KR102308761B1 - Substrate supporting apparatus - Google Patents

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가쓰야 오노데라
마사히로 니시오카
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고요 써모 시스템 가부시끼 가이샤
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Abstract

(과제) 피처리 기판을 지지하기 위한 서셉터를 구비하는 기판 지지 장치에 있어서, 서셉터를 지지하는 지지체에 대한 서셉터의 위치 어긋남을 확실하게 억제하면서, 서셉터의 교환 작업을 용이하게 또한 저렴하게 행할 수 있도록 한다.
(해결 수단) 기판 지지 장치(6)는, 피처리 기판(100)이 놓이는 서셉터(14)와, 착탈 방향(X1)을 따라 서셉터(14)를 이동시킴으로써 서셉터(14)를 착탈 가능한 지지체(13)와, 지지체(13)가 고정된 플레이트(11, 12)와, 이동 규제 부재(15L, 15R)를 가지고 있다. 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 서셉터(14)에 대한 피처리 기판(100)의 출입을 허용하면서 서셉터(14)가 지지체(13)에 대해 이동하는 것을 규제하기 위해서 설치되고, 또한, 서셉터(14)를 지지체(13)에 착탈하기 위해서 플레이트(11, 12)에 착탈 가능하다.(Problem) In a substrate support apparatus including a susceptor for supporting a substrate to be processed, the susceptor replacement operation is easily and inexpensively while reliably suppressing the positional displacement of the susceptor with respect to the support for supporting the susceptor. make it possible to do
(Solution Means) The substrate support device 6 is capable of detaching the susceptor 14 by moving the susceptor 14 on which the processing target substrate 100 is placed and the susceptor 14 along the detachment direction X1. It has the support body 13, the plates 11 and 12 to which the support body 13 was fixed, and movement control members 15L, 15R. The movement regulating members 15L and 15R are provided to regulate the movement of the susceptor 14 with respect to the support 13 while allowing the substrate 100 to enter and exit the susceptor 14 , and , It is detachable from the plates 11 and 12 in order to attach and detach the susceptor 14 to the support 13 .

Description

기판 지지 장치{SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS}SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS

본 발명은, 기판 지지 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate support apparatus.

반도체 웨이퍼를 열처리하기 위한 장치가 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 특허문헌 1에 기재된 장치는, 종형 웨이퍼 지지 장치이다. 이 장치는, 복수의 지주의 측면에 돌기를 형성하고, 이들의 돌기에 웨이퍼 지지 링을 놓는 구성을 가지고 있다. 웨이퍼 지지 링에, 실리콘 웨이퍼가 놓인다.The apparatus for heat-processing a semiconductor wafer is known (for example, refer patent document 1). The apparatus described in Patent Document 1 is a vertical wafer support apparatus. This apparatus has a structure in which projections are formed on the side surfaces of a plurality of struts, and wafer support rings are placed on these projections. On the wafer support ring, a silicon wafer is placed.

일본국 특허공개 평 10-50626호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 10-50626

그런데, 반도체 열처리 프로세스에 있어서, Fan-Out 웨이퍼에 대한 어닐링 처리 등, 수지 기판의 휨을 교정하기 위한 어닐링 처리가 행해지는 경우가 있다. 이러한 반도체 열처리 프로세스에 있어서는, 웨이퍼의 하면을 지지하는 서셉터(기판 지지 플레이트)가 필요하다. 그리고, 배치식 열처리 장치는, 웨이퍼를 복수 장 일괄적으로 열처리하기 위해, 서셉터를 복수 설치할 필요가 있다. 또한, 특허문헌 1에는, 지주와 웨이퍼 지지 링을 어떻게 고정하고 있는지의 구체적인 개시는 없다.By the way, in a semiconductor heat treatment process, an annealing process for correcting the curvature of a resin substrate, such as an annealing process with respect to a fan-out wafer, is performed in some cases. In such a semiconductor heat treatment process, a susceptor (substrate support plate) for supporting the lower surface of the wafer is required. In the batch-type heat treatment apparatus, it is necessary to provide a plurality of susceptors in order to heat-treat a plurality of wafers at once. In addition, in patent document 1, there is no concrete indication of how the support|pillar and the wafer support ring are being fixed.

한편, 지주에 서셉터를 부착하는 방법으로서는, (1) 복수의 지주의 각각에 형성한 홈에 서셉터를 삽입하여 서셉터의 외주 가장자리부를 지주로 지지하는 방법, (2) 복수의 지주에 서셉터를 용접 고정하는 방법을 들 수 있다.On the other hand, as a method of attaching a susceptor to a post, (1) a method of inserting a susceptor into a groove formed in each of a plurality of posts to support the outer peripheral edge of the susceptor by a post; A method of fixing the scepter by welding is mentioned.

이 중, 상기 (1)의 방법에서는, 열처리 장치의 기판 지지 장치를 장기간 사용했을 때에, 진동이나 공기압 등의 외력에 의해, 지주에 대해 서셉터가 위치 어긋나, 서셉터가 지주로부터 탈락할 우려가 있다. 또, 상기 외력에 의해, 서셉터가 지주에 대해 평면에서 볼 때 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전함으로써, 웨이퍼 반송 핸드 등과 서셉터가 접촉할 우려가 있다.Among these, in the method (1) above, when the substrate support apparatus of the heat treatment apparatus is used for a long period of time, the susceptor may be displaced relative to the support post due to external force such as vibration or air pressure, and there is a risk that the susceptor may drop off from the support post. have. Further, due to the external force, the susceptor rotates in a clockwise or counterclockwise direction in plan view with respect to the post, so that the wafer transfer hand or the like may come into contact with the susceptor.

상기 (2)의 방법의 경우, 지주에 대한 서셉터의 위치 어긋남은 발생하지 않는다. 그러나, 만일, 서셉터가 하나라도 파손되었을 경우, 지주 및 복수의 서셉터를 포함하는 기판 지지 장치 전체를 교환할 필요가 있다. 이 때문에, 기판 지지 장치의 예비품을 반도체 제조 공장에서 보관해 둘 필요가 있어, 반도체 제조 공장에 있어서의 비용적인 부담이 커진다. 또, 서셉터가 파손된 보트를 수리하는 경우에 대해서도, 신품의 서셉터의 부품값에 추가하여 용접 가공값이 필요해져, 수리에 시간이 들고 또한 비용 부담도 커진다.In the case of the method of the above (2), the position shift of the susceptor with respect to the post does not occur. However, if even one susceptor is broken, it is necessary to replace the entire substrate supporting apparatus including the pole and the plurality of susceptors. For this reason, it is necessary to store the spare part of a board|substrate support apparatus in a semiconductor manufacturing plant, and the cost burden in a semiconductor manufacturing plant becomes large. Moreover, also in the case of repairing a boat in which the susceptor is damaged, a welding process value is required in addition to the parts value of a new susceptor, and repair takes time and the cost burden becomes large.

본 발명은, 상기 사정을 감안함으로써, 웨이퍼 등의 피처리 기판을 지지하기 위한 서셉터를 구비하는 기판 지지 장치에 있어서, 서셉터를 지지하는 지지체에 대한 서셉터의 위치 어긋남을 확실하게 억제하면서, 서셉터의 교환 작업을 용이하게 또한 저렴하게 행할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.In view of the above circumstances, the present invention provides a substrate supporting apparatus including a susceptor for supporting a processing target substrate such as a wafer, while reliably suppressing a positional shift of the susceptor with respect to a support supporting the susceptor, An object of the present invention is to enable the replacement of the susceptor to be easily and inexpensively performed.

(1) 상기 과제를 해결하기 위해서, 이 발명의 어느 국면에 관계되는 기판 지지 장치는, 피처리 기판이 각각 놓이는 복수의 서셉터와, 복수의 상기 서셉터를 지지하는 복수의 지지부가 세로 방향으로 늘어선 구성을 가짐과 더불어, 상기 세로 방향과 교차하는 소정의 착탈 방향을 따라 상기 서셉터를 이동시킴으로써 상기 서셉터를 대응하는 상기 지지부에 착탈 가능하게 구성된 지지체와, 상기 지지체가 고정된 베이스 플레이트와, 상기 서셉터에 대한 상기 피처리 기판의 출입을 허용하면서 각 상기 서셉터가 상기 지지체에 대해 이동하는 것을 규제하기 위해서 설치되고, 또한, 상기 서셉터를 상기 지지체에 착탈하기 위해서 상기 베이스 플레이트에 착탈 가능한 이동 규제 부재를 구비하고 있다.(1) In order to solve the above problems, in a substrate supporting apparatus according to an aspect of the present invention, a plurality of susceptors on which a substrate to be processed is placed, respectively, and a plurality of support portions supporting the plurality of susceptors in the longitudinal direction A support body configured to be detachably attached to the support part corresponding to the susceptor by moving the susceptor along a predetermined detachment direction intersecting the longitudinal direction, and a base plate to which the support body is fixed; It is provided to regulate movement of each of the susceptors with respect to the support while allowing entry and exit of the substrate to and from the susceptor, and is detachable from the base plate in order to attach and detach the susceptor to the support. A movement regulating member is provided.

이 구성에 의하면, 이동 규제 부재가 설치되어 있음으로써, 지지체에 대한 서셉터의 위치 어긋남을 억제할 수 있다. 이에 의해, 진동이나 공기압 등의 외력이 지지체와 서셉터 간에 작용해도, 지지체에 대한 서셉터의 위치 어긋남을 보다 확실하게 억제할 수 있다. 따라서, 지지체로부터의 서셉터의 탈락을 억제할 수 있다. 또, 서셉터가 평면에서 볼 때 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전하는 것을 억제할 수 있으므로, 서셉터가 웨이퍼 반송 핸드 등의 다른 부재와 접촉하는 것을, 보다 확실하게 억제할 수 있다. 또한, 이동 규제 부재는, 베이스 플레이트에 대해 착탈 가능하게 구성되어 있다. 이에 의해, 파손된 서셉터를 교환할 때에는, 이동 규제 부재를 베이스 플레이트로부터 떼어냄으로써, 서셉터를 지지체로부터 떼어낼 수 있다. 따라서, 예를 들면, 복수의 서셉터 중 파손된 서셉터를 교환할 때에, 파손된 서셉터만을 지지체로부터 떼어낼 수 있다. 그 결과, 서셉터의 교환 작업을 용이하게 또한 저렴하게 행할 수 있다.According to this structure, the position shift of the susceptor with respect to a support body can be suppressed by providing the movement control member. Accordingly, even if an external force such as vibration or air pressure acts between the support and the susceptor, it is possible to more reliably suppress the displacement of the susceptor with respect to the support. Therefore, drop-off|omission of a susceptor from a support body can be suppressed. Moreover, since rotation of the susceptor in a clockwise or counterclockwise direction in plan view can be suppressed, it can suppress more reliably that a susceptor comes into contact with other members, such as a wafer conveyance hand. Moreover, the movement control member is comprised so that attachment or detachment is possible with respect to a base plate. Accordingly, when replacing the damaged susceptor, the susceptor can be removed from the support by removing the movement regulating member from the base plate. Therefore, for example, when replacing a broken susceptor among a plurality of susceptors, only the broken susceptor can be removed from the support. As a result, the replacement operation of the susceptor can be performed easily and inexpensively.

(2) 상기 지지체는, 서로 이격해서 배치되어 상기 세로 방향으로 연장되는 복수의 기둥 부재를 포함하고, 각 상기 기둥 부재가 상기 세로 방향을 따르는 빗살형상으로 형성됨으로써, 복수의 상기 지지부가 형성되고, 상기 이동 규제 부재는, 상기 세로 방향을 따라 연장되어 각 상기 서셉터에 접촉 가능한 봉 부재를 포함하고 있는 경우가 있다.(2) the support includes a plurality of column members that are spaced apart from each other and extend in the longitudinal direction, and each of the column members is formed in a comb-tooth shape along the longitudinal direction, whereby a plurality of the support portions are formed, The movement regulating member may include a rod member extending along the longitudinal direction and contactable to each of the susceptors.

이 구성에 의하면, 기둥 부재의 빗살형상 부분에서 복수의 서셉터를 개별적으로 지지할 수 있다. 그리고, 봉 부재가 이들의 서셉터에 접촉함으로써, 서셉터가 기둥 부재에 대해 위치 어긋나는 것을 억제할 수 있다.According to this configuration, it is possible to individually support a plurality of susceptors in the comb-toothed portion of the column member. And when the rod member contacts these susceptors, it is possible to suppress displacement of the susceptor with respect to the column member.

(3) 상기 베이스 플레이트 및 상기 이동 규제 부재는, 상기 세로 방향을 따라 연장되는 축선을 중심축선으로 하는 테이퍼 결합에 의해 연결되어 있는 경우가 있다.(3) The said base plate and the said movement control member may be connected by the taper coupling which makes the axis line extending along the said longitudinal direction a central axis line.

이 구성에 의하면, 이동 규제 부재를 베이스 플레이트에 강고하게 또한 정확한 위치에 고정할 수 있다. 또한, 테이퍼 결합을 해제함으로써, 이동 규제 부재를 베이스 플레이트로부터 용이하게 떼어낼 수 있다.According to this structure, the movement regulating member can be fixed to a base plate firmly and at an accurate position. Further, by releasing the taper engagement, the movement regulating member can be easily removed from the base plate.

