KR102408975B1

KR102408975B1 - 유체 가열기 및 유체 가열기 제조 방법

Info

Publication number: KR102408975B1
Application number: KR1020200116247A
Authority: KR
Inventors: 김유환
Original assignee: 김유환
Priority date: 2020-09-10
Filing date: 2020-09-10
Publication date: 2022-06-14
Also published as: KR20220033861A

Abstract

본 발명은 기판에 공급되는 유체를 가열하는 유체 가열기를 제공한다. 유체 가열기는, 가열 부재; 및 상기 가열 부재가 삽입되는 바디를 포함하고, 상기 바디에는 상기 가열 부재가 발생시키는 열에 의해 가열되는 상기 유체가 흐르는 유로가 형성될 수 있다.

Description

유체 가열기 및 유체 가열기 제조 방법{FLUID HEATER AND METHOD FOR MANUFACTURING FLUID HEATER}

본 발명은 반도체 소자를 제조하기 위한 기판 처리 장치에 설치되는 반도체 공정용 유체 가열기 및 유체 가열기 제조 방법에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 소자 제조 공정, 평판표시패널 제조 공정에서는 웨이퍼 또는 글라스 등의 기판에 공정 유체를 공급하여 처리하는 공정이 널리 채용되고 있다. 공정 유체를 공급하여 기판을 처리하는 공정은 웨이퍼, 글라스 등의 기판을 세정하는 세정 공정(Wet cleaning process), CMP 공정(Chemical mechanical polishing 또는 Chemical mechanical Planarization) 등을 그 예로 들 수 있다. 또한, 이러한 기판 처리 공정을 수행하기 위해 황산, 인산, IPA 등과 같은 유기 용제, CMP 슬러리 등의 공정 유체가 사용되고 있다.

상술한 세정 공정 또는 CMP 공정을 수행하는 기판 처리 장치는 공정 유체를 가열하여 공정 챔버 내에서 지지된 기판으로 공급한다. 공정 유체의 온도가 높을수록 공정 유체의 반응성은 커지고, 이에 기판에 대한 처리 효율을 높일 수 있기 때문이다. 구체적으로, 공정 유체의 온도가 높을수록 기판 상에 잔류하는 불순물의 제거 효율, 기판 상에 형성된 박막에 대한 식각률(Etching Rate) 또는 제거율(Material removal rate) 등이 높아질 수 있다.

그러나, 가열된 공정 유체가 공정 챔버 내로 공급되는 과정에서 열 손실이 발생한다. 발생된 열 손실은 공정 유체의 온도를 떨어뜨린다. 공정 유체의 온도가 낮아지면 공정 유체의 반응성도 낮아진다. 이는 기판 처리 효율을 떨어뜨린다. 이와 같은 열 손실을 보상하기 위해 공정 유체가 흐르는 공급 배관(예컨대, 공급 튜브)을 자켓 히터로 감싸는 방법 또는 공정 유체를 공급하는 공급 시스템에서 공정 유체를 더 높은 온도로 가열하는 방법을 고려할 수 있다. 그러나, 일반적인 자켓 히터는, 그 기능이 공정 유체의 온도를 높이기보다는 가열된 공정 유체의 온도가 낮아지는 것을 방지하는 보온에 그 초점이 맞추어져 있어, 공정 유체의 승온에는 한계가 있다. 또한, 공정 유체를 공급하는 공급 시스템에서 공정 유체를 더 높은 온도로 가열하는 경우, 공급 시스템(공정 유체 공급 장치) 내 구조가 복잡해지고, 그러한 구조 변경을 위해 많은 비용이 소요되며, 공급 시스템 내에서 대 용량의 공정 유체를 가열해야 하므로, 안정성이 매우 취약해 진다.

본 발명은 기판 처리 효율을 높일 수 있는 유체 가열기 및 유체 가열기 제조 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 기판에 공급되는 유체의 가열 효율을 높일 수 있는 유체 가열기 및 유체 가열기 제조 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 유체를 공급하는 액 공급 유닛에 대한 안정성, 그리고 기판 처리 장치의 가격 상승을 억제할 수 있는 유체 가열기 및 유체 가열기 제조 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재들로부터 통상의 기술자가 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

