KR102399796B1 - 유전체 장벽 플라스마 발생 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 유전체로 지연된 플라스마를 이용한 유전체 장벽 플라스마 발생 장치에 대한 것으로서, 말단벽(14, 14')을 가진 하우징(10)을 포함하고 상기 말단 벽(14,14')의 적어도 일부분을 형성하는 유전체 장벽(19, 34)에 의해 치료되는 표면으로부터 보호되고 고전압 제네레이터(17)에 연결될 수 있는 전극(18, 33)을 포함한다. 상기 말단벽(14, 14')은 적어도 하나의 스페이서(29, 29')를 포함하며, 이를 통해, 상기 적어도 하나의 스페이서(29, 29')가 치료될 표면에 놓이게 되면 적어도 하나의 챔버가 형성된다. 상기 유전체 장벽 플라스마 발생 장치는 유전체로 지연된 플라스마를 이용한 치료와 치료제로 채워질 수 있는 저장 챔버(25, 25')가 치료될 표면에서 멀어지는 방향을 향하고 있는 상기 말단벽(14, 14')에 배치되는 치료제의 계량된 공급을 허용하며; 상기 말단 벽(14, 14')은 통로 개구부(28, 28')를 가지며; 상기 저장 챔버(25, 25')의 체적은 체적이 줄어들 때 통로 개구부(28, 28')를 통해 치료될 표면의 영역으로 치료제가 도달하도록 줄어들 수 있다.

Description

유전체 장벽 플라스마 발생 장치

본 발명은 유전체 장벽 플라스마(dielectric barrier plasma)를 이용하여 치료되는 표면을 위한 유전체 장벽 플라스마 발생 장치에 대한 것으로서, 말단벽을 가진 하우징을 포함하며, 상기 말단벽의 적어도 한 부분을 형성하는 유전체에 의해 치료되는 표면으로부터 차폐되고 고전압 제너레이터에 연결될 수 있는 전극을 포함하며, 상기 말단벽은 적어도 하나의 스페이서(sapcer)를 포함하고 이를 통해, 상기 적어도 하나의 스페이서가 치료될 표면에 대해 놓일 때 적어도 하나의 가스 챔버가 형성되며, 상기 유전체 장벽 플라스마는 상기 치료 과정을 위해 상기 가스 챔버에서 형성된다.

특허 문서 DE 10 2009 060 627 B4는 평평하고, 유연한 전극과 유연하고, 평평한 유전체로 만들어진 전극 배열을 기술하며, 상기 유전체는 모든 측면에서 평평한 전극을 둘러싸고 오직 하나의 전극의 커넥터만이 고전압 제너레이터에 연결을 위해, 절연 방식으로, 유전체 밖으로 나와 있다. 상기 유전체는 예컨대, 인간 또는 동물 몸의 피부 표면과 같은 치료되기 위한 표면 상에 놓이기 위한 것이며, 이는 스터드들 사이에 가스 챔버가 형성되기 때문에 스페이서로서 기능하는, 접촉 측면의 스터드 구조물을 포함하며, 상기 스터드 구조물에 유전체 장막 플라스마가 형성될 수 있다.

특허 문서 DE 10 2012 015 482 A1 에 따른 치료 장치는 유사한 전극 배열을 갖추고 있고, 상기 전극이 매립된 유전체는 치료 장치의 하우징의 말단벽을 형성한다. 유연하게 내장된, 평평한 전극을 포함하는 유연한 유전체로 이루어진 유연한 전극 배열은 전극 배열 뒤에 위치한 탄성 가압 수단을 통해 치료될 표면에 대해 눌려지며, 치료될 표면의 윤곽, 특히 피부 표면에 대한 전극 배열의 적응성이 개선된다.

미용 및 의료 목적을 위해, 특히, 유전체 장벽 플라스마를 이용하는 치료는 적용된 치료제에 의해 지원된다. 피부 표면의 미용 치료의 경우, 유전체 장벽 플라스를 이용하는 치료는 상기 표면의 세정/소독과 더불어 개선된 모공의 순환 및 확장 모두를 발생시키며, 그러므로 치료제는 피부에 효과적으로 흡수될 수 있다. 비-미용 분야에서, 예컨대 프라이머(primer) 또는 함침제와 같은 치료제는 플라스마 치료 이후 나무 또는 플라스틱 표면 상에 더욱 잘 적용될 수 있으며, 이는 상기 표면 상의 이러한 치료제의 접착력이 개선되기 때문이다. 플라스마 치료 이전 또는 이후의 개별 단계에서 치료제가 적용되는 것이 일반적이다.

본 발명에 의해 다루어지는 문제점은 유전체 장벽 플라스마를 이용하는 개선된 치료가 치료제의 사용으로, 특히 피부 표면의 미용적 치료에 가능해지는 방식의 처음에 언급된 유형의 유전체 장벽 플라스마 발생 장치를 설계하는 것이다.