(4) 상기 베이스 플레이트로서, 상기 세로 방향에 있어서의 상기 지지체의 하단에 배치된 보텀(bottom) 플레이트와, 상기 세로 방향에 있어서의 상기 지지체의 상단에 배치된 톱(top) 플레이트가 설치되고, 상기 이동 규제 부재와 상기 보텀 플레이트를 테이퍼 결합하는 제1 테이퍼 결합 기구와, 상기 이동 규제 부재와 상기 톱 플레이트를 테이퍼 결합하는 제2 테이퍼 결합 기구를 추가로 구비하고 있는 경우가 있다.(4) as the base plate, a bottom plate disposed at a lower end of the support body in the longitudinal direction and a top plate disposed at an upper end of the support body in the longitudinal direction are provided; A first taper engagement mechanism for taperingly engaging the movement regulating member and the bottom plate, and a second taper engagement mechanism for taperingly engaging the movement regulating member and the top plate may be further provided.

이 구성에 의하면, 지지체의 하부에 배치된 보텀 플레이트와, 지지체의 상부에 배치된 톱 플레이트의 각각이, 이동 규제 부재와 테이퍼 결합할 수 있다. 이에 의해, 이동 규제 부재와 베이스 플레이트(보텀 플레이트 및 톱 플레이트)의 서로의 결합 강도를 보다 높게 할 수 있다.According to this structure, each of the bottom plate arrange|positioned at the lower part of a support body and the top plate arrange|positioned at the upper part of a support body can be taper-coupled with a movement control member. Thereby, the mutual bonding strength of a movement regulating member and a base plate (bottom plate and top plate) can be made higher.

(5) 상기 서셉터는, 상기 피처리 기판을 배치하기 위한 기판 배치부와, 상기 착탈 방향과 교차하는 소정의 폭 방향에 있어서 상기 기판 배치부로부터 돌출하여 연장되어 상기 이동 규제 부재에 받아지는 스토퍼를 포함하고 있는 경우가 있다.(5) the susceptor includes a substrate arranging portion for arranging the target substrate, and a stopper extending to protrude from the substrate arranging portion in a predetermined width direction intersecting the attachment/detachment direction and received by the movement regulating member may contain.

이 구성에 의하면, 스토퍼는, 기판 배치부로부터 폭 방향으로 돌출하고 있다. 이에 의해, 스토퍼를, 피처리 기판의 통로를 피한 위치에 배치할 수 있다. 따라서, 스토퍼는, 이동 규제 부재와의 접촉에 의해 서셉터의 위치 어긋남을 억제하면서, 피처리 기판의 출입 동작을 방해하는 일이 없다.According to this structure, the stopper protrudes from the board|substrate arrangement part in the width direction. Thereby, the stopper can be arranged at a position avoiding the passage of the target substrate. Therefore, the stopper does not interfere with the moving in/out operation of the processing target substrate while suppressing the displacement of the susceptor due to contact with the movement regulating member.

(6) 상기 스토퍼는, 상기 폭 방향으로 이격하여 한 쌍 설치되어 있으며, 각 상기 스토퍼는, 제1 평행부를 포함하고, 상기 지지체는, 한 쌍의 상기 제1 평행부와 접촉 가능한 한 쌍의 제2 평행부를 포함하고, 서로 인접하는 상기 제1 평행부와 상기 제2 평행부가 서로 평행하게 연장되어 있는 경우가 있다.(6) A pair of the stoppers are provided to be spaced apart in the width direction, each of the stoppers includes a first parallel portion, and the support includes a pair of first parallel portions contactable with the pair of first parallel portions. Two parallel parts are included, and the said 1st parallel part and the said 2nd parallel part adjacent to each other may extend in parallel with each other.

이 구성에 의하면, 스토퍼의 각 제1 평행체가 지지부의 대응하는 제2 평행부에 받아질 수 있다. 이에 의해, 서셉터가 지지체에 대해 회전 이동하는 위치 어긋남의 발생을, 보다 확실하게 억제할 수 있다.With this configuration, each first parallel body of the stopper can be received on a corresponding second parallel part of the support. Thereby, generation|occurrence|production of the positional shift in which a susceptor rotates with respect to a support body can be suppressed more reliably.

본 발명에 의하면, 피처리 기판을 지지하기 위한 서셉터를 구비하는 기판 지지 장치에 있어서, 서셉터를 지지하는 지지체에 대한 서셉터의 위치 어긋남을 확실하게 억제하면서, 서셉터의 교환 작업을 용이하게 또한 저렴하게 행할 수 있다.According to the present invention, in a substrate support apparatus including a susceptor for supporting a substrate to be processed, the susceptor replacement operation is facilitated while reliably suppressing the positional shift of the susceptor with respect to the support for supporting the susceptor. Also, it can be done inexpensively.

도 1은, 본 발명의 일실시형태에 따른 열처리 장치의 단면도이며, 기판 지지 장치를 포함하는 열처리 장치를 측방에서 본 상태를 나타내고 있다.
도 2는, 피처리 기판이 복수 놓인 상태의 기판 지지 장치의 정면도이다.
도 3은, 도 2에 나타내는 기판 지지 장치의 중간부를 확대한 일부 단면도이며, 이동 규제 부재를 생략한 상태를 나타내고 있다.
도 4는, 도 2, 도 3의 IV-IV선을 따르는 단면도이며, 기판 지지 장치를 평면에서 본 상태를 나타내고 있다.
도 5는, 도 2에 나타내는 기판 지지 장치의 상부 및 하부에 있어서의 주요부를 확대한 단면도이다.
도 6은, 서셉터의 교체 작업을 설명하기 위한 도면이며, 기판 지지 장치가 분해된 상태를, 일부를 생략하여 나타내고 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing of the heat processing apparatus which concerns on one Embodiment of this invention, and has shown the state which looked at the heat treatment apparatus including the board|substrate support apparatus from the side.
Fig. 2 is a front view of the substrate support apparatus in a state in which a plurality of target substrates are placed.
FIG. 3 is a partial cross-sectional view in which an intermediate portion of the substrate supporting apparatus shown in FIG. 2 is enlarged, and shows a state in which the movement regulating member is omitted.
Fig. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV of Figs. 2 and 3, showing a planar view of the substrate support apparatus.
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part in the upper and lower portions of the substrate support apparatus shown in FIG. 2 .
6 : is a figure for demonstrating the replacement operation|work of a susceptor, and the state in which the board|substrate support apparatus was disassembled was abbreviate|omitted and shown in part.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해 도면을 참조하면서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, it demonstrates, referring drawings for the form for implementing this invention.

도 1은, 본 발명의 일실시형태에 따른 열처리 장치(1)의 단면도이며, 기판 지지 장치(6)를 포함하는 열처리 장치(1)를 측방에서 본 상태를 나타내고 있다. 도 1을 참조하고, 열처리 장치(1)는, 피처리 기판(100)에 열처리를 실시하는 것이 가능하게 구성되어 있다. 이러한 열처리의 일례로서, 어닐링 처리를 들 수 있다. 또한, 열처리 장치(1)로 행해지는 열처리는, 어닐링 처리 이외의 다른 일반적인 열처리여도 된다. 피처리 기판(100)은, 예를 들면, Fan-Out 웨이퍼이며, 본 실시형태에서는, 원반형상으로 형성되어 있다.1 is a cross-sectional view of a heat treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, and shows a state in which a heat treatment apparatus 1 including a substrate support apparatus 6 is viewed from the side. Referring to FIG. 1 , the heat treatment apparatus 1 is configured to perform heat treatment on the target substrate 100 . An example of such heat treatment is annealing treatment. The heat treatment performed by the heat treatment apparatus 1 may be a general heat treatment other than the annealing treatment. The processing target substrate 100 is, for example, a Fan-Out wafer, and is formed in a disk shape in the present embodiment.

열처리 장치(1)는, 베이스판(2)과, 히터(3)와, 챔버(4)와, 저부 플랜지(5)와, 저부 플랜지(5)에 부착된 기판 지지 장치(6)와, 승강 기구(7)를 가지고 있다.The heat treatment apparatus 1 includes a base plate 2 , a heater 3 , a chamber 4 , a bottom flange 5 , a substrate support device 6 attached to the bottom flange 5 , and lifting and lowering. It has an instrument (7).

베이스판(2)은, 히터(3) 및 챔버(4)를 지지하는 부재로서 설치되어 있다. 베이스판(2)의 중앙에는, 관통 구멍이 형성되어 있다. 이 관통 구멍을 상방으로부터 막도록 하여, 히터(3)가 배치되어 있다. 히터(3)는, 예를 들면 전열 히터이며, 전체적으로 상자형상으로 형성되어 있으며, 하향으로 개방된 형상을 가지고 있다. 히터(3)에 둘러싸인 공간에, 챔버(4)가 배치되어 있다.The base plate 2 is provided as a member for supporting the heater 3 and the chamber 4 . A through hole is formed in the center of the base plate 2 . The heater 3 is disposed so as to block this through hole from above. The heater 3 is, for example, an electric heater, is formed in a box shape as a whole, and has a downwardly open shape. A chamber 4 is arranged in a space surrounded by the heater 3 .

챔버(4)는, 피처리 기판(100)을 열처리하기 위한 처리실을 형성하고 있다. 챔버(4)는, 전체적으로 상자형상으로 형성되어 있으며, 하향으로 개방된 개구부를 가지고 있다. 챔버(4)의 개구부는, 시일 부재(8)와 접촉하고 있다. 챔버(4) 내의 공간은, 베이스판(2)의 관통 구멍을 통해, 베이스판(2)의 하방의 공간으로 연속하고 있다.The chamber 4 forms a processing chamber for heat-treating the target substrate 100 . The chamber 4 is formed in a box shape as a whole, and has an opening part opened downward. The opening of the chamber 4 is in contact with the sealing member 8 . The space in the chamber 4 continues to the space below the base plate 2 through the through hole of the base plate 2 .

열처리 장치(1)에 있어서의 열처리 시, 챔버(4) 내의 공간에는, 피처리 기판(100)이 배치된다. 피처리 기판(100)은, 본 실시형태에서는 수평 자세로, 기판 지지 장치(6)(보트라고도 한다)에 지지된다.At the time of heat treatment in the heat treatment apparatus 1 , the target substrate 100 is disposed in the space within the chamber 4 . The processing target substrate 100 is supported by the substrate support apparatus 6 (also referred to as a boat) in a horizontal posture in the present embodiment.

기판 지지 장치(6)는, 저부 플랜지(5)의 상면에 부착되어 있다. 저부 플랜지(5)는, 기판 지지 장치(6)와 일체적으로 상승 및 하강하는 것이 가능하다. 저부 플랜지(5)는, 베이스판(2)의 개구부를 막음으로써, 챔버(4) 내의 공간을 폐공간으로 한다. 베이스판(2)의 외주부의 하면에는, 시일 부재(9)가 배치되어 있다. 저부 플랜지(5)는, 승강 기구(7)에 의해 지지되어 있다. 승강 기구(7)의 동작에 의해, 저부 플랜지(5), 기판 지지 장치(6) 및 피처리 기판(100)은, 일체적으로 상하 방향으로 변위한다.The substrate support device 6 is attached to the upper surface of the bottom flange 5 . The bottom flange 5 can be raised and lowered integrally with the substrate support device 6 . The bottom flange 5 closes the opening of the base plate 2, thereby making the space in the chamber 4 a closed space. On the lower surface of the outer peripheral part of the base plate 2, the sealing member 9 is arrange|positioned. The bottom flange 5 is supported by a lifting mechanism 7 . By the operation of the elevating mechanism 7 , the bottom flange 5 , the substrate support device 6 , and the processing target substrate 100 are vertically displaced integrally.

열처리 장치(1)에 있어서의 열처리 시의 동작으로서는, 우선, 기판 지지 장치(6)가 챔버(4)의 하방으로 강하된 상태에서, 이 기판 지지 장치(6)에 복수의 피처리 기판(100)을 놓는다. 구체적으로는, 예를 들면 다축 로봇 아암의 선단에 설치된 반송 핸드(10)의 동작에 의해, 도시되지 않은 카세트로부터 기판 지지 장치(6)로 피처리 기판(100)이 예를 들면 한 장씩 반입된다. 그리고, 복수의 피처리 기판(100)이 기판 지지 장치(6)에 놓인 후, 승강 기구(7)가 상승 동작한다. 이에 의해, 저부 플랜지(5), 기판 지지 장치(6) 및 피처리 기판(100)이 챔버(4) 내의 공간에 배치된다.As an operation at the time of heat treatment in the heat treatment apparatus 1 , first, in a state in which the substrate support apparatus 6 is lowered below the chamber 4 , the plurality of target substrates 100 are placed on the substrate support apparatus 6 . ) is placed. Specifically, for example, by operation of the transfer hand 10 provided at the tip of the multi-axis robot arm, the substrates 100 to be processed are loaded from a cassette (not shown) to the substrate holding apparatus 6, for example, one by one. . Then, after the plurality of substrates 100 to be processed are placed on the substrate support device 6 , the lifting mechanism 7 moves upward. Thereby, the bottom flange 5 , the substrate holding device 6 , and the processing target substrate 100 are arranged in the space within the chamber 4 .

