KR102314467B1 - 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법 - Google Patents

디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 기판, 상기 기판상에 형성되고 표시 영역 및 비표시 영역을 구비하는 표시 소자, 상기 표시 소자를 덮는 봉지 부재, 상기 봉지 부재상에 형성되고 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역 중 어느 하나에 대응하도록 선택적으로 형성된 표면 처리 패턴층 및 상기 표면 처리 패턴층의 패턴에 대응되도록 형성된 광기능층을 포함하는 디스플레이 장치를 개시한다.

Description

디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법{Display apparatus and method of manufacturing the same}
본 실시예는 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법에 관한 것이다.
근래에 디스플레이 장치는 그 용도가 다양해지고 있다. 특히, 디스플레이 장치의 두께가 얇아지고 무게가 가벼워 그 사용의 범위가 광범위해지고 있는 추세이다.
근래에 디스플레이 장치는 휴대가 가능한 박형의 평판 형태의 디스플레이 장치로 대체되는 추세이다.
한편, 디스플레이 장치는 그러나, 외부의 수분이나 산소 등에 의해 특성이 저하될 수 있고, 특히 디스플레이 장치에 구비되어 화상을 구현하는 표시 소자의 전기적 특성이 저하될 수 있다.
또한, 디스플레이 장치의 화질 특성, 즉 휘도 또는 콘트라스트 향상을 위한 다양한 시도가 진행되고 있다.
본 실시예는 화질 특성을 향상하고, 제조 편의성이 향상된 디스플레이 장치및 디스플레이 장치 제조 방법을 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시예는 기판, 상기 기판상에 형성되고 표시 영역 및 비표시 영역을 구비하는 표시 소자, 상기 표시 소자를 덮는 봉지 부재, 상기 봉지 부재상에 형성되고 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역 중 어느 하나에 대응하도록 선택적으로 형성된 표면 처리 패턴층 및 상기 표면 처리 패턴층의 패턴에 대응되도록 형성된 광기능층을 포함하는 디스플레이 장치를 개시한다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층은 친수성 물질 또는 소수성 물질을 함유할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층은 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane) 중 적어도 하나 이상을 함유할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 광기능층은 상기 표시 영역과 중첩되는 컬러 필터 또는 상기 비표시 영역과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층은 상기 표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 컬러 필터는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 동일한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 중첩된 영역을 포함하도록 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층은 상기 표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 블랙 매트릭스는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 상이한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 이격되거나 적어도 인접하도록 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층은 상기 비표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 블랙 매트릭스는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 동일한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 중첩되도록 형성된 영역을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층은 상기 비표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 컬러 필터는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 상이한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 이격되거나 적어도 인접하도록 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 광기능층을 덮도록 형성된 보호막을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 소자는 제1 전극, 발광층을 구비하는 중간층 및 제2 전극을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 부재는 적어도 하나 이상의 유기막 또는 무기막을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 부재의 최외각층은 상기 무기막을 포함하도록 형성되고, 상기 표면 처리 패턴층은 상기 봉지 부재의 최외곽층의 무기막과 접하도록 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 기판 상에 표시 영역 및 비표시 영역을 구비하는 표시 소자를 형성하는 단계, 상기 표시 소자를 덮는 봉지 부재를 형성하는 단계, 상기 봉지 부재상에 상기 표시 영역 또는 상기 비표시 영역에 대응하도록 선택적으로 표면을 처리하여 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계, 상기 표면 처리 패턴층의 패턴에 대응되도록 광기능층을 형성하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치의 제조 방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는, 에너지 조사 공정을 진행하여 상기 표면 처리 패턴층이 선택적으로 친수성 또는 소수성을 갖도록 하는 단계를 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는, 상기 표시 영역 또는 비표시 영역에 대응하도록 선택적으로 친수성 물질 또는 소수성 물질을 함유한 물질로 표면을 처리하는 단계를 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane) 중 적어도 하나 이상을 이용하여 진행하는 것을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane) 중 적어도 하나 이상에 포함된 성분의 양을 조절하여 소수성 또는 친수성을 갖도록 하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는, 상기 봉지 부재를 형성하는 단계를 진행 시 이용한 방법과 동일한 방법을 이용하여 진행할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 부재를 형성하는 단계는, 상기 봉지 부재의 최외곽에 무기막을 포함하도록 형성하는 단계를 포함하고, 상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 상기 봉지 부재의 최외곽에 형성된 무기막을 형성 시 이용한 방법과 동일한 방법을 이용하여 진행할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 부재의 최외곽에 구비된 무기막은 화학 기상 증착법을 이용하여 형성하고, 상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 화학 기상 증착법을 이용하여 진행하는 단계를 포함할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 실시예에 관한 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조 방법은 광특성을 용이하게 향상할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2는 도 1의 K의 확대도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 2는 도 1의 K의 확대도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(100)는 기판(110), 표시 소자(120), 봉지 부재(130), 표면 처리 패턴층(140) 및 광기능층(150)을 포함한다.
상기 기판(110) 은 SiO2를 주성분으로 하는 유리 재질로 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 기판(110)은 유연성이 있는 재질로 형성될 수 있고, 예를들면 플라스틱 재질로 형성될 수 있다. 이 때 기판(110)을 형성하는 플라스틱 재질은 다양한 유기물들 중 선택된 하나 이상일 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 기판(110)은 금속 박막으로 형성할 수도 있다.
도시하지 않았으나, 선택적 실시예로서 기판(110)과 표시 소자(120)의 사이에 상에 버퍼층(미도시)이 형성될 수 있다. 버퍼층(미도시)은 기판(110)을 통하여 수분, 이물 기타 불순물이 침투하는 것을 방지하고, 기판(110)상부에 평탄한 면을 제공하는 것으로서, 이러한 역할을 수행할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 버퍼층(미도시)은 선택적 구성 요소이므로 생략할 수도 있다.
표시 소자(120)는 기판(110)상에 형성된다. 표시 소자(120)는 표시 영역(120a) 및 비표시 영역(120b)을 구비한다.
도 1에는 복수의 표시 영역(120a) 및 복수의 비표시 영역(120b)이 도시되어 있다. 즉 3개의 표시 영역(120a)및 4개의 비표시 영역(120b)이 기판(110)상에 형성된 것이 도시되어 있으나, 이는 예시적인 것으로서 본 실시예의 디스플레이 장치(100)에 구비된 표시 영역(120a)의 개수는 다양하게 정해질 수 있다. 또한, 비표시 영역(120b)의 개수도 다양하게 정해질 수 있다.
