KR102361791B1

KR102361791B1 - 정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 래핑장치

Info

Publication number: KR102361791B1
Application number: KR1020200154913A
Authority: KR
Inventors: 조중열
Original assignee: 주식회사 르본인터내셔널
Priority date: 2019-12-31
Filing date: 2020-11-18
Publication date: 2022-02-14
Also published as: KR102462016B1; KR20210086465A; KR20220020875A; KR102182704B1; KR20220152178A

Abstract

실시예는 정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 이를 포함하는 래핑장치에 관한 것이다.
실시예에 따른 정밀하고 신속한 래핑용 랩은 원형 형상의 랩 바디부와, 상기 랩 바디부의 중심에 소정의 회전부와 결합하기 위한 관통공 및 상기 랩 바디부의 원주에서 중심 방향으로 배치된 복수의 제1 관찰공간을 포함할 수 있다.

Description

정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 래핑장치{A lap for precise and rapid lapping and a lapping apparatus including the same}

실시예에 따른 발명은 래핑을 위한 랩 및 이를 포함하는 래핑장치에 관한 것으로, 상세하게는 산업용 정밀부품이나 반지, 귀걸이 등의 주얼리의 정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 이를 포함하는 래핑장치에 관한 것이다.

산업용 정밀부품이나 주얼리 제품을 대량 생산하는데 사용되는 공법에는 로스트-왁스 캐스팅(lost-wax casting) 또는 인베스트먼트 캐스팅(investment casting) 공법이 있다.

로스트-왁스 캐스팅 공법은 석고로 된 매몰제로 만든 주조체 안에 융점이 낮은 왁스(wax)를 탈납(lost)시킨 후 탈납 된 공간에 용해된 금속을 부어 넣어 산업용 정밀부품이나 주얼리를 만드는 공법이다. 이때 사용되는 왁스를 사출 왁스(injection wax)라고 한다.

이 사출 왁스를 전용 왁스 사출기(wax injector)와 고무 몰드(rubber mold)를 이용해 대량으로 만들어 낸 후 왁스 트리(wax tree)를 만들어 주조작업이 진행된다.

종래기술에서 산업용 정밀부품이나 주얼리 제품을 생산하는 로스트-왁스 캐스팅 공법으로 제조하는 공정은 왁스 사출 공정, 주물 공정, 세공 공정, 광 작업 공정, 도금 공정 순으로 진행되고 있는데, 종래 산업분야나 주얼리 분야에서 광 작업공정은 래핑공정(lapping process)을 통해 진행되고 있다.

래핑(lapping)은 랩(lap)이라는 공구와 랩제 등을 사용하여 마모와 연삭 작용에 의해 래핑 대상 제품을 다듬질하여 광을 내는 정밀 가공법이다.

이러한 래핑공정은 작업자의 손으로 진행되는 핸드 래핑과 래핑 머신을 사용하는 기계 래핑방식이 있다.

한편, 종래 주얼리 분야의 래핑작업은 자동화나 기계화되지 못하고 수공예 작업인 핸드 래핑이 주를 이루고 있는 실정이다.

이에 따라 종래기술에서의 래핑작업은 작업자의 숙련도에 영향을 받으므로 래핑작업의 정밀도나 균일도가 보장되기 어려운 문제점이 있다.

또한 종래 래핑작업은 작업자의 수공예로 진행됨에 따라 래핑작업의 속도도 느린 문제점이 있다.

이에 이건 발명의 발명자는 비공개 내부기술을 통해 래핑기술을 자동화 내지 기계화하기 위해 연구를 진행하였다. 예를 들어, 이건 발명의 발명자는 래핑장치를 도입하여 랩을 회전시키면서 래핑을 기술에 대해 연구를 진행하였다. 이하 주얼리 기술에 대해 설명하나 이건 발명이 주얼리 기술에 한정되는 것은 아니다.

우선 비공개 내부기술에 의하면 래핑장치에 장착된 랩을 회전시키면서 래핑을 진행하는 경우, 래핑작업의 속도는 향상되는 점이 있었다.

그런데, 이러한 비공개 내부기술에 의할 경우에도 래핑 대상제품인 반지 등의 주얼리가 랩의 상측에 위치됨에 따라 래핑 대상제품과 랩이 접촉하는 래핑영역이 대상제품에 의해 가려짐에 따라 작업자가 랩핑 진행정도를 바로 확인하기 어려워 여전히 작업자의 숙련도에 의존할 수밖에 없는 실정이다.

