 연관된 논의 참조), 단계 (420)에서, 압축은 하나의 유리 제조 시스템 (100)에 의해 변화된 배치 물질 (111)로 제조된 유리 시트 (102)에 대해 결정되며, 및 결정은 하나의 유리 제조 시스템 (100)에 의해 제조된 유리 시트 (102)의 압축이 공통의 압축 목표를 충족하는지에 따라 단계 (408)에서 다시 만들어질 수 있다. 부가적인 구체 예에서, 상기 방법은, 배치 물질 (111)이 더 높은 베타-OH를 갖는 유리 시트 (102)를 만들도록 변화되는 단계 (420)에서, 배치 물질 (111)의 B2O3 소스를 무수 붕산에 비해 더 많은 붕산을 함유하거나 또는 모두 붕산을 함유하도록 변화시키는 단계, 더 습한 SiO2를 함유하도록 배치 물질의 SiO2 소스를 변화시키는 단계, 여기서 SiO2 소스는 하나 이상의 타입의 SiO2 (예를 들어, 미세 모래, 등)를 포함함, 더 습한 수화된 미네랄을 함유하도록 배치 물질 (111)을 변화시키는 단계, 및/또는 만약 존재한다면 할라이드의 양을 감소 또는 제거하도록 배치 물질 (111)을 변화시키는 단계 중 하나 이상의 단계를 포함할 수 있다.
실험
다음은 특정 유리 조성물 (111)이 대표적인 유리 시트 (102)의 압축에 대한 영향을 결정하도록 조작되는 다양한 실험에 관한 논의이다. 전술된 바와 같이, 몇몇 구체 예는 일반적으로, 유리 시트 (102)의 압축에 이로운 변화를 초래하고, 베타-OH를 조절하기 위해 유리 조성물 (111)에서 건식-대-습식 원료의 비율을 조작하는 것에 관한 것이다. 이 개념의 하나의 실시 예는, 표 3에서 wt.%로 나타낸 유리 조성물 (111)에 사용된 표준 붕산의 전부 또는 일부에 대해, 무수 붕산 (ABA)으로 또한 언급되는, 무수 산화붕소를 치환하는 단계를 포함한다.
산화물 (wt.%) 최소 최대 실시 예
SiO2 56 67 61.6
Al2O3 15 21 18.1
B2O3 1 5 3.4
MgO 1 5 2.8
CaO 2 7 4.8
SrO 0.5 3.5 1.9
BaO 5 9 7.2
SnO2 0 0.5 0.2
Fe2O3 0 1 미량
ZrO2 0 1 미량
무수 붕산은 붕산과 비교한 경우 상대적으로 더 건조한 물질이다. 결과적으로, 유리 시트 (102)에서 베타-OH가 표준 붕산의 전부 또는 일부에 대해 무수 붕산으로 치환하는 경우 감소될 수 있고, 이는 유리 시트 (102)의 어닐링점에서 증가를 유발하고, 압축 및 응력 이완 성능을 개선시킨다는 것을 발견하였다. 도 5a는 유리 시트 (102)의 어닐링점에 대해 표 3의 유리 조성물 (111)에서 건식:습식 원료 비의 변화 (즉, 붕산 (습식)을 무수 산화붕소 (건식)로 전환)의 상대적 영향을 나타내는 그래프이다. 도 5b는 유리 시트 (102)의 베타-OH에 대해 표 3의 유리 조성물 (111)에 건식:습식 원료 비의 변화 (즉, 붕산, BA (습식)을 무수 산화붕소 (건식)로 전환)의 상대적 영향을 나타내는 그래프이다. 도 5a 및 5b를 참조하면, 습식:건식 원료의 비가 배치 물질에서 증가함에 따라, 대표적인 유리 조성물의 어닐링점 온도는 실질적으로 선형으로 증가하고 (도 5a), 및 대표적인 유리 조성물의 상대적 베타-OH 함량은 실질적으로 선형으로 감소하는 것으로 (도 5b) 관찰될 수 있다.