비표시 영역(120b)은 표시 영역(120a)과 인접하도록 배치된다.
표시 영역(120a)은 적어도 가시 광선을 구현할 수 있도록 형성된다. 즉, 디스플레이 장치(100)를 사용하는 사용자가 인식할 수 있는 화상을 구현하도록 표시 영역(120a)은 하나 이상의 가시 광선을 구현한다.
비표시 영역(120b)은 디스플레이 장치(100)를 사용하는 사용자가 볼 때, 화상이 구현되지 않는 영역을 구비한다.
표시 영역(120a)과 비표시 영역(120b)은 서로 인접하도록 형성된다. 즉, 두 개의 표시 영역(120a)의 사이에 비표시 영역(120b)이 형성될 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 표시 영역(120a)은 복수의 표시 영역(120a)을 구비하고, 복수의 표시 영역(120a)의 서로 이격된 공간에 비표시 영역(120b)이 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서 표시 영역(120a)은 부화소 또는 화소에 대응될 수 있다. 즉, 디스플레이 장치(100)의 표시 영역(120a)은 디스플레이 장치(100)에 구비되는 복수의 부화소 또는 화소에 대응되는 영역일 수 있다.
표시 소자(120)는 다양한 종류일 수 있다. 예를들면 표시 소자(120)는 유기 발광 소자일 수 있고, 다른 예로서 액정 표시 소자일 수 있다. 즉 표시 소자(120)의 종류에는 제한이 없다.
도 2는 도 1의 K의 확대도이다. 도 2에는 표시 소자(120)의 예로서 유기 발광 소자를 도시하고 있다. 그러나, 이는 하나의 예시로서 설명하는 것이다.
도 2를 참조하면 표시 소자(120)는 제1 전극(121), 제2 전극(123) 및 중간층(122)을 구비한다. 중간층(122)은 가시 광선을 구현하도록 적어도 발광층을 포함한다. 구체적으로 표시 소자(120)의 적어도 표시 영역(120a)은 제1 전극(121), 제2 전극(123) 및 중간층(122)을 구비한다.
도 2에는 표시 소자(120)의 표시 영역(120a)만 도시되어 있으나, 선택적 실시예로서, 비표시 영역(120b)에 제1 전극(121), 제2 전극(123) 및 중간층(122)이 연장되도록 형성될 수도 있다.
제1 전극(121)은 다양한 도전성 재료를 이용하여 형성할 수 있는데, 선택적 실시예로서 제1 전극(121)은 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3 등을 포함하여 형성될 수 있다. 또한 목적 및 설계 조건에 따라서 제1 전극(121)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Yb 또는 Ca 등으로 형성된 반사막을 더 포함할 수 있다. 중간층(122)은 제1 전극(121)상에 형성된다. 중간층(122)은 가시 광선을 구현하도록 적어도 발광층을 구비하고, 발광층은 가시 광선을 방출하는 유기물을 포함할 수 있다. 중간층(122)에 구비되는 발광층은 예를들면 호스트 물질과 도펀트 물질을 포함할 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 중간층(122)은 발광층과 함께, 정공 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 정공 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer) 및 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer)중 적어도 어느 하나를 더 포함할 수 있다.
제2 전극(123)은 중간층(122)상에 형성된다. 제2 전극(123)은 선택적 실시예로서, Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, 또는 Ca의 금속으로 형성될 수 있다. 구체적인 예로서 제2 전극(123)은 Mg층과 Ag층의 복합층으로 이루어질 수 있다.
봉지 부재(130)는 표시 소자(120)상에 형성된다.
선택적 실시예로서 봉지 부재(130)는 막의 형태를 구비할 수 있다. 선택적 실시예로서 봉지 부재(130)는 대략 1um 내지 10um 정도의 두께로 플렉서블한 재질로 형성될 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 상기 봉지 부재(130)는 유기막 또는 무기막을 포함할 수 있고, 예를들면 하나 이상의 유기막과 하나 이상의 무기막이 적층된 형태를 구비할 수 있다.
또한 선택적 실시예로서 봉지 부재(130)는 최외곽에 무기막을 구비할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 부재(130)는 표시 소자(120)의 측면에 대응하도록 형성될 수 있고, 다른 예로서 봉지 부재(130)는 표시 소자(120)를 덮도록 형성될 수도 있다.
표면 처리 패턴층(140)은 상기 봉지 부재(130) 상에 형성되고 표시 영역(120a)에 대응하도록 형성된다. 상기 표면 처리 패턴층(140)은 친수성 또는 소수성을 갖도록 형성된다.
표면 처리 패턴층(140)이 친수성 또는 소수성을 갖도록 다양한 방법을 이용할 수 있다. 선택적 실시예로서 표면 처리 패턴층(140)의 표면 에너지를 제어하는 단계를 포함할 수 있다, 예를들면 표면 처리 패턴층(140)의 형성 시 레이저 또는 UV(ultra violet)광선등의 에너지 조사 공정을 진행하여 표면 에너지를 변화하여 표면 처리 패턴층(140)이 소수성 또는 친수성을 갖는 표면을 갖도록 할 수 있다.
선택적 실시예로서 표면 처리 패턴층(140)은 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane)로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.
예를들면 표면 처리 패턴층(140)은 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)를 포함할 수 있고, 이 경우 포함되는 산소의 양을 늘려 친수성을 갖게 할 수 있고, 산소의 양을 줄여 소수성을 갖게 할 수 있다. 또한, 상기 표면 처리 패턴층(140)의 기타 다른 재료에 대하여도 이와 마찬가지로 산소의 양을 조절하여 친수성 또는 소수성을 갖게 할 수 있다.
선택적 실시예로서 상기 표면 처리 패턴층(140)의 기타 다른 재료에 대하여도 산소 대신 다른 성분의 양을 조절하여 친수성 또는 소수성을 갖게 할 수 있다.
표면 처리 패턴층(140)은 다양한 방법 및 환경에서 형성될 수 있는데, 선택적 실시예로서 표면 처리 패턴층(140)은 배리어 특성을 가질 필요가 없으므로 진공뿐만 아니라 대기에서 형성할 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 표면 처리 패턴층(140)은 봉지 부재(130)와 동일한 종류의 제조 공정, 또는 적어도 봉지 부재(130)가 복수의 막을 구비할 경우 이 중 어느 하나의 막을 형성하는 공정과 동일한 종류의 제조 공정을 이용하여 형성할 수 있다.
다른 선택적 실시예로서 봉지 부재(130)의 최외곽층이 무기막을 포함하는 경우, 이 무기막을 형성하는 공정과 동일한 공정을 이용하여 표면 처리 패턴층(140)을 용이하게 형성할 수 있고, 예를들면 이러한 공정은 화학 기상 증착법일 수 있다.
