KR102396869B1 - 열경화형 도전성 접착제 - Google Patents

열경화형 도전성 접착제 Download PDF

Info

Publication number
KR102396869B1
KR102396869B1 KR1020197004891A KR20197004891A KR102396869B1 KR 102396869 B1 KR102396869 B1 KR 102396869B1 KR 1020197004891 A KR1020197004891 A KR 1020197004891A KR 20197004891 A KR20197004891 A KR 20197004891A KR 102396869 B1 KR102396869 B1 KR 102396869B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
component
conductive adhesive
thermosetting
meth
thermosetting conductive
Prior art date
Application number
KR1020197004891A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20190046799A (ko
Inventor
소이치 오타
히토시 마후네
마코토 카토
토모야 코다마
Original Assignee
가부시끼가이샤 쓰리본드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시끼가이샤 쓰리본드 filed Critical 가부시끼가이샤 쓰리본드
Publication of KR20190046799A publication Critical patent/KR20190046799A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102396869B1 publication Critical patent/KR102396869B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00—Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • C09J9/02—Electrically-conducting adhesives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02—Non-macromolecular additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02—Non-macromolecular additives
    • C09J11/04—Non-macromolecular additives inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02—Non-macromolecular additives
    • C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • C09J163/10—Epoxy resins modified by unsaturated compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02—Elements
    • C08K3/08—Metals
    • C08K2003/0806—Silver
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/001—Conductive additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0091—Complexes with metal-heteroatom-bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/14—Peroxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04—Ingredients treated with organic substances

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

종래에는 피착체가 니켈 등인 경우, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지에서 접속저항을 낮추는 도전성 접착제를 실현하는 것이 어려웠다. 본 발명에서는 피착체가 니켈 등인 경우에, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지에서 접속저항을 낮추는 동시에, 보존안정성도 유지되며 취급성이 양호한 도전성 접착제를 가능하게 한다. 본 발명은 하기 (A) 내지 (D) 성분을 포함하는 열경화형 도전성 접착제이다; (A)성분 : 경화성 수지, (B)성분 : (A)성분을 경화시키는 열경화제, (C)성분 : 유기 금속 착체, (D)성분 : 도전성 입자.