이러한 문제점을 해소하기 위해, 본 발명에 따른, 앞서 언급한 유형의 유전체 장벽 플라스마 발생 장치는, 치료제가 채워질 수 있는 저장 챔버가 치료될 표면에서 멀어지는 방향을 향하는 말단벽의 측면에 위치하고, 상기 말단벽이 통로 개구부를 포함하며, 그리고 상기 저장 챔버의 체적은 상기 체적이 줄어들 때 치료제가 상기 통로 개구부를 통해 치료될 표면의 영역에 도달하는 방식으로 감소될 수 있는 것을 특징으로 한다.

그러므로, 본 발명에 따른 상기 유전체 장벽 플라스마 발생 장치는 유전체 장벽 플라스마를 이용하는 치료 중 또한 치료될 표면에 치료제를 적용할 수 있게 하므로, 치료될 표면 상의 플라스마 및 치료제의 효과는 동시에 일어나고 치료제의 연속적인 재공급이 일어난다.

본 발명의 하나의 바람직한 특정 실시예에서, 치료제의 적용, 즉, 저장 챔버의 감소는 치료될 표면 상에 압력을 가함으로서 수행된다. 그러므로, 치료될 표면으로 균일한 압력의 적용을 통해서 치료제의 적용은 균일하게 일어날 수 있다.

본 목적에 적합한 제1 구조적 실시예에서, 하우징은 서로 신축되게 맞물리고치료될 표면의 방향으로 하우징에 압력을 적용함으로써 서로 미끄러질 수 있는 둘레벽 섹션을 포함하며, 상기 치료제는 말단벽의 통로 개구부를 통해 나오게 된다.

이러한 원리의 다른 구조적 실시예에서, 상기 말단벽은 적어도 부분적으로 유연할 수 있고 치료될 표면의 방향으로 하우징에 압력을 가함으로써 저장 챔버의 내부의 방향으로 변형되도록 설계되며, 상기 체적 감소는 치료제를 적용하기 위해 일어난다.

또 다른 구조적 실시예에서, 상기 하우징은, 상기 저장 챔버를 획정하며 저장 챔버의 체적을 감소시키기 위해 내부로 가압될 수 있는 유연한 둘레벽을 포함한다. 상기 둘레벽은 둘레벽으로 방사상 안쪽으로 지향된 압력을 적용하고 둘레 벽이 안쪽으로 결과적으로 움푹들어간 경우 치료될 표면의 방향으로 축방향 압력을 적용함으로써 안쪽으로 가압될 수 있다.

저장 챔버의 체적의 감소로 인해, 치료제는 치료될 표면의 영역으로 하우징의 말단벽의 통로 개구부를 통해 가압된다. 분명히, 치료제는 이러한 목적을 위해 자유 유동해야 한다. 이는 치료제가 분말, 페이스트 형, 기체 형 또는 액체 형인 경우에 해당한다. 편의상, 통로 개구부의 내부 지름은 이에 따라 조정된다. 분말 치료제가 방출되는 경우, 페이스트 형 또는 점성을 가진 치료제보다 더 큰 통로 개구부가 사용될 수 있으며, 반면 유체 또는 가스 치료제가 작은 내부 단면을 가진 통로 개구부를 통해 유용하게 적용된다.

본 발명에 따른 유전체 장벽 플라스마 발생 장치의 하나의 구조적 실시예에서, 전극은 평평한 전극으로서, 평평하도록 설계된 유전체에 모든 측면이 매립된다. 유전체가 모든 측면에 평평한 전극을 둘러싸기 때문에, 전극은 또한 통로 개구부를 포함해야 한다. 그러나, 본 발명에 따라, 이러한 통로 개구부는 유전체의 통로 개구부보다 더 크므로, 통로 채널(channel)은 유전체로부터 연속적으로 방사상으로 획정되는 유전체에 형성되며, 그러므로 치료제를 통한 원치않는 전류 흐름이 신뢰성있게 회피된다.

유전체와 유전체에 내장된 전극을 포함하는 배열이 유연하게 설계될 때 본 발명에 적합할 수 있다.

유전체는 전체 말단벽을 가로질러 연장될 수 있으며, 상기 말단벽은 유전체에 의해 형성된다. 이러한 경우, 유전체와 이에 내장된 전극을 포함하는 배열의 유연한 실시예는 치료될 표면의 불균일한 윤곽에 적응하게 하는데 바람직하다.

본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 말단벽은 적어도 두 개의 부분으로 형성된다. 특히, 이 경우, 말단벽의 제1 부분은 전극의 유전체 차폐에 의해 형성될 수 있고 말단벽의 적어도 하나의 제2 부분은 저장 챔버를 획정할 수 있고 통로 개구부를 포함할 수 있다. 치료제를 적용하기 위한 저장 챔버의 체적을 줄이기 위한 전술한 가능성은 또한 이러한 실시예에 대해 모두 활용될 수 있으며 분야 및 편의에 따라 선택될 수 있다.