전술한 대로, 선택적 실시예로서 표면 처리 패턴층(140)은 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane)로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있고, 상기의 재료들은 화학 기상 증착법을 이용하여 용이하게 형성할 수 있다.
광기능층(150)은 표시 소자(120)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(120a)에서 발생한 광의 색을 변환하는 광변환 부재 또는 컬러 필터일 수 있다. 광기능층(150)은 표시 영역(120a)에서 방출되는 광의 특성을 변화 또는 증진시켜 디스플레이 장치(100)의 광특성을 향상한다.
광기능층(150)은 표면 처리 패턴층(140)의 패턴에 대응되도록 형성된다.
선택적 실시예로서 광기능층(150)은 표시 영역(120a)에서 방출하는 빛의 색상에 대응하는 색과 동일 또는 이와 동종의 색을 갖는 물질을 포함할 수 있다.
예를들면 광기능층(150)는 청색, 녹색 및 적색의 광기능층(150)를 포함할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
광기능층(150)은 표면 처리 패턴층(140)과 동일한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(140)이 친수성을 갖는 경우 광기능층(150)도 친수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(140)이 소수성을 갖는 경우 광기능층(150)도 소수성을 갖도록 한다.
이를 통하여 광기능층(150)를 형성 시 별도의 패터닝 공정, 예를들면 포토 리소그래피 공정이 없이 표면 처리 패턴층(140)에 대응하는 패턴을 갖도록 형성할 수 있다. 구체적으로 광기능층(150)이 표면 처리 패턴층(140)상에 표면 처리 패턴층(140)과 중첩되도록 형성될 수 있다. 즉, 본 실시예에서 표면 처리 패턴층(140)에 "대응"한다는 것은 적어도 표면 처리 패턴층(140)과 표시 영역(120a)에서 광기능층(150)이 중첩된다는 의미를 포함한다.
즉, 예를들면 표면 처리 패턴층(140)을 형성한 후, 그 위에 광기능층(150)를 형성하기 위한 물질을 액상 형태로 별도의 마스크없이 코팅하면, 자연적으로 광기능층(150)를 형성하기 위한 물질이 표면 처리 패턴층(140)에만 대응하여 배치되고, 결과적으로 표면 처리 패턴층(140)에 대응하는 패턴을 갖는 광기능층(150)가 형성된다.
결과적으로 표시 영역(120a)에 대응하는 광기능층(150)가 형성된다.
선택적 실시예로서 광기능층(150)은 슬릿 다이 코팅(slit die coating), 스핀 코팅, 잉크젯 공정 등을 통해 형성할 수 있고, 표면 처리 패턴층(140)이 친수성을 갖는 경우 광기능층(150)이 이에 대응하는 친수성을 갖도록, 광기능층(150)은 예를들면 친수성 작용기인 설폰기(-SO3H), 카복실기(-COOH), 아미노기(-NH2), 암모늄(-NH4), -SO3 또는 -COOM(M은 알칼리금속)를 갖는 용매를 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 표면 처리 패턴층(140)이 소수성을 갖는 경우 광기능층(150)이 이에 대응하는 소수성을 갖도록, 광기능층(150)은 예를들면 소수성 작용기인 불소, 탄화수소, 할로겐화알킬, 유기규소화합물, 알킬, 벤질을 갖는 용매를 이용하여 형성할 수 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치(100)는 표시 영역(120a)에 대응하는 광기능층(150)를 포함한다. 광기능층(150)은 광변환 부재 또는 컬러 필터를 포함한다. 이를 통하여 표시 영역(120a)에서 1차적으로 발생한 광의 투과율, 색상 등을 제어하여 디스플레이 장치(100)의 광특성을 향상하고, 특히 적절한 제어를 거치면 별도의 편광 부재가 필요하지 않을 수 있다.
또한, 본 실시예의 디스플레이 장치(100)는 봉지 부재(130)상에 형성된 표면 처리 패턴층(140)을 포함하고, 표면 처리 패턴층(140)이 소수성 또는 친수성을 갖도록 한다. 또한, 표면 처리 패턴층(140)상에 표면 처리 패턴층(140)과 동일한 표면 특성(즉 소수성 또는 친수성 중 하나)을 갖는 광기능층(150)을 형성하여, 복잡한 단계를 구비하는 패터닝 공정, 특히 습식 단계를 구비하는 포토 리소그래피 공정을 진행할 필요 없이 표면 처리 패턴층(140)에 대응하는 패턴을 갖는 광기능층(150)를 용이하게 형성할 수 있다.
특히, 선택적 실시예로서 봉지 부재(130)의 최외곽층, 예를들면 무기막을 형성하고 나서, 그 위에 간단한 공정, 예를들면 무기막의 표면 에너지를 변경하는 공정을 거치면, 표면 처리 패턴층(140)을 용이하게 형성할 수 있다. 이를 통하여 공정의 효율성을 증대한 디스플레이 장치(100)의 제조 방법을 구현할 수 있다.
도3은 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 것이다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.도3을 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(300)는 기판(310); 표시 소자(320); 봉지 부재(330); 표면 처리 패턴층(340); 및 광기능층(350)을 포함한다.
상기 봉지 부재(330) 상에 상기 표면 처리 패턴층(340) 및 상기 광기능층(350)이 형성된다.
상기 표면 처리 패턴층(340)은 상기 봉지 부재(330)상에 형성되고 표시 소자(320)의 표시 영역(320a)에 대응되도록 형성된다.
표면 처리 패턴층(340)은 친수성 또는 소수성을 갖도록 형성된다. 표면 처리 패턴층(340)을 형성하는 재료 및 형성하는 방법은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
광기능층(360)은 비표시 영역(320b)에 대응되도록 봉지 부재(330)상에 형성된다. 광기능층(350)은 표시 소자(320)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(320a)에서 발생한 광이 비표시 영역(320b)을 통하여 취출되는 것을 감소 또는 차단하도록 광을 차단하는 부재, 예를들면 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다. 이를 통하여 디스플레이 장치(300)의 콘트라스트를 향상하여 광특성을 향상한다.
선택적 실시예로서 광기능층(360)은 상기 표면 처리 패턴층(340)과 이격되도록 형성될 수 있고, 또 다른 예로서 표면 처리 패턴층(340)의 측면과 접하도록 형성될 수 있다.
광기능층(360)은 표면 처리 패턴층(340)과 상이한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(340)이 친수성을 갖는 경우 광기능층(360)은 소수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(340)이 소수성을 갖는 경우 광기능층(360)은 친수성을 갖도록 한다.