Description

열경화형 도전성 접착제
본 발명은 접속저항값이 낮은 열경화형 도전성 접착제에 관한 것이다.
종래, 구리 가루를 첨가한 도전성 페이스트는 환원제를 첨가하는 것으로 알려져 있는데, 환원제를 첨가하는 목적은 구리 가루의 산화를 막아 도전성의 저하를 억제하기 위함이다. 한편, 일본 특허공개 2009-70724호 공보에 기재된 발명은 금속 착체와 환원제를 포함하는 구리 가루를 이용한 도전성 페이스트이다. 해당 발명은 금속 착체를 환원하여 미세한 금속 입자가 발생함으로 인해, 도전성이 향상된다. 그러나, 도전성 페이스트의 도막 그 자체의 도전성이 좋아질 뿐, 전극 등의 피착체에 대한 영향은 고려되지 않는다.
도전성 접착제는 두 개의 피착체를 접속하는 재료이다. 그 때문에, 회로저항은 피착체의 저항값, 피착체와 도전성 접착제의 계면에서의 접속저항값 및 도전성 접착제의 저항값으로 이루어지며, 회로저항값이 낮아지면 낮아질수록, 접속저항값이 회로저항에 영향을 주는 것으로 알려져 있다. 특히, 니켈 등의 금속에서는 표면에 부동태가 형성되어 있어, 접속저항값이 높아지는 경향이 있다. 접속저항값을 낮추기 위해 일본 특허공개공보 2000-133043호의 발명이 제시되고 있는데, 도전성 입자로서 니켈 가루를 필수 성분으로 하고 있기 때문에, 도전성 접착제의 저항값이 높아지는 경향을 볼 수 있다.
종래에는 피착체가 니켈 등인 경우, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지를 이용하여 접속저항을 낮추는 도전성 접착제를 실현하는 것이 어려웠다.
본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해 열심히 검토한 결과, 열경화형 도전성 접착제에 관한 수법을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명의 요지를 이하에 설명한다. 본 발명의 제1 실시양태는 (A) 내지 (D)성분을 포함하는 열경화형 도전성 접착제이다.
(A)성분 : 경화성 수지
(B)성분 : (A)성분을 경화시키는 열경화제
(C)성분 : 유기 금속 착체
(D)성분 : 도전성 입자.
본 발명의 제2 실시양태는 상기 (A)성분이 (메타)아크릴기를 갖는 화합물이며, (B)성분이 하기 일반식 1 구조의 유기 과산화물인, 제1 실시양태에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제3 실시양태는 상기 (B)성분이 하기 일반식 2 구조의 유기 과산화물인, 제1 또는 제2 실시양태에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다 .
본 발명의 제4 실시양태는 상기 (A)성분이 (메타)아크릴기를 갖는 화합물인 경우, 상기 (A)성분의 총 100질량부에 대하여 상기 (B)성분의 유기 과산화물이 1 내지 10질량부 포함되는, 제1 내지 제3 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제5 실시양태는 상기 (B)성분 100질량부에 대하여 상기 (C)성분이 0.1 내지 10질량부 포함되는, 제1 내지 제4 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제6 실시양태는 상기 (A)성분이 환상 에테르기를 갖는 화합물이고, 상기 (B)성분이 상기 (A)성분을 경화시키는 잠재성 경화제인, 제1 내지 제5 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제7 실시양태는 상기 (A)성분이 에폭시기, 지환식 에폭시기 및 옥세탄기로 이루어진 군에서 적어도 하나 선택되는 기를 갖는 화합물이고, 상기 (B)성분이 아민 화합물 또는 양이온 촉매인, 제1 내지 제6 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제8 실시양태는 상기 (A)성분이 환상 에테르기를 갖는 화합물인 경우, 상기 (A)성분 100질량부에 대하여, 상기 (B)성분의 잠재성 경화제가 1 내지 30질량부 포함되는, 제6 또는 제7 실시양태에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제9 실시양태는 상기 (C)성분의 금속이 2가 또는 3가의 금속인, 제1 내지 제8 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제10 실시양태는 상기 (C)성분이 알콕시기 및/또는 카르복실레이트기를 갖는 리간드로 이루어진 유기 금속 착체인, 제1 내지 제9 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제11 실시양태는 상기 (C)성분의 금속이, 아연, 알루미늄, 철, 코발트, 니켈, 주석 및 구리로 이루어진 군에서 선택되어 된 적어도 1종류인, 제1 내지 제10 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제12 실시양태는 상기 (D)성분이, 스테아르산에 의해 표면처리된 은가루 및 스테아르산에 의해 표면처리된 은도금가루에서 선택되어 된 적어도 1종류인, 제1 내지 제11 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제13 실시양태는 (A)성분 100질량부에 대하여, (D)성분이 100 내지 1000질량부 포함되는, 제1 내지 제12 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제14 실시양태는 환원제를 포함하지 않는, 제1 내지 제13 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 제15 실시양태는 최표면이 니켈인 피착체에 사용하는, 제1 내지 제14 실시양태 중 어느 하나에 기재된 열경화형 도전성 접착제이다.
본 발명의 열경화형 도전성 접착제는 (A)성분 : 경화성 수지, (B)성분 : 상기 (A)성분을 경화시키는 열경화제, (C)성분 : 유기 금속 착체, 및 (D)성분 : 도전성 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다. 이러한 구성을 가짐으로써, 피착체가 니켈 등인 경우에, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지에서 접속저항을 낮추는 동시에, 보존정성도 유지되며 취급성이 양호한 열경화형 도전성 접착제를 제공할 수 다.
이하, 본 발명의 열경화형 도전성 접착제(단순히 조성물이라고도 한다.)의 세부 사항을 설명한다. 본 발명에서 사용할 수 있는 (A)성분은 경화성 수지이며, 하기 (B)성분의 열경화제를 첨가한 조성물은 가열에 의해 경화한다. 경화성 수지란, (메타)아크릴기를 갖는 화합물을 들 수 있고, (메타)아크릴기를 갖는 우레탄 변성 올리고머, (메타)아크릴기를 1개 갖는 모노머, (메타)아크릴기를 2개 갖는 모노머, (메타)아크릴기를 3개 갖는 모노머, (메타)아크릴아미드 모노머 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 에폭시기, 지환식 에폭시기 및 옥세탄기 등의 환상 에테르기를 갖는 화합물 등을 가리킨다. 본 발명의 열경화형 도전성 접착제에서는 피착체가 니켈 등인 경우에도, (A)성분으로서 상기한 (메타)아크릴기를 갖는 화합물이나 환상 에테르기를 갖는 화합물 등의 여러 종류의 열경화형 경화성 수지에서 접속저항을 낮출 수 있으며, 보존안정성도 뛰어나다.
(메타)아크릴기를 갖는 화합물로서는 (메타)아크릴기를 갖는 우레탄 변성 올리고머나 에폭시 변성 올리고머 등의 변성 올리고머, 분자 내에 (메타)아크릴기를 하나 이상 갖는 모노머 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
(메타)아크릴기를 갖는 우레탄 변성 올리고머란, 폴리올과 폴리이소시아네이트에 의해 우레탄 결합을 형성하여, 미반응의 이소시아네이트기에 수산기와 (메타)아크릴기를 갖는 화합물이나 아크릴산을 부가시키는 합성 등에 의해 얻어져 된 것이 알려져 있다. 구체적인 예로서는 쿄에이샤화학 주식회사제의 AH-600, AT-600, UA-306H, UF-8001G, 다이셀오르넥스 주식회사제의 에베크릴(Ebecryl) 시리즈 220 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
(메타)아크릴기를 1개 갖는 모노머로서는 (메타)아크릴산, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼퓨릴(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로퍼퓨릴(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 노닐페닐폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 부틸(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 페녹시(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 프탈산(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 숙신산(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 애시드 포스페이트 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 특성을 해치지 않는 범위 내에서 분자 내에 (메타)아크릴기를 2개 이상 갖는 모노머를 첨가할 수 있는데, 도전성의 발현을 고려하면, 분자 내에 (메타)아크릴기를 2개 이상 갖는 모노머를 첨가하지 않는 편이 바람직하다.
(메타)아크릴기를 2개 갖는 모노머로서는, 1,3-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 S 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 디시클로펜테닐디(메타)아크릴레이트, 디아크릴로일이소시아누레이트 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
(메타)아크릴기를 3개 갖는 모노머로서는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