다음에, 히터(3)에 의한 가열 동작이 행해진다. 이에 의해, 챔버(4) 내의 공간이 가열되어, 피처리 기판(100)의 열처리가 행해진다. 피처리 기판(100)의 열처리가 완료되어, 히터(3)가 정지된 후, 승강 기구(7)는, 하강 동작한다. 이에 의해, 저부 플랜지(5), 기판 지지 장치(6), 및, 피처리 기판(100)은, 챔버(4)의 하방에 도달한다. 다음에, 반송 핸드(10)가 피처리 기판(100)을 예를 들면 한 장씩 반출함으로써, 기판 지지 장치(6)로부터 피처리 기판(100)이 취출된다.Next, a heating operation by the heater 3 is performed. Thereby, the space in the chamber 4 is heated, and the heat processing of the to-be-processed substrate 100 is performed. After the heat treatment of the target substrate 100 is completed and the heater 3 is stopped, the lifting mechanism 7 lowers. Thereby, the bottom flange 5 , the substrate holding device 6 , and the processing target substrate 100 reach the lower side of the chamber 4 . Next, the to-be-processed substrates 100 are taken out from the board|substrate support apparatus 6 by the conveyance hand 10 carrying out the to-be-processed board|substrates 100 one by one, for example.

다음에, 기판 지지 장치(6)의 상세한 구성을 설명한다.Next, the detailed configuration of the substrate supporting apparatus 6 will be described.

도 2는, 피처리 기판(100)이 복수 놓인 상태의 기판 지지 장치(6)의 정면도이다. 도 3은, 도 2에 나타내는 기판 지지 장치(6)의 중간부를 확대한 일부 단면도이며, 이동 규제 부재(15L, 15R)를 생략한 상태를 나타내고 있다. 도 4는, 도 2, 도 3의 IV-IV선을 따르는 단면도이며, 기판 지지 장치(6)를 평면에서 본 상태를 나타내고 있다. 도 5는, 도 2에 나타내는 기판 지지 장치(6)의 상부 및 하부에 있어서의 주요부를 확대한 단면도이다.2 is a front view of the substrate support apparatus 6 in a state in which a plurality of processing target substrates 100 are placed. 3 : is a partial cross-sectional view which expanded the intermediate part of the board|substrate support apparatus 6 shown in FIG. 2, and has shown the state which abbreviate|omitted the movement control members 15L and 15R. 4 : is sectional drawing along IV-IV line of FIG. 2, FIG. 3, and has shown the state which looked at the board|substrate support apparatus 6 from the planar view. 5 : is sectional drawing which expanded the principal part in the upper part and the lower part of the board|substrate support apparatus 6 shown in FIG.

또한, 본 실시형태에서는, 상하 및 좌우의 방향에 대해서는, 기판 지지 장치(6)를 정면에서 본 상태를 기준으로 하여 설명한다. 또, 본 실시형태에서는, 전후의 방향에 대해서는, 기판 지지 장치(6)를 평면에서 본 상태를 기준으로 하여 설명한다.In addition, in this embodiment, the up-down and left-right directions are demonstrated on the basis of the state which looked at the board|substrate support apparatus 6 from the front as a reference. In addition, in this embodiment, the front-back direction is demonstrated on the basis of the state which saw the board|substrate support apparatus 6 in planar view.

도 2~도 5를 참조하고, 기판 지지 장치(6)는, 본 실시형태에서는, 단일 재료로서의 석영으로 형성되어 있다. 이와 같이, 기판 지지 장치(6)를 단일 재료로 형성함으로써, 기판 지지 장치(6)의 각 부에 있어서의 열팽창률을 대략 균등하게 할 수 있다. 이에 의해, 기판 지지 장치(6)의 각 부의 서로의 연결 부분에 있어서 부재 간에 느슨함이 생기는 것을 억제할 수 있다.2-5, the substrate support apparatus 6 is formed of quartz as a single material in this embodiment. In this way, by forming the substrate supporting apparatus 6 from a single material, the coefficient of thermal expansion in each part of the substrate supporting apparatus 6 can be made substantially equal. Thereby, it can suppress that slack arises between members in the mutual connection part of each part of the board|substrate support apparatus 6 .

기판 지지 장치(6)는, 베이스 플레이트로서의 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)와, 이들 플레이트(11, 12)에 고정된 지지체(13)와, 지지체(13)에 지지된 복수의 서셉터(기판 지지 플레이트)(14)와, 서셉터(14)의 위치 어긋남을 방지하기 위해서 플레이트(11, 12)에 부착된 이동 규제 부재(15L, 15R)와, 이동 규제 부재(15L, 15R) 및 보텀 플레이트(11)를 서로 결합하기 위한 제1 테이퍼 결합 기구(16L, 16R)와, 이동 규제 부재(15L, 15R) 및 톱 플레이트(12)를 서로 결합하기 위한 제2 테이퍼 결합 기구(17L, 17R)를 가지고 있다.The substrate support device 6 includes a bottom plate 11 and a top plate 12 as a base plate, a support body 13 fixed to these plates 11 and 12 , and a plurality of books supported by the support body 13 . Scepter (substrate supporting plate) 14, movement regulating members 15L and 15R attached to plates 11 and 12 to prevent positional displacement of susceptor 14, and movement regulating members 15L, 15R and a first taper engaging mechanism 16L, 16R for engaging the bottom plate 11 with each other, and a second taper engaging mechanism 17L for engaging the movement regulating members 15L and 15R and the top plate 12 with each other; 17R).

보텀 플레이트(11)는, 지지체(13)의 하단에 배치되어 있다. 한편, 톱 플레이트(12)는, 지지체(13)의 상단에 배치되어 있다. 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)는, 지지체(13)가 고정되는 플레이트이다. 본 실시형태에서는, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)는, 평판형상 부재이며, 평면에서 볼 때 외주 가장자리부의 형상 및 위치가 서로 동일하다고 되어 있다. 또한, 보텀 플레이트(11)의 평면에서 본 형상은, 도 4에 나타나 있으나, 톱 플레이트(12)의 평면에서 본 형상은 도시가 생략되어 있다. 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)는, 각각, 전부(前部) 형상이 좌우 방향으로 평행하게 연장되는 직사각형상으로 형성되어 있다. 또, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)는, 각각, 후부(後部) 형상이 후방으로 볼록해지는 반원형상으로 형성되어 있다. 보텀 플레이트(11)와 톱 플레이트(12)는, 지지체(13)를 개재하여 일체적으로 결합되어 있으며, 서로 분리 불능하게 구성되어 있다.The bottom plate 11 is disposed at the lower end of the support body 13 . On the other hand, the top plate 12 is arranged on the upper end of the support body 13 . The bottom plate 11 and the top plate 12 are plates to which the support body 13 is fixed. In this embodiment, the bottom plate 11 and the top plate 12 are flat plate-shaped members, and it is assumed that the shape and position of the outer peripheral edge part are mutually the same in planar view. In addition, although the planar shape of the bottom plate 11 is shown in FIG. 4, illustration of the planar view of the top plate 12 is abbreviate|omitted. The bottom plate 11 and the top plate 12 are each formed in the rectangular shape whose front shape extends parallel to the left-right direction. Moreover, the bottom plate 11 and the top plate 12 are respectively formed in the semicircular shape in which the shape of a rear part becomes convex backward. The bottom plate 11 and the top plate 12 are integrally coupled with the support body 13 interposed therebetween, and are configured to be inseparable from each other.

지지체(13)는, 복수의 서셉터(14)를 지지하기 위해서 설치되어 있다. 본 실시형태에서는, 지지체(13)는, 상하 방향으로 연장되는 복수의 기둥 부재로서의 우측 기둥(21), 좌측 기둥(22), 및, 후측 기둥(23)을 가지고 있다.The support body 13 is provided in order to support the plurality of susceptors 14 . In the present embodiment, the support body 13 includes a right column 21 , a left column 22 , and a rear column 23 as a plurality of column members extending in the vertical direction.

우측 기둥(21)은, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)의 각각의 우측 전부에 배치되어 있다. 좌측 기둥(22)은, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)의 각각의 좌측 전부에 배치되어 있다. 후측 기둥(23)은, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)의 각각의 후단부에 배치되어 있다. 이와 같이, 기둥(21, 22, 23)은, 플레이트(11, 12)에 있어서 서로 이격하여 배치되어 있다. 또한, 기둥의 수는, 본 실시형태에서 나타내는 3개로 한정되지 않고, 2개여도 되고, 4개 이상이어도 된다. 각 기둥(21, 22, 23)은, 가늘고 긴 축형상으로 형성되어 있다. 각 기둥(21, 22, 23)의 하단부는, 보텀 플레이트(11)에 용접 등의 고정 방법에 의해 일체화되어 있다. 각 기둥(21, 22, 23)의 상단부는, 톱 플레이트(12)에 용접 등의 고정 방법에 의해 일체화되어 있다.The right column 21 is arrange|positioned in each right front of the bottom plate 11 and the top plate 12. As shown in FIG. The left column 22 is arrange|positioned at the front left side of each of the bottom plate 11 and the top plate 12. As shown in FIG. The rear post 23 is arrange|positioned at each rear end of the bottom plate 11 and the top plate 12. As shown in FIG. In this way, the pillars 21 , 22 , and 23 are arranged to be spaced apart from each other in the plates 11 , 12 . In addition, the number of pillars is not limited to three shown in this embodiment, Two may be sufficient as it, and four or more may be sufficient as it. Each of the pillars 21, 22, and 23 is formed in an elongated axial shape. The lower ends of the respective pillars 21 , 22 , and 23 are integrated with the bottom plate 11 by a fixing method such as welding. The upper end of each of the pillars 21 , 22 , and 23 is integrated with the top plate 12 by a fixing method such as welding.

우측 기둥(21)에는, 복수의 지지부(21a)가 형성되어 있다. 마찬가지로, 좌측 기둥(22)에는, 복수의 지지부(22a)가 형성되어 있다. 후측 기둥(23)에는, 복수의 지지부(23a)가 형성되어 있다. 지지부(21a, 22a, 23a)의 수는, 서로 동일하게 설정되어 있다. 본 실시형태에서는, 지지부(21a, 22a, 23a)의 수는, 각각 약 30이다. 지지부(21a, 22a, 23a)는, 대응하는 기둥(21, 22, 23)의 상하 방향의 중간부에 형성되어 있다.A plurality of support portions 21a are formed on the right column 21 . Similarly, a plurality of support portions 22a are formed on the left column 22 . A plurality of support portions 23a are formed on the rear column 23 . The number of the supporting parts 21a, 22a, 23a is set to be the same as each other. In this embodiment, the number of the support parts 21a, 22a, 23a is about 30, respectively. The support parts 21a, 22a, 23a are formed in the middle part of the up-down direction of the corresponding pillars 21, 22, 23.

지지부(21a)는, 우측 기둥(21)의 좌측부에 형성된 소편(小片) 부분이다. 지지부(21a)는, 원형 축형상의 우측 기둥(21)의 좌측부에 형성된 오목부(21b)와 상하 방향으로 교대로 배치되어 있다. 이에 의해, 복수의 서셉터(14)를 지지하는 복수의 지지부(21a)가, 상하 방향(세로 방향)으로 늘어서 있다. 오목부(21b)는, 지지부(21a)를 전후 방향으로 관통하는 부분이며, 우측 기둥(21)의 좌측으로 개방되어 있다. 이와 같이, 우측 기둥(21)이 상하 방향을 따르는 빗살형상으로 형성됨으로써, 복수의 지지부(21a)가 형성되어 있다.The support portion 21a is a small piece formed on the left side of the right column 21 . The supporting portions 21a are alternately arranged in the vertical direction with the recessed portions 21b formed on the left side of the circular axial right column 21 . Accordingly, the plurality of support portions 21a supporting the plurality of susceptors 14 are arranged in a vertical direction (vertical direction). The recessed part 21b is a part penetrating the support part 21a in the front-back direction, and is open to the left side of the right column 21 . As described above, the right column 21 is formed in a comb-tooth shape along the vertical direction, thereby forming a plurality of support portions 21a.

지지부(22a)는, 좌측 기둥(22)의 우측부에 형성된 소편형상 부분이다. 지지부(22a)는, 원형 축형상의 좌측 기둥(22)의 우측부에 형성된 오목부(22b)와 상하 방향으로 교대로 배치되어 있다. 이에 의해, 복수의 서셉터(14)를 지지하는 복수의 지지부(22a)가, 상하 방향(세로 방향)으로 늘어서 있다. 오목부(22b)는, 지지부(22a)를 전후 방향으로 관통하는 부분이며, 좌측 기둥(22)의 우측으로 개방되어 있다. 이와 같이, 좌측 기둥(22)이 상하 방향을 따르는 빗살형상으로 형성됨으로써, 복수의 지지부(22a)가 형성되어 있다.The support part 22a is a small piece-shaped part formed in the right part of the left column 22. As shown in FIG. The supporting portions 22a are alternately arranged in the vertical direction with the recessed portions 22b formed on the right side of the circular axial left column 22 . Thereby, the plurality of support portions 22a supporting the plurality of susceptors 14 are arranged in a vertical direction (vertical direction). The recessed part 22b is a part which penetrates the support part 22a in the front-back direction, and is open to the right side of the left column 22 . In this way, the left column 22 is formed in a comb-tooth shape along the vertical direction, whereby a plurality of support portions 22a are formed.