일 실시 예에 의하면, 상기 바디는, 기둥 형상을 가지고, 상기 가열 부재는, 상기 바디의 중심 축을 따라 형성되는 삽입 부에 삽입되고, 상기 유로는, 상기 바디의 길이 방향에서 바라볼 때, 상기 바디에 삽입된 상기 가열 부재를 감싸도록 상기 바디에 형성될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유로는, 상기 바디의 길이 방향을 따라 상기 가열 부재를 감싸는 나선 형상으로 상기 바디에 형성될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 바디는, 상기 유로에 상기 유체가 유입되는 유입 부; 및 상기 유로에서 상기 유체가 유출되는 유출 부을 포함하고, 상기 유로는, 상기 유입 부와 상기 유출 부 사이에서 복수의 유로로 분기된 후, 다시 하나의 유로로 합쳐질 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유로는, 제1유로와; 상기 제1유로보다 상기 가열 부재와 인접하게 상기 바디에 형성되는 제2유로를 포함할 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 바디는, 상기 제1유로의 일 단과 연결되며, 상기 유체가 유입되는 유입 부를 포함하고, 상기 제1유로의 타 단과 상기 제2유로의 일 단은 서로 연통할 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유로는, 상기 제2유로보다 상기 가열 부재와 인접하게 상기 바디에 형성되고, 그 일 단이 상기 제2유로의 타 단과 서로 연통하는 제3유로를 포함하고, 상기 바디는, 상기 제3유로의 타 단과 연결되며, 상기 유체가 유출되는 유출 부를 더 포함할 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유체가 흐르는 상기 유로의 직경은 상기 유로의 길이 방향을 따라 변경될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유체 가열기는, 상기 바디를 감싸는 하우징을 더 포함하고, 상기 하우징과 상기 바디의 사이 공간은, 진공 상태로 유지될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 하우징에는, 상기 가열 부재가 삽입되는 삽입 홀이 형성될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 하우징은, 금속을 포함하는 재질로 제공되고, 그 표면이 상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 덮어질 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 하우징은, 타이타늄, 니켈, 알루미늄, 동, 스틸 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재질로 제공되고, 그 표면이 테프론(Teflon)을 포함하는 재질로 덮어질 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 바디는, 금속을 포함하는 재질로 제공될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 바디는, 타이타늄, 니켈, 알루미늄, 동, 스틸 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재질로 제공될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유로의 단면은, 원 형, 타원 형, 삼각형, 그리고 사각 형 중 어느 하나의 형상을 가질 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유로의 내표면은, 상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 코팅될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유로의 내표면은, 불산, 질산, 그리고 황산 중 적어도 어느 하나를 포함하는 표면 처리 액에 의해 처리되고, 테플론(Teflon) 또는 세라믹(Ceramic)을 포함하는 재질로 코팅될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 유로에는, 상기 유체에 대해 내식성을 가지는 튜브가 삽입될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 튜브는, 테플론(Teflon)을 포함하는 재질로 제공될 수 있다.

또한, 본 발명은 유체 가열기를 제조하는 방법을 제공한다. 유체 가열기를 제조하는 방법은, 상기 바디를 제조하는 바디 제조 단계를 포함하고, 상기 바디 제조 단계는, 금속 분말을 소재로 한 금속 3D 프린팅 방식으로 수행될 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 방법은, 상기 유로를 코팅하는 유로 코팅 단계를 포함하고, 상기 유로 코팅 단계에는, 상기 바디에 형성된 상기 유로의 표면이 상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 코팅될 수 있도록, 상기 유로로 코팅 액을 공급할 수 있다.

일 실시 예에 의하면, 상기 방법은, 상기 유로에 튜브를 삽입하는 튜브 삽입 단계를 포함하고, 상기 튜브 삽입 단계에 삽입되는 상기 튜브는, 상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 제공될 수 있다.

본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판 처리 효율을 높일 수 있다.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판에 공급되는 유체의 가열 효율을 높일 수 있다.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 유체를 공급하는 액 공급 유닛에 대한 안정성, 그리고 기판 처리 장치의 가격 상승을 억제할 수 있다.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면들로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 기판 처리 장치의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 가열기를 보여주는 도면이다.
도 3은 도 2의 유체 가열기를 'A-A' 방향에서 바라본 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유체 가열기를 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명의 유체 가열기가 가지는 유로 단면의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 6은 본 발명의 유체 가열기가 가지는 유로 단면의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명의 유체 가열기가 가지는 유로 단면의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 8은 본 발명의 유체 가열기가 가지는 유로 단면의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유체 가열기의 단면을 보여주는 도면이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유체 가열기의 단면을 보여주는 도면이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유체 가열기의 단면을 보여주는 도면이다.
도 12는 본 발명의 유체 가열기가 가지는 유로의 다른 실시 예를 보여주는 도면이다.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.

어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.

이하에서는, 도 1 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 설명한다.

도 1은 기판 처리 장치의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1000)는 기판(W)에 유체를 공급하여 기판(W)을 처리할 수 있다. 기판 처리 장치(1000)는 기판(W)으로 약액을 공급하여 기판(W)을 액 처리할 수 있다. 기판 처리 장치(1000)는 기판(W)으로 약액을 공급하여 기판(W) 상에 잔류하는 불순물을 제거하는 세정 공정을 수행할 수 있다. 또한, 기판 처리 장치(1000)는 기판(W)으로 약액을 공급하여 CMP 공정(Chemical mechanical polishing 또는 Chemical mechanical Planarization)을 수행할 수 있다. 이하에서는 기판 처리 장치(1000)가 기판(W)으로 약액을 공급하여 기판(W)을 액 처리하는 것을 예로 들어 설명한다.

기판 처리 장치(1000)는 건조용 가스, 초임계 유체 등을 기판(W)으로 공급하여 기판(W)에 대한 건조 공정을 수행할 수도 있다.

기판 처리 장치(1000)는 챔버(100), 지지 유닛(200), 바울(300), 승강 유닛(400), 액 공급 유닛(500), 그리고 유체 가열기(600)를 포함할 수 있다.

챔버(100)는 내부에 공간을 가질 수 있다. 챔버(100)는 내부 공간을 가지는 통 형상을 가질 수 있다. 챔버(100)의 일 측에는 개구(미도시)가 형성될 수 있다. 개구는 기판(W)이 반입 또는 반출되는 입구로 기능할 수 있다. 개구에는 도어(미도시)가 설치되며, 도어는 개구를 개폐할 수 있다. 도어는 기판 처리 공정이 진행되면, 개구를 차단하여 챔버(100)의 내부 공간을 밀페할 수 있다. 또한, 챔버(100)의 하부에는 챔버(100)의 내부 공간을 배기하는 배기 라인(102)이 설치될 수 있다. 배기 라인(102)은 챔버(100)의 내부 공간에서 발생되는 흄(Fume), 가스 등을 챔버(100)의 외부로 배기할 수 있다. 배기 라인(102)은 배기 라인(102)에 감압을 제공하는 감압 부재(미도시)와 연결될 수 있다. 감압 부재는 펌프일 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 감압 부재는 감압을 제공하는 공지된 장치로 다양하게 변형될 수 있다.