(메타)아크릴아미드 모노머의 구체적인 예로서는 디메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴로일모르폴린, 디에틸(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
에폭시기, 지환식 에폭시기 및 옥세탄기 등의 환상 에테르기를 갖는 화합물로서는, 에폭시 수지나 지환식 에폭시 수지나 옥세탄 수지 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들을 2 종류 이상 조합할 수도 있다.
에폭시 수지로서는, 1분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이 포함되는 것이 바람직하다. 1종류만 사용할 수도, 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 에폭시 수지의 구체적인 예로서는 에피클로로히드린과 비스페놀류 등의 다가 페놀이나 다가 알코올과의 축합에 의해 얻어지는 것으로, 예를 들면 비스페놀 A형, 브롬화 비스페놀 A형, 수소첨가 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 S형, 비스페놀 AF형, 비페닐형, 나프탈렌형, 플루오렌형, 노볼락형, 페놀노볼락형, 오르토 크레졸 노볼락형, 트리스(히드록시페닐)메탄형, 테트라페닐롤에탄형 등의 글리시딜에테르형 에폭시 수지를 예시할 수 있다. 기타 에피클로로히드린과 프탈산 유도체나 지방산 등의 카르복실산과의 축합에 의해 얻어지는 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 에피클로로히드린과 아민류, 시아눌산류, 히단토인류와의 반응에 의해 얻어지는 글리시딜아민형 에폭시 수지, 나아가서는 다양한 방법으로 변성한 에폭시 수지를 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
시판되고 있는 비스페놀형 에폭시 수지는 미쓰비시화학 주식회사제의 jER 시리즈로서 827, 828EL, YL983U 등을 들 수 있으며, DIC 주식회사의 EPICLON 시리즈로서 830, 에피클론 EXA-835LV 등을 들 수 있다. 신닛테츠스미킹 주식회사제의 에포토토 시리즈로서 YD-128, YDF-170 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 경화물의 물성을 고려하면, 비스페놀 A 골격, 비스페놀 F 골격을 갖는 에폭시 수지가 바람직하다. 또한, 시판되고 있는 글리시딜아민형 에폭시 수지로서는 주식회사 ADEKA제의 EP-3950S 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
또한, 1분자 내에 1개의 에폭시기를 갖는 화합물을 포함할 수도 있다. 해당 에폭시 수지는 일반적으로 반응성 희석제로도 불리우며, 구체적으로는 페닐글리시딜에테르, 크레실글리시딜에테르, p-tert-부틸페닐글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, C12~C14 알코올글리시딜에테르, 부탄디글리시딜에테르, 헥산디글리시딜에테르, 시클로헥산디메틸디글리시딜에테르, 또는 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜을 기반으로 하는 글리시딜에테르, 네오데칸산 글리시딜에스테르 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 반응성 희석제는 저점도화 및 경화성의 관점에서 1분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물과 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 시판되고 있는 1분자 내에 1개의 에폭시기를 갖는 화합물(반응성 희석제)로서는 니치유 주식회사제의 에피올 TB, MOMENTIVE사제의 CARDURA E10P 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
지환식 에폭시기를 갖는 화합물이란, 주로 에폭시시클로헥실기를 갖는 에폭시 화합물이다. 그 구체적인 예로서는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산온-m-디옥산, 비스(2,3-에폭시시클로펜틸)에테르 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
시판되고 있는 지환식 에폭시기를 갖는 화합물로서는 신에츠화학공업 주식회사제의 다관능 지환식 에폭시기 함유 실리콘 올리고머인 X-40-2670 등을 들 수 있다. 주식회사 다이셀제의 셀록사이드 시리즈로서 2021P 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
옥세탄기를 갖는 화합물의 구체적인 예로서는, 3-(메타)아크릴옥시메틸-3-에틸옥세탄, 이소보닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 이소보닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-에틸헥실(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜타디엔(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 등의 1관능 옥세탄 화합물, 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노네인, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 디시클로펜테닐비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]부탄, 1,6-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]헥산 등의 2관능 옥세탄 화합물, 트리메틸올프로판트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 등의 다관능 옥세탄 화합물을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 저점도화 및 경화성의 관점에서, 지환식 에폭시기를 갖는 화합물과 옥세탄기를 갖는 화합물을 조합하는 것이 바람직하다.
시판되고 있는 옥세탄기를 갖는 화합물로서는 토아고세이 주식회사제의 아론옥세탄 시리즈 OXT-211, OXT-221 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서 사용할 수 있는 (B)성분이란, (A)성분인 경화성 수지를 경화시키는 열경화제이다. (A)성분이 (메타)아크릴기를 갖는 화합물인 경우, (B)성분은 유기 과산화물이 바람직하고, (A)성분이 환상 에테르기를 갖는 화합물인 경우, (B)성분은 잠재성 경화제이며, (A)성분이 에폭시기, 지환식 에폭시기 및 옥세탄기로 이루어진 군에서 적어도 하나 선택되는 기를 갖는 화합물인 경우, (B)성분인 잠재성 경화제로서는 (열경화성을 갖는) 아민 화합물 또는 양이온 촉매가 바람직하다. 즉, 본 발명의 열경화형 도전성 접착제에서는, 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, 피착체가 니켈 등인 경우에도, 상기 (메타)아크릴기를 갖는 화합물이나 환상 에테르기를 갖는 화합물 등의 여러 종류의 열경화형 경화성 수지인 (A)성분에 대해, 열경화제인 (B)성분, 특히 상기한 (A)성분마다 최적화한 상기 열경화제, 이에 하기 (C)성분과 (D)성분을 조합함으로써 접속저항을 낮출 수 있으며, 보존안정성도 뛰어나다.
본 발명에서 사용할 수 있는 상기 유기 과산화물로서는 하기 일반식 1 구조의 유기 과산화물이 바람직하다. 특히 바람직하게는 하기 일반식 2 구조의 유기 과산화물이다. 이러한 유기 과산화물을 사용함으로써, 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, 상기한 접속저항을 낮추고, 보존안정성이 우수하다고 하는 효과를 보다 현저하게 발현할 수 있다. 여기서, R1과 R2는 각각 독립적인 탄화수소기를 가리키며, 선형이든 환형이든 좋다. 유기 과산화물로서는 디-n-프로필-퍼옥시디카보네이트, 디-iso-프로필-퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(2-에틸헥실)퍼옥시카보네이트, 디-sec-부틸-퍼옥시디카보네이트 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 1]
Figure 112019017369617-pct00001
상기 유기 과산화물의 구체적인 예로서는 니치유 주식회사제의 퍼로일 시리즈 NPP-50M, IPP-50, IPP-27, TCP, OPP, SBP 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
(A)성분이 (메타)아크릴기를 갖는 화합물인 경우, (A)성분의 총 100질량부에 대하여 (B)성분인 유기 과산화물을 1 내지 10질량부 포함하는 것이 바람직하고, 2 내지 9질량부 포함하는 것이 보다 바람직하며, 3 내지 8질량부 포함하는 것이 더욱 바람직하다. (B)성분이 1질량부 이상인 경우에는 저온경화성이 발현되며, 10질량부 이하인 경우에는 보존안정성을 유지할 수 있다.
상기 잠재성 경화제로서 열경화성을 갖는 아민 화합물은 분말 형태로 분쇄된 분체(粉體)를 들 수 있다. 즉, 25℃에서 액상인 에폭시 수지에 25℃에서 고체인 상기 경화제가 분산된 일액형 에폭시 수지에 있어, 시간 경과에 따른 점도 변화나 물성 변화가 적은 등의 보존안정성을 확보할 수 있는 경화제를 잠재성 경화제라고 한다. 구체적으로는, 실온에서 분체의 이미다졸 유도체나 에폭시 수지에 3차 아민을 부가시켜 반응을 도중에 멈추고 있는 에폭시 어덕트 화합물을 분쇄한 가루인 에폭시 어덕트형 잠재성 경화제 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 특히 바람직하게는, 상기 에폭시 어덕트형 잠재성 경화제이며, 시판되고 있는 것으로서는 아지노모토파인테크노 주식회사제의 아미큐어 시리즈나, 주식회사 T&K TOKA제인 후지큐어 시리즈(FXR-1081 등)나 아사히화성케미컬즈 주식회사제의 노바큐어 시리즈 등을 들 수 있다. 100℃ 이하에서 반응을 개시하는 아민 화합물인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 90℃ 이하이다.