즉, 작업자가 래핑 대상제품을 어느 정도의 압력과 어느 정도의 시간 동안 래핑하는 지에 따라 래핑의 정도와 품질이 달라지므로 래핑작업의 정밀도나 균일도가 여전히 보장되기 어려운 문제점이 있다.

또한 숙련된 작업자일지라도 매번 래핑 대상제품을 들어 올린 후 뒤집어서 래핑 진행정도를 간헐적으로 체크해야 하므로 래핑 작업속도가 더뎌지는 문제가 있어 래핑속도의 느린 문제점이 해결되지 못하고 있다.

실시예에 따른 발명은 래핑작업의 정밀도와 균일도가 확보될 수 있으며 래핑작업의 느린 속도를 개선할 수 있는 정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 이를 포함하는 래핑장치를 제공하고자 함을 기술적 과제 중의 하나로 한다.

실시예의 기술적 과제는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 이건 발명의 설명을 통해 파악되는 기술적 과제를 포함한다.

실시예에 따른 정밀하고 신속한 래핑용 랩은 원형 형상의 랩 바디부(610)와, 상기 랩 바디부(610)의 중심에 소정의 회전부(512)와 결합하기 위한 관통공(602) 및 상기 랩 바디부(610)의 원주에서 중심 방향으로 배치된 복수의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있다.

상기 제1 관찰공간(621)은, 상기 랩 바디부(610)의 원주에서 중심 방향으로 상호 이격되어 배치된 복수의 사각형 형태의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있다.

실시예는 상기 랩 바디부(610)의 원주에서 중심 방향으로 상기 제1 관찰공간(621) 사이에 배치된 제2 관찰공간(622)을 더 포함할 수 있다.

상기 제2 관찰공간(622)은 복수의 사각형 형태의 제2 관찰공간(622)일 수 있다.

상기 제1 관찰공간(621)과 상기 제2 관찰공간(622)은 교대로 배치될 수 있다.

상기 제1 관찰공간(621)의 제1 길이가 상기 제2 관찰공간(622)의 제2 길이보다 길 수 있다.

또한 다른 실시예에 따른 정밀하고 신속한 래핑용 랩은 원형 형상의 랩 바디부(610)와, 상기 랩 바디부(610)의 중심에 소정의 회전부(512)와 결합하기 위한 관통공(602) 및 상기 랩 바디부(610)의 원주에서 그 중심 방향(DC)이 아닌 사선방향(DT)으로 배치되는 복수의 제3 관찰공간(630);을 포함할 수 있다.

상기 복수의 제3 관찰공간(630)이 배치되는 상기 사선방향(DT)과 상기 랩 바디부(610)의 중심 방향(DC) 사이의 각은 10°~45° 범위일 수 있다.

다른 실시예는 상기 제3 관찰공간(630) 사이에 상기 사선방향으로 배치되는 배치되는 제4 관찰공간을 더 포함할 수 있다. 상기 제4 관찰공간의 배치 길이는 상기 제3 관찰공간(630)의 배치 길이보다 짧을 수 있다.

실시예에 따른 래핑장치는 상기 어느 하나의 래핑용 랩을 포함할 수 있다.

실시예에 따른 래핑방법은, 원형 형상의 랩 바디부와, 상기 랩 바디부의 중심에 소정의 회전부와 결합하기 위한 관통공을 포함하는 래핑용 랩이 장착된 래핑장치를 이용하여 주얼리 제품을 래핑하는 래핑방법일 수 있다.

상기 래핑용 랩은, 상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 제1 길이만큼 관통되면서 상호 이격 배치된 복수의 사각형 형태의 제1 관찰공간 및 상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 상기 제1 길이보다 짧은 제2 길이만큼 관통되어 상기 제1 관찰공간 사이에 교대로 배치된 복수의 사각형 형태의 제2 관찰공간을 포함할 수 있다.

상기 래핑용 랩은, 상기 랩 바디부 원주둘레 저면에 래핑면을 구비할 수 있다.

상기 주얼리 제품이 상기 래핑용 랩 저면의 상기 래핑면에 배치되고 상기 래핑용 랩의 회전을 통해 래핑되는 상기 주얼리 제품의 래핑상태가 상기 제1 관찰공간 및 상기 제2 관찰공간을 통해 실시간 관찰가능할 수 있다.