이를 통하여 광기능층(360)을 형성 시 별도의 패터닝 공정, 예를들면 포토 리소그래피 공정이 없이 표면 처리 패턴층(340)에 대응하는 패턴을 갖도록 형성할 수 있다. 구체적으로 광기능층(360)이 표면 처리 패턴층(340)의 측면에 인접하도록 형성될 수 있고, 복수의 표면 처리 패턴층(340)의 이격된 공간에 형성될 수 있다.
즉, 본 실시예에서 광기능층(360)이 표면 처리 패턴층(340)에 "대응"한다는 것은 광기능층(360)이 적어도 표면 처리 패턴층(340)의 패턴을 따라서 표면 처리 패턴층(340)의 측면과 이격 또는 접하도록 형성된다는 의미를 포함한다.
선택적 실시예로서 광기능층(360)은 슬릿 다이 코팅(slit die coating), 스핀 코팅, 잉크젯 공정 등을 통해 형성할 수 있고, 표면 처리 패턴층(340)이 친수성을 갖는 경우 광기능층(360)이 이와 상이한 소수성을 갖도록, 광기능층(360)은 예를들면 소수성 작용기인 불소, 탄화수소, 할로겐화알킬, 유기규소화합물, 알킬, 벤질을 갖는 용매를 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 표면 처리 패턴층(340)이 소수성을 갖는 경우 광기능층(350)이 이와 상이한 친수성을 갖도록, 광기능층(360)은 예를들면 친수성 작용기인 설폰기(-SO3H), 카복실기(-COOH), 아미노기(-NH2), 암모늄(-NH4), -SO3 또는 -COOM(M은 알칼리금속)를 갖는 용매를 이용하여 형성할 수 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치(300)는 비표시 영역(320a)에 대응하는 광기능층(360)을 포함하고, 예를들면 광을 차단하는 블랙 매트릭스를 포함한다. 이를 통하여 비표시 영역(320b)에서의 광의 방출을 감소 또는 차단하여 디스플레이 장치(300)의 콘트라스트를 향상할 수 있다.
또한, 본 실시예의 디스플레이 장치(300)는 봉지 부재(330)상에 형성된 표면 처리 패턴층(340)을 포함하고, 표면 처리 패턴층(340)이 소수성 또는 친수성을 갖도록 한다. 또한, 표면 처리 패턴층(340)상에 표면 처리 패턴층(340)과 상이한 표면 특성(즉 소수성 또는 친수성 중 하나)을 갖는 광기능층(360)을 형성하여, 복잡한 단계를 구비하는 패터닝 공정, 특히 습식 단계를 구비하는 포토 리소그래피 공정을 진행할 필요 없이 표면 처리 패턴층(340)에 대응, 즉 표면 처리 패턴층(340)과 인접하도록 표면 처리 패턴층(340)의 측면과 접하거나 또는 이격되는 패턴을 갖는 광기능층(360)을 용이하게 형성할 수 있다.
특히, 선택적 실시예로서 봉지 부재(3320)의 최외곽층, 예를들면 무기막을 형성하고 나서, 그 위에 간단한 공정, 예를들면 무기막의 표면 에너지를 변경하는 공정을 거치면, 표면 처리 패턴층(340)을 용이하게 형성할 수 있다. 이를 통하여 공정의 효율성을 증대한 디스플레이 장치(300)의 제조 방법을 구현할 수 있다.
도4는 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 것이다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.도4를 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(400)는 기판(410), 표시 소자(420), 봉지 부재(430), 표면 처리 패턴층(440), 제1 광기능층(450) 및 제2 광기능층(460)을 포함한다.
상기 봉지 부재(430) 상에 상기 표면 처리 패턴층(440), 제1 광기능층(450) 및 상기 제2 광기능층(460)이 형성된다.
상기 표면 처리 패턴층(440)은 상기 표시 소자(420)의 표시 영역(420a)에 대응되도록 형성된다.
표면 처리 패턴층(440)은 친수성 또는 소수성을 갖도록 형성된다. 표면 처리 패턴층(440)을 형성하는 재료 및 형성하는 방법은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
상기 제1 광기능층(450)은 표시 소자(420)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(420a)에서 발생한 광의 색을 변환하는 광변환 부재 또는 컬러 필터일 수 있다. 제1 광기능층(450)은 표시 영역(420a)에서 방출되는 광의 특성을 변화 또는 증진시켜 디스플레이 장치(400)의 광특성을 향상한다.
제1 광기능층(450)은 표면 처리 패턴층(440)과 동일한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(440)이 친수성을 갖는 경우 제1 광기능층(450)도 친수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(440)이 소수성을 갖는 경우 제1 광기능층(450)도 소수성을 갖도록 한다.
제1 광기능층(450)은 표면 처리 패턴층(440)상에 표면 처리 패턴층(440)과 중첩되도록 형성될 수 있다. 즉, 본 실시예에서 표면 처리 패턴층(440)에 "대응"한다는 것은 적어도 표면 처리 패턴층(440)과 표시 영역(420a)에서 제1 광기능층(450)이 중첩된다는 의미를 포함한다.
제2 광기능층(460)은 비표시 영역(420b)에 대응되도록 봉지 부재(430)상에 형성된다. 제2 광기능층(460)은 표시 소자(420)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(420a)에서 발생한 광이 비표시 영역(420b)을 통하여 취출되는 것을 감소 또는 차단하도록 광을 차단하는 부재, 예를들면 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다. 이를 통하여 디스플레이 장치(400)의 콘트라스트를 향상하여 광특성을 향상한다.
선택적 실시예로서 제2 광기능층(460)은 상기 표면 처리 패턴층(440)과 이격되도록 형성될 수 있고, 또 다른 예로서 표면 처리 패턴층(440)의 측면과 접하도록 형성될 수 있다.
제2 광기능층(460)은 표면 처리 패턴층(440)과 상이한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(440)이 친수성을 갖는 경우 제2 광기능층(460)은 소수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(440)이 소수성을 갖는 경우 제2 광기능층(460)은 친수성을 갖도록 한다.
선택적 실시예로서 제1 광기능층(450)의 측면은 제2 광기능층(460)과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 제2 광기능층(460)의 측면은 제1 광기능층(450)과 접할 수 있다.
또 다른 예로서 제1 광기능층(450)의 측면과 제2 광기능층(460)의 측면이 접할 수 있다.