지지 유닛(200)은 기판(W)을 지지할 수 있다. 지지 유닛(200)은 챔버(100)의 내부 공간에서 기판(W)을 지지할 수 있다. 또한, 지지 유닛(200)은 기판(W)을 회전시킬 수 있다. 도 1에서는 지지 유닛(200)이 가지는 안착면이 기판(W)이 가지는 면적보다 작은 면적을 가지는 것을 예로 도시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 지지 유닛(200)이 가지는 안착면은 기판(W)이 가지는 면적보다 더 넓은 면적을 가질 수 있다.

바울(300)은 챔버(100)의 내부 공간에 위치될 수 있다. 바울(300)은 내부에 처리 공간을 제공할 수 있다. 바울(300)은 상부가 개방된 컵 형상을 가지도록 제공될 수 있다. 바울(300)은 지지 유닛(200)을 감싸도록 제공될 수 있다. 바울(300)은 정 단면에서 바라볼 때, 바닥 부, 측면 부, 그리고 상면 부를 포함할 수 있다. 측면 부는 바닥 부로부터 위로 연장될 수 있다. 상면 부는 측면 부로터 위로 연장될 수 있다. 상면 부는 지지 유닛(200)에 가까워질수록 상향 경사진 방향을 향할 수 있다. 또한, 바울(300)의 바닥 부에는 유체를 외부로 배출하는 배출 라인(302)이 형성될 수 있다.

승강 유닛(400)은 지지 유닛(200)과 바울(300) 간에 상대 높이를 조절할 수 있다. 예컨대, 승강 유닛(400)은 바울(300)과 결합되어 바울(300)을 승강 이동시킬 수 있다.

액 공급 유닛(500)은 지지 유닛(200)에 지지된 기판(W)으로 유체를 공급할 수 있다. 액 공급 유닛(500)은 액 공급 원(510), 액 공급 라인(520), 그리고 액 공급 노즐(530)을 포함할 수 있다. 액 공급 원(510)에서 공급하는 유체는 액 공급 라인(520)을 따라 흐르고, 액 공급 라인(520)은 액 공급 노즐(530)로 유체를 전달할 수 있다. 액 공급 노즐(530)에 전달된 유체는 지지 유닛(200)에 지지된 기판(W)으로 전달되어 기판(W)을 처리할 수 있다.

액 공급 유닛(500)이 기판(W)에 공급하는 유체는 기판(W)을 처리하는 공정 유체일 수 있다. 액 공급 유닛(500)이 기판(W)에 공급하는 유체는 가열된 공정 유체일 수 있다. 공정 유체는 기판(W)을 액 처리하는데 사용되는 처리 액일 수 있다. 예컨대, 공정 유체는 기판(W) 표면 및/또는 기판(W) 상에 형성된 박막을 식각하기 위한 케미칼일 수 있다. 일 예로, 케미칼은 황산, 인산, 또는 황산과 인산의 혼합액일 수 있다. 또한, 공정 유체는 기판(W)을 세정하는 세정 액일 수 있다. 세정 액은 DI Water일 수 있다. 또한, 공정 유체는 기판(W)을 린스하는 린스 액일 수 있다. 또한, 공정 유체는 산성 또는 알칼리성을 가지는 약 액일 수 있다. 또한, 공정 유체는 유기 용제일 수 있다. 또한, 공정 유체는 이소프로필알코올(IPA)일 수 있다. 또한, 공정 유체는 CMP 슬러리일 수 있다.

유체 가열기(600)는 기판(W)으로 공급되는 유체를 가열할 수 있다. 유체 가열기(600)는 액 공급 유닛(500)의 액 공급 라인(520) 상에 설치될 수 있다. 유체 가열기(600)는 유체가 액 공급 라인(520)에 흐르는 도중 유체를 가열할 수 있다. 또한, 유체 가열기(600)는 유체를 토출하는 액 공급 노즐(530)의 바로 전단에 설치되어 유체 가열 효율을 더욱 높일 수 있다. 이하에서는, 유체 가열기(600)에 연결되는 액 공급 라인(520) 중 상류에 위치하는 액 공급 라인(520)을 상류 액 공급 라인(521)이라 하고, 유체 가열기(600)에 연결되는 액 공급 라인(520) 중 하류에 위치하는 액 공급 라인(520)을 하류 액 공급 라인(522)이라 정의한다.

도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 가열기를 보여주는 도면이고, 도 3은 도 2의 유체 가열기를 ‘A-A’ 방향에서 바라본 단면도이다. 도 3에서는 설명의 편의를 위해 유체 가열기(600)의 가열 부재(630)의 구성을 생략하였다. 도 2, 그리고 도 3을 참조하면, 유체 가열기(600)는 바디(610), 튜브(620), 그리고 가열 부재(630)를 포함할 수 있다.

바디(610)는 대체로 기둥 형상을 가질 수 있다. 바디(610)는 대체로 원 기둥 형상을 가질 수 있다. 바디(610)에는 가열 부재(630)가 삽입되는 삽입 부(612)가 형성될 수 있다. 삽입 부(612)는 바디(610)의 길이 방향과 평행한 바디(610)의 중심 축을 따라 형성될 수 있다. 삽입 부(612)는 바디(610)를 일 방향에서 바라보았을 때 원 형상을 가질 수 있다. 예컨대, 삽입 부(612)는 바디(610)의 일 면으로부터 바디(610)의 길이 방향을 따라 만입되어 형성되되, 바디(610)의 타 면은 관통하지 않도록 형성될 수 있다.