이 개념의 또 다른 실시 예는, 표 4에서 wt.%로 나타낸 또 다른 유리 조성물 (111)에 사용된 표준 붕산의 전부 또는 일부에 대해, 무수 붕산 (ABA)으로 또한 언급되는, 무수 산화붕소를 치환하는 단계를 포함한다.
산화물 최소 최대 실시 예
SiO2 59 68 63.6
Al2O3 12 22 16.8
B2O3 6 12 9.4
MgO 1 3 1.4
CaO 4 10 7.0
SrO 0.5 3.5 1.5
SnO2 0 0.5 0.2
Fe2O3 0 1 미량
ZrO2 0 1 미량
도 6a는 유리 시트 (102)의 B2O3 농도 및 어닐링점에 대해 표 4의 유리 조성물 (111)에서 건식:습식 원료 비의 변화 (즉, 붕산 (습식)을 무수 산화붕소 (건식)로 전환)의 상대적 영향을 나타내는 그래프이다. 도 6b는 유리 시트 (102)의 베타-OH 및 어닐링점에 대해 표 4의 유리 조성물 (111)에서 건식:습식 원료 비의 변화 (즉, 붕산 (습식)을 무수 산화붕소 (건식)로 전환)의 상대적 영향을 나타내는 그래프이다. 도 6a 및 6b를 참고하면, 건식:습식 원료의 비가 배치 물질에서 증가함에 따라, 표 4의 유리 조성물의 어닐링점 온도는 실질적으로 선형으로 증가하고, B2O3 농도는 실질적으로 일정하게 유지되며 (도 6a), 및 대표적인 유리 조성물의 상대적 베타-OH 함량은 한 지점으로 기하급수적으로 감소하고, 및 실질적으로 일정하게 유지되거나 또는 이후 다소 감소하는 것으로 관찰될 수 있다 (도 6b).
전술된 관점에서, 기술분야의 당업자는 여기에 기재된 구체 예가 유리의 베타-OH를 조절하여 유리 시트 (102) (디스플레이 유리 시트 (102))에서 압축 목표를 충족하도록 원료를 선택하는 방법과 관련된다는 것을 쉽게 인식할 것이다. 다수의 구체 예가 지금까지 퓨전 인발 공정 및/또는 제조 시스템에 연관하여 기재되었지만, 구체 예가, 몇몇 예를 들자면, 플로우트 공정 및 제조 시스템, 슬롯 인발 공정 및 제조 시스템, 이중 퓨전 인발 공정 및 제조 시스템을 포함하는, 그러나, 이에 제한되지 않는, 다른 유리 제조 및 형성 방법에 동등하게 적용 가능함에 따라, 여기에 첨부된 청구항은 퓨전 인발 공정 및/또는 제조 시스템에 제한되지 않아야 한다. 본 개시는 장점 중에 일부가 개선된 압축 성능 (예를 들어, 디스플레이 제조 공정에서 더 높은 공정 온도에서 더 높은 치수 안정성을 요구하는 디스플레이 유리 시트 (102) (예를 들어, 저온 폴리실리콘 디스플레이 (LTPS) 및 산화물 박-막-트랜지스터 (OxTFT) 디스플레이)를 제조하는데 필요한 경우)의 제공, 및 제조 비용 감소 (예를 들어, 베타-OH의 감소가 흐름 성능에 대한 현재 압축 성능의 제약을 완화시키고, 유리 시트 (102)의 비용/ft2를 감소시킬 수 있는 주어진 타입의 유리 시트 (102)에 대해 더 높은 흐름 용량 디자인을 목표로 할 수 있게 함)의 제공을 포함하는 다수의 장점을 갖는다. 부가적인 장점은, (예를 들어, 부분적으로 또는 전체 치환으로 배치 물질 (111)에서 더 건조한 원료를 사용함으로써 고객에게 투명한 유리 시트 (102)를 공급할 수 있는 증가된 능력을 제공하는) 퓨전 생산 라인의 전체에 걸친 압축 변동성 감소를 포함한다 (도 4 참조) (예를 들어, 하나의 타입의 유리 시트 (102)를 제조하는데 특정 유리 조성물 (111)을 사용하는 하나의 생산 라인은, 다른 타입의 유리 시트 (102)를 제조하는데 다른 유리 조성물 (111)을 사용하는 또 다른 생산과 같이 수행되도록 일치될 수 있다). 