본 실시예의 디스플레이 장치(400)는 표시 영역(420a)에 대응하는 제1 광기능층(450)를 포함한다. 제1 광기능층(450)은 광변환 부재 또는 컬러 필터를 포함한다. 이를 통하여 표시 영역(420a)에서 1차적으로 발생한 광의 투과율, 색상 등을 제어하여 디스플레이 장치(400)의 광특성을 향상하고, 특히 적절한 제어를 거치면 별도의 편광 부재가 필요하지 않을 수 있다.
또한, 본 실시예의 디스플레이 장치(400)는 비표시 영역(420b)에 대응하는 제2 광기능층(460)을 포함하고, 예를들면 광을 차단하는 블랙 매트릭스를 포함한다. 이를 통하여 비표시 영역(420b)에서의 광의 방출을 감소 또는 차단하여 디스플레이 장치(400)의 콘트라스트를 향상할 수 있다.
또한, 본 실시예의 디스플레이 장치(400)는 봉지 부재(430)상에 형성된 표면 처리 패턴층(440)을 포함하고, 표면 처리 패턴층(440)이 소수성 또는 친수성을 갖도록 한다. 또한, 표면 처리 패턴층(440)상에 표면 처리 패턴층(440)과 동일한 표면 특성(즉 소수성 또는 친수성 중 하나)을 갖는 제1 광기능층(450)을 형성하고, 표면 처리 패턴층(440)상에 표면 처리 패턴층(440)과 상이한 표면 특성(즉 소수성 또는 친수성 중 하나)을 갖는 제2 광기능층(460)을 형성하여, 복잡한 단계를 구비하는 패터닝 공정, 특히 습식 단계를 구비하는 포토 리소그래피 공정을 진행할 필요 없이 표면 처리 패턴층(440)에 대응하는 패턴을 갖는 제1 광기능층(450) 및 제2 광기능층(460)을 용이하게 형성할 수 있다.
특히, 선택적 실시예로서 봉지 부재(430)의 최외곽층, 예를들면 무기막을 형성하고 나서, 그 위에 간단한 공정, 예를들면 무기막의 표면 에너지를 변경하는 공정을 거치면, 표면 처리 패턴층(440)을 용이하게 형성할 수 있다. 이를 통하여 공정의 효율성을 증대한 디스플레이 장치(400)의 제조 방법을 구현할 수 있다.
도5는 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도5를 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(500)는 기판(510), 표시 소자(520), 봉지 부재(530), 표면 처리 패턴층(540), 및 광기능층(550)을 포함한다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
표면 처리 패턴층(540)은 봉지 부재(530) 상에 형성되고 상기 표시 소자(520)의 비표시 영역(520b)에 대응되도록 형성된다.
상기 표면 처리 패턴층(540)은 친수성 또는 소수성을 갖도록 형성된다. 표면 처리 패턴층(540)의 형성하는 방법 및 재료는 전술한 실시예에서 설명한 바와 동일 또는 유사하므로 구체적인 내용에 대한 설명은 생략한다.
광기능층(560)은 표시 영역(520a)에 대응되도록 봉지 부재(530)상에 형성된다. 선택적 실시예로서 상기 광기능층(550)는 상기 표면 처리 패턴층(540)과 이격되도록 형성될 수 있고, 또 다른 예로서 표면 처리 패턴층(540)의 측면과 접하도록 형성될 수 있다.
광기능층(550)은 표시 소자(520)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(520a)에서 발생한 광의 색을 변환하는 광변환 부재 또는 컬러 필터일 수 있다. 광기능층(550)은 표시 영역(520a)에서 방출되는 광의 특성을 변화 또는 증진시켜 디스플레이 장치(500)의 광특성을 향상한다.
선택적 실시예로서 광기능층(150)은 표시 영역(520a)에서 방출하는 빛의 색상에 대응하는 색과 동일 또는 이와 동종의 색을 갖는 물질을 포함할 수 있다.
예를들면 광기능층(550)은 청색, 녹색 및 적색의 광기능층(550)를 포함할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
광기능층(550)은 표면 처리 패턴층(540)과 상이한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(540)이 친수성을 갖는 경우 광기능층(550)은 소수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(540)이 소수성을 갖는 경우 광기능층(550)은 친수성을 갖도록 한다.
이를 통하여 광기능층(550)을 형성 시 별도의 패터닝 공정, 예를들면 포토 리소그래피 공정이 없이 표면 처리 패턴층(540)에 대응하는 패턴을 갖도록 형성할 수 있다. 구체적으로 광기능층(550)이 표면 처리 패턴층(540)의 측면에 인접하도록 형성될 수 있고, 복수의 표면 처리 패턴층(540)의 이격된 공간에 형성될 수 있다.
즉, 본 실시예에서 광기능층(550)이 표면 처리 패턴층(540)에 "대응"한다는 것은 광기능층(550)이 적어도 표면 처리 패턴층(440)의 패턴을 따라서 표면 처리 패턴층(540)의 측면과 이격 또는 접하도록 형성된다는 의미를 포함한다.
광기능층(550)을 형성하는 방법, 특히 소수성 또는 친수성을 갖도록 하는 방법은 전술한 실시예에서 설명한 바와 같으므로 구체적인 내용에 대한 설명은 생략한다.
도6은 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 것이다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
도6을 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(600)는 기판(610), 표시 소자(620), 봉지 부재(630), 표면 처리 패턴층(640) 및 광기능층(660)을 포함한다.
표면 처리 패턴층(640)은 상기 봉지 부재(630) 상에 상기 표시 소자(620)의 상기 비표시 영역(620b)에 대응되도록 형성된다.
상기 광기능층(660)은 상기 표면 처리 패턴층(640)과 대응되도록 형성되고, 선택적 실시예로서 광기능층(660)은 표면 처리 패턴층(640)과 중첩되도록 형성될 수 있다.
표면 처리 패턴층(640)은 친수성 또는 소수성을 갖도록 형성된다. 표면 처리 패턴층(640)을 형성하는 재료 및 형성하는 방법은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
광기능층(660)은 비표시 영역(620a)에 대응되도록 봉지 부재(630)상에 형성된다. 광기능층(660)은 표시 소자(620)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(620a)에서 발생한 광이 비표시 영역(620b)을 통하여 취출되는 것을 감소 또는 차단하도록 광을 차단하는 부재, 예를들면 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다. 이를 통하여 디스플레이 장치(600)의 콘트라스트를 향상하여 광특성을 향상한다.
광기능층(660)은 표면 처리 패턴층(640)과 동일한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(640)이 친수성을 갖는 경우 광기능층(660)은 친수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(640)이 소수성을 갖는 경우 광기능층(660)은 소수성을 갖도록 한다.