상기 제1 관찰공간은, 상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 제1 길이만큼 관통되면서 상호 이격 배치된 8개의 사각형 형태의 제1 관찰공간일 수 있다.

상기 제2 관찰공간은, 상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 상기 제1 길이보다 짧은 제2 길이만큼 관통되어 상기 제1 관찰공간 사이에 교대로 배치된 복수의 사각형 형태의 8개의 제2 관찰공간일 수 있다.

실시예에 따른 래핑을 위한 랩 및 이를 포함하는 래핑장치에 의하면, 래핑작업의 정밀도와 균일도가 확보될 수 있으며 래핑작업의 느린 속도를 개선할 수 있는 복합적 기술적 효과가 있다.

예를 들어, 제1 실시예에 의하면 래핑대상 제품(910)이 제1 랩(600A)의 하측에 배치되고 제1 랩(600A)에는 소정의 제1 관찰영역(621)들이 배치됨에 따라, 제1 랩(600A)의 회전 시 대상제품(910)이 작업자의 육안으로 관찰이 가능하다. 이에 따라 래핑 작업자가 래핑되는 대상제품(910)인 주얼리의 래핑상태를 실시간 관찰하면서 래핑작업이 진행되므로 래핑의 정밀도를 높임으로써 주얼리의 품질의 우수성을 높일 수 있음과 동시에 래핑공정의 작업속도가 현저히 향상되는 복합적인 기술적 효과가 있다.

또한 제2 실시예에서 제2 랩(600B)은 제1 관찰공간(621)과 상기 제2 관찰공간(622)이 교대로 배치됨에 따라 보다 정밀하게 래핑영역을 관찰할 수 있으므로 래핑의 품질과 작업속도를 더욱 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.

또한 제3 실시예에 의하면 제3 랩(600C)의 그 원주에서 그 중심 방향(DC)이 아닌 사선방향(DT)으로 배치되는 복수의 제3 관찰공간(630)을 구비함으로써 실질적인 래핑이 진행되는 제3 래핑영역의 넓이(630S)가 증대됨에 따라 관찰공간의 영역이 증대됨에 따라 관찰 정확도 향상되어 래핑정밀도가 향상될 수 있고, 래핑의 속도도 향상시킬 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

또한 제3 실시예에 의하면 제3 랩(600C)의 그 원주에서 그 중심 방향(DC)이 아닌 사선방향(DT)으로 배치되는 복수의 제3 관찰공간(630)을 구비함으로써 제3 랩(600C)의 회전에 따라 제3 랩의 제3 관찰공간(630)이 존재하는 범위가 좌우로 넓어 짐에 따라 시간에 따른 제3 관찰공간(630)이 점유하는 공간이 넓어 짐에 따라 실질적으로 관찰할 수 있는 공간이 넓어 짐에 따라 관찰 정확도 향상되어 래핑정밀도가 향상될 수 있고, 래핑의 속도도 향상시킬 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

또한 제3 실시예에 따른 제3 랩(600C)에서 제3 관찰공간(630)은 회전방향으로 비스듬하게 제3 관찰공간(630)이 배치됨에 따라 제3 랩(600C)의 회전시 래핑 대상 제품(910)과의 충격을 완화하여 래핑 품질을 향상시킬 수 있는 복합적이고도 특별한 기술적 효과가 있다.

실시예의 기술적 효과는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 이건 발명의 설명을 통해 파악되는 기술적 효과를 포함한다.

도 1은 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리의 전체적인 제조공정도.
도 2a는 실시예에 따른 래핑장치의 사시도.
도 2b는 도 2a에 대응되는 실시예에 따른 래핑장치의 사진.
도 3a는 실시예에 따른 래핑장치에서의 제1 랩의 사시도.
도 3b는 도 3a에 대한 제1 방향 사진.
도 3c는 도 3a에 대한 제2 방향 사진.
도 4는 실시예에 따른 래핑장치에서의 제1 랩을 이용한 제1 래핑작업 사진.
도 5는 실시예에 따른 래핑장치에서의 제1 랩을 이용한 제2 래핑작업 사진.
도 6은 제2 실시예에 따른 래핑장치에서의 제2 랩의 사시도.
도 7은 도 6에 대한 제1 방향 사진.
도 8은 도 6에 대한 제2 방향 사진.
도 9는 제3 실시예에 따른 제3 랩의 평면도.
도 10은 제3 실시예의 제3 랩의 제3 관찰공간의 넓이를 나타내는 도면.