지지부(23a)는, 후측 기둥(23)의 전측부에 형성된 소편형상 부분이다. 지지부(23a)는, 원형 축형상의 후측 기둥(23)의 전측부에 형성된 오목부(23b)와 상하 방향으로 교대로 배치되어 있다. 이에 의해, 복수의 서셉터(14)를 지지하는 복수의 지지부(23a)가, 상하 방향(세로 방향)으로 늘어서 있다. 오목부(23b)는, 지지부(23a)를 좌우 방향으로 관통하는 부분이며, 후측 기둥(23)의 전측으로 개방되어 있다. 이와 같이, 후측 기둥(23)이 상하 방향을 따르는 빗살형상으로 형성됨으로써, 복수의 지지부(23a)가 형성되어 있다.The support part 23a is a small piece-shaped part formed in the front part of the rear side pillar 23. As shown in FIG. The supporting portions 23a are alternately arranged in the vertical direction with the concave portions 23b formed on the front side of the circular axial rear column 23 . Accordingly, the plurality of support portions 23a supporting the plurality of susceptors 14 are arranged in a vertical direction (vertical direction). The concave portion 23b is a portion penetrating the support portion 23a in the left-right direction, and is open to the front side of the rear post 23 . In this way, the rear column 23 is formed in a comb-tooth shape along the vertical direction, thereby forming a plurality of support portions 23a.

상기 구성에 의해 지지부(21a, 22a)는, 전후 방향으로 연장되어 있으며, 지지부(23a)는, 좌우 방향으로 연장되어 있다. 또, 지지부(21a, 22a, 23a)는, 상하 방향의 위치를 맞추고 있다. 이 구성에 의해, 높이 위치가 같은 지지부(21a, 22a, 23a)는, 협동하여 1개의 피처리 기판(100)을 수평 자세로 지지한다. 본 실시형태에서는, 높이 위치가 같은 지지부(21a, 22a, 23a)에 대해서, 세로 방향과 교차하는 소정의 착탈 방향(X1)(본 실시형태에서는, 전후 방향)을 따라 서셉터(14)를 이동시킴으로써, 서셉터(14)를 지지부(21a, 22a, 23a)에 착탈할 수 있다.With the above configuration, the support portions 21a and 22a extend in the front-rear direction, and the support portion 23a extends in the left-right direction. In addition, the supporting parts 21a, 22a, 23a are aligned in the vertical direction. With this configuration, the supporting portions 21a , 22a , and 23a having the same height position cooperate to support one target substrate 100 in a horizontal posture. In this embodiment, the susceptor 14 is moved along the predetermined attachment/detachment direction X1 (in this embodiment, the front-back direction in this embodiment) intersecting the vertical direction with respect to the support parts 21a, 22a, 23a with the same height position. By doing so, the susceptor 14 can be attached to and detached from the supports 21a, 22a, 23a.

본 실시형태에서는, 지지부(21a, 22a, 23a)에 대해 서셉터(14)를 장착 방향(X11)으로 변위시킴으로써, 지지부(21a, 22a, 23a)에 서셉터(14)를 놓고 장착할 수 있다. 또, 지지부(21a, 22a, 23a)에 대해 서셉터(14)를 떼어냄 방향(X12)으로 변위시킴으로써, 지지부(21a, 22a, 23a)로부터 서셉터(14)를 떼어낼 수 있다. 이와 같이 해서, 지지부(21a, 22a, 23a)는, 서셉터(14)의 외주 가장자리부를 3점 지지한다.In the present embodiment, by displacing the susceptor 14 in the mounting direction X11 with respect to the supports 21a, 22a, 23a, the susceptor 14 can be placed and mounted on the supports 21a, 22a, 23a. . Further, by displacing the susceptor 14 in the removal direction X12 with respect to the supporting portions 21a, 22a, and 23a, the susceptor 14 can be removed from the supporting portions 21a, 22a, 23a. In this way, the supporting portions 21a, 22a, 23a support the outer peripheral edge of the susceptor 14 at three points.

서셉터(14)는, 피처리 기판(100)이 놓이는 부재이다. 서셉터(14)는, 높이 위치가 같은 1세트의 지지부(21a, 22a, 23a)에 대해 1개 부착되어 있다. 본 실시형태에서는, 일부 세트의 지지부(21a, 22a, 23a)에 서셉터(14)가 부착되어 있다. 또한, 서셉터(14)의 수는, 1 이상이면 되며, 구체적인 수는 한정되지 않는다. 서셉터(14)는, 수평으로 연장되는 평판형상 부재이다. 서셉터(14)는, 본 실시형태에서는, 좌우 대칭인 형상으로 형성되어 있으며, 평면에서 볼 때 대략 Ω자형상으로 형성되어 있다. 또한, 서셉터(14)는, 도 4에서는 해칭으로 나타나 있다.The susceptor 14 is a member on which the processing target substrate 100 is placed. One susceptor 14 is attached to a set of support portions 21a, 22a, 23a having the same height position. In this embodiment, the susceptor 14 is attached to some sets of support portions 21a, 22a, 23a. In addition, the number of the susceptors 14 should just be 1 or more, and a specific number is not limited. The susceptor 14 is a flat plate-shaped member extending horizontally. The susceptor 14 is formed in a symmetrical shape in the present embodiment, and is formed in a substantially Ω-shape in plan view. In addition, the susceptor 14 is shown by hatching in FIG.

서셉터(14)는, 기판 배치부(25)와, 기판 배치부(25)의 외주 가장자리부(25a)로부터 기판 배치부(25)의 중심을 향해 연장되는 절결부(26)와, 기판 배치부(25)의 외주 가장자리부(25a)로부터 돌출하는 스토퍼(27L, 27R)를 가지고 있다.The susceptor 14 includes a substrate placing portion 25 , a cutout 26 extending from an outer peripheral edge portion 25a of the substrate placing portion 25 toward the center of the substrate placing portion 25 , and a substrate arrangement It has stoppers 27L and 27R protruding from the outer peripheral edge portion 25a of the portion 25 .

기판 배치부(25)는, 피처리 기판(100)이 배치되는 부분이다. 기판 배치부(25)는, 대략 원형상으로 형성되어 있다. 기판 배치부(25)의 외주 가장자리부(25a)의 후단부는, 지지부(23a)에 놓여 있다.The substrate placement unit 25 is a portion where the processing target substrate 100 is placed. The board|substrate arrangement|positioning part 25 is formed in the substantially circular shape. The rear end of the outer peripheral edge portion 25a of the substrate placing portion 25 is placed on the support portion 23a.

좌우 방향에 있어서의 기판 배치부(25)의 전체 길이(기판 배치부(25)의 직경)는, 지지부(21a, 22a)의 전체 폭(지지부(21a)의 우단으로부터 지지부(22a)의 좌단까지의 길이)보다 짧게 설정되어 있다. 이에 의해, 기판 배치부(25)는, 지지체(13)의 전방으로부터 지지체(13)를 향해 장착 방향(X11)으로 이동됨으로써, 지지체(13)의 지지부(21a, 22a, 23a)에 통과될 수 있다.The total length (diameter of the substrate mounting part 25) of the substrate mounting part 25 in the left-right direction is the total width of the supporting parts 21a, 22a (from the right end of the supporting part 21a to the left end of the supporting part 22a) length) is set shorter than Thereby, the substrate arrangement part 25 is moved in the mounting direction X11 from the front of the support body 13 toward the support body 13, so that it can pass through the support parts 21a, 22a, 23a of the support body 13. have.

기판 배치부(25)의 상면 전체가, 피처리 기판(100)을 놓기 위한 면으로서 규정되어 있다. 본 실시형태에서는, 반송 핸드(10)에 의해, 기판 배치부(25)의 대략 중앙에 피처리 기판(100)이 놓인다.The entire upper surface of the substrate placement unit 25 is defined as a surface for placing the processing target substrate 100 . In the present embodiment, the processing target substrate 100 is placed in the substantially center of the substrate placement unit 25 by the transfer hand 10 .

절결부(26)는, 반송 핸드(10)를 통과하기 위해서 형성되어 있고, 기판 배치부(25)의 전단부로부터 후방으로 연장되어 있다. 절결부(26)는, 좌우 방향에 있어서, 반송 핸드(10)의 폭보다 넓은 폭을 가지고 있으며, 전후 방향에 있어서, 기판 배치부(25)의 중앙 위치보다 후방의 위치까지 연장되어 있다. 이 구성에 의해, 반송 핸드(10)는, 피처리 기판(100)을 기판 배치부(25)의 중앙에 배치할 수 있다.The notch 26 is formed in order to pass through the conveyance hand 10, and extends backward from the front end of the board|substrate mounting part 25. As shown in FIG. The notch 26 has a width wider than the width of the conveyance hand 10 in the left-right direction, and in the front-back direction, it extends to a position behind the center position of the board|substrate arrangement|positioning part 25. With this configuration, the transfer hand 10 can place the processing target substrate 100 in the center of the substrate placement unit 25 .

스토퍼(27L, 27R)는, 착탈 방향(X1)과 교차(본 실시형태에서는, 직교)하는 좌우 방향(폭 방향)에 있어서 기판 배치부(25)로부터 돌출하여 연장되고, 대응하는 이동 규제 부재(15L, 15R) 및 대응하는 기둥(22, 21)에 받아지는 부분이다. 이들 한 쌍의 스토퍼(27L, 27R)는, 좌우 방향으로 이격하여 한 쌍 설치되어 있다.The stoppers 27L and 27R protrude and extend from the substrate placement unit 25 in the left-right direction (width direction) intersecting (orthogonal in this embodiment) the attachment/detachment direction X1, and corresponding movement control members ( 15L, 15R) and the portion received on the corresponding posts 22, 21. A pair of these stoppers 27L and 27R is provided as a pair spaced apart in the left-right direction.

한 쌍의 스토퍼(27L, 27R)의 한쪽으로서의 우측 스토퍼(27R)는, 기판 배치부(25)의 외주 가장자리부(25a)의 우로 비스듬한 전부로부터 기판 배치부(25)의 지름 방향 외방으로 연장되어 있다. 한 쌍의 스토퍼(27L, 27R)의 다른 쪽으로서의 좌측 스토퍼(27L)는, 기판 배치부(25)의 외주 가장자리부(25a)의 좌로 비스듬한 전부로부터 기판 배치부(25)의 지름 방향 외방으로 연장되어 있다. 각 스토퍼(27L, 27R)는, 첨예한 형상으로 형성되어 있다. 보다 구체적으로는, 평면에서 볼 때, 각 스토퍼(27L, 27R)는, 외주 가장자리부(25a)와의 접속부가 평면에서 볼 때 만곡 형상으로 형성되어 있으며, 외주 가장자리부(25a)로부터 기판 배치부(25)의 지름 방향 외방으로 멀어짐에 따라 폭협(幅狹)이 되도록 연장되어 있다. 그리고, 스토퍼(27L, 27R)의 각각의 선단부(28L, 28R)의 외주 가장자리부가 평면에서 볼 때 대략 V자형상으로 형성되어 있다.The right stopper 27R as one of the pair of stoppers 27L and 27R extends outward in the radial direction of the substrate placing portion 25 from the front obliquely to the right of the outer peripheral edge portion 25a of the substrate placing portion 25, have. The left stopper 27L on the other side of the pair of stoppers 27L and 27R extends outward in the radial direction of the substrate placing portion 25 from the left side of the outer peripheral edge portion 25a of the substrate placing portion 25 obliquely to the left. has been Each stopper 27L, 27R is formed in a sharp shape. More specifically, in plan view, each of the stoppers 27L and 27R is formed in a curved shape in plan view so that a connecting portion with the outer peripheral edge portion 25a is formed, and from the outer peripheral edge portion 25a to the substrate placing portion ( 25), it is extended so that it may become a narrow width|variety as it gets farther outward in the radial direction. And the outer peripheral edge of each front-end|tip part 28L, 28R of the stoppers 27L, 27R is formed in the substantially V shape in planar view.

우측 스토퍼(27R)의 선단부(28R)는, 본 실시형태에서는, 기판 배치부(25)의 우단부의 위치로부터 약간 우측 방향으로 돌출한 위치에 배치되어 있다. 좌측 스토퍼(27L)의 선단부(28L)는, 본 실시형태에서는, 기판 배치부(25)의 좌단부의 위치로부터 약간 좌측 방향으로 돌출한 위치에 배치되어 있다. 각 스토퍼(27L, 27R)는, 기판 배치부(25)의 전단부의 위치로부터 후방측으로 진행된 위치에 배치되어 있다.The tip 28R of the right stopper 27R is disposed at a position slightly protruding to the right from the position of the right end of the substrate placing part 25 in the present embodiment. The tip 28L of the left stopper 27L is disposed at a position slightly protruding to the left from the position of the left end of the substrate placing part 25 in the present embodiment. Each of the stoppers 27L and 27R is disposed at a position extending backward from the position of the front end of the substrate placing unit 25 .

우측 스토퍼(27R)의 선단부(28R)는, 우측 제1 평행부(29R)와, 우측 전부(30R)를 가지고 있다. 마찬가지로, 좌측 스토퍼(27L)의 선단부(28L)는, 좌측 제1 평행부(29L)와, 좌측 전부(30L)를 가지고 있다.The front end 28R of the right stopper 27R has a right first parallel portion 29R and a right front portion 30R. Similarly, the tip portion 28L of the left stopper 27L has a left first parallel portion 29L and a left front portion 30L.