상기 열경화성 양이온 촉매로서는 디노닐나프탈렌디술폰산, 디노닐나프탈렌술폰산, p-톨루엔술폰산, 육불화안티몬, 트리플루오로메탄술폰산, 퍼플루오로부탄술폰산, 비스(트리플루오로메탄술폰산)이미드, 테트라키스펜타플루오로페닐레이트보레이트(테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트; B(C6F5)4 -) 등의 양이온종과 아민, 4차 암모늄, 금속 등의 양이온종으로 이루어진 염이며, 이들에 한정되는 것은 아니다. 양이온 촉매의 구체적인 예로서는 KING INDUSTRIES사제의 K-PURE 시리즈 TAG-2713, CXC-1820, TAG-2172, TAG-2507, CXC-1612, CXC-1615, TAG-2678, CXC-1614, TAG-2689, CXC-2689C, TAG-2690, CXC-1742, CXC-1613, CXC-1821, CXC-1756, CXC-1765 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
(A)성분이 환상 에테르기를 갖는 화합물인 경우, (A)성분 100질량부에 대하여, (B)성분인 잠재성 경화제는 1 내지 30질량부가 바람직하고, 2 내지 26질량부가 보다 바람직하며, 3 내지 25질량부가 더욱 바람직하다. 1질량부 이상인 경우에는 경화성이 저하되지 않고, 30질량부 이하인 경우에는 보존안정성을 유지할 수 있다.
또한, 본 발명의 특성을 해치지 않는 범위에서, (A)성분이 환상 에테르기를 갖는 화합물인 경우에, 잠재성 경화제 외에 산무수물, 페놀 화합물, 티올 화합물 등의 경화제도 포함하여도 좋다. 통상적으로, 상기 액상 경화제를 단독으로 사용하여도 경화가 느리기 때문에, 잠재성 경화제를 경화촉진제로서 상기 액상 경화제와 함께 사용하는 것으로 알려져 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 (C)성분은 유기 금속 착체이다. 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, (C)성분을 첨가함으로써 최표면이 니켈인 피착체에 대한 접속저항이 저하된다. (C)성분에 포함되는 금속으로서는 2가 또는 3가의 금속이며, 구체적으로는 아연, 알루미늄, 철, 코발트, 니켈, 주석, 구리 등을 들 수 있다. 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, (C)성분으로서, 상기한 2가 또는 3가의 금속으로 이루어진 유기 금속 착체를 첨가함으로써, 최표면이 니켈인 피착체일지라도, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지에서 접속저항을 낮추는 동시에, 보존안정성이 우수하여, 더욱 뛰어난 취급성을 나타낼 수 있다. 또한, 본 발명은 (C)성분이 알콕시기 및/또는 카르복실레이트기를 갖는 유기 리간드로 이루어진 유기 금속 착체인 것이 바람직하다. 상세하게는, 상기 (유기)리간드로서는 아세테이트, 아세틸아세테이트, 헥사노에이트, 프탈로시아노에이트 등을 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, (C)성분으로서 상기 유기 리간드로 이루어진 유기 금속 착체를 첨가함으로써, 최표면이 니켈인 피착체일지라도, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지에서 접속저항을 낮추는 동시에, 보존안정성이 우수하여, 보다 우수한 취급성을 나타낼 수 있다.
(C)성분으로서는 올레산구리(2가), 아연아세틸아세테이트(아연아세틸아세토네이트)(2가), 알루미늄아세틸아세테이트(알루미늄아세틸아세토네이트)(3가), 코발트아세틸아세테이트(코발트아세틸아세토네이트)(2가), 니켈아세테이트(2가), 니켈아세틸아세테이트(니켈아세틸아세토네이트)(2가), 철 프탈로시아닌(2가), 디부틸주석디라우레이트(2가) 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
시판되고 있는 (C)성분의 유기 금속 착체로서는 닛폰화학학산업 주식회사제의 나세무 아연(아연아세틸아세토네이트(2가)), 나세무 알루미늄(알루미늄아세틸아세토네이트(3가)), 나세무 제2코발트(코발트아세틸아세토네이트(2가)), 나세무 니켈(니켈아세틸아세토네이트(2가)) 등을 들 수 있다. 또한, 쿄도약품 주식회사제의 KS-1260(디부틸주석디라우레이트(2가)) 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
(C)성분의 구체적인 예는 니혼카가쿠산교 주식회사제의 아세틸아세톤 금속 착체 시리즈로서 나세무 Zn, 나세무 AL, 나세무 Co, 나세무 Ni 등을 들 수 있으며, 옥틸산 금속비누 시리즈로서 쿄도약품 주식회사제의 KS-1260 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
(B)성분 100질량부에 대하여 (C)성분이 0.01 내지 20질량부 포함되는 것이 바람직하고, 0.1 내지 15질량부 포함되는 것이 더욱 바람직하며, 0.5 내지 10질량부 포함되는 것이 특히 바람직하다. (C)성분이 0.01질량부 이상 포함되면 접속저항이 저감되며, (C)성분이 20질량부 이하이면 보존안정성을 유지할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 (D)성분은 도전성 입자이다. 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, 스테아르산에 의해 표면처리된 도전성 입자는 보존안정성을 향상시키는 효과가 있기 때문에, (D)성분으로서 스테아르산에 의해 표면처리한 도전성 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 도전성 입자로서는 전기전도성을 발현하면 되며, 입자의 재질, 입자의 형상은 한정되지 않는다. 도전성 입자의 재질로서는 은가루, 니켈 가루, 팔라듐 가루, 카본 가루, 텅스텐 가루, 도금 가루 등을 들 수 있으며, 특히 전기전도성이 우수한 은가루가 바람직하다. 또한, 도전성 입자의 형상으로서는 구형, 부정형, 플레이크형(인편상(鱗片狀)), 필라멘트형(침상(針狀)) 및 수지상(樹枝狀) 등을 들 수 있다. 복수의 종류를 혼합하여 사용하여도 좋다. 특히, 원료 원가가 저렴하기 때문에, 절연성 산화 금속, 니켈 가루 또는 절연체의 분체를 은도금처리한 도전성 입자가 바람직하다. 절연성 산화 금속이란, 구체적으로 구리 가루, 알루미늄 가루 또는 철가루 등을 들 수 있으며, 금속 표면에 부동태가 형성되어 있어 도전성이 발현되지 않는 금속이다. 수지 성분에 혼련하기 위해서는 50% 평균입경(d50)이 100μm 이하인 것이 바람직하다. (D)성분으로서는 비용과 도전성을 고려하면, 스테아르산에 의해 표면처리된 은가루 및 스테아르산에 의해 표면처리된 은도금가루 중 적어도 1종류인 것이 바람직하다. 여기서, 평균입경은 레이저 입도계나 SEM 등에 의해 계측되는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
스테아르산 등의 윤활제에 의한 도전성 입자의 표면처리방법으로서는 용제에 희석한 스테아르산을 도전성 입자와 함께 볼밀 등으로 처리한 후에 용제를 건조시키는 방법 등이 알려져 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
(A)성분 100질량부에 대하여, (D)성분을 100 내지 1000질량부 포함하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 200 내지 600질량부이다. (D)성분이 100질량부 이상인 경우에는 도전성이 발현되고, 1000질량부 이하인 경우에는 실 끌림(cobwebbing) 등이 발생하지 않아 작업성에 문제가 발생하지 않는다.
또한, 본 발명의 특성을 해치지 않는 범위에서, (E)성분으로서 안정제를 첨가하여도 좋다. (A)성분이 (메타)아크릴기를 갖는 화합물인 경우, (E)성분으로서 인산에스테르 화합물, 중합금지제 및 킬레이트제 등이 포함되는데, 이에 한정되는 것은 아니다. 발생한 라디칼종을 포착함으로써 보존안정성을 유지하기 위하여 중합금지제를 사용할 수도 있다. 또한, 발생한 금속 이온을 포착하기 위해 킬레이트제를 사용할 수 있다.
(A)성분이 (메타)아크릴기를 갖는 화합물인 경우에는, (E)성분으로서 인산에스테르 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 하기 일반식 3과 같은 화합물이다. 여기서, R3은 유기기를 나타내고, n은 1 또는 2를 나타낸다. 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, 인산에스테르 화합물은 보존안정성을 향상시키는 효과가 있다. (E)성분의 인산에스테르 화합물로서는 에틸 애시드 포스페이트, 부틸 애시드 포스페이트, 부톡시에틸 애시드 포스페이트, 올레일 애시드 포스페이트, 2-에틸헥실 애시드 포스페이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 애시드 포스페이트, 디부틸포스페이트 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다. (E)성분의 인산에스테르 화합물로서는 하기 일반식 4와 같은 분자 내에 (메타)아크릴기를 갖는 인산에스테르 화합물인 것이 바람직하다. 여기서, R4는 수소 또는 메틸기를 나타내고, R5는 2가의 탄화수소기를 나타내며, n은 1 또는 2를 나타낸다. 일반식 4의 화합물을 사용함으로써, 경화시에 라디칼 중합에 관여하기 때문에, 경화물이 가열될 때에 경화물 밖으로 휘발하는 일이 없어, 아웃 가스를 저감시킬 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112019017369617-pct00002