이하에서는 도면을 참조하여 상기 과제를 해결하기 위한 실시예에 따른 발명을 보다 상세하게 설명한다.

이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 단순히 본 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되는 것으로서, 그 자체로 특별히 중요한 의미 또는 역할을 부여하는 것은 아니다. 따라서, 상기 "모듈" 및 "부"는 서로 혼용되어 사용될 수도 있다.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.

본 출원에서, "포함한다", "가지다" 또는 “구비한다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

도 1은 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리의 전체적인 제조공정도이다.

도 1을 참조하면, 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리의 제조공정은 왁스 사출 공정, 주물 공정, 세공 공정, 광 작업 공정, 도금 공정 등을 포함할 수 있으며, 전체적인 공정을 설명 후 이건 발명의 기술적 과제를 해결하기 위한 광 작업 공정(래핑공정)을 상술하기로 한다.

<왁스 사출 공정>

우선 왁스 사출 공정은 제품의 대량생산을 위한 기초작업이 되는 공정이다.

실시예에서 왁스 사출공정에 사용되는 사출용 왁스(wax)는 수지 합성물일 수 있으며, 그 색상은 밀랍 색상과 비슷할 수 있다. 예를 들어, 실시예에서 사출용 왁스로 청록색 왁스(Turquise Wax) 또는 청색 왁스(Blue Wax or Plasti-Flex Wax)가 사용될 수 있다. 이 외에 하늘색 왁스(Aqua Wax), 분홍색 왁스 (Pink Wax), 빨간색 왁스 (Red Wax) 등이 사용될 수 있다.

왁스 사출공정은 왁스 사출기(wax injector)에 장착된 고무몰드에 용융된 왁스를 삽입 사출하여 대상제품에 대응되는 원형 패턴과 같은 형태의 왁스패턴(wax pattern)을 대량 생산할 수 있다.

<주물(casting) 공정>

주물 공정은 왁스패턴의 형태를 금속의 형태로 바꾸는 작업이다.

예를 들어, 석고 재질의 매몰제로 만든 주조체 안에 융점이 낮은 왁스 패턴을 탈납(lost)시킨 후 탈납 된 공간에 용해된 금속을 부어 넣어 주얼리로 제품화하는 과정이다.

예를 들어, 은(Ag) 제품의 주얼리의 경우 주물작업의 온도는 약 400~500℃범위에서 작업할 수 있으며, 은(Ag) 100%로 작업하지 않고 은(Ag) 외에 합금을 소정 % 포함시켜 은의 무른 성질을 상쇄할 수 있다.

<세공 공정>

세공공정은 금속 표면처리, 연마, 셋팅 공정 등을 포함할 수 있다. 세공공정은 주물에서 나온 주얼리 제품을 좀더 다듬어 주는 과정으로서 주얼리 제품에 불필요한 부분을 제거해주거나, 주얼리 제품의 불규칙한 표면을 줄이나 사포를 사용하여 매끄럽게 다듬어주거나 또는 주얼리 제품의 장식부에 다이아, 진주 등의 장식을 셋팅하는 공정을 포함한다.

<광 작업 공정>

추가적으로 주얼리 제품의 표면을 좀더 정밀하게 래핑하여 광을 내주는 작업이다.

<도금 공정>

도금 공정은 주얼리 제품의 변색을 방지하거나 주얼리 제품을 좀더 고급스럽게 보이도록 만드는 작업이다. 도금 공정으로는 전기도금 공정을 사용할 수 있으며, 주얼리 제품 상에 합금물이 포함된 도금막을 형성하여 광택을 만들어 주거나 높은 경도를 유지시켜주어 주얼리 제품의 변색을 막아줄 수 있다.

앞서 기술한 바와 같이, 산업용 정밀제품이나 주얼리 제품에 대해 래핑공정(lapping process)이 필요하며, 래핑공정은 연마공정(polishing process) 후에 제품의 표면을 좀더 정밀하게 표면 처리하여 광을 내주는 작업이다.

실시예에 따른 발명은 래핑을 위한 랩 및 이를 포함하는 래핑장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 산업용 정밀부품이나 반지, 귀걸이 등의 주얼리의 정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 이를 포함하는 래핑장치에 관한 것이다.