또한, 삽입 부(612)에 삽입되는 가열 부재(630)는 후술하는 유로(618)에 흐르는 유체를 가열하는 열원일 수 있다. 가열 부재(630)가 발생시키는 열은 바디(610)에 열을 전달하고, 바디(610)에 전달된 열은 유로(618)에 흐르는 유체를 가열할 수 있다. 가열 부재(630)는 삽입 부(612)에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 가열 부재(630)는 기둥 형상을 가질 수 있다. 가열 부재(630)는 원 기둥 형상을 가질 수 있다. 가열 부재(630)는 카트리지 히터 등을 사용할 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 가열 부재(630)는 열을 발생시키는 공지된 히터로 다양하게 변형될 수 있다.

또한, 바디(610)에는 유체가 흐르는 유로(618)가 형성될 수 있다. 유로(618)는 바디(610)에 삽입된 가열 부재(630)를 감싸도록 바디(610)에 형성될 수 있다. 유로(618)에 흐르는 유체는 가열 부재(630)가 발생시키는 열을 전달 받아 가열될 수 있다. 유로(618)의 일부는 바디(610)가 포함하는 유입 부(614), 그리고 유출 부(616)에 형성될 수 있다. 유입 부(614)는 유로(618)에 유체가 유입되는 부분이고, 유출 부(616)는 유로(618)로부터 유체가 유출되는 부분이다. 예컨대, 유입 부(614)는 상술한 상류 액 공급 라인(521)과 연결될 수 있다. 또한, 유출 부(616)는 상술한 하류 액 공급 라인(522)과 연결될 수 있다. 이에, 액 공급 원(510)이 액 공급 라인(520)으로 공급하는 유체는 유입 부(614)를 통해 유로(618)로 유입되어, 유출 부(616)를 통해 액 공급 노즐(530)로 전달될 수 있다.

또한, 유로(618)는 나선 형상을 가질 수 있다. 예컨대, 유로(618)는 바디(610)의 길이 방향을 따라 가열 부재(630)를 감싸는 나선 형상으로 바디(610)에 형성될 수 있다. 예컨대, 유로(618)는 유입 부(614), 그리고 유출 부(616) 사이에서 나선 형상을 가질 수 있다. 유로(618)가 나선 형상을 가지게 되므로, 유로(618)의 전체 길이는 최대한 길어지게 된다. 이에 유체가 유로(618)에 흐르는 시간이 매우 길어져, 유체가 유로(618)에서 가열될 시간이 충분해 진다. 이에, 유체는 가열 부재(630)가 발생시키는 열에 의해 높은 온도로 가열될 수 있다.

또한, 바디(610)는 열 전도성이 우수한 재질로 제공될 수 있다. 예컨대, 바디(610)는 금속을 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 바디(610)는 타이타늄, 니켈, 알루미늄, 동, 스틸 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 예컨대, 바디(610)는 타이타늄 합금, 니켈 합금, 알루미늄 합금, 동 합금, 혹은 스틸 합금 분말을 소재로 만들어 질 수 있다. 예컨대, 바디(610)에 형성된 유로(618), 삽입 부(612), 유입 부(614), 유출 부(616)들은 선택적 레이저 용융 (SLM, Selective Laser Melting), 전자빔 용융 (EBM, Electron Beam Melting), 바인더 젯 퓨전 (BJF, Binder Jet Fusion) 등 금속 3D 프린팅 기술로 제작될 수 있다.

또한, 유로(618)의 내표면은 표면 처리 액에 의해 표면 처리 될 수 있다. 예컨대, 유로(618)의 내표면은 불산, 질산, 그리고 황산 중 적어도 어느 하나를 포함하는 표면 처리 액에 의해 표면처리 될 수 있다. 이에, 유로(618)의 내표면에는 산화막이 형성될 수 있다.

또한, 유로(618)의 내표면은 유로(618)에 흐르는 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 코팅될 수 있다. 예컨대, 유로(618)의 내표면은 산 및 알칼리 약 액에 의한 부식을 방지하기 위하여 테플론(Teflon) 또는 세라믹(Ceramic)을 가지는 재질로 코팅될 수 있다. 또한, 유로(618)의 내표면은 테프론계 수지액(PFA, PTFE, ETFE, FEP 등)이 유로(618)의 내표면에 분사되어 코팅될 수 있다. 또한, 유로(618)의 내표면은 상술한 표면 처리 액에 의해 표면 처리된 이후, 상술한 테플론 또는 세라믹을 포함하는 코팅 액에 의해 코팅 처리될 수 있다.

선택적으로, 유로(618)에는 유체에 대해 내식성을 가지는 튜브(620)가 삽입될 수 있다. 예컨대, 튜브(620)는 테플론(Teflon)을 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 유로(618)에 튜브(620)가 삽입되는 경우, 유체 가열기(600)로 유입되는 유체는 튜브(620) 내에 흐를 수 있다. 튜브(620)가 삽입되는 경우, 유로(618)의 코팅이 유체에 의해 벗겨짐에 따라, 바디(610)가 부식되는 것을 최소화 할 수 있다.

이하에서는, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 가열기(600)를 제조하는 방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 가열기(600)를 제조하는 방법은, 바디 제조 단계, 유로 코팅 단계, 그리고 튜브 삽입 단계를 포함할 수 있다.