(E)성분의 중합금지제의 구체적인 예로서는, 히드로퀴논, 메톡시히드로퀴논, 벤조퀴논, p-tert-부틸카테콜 등의 퀴논계 중합금지제, 2,6-디-tert-부틸페놀, 2,4-디-tert-부틸페놀, 2-tert-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀(BHT), 2,4,6-트리-tert-부틸페놀 등의 알킬페놀계 중합금지제, 알킬화디페닐아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, 페노티아진, 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-벤조일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1,4-디히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-히드록시-4-벤조일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 등의 아민계 중합금지제, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-N-옥실, 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-N-옥실, 4-벤조일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-N-옥실 등의 N-옥실계 중합금지제 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
(E)성분의 킬레이트제의 구체적인 예로서는 주식회사 도진화학연구소제의 EDTA·2Na, EDTA·4Na(4NA : 에틸렌디아민-N,N,N',N'-테트라아세트산사나트륨염 사수화물) 등을 들 수 있으며, 25℃에서 액상인 킬레이트제로서는 키레스토주식회사제의 MZ-8 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
(A)성분이 환상 에테르기를 갖는 화합물인 경우, (E)성분으로 반응억제제를 안정제로서 첨가할 수 있다. 반응억제제란, (A)성분과 (B)성분의 반응을 억제하는 화합물이며, 붕산에스테르, 인산, 알킬인산에스테르, p-톨루엔술폰산, p-톨루엔술폰산 메틸 등을 사용할 수 있다. 상기 붕산에스테르로서는, 트리부틸보레이트, 트리메톡시보록신, 붕산에틸, 에폭시-페놀-붕산에스테르 배합물(시코쿠화성공업 주식회사제의 큐어덕트 L-07N) 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 상기 알킬인산에스테르로서는 인산트리메틸, 인산트리부틸 등을 사용할 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. (E)성분은 단독으로 사용할 수도, 복수 종류를 혼합하여 사용할 수도 있다. 보존안정성을 고려하면, 인산, 트리부틸보레이트(붕산트리부틸), 트리메톡시보록신, p-톨루엔술폰산 메틸인 것이 바람직하다.
(E)성분의 안정제는 첨가량이 너무 많으면 보존안정성이 좋아지는 반면, 반응속도가 느려지거나 경화되지 않는 등의 폐해가 발생하기 때문에, (A)성분 100질량부에 대하여, (E)성분을 0.001 내지 5.0질량부 첨가하는 것이 바람직하고, 0.01 내지 4.5질량부 첨가하는 것이 보다 바람직하며, 0.1 내지 4.0질량부 첨가하는 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 특성을 해치지 않는 범위 내에서 (D)성분의 도전성 입자 이외의 충전제를 첨가할 수 있다. (D)성분의 도전성 입자 이외의 충전제는 무기 충전제나 유기 충전제 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 무기 충전제로서, 도전성을 발현하지 않는 금속 가루(분체 표면이 산화에 의한 부동태를 형성한 금속 가루), 알루미나 가루, 탄산칼슘 가루, 탈크 가루, 실리카 가루, 흄드 실리카 가루 등을 들 수 있으며, 유기 충전제로서는 아크릴 입자, 고무 입자, 스티렌 입자 등(충전제로서 그대로 분산시켜 사용하는 입자 재료)을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 상기 충진제를 첨가함으로써 점도나 칙소성을 제어할 수 있음과 동시에, 강도의 향상을 도모할 수 있다. 평균입경이나 형상 등의 분체 특성에 대해서는 특별히 한정은 없지만, 조성물로의 분산 용이성 및 노즐 막힘을 고려하면, 50% 평균입경(d50)은 0.001 내지 50μm가 바람직하다. 특히, 흄드 실리카 가루는 첨가함으로써 칙소성을 부여함과 아울러, 보존안정성도 유지할 수 있다. 흄드 실리카 가루의 구체적인 예로서는 일본 아에로질 주식회사제의 AEROSIL R805, R972 등을 들 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다. 여기서, 평균입경은 레이저 입도계나 SEM 등에 의해 측정되는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
(A)성분 100질량부에 대하여, (D)성분 이외의 충전제는 0.1 내지 10질량부 첨가되는 것이 바람직하다. 충전제가 0.1질량부 이상인 경우에는 유동성을 안정화하는 동시에 작업성을 향상시킬 수 있으며, 10질량부 이하인 경우에는 보존안정성을 유지할 수 있다.
본 발명의 조성물(열경화형 도전성 접착제)에는 본 발명의 특성을 해치지 않는 범위에서 안료, 염료 등의 착색제, 난연제, 산화방지제, 소포제, 커플링제, 레벨링제, 레올로지 컨트롤제 등의 첨가제를 적량 배합하여도 좋다. 이들 첨가에 의해 도전성, 수지강도, 접착강도, 작업성, 보존안정성 등이 뛰어난 접착제 또는 그 경화물이 얻어진다. 단, 점성이 높아져서 실 끌림 등 작업성에 지장이 발생하기 때문에, 고무, 엘라스토머 및 열가소성 수지(아크릴이나 에폭시와 용해(상용)시켜 사용하는 재료)를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기에서, 고무로서는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들어, 천연 고무; 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 클로로프렌 고무, 니트릴 고무, 폴리이소부틸렌(부틸 고무), 에틸렌프로필렌 고무, 클로로술폰화 폴리에틸렌, 아크릴 고무, 불소 고무, 에피클로로히드린 고무, 우레탄 고무, 실리콘 고무 등의 합성 고무를 들 수 있다. 엘라스토머로서는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 스티렌계, 올레핀/알켄계, 염화비닐계, 우레탄계, 아미드계 등의 (열가소성)엘라스토머를 들 수 있다. 열가소성 수지로서는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리알킬렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리아세트산비닐, 폴리우레탄, 폴리테트라플루오로에틸렌, ABS 수지(아크릴로니트릴부타디엔스티렌 수지), AS 수지, 아크릴 수지, 폴리아미드, 폴리아세탈, 폴리카보네이트, 변성 폴리페닐렌에테르, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 글래스 파이버 강화 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 환상 폴리올레핀, 폴리페닐렌술파이드, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 비정질 폴리아릴레이트, 액정 폴리머, 폴리에테르에테르케톤, 열가소성 폴리이미드, 폴리아미드이미드 등을 들 수 있다. 이들은 상기한 바와 같이 모두 아크릴이나 에폭시와 용해(상용)시켜 사용하는 재료이다.
또한, 본 발명의 열경화형 도전성 접착제에는 환원제를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 상기 구성을 갖는 본 발명의 열경화형 도전성 접착제에서는, 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, 환원제를 포함하지 않더라도, 피착체가 니켈 등인 경우에도, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지를 이용하여 접속저항을 낮출 수 있기 때문이다. 여기서, 환원제로서는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 철(II) 이온, 수소화 알루미늄리듐(LiAlH4), 나트륨 아말감, 수소화 붕소나트륨(NaBH4), 주석(II) 이온, 아황산염, 히드라진(Wolf-Kishner 환원), 아연 아말감(Zn(Hg))(Clemmensen 환원), 수소화 디이소부틸알루미늄(DIBAH), 옥살산(C2H2O4), 포름산(HCOOH), 몰식자산(3,4,5-트리히드록시벤조산) 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 열경화형 도전성 접착제는 최표면이 니켈인 피착체에 사용하는 것이 바람직하다. 상기 구성을 갖는 본 발명의 열경화형 도전성 접착제에서는 명확한 이유는 알려져 있지 않지만, 최표면이 니켈인 피착체일지라도, 여러 종류의 열경화형 경화성 수지에서 접속저항을 낮추는 동시에, 보존안정성이 우수하여, 더욱 뛰어난 취급성을 나타낼 수 있기 때문이다. 여기서, 최표면이 니켈인 피착체로서는 특별히 제한되는 것은 아니며, 주로 니켈 도금을 실시한 것으로, 예를 들면, SPCC(냉간압연강판), 스테인레스, 구리제의 부재에 대해 전해 도금이나 무전해 도금을 실시한 것(전선, 인쇄회로기판 등)을 들 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명의 기술적 범위는 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 이하, 조제한 열경화형 도전성 접착제를 단순히 조성물이라고도 부른다.
[실시예 1 내지 10, 비교예 1]
실시예 1 내지 10 및 비교예 1의 조성물을 조제하기 위해, 하기 성분을 준비하였다.
(A)성분 : 경화성 수지
·(메타)아크릴기를 갖는 우레탄 변성 올리고머이며, 분자 내에 관능기수(아크릴기)를 6개 갖는 방향족 우레탄아크릴레이트(에베크릴(Ebecry) 220, 다이셀오르넥스 주식회사제)
·2-히드록시에틸메타크릴레이트(HEMA, 닛폰쇼쿠바이 주식회사제)
(B)성분 : (A)성분을 경화시키는 열경화제
·비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트(25℃에서 고체)(퍼로일 TCP, 니치유 주식회사제) (상기 일반식 2 구조의 유기 과산화물 1종)
(C)성분 : 유기 금속 착체
·아연아세틸아세토네이트(2가)(나세무 아연, 니혼카가쿠산교 주식회사제)
·알루미늄아세틸아세토네이트(3가)(나세무 알루미늄, 니혼카가쿠산교 주식회사제)