실시예에 따른 발명은 래핑작업의 정밀도와 균일도가 확보될 수 있으며 래핑작업의 느린 속도를 개선할 수 있는 정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 이를 포함하는 래핑장치를 제공하고자 함을 기술적 과제로 한다.

이하 제1 실시예 내지 제3 실시예를 통해 이건 발명의 '정밀하고 신속한 래핑용 랩 및 이를 포함하는 래핑장치'에 대해 상술하기로 한다.

(제1 실시예)

이하 도 2a와 도 2b를 참조하여 제1 실시예 내지 제3 실시예에 공통적으로 적용될 수 있는 실시예에 따른 래핑장치(500)를 우선 설명하기로 한다.

도 2a는 실시예에 따른 래핑장치(500)의 사시도이며, 도 2b는 도 2a에 대응되는 실시예에 따른 래핑장치(500)의 사진이다.

실시예에 따른 래핑장치(500)는 래핑 룸(518), 상기 래핑 룸(518)에 배치되는 래핑 다이(510), 상기 래핑 다이(510)에 장착되는 회전부(512), 상기 회전부(512)에 결합되는 랩(lap)(600) 및 상기 랩(600)을 상기 회전부(512)에 결합시키는 조립부(514)를 포함할 수 있다.

실시예에 따른 래핑장치(500)에 의하면, 래핑 다이(510) 상에 회전부(512)가 배치될 수 있으며, 상기 회전부(512)는 모터(미도시)에 의해 회전될 수 있다.

다음으로 상기 회전부(512)에 랩(600)을 끼운 후 너트 등의 조립부(514)로 고정할 수 있다. 이후 랩(600)을 회전하면서 래핑 대상 제품(910)인 반지 등의 주얼리를 래핑할 수 있다.

상기 랩(600)의 재질은 톱밥을 압축한 재질이거나 양털을 압축한 재질일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

실시예에 의하면 도 2a와 같이 작업자가 래핑작업 대상제품(910)을 손(820)으로 잡은 상태에서 랩(600)을 회전시키면서 래핑을 진행할 수 있고, 래핑과정은 작업자의 육안(810)으로 관찰될 수 있다.

실시예에 따른 래핑장치(500)는 작업창(516)을 구비하여 래핑 시 발생되는 비산물질에 작업자가 영향을 받지 않으면서 작업자가 육안으로 래핑정도를 정밀하게 관찰할 수 있다. 이때 작업자는 손(820)을 이용하여 래핑 대상제품(910)을 파지한 상태에서 래핑을 정밀하게 진행할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며 로봇 등을 통해 래핑작업이 진행될 수도 있다.

실시예에 의하면 래핑 대상제품(910)이 랩(600)의 하측에 배치되고 랩(600)에는 소정의 관찰공간(도 3a의 621 등 참조)들이 배치됨에 따라, 랩(600)의 회전 시 래핑 대상제품(910)이 도 2a, 도 2b와 같이 작업자의 육안(810)으로 관찰이 가능하다.

도 2a와 도 2b를 참조하면, 실시예의 래핑장치(500)에서 랩(600)이 회전하면서 래핑이 진행되는 동안 실시간으로 작업자가 육안(810)으로 래핑 대상제품(910)과 랩(600)이 접촉하는 영역을 정밀하게 관찰할 수 있으므로 정밀한 래핑작업이 가능할 수 있다. 또한 실시예에 의하면 래핑정도를 확인하기 위해 래핑작업을 중단할 필요 없이 실시간으로 래핑정도를 확인할 수 있으므로 래핑공정의 작업속도가 현저히 향상되는 복합적 기술적 효과가 있다.

이하 제1 실시예에 따른 래핑장치에서의 랩을 제1 랩(600A)이라 칭하기로 한다.

도 3a는 실시예에 따른 래핑장치에서의 제1 랩(600A)의 사시도이며, 도 3b는 도 3a에 대한 제1 랩(600A)의 제1 방향 사진(600A1)이고, 도 3c는 도 3a에 대한 제1 랩(600A)의 제2 방향 사진(600A2)이다.

예를 들어, 도 3b는 도 3a에 대한 평면 방향에서의 사진(600A1)이고, 도 3c는 도 3a에 대한 저면 방향에서의 사진(600A2)이다.

제1 실시예에 따른 제1 랩(600A)에서 도 3b에 나타난 평면 방향이 래핑면이 될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 도 3c에 나타난 저면방향이 래핑면이 될 수도 있다.