이 능력은 또한 다른 모 (mother) 유리 시트 (102)로부터 절단된 유리 시트 (102)의 크레이트 (crates)를 혼합하는 경우 발생할 수 있는 문제가 있는 이슈를 해결한다 (즉, 모 유리 시트 (102)는 동일한 압축 목표를 모두 충족시킬 것이다). 또 다른 장점은 개선된 압축 조절을 제공하는 단계 (예를 들어, 압축을 조절하기 위해 배치 물질 (111)에서 건식 및 습식 혼합물의 비 조정하는 단계)를 포함한다. 충분하게 검토된 대리의 측정 (예를 들어, 주어진 퓨전 인발 디자인에 대하여 주어진 흐름 및 두께에서, 어닐링점, 베타-OH)을 가정하여 본 개시를 구현할 때, 직접적으로 압축 대신에 대리의 측정 또는 측정의 조합을 사용할 수 있다.
본 개시의 부가적인 구체 예는, 건식 물질 (예를 들어, 무수 붕산)의 특정 퍼센트 또는 배치 물질 (111)에서 건식-대-습식 원료 혼합물의 특정 비를 목표로 하여 주어진 어닐링점 (및 그러므로 압축 성능)으로 구동하기 위한 능력과 관련된다. 이는 압축 성능에 대한 제품 투명성 이슈를 완화할 수 있는 잠재적 수단이다. 따라서, 통계적 공정 관리 (SPC) 전략은, 어닐링점 (또는 베타-OH/어닐링점 계획 (scheme))이 건식 물질 (예를 들어, 무수 붕산)의 특정 퍼센트 또는 배치 물질 (111)에서 건식-대-습식 원료 혼합물의 특정 비를 연속적으로 조정하여 적극적으로 조절되고, 및 압축 변동성을 감소시키기 위해 입력 변수 (드라이버)를 개선하도록 개발될 수 있다.
용어 "배치 물질" 및 이의 변형은, 용융시, 반응 및/또는 조합하여 유리를 형성하는 유리 전구체 성분의 혼합물을 나타내는 것으로 여기에서 사용된다. 유리 배치 물질은 유리 전구체 물질을 조합하기 위한 임의의 공지된 방법에 의해 제조 및/또는 혼합될 수 있다. 예를 들어, 어떤 비-제한 구체 예에서, 유리 배치 물질은, 예를 들어, 임의의 용제 또는 액체 없이, 유리 전구체 입자의 건조 또는 실질적으로 건조 혼합물을 포함할 수 있다. 다른 구체 예에서, 유리 배치 물질은 슬러리의 형태, 예를 들어, 액체 또는 용제의 존재하에서 유리 전구체 입자의 혼합물일 수 있다.
다양한 구체 예에 따르면, 배치 물질은, 실리카, 알루미나, 및 붕소, 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 스트론튬, 주석, 또는 티타늄 산화물과 같은 다양한 부가적인 산화물과 같은, 유리 전구체 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 유리 배치 물질은 하나 이상의 부가적인 산화물과 실리카 및/또는 알루미나의 혼합물일 수 있다. 다양한 구체 예에서, 유리 배치 물질은 총괄하여 약 45 내지 약 95 wt%의 알루미나 및/또는 실리카 및 총괄하여 약 5 내지 약 55wt%의 붕소, 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 스트론튬, 주석, 및/또는 티타늄 중 적어도 하나의 산화물을 포함한다.