유전체가 말단벽의 중앙 섹션을 형성하고 말단벽의 제2 부분이 유전체를 환형으로 둘러싸며 전극이 유전체로 매립된 경우가 바람직할 수 있다. 이 경우, 말단벽의 제2 부분이 유연한 경우가 충분할 수 있으며, 유전체와 유전체에 의해 차폐된 전극으로 이루어진 중앙 배열은 치료를 위해 실제로 적용된 압력에 대해 단단하다, 즉, 유연하지 않다.

말단벽의 적어도 하나의 제2 부분은 절연 플라스틱으로 구성될 수 있으며, 즉, 말단벽에서 또한 전극의 영역 외부에 유전체를 어느정도 계속 유지할 수 있다. 이러한 구조적 실시예에서, 절연 재료의 말단벽의 적어도 하나의 제2 부분의 형성은 절대적으로 필요한 것이 아니므로, 보통의 또는 높은 전도성을 가진 재료 또한 활용될 수 있다.

이 경우, 상기 말단벽의 적어도 하나의 제2 부분이 적어도 하나의 스페이서를 형성할 때 편리할 수 있으며, 이를 통해 유전체와 전극을 포함하는 배열은 치료될 표면에 대해 적어도 하나의 스페이서가 놓인 경우 치료될 면으로 가까운 간격으로 고정된다. 결과적으로, 작은 중간 공간은 유전체 차폐된 전극과 치료될 표면 사이에 형성된다. 유전체 장벽 플라스마는 가스 또는 존재하는 공기의 이온화를 통해 이러한 가스 챔버 또는 공기 챔버에 형성되고, 치료될 표면과 전극 사이의 직류 흐름은 유전체에 의해 저해되므로, 오직 변위 전류만이 플라스마 형성에 대해 가능하다. 이는 또한 물론, 유전체 그 장체가 적어도 하나의 스페이서로 형성된 배열에 대해서도 적용하며, 이러한 유형의 가스 챔버 또는 공기 챔버는 유전체의 깊어진 영역과(적어도 하나의 스페이서의 바깥쪽) 치료될 표면 사이에 존재한다. 이 경우 전극과 치료될 표면 사이의 직류 흐름이 저해된다.

플라스마 형성은 DC 고전압을 이용하여 일어날 수 있으며, 초기 변위 전류만이 발생되고 전위차가 플라스마를 유지한다. 그러나, 고전압 전위는 양의 전압과 음의 전압 사이에서 스위칭하는 AC 고전압의 사용이 바람직하다. 이 경우, 치료될 표면, 예를 들어 피부 표면 또는 살아있는 신체는 AC 전압의 전위 변화에 단지 완만하게 따를 수 있는 소위 부동 상대 전극으로서 기능하는 것이 바람직하며, 따라서, 주파수가 변하기 때문에 본질적으로 접지 전위가 될 평균 전위로 유지된다.

특히 페이스트 형 또는 액체 치료제가 사용될 때 저장 챔버에 직접 치료제를 채우지 않는 것이 바람직하다. 이 경우, 치료제를 캐리어 재료(carrier material)의 저장 챔버에 도입하는 것이 바람직하다. 캐리어 재료는 예를 들어 목화 재료, 부직포 재료, 또는 개방-구멍이 있는 스폰지 재료와 같은 저장 챔버의 체적의 감소를 통해 압축 가능한 임의의 느슨한 재료일 수 있다. 이 경우, 저장 챔버의 체적이 전술한 방식 중 적어도 하나에서 감소 될 때, 치료제는 캐리어 재료 밖으로 가압된다.

본 발명의 특히 바람직한 실시예는 하우징 부분이 말단벽을 포함하고 저장 챔버의 적어도 한 부분이 교체가능한 헤드피스(headpiece)로서 설계된다는 사실을 야기한다. 이 경우, 상기 헤드피스는 예컨대, 미용 안면 마사지와 같은, 표면의 치료를 위해 제공된, 일정량의 치료제를 저장한다. 치료제가 소모되고 치료가 끝난 후, 교체가능한 헤드피스는 제거될 수 있으며 본 발명에 따른 유전체 장벽 플라스마 발생 장치는 새로운 헤드피스에 의해 다시 사용될 수 있게 만들어질 수 있다. 이러한 방식에서, 높은 위생 기준이 보장되며, 이는 어떤 세정 대책도 필요 없으며 또는 쉽게 수행되는 오직 최소한의 세정 대책만이 필요하다.