도 4는 실시예에 따른 래핑장치에서의 제1 랩(600A)을 이용한 제1 래핑작업(RP1) 사진이며, 도 5는 실시예에 따른 래핑장치에서의 제1 랩(600A)을 이용한 제2 래핑작업(RP2) 사진이다.

도 4와 도 5를 참조하면, 제1 랩(600A)이 적용된 래핑장치에 의하면, 래핑 다이(510) 상에 회전부(512)가 배치될 수 있다. 상기 회전부(512)는 모터에 의해 회전될 수 있다. 상기 회전부(512)의 회전속도는 약 3,000~4,000rpm일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 회전부(512)에 제1 랩(600A)을 끼운 후 조립부(514)로 고정할 수 있다. 이후 제1 랩(600A)을 회전하면서 래핑 대상 제품(910)을 래핑할 수 있다.

실시예에 의하면 래핑대상 제품(910)이 제1 랩(600A)의 하측에 배치되고 제1 랩(600A)에는 소정의 제1 관찰영역(621)들이 배치됨에 따라, 제1 랩(600A)의 회전 시 대상제품(910)이 도 4, 도 5와 같이 작업자의 육안으로 관찰이 가능하다.

이에 따라 래핑 작업자가 래핑되는 대상제품(910)인 주얼리의 래핑상태를 실시간 관찰하면서 래핑작업이 진행되므로 래핑의 정밀도를 높임으로써 주얼리의 품질의 우수성을 높일 수 있음과 동시에 래핑공정의 작업속도가 현저히 향상되는 복합적인 기술적 효과가 있다.

다시 도 3a를 참조하면 실시예에서 제1 랩(600A)은 원형 형상의 랩 바디부(610)와 그 랩 바디부(610)의 중심에 상기 회전부(512)와 결합하기 위한 원형 관통공(602)이 구비될 수 있다.

상기 제1 랩(600A)은 그 원주에서 중심 방향으로 복수의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있다.

예를 들어, 제1 랩(600A)은 그 원주에서 중심 방향으로 복수의 사각형 형태의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다.

제1 랩(600A)은 8개의 사각형 형태의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 제1 관찰공간(621)은 제1 관통공간 또는 제1 이격공간으로 칭해질 수도 있다.

상기 제1 랩(600A)에서 상기 제1 관찰공간(621)의 이격거리(D1)는 상기 제1 랩(600A)의 반지름의 1/20 내지 1/5 범위일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 제1 랩(600A)에서 상기 제1 관찰공간(621)의 길이 폭(W1)은 상기 제1 랩(600A)의 반지름의 1/5 내지 4/5 범위일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

실시예에 의하면 랩에 소정의 관찰공간을 구비하여 폴리싱 랩의 회전시 래핑 작업자가 주얼리의 래핑 상태를 실시간으로 육안관찰 가능할 수 있다. 이에 따라 래핑 작업자가 래핑되는 대상 제품인 주얼리의 래핑상태를 실시간 관찰하면서 래핑작업이 진행되므로 래핑의 정밀도를 높임으로써 주얼리의 품질의 우수성을 높일 수 있음과 동시에 래핑공정의 작업속도가 현저히 향상되는 특별한 기술적 효과가 있다.

(제2 실시예)

다음으로 도 6은 제2 실시예에 따른 래핑장치에서의 제2 랩(600B)의 사시도이며, 도 7은 도 6에 대한 제1 방향 사진(600B1)이고, 도 8은 도 6에 대한 제2 방향 사진(600B2)이다.

예를 들어, 도 7은 도 6에 대한 평면 방향에서의 사진(600B1)이고, 도 8은 도 6에 대한 저면 방향에서의 사진(600B2)이다.

제2 실시예에서 도 7에 도시된 평면 방향의 사진(600B1)이 래핑면일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

도 6을 참조하면, 제2 실시예에 따른 제2 랩(600B)은 원형 형상의 랩 바디부(610)와 그 랩 바디부(610)의 중심에는 회전부(512)와 결합하기 위한 원형 관통공(602)을 포함할 수 있다.

제2 실시예에 따른 제2 랩(600B)은 그 원주에서 중심 방향으로 복수의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 실시예에 따른 제2 랩(600B)은 그 원주에서 중심 방향으로 복수의 사각형 형태의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다.