배치 물질은 기술분야의 임의의 공지된 방법에 따라 용융될 수 있다. 예를 들어, 배치 물질은 용융 용기에 첨가될 수 있고, 약 1200℃ 내지 약 1650℃, 약 1250℃ 내지 약 1600℃, 약 1300℃ 내지 약 1550℃, 약 1350℃ 내지 약 1500℃, 또는 약 1400℃ 내지 약 1450℃과 같은, 약 1100℃ 내지 약 1700℃의 온도 범위, 이들 사이의 모든 범위 및 하위 범위를 포함하는, 온도 범위로 가열될 수 있다. 배치 물질은, 어떤 구체 예에서, 작동 온도 및 배치 크기와 같은, 다양한 변수에 의존하여, 수분 내지 수 시간 범위의 용융 용기에서 체류 시간을 가질 수 있다. 예를 들어, 체류 시간은, 약 30 minutes 내지 약 8 hours, 약 1 hour 내지 약 6 hours, 약 2 hours 내지 약 5 hours, 또는 약 3 hours 내지 약 4 hours의 범위, 이들 사이의 모든 범위 및 하위 범위를 포함하는 범위일 수 있다.
용융 유리는, 기포를 제거하기 위한 청징 단계, 및 유리 용융을 균질화하기 위한 교반 단계를 포함하는, 다양한 부가적인 공정 단계를 나중에 수행할 수 있다. 용융 유리는 그 다음 형성 몸체 장치 (예를 들어, 아이소파이프)를 사용하여 유리 리본을 생산하기 위해 처리될 수 있다. 예를 들어, 전술된 바와 같이, 용융 유리는 하나 이상의 주입구를 통해 전달 단부에서 형성 몸체의 홈통-모양 부분으로 도입될 수 있다. 유리는 전달 단부로부터 압축 단부로 진행하는 방향으로 흐르고, 두 개의 홈통 벽을 넘치며, 및 쐐기-형 부분의 2개의 대립하는 외부 표면을 따라 흘러, 루트에서 수렴하여 단일의 유리 리본을 형성할 수 있다.
비-제한 실시 예로서, 성형 몸체 장치는 이의 가장 고온 지점 (예를 들어, 홈통-형 부분에 인접한 상부 "머플 (muffle)" 영역)에서 약 1150℃ 내지 약 1250℃, 약 1150℃ 내지 약 1225℃, 또는 약 1175℃ 내지 약 1200℃와 같은, 약 1100℃ 내지 약 1300℃ 범위, 및 그 사이의 모든 범위 및 서브 범위를 포함하는, 온도에서 작동하는 용기에 둘러싸일 수 있다. 이의 가장 차가운 지점 (예, 성형 몸체의 루트 근처에 낮은 "전이" 영역)에서, 상기 용기는, 약 850℃ 내지 약 1100℃, 약 900℃ 내지 약 1050℃, 또는 약 950℃ 내지 약 1000℃와 같은, 약 800℃ 내지 약 1150℃ 범위, 및 이들 사이의 모든 범위 및 서브 범위를 포함하는 온도에서 작동할 수 있다. 다양한 개시된 구체 예는 그 특정 구체 예와 관련하여 기재된 특정 특색, 요소 또는 단계를 포함할 수 있는 것으로 인식될 것이다. 또한, 비록 하나의 특정 구체 예와 관련하여 기재되지만, 특정한 특색, 요소 또는 단계는, 다양한 비-예시된 조합 또는 치환에서 대체 구체 예와 상호교환되거나 결합될 수 있는 것으로 인식될 것이다.