바디 제조 단계에서는 금속 3D 프린팅 방식을 이용하여 바디(610)를 제조할 수 있다. 바디 제조 단계에서는 금속 분말을 소재로 한 금속 3D 프린팅 방식으로 바디(610)를 제조할 수 있다. 예컨대, 바디 제조 단계에서는 선택적 레이저 용융 (SLM, Selective Laser Melting), 전자빔 용융 (EBM, Electron Beam Melting), 바인더 젯 퓨전 (BJF, Binder Jet Fusion) 방식 중 어느 하나를 사용하여 바디(610)를 제조할 수 있다. 또한, 바디 제조 단계는 타이타늄 합금, 니켈 합금, 알루미늄 합금, 동 합금, 혹은 스틸 합금 분말을 소재로 하여 바디(610)를 제조할 수 있다. 또한, 바디 제조 단계에서는 바디(610)가 포함하는 삽입 부(612), 유입 부(614), 유출 부(616), 그리고 유로(618) 등이 형성될 수 있다.

유로 코팅 단계에서는 유로(618)를 코팅할 수 있다. 유로 코팅 단계에서는 유로(618)의 표면을 공정 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 코팅할 수 있다. 유로 코팅 단계에서는 유로(618)로 세라믹 또는 테플론을 포함하는 코팅 액을 공급하여 유로(618)의 표면을 코팅할 수 있다. 예컨대, 유로 코팅 단계에서는 유로(618)의 표면이 테플론계 폴리머(PFA, PTFE)로 코팅되거나, 세라믹(Ceramic)으로 코팅될 수 있다. 예컨대, 유로(618)의 내표면은 테프론계 수지액(PFA, PTFE, ETFE, FEP 등)이 유로(618)의 직경보다 작은 내시경으로 유로(618)의 내표면에 분사되어 코팅될 수 있다.

선택적으로, 유로 코팅 단계 이전에, 유로(618)의 내표면이 불산, 질산, 그리고 황산 중 적어도 어느 하나를 포함하는 표면 처리 액에 의해 표면 처리되는 표면 처리 단계를 더 포함할 수 있다.

튜브 삽입 단계에서는 세라믹 또는 테플론을 포함하는 재질로 코팅된 유로(618)에 튜브(620)를 삽입할 수 있다. 튜브 삽입 단계에서 삽입되는 튜브(620)는 유체에 대하여 내식성을 가지는 재질로 제공될 수 있다. 예컨대, 튜브(620)는 테플론 계 재질로 만들어지는 튜브(620)일 수 있다.

앞서 살펴본 바와 같이, 기판(W)에 대한 처리 효율을 높이기 위해서는, 기판(W)으로 공급되는 공정 유체의 온도를 높이는 것이 중요하다. 일반적인 기판 처리 장치에서 기판(W)으로 공급되는 공정 유체는 공정 유체를 공급하는 공급 시스템에서 공정 유체를 가열하고, 가열된 공정 유체를 기판(W)으로 공급하는 방식을 채용한다. 그러나, 이와 같은 유체 공급 방법은 유체가 기판(W)으로 전달되는 과정에서 열 손실이 발생된다. 유체의 열 손실로 인한 기판(W) 처리 효율이 낮아지는 것을 최소화 하기 위해, 공정 유체가 흐르는 공급 배관(예컨대, 공급 튜브)을 자켓 히터로 감싸는 방법 또는 공정 유체를 공급하는 공급 시스템에서 공정 유체를 더 높은 온도로 가열하는 방법을 고려할 수 있으나, 이러한 방법은 공급 배관의 구조를 복잡하게 하거나, 공급 시스템의 사용 안정성을 떨어뜨린다.

그러나, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 바디(610)에는 유로(618)가 나선 형으로 형성된다. 즉, 본 발명에서는 바디(610) 자체에 나선형 유로(618)를 형성한다. 이러한 나선형 유로(618)는 바디(610)가 금속 3D 프린팅 방식으로 제조되기에 가능한 것이다. 유로(618)가 나선형을 가짐에 따라, 유로(618)의 길이를 최대한 길게 하여 유체의 가열 시간을 충분히 확보할 수 있다. 이에, 유체에 대한 가열 효율을 높일 수 있다. 또한, 가열 부재(630) 자체가 바디(610)와 접촉되어, 바디(610)로 곧바로 열을 전달하므로, 가열 부재(630)가 발생시키는 열이 유로(618)에 흐르는 유체로 전달되는 과정에서 열 손실이 낮다. 이에, 유체에 대한 가열 효율을 높일 수 있다.

도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유체 가열기를 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유체 가열기(600)는 하우징(640)을 더 포함할 수 있다. 하우징(640)은 바디(610)를 감쌀 수 있다. 하우징(640)에는 가열 부재(630)가 삽입되는 삽입 홀(642)이 형성될 수 있다. 이에 가열 부재(630)는 삽입 홀(642) 및 삽입 부(612)에 삽입될 수 있다. 하우징(640)은 바디(610)의 외 표면 중 일부와 이격될 수 있다. 하우징(640)과 바디(610)의 사이 공간(G)은 진공 상태로 유지될 수 있다. 하우징(640)과 바디(610)의 사이 공간(G)은 밀폐 될 수 있다. 사이 공간(G)이 진공 상태로 유지되면 가열 부재(630)가 발생시키는 열이 유체 가열기(600)의 외부로 손실되는 것을 최소화 할 수 있다.