이를 통하여 광기능층(660)을 형성 시 별도의 패터닝 공정, 예를들면 포토 리소그래피 공정이 없이 표면 처리 패턴층(640)에 대응하는 패턴을 갖도록 형성할 수 있다. 즉, 본 실시예에서 표면 처리 패턴층(640)에 "대응"한다는 것은 적어도 표면 처리 패턴층(640)과 비표시 영역(620b)에서 광기능층(660)이 중첩된다는 의미를 포함한다.
도7은 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 것이다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.도7을 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(700)는 기판(710), 표시 소자(720), 봉지 부재(730), 표면 처리 패턴층(740), 제1 광기능층(750) 및 제2 광기능층(760)을 포함한다.
봉지 부재(730) 상에 상기 표면 처리 패턴층(740), 제1 광기능층(750) 및 제2 광기능층(760)이 형성된다.
표면 처리 패턴층(740)은 봉지 부재(730) 상에 상기 표시 소자(720)의 비표시 영역(720b)에 대응되도록 형성된다.
표면 처리 패턴층(740)은 친수성 또는 소수성을 갖도록 형성된다. 표면 처리 패턴층(740)을 형성하는 재료 및 형성하는 방법은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
제1 광기능층(750)은 표시 소자(720)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(720a)에서 발생한 광의 색을 변환하는 광변환 부재 또는 컬러 필터일 수 있다. 제1 광기능층(750)은 표시 영역(720a)에서 방출되는 광의 특성을 변화 또는 증진시켜 디스플레이 장치(700)의 광특성을 향상한다.
제1 광기능층(750)은 표면 처리 패턴층(740)과 상이한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(740)이 친수성을 갖는 경우 제1 광기능층(750)은 소수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(740)이 소수성을 갖는 경우 제1 광기능층(750)은 친수성을 갖도록 한다.
제1 광기능층(750)은 표면 처리 패턴층(740)과 대응되도록 형성된다. 구체적인 예로서, 제1 광기능층(750)은 표면 처리 패턴층(740)과 이격되도록 형성될 수 있고, 또 다른 예로서 표면 처리 패턴층(740)의 측면과 접하도록 형성될 수 있다.
제2 광기능층(760)은 비표시 영역(720b)에 대응되도록 봉지 부재(730)상에 형성된다. 제2 광기능층(760)은 표시 소자(720)에서 방출된 광의 특성을 제어할 수 있는 층으로서, 예를들면 표시 영역(720a)에서 발생한 광이 비표시 영역(720b)을 통하여 취출되는 것을 감소 또는 차단하도록 광을 차단하는 부재, 예를들면 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다. 이를 통하여 디스플레이 장치(700)의 콘트라스트를 향상하여 광특성을 향상한다.
제2 광기능층(760)은 표면 처리 패턴층(740)과 동일한 표면 특성, 즉 친수성 또는 소수성을 갖는다. 구체적으로 표면 처리 패턴층(740)이 친수성을 갖는 경우 제2 광기능층(760)은 친수성을 갖고, 표면 처리 패턴층(740)이 소수성을 갖는 경우 제2 광기능층(760)은 소수성을 갖도록 한다.
제2 광기능층(760)은 표면 처리 패턴층(740)상에 표면 처리 패턴층(740)과 중첩되도록 형성될 수 있다. 즉, 본 실시예에서 표면 처리 패턴층(740)에 "대응"한다는 것은 적어도 표면 처리 패턴층(740)과 비표시 영역(720b)에서 제2 광기능층(760)이 중첩된다는 의미를 포함한다.
선택적 실시예로서 제1 광기능층(750)의 측면은 제2 광기능층(760)과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 제2 광기능층(760)의 측면은 제1 광기능층(750)과 접할 수 있다.
또 다른 예로서 제1 광기능층(750)의 측면과 제2 광기능층(760)의 측면이 접할 수 있다.
도8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
도8을 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(800)는 기판(810), 표시 소자(820), 봉지 부재(830), 표면 처리 패턴층(840), 제1 광기능층(850), 제2 광기능층(860) 및 보호막(870)을 포함한다.
구체적으로 도 8의 디스플레이 장치(800)는 도 4와 비교할 때 보호막(870)을 더 포함한다.
보호막(870)은 제1 광기능층(850) 및 제2 광기능층(860)상에 형성된다. 선택적 실시예로서 보호막(870)은 제1 광기능층(850) 및 제2 광기능층(860)을 덮도록 형성될 수 있다.
도시하지 않았으나, 본 실시예의 보호막(870)이 도 1, 도 3, 도 5 내지 도 6의 구조 및 후술할 도 9 및 도 10에도 적용될 수 있다.
도9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도9를 참조하면, 본 실시예에 따른 디스플레이 장치(900)는 기판(910), 표시 소자(920), 봉지 부재(930), 표면 처리 패턴층(940), 제1 광기능층(950) 및 제2 광기능층(960)을 포함한다. 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
상기 기판(910) 상에 표시 소자(920)는 표시 영역(920a) 및 비표시 영역(920b)을 구비한다.
표시 영역(920a)에는 적어도 제1 전극(921), 발광층을 구비하는 중간층(922) 및 제2 전극(923)이 형성된다. 제2 전극(923) 상에 봉지 부재(930)가 배치된다.
선택적 실시예로서 표시 영역(920a)은 적어도 제1 전극(921), 중간층(922) 및 제2 전극(923)이 모두 중첩된 영역을 구비한다. 비표시 영역(920b)은 제1 전극(921), 중간층(922) 및 제2 전극(923)이 모두 존재하지 않는 영역을 포함할 수 있다. 또 다른 예로서 비표시 영역(920b)은 제1 전극(921), 중간층(922) 및 제2 전극(923) 중 적어도 어느 하나가 존재하지 않는 영역을 포함할 수 있다.
봉지 부재(930)상에 표면 처리 패턴층(940), 제1 광기능층(950) 및 제2 광기능층(960)이 형성된다. 표면 처리 패턴층(940), 제1 광기능층(950) 및 제2 광기능층(960)의 구체적인 내용은 도 4에서 설명한 바와 같으므로 구체적인 설명은 생략한다.
도시하지 않았으나, 본 실시예의 표시 소자(920)는 전술한 도 1 내지 도 8의 구조에 모두 적용할 수 있다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도10을 참조하면, 본 실시예의 디스플레이 장치(1000)는 기판(1010), 표시 소자(1020), 봉지 부재(1030), 표면 처리 패턴층(1040) 및 제1 광기능층(1050) 및 제2 광기능층(1060)을 포함한다. 또한, 디스플레이 장치(1000)는 박막 트랜지스터(Thin film transistor)를 더 포함하고, 박막 트랜지스터(TFT)는 활성층(1003), 게이트 전극(1005), 소스 전극(1007) 및 드레인 전극(1008)을 구비한다.