우측 제1 평행부(29R)는, 선단부(28R)의 우단부를 구성하고 있으며, 본 실시형태에서는, 착탈 방향(X1)을 따라 직선형상으로 연장되어 있다. 우측 제1 평행부(29R)는, 기판 배치부(25)의 우단부의 전방에 위치하고 있다. 우측 제1 평행부(29R)는, 우측 제2 평행부(32R)와 좌우 방향으로 마주보고 있다. 우측 제2 평행부(32R)는, 우측 기둥(21)의 오목부(21b)의 우단면이며, 대응하는 우측 스토퍼(27R)가 놓여 있는 지지부(21a)의 상방에 배치되어 있다. 우측 제2 평행부(32R)는, 우측 제1 평행부(29R)가 연장되어 있는 방향으로서의 착탈 방향(X1)을 따라 연장되어 있으며, 우측 제1 평행부(29R)와 평행하게 연장되어 있다. 즉, 서로 인접하는 우측 제1 평행부(29R)와 우측 제2 평행부(32R)가 서로 평행하게 연장되어 있다.The right 1st parallel part 29R comprises the right end part of the front-end|tip part 28R, and extends linearly along the attachment/detachment direction X1 in this embodiment. The right 1st parallel part 29R is located in front of the right end part of the board|substrate mounting part 25. As shown in FIG. The right first parallel portion 29R faces the right second parallel portion 32R in the left-right direction. The right second parallel portion 32R is a right end face of the concave portion 21b of the right column 21 , and is disposed above the support portion 21a on which the corresponding right stopper 27R is placed. The right second parallel part 32R extends along the attachment/detachment direction X1 as the direction in which the right first parallel part 29R extends, and extends parallel to the right first parallel part 29R. That is, the right first parallel portion 29R and the right second parallel portion 32R adjacent to each other extend in parallel to each other.

좌측 제1 평행부(29L)는, 선단부(28L)의 좌단부를 구성하고 있으며, 본 실시형태에서는, 착탈 방향(X1)을 따라 직선형상으로 연장되어 있다. 좌측 제1 평행부(29L)는, 기판 배치부(25)의 좌단부의 전방에 위치하고 있다. 좌측 제1 평행부(29L)는, 좌측 제2 평행부(32L)와 좌우 방향으로 마주보고 있다. 좌측 제2 평행부(32L)는, 좌측 기둥(22)의 오목부(22b)의 좌단면이며, 대응하는 좌측 스토퍼(27L)가 놓여 있는 지지부(22a)의 상방에 배치되어 있다. 좌측 제2 평행부(32L)는, 좌측 제1 평행부(29L)가 연장되어 있는 방향으로서의 착탈 방향(X1)을 따라 연장되어 있으며, 좌측 제1 평행부(29L)와 평행하게 연장되어 있다. 즉, 서로 인접하는 좌측 제1 평행부(29L)와 좌측 제2 평행부(32L)가 서로 평행하게 연장되어 있다.The left 1st parallel part 29L comprises the left edge part of the front-end|tip part 28L, and extends linearly along the attachment/detachment direction X1 in this embodiment. The left 1st parallel part 29L is located in front of the left end part of the board|substrate mounting part 25. As shown in FIG. The left first parallel portion 29L faces the left second parallel portion 32L in the left-right direction. The left 2nd parallel part 32L is a left end surface of the recessed part 22b of the left column 22, and is arrange|positioned above the support part 22a on which the corresponding left stopper 27L is placed. The left 2nd parallel part 32L is extended along the attachment/detachment direction X1 as a direction in which the left 1st parallel part 29L extends, and is extended in parallel with the left 1st parallel part 29L. That is, the left first parallel portion 29L and the left second parallel portion 32L adjacent to each other extend in parallel to each other.

상기 구성에 의해, 지지체(13)의 좌측 기둥(22) 및 우측 기둥(21)은, 한 쌍의 제1 평행부(29L, 29R)와 접촉 가능한 한 쌍의 제2 평행부(32L, 32R)를 가지고 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 우측 제1 평행부(29R)와 우측 제2 평행부(32R) 사이에 미소하게 간극이 형성되어 있고, 또, 좌측 제1 평행부(29L)와 좌측 제2 평행부(32L) 사이에 미소하게 간극이 형성되어 있다. 이에 의해, 서셉터(14)를 지지체(13)에 대해 착탈할 때에 스토퍼(27L, 27R)가 좌측 기둥(22) 및 우측 기둥(21)에 접촉하는 것을 억제할 수 있다.With the above configuration, the left column 22 and the right column 21 of the support 13 have a pair of first parallel portions 29L and 29R and a pair of second parallel portions 32L and 32R contactable. has a Moreover, in this embodiment, the clearance gap is minutely formed between the right 1st parallel part 29R and the right 2nd parallel part 32R, and the left 1st parallel part 29L and the left 2nd parallel part 29L A small gap is formed between the 32L. Thereby, it can suppress that the stoppers 27L, 27R contact the left column 22 and the right column 21 when attaching and detaching the susceptor 14 with respect to the support body 13 .

우측 전부(30R)는, 우측 이동 규제 부재(15R)에 받아지는 부분이다. 우측 전부(30R)는, 선단부(28R)의 전단부를 구성하고 있으며, 좌우 방향(폭 방향)을 따라 연장되어 있다. 본 실시형태에서는, 우측 전부(30R)의 길이와, 우측 제1 평행부(29R)의 길이가 대략 동일하게 설정되어 있다. 우측 전부(30R)는, 우측 이동 규제 부재(15R)의 바로 뒤에 배치되어 있다.The right front portion 30R is a portion received by the right movement control member 15R. The right front part 30R constitutes the front end part of the front-end|tip part 28R, and extends along the left-right direction (width direction). In this embodiment, the length of the right front part 30R and the length of the right 1st parallel part 29R are set substantially equal. The right front part 30R is disposed immediately behind the right movement control member 15R.

좌측 전부(30L)는, 좌측 이동 규제 부재(15L)에 받아지는 부분이다. 좌측 전부(30L)는, 선단부(28L)의 전단부를 구성하고 있으며, 좌우 방향(폭 방향)을 따라 연장되어 있다. 본 실시형태에서는, 좌측 전부(30L)의 길이와, 좌측 제1 평행부(29L)의 길이가 대략 동일하게 설정되어 있다. 좌측 전부(30L)는, 좌측 이동 규제 부재(15L)의 바로 뒤에 배치되어 있다.The left front part 30L is a part received by the left movement control member 15L. The left front part 30L constitutes the front end part of the front-end|tip part 28L, and extends along the left-right direction (width direction). In this embodiment, the length of the left front part 30L and the length of the left 1st parallel part 29L are set substantially equal. The left front part 30L is arrange|positioned just behind 15L of left-hand movement control members.

한 쌍의 이동 규제 부재(15L, 15R)로서의 우측 이동 규제 부재(15R) 및 좌측 이동 규제 부재(15L)는, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)에 부착된 상태에 있어서, 서셉터(14)에 대한 피처리 기판(100)의 출입을 허용하면서 각 서셉터(14)가 지지체(13)에 대해 이동하는 것을 규제하기 위해서 설치되어 있다. 또, 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 각각, 보텀 플레이트(11)의 높이 위치로부터 톱 플레이트(12)의 높이 위치에 걸쳐 연장되는 봉 부재이며, 서셉터(14)를 지지체(13)에 착탈하기 위해서 플레이트(11, 12)에 착탈 가능하게 구성되어 있다.The right movement regulating member 15R and the left movement regulating member 15L as a pair of movement regulating members 15L and 15R, in a state attached to the bottom plate 11 and the top plate 12, include a susceptor ( It is provided in order to restrict movement of each susceptor 14 with respect to the support body 13 while allowing entry and exit of the target substrate 100 to and from the substrate 14 . Further, the movement control members 15L and 15R are rod members extending from the height position of the bottom plate 11 to the height position of the top plate 12 , respectively, and the susceptor 14 is attached to the support body 13 . In order to attach and detach, it is comprised in the plate 11 and 12 so that attachment or detachment is possible.

우측 이동 규제 부재(15R)는, 우측 스토퍼(27R)에 대응하고 있으며, 좌측 이동 규제 부재(15L)는, 좌측 스토퍼(27L)에 대응하고 있다. 각 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 봉 부재이며, 본 실시형태에서는 원형 축 부재이며, 상하 방향을 따라 연장되어 각 서셉터(14)의 대응하는 스토퍼(27L, 27R)에 접촉 가능하다. 또한, 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 각기둥형상으로 형성되어 있어도 된다. 각 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 상단부(15a) 및 하단부(15b)가 블록형상으로 형성되어 있음과 더불어 이들 상단부(15a) 및 하단부(15b)의 각각의 중심에 상하 방향으로 연장되는 관통 구멍이 형성된 구성을 가지고 있다. 또, 각 이동 규제 부재(15L, 15R)의 중간부(15c)는, 원통형상으로 형성되어 있으며, 상단부(15a) 및 하단부(15b)가 일체로 형성되어 있다.The right movement regulating member 15R corresponds to the right stopper 27R, and the left movement regulating member 15L corresponds to the left stopper 27L. Each movement regulating member 15L, 15R is a rod member, and is a circular shaft member in this embodiment, and is extended along an up-down direction, and can contact the corresponding stopper 27L, 27R of each susceptor 14. FIG. In addition, the movement regulating members 15L and 15R may be formed in a prismatic shape. Each of the movement regulating members 15L and 15R has an upper end 15a and a lower end 15b formed in a block shape, and a penetration extending in the vertical direction at the center of each of the upper end 15a and the lower end 15b. It has a perforated configuration. Moreover, the middle part 15c of each movement control member 15L, 15R is formed in cylindrical shape, and the upper end part 15a and the lower end part 15b are formed integrally.

우측 이동 규제 부재(15R)는, 우측 스토퍼(27R)의 우측 전부(30R)의 바로 전방에 배치되어 있으며, 플레이트(11, 12)의 우측 전단부에 부착되어 있다. 좌측 이동 규제 부재(15L)는, 좌측 스토퍼(27L)의 좌측 전부(30L)의 바로 전방에 배치되어 있으며, 플레이트(11, 12)의 좌측 전단부에 부착되어 있다. 본 실시형태에서는, 각 이동 규제 부재(15L, 15R)의 직경은, 우측 기둥(21)의 직경(좌측 기둥(22)의 직경)과 대략 동일하게 설정되어 있다.The right movement regulating member 15R is disposed directly in front of the right front 30R of the right stopper 27R, and is attached to the right front end of the plates 11 and 12 . The left movement regulating member 15L is disposed directly in front of the left front 30L of the left stopper 27L, and is attached to the left front ends of the plates 11 and 12 . In this embodiment, the diameter of each movement control member 15L, 15R is set substantially equal to the diameter of the right column 21 (diameter of the left column 22).

상기 구성에 의해, 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 각 서셉터(14)의 스토퍼(27L, 27R)를 받음으로써, 서셉터(14)가 전방으로 위치 어긋나는 것, 및, 지지체(13)로부터 탈락하는 것을 방지한다. 또, 한 쌍의 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 한 쌍의 스토퍼(27L, 27R)를 받음으로써, 서셉터(14)가 평면에서 볼 때 지지체(13)에 대해 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전 변위(회전 위치 어긋남)하는 것을 방지할 수 있다. 또, 이동 규제 부재(15L, 15R)가 우측 기둥(21) 및 좌측 기둥(22)에 인접해서 배치되어 있다. 그 결과, 한 쌍의 제2 평행부(32L, 32R)는, 한 쌍의 제1 평행부(29L, 29R)를 사이에 두도록 하여 이들 한 쌍의 제1 평행부(29L, 29R)에 인접해서 배치된다. 이에 의해, 평면에서 볼 때의 서셉터(14)의 회전 변위는, 한 쌍의 제1 평행부(29L, 29R) 중 어느 하나가 대응하는 제2 평행부에 접촉함으로써도 규제된다.With the above configuration, the movement regulating members 15L and 15R receive the stoppers 27L and 27R of each susceptor 14 , thereby shifting the position of the susceptor 14 forward, and the support body 13 . to prevent falling out of Further, the pair of movement regulating members 15L and 15R receives the pair of stoppers 27L and 27R, so that the susceptor 14 is clockwise or counterclockwise with respect to the support 13 in plan view. rotational displacement (rotational position shift) can be prevented. Moreover, the movement control members 15L and 15R are arrange|positioned adjacent to the right column 21 and the left column 22. As shown in FIG. As a result, the pair of second parallel portions 32L and 32R is adjacent to the pair of first parallel portions 29L and 29R with the pair of first parallel portions 29L and 29R interposed therebetween. are placed Thereby, the rotational displacement of the susceptor 14 in planar view is also regulated when any one of a pair of 1st parallel parts 29L, 29R contacts a corresponding 2nd parallel part.