또한, 하우징(640)은 금속을 포함하는 재질로 제공되고, 그 외표면이 상술한 공정 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 덮어질 수 있다. 예컨대, 하우징(640)은 타이타늄, 니켈, 알루미늄, 동, 스틸 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 또한, 하우징(640)은 그 외 표면이 테플론 계 폴리머로 몰딩하여 덧씌워질 수 있다. 이에, 유체 가열기(600)가 챔버(100) 내에 제공되더라도, 공정 유체에 의해 부식되는 것을 최소화 할 수 있다.

상술한 예에서는, 유로(618)의 단면이 도 5에 도시된 바와 같이 원 형으로 제공되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 유로(618)의 단면은 도 6에 도시된 바와 같이 사각 형으로 제공될 수 있다. 또한, 유로(618)의 단면은 도 7에 도시된 바와 같이 타원 형으로 제공될 수 있다. 또한, 유로(618)의 단면은 도 8에 도시된 바와 같이 삼각 형으로 제공될 수 있다. 즉, 유로(618)의 단면은 원 형, 타원 형, 삼각 형, 그리고 사각 형 중 어느 하나의 형상을 가질 수 있다.

상술한 예에서는, 가열 부재(630)가 삽입되는 방향에서 바라볼 때, 나선 형상의 유로(618)의 나선이 동일한 반경을 가지는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 9에 도시된 바와 같이 가열 부재(630)가 삽입되는 방향에서 바라볼 때, 나선 형상의 유로(618)의 나선은 다양한 반경을 가질 수 있다. 예컨대, 유로(618)의 어느 일부는 가열 부재(630)와 인접하고, 유로(618)의 다른 일부는 바디(610)의 외표면과 인접할 수 있다. 이와 같이 유로(618)를 구성하는 경우, 유로(618)의 전체 길이를 보다 길게 할 수 있으므로, 공정 유체가 유로(618)에 흐르는 시간이 늘어나게 되어, 유로(618)에 대한 가열 효율을 보다 높일 수 있다.

또한, 상술한 예에서는, 공정 유체가 흐르는 유로(618)의 직경은 유로(618)의 길이 방향을 따라 일정한 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 10에 도시된 바와 같이 공정 유체가 흐르는 유로(618)의 직경은 유로(618)의 길이 방향을 따라 변경될 수 있다. 예컨대, 도시된 바와 같이 유로(618)의 직경은 유입부(614)로부터 멀어질수록 점차 커지다가, 유출부(616)에 가까워 질수록 점차 작아질 수 있다. 즉, 바디(610)의 단면에서 바라본 유로(618)의 직경은 일부 영역에서의 직경과 다른 일부 영역에서의 직경이 서로 상이할 수 있다.

또한, 상술한 예에서는, 유로(618)가 가열 부재(630)가 삽입되는 방향을 따라 나선 형상을 가지고, 유로(618)의 일단이 유입부(614)와 연결되고, 유로(618)의 타단이 유출부(616)와 연결되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 11에 도시된 바와 같이 유로(618)는 제1유로(618a), 제2유로(618b), 그리고 제3유로(618c)를 포함할 수 있다. 제3유로(618c)는 제2유로(618b)보다 가열 부재(630)와 인접하게 바디(610)에 형성될 수 있다. 제2유로(618b)는 제1유로(618a)보다 가열 부재(630)와 인접하게 바디(610)에 형성될 수 있다. 가열 부재(630)가 삽입되는 방향에서 바라본 나선 형상을 가지는 제1유로(618a)의 나선의 직경은 가열 부재(630)가 삽입되는 방향에서 바라본 나선 형상을 가지는 제2유로(618b)의 나선의 직경보다 클 수 있다. 또한, 가열 부재(630)가 삽입되는 방향에서 바라본 나선 형상을 가지는 제2유로(618b)의 나선의 직경은 가열 부재(630)가 삽입되는 방향에서 바라본 나선 형상을 가지는 제3유로(618b)의 나선의 직경보다 클 수 있다.

제1유로(610a)의 일 단은 유입부(614)와 연결될 수 있다. 그리고, 제1유로(610a)는 나선 형상으로 바디(610)의 길이 방향을 따라, 그리고 유입부(614)에서 유출부(616)를 향하는 방향을 따라 형성될 수 있다. 또한, 제1유로(610a)의 타 단은 제2유로(610b)의 일 단과 서로 연통할 수 있다. 그리고, 제2유로(610b)는 나선 형상으로 바디(610)의 길이 방향을 따라, 그리고 유출부(616)에서 유입부(614)를 향하는 방향을 따라 형성될 수 있다. 또한, 제2유로(610b)의 타 단은 제3유로(610c)의 일 단과 서로 연통할 수 있다. 그리고, 제3유로(610c)는 나선 형상으로 바디(610)의 길이 방향을 따라, 그리고 유입부(614)에서 유출부(616)를 향하는 방향을 따라 형성될 수 있다. 즉, 공정 유체가 유입부(614)를 통해 유로(618)로 유입되면, 공정 유체는 제1유로(618a)를 통해 유입부(614)에서 유출부(616)를 향하는 방향으로 흐르고, 이후 제2유로(618b)를 통해 유출부(614)에서 유출부(616)를 향하는 방향으로 흐르고, 이후 제3유로(618c)를 통해 유입부(614)에서 유출부(616)를 향하는 방향으로 흐를 수 있다. 즉, 공정 유체가 유로(618)에 흐르는 시간이 늘어나게 되면서 공정 유체에 대한 가열 효율을 보다 극대화 할 수 있다.