기판(1010)상에 버퍼층(1001)이 형성된다. 상기 버퍼층(1001)은 필수 구성 요소가 아니므로, 생략할 수 있다.
상기 버퍼층(1001)상에 소정 패턴의 활성층(1003)이 형성된다. 상기 활성층(1003)은 아모퍼스 실리콘 또는 폴리 실리콘과 같은 무기 반도체로 형성할 수 있고, 다른 예로서 유기 반도체로 형성될 수 있고, 또 다른 예로서 산화물 반도체 물질을 함유할 수 있다. 또한 선택적 실시예로서 활성층(1003)의 형성 시 3족 또는 5족 불순물을 도핑하여 형성할 수 있다.
상기 활성층(1003)의 상부에는 게이트 절연막(1004)이 형성되고, 게이트 절연막(1004)상부의 소정 영역에는 게이트 전극(1005)이 형성된다. 상기 게이트 절연막(1004)은 상기 활성층(1003)과 상기 게이트 전극(1005)을 절연하기 위한 것으로 유기물 또는 SiNx, SiO2같은 무기물로 형성할 수 있다.
상기 게이트 전극(1005)은 Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo를 함유할 수 있고, Al:Nd, Mo:W 합금 등과 같은 합금을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않고 인접한 층과의 밀착성, 평탄성, 전기 저항 및 가공성 등을 고려하여 다양한 재질로 형성할 수 있다.
상기 게이트 전극(1005)의 상부로는 층간 절연막(1006)이 형성된다. 상기 층간 절연막(1006) 및 상기 게이트 절연막(1004)은 상기 활성층(1003)의 소정의 영역을 노출하도록 형성되고, 이러한 상기 활성층(1003)의 노출된 영역과 접하도록 소스 전극(1007) 및 드레인 전극(1008)이 형성된다.
상기 소스 전극(1007) 및 드레인 전극(1008)은 다양한 도전 물질을 이용하여 형성할 수 있고, 단층 구조 또는 복층 구조일 수 있다.
소스 전극(1007) 및 드레인 전극(1008)상부에 패시베이션층(1018)이 형성된다. 상기 패시베이션층(1018)은 상기 드레인 전극(1008)의 소정의 영역을 노출하도록 형성되고, 드레인 전극(1008)의 노출된 영역과 연결되도록 제1 전극(1021)이 형성된다.
상기 제1 전극(1021)상에 절연물로 화소 정의막(1019)을 형성한다. 상기 화소 정의막(1019)은 상기 제1 전극(1021)의 소정의 영역을 노출하도록 형성되고, 노출된 상기 제1 전극(1021)과 접하도록 발광층을 구비하는 중간층(1022)을 형성한다. 그리고 상기 중간층(1022)상에 제2 전극(1023)을 형성한다.
제2 전극(1023) 상에 봉지 부재(1030)가 배치된다.
표시 소자(1020)는 표시 영역(1020a) 및 비표시 영역(1020b)을 구비하고, 선택적 실시예로서 표시 영역(1020a)은 적어도 제1 전극(1021), 중간층(1022) 및 제2 전극(1023)이 모두 중첩된 영역을 구비한다. 비표시 영역(1020b)은 제1 전극(1021), 중간층(1022) 및 제2 전극(1023)이 모두 존재하지 않는 영역을 포함할 수 있다. 또 다른 예로서 비표시 영역(1020b)은 제1 전극(1021), 중간층(1022) 및 제2 전극(1023) 중 적어도 어느 하나가 존재하지 않는 영역을 포함할 수 있다.
상기 봉지 부재(1030) 상에 표면 처리 패턴층(1040), 제1 광기능층(1050) 및 제2 광기능층(1060)이 형성된다. 본 실시예의 표면 처리 패턴층(1040), 제1 광기능층(1050) 및 제2 광기능층(1060)의 구체적인 내용은 도 4에서 설명한 바와 같으므로 구체적인 설명은 생략한다.
도시하지 않았으나, 본 실시예의 디스플레이 장치(1000), 즉 표면 처리 패턴층(1040)의 하부의 구조는 전술한 도 1 내지 도 8에 선택적으로 적용할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000: 디스플레이 장치
120, 320, 420, 520, 620, 720, 820, 920, 1020: 표시 소자
130, 330, 430, 530, 630, 730, 830, 930, 1030: 봉지 부재
140, 340, 440, 540, 640, 740, 840, 940, 1040: 표면 처리 패턴층
150, 360, 550, 660: 광기능층
450, 750, 850, 950, 1050: 제1 광기능층
460, 760, 860, 960, 1060: 제2 광기능층

Claims (20)

  1. 기판;
    상기 기판상에 형성되고 표시 영역 및 비표시 영역을 구비하는 표시 소자;
    상기 표시 소자를 덮는 봉지 부재;
    상기 봉지 부재상에 형성되고 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역 중 어느 하나에 대응하도록 선택적으로 형성되고,된 친수성 또는 소수성을 갖는 표면 처리 패턴층;
    상기 표면 처리 패턴층의 패턴에 대응되도록 형성된 광기능층을 포함하고,는
    상기 표면 처리 패턴층과 상기 광기능층은 아래의 조건 (a) 내지 (d) 중 어느 하나를 만족하는 디스플레이 장치:
    (a) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 표시 영역과 중첩되는 컬러 필터를 포함하고, 상기 컬러 필터는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 동일한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 중첩된 영역을 포함하도록 형성됨;
    (b) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 비표시 영역과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함하고, 상기 블랙 매트릭스는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 상이한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 인접하도록 형성됨;
    (c) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 비표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 비표시 영역과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함하고, 상기 블랙 매트릭스는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 동일한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 중첩되도록 형성된 영역을 포함함;
    (d) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 비표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 표시 영역과 중첩되는 컬러 필터를 포함하고, 상기 컬러 필터는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 상이한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 이격되거나 적어도 인접하도록 형성됨.
  2. 삭제
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 표면 처리 패턴층은 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane) 중 적어도 하나 이상을 함유하는 디스플레이 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 광기능층을 덮도록 형성된 보호막을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 소자는 제1 전극, 발광층을 구비하는 중간층 및 제2 전극을 포함하는 디스플레이 장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 봉지 부재는 적어도 하나 이상의 유기막 또는 무기막을 포함하는 디스플레이 장치.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 봉지 부재의 최외각층은 상기 무기막을 포함하도록 형성되고,
    상기 표면 처리 패턴층은 상기 봉지 부재의 최외곽층의 무기막과 접하도록 형성된 디스플레이 장치.