또한, 여기에 사용된 바와 같은, "단수" 및 "복수"는 특별히 구분없이 사용되며, 별도의 언급이 없는 한, "단수" 및 "복수" 모두 "적어도 하나" 또는 "하나 이상"을 의미하는 것으로 이해될 것이다. 따라서, 예를 들어, "부품"에 대한 언급은, 별도로 명시되지 않는 한, 둘 이상의 부품을 갖는 실시 예를 포함한다.
범위는 여기에서 "약" 하나의 특정 값으로부터 및/또는 "약" 다른 특정 값까지 표시될 수 있다. 그러한 범위가 표시된 경우, 실시 예는 하나의 특정 값으로부터 및/또는 다른 특정 값까지를 포함한다. 유사하게, 값이, 선행사 "약"의 사용하여, 근사치로 표시된 경우, 특정 값은 또 다른 관점을 형성하는 것으로 이해될 것이다. 각각의 범위의 말단은 다른 말단과 관련하여 및 다른 말단과 독립적으로 모두 중요한 것으로 더욱 이해될 것이다.
여기에 사용된 바와 같은, 용어 "실질적인", "실질적으로" 및 이들의 변형은, 서술된 특색이 값 또는 설명과 동일하거나 또는 거의 동일하다는 것을 나타내기 위한 것이다. 게다가, "실질적으로 유사한"은 둘의 값이 동일하거나 거의 동일하다는 것을 나타내는 것으로 의도된다. 몇몇 구체 예에서, "실질적으로 유사한"은, 서로의 약 5% 이내 또는 서로 약 2% 이내와 같이, 서로의 약 10% 이내의 값을 나타낼 수 있다.
별도로 명시되지 않는 한, 여기에 서술된 임의의 방법은, 그 단계가 특정 순서로 수행되는 것을 요구하는 것으로 해석되지 않는다. 따라서, 방법 청구 범위가 그 단계들에 뒤따라야 할 순서를 실제로 인용하지 않거나 또는 단계들이 특정 순서로 제한되는 것으로 청구 범위들 또는 상세한 설명들에서 별도로 구체적으로 명시하지 않는 경우, 임의의 특정 순서로 간주되는 것으로 의도되지 않는다.
특정 구체 예의 다양한 특색, 요소 또는 단계가 전환 문구 "포함하는"을 사용하여 개시될 수 있지만, 이는 "이루어지는" 또는 "실질적으로 이루어지는"이라는 전환 문구를 사용하여 기재될 수 있는 선택적 구체 예가 함축되어 있는 것으로 이해될 것이다. 따라서, 예를 들어, A+B+C를 포함하는 시스템에 대하여 함축된 선택적인 구체 예는, 시스템이 A+B+C로 이루어진 구체 예 및 시스템이 A+B+C로 실질적으로 이루어진 구체 예를 포함한다.
다양한 변형 및 변화가 본 개시의 사상 및 범주를 벗어나지 않고 본 개시에 대해 만들어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다. 본 개시의 사상 및 물질을 혼입하는 개시된 구체 예의 변경 조합, 서브-조합 및 변화가 당업자에게 발생할 수 있으므로, 본 개시는 첨부된 청구 범위 및 그 균등물의 범주 내에 있는 모든 것을 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (24)

  1. 유리 제조 방법으로서:
    제1 양의 원료를 선택하는 단계, 상기 제1 양의 원료는 무수 붕산 및 붕산을 포함하고, 상기 제1 양의 원료는 무수 붕산 대 붕산의 제1 비를 정의하며;
    용기에서 제1 양의 원료를 용융하여 제1 양의 용융 유리를 제조하는 단계;
    제1 양의 용융 유리로부터 제1 유리 시트를 제조하는 단계;
    제1 유리 시트의 측정된 압축을 압축 목표와 비교하는 단계;
    측정된 압축 비교 및 제1 비에 기초하여, 제2 양의 원료에 대한 무수 붕산 대 붕산의 제2 비를 결정하는 단계, 상기 제2 비는 제1 비와 상이하며;
    용기에서 제2 양의 원료를 용융하여 제2 양의 용융 유리를 제조하는 단계, 상기 제2 양의 원료는 무수 붕산 및 붕산을 포함하고, 상기 제2 양의 원료는 무수 붕산 대 붕산의 결정된 제2 비를 정의하며; 및
    제2 양의 용융 유리로부터 제2 유리 시트를 제조하는 단계를 포함하는, 유리 제조 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    압축은 어닐링점을 사용하여 측정되어, 제2 비가 제1 유리 시트의 측정된 어닐링점 및 제1 유리 시트의 원하는 어닐링점의 비교에 기초하여 결정되도록 하는, 유리 제조 방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 방법은:
    무수 붕산 및 붕산을 용기에 연속적으로 공급하여 용융 유리를 연속적으로 제조하는 단계;
    용융 유리로부터 유리 시트를 연속적으로 제조하는 단계; 및