상술한 예에서는, 바디(610) 내에 나선 형상을 가지는 하나의 유로(618)가 제공되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 12에 도시된 바와 같이(도 12에서는 설명의 편의를 위해 유로(618)를 제외한 나머지 구성의 도시를 생략하였다), 유로(618)는 유입 부(614)에 형성되는 유입 유로(618d), 그리고 유출 부(616)에 형성되는 유출 유로(618g) 사이에서 복수의 유로로 분기 된 후, 다시 하나의 유로로 합쳐질 수 있다. 예컨대, 유입부(614), 그리고 유출부(616) 사이에서, 유입 유로(618d)는 제1분기 유로(618e), 그리고 제2분기 유로(618f)로 분기된 후, 다시 하나의 유출 유로(618g)로 합쳐질 수 있다.

상술한 예에서는, 기판(W)을 처리하는 공정 유체가 기판(W)을 액 처리하는 처리 액이고, 유체 가열기(600)가 이러한 처리 액을 가열하는데 사용되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 유체 가열기(600)가 가열하는 공정 유체의 종류는 반도체 공정에 따라 다양하게 변형될 수 있다. 예컨대, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 가열기(600)는, 반도체 제조 공정을 수행하는 다양한 기판 처리 장치에 동일/유사하게 적용될 수 있다. 예컨대, 이하에서 설명하는 유체 가열기(600)는 액체 상태의 공정 유체, 기체 상태의 공정 유체, 초임계 처리를 위해 사용되는 공정 유체를 가열하는데 사용될 수 있다.

예컨대, 기판(W)을 처리하는 공정이 습식 세정 또는 습식 식각인 경우, 유체 가열기(600)는 기판(W)을 처리하는데 사용되는 액체 상태의 공정 유체를 가열하는데 사용될 수 있다. 액체 상태의 공정 유체는 산성을 가지는 케미칼, 알칼리성을 가지는 케미칼, 또는 유기 용제일 수 있다. 산성을 가지는 케미칼은 황산, 인산, 불산 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 알칼리성을 가지는 케미칼은 암모니아수, 과산화수소수, SC-1 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 유기 용제는 IPA, TMAH 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.

또한, 기판(W)을 처리하는 공정이 CVD 공정, 건식 식각와 같이 기체 상태의 공정 유체를 이용하여 기판(W)을 처리하는 공정인 경우, 유체 가열기(600)는 기판(W)을 처리하는데 사용하는 기체 상태의 공정 유체를 가열하는데 사용될 수 있다. 기체 상태의 공정 유체는, 분위기 가스, 막 형성 가스, 에칭 가스 일 수 있다. 분위기 가스는 N2, H2, O2 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 막 형성 가스(CVD 공정시 사용되는 가스)는, SiH4, SiCl4 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 에칭 가스(건식 식각시 사용되는 가스)는 HF, SF6 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.

또한, 기판(W)을 처리하는 공정이 습식 식각 이후, 기판(W)을 건조하는 건조 공정인 경우, 유체 가열기(600)는 건조 공정시 사용되는 초임계 유체인 CO2 가스를 가열하는데 사용될 수 있다. 즉, 유체 가열기(600)는 반도체 초임계 장비에서 초임계 가스(예컨대, 이산화탄소 가스)를 150도 이상의 온도로 공급하기 위한 열 교환기로도 이용될 수 있다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

기판 처리 장치 : 1000
챔버 : 100
배기 라인 : 102
지지 유닛 : 200
바울 : 300
배출 라인 : 302
승강 유닛 : 400
액 공급 유닛 : 500
액 공급 원 : 510
액 공급 라인 : 520
상류 액 공급 라인 : 521
하류 액 공급 라인 : 522
액 공급 노즐 : 530
유체 가열기 : 600
바디 : 610
삽입 부 : 612
유입 부 : 614
유출 부 : 616
유로 : 618
튜브 : 620
가열 부재 : 630
하우징 : 640
삽입 홀 : 642