·철 프탈로시아닌(2가) 시약
·코발트아세틸아세토네이트(2가)(나세무 제2코발트, 니혼카가쿠산교 주식회사제)
·니켈아세틸아세토네이트(2가)(나세무 니켈, 니혼카가쿠산교 주식회사제)
·니켈아세테이트(2가) 시약
·디부틸주석디라우레이트(2가)(KS-1260, 쿄도약품 주식회사제)
·올레산구리(2가) 시약
(D)성분 : 도전성 입자
·은가루 1 : 하기의 분체 특성을 갖는 스테아르산에 의해 표면처리된 플레이크형 은가루
탭 밀도 : 3.17g/cm3
　　 50% 평균입경(d50) : 5.0μm(레이저 입도계)
BET 비표면적 : 0.67m2/g
·은가루 2 : 하기의 분체 특성을 갖는 스테아르산에 의해 표면처리된 플레이크형 은가루
탭 밀도 : 3.57g/cm3
50% 평균입경(d50) : 1.2μm(레이저 입도계)
BET 비표면적 2.01m2/g
기타 성분; (E)성분 : 안정제
·2-히드록시에틸메타크릴레이트 애시드 포스페이트(JPA-514, 죠호쿠화학공업 주식회사제)
·2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀(BHT)(시약)
·에틸렌디아민-N,N,N',N'-테트라아세트산사나트륨염 수화물(25℃에서 고체)(4NA(EDTA·4Na), 주식회사 도진화학연구소제).
(메타)아크릴기를 갖는 화합물을 (A)성분으로 하는 실시예 1 내지 10 및 비교예 1의 조성물을 조제하였다. 상세하게는 (A)성분, (B)성분, (C)성분 및 기타 성분인 (E)성분을 칭량하여 교반솥에 투입한 후, 1시간 동안 교반하였다. 그 후, (D)성분을 칭량하여 교반솥에 투입하고, 실시예 1 내지 10 및 비교예 1의 조성물(열경화형 도전성 접착제로서의 (메타)아크릴수지 조성물)을 조제하였다. 또한, (B)성분 100질량부에 대한 (C)성분의 첨가량도 합쳐 표 1-1 내지 1-2에 표기한다. 상세한 조제량은 표 1-1 내지 1-2에 따르며, 수치는 전부 질량부로 표기한다.
[표 1-1]
Figure 112019017369617-pct00003
[표 1-2]
Figure 112019017369617-pct00004
실시예 1 내지 10, 비교예 1의 조성물(또는 그 경화물)에 대해, 보존안정성 확인, 체적저항률 측정, 접속저항 측정을 실시하였다. 그 결과를 표 2-1 내지 2-2에 정리하였다.
[보존안정성 확인]
폴리테트라플루오로에틸렌제의 봉으로 교반한 후에 조성물을 2.0cc 계량하여, 온도조절장치에 의해 25℃로 설정한 상태에서 브룩필드(모델번호 : DV-2 + Pro)를 이용하여 점도를 측정하였다. 측정 조건으로서, 콘 로터에는 CPE-41(3°×R2.4)을 사용하고, 회전 속도는 10rpm으로 하여 실시하였다. 3분 후의 점도를 "초기점도(Pa·s)"로 한다. 그 후, 조성물을 넣은 용기를 25℃ 분위기 하에 보관하여, 초기점도의 2배 이상의 점도(증점하지 않았어도 조성물의 내부에 겔화물이 발생하는 상태도 포함)가 될 때까지 점도 측정을 실시하였다. 보관 개시부터 24시간마다 점도를 측정하여, 초기점도의 측정과 동일한 방법으로 점도 측정을 실시하였다. 점도가 초기점도의 2배 이상으로 증점한 시점에서 안정성을 훼손한다고 판단하여, 2배가 된 시간의 앞 시간을 "보존안정성(시간)"으로 하였다. 48시간 이상의 보존안정성을 유지하는 것이 바람직하며, 72시간 이상의 보존안정성을 유지하는 것이 보다 바람직하다.
[체적저항률 측정]
두께 2.0mm×폭 50mm×길이 100mm의 글래스판 위에, 길이 100mm×폭 10mm이 되도록 마스킹 테이프(50μm 두께)를 부착하고, 조성물(열경화형 도전성 접착제)를 스퀴징하여 균일한 도막을 형성함으로써 시험편(test piece)을 제작하였다(n=2). 130℃로 설정한 핫 플레이트에 시험편을 정치하여 30초간 방치한 후, 핫 플레이트로부터 시험편을 분리하였다. 시험편의 온도가 25℃로 내려간 후에, 판상의 전극을 붙인 듀얼 디스플레이 멀티미터를 사용하여, 전극간의 거리가 50mm인 상태에서 "저항값(Ω)"을 측정하였다. (저항값)×(조성물의 경화물의 폭×조성물의 경화물의 두께(단면적))/(전극간의 거리)로부터 체적저항률을 계산하여 "도전성(×10-6Ω·m)"으로 하였다. 도전성을 확보하는 관점에서, 도전성은 1000×10-6Ω·m 이하인 것이 바람직하다.
[접속저항 측정]
폭 10mm 및 두께 100μm의 마스킹 테이프에 길이방향을 따라 10mm 간격으로 직경 5mm×5개의 구멍을 뚫었다. 폭 25mm×길이 100mm×두께 1.6mm의 무전해 니켈 도금판에 해당 마스킹 테이프를 부착하여 조성물(열경화형 도전성 접착제)를 스퀴징한 후, 마스킹 테이프를 벗겨내었다. 130℃로 설정한 핫 플레이트에 시험편를 정치하여 30초간 방치한 후, 핫 플레이트로부터 시험편을 분리하였다. 서로 이웃하는 조성물의 경화물에 듀얼 디스플레이 멀티미터의 침상 전극을 접촉시켜 저항을 측정하여 "접속저항(mΩ)"으로 하였다. 도전성의 안정화에는 접속저항은 100mΩ 이하인 것이 바람직하다.
[표 2-1]
Figure 112019017369617-pct00005
[표 2-2]
Figure 112019017369617-pct00006
(메타)아크릴기를 갖는 화합물을 (A)성분으로 하는 실시예 1 내지 10과 비교예 1을 비교하면, (C)성분의 유무에 의해 피착체 계면에서의 접속저항값이 크게 다름을 알 수 있다. 한편, 조성물의 경화 전의 보존안정성 및 경화 후의 도전성에 관해서는, 실시예 및 비교예에서 차이는 없다.
[실시예 11 내지 14, 비교예 2 내지 3]
실시예 11 내지 14 및 비교예 2 내지 3의 조성물을 조제하기 위해, 하기 성분을 준비하였다.
(A)성분 : 경화성 수지
·3-에틸-3 페녹시메틸옥세탄(아론옥세탄 OXT-211, 토아고세이 주식회사제)
·3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄(아론옥세탄 OXT-221, 토아고세이 주식회사제)
·다관능 지환식 에폭시기 함유 실리콘 올리고머(X-40-2670, 신에츠화학공업주식회사제)
·3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(세록사이드 2021P, 주식회사 다이셀제)
·글리시딜아민형 에폭시 수지(EP-3950S, 주식회사 ADEKA제)
·비스페놀 F형 에폭시 수지(에피클론 EXA-835LV, DIC 주식회사제)
·p-tert-부틸페닐글리시딜에테르(에피올 TB, 니치유 주식회사제)
·네오데칸산글리시딜에스테르(CARDURA E10P, MOMENTIVE사제)
(B)성분 : (A)성분을 경화시키는 열경화제
·음이온종이 테트라키스펜타플루오로페닐레이트 보레이트(테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트); B(C6F5)4 -으로 양이온종이 4차 암모늄의 염(K-PURE CXC-1821, KING INDUSTRIES사제)
·25℃에서 고체인 변성 아민 화합물로 이루어진 잠재성 경화제(후지큐어-FXR-1081, 주식회사 T&K TOKA제)
(C)성분 : 유기 금속 착체
·아연아세틸아세토네이트(2가)(나세무 아연, 니혼카가쿠산교 주식회사제)
·니켈아세틸아세토네이트(2가)(나세무 니켈, 니혼카가쿠산교 주식회사제)
·올레산구리(2가) 시약
(D)성분 : 도전성 입자
·은가루 1 : 하기의 분체 특성을 갖는 스테아르산에 의해 표면처리된 플레이크형 은가루
탭 밀도 : 3.17g/cm3
50% 평균입경(d50) : 5.0μm(레이저 입도계)
BET 비표면적 : 0.67m2/g
·은가루 3 : 하기의 분체 특성을 갖는 구형 은가루　
탭 밀도 : 6.1g/cm3
50% 평균입경(d50) : 3.5μm(레이저 입도계)
BET 비표면적 : 0.2m2/g
·은가루 4 : 하기의 분체 특성을 갖는 프레이크형 은가루
탭 밀도 : 5.0g/cm3
　　 50% 평균입경(d50) : 5.7μm(레이저 입도계)
BET 비표면적 : 0.4m2/g
기타 성분 : 안정제; (E)성분
·에폭시-페놀-붕산에스테르 배합물(큐어덕트 L-07N, 시코쿠화성공업 주식회사제).
환상 에테르기를 갖는 화합물을 (A)성분으로 하는 실시예 11 내지 14, 비교예 2 내지 3을 조제하였다. 상세하게는 (A)성분, (B)성분, (C)성분 및 기타 성분인 (E)성분을 칭량하여 교반솥에 투입한 후, 1시간 동안 교반하였다. 그 후, (D)성분을 칭량하여 교반솥에 투입하며, 실시예 11 내지 14 및 비교예 2 내지 3의 조성물(열경화형 도전성 접착제로서의 에폭시 수지 조성물)을 조제하였다. 상세한 조제량은 표 3에 따르며, 수치는 전부 질량부로 표기한다.
[표 3]
Figure 112019017369617-pct00007
실시예 11 내지 14, 비교예 2 내지 3의 조성물(또는 그 경화물)에 대해, 상기의 보존안정성 확인, 상기의 체적저항률 측정, 상기의 접속저항 측정을 실시하였다. 단, 체적저항률 측정 및 접속저항 측정에 있어서의 조성물의 경화조건을 120℃ 설정에서 20초간 가열한 후, 80℃ 설정에서 30분간 가열하는 조건으로 한다. 그 결과를 표 4에 정리하였다.
[표 4]
Figure 112019017369617-pct00008
환상 에테르기를 갖는 화합물을 (A)성분으로 하는 실시예 11 내지 14와 비교 예 2 내지 3을 비교하면, (C)성분의 유무에 따라 피착체 계면에서의 접속저항값이 크게 다름을 알 수 있다. 한편, 조성물의 경화 전의 보존안정성 및 경화 후의 도전성에 관해서는 실시예 및 비교예에서 차이는 없다. 본 실시예 1 내지 14에서는 표 2와 표 4의 결과로부터, (A)성분과 (B)성분에 관계없이 접속저항값의 저감을 볼 수 있으며, 조성물로 회로를 구성했을 때에 회로저항의 저감을 도모할 수 있다.
근래, 전기·전자 부품의 하우징에 니켈 등을 사용하는 경우가 많다. 해당 금속은 접속저항값이 높아져 회로저항의 상승을 초래하였었는데, 본 발명에 의해 접속저항값을 낮출 수 있다. 또한, 보존안정성도 유지되어 장시간의 토출작업 중에 토출량이 변화하는 일이 없을 뿐만 아니라, 단시간 경화에 의해 피착체에 가열로 인한 데미지를 감소시킬 수 있다. 이러한 특성으로부터, 본 발명은 다양한 전기·전자 부품 등의 조립에 사용할 수 있으며, 넓은 용도로 전개될 가능성이 있다.
본 출원은 2016년 9월 6일에 출원된 일본 특허출원 제2016-173765호에 기초하고 있으며, 그 개시내용은 참조로서 전체적으로 인용되어 있다.