    공급되는 무수 붕산 대 공급되는 붕산의 비를 연속적으로 변화시켜 유리 시트의 압축을 능동적으로 제어하는 단계를 포함하는, 유리 제조 방법.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 방법은 유리 시트의 측정된 어닐링점에 기초하여 공급된 무수 붕산 대 공급된 붕산의 비를 연속적으로 변화시키는 단계를 포함하는, 유리 제조 방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 방법은 측정된 압축과 압축 목표 사이의 차이의 규모에 기초하여 제2 비를 결정하는 단계를 포함하는, 유리 제조 방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    제1 및 제2 양의 원료는 각각 건식(dry) 이산화규소 및 습식(wet) 이산화규소를 포함하며, 상기 제1 양의 원료는 건식 이산화규소 대 습식 이산화규소의 제3 비를 정의하고, 건식 이산화규소는 습식 이산화규소보다 낮은 물 함량을 갖는, 유리 제조 방법.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 방법은 압축 비교 및 제3 비에 기초하여, 건식 이산화규소 대 습식 이산화규소의 제4 비를 결정하는 단계를 포함하며; 및
    여기서 제2 양의 원료는 건식 및 습식 이산화규소를 포함하고 건식 이산화규소 대 습식 이산화규소의 제4 비를 정의하는, 유리 제조 방법.
  8. 청구항 1에 있어서,
    일 이상의 프로세서를 포함하는 컨트롤러는:
    제1 유리 시트의 측정된 압축을 압축 목표와 비교하고; 및
    압축 비교 및 제1 비에 기초하여 제2 비를 결정하도록 배열(configure)되며, 상기 방법은:
    제1 유리 시트의 측정된 압축을 압축 목표와 비교하기 위해 컨트롤러를 사용하는 단계; 및
    압축 비교 및 제1 비에 기초하여 제2 비를 결정하기 위해 컨트롤러를 사용하는 단계를 포함하는, 유리 제조 방법.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 방법은:
    무수 붕산 및 붕산을 용기에 연속적으로 공급하여 용융 유리를 연속적으로 제조하는 단계;
    용융 유리로부터 유리 시트를 연속적으로 제조하는 단계; 및
    공급되는 무수 붕산 대 공급되는 붕산의 비를 연속적으로 변화시켜 유리 시트의 압축을 능동적으로 제어하기 위해 일 이상의 프로세서를 포함하는 컨트롤러를 사용하는 단계를 포함하는, 유리 제조 방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    압축은 어닐링점을 사용하여 측정되는, 유리 제조 방법.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 컨트롤러는:
    제1 양의 용융 유리의 제1 물 함량을 결정하고; 및
    제1 물 함량, 제1 유리 시트의 측정된 압축, 압축 목표, 및 무수 붕산 대 붕산의 제1 비에 기초하여 무수 붕산 대 붕산의 제2 비를 결정하도록 배열되는, 유리 제조 방법.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106746601B (zh) 2016-12-30 2019-06-04 东旭集团有限公司 用于制备玻璃的组合物、玻璃制品及用途
US11584673B2 (en) * 2017-07-31 2023-02-21 Corning Incorporated Laminate article having a non-glass core and glass envelope and methods thereof
CN111051255A (zh) * 2017-09-05 2020-04-21 日本电气硝子株式会社 无碱玻璃基板的制造方法以及无碱玻璃基板
CN111183120B (zh) 2017-12-20 2022-07-26 日本电气硝子株式会社 玻璃板的制造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009073674A (ja) * 2006-09-04 2009-04-09 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラスの製造方法
WO2013005679A1 (ja) 2011-07-01 2013-01-10 AvanStrate株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
WO2013084832A1 (ja) * 2011-12-06 2013-06-13 旭硝子株式会社 無アルカリガラスの製造方法
US20140179510A1 (en) 2012-12-21 2014-06-26 Corning Incorporated Glass with improved total pitch stability
JP2014118313A (ja) 2012-12-14 2014-06-30 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス及びガラス基板

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2934444A (en) * 1955-04-13 1960-04-26 Corning Glass Works Glass-making material and method