이와 같이, 서로 인접 배치된 우측 기둥(21) 및 우측 이동 규제 부재(15R)와, 서로 인접 배치된 좌측 기둥(22) 및 좌측 이동 규제 부재(15L)가 협동하고 있다. 이에 의해, 서셉터(14)가 지지체(13)로부터 떼어냄 방향(X12)으로 위치 어긋나는 것, 및, 서셉터(14)가 평면에서 볼 때 회전 방향으로 위치 어긋나는 것을 방지할 수 있다. 또한, 지지체(13)에 대한 서셉터(14)의 후방으로의 위치 어긋남은, 후측 기둥(23)이 서셉터(14)를 받음으로써 방지된다.In this way, the right column 21 and the right movement regulating member 15R arranged adjacent to each other, and the left column 22 and the left movement regulating member 15L arranged adjacent to each other are cooperating. Thereby, it is possible to prevent the susceptor 14 from being displaced from the support 13 in the separation direction X12 and from the susceptor 14 being displaced from the rotational direction in a plan view. Further, the rearward displacement of the susceptor 14 with respect to the support 13 is prevented by the rear post 23 receiving the susceptor 14 .

이동 규제 부재(15L, 15R) 간의 간격은, 피처리 기판(100)의 직경보다 크게 설정되어 있다. 이에 의해, 반송 핸드(10)에 의한 피처리 기판(100)의 출입 동작 시에, 이동 규제 부재(15L, 15R)와 피처리 기판(100)의 접촉을 방지할 수 있다.The distance between the movement control members 15L and 15R is set to be larger than the diameter of the target substrate 100 . Accordingly, it is possible to prevent the movement control members 15L and 15R from coming into contact with the processing target substrate 100 when the processing target substrate 100 is moved in and out by the transfer hand 10 .

도 2 및 도 5를 참조하고, 본 실시형태에서는, 플레이트(11, 12)와 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 상하 방향(세로 방향)을 따라 연장되는 축선을 중심축선으로 하는 테이퍼 결합에 의해 연결되어 있다. 또, 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)에 대해 착탈 가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 이동 규제 부재(15L, 15R)와 보텀 플레이트(11)를 테이퍼 결합하는 제1 테이퍼 결합 기구(16L, 16R)가 설치되어 있다. 또, 이동 규제 부재(15L, 15R)와 톱 플레이트(12)를 테이퍼 결합하는 제2 테이퍼 결합 기구(17L, 17R)가 설치되어 있다.2 and 5 , in the present embodiment, the plates 11 and 12 and the movement control members 15L and 15R are taper coupled with an axis extending along the vertical direction (vertical direction) as the central axis. connected by In addition, the movement control members 15L and 15R are configured to be detachable from the bottom plate 11 and the top plate 12 . Specifically, the first taper engagement mechanisms 16L and 16R for tapering the movement regulating members 15L and 15R and the bottom plate 11 are provided. In addition, second taper engagement mechanisms 17L and 17R for taperingly engaging the movement control members 15L and 15R and the top plate 12 are provided.

한 쌍의 제1 테이퍼 결합 기구(16L, 16R)의 한쪽으로서의 우측 제1 테이퍼 결합 기구(16R)는, 우측 제1 테이퍼 구멍부(33R)와, 우측 제1 테이퍼축부(34R)를 가지고 있다. 마찬가지로, 한 쌍의 제1 테이퍼 결합 기구(16L, 16R)의 다른 쪽으로서의 좌측 제1 테이퍼 결합 기구(16L)는, 좌측 제1 테이퍼 구멍부(33L)와, 좌측 제1 테이퍼축부(34L)를 가지고 있다.The right first taper engaging mechanism 16R as one of the pair of first taper engaging mechanisms 16L and 16R has a right first taper hole portion 33R and a right first taper shaft portion 34R. Similarly, the left first taper engaging mechanism 16L on the other side of the pair of first taper engaging mechanisms 16L and 16R includes the left first taper hole portion 33L and the left first taper shaft portion 34L. Have.

우측 제1 테이퍼 구멍부(33R)는, 보텀 플레이트(11) 중 우측 이동 규제 부재(15R)가 배치되는 개소로서의 우측 전부에 형성되어 있다. 좌측 제1 테이퍼 구멍부(33L)는, 보텀 플레이트(11) 중 좌측 이동 규제 부재(15L)가 배치되는 개소로서의 좌측 전부에 형성되어 있다. 각 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)는, 보텀 플레이트(11)의 상면에 개방된 원뿔대 테이퍼형상 부분이며, 본 실시형태에서는, 보텀 플레이트(11)를 상하 방향으로 관통하고 있다. 본 실시형태에서는, 각 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)의 테이퍼각으로서의 제1 테이퍼각(θ1)은, 연직 방향을 기준으로 하여 40°로 설정되어 있다.The right first taper hole portion 33R is formed in the entire right side of the bottom plate 11 as a location where the right movement control member 15R is disposed. The left first taper hole portion 33L is formed in the entire left side of the bottom plate 11 as a location where the left movement control member 15L is disposed. Each of the first tapered hole portions 33L and 33R is a truncated cone-shaped tapered portion open to the upper surface of the bottom plate 11 , and in the present embodiment penetrates the bottom plate 11 in the vertical direction. In the present embodiment, the first taper angle θ1 as the taper angle of each of the first taper hole portions 33L and 33R is set to 40° with respect to the vertical direction.

우측 제1 테이퍼축부(34R)는, 우측 이동 규제 부재(15R)의 하단부에 형성되어 있다. 좌측 제1 테이퍼축부(34L)는, 좌측 이동 규제 부재(15L)의 하단부에 형성되어 있다. 각 제1 테이퍼축부(34L, 34R)는, 하방으로 나아감에 따라 직경이 작아지는 원뿔대 테이퍼형상 부분이다. 본 실시형태에서는, 각 제1 테이퍼축부(34L, 34R)의 테이퍼각은, 각 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)의 테이퍼각과 동일한 각도로서의 제1 테이퍼각(θ1)으로 설정되어 있다. 각 제1 테이퍼축부(34L, 34R)는, 대응하는 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)에 테이퍼 끼워 맞춤되어 있다. 이에 의해, 각 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 보텀 플레이트(11)의 대응하는 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)에 테이퍼 결합하고 있다.The right first tapered shaft portion 34R is formed at the lower end of the right movement control member 15R. The left first tapered shaft portion 34L is formed at the lower end of the left movement control member 15L. Each of the first tapered shaft portions 34L, 34R is a truncated conical tapered portion whose diameter decreases as it goes downward. In the present embodiment, the taper angle of each of the first taper shaft portions 34L and 34R is set to the first taper angle θ1 as an angle equal to the taper angle of each of the first taper hole portions 33L and 33R. Each of the first tapered shaft portions 34L, 34R is taper-fitted to the corresponding first tapered hole portion 33L, 33R. Thereby, each movement control member 15L, 15R is taper-coupled to the corresponding 1st taper hole part 33L, 33R of the bottom plate 11. As shown in FIG.

한 쌍의 제2 테이퍼 결합 기구(17L, 17R)의 한쪽으로서의 우측 제2 테이퍼 결합 기구(17R)는, 우측 제2 테이퍼 구멍부(35R)와, 우측 제2 테이퍼축부(37R)를 포함하는 우측 캡(36R)을 가지고 있다. 마찬가지로, 한 쌍의 제2 테이퍼 결합 기구(17L, 17R)의 다른 쪽으로서의 좌측 제2 테이퍼 결합 기구(17L)는, 좌측 제2 테이퍼 구멍부(35L)와, 좌측 제2 테이퍼축부(37L)를 포함하는 좌측 캡(36L)을 가지고 있다.The right second taper engaging mechanism 17R as one of the pair of second taper engaging mechanisms 17L and 17R is a right side including a right second taper hole portion 35R and a right second taper shaft portion 37R. It has a cap 36R. Similarly, the left second taper engaging mechanism 17L on the other side of the pair of second taper engaging mechanisms 17L and 17R includes the left second taper hole portion 35L and the left second taper shaft portion 37L. It has a left cap 36L that includes it.

우측 제2 테이퍼 구멍부(35R)는, 톱 플레이트(12) 중 우측 이동 규제 부재(15R)가 배치되는 개소로서의 우측 전부에 형성되어 있다. 좌측 제2 테이퍼 구멍부(35L)는, 톱 플레이트(12) 중 좌측 이동 규제 부재(15L)가 배치되는 개소로서의 좌측 전부에 형성되어 있다. 각 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)는, 원뿔대 테이퍼형상 부분이며, 톱 플레이트(12)를 상하 방향으로 관통하고 있다. 본 실시형태에서는, 각 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)의 테이퍼각으로서의 제2 테이퍼각(θ2)은, 연직 방향을 기준으로 하여 30°로 설정되어 있다.The right second taper hole portion 35R is formed in the entire right side of the top plate 12 as a location where the right movement control member 15R is disposed. The left 2nd taper hole part 35L is formed in the front left side of the top plate 12 as a location where the left movement control member 15L is arrange|positioned. Each of the second tapered hole portions 35L and 35R is a truncated conical tapered portion and penetrates the top plate 12 in the vertical direction. In the present embodiment, the second taper angle θ2 as the taper angle of each of the second taper hole portions 35L and 35R is set to 30° with respect to the vertical direction.

즉, 제1 테이퍼각(θ1)은, 제2 테이퍼각(θ2)보다 크게 설정되어 있다. 이와 같이, 제1 테이퍼각(θ1)을 크게 함으로써, 우선, 이동 규제 부재(15L, 15R)의 하단부를 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)에 정밀하게 위치 결정함과 더불어, 이동 규제 부재(15L, 15R)의 상단부를 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)에 위치 조정 가능하게 배치할 수 있다. 그리고, 제2 테이퍼각(θ2)을 제1 테이퍼각(θ1)보다 작게 하고 있기 때문에, 캡(36L, 36R)을 이용한 제2 테이퍼 결합 기구(17L, 17R)에 의해, 이동 규제 부재(15L, 15R) 전체의 자세의 안정화가 도모된다. 이에 의해, 당해 제2 테이퍼 결합 기구(17L, 17R)로부터 멀어져 있는 이동 규제 부재(15L, 15R)의 하단부도, 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)의 소정 위치에 위치 결정되어, 이동이 규제된다. 이 때문에, 제1 테이퍼각(θ1)을 크게 한 경우에도, 제1 테이퍼축부(34L, 34R)가 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)의 경사를 지나 빠지는 것을 방지할 수 있다. 이상의 결과, 이동 규제 부재(15L, 15R)의 위치 결정 정밀도의 향상과 자세의 안정화의 쌍방이 가능해진다. 또한, 상기한, 제1 테이퍼각(θ1)이 제2 테이퍼각(θ2)보다 큰 구성은 일례이며, 이 구성으로 한정되지 않는다. 기판 지지 장치(6)의 배치 위치나 형상에 따라, 제2 테이퍼각(θ2)을 제1 테이퍼각(θ1)보다 크게 해도 된다.That is, the first taper angle θ1 is set to be larger than the second taper angle θ2. In this way, by increasing the first taper angle θ1, first, the lower ends of the movement control members 15L and 15R are precisely positioned in the first taper hole portions 33L and 33R, and the movement control member ( The upper ends of the 15L and 15R can be positioned in the second tapered hole portions 35L and 35R so that their positions can be adjusted. And, since the second taper angle θ2 is made smaller than the first taper angle θ1, the movement regulating member 15L, 15R) Stabilization of the overall posture is achieved. Thereby, the lower ends of the movement regulating members 15L, 15R away from the second taper engagement mechanisms 17L and 17R are also positioned at predetermined positions of the first tapered hole portions 33L and 33R, and movement is restricted. do. For this reason, even when the 1st taper angle (theta)1 is enlarged, it can prevent that the 1st taper shaft parts 34L, 34R fall out past the inclination of the 1st taper hole parts 33L, 33R. As a result of the above, both the improvement of the positioning accuracy of the movement regulating members 15L and 15R and the stabilization of the posture are attained. In addition, the structure in which the 1st taper angle (theta)1 mentioned above is larger than the 2nd taper angle (theta)2 is an example, and is not limited to this structure. Depending on the arrangement position and shape of the substrate support apparatus 6 , the second taper angle θ2 may be larger than the first taper angle θ1 .

우측 이동 규제 부재(15R)의 상단부(15a)는, 우측 제2 테이퍼 구멍부(35R) 내에 배치된다. 마찬가지로, 좌측 이동 규제 부재(15L)의 상단부(15a)는, 좌측 제2 테이퍼 구멍부(35L) 내에 배치된다.The upper end part 15a of the right movement control member 15R is arrange|positioned in the right 2nd taper hole part 35R. Similarly, the upper end part 15a of the left movement control member 15L is arrange|positioned in the left 2nd taper hole part 35L.

우측 캡(36R)은, 우측 캡(36R)의 외주면에 형성된 우측 제2 테이퍼축부(37R)와, 우측 캡(36R)의 내주면에 형성되어 우측 이동 규제 부재(15R)가 삽입되는 우측 삽입 구멍부(38R)를 가지고 있다. 마찬가지로, 좌측 캡(36L)은, 좌측 캡(36L)의 외주면에 형성된 좌측 제2 테이퍼축부(37L)와, 좌측 캡(36L)의 내주면에 형성되어 좌측 이동 규제 부재(15L)가 삽입되는 좌측 삽입 구멍부(38L)를 가지고 있다.The right cap 36R includes a right second tapered shaft portion 37R formed on the outer peripheral surface of the right cap 36R, and a right insertion hole portion formed on the inner peripheral surface of the right cap 36R and into which the right movement regulating member 15R is inserted. (38R). Similarly, the left cap 36L includes a left second tapered shaft portion 37L formed on the outer circumferential surface of the left cap 36L, and a left insert formed on the inner circumferential surface of the left cap 36L and into which the left movement regulating member 15L is inserted. It has a hole 38L.