Claims

기판에 공급되는 유체를 가열하는 유체 가열기에 있어서,
가열 부재; 및
상기 가열 부재가 삽입되며, 금속 분말을 소재로 한 금속 3D 프린팅 방식으로 제조되는 바디를 포함하고,
상기 가열 부재는,
상기 바디의 중심 축을 따라 형성되는 삽입 부에 삽입되고,
상기 바디 내부에는 상기 가열 부재가 발생시키는 열에 의해 가열되는 상기 유체가 흐르는 유로가 형성되는 유체 가열기.
제1항에 있어서,
상기 바디는,
기둥 형상을 가지고,
상기 유로는,
상기 바디의 길이 방향에서 바라볼 때, 상기 바디에 삽입된 상기 가열 부재를 감싸도록 상기 바디에 형성되는 유체 가열기.
제2항에 있어서,
상기 유로는,
상기 바디의 길이 방향을 따라 상기 가열 부재를 감싸는 나선 형상으로 상기 바디에 형성되는 유체 가열기.
기판에 공급되는 유체를 가열하는 유체 가열기에 있어서,
가열 부재; 및
상기 가열 부재가 삽입되는 바디를 포함하고,
상기 바디에는 상기 가열 부재가 발생시키는 열에 의해 가열되는 상기 유체가 흐르는 유로가 형성되고,
상기 바디는,
기둥 형상을 가지고,
상기 가열 부재는,
상기 바디의 중심 축을 따라 형성되는 삽입 부에 삽입되고,
상기 유로는,
상기 바디의 길이 방향에서 바라볼 때, 상기 바디에 삽입된 상기 가열 부재를 감싸도록 상기 바디에 형성되고, 상기 바디의 길이 방향을 따라 상기 가열 부재를 감싸는 나선 형상으로 상기 바디에 형성되고,
상기 바디는,
상기 유로에 상기 유체가 유입되는 유입 부; 및
상기 유로에서 상기 유체가 유출되는 유출 부을 포함하고,
상기 유로는,
상기 유입 부와 상기 유출 부 사이에서 복수의 유로로 분기된 후, 다시 하나의 유로로 합쳐지는 유체 가열기.
제3항에 있어서,
상기 유로는,
제1유로와;
상기 제1유로보다 상기 가열 부재와 인접하게 상기 바디에 형성되는 제2유로를 포함하는 유체 가열기.
제5항에 있어서,
상기 바디는,
상기 제1유로의 일 단과 연결되며, 상기 유체가 유입되는 유입 부를 포함하고,
상기 제1유로의 타 단과 상기 제2유로의 일 단은 서로 연통하는 유체 가열기.
제6항에 있어서,
상기 유로는,
상기 제2유로보다 상기 가열 부재와 인접하게 상기 바디에 형성되고, 그 일 단이 상기 제2유로의 타 단과 서로 연통하는 제3유로를 포함하고,
상기 바디는,
상기 제3유로의 타 단과 연결되며, 상기 유체가 유출되는 유출 부를 더 포함하는 유체 가열기.
기판에 공급되는 유체를 가열하는 유체 가열기에 있어서,
가열 부재; 및
상기 가열 부재가 삽입되는 바디를 포함하고,
상기 바디에는 상기 가열 부재가 발생시키는 열에 의해 가열되는 상기 유체가 흐르는 유로가 형성되고,
상기 바디는,
기둥 형상을 가지고,
상기 가열 부재는,
상기 바디의 중심 축을 따라 형성되는 삽입 부에 삽입되고,
상기 유로는,
상기 바디의 길이 방향에서 바라볼 때, 상기 바디에 삽입된 상기 가열 부재를 감싸도록 상기 바디에 형성되고, 상기 바디의 길이 방향을 따라 상기 가열 부재를 감싸는 나선 형상으로 상기 바디에 형성되고,
상기 유체가 흐르는 상기 유로의 직경은 상기 유로의 길이 방향을 따라 변경되는 유체 가열기.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유체 가열기는,
상기 바디를 감싸는 하우징을 더 포함하고,
상기 하우징과 상기 바디의 사이 공간은,
진공 상태로 유지되는 유체 가열기.
제9항에 있어서,
상기 하우징에는,
상기 가열 부재가 삽입되는 삽입 홀이 형성된 유체 가열기.
제9항에 있어서,
상기 하우징은,
금속을 포함하는 재질로 제공되고,
그 표면이 상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 덮어진 유체 가열기.
기판에 공급되는 유체를 가열하는 유체 가열기에 있어서,
가열 부재;
상기 가열 부재가 삽입되는 바디; 및
상기 바디를 감싸는 하우징을 포함하고,
상기 바디에는 상기 가열 부재가 발생시키는 열에 의해 가열되는 상기 유체가 흐르는 유로가 형성되고,
상기 하우징과 상기 바디의 사이 공간은 진공 상태로 유지되고,
상기 하우징에는 상기 가열 부재가 삽입되는 삽입 홀이 형성되고,
상기 하우징은,
타이타늄, 니켈, 알루미늄, 동, 스틸 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재질로 제공되고,
그 표면이 테프론(Teflon)을 포함하는 재질로 덮어진 유체 가열기.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 바디는,
금속을 포함하는 재질로 제공되는 유체 가열기.
제13항에 있어서,
상기 바디는,
타이타늄, 니켈, 알루미늄, 동, 스틸 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재질로 제공되는 유체 가열기.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유로의 단면은,
원 형, 타원 형, 삼각형, 그리고 사각 형 중 어느 하나의 형상을 가지는 유체 가열기.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유로의 내표면은,
상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 코팅되는 유체 가열기.
기판에 공급되는 유체를 가열하는 유체 가열기에 있어서,
가열 부재; 및
상기 가열 부재가 삽입되는 바디를 포함하고,
상기 바디에는 상기 가열 부재가 발생시키는 열에 의해 가열되는 상기 유체가 흐르는 유로가 형성되고,
상기 유로의 내표면은,
불산, 질산, 그리고 황산 중 적어도 어느 하나를 포함하는 표면 처리 액에 의해 처리되고,
테플론(Teflon) 또는 세라믹(Ceramic)을 포함하는 재질로 코팅되는 유체 가열기.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유로에는,
상기 유체에 대해 내식성을 가지는 튜브가 삽입된 유체 가열기.
제18항에 있어서,
상기 튜브는,
테플론(Teflon)을 포함하는 재질로 제공되는 유체 가열기.
제1항의 유체 가열기를 제조하는 방법에 있어서,
상기 바디를 제조하는 바디 제조 단계를 포함하고,
상기 바디 제조 단계는,
금속 분말을 소재로 한 금속 3D 프린팅 방식으로 수행되는 유체 가열기 제조 방법.
제20항에 있어서
상기 방법은,
상기 유로를 코팅하는 유로 코팅 단계를 포함하고,
상기 유로 코팅 단계에는,
상기 바디에 형성된 상기 유로의 표면이 상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 코팅될 수 있도록, 상기 유로로 코팅 액을 공급하는 유체 가열기 제조 방법.
제21항에 있어서,
상기 방법은,
상기 유로에 튜브를 삽입하는 튜브 삽입 단계를 포함하고,
상기 튜브 삽입 단계에 삽입되는 상기 튜브는,
상기 유체에 대해 내식성을 가지는 재질로 제공되는 유체 가열기 제조 방법.