US3338696A (en) 1964-05-06 1967-08-29 Corning Glass Works Sheet forming apparatus
BE757057A (fr) 1969-10-06 1971-04-05 Corning Glass Works Procede et appareil de controle d'epaisseur d'une feuille de verre nouvellement etiree
US3753674A (en) * 1970-02-11 1973-08-21 Ppg Industries Inc Thermal tempering of glass having short strain point-to-softening point interval
US4074989A (en) * 1976-11-08 1978-02-21 Ppg Industries, Inc. Method of preparing anhydrous boric acid-containing glass batch
DE3885078T2 (de) * 1987-12-28 1994-03-10 Shinetsu Handotai Kk Verfahren zum Feuerlöschen von schwer löschbaren gefährlichen Stoffen.
US5824127A (en) * 1996-07-19 1998-10-20 Corning Incorporated Arsenic-free glasses
US6230521B1 (en) * 1998-04-09 2001-05-15 G R Technology, Inc. Method of recycling batches of mixed color cullet into amber, green, or flint glass with selected properties
US7601329B2 (en) * 2004-02-26 2009-10-13 Gm Global Technology Operations, Inc. Regeneration of hydrogen storage system materials and methods including hydrides and hydroxides
WO2008029799A1 (fr) 2006-09-04 2008-03-13 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Procédé de fabrication de verre
TWI414502B (zh) * 2008-05-13 2013-11-11 Corning Inc 含稀土元素之玻璃材料及基板及含該基板之裝置
CN103476718B (zh) 2011-04-08 2015-12-23 旭硝子株式会社 基板用无碱玻璃和基板用无碱玻璃的制造方法
US9685436B2 (en) 2013-06-25 2017-06-20 Intel Corporation Monolithic three-dimensional (3D) ICs with local inter-level interconnects

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009073674A (ja) * 2006-09-04 2009-04-09 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラスの製造方法
WO2013005679A1 (ja) 2011-07-01 2013-01-10 AvanStrate株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
JP2013216561A (ja) 2011-07-01 2013-10-24 Avanstrate Inc フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
WO2013084832A1 (ja) * 2011-12-06 2013-06-13 旭硝子株式会社 無アルカリガラスの製造方法
JP2014118313A (ja) 2012-12-14 2014-06-30 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス及びガラス基板
US20140179510A1 (en) 2012-12-21 2014-06-26 Corning Incorporated Glass with improved total pitch stability

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CN107001114A (zh) 2017-08-01
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JP6767971B2 (ja) 2020-10-14
US20170297948A1 (en) 2017-10-19
WO2016053775A1 (en) 2016-04-07
JP2017530928A (ja) 2017-10-19
US11174192B2 (en) 2021-11-16

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