각 삽입 구멍부(38L, 38R)의 직경은, 이동 규제 부재(15L, 15R)의 외경과 대략 동일하게 설정되어 있으며, 각 캡(36L, 36R)과 대응하는 이동 규제 부재(15L, 15R) 사이에서 덜컹거림이 발생하지 않도록 구성되어 있다.The diameters of the respective insertion holes 38L and 38R are set to be substantially equal to the outer diameters of the movement regulating members 15L and 15R, and between the respective caps 36L and 36R and the corresponding movement regulating members 15L and 15R. It is constructed so that rattling does not occur.

우측 제2 테이퍼축부(37R)는, 우측 캡(36R)의 하단측 부분에 형성되어 있다. 좌측 제2 테이퍼축부(37L)는, 좌측 캡(36L)의 하단측 부분에 형성되어 있다. 각 제2 테이퍼축부(37L, 37R)는, 하방으로 나아감에 따라 직경이 작아지는 원뿔대 테이퍼형상 부분이다. 본 실시형태에서는, 각 제2 테이퍼축부(37L, 37R)의 테이퍼각은, 각 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)의 테이퍼각과 동일한 각도로서의 제2 테이퍼각(θ2)으로 설정되어 있다. 각 제2 테이퍼축부(37L, 37R)는, 대응하는 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)의 상방으로부터 이들의 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)에 삽입됨으로써 테이퍼 끼워 맞춤되어 있다. 이에 의해, 각 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 톱 플레이트(12)의 대응하는 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)에 테이퍼 결합하고 있다.The right second tapered shaft portion 37R is formed in the lower end portion of the right cap 36R. The left second tapered shaft portion 37L is formed in the lower end portion of the left cap 36L. Each of the second tapered shaft portions 37L and 37R is a truncated conical tapered portion whose diameter decreases as it goes downward. In the present embodiment, the taper angle of each of the second taper shaft portions 37L and 37R is set to the second taper angle θ2 as an angle equal to the taper angle of each of the second taper hole portions 35L and 35R. Each of the second tapered shaft portions 37L, 37R is taper-fitted by being inserted into the second tapered hole portions 35L, 35R from above the corresponding second tapered hole portions 35L, 35R. Thereby, each movement control member 15L, 15R is taper-coupled to the corresponding 2nd taper hole part 35L, 35R of the top plate 12. As shown in FIG.

캡(36L, 36R)이 각각 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)에 끼워 맞춤되어 있을 때에 있어서, 각 캡(36L, 36R)의 상단부는, 톱 플레이트(12)로부터 상방으로 돌출하고 있다. 이에 의해, 작업원은, 각 캡(36L, 36R)의 상단부를 클램프 공구 등으로 잡을 수 있다. 이에 의해, 각 캡(36L, 36R)을 톱 플레이트(12)로부터 용이하게 떼어낼 수 있다.When the caps 36L and 36R are fitted to the second tapered hole portions 35L and 35R, respectively, the upper ends of the caps 36L and 36R protrude upward from the top plate 12 . Thereby, an operator can hold the upper end of each cap 36L, 36R with a clamp tool etc. Thereby, the caps 36L and 36R can be easily removed from the top plate 12 .

이상이, 열처리 장치(1)의 개략 구성이다.The above is the schematic structure of the heat treatment apparatus 1 .

이 열처리 장치(1)의 기판 지지 장치(6)에 있어서, 서셉터(14)를 교환할 때에는, 도 6을 참조하여, 우선, 작업원이, 각 캡(36L, 36R)을 톱 플레이트(12)로부터 떼어낸다. 다음에, 작업원은, 이동 규제 부재(15L, 15R)를 상방으로 들어 올림으로써, 이들의 이동 규제 부재(15L, 15R)를 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)로부터 떼어낸다.When replacing the susceptor 14 in the substrate holding apparatus 6 of the heat treatment apparatus 1 , first, an operator attaches the caps 36L and 36R to the top plate 12 with reference to FIG. 6 . ) from the Next, the worker removes these movement control members 15L and 15R from the bottom plate 11 and the top plate 12 by lifting the movement control members 15L and 15R upward.

이에 의해, 서셉터(14)의 전방으로부터 이동 규제 부재(15L, 15R)가 제거된다. 이 상태로, 작업원은, 교환 대상의 서셉터(14)를 지지체(13)에 대해 떼어냄 방향(X12)(도 6의 지면 앞쪽)으로 움직이게 함으로써, 전방으로 빼낸다. 그리고, 새롭게 지지체(13)에 부착되는 서셉터(14)는, 지지체(13)의 전방측으로부터 장착 방향(X11)(도 6의 지면 안쪽)으로 움직여짐으로써, 지지체(13)의 대응하는 지지부(21a, 22a, 23a)에 놓인다.Thereby, the movement control members 15L and 15R are removed from the front of the susceptor 14 . In this state, the operator moves the susceptor 14 to be replaced in the removal direction X12 (front of the paper in FIG. 6 ) with respect to the support body 13 to take it out forward. Then, the susceptor 14 newly attached to the support 13 is moved from the front side of the support 13 in the mounting direction X11 (inside of the paper in FIG. 6 ), so that the corresponding support portion of the support 13 . (21a, 22a, 23a).

다음에, 이동 규제 부재(15L, 15R)가 톱 플레이트(12)의 대응하는 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)에 통과되고, 또한, 보텀 플레이트(11)의 대응하는 제1 테이퍼 구멍부(33L, 33R)에 테이퍼 끼워 맞춤된다. 그 후, 각 캡(36L, 36R)이, 대응하는 제2 테이퍼 구멍부(35L, 35R)에 테이퍼 끼워 맞춤된다. 이상의 작업에 의해, 서셉터(14)의 교환 작업이 완료된다.Next, the movement regulating members 15L, 15R are passed through the corresponding second tapered hole portions 35L, 35R of the top plate 12, and further, the corresponding first tapered hole portions of the bottom plate 11 ( 33L, 33R) with a taper fit. Then, each cap 36L, 36R is taper-fitted to the corresponding 2nd tapered hole part 35L, 35R. With the above operation, the replacement operation of the susceptor 14 is completed.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태의 기판 지지 장치(6)에 의하면, 이동 규제 부재(15L, 15R)가 설치되어 있음으로써, 지지체(13)에 대한 서셉터(14)의 위치 어긋남을 억제할 수 있다. 이에 의해, 진동이나 공기압 등의 외력이 지지체(13)와 서셉터(14) 사이에 작용해도, 지지체(13)에 대한 서셉터(14)의 위치 어긋남을 보다 확실하게 억제할 수 있다. 따라서, 지지체(13)로부터의 서셉터(14)의 탈락을 억제할 수 있다. 또, 서셉터(14)가 평면에서 볼 때 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전하는 것을 억제할 수 있으므로, 서셉터(14)가 웨이퍼 반송 핸드(10) 등의 다른 부재와 접촉하는 것을, 보다 확실하게 억제할 수 있다. 또한, 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)에 대해 착탈 가능하게 구성되어 있다. 이에 의해, 파손된 서셉터(14)를 교환할 때에는, 이동 규제 부재(15L, 15R)를 보텀 플레이트(11) 및 톱 플레이트(12)로부터 떼어냄으로써, 서셉터(14)를 지지체(13)로부터 떼어낼 수 있다. 따라서, 예를 들면, 복수의 서셉터(14) 중 파손된 서셉터(14)를 교환할 때에, 파손된 서셉터(14)만을 지지체(13)로부터 떼어낼 수 있다. 그 결과, 서셉터(14)의 교환 작업을 용이하게 또한 저렴하게 행할 수 있다.As described above, according to the substrate support device 6 of the present embodiment, the displacement of the susceptor 14 with respect to the support body 13 can be suppressed by providing the movement control members 15L and 15R. have. Thereby, even if an external force, such as vibration or air pressure, acts between the support body 13 and the susceptor 14, the positional shift of the susceptor 14 with respect to the support body 13 can be suppressed more reliably. Accordingly, it is possible to suppress the drop-off of the susceptor 14 from the support 13 . Further, since rotation of the susceptor 14 in a clockwise or counterclockwise direction in plan view can be suppressed, it is more reliable that the susceptor 14 comes into contact with other members such as the wafer transfer hand 10 . can be suppressed. Further, the movement control members 15L and 15R are configured to be detachable from the bottom plate 11 and the top plate 12 . Accordingly, when replacing the damaged susceptor 14 , the movement limiting members 15L and 15R are removed from the bottom plate 11 and the top plate 12 to remove the susceptor 14 from the support body 13 . can be removed Therefore, for example, when replacing the damaged susceptor 14 among the plurality of susceptors 14 , only the damaged susceptor 14 can be removed from the support 13 . As a result, the replacement operation of the susceptor 14 can be performed easily and inexpensively.

또, 기판 지지 장치(6)에 의하면, 서셉터(14)는, 이동 규제 부재(15L, 15R)에 의해 전후 방향으로 위치 결정되어 있다. 이 구성에 의하면, 파손된 서셉터(14)를 새로운 서셉터(14)로 교환했을 때, 이동 규제 부재(15L, 15R)가 서셉터(14)를 위치 결정하게 된다. 이에 의해, 서셉터(14)의 교환 작업을 반복한 경우에도, 기판 지지 장치(6)가 신품인 상태에 있어서의 기판 지지 장치(6)의 각 부의 위치 관계를 유지할 수 있다. 이에 의해, 작업원의 숙련 정도에 상관없이 서셉터(14)의 교환 작업에 수반하는 서셉터(14)의 위치 결정 작업의 정밀도를 높게 할 수 있다. 따라서, 작업원의 교육에 드는 수고를 보다 줄일 수 있다.Moreover, according to the substrate holding apparatus 6, the susceptor 14 is positioned in the front-back direction by the movement control members 15L and 15R. According to this configuration, when the damaged susceptor 14 is replaced with a new susceptor 14 , the movement regulating members 15L and 15R position the susceptor 14 . Thereby, even when the replacement operation of the susceptor 14 is repeated, the positional relationship of the respective parts of the substrate support apparatus 6 in a state where the substrate support apparatus 6 is new can be maintained. Thereby, the precision of the positioning operation of the susceptor 14 accompanying the replacement operation of the susceptor 14 can be made high irrespective of the skill level of an operator. Accordingly, it is possible to further reduce the effort required for training of the workers.

또, 기판 지지 장치(6)에 의하면, 지지체(13)에 서셉터(14)는 접착되어 있지 않으나, 대신에 이동 규제 부재(15L, 15R)가 설치되어 있음으로써, 지지체(13)로부터의 서셉터(14)의 탈락이 방지되고 있다. 이 때문에, 진동이나 공기압 등에 의해 서셉터(14)가 위치 어긋나 지지체(13)로부터 탈락하는 현상이 발생하고 있는지의 여부를, 작업원이 정기적으로 볼 필요가 없다. 그 결과, 기판 지지 장치(6)의 메인터넌스 주기(메인터넌스와 메인터넌스 사이의 기간)를 보다 길게 할 수 있다.In addition, according to the substrate support device 6, the susceptor 14 is not adhered to the support 13, but instead the movement regulating members 15L and 15R are provided. The drop-off of the scepter 14 is prevented. For this reason, it is not necessary for the operator to regularly check whether the phenomenon in which the susceptor 14 is dislocated from the support body 13 due to vibration, pneumatic pressure, or the like is occurring. As a result, the maintenance cycle (period between maintenance and maintenance) of the substrate support apparatus 6 can be made longer.

또, 기판 지지 장치(6)에 의하면, 기둥 부재(21, 22, 23)의 각각의 빗살형상 부분(지지부(21a, 22a, 23a))으로 복수의 서셉터(14)를 개별적으로 지지할 수 있다. 그리고, 봉 부재인 이동 규제 부재(15L, 15R)가 이들의 서셉터(14)에 접촉함으로써, 서셉터(14)가 기둥(21, 22, 23)에 대해 위치 어긋나는 것을 억제할 수 있다.Further, according to the substrate support device 6, the plurality of susceptors 14 can be individually supported by the comb-toothed portions (support portions 21a, 22a, 23a) of the pillar members 21, 22, and 23. have. And when the movement control members 15L, 15R, which are rod members, contact these susceptors 14, it is possible to suppress displacement of the susceptors 14 with respect to the pillars 21, 22, and 23. As shown in FIG.

또, 기판 지지 장치(6)에 의하면, 각 플레이트(11, 12)와 이동 규제 부재(15L, 15R)는, 상하 방향을 따라 연장되는 축선을 중심축선으로 하는 테이퍼 결합에 의해 연결되어 있다. 이 구성에 의하면, 이동 규제 부재(15L, 15R)를 각 플레이트(11, 12)에 강고하게 또한 정확한 위치에 고정할 수 있다. 또한, 테이퍼 결합을 해제함으로써, 이동 규제 부재(15L, 15R)를 각 플레이트(11, 12)로부터 용이하게 떼어낼 수 있다.Moreover, according to the board|substrate support apparatus 6, each plate 11, 12 and movement control member 15L, 15R are connected by the taper coupling which makes the axis line extending along the up-down direction a central axis line. According to this structure, the movement regulating members 15L, 15R can be fixed to each plate 11 and 12 firmly and in an accurate position. In addition, by releasing the taper engagement, the movement control members 15L and 15R can be easily removed from the respective plates 11 and 12 .