본 발명은 도면에 도시된 예시적인 실시예들을 참조하여 하기에서 더 상세히 설명된다.
도 1은 조립된 상태의 본 발명에 따른 유전체 장벽 플라스마 발생 장치의 제1 실시예를 나타낸다.
도 2는 헤드피스가 제거된 도 1에 따른 장치를 나타낸다.
도 3은 도 2에 따른 유전체 장벽 플라스마 발생 장치의 단면을 나타낸다.
도 4는 도 1에 따른 완전히 조립된 유전체 장벽 플라스마 발생 장치의 단면을 나타낸다.
도 5는 분리된 상태의 헤드피스와 하우징의 나머지 부분의 일측 단부의 단면이다.
도 6은 헤드피스가 하우징의 나머지에 삽입된 후 도 5와 같이 나타낸 것이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유전체 장벽 플라스마 발생 장치의 헤드피스의 단면도이다.
도 8은 도 7에 따른 헤드피스의 하부 부분의 확대된 절단면을 나타낸다.
도 9는 도 7에 따른 헤드피스의 분해 단면을 나타낸다.
도 10은 하우징의 둘레 벽 섹션을 포함하는 중간 피스의 사시도이다.
도 11은 도 7에 따른 유전체 장벽 플라스마 발생 장치의 말단벽의 평면도이다.
도 12는 도 7에 따른 헤드피스의 사시도이다.

도 1에 도시된, 본 발명의 제1 실시예에 따른 유전체 장벽 플라스마 발생 장치는 핸들(2) 및 각진 피스(3)로 구성된 하우징(1)을 포함한다. 상기 두 개의 하우징 부품들은 중공 튜브와 같이 설계되며, 상기 핸들(2)은 직선 중공 튜브이며 상기 각진 피스(3)는 약 135°의 각도로 서로 연결된 두 개의 튜브 말단부를 갖는다. 각진 피스(3)가 핸들(2)의 중공 튜브에 대한 삽입 소켓을 포함하여, 핸들(2) 및 각진 피스(3)는 서로 연결된다. 상기 각진 피스(3)로 미끄러졌던 상기 핸들(2)은 나사(4)를 통해 설치 상태로 고정된다. 핸들(2)은 플라스틱 또는 금속으로 만들어진 인발된 튜브로서 형성될 수 있으며, 각진 피스(3)는 바람직하게 사출 성형된 부품이다. 관형 어깨부(7)를 포함하는 헤드피스(6, headpiece)는 핸들(2)에서 멀어지는 방향을 향한 각진 피스(2)의 말단부(5)로 삽입될 수 있다. 상기 관형 어깨부(7)는 두 개의 정반대로 대향된, 탄성있는 멈춤쇠 핀(8)을 포함하며, 그 각각은 상기 각진 피스(3)에 헤드피스(6)를 고정하기 위해 핸들(2)의 관형 말단부(5)의 멈춤쇠 개구부(9)로 결합될 수 있으며, 이로써 축방향으로 그리고 회전에 대해 고정된 연결이 성립된다.

각진 피스(3)와 연결되지 않은 핸들(2)의 말단부는 케이블 부싱(11)을 포함하는 말단 캡(10)으로 닫힌다. 상기 말단 캡(10)은 바람직하게 핸들(2)의 나사로 나사 연결된다.

헤드피스(6)는 튜브 축에 본질적으로 수직하게 연장된 연결벽(13)을 통해 관형 어깨부(7)에 연결되는 둘레벽(12)을 포함한다. 둘레벽(12)의 자유 둘레 가장자리는 말단벽(14)을 통해 닫힌다. 도시된 예시의 실시예에서, 헤드피스(6)는 본질적으로 원형 원통이므로, 말단벽(14)은 원형 표면으로 채워진다.

도 3 및 4는 하우징(1)의 내부 설계를 나타내며, 헤드피스(6)는 도 3에 독립적으로 나타내며, 도 4에서, 헤드피스(6)는 멈춤쇠 핀(8) 및 멈춤쇠 개구부(9)를 포함하는 멈춤쇠 연결을 통해 각진 피스(3)에 연결된다.

도 3, 4에 개략적으로 나타낸 것처럼, 회로 보드(15)는 핸들(2)의 내부에 위치되고, 거기에는 전기 제어를 위한 구성요소(16)가 위치된다. 회로 보드(15)는 하우징(1)의 말단 캡(10)의 케이블 부싱(11)을 통해 나오는 케이블(미도시)을 통해 교류 주전원에 연결된다. 정류된 전압은 공지된 방식으로 연결부(미도시)를 통해 AC 고전압으로서 고체의, 원통형 전극(18)으로 공급되는 고전압을 발생하기 적합한 인버터(17)로 공급된다. 전극(18)은 고전압 라인(21)을 위한 절연 부싱(20)에 인접한, 각진 피스(3)의 내부에서, 포트 형태(pot-shaped)의 유전체(19)로 둘러싸인다.