또한 제2 실시예에 따른 제2 랩(600B)은 그 원주에서 중심 방향으로 상기 제1 관찰공간(621) 사이에 복수의 사각형 형태의 제2 관찰공간(622)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다.

제1 관찰공간(621)과 상기 제2 관찰공간(622)은 교대로 배치될 수 있다.

제2 실시예에서 제1 관찰공간(621)의 제1 길이가 제2 관찰공간(622)의 제2 길이보다 길 수 있다.

제2 실시예에서 제2 랩(600B)은 8개의 사각형 형태의 제1 관찰공간(621)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다. 또한 제2 실시예에서 제2 랩(600B)은 8개의 사각형 형태의 제2 관찰공간(622)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다.

제2 실시예에서 제2 랩(600B)은 제1 관찰공간(621)과 상기 제2 관찰공간(622)이 교대로 배치됨에 따라 보다 정밀하게 래핑영역을 관찰할 수 있으므로 래핑의 품질과 작업속도를 더욱 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.

(제3 실시예)

다음으로 도 9는 제3 실시예에 따른 제3 랩(600C)의 평면도이다.

도 10은 제3 실시예의 제3 랩(600C)의 제3 관찰공간(630)의 래핑영역의 넓이(630S)를 나타내는 도면이다.

도 9를 참조하면 제3 실시예에 따른 제3 랩(600C)은 원형 형상의 랩 바디부(610)와 그 랩 바디부(610)의 중심에는 회전부(512)와 결합하기 위한 원형 관통공(602)이 구비될 수 있다.

제3 실시예에 따른 제3 랩(600C)은 그 원주에서 그 중심 방향(DC)이 아닌 사선방향(DT)으로 배치되는 복수의 제3 관찰공간(630)을 포함할 수 있다.

제3 실시예에서 제3 랩(600C)은 8개의 사각형 형태의 제3 관찰공간(630)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다.

예를 들어, 제3 실시예에 따른 제3 랩(600C)은 그 원주에서 중심 방향(DC)이 아닌 기울어진 사선방향(DT)으로 복수의 사각형 형태의 제3 관찰공간(630)을 포함할 수 있으나 그 형태가 이에 한정되는 것은 아니다.

제3 실시예에서 제3 랩(600C)의 중심 방향(DC)과 사선방향(DT) 사이의 각은 10°~45° 범위일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

다음으로 도 10은 제3 실시예의 제3 랩(600C)의 제3 관찰공간(630) 중에 실질적으로 래핑이 진행되는 제3 래핑영역의 넓이(630S)를 나타내는 도면이다.

한편, 도 10에는 제1 관찰공간에서의 래핑이 진행되는 경우의 제1 래핑영역의 넓이(621S)를 래핑영역의 넓이 비교를 위해 함께 도시되어 있다.

도 10에서 제3 래핑영역의 넓이(630S)은 그 지시선을 통해 빗금친 영역뿐만 아니라 제1 래핑영역의 넓이(621S)의 우측 하단의 맞꼭지각 형태의 삼각형 영역(빗금 미도시) 영역도 포함한다.

제3 실시예에 의하면 제3 랩(600C)에서 제3 관찰공간(630)의 제3 래핑영역의 넓이(630S)는 원주에서 그 중심부를 향하는 제1 관찰공간(621)의한 제1 래핑영역 넓이(621S)보다 넓게 된다.

이에 따라 제3 실시예에 의하면 제3 랩(600C)의 그 원주에서 그 중심 방향(DC)이 아닌 사선방향(DT)으로 배치되는 복수의 제3 관찰공간(630)을 구비함으로써 실질적인 래핑이 진행되는 제3 래핑영역의 넓이(630S)가 증대됨에 따라 관찰공간의 영역이 증대됨에 따라 관찰 정확도 향상되어 래핑정밀도가 향상될 수 있고, 래핑의 속도도 향상시킬 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

한편, 실시예에서 관찰공간은 래핑되는 제품이 보이도록 하는 기능이 있으나 관찰공간이 존재함에 따라 단차가 발생되어 제품의 래핑시 일부 충격이 발생할 수 있다.

그런데 제3 실시예에 따른 제3 랩(600C)에서 제3 관찰공간(630)은 회전방향으로 비스듬하게 제3 관찰공간(630)이 배치됨에 따라 제3 랩(600C)의 회전시 래핑 대상 제품(910)과의 충격을 완화하여 래핑 품질을 향상시킬 수 있는 복합적이고도 특별한 기술적 효과가 있다.