또, 기판 지지 장치(6)에 의하면, 제1 테이퍼 결합 기구(16L, 16R) 및 제2 테이퍼 결합 기구(17L, 17R)가 설치되어 있다. 이 구성에 의하면, 지지체(13)의 하부에 배치된 보텀 플레이트(11)와, 지지체(13)의 상부에 배치된 톱 플레이트(12)의 각각이, 이동 규제 부재(15L, 15R)와 테이퍼 결합할 수 있다. 이에 의해, 이동 규제 부재(15L, 15R)와 각 플레이트(11, 12)의 서로의 결합 강도를 보다 높게 할 수 있다.Moreover, according to the board|substrate support apparatus 6, the 1st taper engagement mechanisms 16L, 16R and the 2nd taper engagement mechanisms 17L, 17R are provided. According to this configuration, each of the bottom plate 11 disposed under the support body 13 and the top plate 12 disposed above the support body 13 is taper-coupled to the movement control members 15L and 15R. can do. Thereby, the mutual bonding strength of the movement regulating members 15L, 15R and each plate 11, 12 can be made higher.

또, 기판 지지 장치(6)에 의하면, 스토퍼(27L, 27R)는, 기판 배치부(25)로부터 좌우 방향으로 돌출하고 있다. 이에 의해, 스토퍼(27L, 27R)를, 피처리 기판(100)의 통로를 피한 위치에 배치할 수 있다. 따라서, 스토퍼(27L, 27R)는, 이동 규제 부재(15L, 15R)와의 접촉에 의해 서셉터(14)의 위치 어긋남을 억제하면서, 반송 핸드(10)에 의한 피처리 기판(100)의 출입 동작을 방해하는 일이 없다.Moreover, according to the board|substrate support apparatus 6, the stoppers 27L, 27R protrude from the board|substrate arrangement|positioning part 25 in the left-right direction. Thereby, the stoppers 27L and 27R can be disposed at positions avoiding the passage of the target substrate 100 . Accordingly, the stoppers 27L and 27R suppress the displacement of the susceptor 14 due to contact with the movement control members 15L and 15R, while the transfer hand 10 moves in and out of the processing target substrate 100 . nothing to hinder

또, 기판 지지 장치(6)에 의하면, 스토퍼(27L, 27R)는, 제1 평행부(29L, 29R)를 포함하고 있다. 또한, 좌측 기둥(22) 및 우측 기둥(21)은, 제2 평행부(32L, 32R)를 포함하고 있다. 그리고, 서로 인접하는 제1 평행부(29L)와 제2 평행부(32L)가 서로 평행하게 연장되어 있음과 더불어, 서로 인접하는 제1 평행부(29R)와 제2 평행부(32R)가 서로 평행하게 연장되어 있다. 이 구성에 의하면, 스토퍼(27L, 27R)의 각 제1 평행부(29L, 29R)가 좌우의 기둥(22, 21)이 대응하는 제2 평행부(32L, 32R)에 받아질 수 있다. 이에 의해, 서셉터(14)가 각 기둥(21, 22, 23)에 대해 회전 이동하는 위치 어긋남의 발생을, 보다 확실하게 억제할 수 있다.Moreover, according to the board|substrate support apparatus 6, the stoppers 27L, 27R include the 1st parallel parts 29L, 29R. Further, the left column 22 and the right column 21 include second parallel portions 32L and 32R. And while the 1st parallel part 29L and the 2nd parallel part 32L adjacent to each other extend in parallel with each other, the 1st parallel part 29R and the 2nd parallel part 32R adjacent to each other mutually extend extended in parallel. According to this configuration, each of the first parallel portions 29L, 29R of the stoppers 27L, 27R can be received by the second parallel portions 32L, 32R to which the left and right columns 22 and 21 correspond. Thereby, generation|occurrence|production of the positional shift in which the susceptor 14 rotates with respect to each pillar 21, 22, 23 can be suppressed more reliably.

이상, 본 발명의 실시형태에 대해 설명했는데, 본 발명은 상술한 실시형태로 한정되지 않는다. 본 발명은, 특허청구범위에 기재한 한에 있어서 다양한 변경이 가능하다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to embodiment mentioned above. Various modifications are possible to the present invention as long as it is described in the claims.

(1) 상기 실시형태에서는, 제1 테이퍼 결합 기구(16L, 16R)에 있어서, 이동 규제 부재(15L, 15R)의 하단부가 볼록형상으로 형성되고, 보텀 플레이트(11)가 오목형상으로 형성된 구성을 예로 설명했다. 그러나, 이 대로가 아니어도 된다. 예를 들면, 이동 규제 부재(15L, 15R)의 하단에 오목부를 형성함과 더불어, 보텀 플레이트(11)에 볼록부를 형성하고, 이들의 볼록부 및 오목부를 서로 끼워 맞춤으로써 이동 규제 부재(15L, 15R)와 보텀 플레이트(11)를 떼어냄 가능하게 결합해도 된다. 또, 이동 규제 부재(15L, 15R)와 각 플레이트(11, 12)는, 테이퍼 결합 이외의 나사 고정 구조 등에 의해 결합되어 있어도 된다.(1) In the above embodiment, in the first taper engagement mechanisms 16L and 16R, the lower ends of the movement control members 15L and 15R are formed in a convex shape, and the bottom plate 11 is formed in a concave shape. explained as an example. However, it does not have to be this way. For example, by forming a concave portion at the lower end of the movement regulating members 15L and 15R, forming a convex portion on the bottom plate 11, and fitting these convex portions and concave portions with each other, the movement regulating member 15L, 15R) and the bottom plate 11 may be detachably coupled to each other. Moreover, the movement control members 15L, 15R and each plate 11, 12 may be couple|bonded by the screwing structure etc. other than a taper coupling.

(2) 또한, 상술한 실시형태에 있어서는, 기판 지지 장치(6)가 다양한 부재를 가지고 있는 구성을 예로 설명했다. 그러나, 기판 지지 장치(6)는, 적어도, 서셉터(14)와, 지지체(13)와, 각 플레이트(11, 12) 중 어느 하나와, 이동 규제 부재(15L, 15R) 중 어느 하나를 가지고 있으면 좋다.(2) In addition, in the above-mentioned embodiment, the structure in which the board|substrate support apparatus 6 has various members was demonstrated as an example. However, the substrate support device 6 includes at least the susceptor 14 , the support body 13 , any one of the respective plates 11 and 12 , and any one of the movement control members 15L and 15R. good to have

본 발명은, 기판 지지 장치로서 적용할 수 있다.The present invention is applicable as a substrate support apparatus.

6: 기판 지지 장치 11: 보텀 플레이트(베이스 플레이트)
12: 톱 플레이트(베이스 플레이트) 13: 지지체
14: 서셉터 15L, 15R: 이동 규제 부재
16L, 16R: 제1 테이퍼 결합 기구 17L, 17R: 제2 테이퍼 결합 기구
21, 22, 23: 기둥 부재 21a, 22a, 23a: 지지부
25: 기판 배치부 27L, 27R: 스토퍼
29L, 29R: 제1 평행부 32L, 32R: 제2 평행부
100: 피처리 기판 X1: 착탈 방향6: Substrate support device 11: Bottom plate (base plate)
12: top plate (base plate) 13: support
14: susceptor 15L, 15R: movement control member
16L, 16R: first taper engagement mechanism 17L, 17R: second taper engagement mechanism
21, 22, 23: pillar members 21a, 22a, 23a: support part
25: board arrangement part 27L, 27R: stopper
29L, 29R: first parallel portion 32L, 32R: second parallel portion
100: target substrate X1: attachment/detachment direction

Claims (6)

피처리 기판이 각각 놓이는 복수의 서셉터와,
복수의 상기 서셉터를 지지하는 복수의 지지부가 세로 방향으로 늘어선 구성을 가짐과 더불어, 상기 세로 방향과 교차하는 소정의 착탈 방향을 따라 상기 서셉터를 이동시킴으로써 상기 서셉터를 대응하는 상기 지지부에 착탈 가능하게 구성된 지지체와,
상기 지지체가 고정된 베이스 플레이트와,
상기 서셉터에 대한 상기 피처리 기판의 출입을 허용하면서 각 상기 서셉터가 상기 지지체에 대해 이동하는 것을 규제하기 위해서 설치되고, 또한, 상기 서셉터를 상기 지지체에 착탈하기 위해서 상기 베이스 플레이트에 착탈 가능한 이동 규제 부재를 구비하고,
상기 지지체는, 상기 착탈 방향을 따라 상기 피처리 기판이 이동됨으로써 상기 피처리 기판을 대응하는 상기 서셉터에 착탈시키는 것이 가능하게 구성되어 있고,
상기 이동 규제 부재는, 상기 착탈 방향 중 상기 서셉터를 떼어내는 떼어냄 방향에서의 상기 서셉터의 선단부를 받도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판 지지 장치.a plurality of susceptors on which the target substrate is placed, respectively;
A plurality of support parts supporting the plurality of susceptors have a configuration in which they are arranged in a vertical direction, and the susceptors are attached to and detached from the corresponding support parts by moving the susceptors along a predetermined detachment direction intersecting the vertical direction. a support configured to be possible; and
a base plate to which the support is fixed;
It is provided to regulate movement of each of the susceptors with respect to the support while allowing entry and exit of the substrate to and from the susceptor, and is detachable from the base plate in order to attach and detach the susceptor to the support. and a movement regulating member;
The support is configured to be capable of attaching and detaching the processing target substrate to the corresponding susceptor by moving the processing target substrate along the attachment/detachment direction;
The said movement control member is arrange|positioned so that it may receive the front-end|tip of the said susceptor in the removal direction which removes the said susceptor among the said attachment/detachment directions, The board|substrate support apparatus characterized by the above-mentioned. 청구항 1에 있어서,
상기 지지체는, 서로 이격하여 배치되어 상기 세로 방향으로 연장되는 복수의 기둥 부재를 포함하고,
각 상기 기둥 부재가 상기 세로 방향을 따르는 빗살형상으로 형성됨으로써, 복수의 상기 지지부가 형성되고,
상기 이동 규제 부재는, 상기 세로 방향을 따라 연장되어 각 상기 서셉터에 접촉 가능한 봉 부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는, 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
The support includes a plurality of column members spaced apart from each other and extending in the longitudinal direction,
By forming each of the pillar members in a comb-tooth shape along the longitudinal direction, a plurality of the support parts are formed,
The movement regulating member includes a rod member extending along the longitudinal direction and contactable to each of the susceptors. 청구항 1에 있어서,
상기 베이스 플레이트 및 상기 이동 규제 부재는, 상기 세로 방향을 따라 연장되는 축선을 중심축선으로 하는 테이퍼 결합에 의해 연결되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
The base plate and the movement regulating member are connected by a taper coupling having an axis extending in the longitudinal direction as a central axis. 청구항 3에 있어서,
상기 베이스 플레이트로서, 상기 세로 방향에 있어서의 상기 지지체의 하단에 배치된 보텀 플레이트와, 상기 세로 방향에 있어서의 상기 지지체의 상단에 배치된 톱 플레이트가 설치되고,
상기 이동 규제 부재와 상기 보텀 플레이트를 테이퍼 결합하는 제1 테이퍼 결합 기구와,
상기 이동 규제 부재와 상기 톱 플레이트를 테이퍼 결합하는 제2 테이퍼 결합 기구를 추가로 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 기판 지지 장치.4. The method according to claim 3,
As the base plate, a bottom plate disposed at a lower end of the support body in the vertical direction and a top plate disposed on an upper end of the support body in the vertical direction are provided;
a first taper coupling mechanism for taperingly coupling the movement regulating member and the bottom plate;
and a second taper coupling mechanism for taperingly coupling the movement regulating member and the top plate. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 서셉터는, 상기 피처리 기판을 배치하기 위한 기판 배치부와, 상기 착탈 방향과 교차하는 소정의 폭 방향에 있어서 상기 기판 배치부로부터 돌출하여 연장되어 상기 이동 규제 부재에 받아지는 스토퍼를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는, 기판 지지 장치.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The susceptor includes a substrate arranging unit for arranging the target substrate, and a stopper extending to protrude from the substrate arranging unit in a predetermined width direction intersecting the attachment/detachment direction and received by the movement regulating member, A substrate support device, characterized in that there is. 청구항 5에 있어서,
상기 스토퍼는, 상기 폭 방향으로 이격하여 한 쌍 설치되어 있고,
각 상기 스토퍼는, 제1 평행부를 포함하고,
상기 지지체는, 한 쌍의 상기 제1 평행부와 접촉 가능한 한 쌍의 제2 평행부를 포함하며,
서로 인접하는 상기 제1 평행부와 상기 제2 평행부가 서로 평행하게 연장되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판 지지 장치.6. The method of claim 5,
The stoppers are provided in a pair spaced apart in the width direction,
Each of the stoppers includes a first parallel portion,
The support includes a pair of second parallel portions contactable with the pair of first parallel portions,
The substrate supporting apparatus, wherein the first parallel portion and the second parallel portion adjacent to each other extend parallel to each other.
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