  13. 기판 상에 표시 영역 및 비표시 영역을 구비하는 표시 소자를 형성하는 단계;
    상기 표시 소자를 덮는 봉지 부재를 형성하는 단계;
    상기 봉지 부재상에 상기 표시 영역 또는 상기 비표시 영역에 대응하도록 선택적으로 표면을 친수성 또는 소수성을 갖도록 처리하여 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계;
    상기 표면 처리 패턴층의 패턴에 대응되도록 광기능층을 형성하는 단계;를 포함하고,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계와 상기 광기능층을 형성하는 단계는 아래의 조건 (e) 내지 (h) 중 어느 하나를 만족하는는 디스플레이 장치의 제조 방법:.
    (e) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 표시 영역과 중첩되는 컬러 필터를 포함하고, 상기 컬러 필터는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 동일한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 중첩된 영역을 포함하도록 형성됨;
    (f) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 비표시 영역과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함하고, 상기 블랙 매트릭스는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 상이한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 인접하도록 형성됨;
    (g) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 비표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 비표시 영역과 중첩되는 블랙 매트릭스를 포함하고, 상기 블랙 매트릭스는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 동일한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 중첩되도록 형성된 영역을 포함함;
    (h) 상기 표면 처리 패턴층은 상기 비표시 영역에 대응되도록 형성되고, 상기 광기능층은 상기 표시 영역과 중첩되는 컬러 필터를 포함하고, 상기 컬러 필터는 소수성 및 친수성의 표면 특성 중 상기 표면 처리 패턴층과 상이한 표면 특성을 갖고 적어도 상기 표면 처리 패턴층과 이격되거나 적어도 인접하도록 형성됨.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는,
    상기 표시 영역 또는 비표시 영역에 대응하도록 선택적으로 표면 에너지를 다르게 제어하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치의 제조 방법.
  15. 제13 항에 있어서,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는,
    에너지 조사 공정을 진행하여 상기 표면 처리 패턴층이 선택적으로 친수성 또는 소수성을 갖도록 하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치의 제조 방법.
  16. 제 13 항에 있어서,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane) 중 적어도 하나 이상을 이용하여 진행하는 것을 포함하는 디스플레이 장치 제조 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 TMS(Tetramethylsilane), TEOS(Tetraethoxylsilane), HMDSO(Hexamethyldisiloxane), TMDSO(Tetramethyldisiloxane), HMDSN(Hexamethyldisilazane), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane) 및 OMCTS(Octamethylcyclotetrasiloxane) 중 적어도 하나 이상에 포함된 성분의 양을 조절하여 소수성 또는 친수성을 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치 제조 방법.
  18. 제13 항에 있어서,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는,
    상기 봉지 부재를 형성하는 단계를 진행 시 이용한 방법과 동일한 방법을 이용하여 진행할 수 있는 디스플레이 장치의 제조 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 봉지 부재를 형성하는 단계는,
    상기 봉지 부재의 최외곽에 무기막을 포함하도록 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 상기 봉지 부재의 최외곽에 형성된 무기막을 형성 시 이용한 방법과 동일한 방법을 이용하여 진행하는 디스플레이 장치의 제조 방법.
  20. 제 13 항에 있어서,
    상기 봉지 부재의 최외곽에 구비된 무기막은 화학 기상 증착법을 이용하여 형성하고,
    상기 표면 처리 패턴층을 형성하는 단계는 화학 기상 증착법을 이용하여 진행하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치 제조 방법.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008283171A (ja) * 2007-04-13 2008-11-20 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置、表示装置の製造方法及びｓｏｉ基板

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR920702506A (ko) * 1990-08-31 1992-09-04 이데미쯔 아끼스께 칼라필터 및 그 제조방법과 그 칼라필터를 사용한 칼라 액정 패널 및 구동방법
US6911772B2 (en) 2002-06-12 2005-06-28 Eastman Kodak Company Oled display having color filters for improving contrast
JP4814522B2 (ja) * 2002-10-16 2011-11-16 ジョージア・テック・リサーチ・コーポレーション ポリマーの使用方法
JP4698347B2 (ja) * 2005-09-08 2011-06-08 富士フイルム株式会社 転写材料、それを用いたカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ、ならびに液晶表示装置
CN101341443B (zh) * 2005-12-22 2012-08-29 富士胶片株式会社 感光性转印材料、显示装置用构件及其制造方法、黑底、滤色片及其制造方法、显示装置用基板以及显示装置
JP5183165B2 (ja) * 2006-11-21 2013-04-17 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法
US7790219B2 (en) * 2006-12-22 2010-09-07 Palo Alto Research Center Incorporated Printed component circuit with fluidic template
TWI396464B (zh) * 2007-01-22 2013-05-11 Innolux Corp 有機電致發光顯示裝置及其製作方法
KR101457656B1 (ko) * 2007-05-17 2014-11-04 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체장치의 제조방법, 표시장치의 제조방법, 반도체장치,표시장치 및 전자기기
EP2198326B1 (en) * 2007-09-21 2014-05-07 LG Display Co., Ltd. Color filter, method of fabricating the same and display device
KR101367305B1 (ko) * 2008-02-15 2014-02-27 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법
KR101372851B1 (ko) 2008-07-11 2014-03-12 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치
KR101001552B1 (ko) * 2009-01-20 2010-12-17 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치
KR100994121B1 (ko) * 2009-03-11 2010-11-15 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치
KR101135539B1 (ko) * 2010-03-05 2012-04-13 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치
KR101680765B1 (ko) 2010-11-17 2016-11-30 삼성전자주식회사 유기 발광 디스플레이 장치 및 이를 구비하는 접이식 디스플레이 장치
KR101787978B1 (ko) 2011-04-29 2017-10-19 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광장치와 이의 제조방법
KR101997571B1 (ko) 2012-10-08 2019-07-09 삼성디스플레이 주식회사 유기발광 표시장치 및 그 제조 방법
JP6326856B2 (ja) * 2013-06-24 2018-05-23 セイコーエプソン株式会社 電気泳動粒子、電気泳動分散液、表示シート、表示装置および電子機器
JP6326854B2 (ja) * 2013-06-24 2018-05-23 セイコーエプソン株式会社 電気泳動粒子、電気泳動分散液、表示シート、表示装置および電子機器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008283171A (ja) * 2007-04-13 2008-11-20 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置、表示装置の製造方法及びｓｏｉ基板

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