또한 제3 실시예에 따른 제3 랩(600C)는 제3 관찰공간(630) 사이에 상기 사선방향으로 배치되는 배치되는 제4 관찰공간(미도시)를 더 포함할 수 있다.

상기 제4 관찰공간과 상기 제3 관찰공간(630)은 교대로 배치될 수 있다.

상기 제4 관찰공간의 배치 길이는 상기 제3 관찰공간(630)의 배치 길이보다 짧을 수 있다.

이에 따라 제3 실시예에서 제3 랩(600C)은 제3 관찰공간(630)과 상기 제4 관찰공간이 교대로 배치됨에 따라 보다 더욱 정밀하게 래핑영역을 관찰할 수 있으므로 래핑의 품질과 작업속도를 더욱 현저히 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims

원형 형상의 랩 바디부와, 상기 랩 바디부의 중심에 소정의 회전부와 결합하기 위한 관통공을 포함하여 주얼리 제품을 래핑하는 래핑용 랩에 있어서,
상기 래핑용 랩은,
상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 제1 길이만큼 관통되면서 상호 이격 배치된 복수의 제1 관찰공간 및 상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 상기 제1 길이보다 짧은 제2 길이만큼 관통되어 상기 제1 관찰공간 사이에 교대로 배치된 복수의 제2 관찰공간을 포함하고,
상기 래핑용 랩은, 상기 랩 바디부 원주둘레 저면에 래핑면을 구비하며,
상기 주얼리 제품이 상기 래핑용 랩 저면의 상기 래핑면에 배치되고 상기 래핑용 랩의 회전을 통해 래핑되는 상기 주얼리 제품의 래핑상태가 상기 제1 관찰공간 및 상기 제2 관찰공간을 통해 실시간 관찰가능한 것을 특징으로 래핑용 랩.
제1 항에 있어서,
상기 제1 관찰공간은,
복수의 사각형 형태의 제1 관찰공간을 포함하는 래핑용 랩.
제2 항에 있어서,
상기 제2 관찰공간은
복수의 사각형 형태의 제2 관찰공간인 래핑용 랩.
제3항에 있어서,
상기 제1 관찰공간과 상기 제2 관찰공간은 교대로 배치되는 래핑용 랩.
제4항에 있어서,
상기 제1 관찰공간은, 상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 상기 제1 길이만큼 관통되면서 상호 이격 배치된 8개의 사각형 형태의 제1 관찰공간인 래핑용 랩.
제5항에 있어서,
상기 제2 관찰공간은, 상기 랩 바디부의 원주에서부터 중심 방향으로 상기 제1 길이보다 짧은 상기 제2 길이만큼 관통되어 상기 제1 관찰공간 사이에 교대로 배치된 복수의 사각형 형태의 8개의 제2 관찰공간인 것을 특징으로 하는 래핑용 랩.
원형 형상의 랩 바디부;
상기 랩 바디부의 중심에 소정의 회전부와 결합하기 위한 관통공; 및
상기 랩 바디부의 원주에서 그 중심 방향이 아닌 사선방향으로 배치되는 복수의 제3 관찰공간;을 포함하여 주얼리 제품을 래핑하는 래핑용 랩에 있어서,
상기 래핑용 랩은,
상기 래핑용 랩은, 상기 랩 바디부 원주둘레 저면에 래핑면을 구비하며,
상기 주얼리 제품이 상기 래핑용 랩 저면의 상기 래핑면에 배치되고 상기 래핑용 랩의 회전을 통해 래핑되는 상기 주얼리 제품의 래핑상태가 상기 제3 관찰공간을 통해 실시간 관찰가능한 것을 특징으로 하는 래핑용 랩.
제7 항에 있어서,
상기 복수의 제3 관찰공간이 배치되는 상기 사선방향과 상기 랩 바디부의 중심 방향 사이의 각은 10°~45° 범위인 래핑용 랩.
제 7항에 있어서,
상기 제3 관찰공간 사이에 상기 사선방향으로 배치되는 배치되는 제4 관찰공간을 더 포함하며,
상기 제4 관찰공간의 배치 길이는 상기 제3 관찰공간의 배치 길이보다 짧은 래핑용 랩.
제1 항 내지 제9항 중 어느 하나의 래핑용 랩을 포함하는 래핑장치.