Claims (17)

  1. (A) 내지 (E) 성분을 포함하는 열경화형 도전성 접착제 ;
    (A)성분 : 경화성 수지인 (메타)아크릴기를 갖는 화합물
    (B)성분 : (A)성분을 경화시키는 열경화제
    (C)성분 : 유기 금속 착체
    (D)성분 : 도전성 입자
    (E)성분 : 안정제
    여기서, 상기 (E) 성분은 킬레이트제를 포함한다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (B)성분은 하기 구조의 유기 과산화물인 열경화형 도전성 접착제.
    [화학식 1]
    Figure 112022031924513-pct00009

    (여기서, R1은 각각 독립적인 탄화수소기를 나타낸다.)
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 (B)성분이 하기 구조의 유기 과산화물인 열경화형 도전성 접착제.
    [화학식 2]
    Figure 112022031924513-pct00010

    (여기서, R2은 각각 독립적인 탄화수소기를 나타낸다.)
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 (A)성분의 총 100질량부에 대하여 상기 (B)성분이 1 내지 10질량부 포함되는 열경화형 도전성 접착제.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 (B)성분 100질량부에 대하여 상기 (C)성분이 0.1 내지 10질량부 포함되는 열경화형 도전성 접착제.
  6. (A) 내지 (D) 성분을 포함하는 열경화형 도전성 접착제 ;
    (A)성분 : 경화성 수지인 에폭시기를 갖는 화합물
    (B)성분 : (A)성분을 경화시키는 열경화제인 에폭시 어덕트형 잠재성 경화제
    (C)성분 : 금속이 니켈인 유기 금속 착체
    (D)성분 : 도전성 입자
  7. 삭제
  8. 제6항에 있어서,
    상기 (A)성분 100질량부에 대하여, 상기 (B)성분이1 내지 30질량부 포함되는 열경화형 도전성 접착제.
  9. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (C)성분의 금속이 2가 또는 3가의 금속인 열경화형 도전성 접착제.
  10. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (C)성분은 알콕시기 및/또는 카르복실레이트기를 갖는 리간드로 이루어진 유기 금속 착체인 열경화형 도전성 접착제.
  11. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (C)성분의 금속은 아연, 알루미늄, 철, 코발트, 니켈, 주석 및 구리로 이루어진 군에서 선택되어 된 적어도 1종류인 열경화형 도전성 접착제.
  12. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (D)성분은 스테아르산에 의해 표면처리된 은가루 및 스테아르산에 의해 표면처리된 은도금가루에서 선택되어 된 적어도 1종류인 열경화형 도전성 접착제.
  13. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    (A)성분 100질량부에 대하여, (D)성분이 100 내지 1000질량부 포함되는 열경화형 도전성 접착제.
  14. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    환원제를 포함하지 않는 열경화형 도전성 접착제.
  15. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    최표면이 니켈인 피착체에 사용하는 열경화형 도전성 접착제.
  16. 제6항에 있어서,
    (E)성분 : 안정제를 더 포함하는 열경화형 도전성 접착제.
  17. 제1항, 제2항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    고무, 엘라스토머 및 열가소성 수지를 포함하지 않는 열 경화형 도전성 접착제.
KR1020197004891A 2016-09-06 2017-08-17 열경화형 도전성 접착제 KR102396869B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2016-173765 2016-09-06
JP2016173765 2016-09-06
PCT/JP2017/029567 WO2018047597A1 (ja) 2016-09-06 2017-08-17 熱硬化型導電性接着剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190046799A KR20190046799A (ko) 2019-05-07
KR102396869B1 true KR102396869B1 (ko) 2022-05-10

Family

ID=61561548

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020197004891A KR102396869B1 (ko) 2016-09-06 2017-08-17 열경화형 도전성 접착제