도 4에 도시된 것처럼, 유전체(19)를 포함하는 전극(18)은 말단벽(14)의 영역으로 연장되어 상기 연장부 베이스(22)의 하부와 말단벽(14)의 하부 사이에 작은 중간 공간이 남는다; 상기 중간 공간은 도 6에 더 자세하게 도시된다.

도 3 및 4는 고전압이 발생되고 고전압이 전극(18)으로 보내지는 회로의 영역이 고전압 플래시오버에 대한 추가 안전을 보장하기 위해 핸들(2)과 각진 피스(3)의 내부에 완전하게 밀봉 컴파운드(23, 24)로 채워지는 것을 나타낸다.

도 5 및 6은 각각 분리된 상태와 조립된 상태에서 각진 피스(3)의 말단부와 관련된 헤드피스(6), 둘레벽(12), 및 말단벽(14)의 특정 설계를 나타낸다. 이 경우, 관형 어께부(7)가 말단벽(14)까지 연장되어, 환형 저장 챔버(25)가 상기 관형 어깨부(7)와, 연결벽(13), 둘레벽(12), 및 말단벽(14)에 의해 획정되는 것이 명확해지고, 저장 챔버는 치료제가 스며들고 스폰지 같은 환형 본체 형태인 캐리어 재료(26)로 채워진다. 특히 도 6에 명백하게 도시된 바와 같이, 말단벽(14)은 말단벽(14)의 제1 부분으로서 유전체(19)의 베이스(22)에 의해 중심에 형성되고, 말단벽(14)의 제2 부분은 방사상으로 바깥으로 인접하며, 제2 부분은 방사상 안쪽으로 관형 어깨부(7)까지 그리고 방사상으로 바깥쪽으로 둘레벽(12)까지 유지되는, 환형의, 평평한 벽 피스(27, wall piece)로 구성된다. 도시된 예시의 실시예에서, 이러한 평평한 벽 피스(27)는 절연 플라스틱으로 구성되고 다수의 통로 개구부(28)를 포함하며, 말단벽(14) 상의 배치는 도 1에서 확인할 수 있다. 더욱이, 스페이서(29)로서 사용되는, 필수적으로 형성된, 환형 리브(rib)는 벽 피스(27)의 하부에 위치된다. 벽 피스(27)는 치료될 표면(미도시)에 적용된 압력을 통해 저장 챔버(25)의 영역으로 변형될 수 있고, 이로써 저장 챔버(25)와 거기에 위치된 캐리어 재료의 체적이 줄어들게 되는 유연한 재료로 구성된다. 캐리어 재료의 압축을 통해, 거기에 포함된 치료제는 통로 개구부(28)를 통해 가압되고 스페이서(29) 사이에, 치료될 표면의 영역에 도달한다. 스페이서(29)로 인해, 벽 피스(27)의 표면(30)은 스페이서(29)에 대해 오프셋되고 유전체의 베이스(22)의 하부와 정렬된다. 그러므로, 스페이서(29)의 높이는 유전체(19)의 베이스(22)와 치료될 표면 사이의 중간 공간(22a)의 높이를 결정한다. 유전체 장벽 플라스마는 고압이 전극(18)에 가해질 때 이러한 중간 공간에 형성되며, 치료될 표면, 예컨대 인간 또는 동물의 피부 표면은 부동 상대 전극(floating counterelectrode)으로서 사용된다. 몸, 즉 치료될 표면이 상대 전극으로서, 치료될 표면의 전위의 부동을 감소시키기 위해 접지된다는 점을 배제하지 않는다는 것은 말할 필요도 없다.

이러한 예시의 실시예에서, 유전체(19)는 단단한 전극(18)을 단단히 둘러싸므로, 말단벽(14)은 유전체(19)의 영역에서 유연성이 없다는 것은 명백하다. 그러므로, 말단벽의 중앙부는 단단하며, 유전체(19)를 둘러싸는, 벽 피스 형태인, 말단벽(14)의 제2 부분은 유연할 수 있으며 치료될 표면의 윤곽에 따라, 한계 내에서, 적응될 수 있다. 통로 개구부(28)를 통해 치료될 표면의 영역으로 치료제가 압축되는 방식을 통해, 저장 챔버(25)의 체적의 감소는, 핸들(2)을 포함하는 하우징(1)을 이용하여 치료될 표면 상에 취급 압력이 가해질 때 저장 챔버(25)의 내부로의 벽 피스(27)의 만입을 통해, 일어난다. 저장 챔버(25)의 체적은, 예컨대, 미용 안면 마사지와 같은 의도하는 치료를 위해 필요한 치료제의 용량이 치료 중 통로 개구부(28)를 통해 지나갈 수 있는 방식으로 선택된다. 치료의 마무리 후, 헤드피스(6)는 멈춤쇠 핀(8)을 이용하여 각진 피스(3)에서 제거될 수 있으며 적합한 치료제로 채워진 새로운 헤드피스(6)로 교체될 수 있고, 따라서 헤드피스(6)는 일회용 부품으로 사용될 수 있고 이후 폐기될 수 있다. 오직 유전체(19)의 부드러운 하부만이 부드러운 표면으로 인한 문제없이 세척되어야 한다는 것은 명백하다.

도 5 및 6은 또한 유연한 벽 피스(27)이 거의 미리 만곡된 형상으로 장착될 수 있음을 보여주며, 이로써 약간의 취급 압축이 가해질 때에도 저장 챔버(25)의 체적으로의 압축이 일어나고, 치료제가 통로 개구부(28)를 통해 치료의 시작 단계에서 이미 치료될 표면의 영역으로 가압된다.

본 발명에 따른 하우징의 다른 실시예의 헤드피스(6')는 도 7에서 12에 나타난다. 도 7은 헤드피스(6')를 관통하는 수직 단면을 보여준다. 각진 피스(3)에 대한 헤드피스(6')의 결합은, 하부 말단에서, 원형의, 고체 플랜지(31)로 변형되는 원통형 볼트 형태의 고체의, 금속의, 고전압의 연결 피스(21')를 통해 수정된 방식으로 일어난다. 금속 연결 피스(21')의 볼트는 플랜지(31)까지 연장된 단단하게 고정된 절연 튜브 피스(32)에 의해 둘러싸인다. 유전체(34)로 완전히 삽입된 평평하고, 유연한 전극(33)은 플랜지(31)의 하부에 놓인다. 유전체는 전극(33)의 가장자리 너머 모든 측면 상으로 연장되고, 전극의 모든 표면 상에서 전극(33)을 덮으며 예컨대, 접착 본딩 또는 용접을 이용하여 전극(33) 외부의 방사상으로 서로 고정되게 연결된 두 개의 평평한 레이어(34', 34'')로 구성된다. 유전체(34)는 말단벽(14')을 형성한다. 말단벽(14')의 표면은 유전체의 하부 레이어(34'')와 통합된 스페이서(29')로서 돌출 스터드(35)가 제공되는 유전체의 하부 레이어(34'')에 의해 형성된다. 유전체는 다수의 통로 개구부(28')를 포함하며, 그 중 오직 두 개는 도 7에서 도 9에 단면으로 도시된다. 말단벽(14')을 통한 통로 개구부(28')의 분포는 도 11를 통해 이해할 수 있으며, 상기 도 11은 또한 본 예시의 실시예에서 스페이서(29')를 형성하는 다수의 스터드(35)의 위치를 나타낸다.

하부 둘레벽 섹션(36)과 상부 둘레벽 섹션(37)으로 형성된 둘레벽(12')에 의해 말단벽(14')은 그 방사상의 가장자리가 획정된다. 둘레벽 섹션(36, 37)은 원형의 원통형이며 서로 신축가능하게 맞물린다. 유전체(34)의 상부 측에 놓이는 중간 베이스(38)는 하부 둘레벽 섹션(36)에서 안쪽으로 방사상으로 연장된다. 상기 중간 베이스(38)는 큰 통로 개구부(39)가 제공된다. 상부 둘레벽 섹션(37)은 절연 튜브(32)까지 연장되는 수평 덮개 벽(40)으로 변이되고, 절연 튜브(32)에 대해 미끄러지게 놓인, 하부 방향으로 지향된, 관형 섹션(41)으로 변이된다.

둘레벽 섹션(36, 37)은 서로 신축가능하게 맞물리고 각각은, 그 겹쳐지는 말단부 상에, 환형 비드(42, 43)를 포함하며, 상부 바깥쪽 둘레벽 섹션(37)의 환형 비드(42)는 안쪽으로 지향되고, 내부의, 하부 둘레벽 섹션(36)의 환형 비드(43)는 바깥쪽으로 지향된다. 결과적으로, 상기 환형 비드(42, 43)는 둘레벽 섹션(36, 27)이 치료 과정 중, 도 7에 도시된 시작 위치 너머로, 서로 이격되게 당겨지는 것을 방지한다.

환형 저장 챔버(25')는 관형 섹션(41)을 가진 덮개 벽(40)과, 서로 신축가능하게 맞물린 둘레 섹션(36, 37), 그리고 중간 베이스(38)로 획정되며, 그 안의 저장 챔버는, 결국, 치료제가 스며든 캐리어 재료(26')가 위치된다. 치료될 표면(미도시)과 스페이서(29')로서 스터드(35, stud)가 놓이는 곳에 대해 가해진 압력을 통해, 상부 둘레벽 섹션(37)은 하부 둘레벽 섹션(36)에 대해 아래쪽으로 이동되며, 따라서 저장 챔버(25')의 체적은 감소되고 캐리어 재료(26')은 압축된다. 결과적으로, 치료 물질은 중간 베이스(38)의 통로 개구부(39)를 통해 그리고 유전체의 통로 개구부(28')를 통해 캐리어 재료(26')에서 치료될 표면 영역으로 나오며, 이는 치료될 표면과 스페이서(29')에 대해 오프셋된 표면(30') 사이의 스페이서(35)를 통해 공기 챔버로서, 자유롭게 유지되고, 그 안에 유전체 장벽 플라스마가 형성될 수 있다.

도 8은, 특히, 전극(33)의 실질적으로 큰 통로 개구부(44)가 유전체(34)의 통로 개구부(28')와 정렬된 것을 나타낸다. 유전체의 두 개의 레이어(34', 34")가 연결되면, 유전체는 전극(33)의 통로 개구부(44)를 통로 개구부(28')의 내경까지 채우고, 따라서, 유전체(34)로부터 연속으로 획정된 통로 채널이 생기고, 치료제와 전극 사이의 직접 접촉이 불가능해진다.

도 9는 분해된 상태의 헤드피스(6')의 개별 부분을 나타낸다.

도 10은 사출 성형된 부품을 나타내며, 이는 하부 둘레벽 섹션(36), 환형 비드(43), 및 중간 베이스(38)를 포함하며, 저장 챔버(25')에서의 치료제의 방출을 방해하지 않는 통로 개구부(39)의 크기를 나타낸다.

도 12는 본 실시예에 따른 헤드피스의 하부에서 본 비스듬한 사시도로서, 상부 둘레벽 섹션(37)은 하부 둘레벽 섹션(36)에 대해 아래쪽으로 움직일 수 있으며, 따라서 저장 챔버(25')의 체적은 치료될 표면에 적용된 압력을 통해 줄어든다.

또 다른 실시예에서, 헤드피스(6')는 안쪽으로 방사상으로 압축될 수 없는 균일한 둘레벽을 가진 것으로 형성될 수 있다. 결과적으로, 저장 챔버(25')의 체적의 감소는 둘레벽 상에서 방사상 안쪽으로 향한 지압(finger pressure)을 통해 달성될 수 있다. 이러한 방식으로, 치료제는 치료될 표면의 영역에서 저장 챔버(25')의 밖으로 가압될 수 있다. 이러한 실시예의 하나의 변형은 또한, 대안으로 또는 부가적으로, 유연한 덮개 벽(40)을 제공할 수 있다.

헤드피스(6')는 또한 치료 이후 교환가능한 부품으로서 제공될 수 있다. 이론적으로 더 큰, 저장 챔버(25')의 체적으로 인해, 상기 헤드피스(6')는 실질적으로 더 큰 치료를 위해 제공될 수 있다. 헤드피스(6')가 교체될 때, 물론 다른 치료제를 포함하는 헤드피스(6')가 또한 제공될 수 있다. 미용 또는 의료 치료의 경우, 예를 들어, 매우 효과적인 치료제로 먼저 작업하고, 시작 상태가 개선되고 난 경우, 더 순한 치료제로 바꿀 수 있다. 이러한 단계는 물론, 더 순한 치료제로 전환하기 위해 반복될 수 있다. 마지막으로, 치료제로만 만들어진 약제를 사용할 수 있다.

도시된 예시의 실시예는 저장 챔버(25, 25')의 체적의 감소를 위한 상이한 메커니즘을 나타내고, 각각 말단벽(14, 14')의 임의의 설계와의 조합으로 나타내며, 그러나 체적을 줄이기 위한 다른 방법은 하나의 부품으로서 또는 다중 부품으로서 형성된 말단벽(14, 14')의 실시예와 임의로 조합될 수 있다는 것은 당업자에게 명백하다. 이런 식으로, 서로 신축가능하게 미끄러질 수 있는, 둘레벽 섹션(36, 37)을 가진 헤드피스(6')의 실시예를 제공할 수 있으며, 말단벽(14)의 경우, 그 안의 전극은 중앙 유전체의 영역에만 위치하고, 통로 개구부(28)를 포함하는 환형 벽 피스는 유전체 주위에 방사상으로 제공된다.

동일한 방식으로, 말단벽(14')은 치료될 표면에 적용된 압력을 통해 변형될 수 있는, 매립된 유연한 전극(33)을 포함하는, 유전체(34)에 의해 완전하게 형성될 수 있으며, 이런 방식으로, 저장 챔버(25, 25')의 체적의 감소를 유발한다.

Claims (16)

1. 유전체 장벽 플라스마(dielectric barrier plasma)를 이용한 치료되기 위한 표면을 위한 유전체 장벽 플라스마 발생 장치로서,
   상기 유전체 장벽 플라스마 발생 장치는, 말단벽(14,14')을 가진 하우징(1)을 포함하고, 상기 말단벽(14, 14')의 적어도 한 부분을 형성하는 유전체(19, 34)에 의해 치료될 표면에서 차폐되는 전극(18, 33)을 포함하고,
   상기 전극(18, 33)은 고전압 제너레이터(17)에 연결될 수 있으며, 상기 말단벽(14, 14')은 적어도 하나의 스페이서(29, 29')를 포함하되, 적어도 하나의 상기 스페이서(29, 29')가 치료될 표면에 놓이게 되면 적어도 하나의 가스 챔버가 형성되고, 상기 유전체 장벽 플라스마는 치료 과정을 위해 상기 가스 챔버에서 형성되는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치에 있어서,
   치료제로 채워질 수 있는 환형 저장 챔버(25, 25')는 치료될 표면에서 멀어지는 방향을 향해있는 말단벽(14, 14')의 측면에 배치되고, 상기 말단벽(14, 14')은 다수의 통로 개구부(28, 28')를 가지며, 상기 저장 챔버(25, 25')의 체적은 상기 체적이 줄어들 때 상기 통로 개구부(28, 28')를 통해 치료제가 치료될 표면 영역에 도달하는 방식으로 줄어들 수 있는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 저장 챔버(25, 25')의 크기의 감소는 상기 하우징(1)을 이용하여, 치료될 표면에 압력을 가함으로써 일어나는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
3. 청구항 1 또는 2에 있어서,
   상기 하우징(1)은 둘레벽 섹션(35, 37)을 포함하며, 상기 둘레벽 섹션(35, 37)은 서로 신축 가능하게 맞물리며, 치료될 표면 방향으로 하우징(1) 상에 가해진 압력에 의해 서로에게 미끄러질 수 있는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
4. 청구항 1에 있어서,
   상기 말단벽(14, 14')은 적어도 부분적으로 유연하게 설계되며, 치료될 표면 방향으로 하우징(1) 상에 가해진 압력에 의해 상기 저장 챔버(25, 25')의 내부 방향으로 변형되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
5. 청구항 1 또는 4에 있어서,
   상기 하우징(1)은 유연한 둘레벽을 포함하며, 상기 유연한 둘레벽은 상기 저장 챔버(25, 25')를 획정하며 상기 저장 챔버(25, 25')의 체적을 줄이기 위해 안쪽으로 가압될 수 있는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
6. 청구항 1 또는 2에 있어서,
   평평한 전극으로서, 상기 전극(18, 33)은 모든 측면이 평평한 상기 유전체(19, 34)로 매립되며, 상기 유전체의 통로 개구부(28')는 상기 전극(18, 33)의 상응하는 통로 개구부(39)보다 더 작고, 따라서 상기 유전체(19, 34)에 의해 연속으로 방사상으로 획정된 통로 채널이 형성되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
7. 청구항 6에 있어서,
   유전체(19, 34)와 유전체(19, 34)로 매립된 전극(18, 33)은 유연하게 설계되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
8. 청구항 1에 있어서,
   상기 유전체(19, 34)는 전체 말단벽(14,14')에 걸쳐 하나의 조각으로 연장되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
9. 청구항 1에 있어서,
   상기 말단벽(14,14')은 적어도 두 개의 부분으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
10. 청구항 9에 있어서,
    상기 말단벽(14,14')의 제1 부분은 전극(18, 33)을 차폐하는 유전체(19, 34)로 형성되며 상기 말단벽(14,14')의 적어도 하나의 제2 부분(27)은 저장 챔버(25, 25')를 획정하고 상기 통로 개구부(28)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
11. 청구항 10에 있어서,
    상기 유전체(19, 34)는 상기 말단벽(14,14')의 중앙 섹션을 형성하고 상기 말단벽(14,14')의 제2 부분(27)은 유전체(19, 34)를 환형으로 둘러싸는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
12. 청구항 10 또는 11에 있어서,
    상기 말단벽(14,14')의 적어도 하나의 제2 부분(27)은 절연 플라스틱으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
13. 청구항 12에 있어서,
    상기 말단벽(14,14')의 적어도 하나의 제2 부분(27)은 적어도 하나의 스페이서(29, spacer)를 형성하는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
14. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    치료될 상기 표면은 유전체(19, 34)에 의해 차폐된 전극(18, 33)에 대해 상대 전극으로서 기능하는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
15. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    말단벽(14, 14')을 포함하는 하나의 하우징 부분과 저장 챔버(25, 25')의 적어도 하나의 부분은 교체가능한 헤드피스(6, 6')로서 설계되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.
16. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 치료제는 캐리어 재료(26, 26', carrier material)의 저장 챔버(25, 25')에 도입되는 것을 특징으로 하는, 유전체 장벽 플라스마 발생 장치.

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