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10982120B2 (ko)
JP (1) JP6989785B2 (ko)
KR (1) KR102396869B1 (ko)
CN (1) CN109661447B (ko)
WO (1) WO2018047597A1 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3943563A4 (en) * 2019-03-18 2022-04-20 ThreeBond Co., Ltd. ADHESIVE COMPOSITION, CURED MATERIAL AND COMPOSITE
US20230102259A1 (en) * 2020-03-23 2023-03-30 Threebond Co., Ltd. Epoxy resin composition
EP3943564A1 (en) * 2020-07-21 2022-01-26 Henkel AG & Co. KGaA Room temperature stable, electrically conductive 1k epoxy formulation
WO2022075370A1 (ja) * 2020-10-07 2022-04-14 昭和電工マテリアルズ株式会社 回路接続用接着剤フィルム、回路接続用材料、並びに回路接続構造体及びその製造方法
DE102021122835A1 (de) 2021-09-03 2023-03-09 Delo Industrie Klebstoffe Gmbh & Co. Kgaa Warmhärtende Masse auf Basis von (Meth)Acrylaten und Peroxodicarbonaten
CN114276768B (zh) * 2021-12-29 2023-05-23 烟台德邦科技股份有限公司 一种低模量、高强度、快速固化导电胶及其制备方法
WO2023199925A1 (ja) * 2022-04-15 2023-10-19 株式会社スリーボンド 導電性樹脂組成物およびその硬化物
WO2023242807A1 (en) * 2022-06-17 2023-12-21 Ricoh Company, Ltd. Curable composition for forming adhesive structure, adhesive structure, method of manufacturing adhesive structure, and semiconductor device
US11712873B1 (en) * 2022-06-30 2023-08-01 CreateMe Technologies LLC Boronate adhesives for apparel products
US11732159B1 (en) 2022-06-30 2023-08-22 CreateMe Technologies LLC Methods of disassembling apparel products having boronate adhesives
CN115260955B (zh) * 2022-07-26 2024-04-19 深圳市计量质量检测研究院 一种含导电助剂的银导电胶及其制备方法与应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003533581A (ja) 2000-05-18 2003-11-11 ヘンケル ロックタイト コーポレイション マグネシウム合金などの不動態基材接合用接着剤組成物
JP2010100852A (ja) 2008-10-22 2010-05-06 Tesa Se 熱架橋性ポリアクリレートおよびその製造方法
JP2013253151A (ja) * 2012-06-06 2013-12-19 Hitachi Chemical Co Ltd 回路接続用接着フィルム、並びに回路部材の接続構造体及びその製造方法
JP2016060761A (ja) 2014-09-16 2016-04-25 デクセリアルズ株式会社 異方性導電接着剤、及び接続構造体の製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69919004T2 (de) * 1998-08-21 2005-03-24 Hitachi Chemical Co., Ltd. Pastenzusammensetzung, schutzfilm und daraus hergestellte halbleitervorrichtung
JP3669180B2 (ja) 1998-10-22 2005-07-06 株式会社スリーボンド 接続抵抗値を改善する導電性組成物
JP2004018715A (ja) 2002-06-18 2004-01-22 Hitachi Chem Co Ltd 樹脂ペースト組成物及びこれを用いた半導体装置。
JP4986725B2 (ja) * 2007-06-13 2012-07-25 株式会社Ａｄｅｋａ 複合材料
JP2009070724A (ja) 2007-09-14 2009-04-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd 導電性ペースト
JP4700082B2 (ja) * 2008-05-26 2011-06-15 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社 電気装置
JP5394084B2 (ja) * 2009-01-28 2014-01-22 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 銀メッキ銅微粉及び銀メッキ銅微粉を用いて製造した導電ペースト並びに銀メッキ銅微粉の製造方法
SG191137A1 (en) * 2011-01-31 2013-07-31 Sumitomo Bakelite Co Resin composition and semiconductor device
JP2012046757A (ja) * 2011-09-28 2012-03-08 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着剤及びこれらを用いた回路接続方法、接続体
JP5886588B2 (ja) * 2011-10-18 2016-03-16 デクセリアルズ株式会社 導電性接着剤、並びに、それを用いた太陽電池モジュール、及びその製造方法
JP5960408B2 (ja) 2011-10-28 2016-08-02 デクセリアルズ株式会社 導電性接着剤、太陽電池モジュール、及び太陽電池モジュールの製造方法
CN103923578A (zh) * 2013-01-10 2014-07-16 杜邦公司 包括含氟弹性体的导电粘合剂
JP6292808B2 (ja) * 2013-09-13 2018-03-14 デクセリアルズ株式会社 接着剤、及び発光装置
JP6405867B2 (ja) 2013-12-16 2018-10-17 日立化成株式会社 樹脂ペースト組成物及び半導体装置
JP6456134B2 (ja) 2014-12-23 2019-01-23 ナミックス株式会社 導電性樹脂組成物、ディスペンス用導電性樹脂組成物、ダイアタッチ剤、および半導体装置
JP6091019B2 (ja) * 2015-02-02 2017-03-08 田中貴金属工業株式会社 熱伝導性導電性接着剤組成物
JP2016048807A (ja) * 2015-12-25 2016-04-07 デクセリアルズ株式会社 導電性接着剤、並びに、それを用いた太陽電池モジュール、及びその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003533581A (ja) 2000-05-18 2003-11-11 ヘンケル ロックタイト コーポレイション マグネシウム合金などの不動態基材接合用接着剤組成物
JP2010100852A (ja) 2008-10-22 2010-05-06 Tesa Se 熱架橋性ポリアクリレートおよびその製造方法
JP2013253151A (ja) * 2012-06-06 2013-12-19 Hitachi Chemical Co Ltd 回路接続用接着フィルム、並びに回路部材の接続構造体及びその製造方法
JP2016060761A (ja) 2014-09-16 2016-04-25 デクセリアルズ株式会社 異方性導電接着剤、及び接続構造体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN109661447A (zh) 2019-04-19
JPWO2018047597A1 (ja) 2019-07-11
WO2018047597A1 (ja) 2018-03-15
KR20190046799A (ko) 2019-05-07
JP6989785B2 (ja) 2022-01-12
US20190194502A1 (en) 2019-06-27
CN109661447B (zh) 2021-03-30
US10982120B2 (en) 2021-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102396869B1 (ko) 열경화형 도전성 접착제
KR100787727B1 (ko) 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체를 이용한 고신뢰성 이방전도성 필름용 조성물
KR100662176B1 (ko) 이방성 도전 필름용 조성물
EP2297262B1 (en) Silver coated flaky material filled conductive curable composition and the application in die attach
US8034261B2 (en) Anisotropic conductive film composition, anisotropic conductive film including the same, and associated methods
JP5651913B2 (ja) 導電性樹脂組成物
JP7071644B2 (ja) 熱硬化型導電性接着剤
KR100673778B1 (ko) 저온 속경화형 이방성 도전 필름용 조성물, 그로부터제조된 이방성 도전 필름 및 그 제조방법
TWI395801B (zh) Circuit connection material and circuit structure of the connection structure
US9490046B2 (en) Conductive material and connected structure
EP3279261A1 (en) Resin composition, electroconductive resin composition, adhesive, electroconductive adhesive, paste for forming electrodes, and semiconductor device
KR101138798B1 (ko) 신뢰성이 향상된 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방전도성 필름
US7727423B2 (en) Anisotropic conductive film composition and film including the same
JPWO2016140204A1 (ja) 熱硬化型導電性接着剤
KR100787728B1 (ko) 아크릴 고분자 중합체를 이용한 고신뢰성 이방 전도성필름용 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 필름
CN103548207A (zh) 电路连接材料、电路部件的连接结构以及电路部件的连接结构的制造方法
TWI648324B (zh) 樹脂組成物
JP4654599B2 (ja) 異方導電性接着フィルム及びその製造方法並びにそれらを用いた回路接続構造体
KR100918345B1 (ko) 이방 전도성 필름용　조성물　및 이를 이용한 이방 전도성필름
KR20170062475A (ko) 수지 조성물
CN108350105B (zh) 热固化性组合物及使用其的导电性粘接剂
JP2016072239A (ja) 異方性導電フィルム、及び接続方法
JP4032345B2 (ja) 表面被覆導電性粒子、それを用いた回路用接続部材、接続方法及び接続構造体
JPWO2018043296A1 (ja) （メタ）アクリル樹脂組成物およびそれを用いた導電性接着剤
JP2000285730A (ja) 回路板

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant