JP7245071B2 - Substrate support device - Google Patents

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Description

本発明は、基板支持装置に関する。 The present invention relates to a substrate support device.

半導体ウェハを熱処理するための装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の装置は、縦型ウェハ支持装置である。この装置は、複数の支柱の側面に突起を設け、これらの突起にウェハ支持リングを載せた構成を有している。ウェハ支持リングに、シリコンウェハが載せられる。 An apparatus for heat-treating semiconductor wafers is known (see, for example, Patent Document 1). The device described in Patent Document 1 is a vertical wafer support device. This device has a structure in which protrusions are provided on the side surfaces of a plurality of columns, and a wafer support ring is placed on these protrusions. A silicon wafer is placed on the wafer support ring.

特開平１０－５０６２６号公報JP-A-10-50626

ところで、半導体熱処理プロセスにおいて、Ｆａｎ－Ｏｕｔウェハへのアニール処理等、樹脂基板の反りを矯正するためのアニール処理が行われることがある。このような半導体熱処理プロセスにおいては、ウェハの下面を支持するサセプタ（基板支持プレート）が必要である。そして、バッチ式熱処理装置は、ウェハを複数枚一括して熱処理するため、サセプタを複数設ける必要がある。なお、特許文献１には、支柱とウェハ支持リングとをどのように固定しているのかの具体的な開示はない。 Incidentally, in a semiconductor heat treatment process, an annealing treatment for correcting warping of a resin substrate, such as an annealing treatment for a Fan-Out wafer, is sometimes performed. Such a semiconductor heat treatment process requires a susceptor (substrate support plate) for supporting the lower surface of the wafer. A batch type heat treatment apparatus needs to provide a plurality of susceptors in order to perform heat treatment on a plurality of wafers at once. Note that Patent Document 1 does not specifically disclose how the column and the wafer support ring are fixed.

一方で、支柱にサセプタを取り付ける方法としては、（１）複数の支柱のそれぞれに形成した溝にサセプタを挿入してサセプタの外周縁部を支柱で支持する方法、（２）複数の支柱にサセプタを溶接固定する方法、が挙げられる。 On the other hand, as a method of attaching a susceptor to a support, there are two methods: (1) a method in which the susceptor is inserted into grooves formed in each of a plurality of supports so that the outer peripheral edge of the susceptor is supported by the support; and a method of fixing by welding.

このうち、上記（１）の方法では、熱処理装置の基板支持装置を長期間使用したときに、振動や空気圧等の外力により、支柱に対してサセプタが位置ずれし、サセプタが支柱から脱落するおそれがある。また、上記の外力によって、サセプタが支柱に対して平面視で時計回り方向または反時計回り方向に回転することで、ウェハ搬送ハンド等とサセプタとが接触するおそれがある。 Of these methods, in the method (1), when the substrate supporting device of the heat treatment apparatus is used for a long period of time, external forces such as vibration and air pressure may cause the susceptor to be displaced from the support, causing the susceptor to fall off the support. There is In addition, the above external force may cause the susceptor to rotate clockwise or counterclockwise with respect to the column in a plan view, which may cause the wafer transfer hand or the like to come into contact with the susceptor.

上記（２）の方法の場合、支柱に対するサセプタの位置ずれは生じない。しかしながら、仮に、サセプタが一つでも破損した場合、支柱および複数のサセプタを含む基板支持装置全体を交換する必要がある。このため、基板支持装置の予備品を半導体製造工場で保管しておく必要があり、半導体製造工場における費用的な負担が大きくなる。また、サセプタが破損したボートを修理する場合についても、新品のサセプタの部品代に加えて溶接加工代が必要となり、修理に手間がかかる上に費用負担も大きくなる。 In the case of method (2) above, the susceptor is not displaced with respect to the strut. However, if even one susceptor is damaged, it is necessary to replace the entire substrate support apparatus including the support columns and the plurality of susceptors. Therefore, it is necessary to keep spare parts of the substrate supporting device in the semiconductor manufacturing factory, which increases the cost burden on the semiconductor manufacturing factory. Also, when repairing a boat with a damaged susceptor, the cost of welding is required in addition to the cost of parts for a new susceptor.

本発明は、上記事情に鑑みることにより、ウェハ等の被処理基板を支持するためのサセプタを備える基板支持装置において、サセプタを支持する支持体に対するサセプタの位置ずれを確実に抑制しつつ、サセプタの交換作業を容易且つ安価に行うことができるようにすることを目的とする。 In view of the above circumstances, the present invention provides a substrate support apparatus having a susceptor for supporting a substrate to be processed such as a wafer, while reliably suppressing displacement of the susceptor with respect to a support that supports the susceptor. To enable replacement work to be performed easily and inexpensively.

（１）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる基板支持装置は、被処理基板がそれぞれ載せられる複数のサセプタと、複数の前記サセプタを支持する複数の支持部が縦方向に並んだ構成を有するとともに、前記縦方向と交差する所定の着脱方向に沿って前記サセプタを移動させることで前記サセプタを対応する前記支持部に着脱可能に構成された支持体と、前記支持体が固定されたベースプレートと、前記サセプタに対する前記被処理基板の出し入れを許容しつつ各前記サセプタが前記支持体に対して移動することを規制するために設けられ、且つ、前記サセプタを前記支持体に着脱するために前記ベースプレートに着脱可能な移動規制部材と、を備えている。 (1) In order to solve the above problems, a substrate supporting device according to one aspect of the present invention includes a plurality of susceptors on which substrates to be processed are respectively placed, and a plurality of supporting portions that support the plurality of susceptors. a supporting body arranged side by side and configured so that the susceptor can be attached to and detached from the corresponding support portion by moving the susceptor along a predetermined attaching and detaching direction that intersects with the longitudinal direction; A fixed base plate is provided for restricting movement of each of the susceptors with respect to the support while allowing the substrate to be processed to be taken in and out of the susceptor, and the susceptor is attached to and detached from the support. a movement restricting member that is detachable from the base plate for controlling movement.

この構成によると、移動規制部材が設けられていることにより、支持体に対するサセプタの位置ずれを抑制できる。これにより、振動や空気圧等の外力が支持体とサセプタとの間に作用しても、支持体に対するサセプタの位置ずれをより確実に抑制できる。よって、支持体からのサセプタの脱落を抑制できる。また、サセプタが平面視で時計回り方向または反時計回り方向に回転することを抑制できるので、サセプタがウェハ搬送ハンド等の他の部材と接触することを、より確実に抑制できる。さらに、移動規制部材は、ベースプレートに対して着脱可能に構成されている。これにより、破損したサセプタを交換する際には、移動規制部材をベースプレートから取り外すことで、サセプタを支持体から取り外すことができる。よって、例えば、複数のサセプタのうち破損したサセプタを交換する際に、破損したサセプタのみを支持体から取り外すことができる。その結果、サセプタの交換作業を容易且つ安価に行うことができる。 According to this configuration, since the movement restricting member is provided, it is possible to suppress the displacement of the susceptor with respect to the support. As a result, even if an external force such as vibration or air pressure acts between the support and the susceptor, displacement of the susceptor with respect to the support can be more reliably suppressed. Therefore, it is possible to prevent the susceptor from falling off from the support. In addition, since the susceptor can be prevented from rotating clockwise or counterclockwise in plan view, it is possible to more reliably prevent the susceptor from coming into contact with other members such as the wafer transfer hand. Furthermore, the movement restricting member is configured to be detachable from the base plate. Accordingly, when replacing a damaged susceptor, the susceptor can be removed from the support by removing the movement restricting member from the base plate. Therefore, for example, when replacing a damaged susceptor among a plurality of susceptors, only the damaged susceptor can be removed from the support. As a result, the susceptor can be replaced easily and inexpensively.

（２）前記支持体は、互いに離隔して配置され前記縦方向に延びる複数の柱部材を含み、各前記柱部材が前記縦方向に沿う櫛歯状に形成されることで、複数の前記支持部が形成され、前記移動規制部材は、前記縦方向に沿って延び各前記サセプタに接触可能な棒部材を含んでいる場合がある。 (2) The support body includes a plurality of pillar members that are spaced apart from each other and extend in the longitudinal direction. A portion may be formed, and the movement restricting member may include a bar member extending along the longitudinal direction and capable of contacting each of the susceptors.

この構成によると、柱部材の櫛歯状部分で複数のサセプタを個別に支持することができる。そして、棒部材がこれらのサセプタに接触することで、サセプタが柱部材に対して位置ずれすることを抑制できる。 With this configuration, a plurality of susceptors can be individually supported by the comb-like portions of the pillar members. Further, the rod members contact these susceptors, thereby suppressing the positional displacement of the susceptors with respect to the column members.

（３）前記ベースプレートおよび前記移動規制部材は、前記縦方向に沿って延びる軸線を中心軸線とするテーパ結合によって連結されている場合がある。 (3) The base plate and the movement restricting member may be connected by a tapered connection with the axis extending along the longitudinal direction as the central axis.

この構成によると、移動規制部材をベースプレートに強固に且つ正確な位置に固定できる。さらに、テーパ結合を解除することで、移動規制部材をベースプレートから容易に取り外すことができる。 With this configuration, the movement restricting member can be firmly fixed to the base plate at an accurate position. Furthermore, by releasing the taper coupling, the movement restricting member can be easily removed from the base plate.

（４）前記ベースプレートとして、前記縦方向における前記支持体の下端に配置されたボトムプレートと、前記縦方向における前記支持体の上端に配置されたトッププレートと、が設けられ、前記移動規制部材と前記ボトムプレートとをテーパ結合する第１テーパ結合機構と、前記移動規制部材と前記トッププレートとをテーパ結合する第２テーパ結合機構と、をさらに備えている場合がある。 (4) As the base plate, a bottom plate arranged at the lower end of the support in the vertical direction and a top plate arranged at the upper end of the support in the vertical direction are provided; A first taper coupling mechanism for taper coupling the bottom plate and a second taper coupling mechanism for taper coupling the movement restricting member and the top plate may be further provided.

この構成によると、支持体の下部に配置されたボトムプレートと、支持体の上部に配置されたトッププレートのそれぞれが、移動規制部材とテーパ結合することができる。これにより、移動規制部材とベースプレート（ボトムプレートおよびトッププレート）との互いの結合強度をより高くできる。 According to this configuration, the bottom plate arranged below the support and the top plate arranged above the support can be taper-coupled with the movement restricting member. As a result, the mutual bonding strength between the movement restricting member and the base plate (bottom plate and top plate) can be increased.

（５）前記サセプタは、前記被処理基板を配置するための基板配置部と、前記着脱方向と交差する所定の幅方向において前記基板配置部から突出して延び前記移動規制部材に受けられるストッパと、を含んでいる場合がある。 (5) the susceptor includes a substrate placement portion for placing the substrate to be processed; may contain

この構成によると、ストッパは、基板配置部から幅方向に突出している。これにより、ストッパを、被処理基板の通路を避けた位置に配置できる。よって、ストッパは、移動規制部材との接触によってサセプタの位置ずれを抑制しつつ、被処理基板の出し入れ動作を邪魔せずに済む。 According to this configuration, the stopper protrudes in the width direction from the board placement portion. Thereby, the stopper can be arranged at a position avoiding the path of the substrate to be processed. Therefore, the stopper can suppress the displacement of the susceptor due to contact with the movement restricting member, and does not interfere with the movement of the substrate to be processed in and out.

（６）前記ストッパは、前記幅方向に離隔して一対設けられており、各前記ストッパは、第１平行部を含み、前記支持体は、一対の前記第１平行部と接触可能な一対の第２平行部を含み、互いに隣接する前記第１平行部と前記第２平行部とが互いに平行に延びている場合がある。 (6) A pair of the stoppers are provided spaced apart in the width direction, each of the stoppers includes a first parallel portion, and the support body includes a pair of the first parallel portions contactable with the pair of the first parallel portions. In some cases, the first parallel portion and the second parallel portion adjacent to each other, including the second parallel portion, extend parallel to each other.

この構成によると、ストッパの各第１平行体が支持部の対応する第２平行部に受けられることができる。これにより、サセプタが支持体に対して回転移動する位置ずれの発生を、より確実に抑制できる。 With this arrangement, each first parallel body of the stopper can be received in the corresponding second parallel part of the support. As a result, it is possible to more reliably prevent the susceptor from rotating relative to the support.

本発明によると、被処理基板を支持するためのサセプタを備える基板支持装置において、サセプタを支持する支持体に対するサセプタの位置ずれを確実に抑制しつつ、サセプタの交換作業を容易且つ安価に行うことができる。 According to the present invention, in a substrate supporting device provided with a susceptor for supporting a substrate to be processed, the susceptor can be easily and inexpensively replaced while reliably suppressing displacement of the susceptor with respect to a supporting body that supports the susceptor. can be done.

本発明の一実施形態に係る熱処理装置の断面図であり、基板支持装置を含む熱処理装置を側方から見た状態を示している。1 is a cross-sectional view of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, showing a state in which the heat treatment apparatus including a substrate supporting device is viewed from the side; FIG. 被処理基板が複数載せられた状態の基板支持装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the substrate supporting device on which a plurality of substrates to be processed are placed; 図２に示す基板支持装置の中間部を拡大した一部断面図であって、移動規制部材を省略した状態を示している。FIG. 3 is a partial cross-sectional view enlarging an intermediate portion of the substrate support device shown in FIG. 2, showing a state in which a movement restricting member is omitted; 図２、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う断面図であり、基板支持装置を平面視した状態を示している。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIGS. 2 and 3, showing a state in which the substrate support device is viewed from above. 図２に示す基板支持装置の上部および下部における主要部を拡大した断面図である。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of main parts in the upper and lower portions of the substrate supporting device shown in FIG. 2; サセプタの取り替え作業を説明するための図であり、基板支持装置が分解された状態を、一部を省略して示している。FIG. 10 is a diagram for explaining the replacement work of the susceptor, and shows a state in which the substrate supporting device is disassembled, with some parts omitted;

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明する。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, it demonstrates, referring drawings for the form for implementing this invention.

図１は、本発明の一実施形態に係る熱処理装置１の断面図であり、基板支持装置６を含む熱処理装置１を側方から見た状態を示している。図１を参照して、熱処理装置１は、被処理基板１００に熱処理を施すことが可能に構成されている。このような熱処理の一例として、アニール処理を挙げることができる。なお、熱処理装置１で行われる熱処理は、アニール処理以外の他の一般的な熱処理であってもよい。被処理基板１００は、例えば、Ｆａｎ－Ｏｕｔウェハであり、本実施形態では、円盤状に形成されている。 FIG. 1 is a cross-sectional view of a heat treatment apparatus 1 according to one embodiment of the present invention, showing a state of the heat treatment apparatus 1 including a substrate supporting device 6 viewed from the side. Referring to FIG. 1, thermal processing apparatus 1 is configured to be capable of thermally processing substrate 100 to be processed. Annealing treatment can be given as an example of such heat treatment. The heat treatment performed by the heat treatment apparatus 1 may be general heat treatment other than annealing treatment. The substrate to be processed 100 is, for example, a fan-out wafer, and is shaped like a disk in this embodiment.

熱処理装置１は、ベース板２と、ヒータ３と、チャンバ４と、底部フランジ５と、底部フランジ５に取り付けられた基板支持装置６と、昇降機構７と、を有している。 The heat treatment apparatus 1 has a base plate 2 , a heater 3 , a chamber 4 , a bottom flange 5 , a substrate support device 6 attached to the bottom flange 5 , and an elevating mechanism 7 .

ベース板２は、ヒータ３およびチャンバ４を支持する部材として設けられている。ベース板２の中央には、貫通孔が形成されている。この貫通孔を上方から塞ぐようにして、ヒータ３が配置されている。ヒータ３は、たとえば電熱ヒータであり、全体として箱状に形成されており、下向きに開放された形状を有している。ヒータ３に取り囲まれた空間に、チャンバ４が配置されている。 A base plate 2 is provided as a member that supports the heater 3 and the chamber 4 . A through hole is formed in the center of the base plate 2 . A heater 3 is arranged so as to block the through hole from above. The heater 3 is, for example, an electric heater, is formed in a box shape as a whole, and has a downwardly open shape. A chamber 4 is arranged in a space surrounded by the heater 3 .

チャンバ４は、被処理基板１００を熱処理するための処理室を形成している。チャンバ４は、全体として箱状に形成されており、下向きに開放された開口部を有している。チャンバ４の開口部は、シール部材８と接触している。チャンバ４内の空間は、ベース板２の貫通孔を通して、ベース板２の下方の空間に連続している。 The chamber 4 forms a processing chamber for heat-treating the substrate 100 to be processed. The chamber 4 is generally box-shaped and has an opening that opens downward. The opening of chamber 4 is in contact with sealing member 8 . The space in the chamber 4 is continuous with the space below the base plate 2 through the through holes of the base plate 2 .

熱処理装置１における熱処理時、チャンバ４内の空間には、被処理基板１００が配置される。被処理基板１００は、本実施形態では水平姿勢で、基板支持装置６（ボートともいう）に支持される。 During heat treatment in the heat treatment apparatus 1 , a substrate 100 to be treated is arranged in the space inside the chamber 4 . In this embodiment, the substrate to be processed 100 is horizontally supported by a substrate supporting device 6 (also referred to as a boat).

基板支持装置６は、底部フランジ５の上面に取り付けられている。底部フランジ５は、基板支持装置６と一体的に上昇および下降することが可能である。底部フランジ５は、ベース板２の開口部を塞ぐことで、チャンバ４内の空間を閉空間とする。ベース板２の外周部の下面には、シール部材９が配置されている。底部フランジ５は、昇降機構７によって支持されている。昇降機構７の動作によって、底部フランジ５、基板支持装置６および被処理基板１００は、一体的に上下方向に変位する。 A substrate support device 6 is attached to the top surface of the bottom flange 5 . The bottom flange 5 can be raised and lowered integrally with the substrate support device 6 . The bottom flange 5 closes the opening of the base plate 2 to make the space inside the chamber 4 a closed space. A seal member 9 is arranged on the lower surface of the outer peripheral portion of the base plate 2 . The bottom flange 5 is supported by a lifting mechanism 7 . By the operation of the elevating mechanism 7, the bottom flange 5, the substrate supporting device 6 and the substrate to be processed 100 are vertically displaced integrally.

熱処理装置１における熱処理時の動作としては、まず、基板支持装置６がチャンバ４の下方に降下された状態で、この基板支持装置６に複数の被処理基板１００を載せる。具体的には、例えば多軸ロボットアームの先端に設けられた搬送ハンド１０の動作によって、図示しないカセットから基板支持装置６へ被処理基板１００が例えば一枚毎に搬入される。そして、複数の被処理基板１００が基板支持装置６に載せられた後、昇降機構７が上昇動作する。これにより、底部フランジ５、基板支持装置６および被処理基板１００がチャンバ４内の空間に配置される。 As for the operation during heat treatment in the heat treatment apparatus 1 , first, a plurality of substrates 100 to be processed are placed on the substrate support device 6 while the substrate support device 6 is lowered below the chamber 4 . Specifically, for example, substrates 100 to be processed are transferred one by one from a cassette (not shown) to the substrate supporting device 6 by the operation of a transfer hand 10 provided at the tip of a multi-axis robot arm. After the plurality of substrates to be processed 100 are placed on the substrate supporting device 6, the elevating mechanism 7 is moved upward. Thereby, the bottom flange 5 , the substrate supporting device 6 and the substrate to be processed 100 are arranged in the space inside the chamber 4 .

次に、ヒータ３による加熱動作が行われる。これにより、チャンバ４内の空間が加熱され、被処理基板１００の熱処理が行われる。被処理基板１００の熱処理が完了し、ヒータ３が停止された後、昇降機構７は、下降動作する。これにより、底部フランジ５、基板支持装置６、および、被処理基板１００は、チャンバ４の下方に到達する。次に、搬送ハンド１０が被処理基板１００を例えば一枚毎に搬出することで、基板支持装置６から被処理基板１００が取り出される。 Next, the heating operation by the heater 3 is performed. Thereby, the space in the chamber 4 is heated, and the heat treatment of the substrate 100 to be processed is performed. After the heat treatment of the substrate 100 to be processed is completed and the heater 3 is stopped, the elevating mechanism 7 moves downward. Thereby, the bottom flange 5 , the substrate supporting device 6 and the substrate to be processed 100 reach below the chamber 4 . Next, the substrates to be processed 100 are taken out from the substrate support device 6 by carrying out the substrates to be processed 100 one by one by the transport hand 10 .

次に、基板支持装置６の詳細な構成を説明する。 Next, a detailed configuration of the substrate support device 6 will be described.

図２は、被処理基板１００が複数載せられた状態の基板支持装置６の正面図である。図３は、図２に示す基板支持装置６の中間部を拡大した一部断面図であって、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒを省略した状態を示している。図４は、図２、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う断面図であり、基板支持装置６を平面視した状態を示している。図５は、図２に示す基板支持装置６の上部および下部における主要部を拡大した断面図である。 FIG. 2 is a front view of the substrate supporting device 6 on which a plurality of substrates 100 to be processed are placed. FIG. 3 is an enlarged partial cross-sectional view of an intermediate portion of the substrate supporting device 6 shown in FIG. 2, showing a state where the movement restricting members 15L and 15R are omitted. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIGS. 2 and 3, showing a state in which the substrate support device 6 is viewed from above. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the main parts of the upper and lower portions of the substrate support device 6 shown in FIG.

なお、本実施形態では、上下および左右の方向については、基板支持装置６を正面視した状態を基準として説明する。また、本実施形態では、前後の方向については、基板支持装置６を平面視した状態を基準として説明する。 In this embodiment, the vertical and horizontal directions are described with reference to a state in which the substrate support device 6 is viewed from the front. Further, in the present embodiment, the front and rear directions will be described with reference to a state in which the substrate support device 6 is viewed from above.

図２～図５を参照して、基板支持装置６は、本実施形態では、単一材料としての石英で形成されている。このように、基板支持装置６を単一材料で形成することで、基板支持装置６の各部における熱膨張率を略均等にできる。これにより、基板支持装置６の各部の互いの連結部分において部材間に緩みが生じることを抑制できる。 2 to 5, the substrate support device 6 is made of quartz as a single material in this embodiment. By forming the substrate support device 6 from a single material in this manner, the coefficient of thermal expansion of each portion of the substrate support device 6 can be substantially uniform. Thereby, it is possible to suppress loosening between the members at the connection portions of the respective parts of the substrate support device 6 .

基板支持装置６は、ベースプレートとしてのボトムプレート１１およびトッププレート１２と、これらのプレート１１，１２に固定された支持体１３と、支持体１３に支持された複数のサセプタ（基板支持プレート）１４と、サセプタ１４の位置ずれを防止するためにプレート１１，１２に取り付けられた移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒと、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒおよびボトムプレート１１を互いに結合するための第１テーパ結合機構１６Ｌ，１６Ｒと、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒおよびトッププレート１２を互いに結合するための第２テーパ結合機構１７Ｌ，１７Ｒと、を有している。 The substrate support device 6 includes a bottom plate 11 and a top plate 12 as base plates, a support 13 fixed to these plates 11 and 12, and a plurality of susceptors (substrate support plates) 14 supported by the support 13. , movement restricting members 15L and 15R attached to the plates 11 and 12 to prevent the susceptor 14 from being displaced, a first tapered coupling mechanism 16L for coupling the movement restricting members 15L and 15R and the bottom plate 11 to each other, 16R and second taper coupling mechanisms 17L and 17R for coupling the movement restricting members 15L and 15R and the top plate 12 to each other.

ボトムプレート１１は、支持体１３の下端に配置されている。一方、トッププレート１２は、支持体１３の上端に配置されている。ボトムプレート１１およびトッププレート１２は、支持体１３が固定されるプレートである。本実施形態では、ボトムプレート１１およびトッププレート１２は、平板状部材であり、平面視で外周縁部の形状および位置が互いに同じとされている。なお、ボトムプレート１１の平面視形状は、図４に示されているけれども、トッププレート１２の平面視形状は図示を省略されている。ボトムプレート１１およびトッププレート１２は、それぞれ、前部形状が左右方向に平行に延びる矩形状に形成されている。また、ボトムプレート１１およびトッププレート１２は、それぞれ、後部形状が後方に凸となる半円形状に形成されている。ボトムプレート１１とトッププレート１２とは、支持体１３を介して一体的に結合されており、互いに分離不能に構成されている。 The bottom plate 11 is arranged at the lower end of the support 13 . On the other hand, the top plate 12 is arranged on the upper end of the support 13 . Bottom plate 11 and top plate 12 are plates to which support 13 is fixed. In the present embodiment, the bottom plate 11 and the top plate 12 are flat plate-like members, and the shape and position of the outer peripheral edge portions thereof are the same in plan view. Although the plan view shape of the bottom plate 11 is shown in FIG. 4, the plan view shape of the top plate 12 is omitted. Each of the bottom plate 11 and the top plate 12 has a rectangular front portion extending parallel to the left-right direction. Also, the bottom plate 11 and the top plate 12 are each formed in a semicircular shape with a rearward convex shape. The bottom plate 11 and the top plate 12 are integrally connected via the support 13 and are inseparable from each other.

支持体１３は、複数のサセプタ１４を支持するために設けられている。本実施形態では、支持体１３は、上下方向に延びる複数の柱部材としての右柱２１、左柱２２、および、後柱２３を有している。 A support 13 is provided to support a plurality of susceptors 14 . In this embodiment, the support 13 has a right pillar 21, a left pillar 22, and a rear pillar 23 as a plurality of vertically extending pillar members.

右柱２１は、ボトムプレート１１およびトッププレート１２のそれぞれの右前部に配置されている。左柱２２は、ボトムプレート１１およびトッププレート１２のそれぞれの左前部に配置されている。後柱２３は、ボトムプレート１１およびトッププレート１２のそれぞれの後端部に配置されている。このように、柱２１，２２，２３は、プレート１１，１２において互いに離隔して配置されている。なお、柱の数は、本実施形態で示す３つに限定されず、２でもよいし、４以上であってもよい。各柱２１，２２，２３は、細長い軸状に形成されている。各柱２１，２２，２３の下端部は、ボトムプレート１１に溶接等の固定方法によって一体化されている。各柱２１，２２，２３の上端部は、トッププレート１２に溶接等の固定方法によって一体化されている。 The right pillar 21 is arranged on the right front part of each of the bottom plate 11 and the top plate 12 . The left pillar 22 is arranged on the left front part of each of the bottom plate 11 and the top plate 12 . The rear pillars 23 are arranged at the respective rear ends of the bottom plate 11 and the top plate 12 . Thus, the pillars 21, 22, 23 are spaced apart from each other in the plates 11, 12. FIG. Note that the number of pillars is not limited to three as shown in this embodiment, and may be two, or four or more. Each pillar 21, 22, 23 is formed in an elongated shaft shape. The lower ends of the columns 21, 22, 23 are integrated with the bottom plate 11 by a fixing method such as welding. The upper ends of the columns 21, 22, 23 are integrated with the top plate 12 by a fixing method such as welding.

右柱２１には、複数の支持部２１ａが形成されている。同様に、左柱２２には、複数の支持部２２ａが形成されている。後柱２３には、複数の支持部２３ａが形成されている。支持部２１ａ，２２ａ，２３ａの数は、互いに同じに設定されている。本実施形態では、支持部２１ａ，２２ａ，２３ａの数は、それぞれ約３０である。支持部２１ａ，２２ａ，２３ａは、対応する柱２１，２２，２３の上下方向の中間部に形成されている。 The right pillar 21 is formed with a plurality of support portions 21a. Similarly, the left pillar 22 is formed with a plurality of support portions 22a. The rear pillar 23 is formed with a plurality of support portions 23a. The numbers of support portions 21a, 22a, and 23a are set to be the same. In this embodiment, the number of support portions 21a, 22a, 23a is about 30 each. The support portions 21a, 22a, and 23a are formed in the vertical intermediate portions of the corresponding columns 21, 22, and 23, respectively.

支持部２１ａは、右柱２１の左側部に形成された小片部分である。支持部２１ａは、丸軸状の右柱２１の左側部に形成された凹部２１ｂと上下方向に交互に配置されている。これにより、複数のサセプタ１４を支持する複数の支持部２１ａが、上下方向（縦方向）に並んでいる。凹部２１ｂは、支持部２１ａを前後方向に貫通する部分であり、右柱２１の左側に開放されている。このように、右柱２１が上下方向に沿う櫛歯状に形成されることで、複数の支持部２１ａが形成されている。 The support portion 21 a is a small piece portion formed on the left side of the right column 21 . The support portions 21a and the recess portions 21b formed on the left side of the right pillar 21 are arranged alternately in the vertical direction. Thus, the plurality of support portions 21a that support the plurality of susceptors 14 are arranged in the vertical direction (longitudinal direction). The recessed portion 21 b is a portion that penetrates the support portion 21 a in the front-rear direction, and is open to the left side of the right column 21 . In this manner, a plurality of support portions 21a are formed by forming the right pillar 21 in a comb shape along the vertical direction.

支持部２２ａは、左柱２２の右側部に形成された小片状部分である。支持部２２ａは、丸軸状の左柱２２の右側部に形成された凹部２２ｂと上下方向に交互に配置されている。これにより、複数のサセプタ１４を支持する複数の支持部２２ａが、上下方向（縦方向）に並んでいる。凹部２２ｂは、支持部２２ａを前後方向に貫通する部分であり、左柱２２の右側に開放されている。このように、左柱２２が上下方向に沿う櫛歯状に形成されることで、複数の支持部２２ａが形成されている。 The support portion 22a is a piece-like portion formed on the right side of the left column 22. As shown in FIG. The support portions 22a and the recesses 22b formed on the right side of the left column 22 are arranged alternately in the vertical direction. Thus, the plurality of support portions 22a that support the plurality of susceptors 14 are arranged in the vertical direction (longitudinal direction). The recessed portion 22b is a portion that penetrates the support portion 22a in the front-rear direction, and is open to the right side of the left column 22. As shown in FIG. In this way, a plurality of support portions 22a are formed by forming the left pillar 22 in a comb shape along the vertical direction.

支持部２３ａは、後柱２３の前側部に形成された小片状部分である。支持部２３ａは、丸軸状の後柱２３の前側部に形成された凹部２３ｂと上下方向に交互に配置されている。これにより、複数のサセプタ１４を支持する複数の支持部２３ａが、上下方向（縦方向）に並んでいる。凹部２３ｂは、支持部２３ａを左右方向に貫通する部分であり、後柱２３の前側に開放されている。このように、後柱２３が上下方向に沿う櫛歯状に形成されることで、複数の支持部２３ａが形成されている。 The support portion 23 a is a piece-like portion formed on the front side portion of the rear column 23 . The support portions 23a and the recess portions 23b formed in the front side portion of the round shaft-shaped rear pillar 23 are arranged alternately in the vertical direction. Thus, the plurality of support portions 23a that support the plurality of susceptors 14 are arranged in the vertical direction (longitudinal direction). The recessed portion 23b is a portion that penetrates the support portion 23a in the left-right direction, and is open to the front side of the rear column 23. As shown in FIG. In this way, a plurality of support portions 23a are formed by forming the rear post 23 in a comb-like shape extending in the vertical direction.

上記の構成により支持部２１ａ，２２ａは、前後方向に延びており、支持部２３ａは、左右方向に延びている。また、支持部２１ａ，２２ａ，２３ａは、上下方向の位置を揃えられている。この構成により、高さ位置が同じ支持部２１ａ，２２ａ，２３ａは、協働して一つの被処理基板１００を水平姿勢で支持する。本実施形態では、高さ位置が同じ支持部２１ａ，２２ａ，２３ａに対して、縦方向と交差する所定の着脱方向Ｘ１（本実施形態では、前後方向）に沿ってサセプタ１４を移動させることで、サセプタ１４を支持部２１ａ，２２ａ，２３ａに着脱することができる。 With the above configuration, the support portions 21a and 22a extend in the front-rear direction, and the support portion 23a extends in the left-right direction. Further, the support portions 21a, 22a, and 23a are aligned in the vertical direction. With this configuration, the support portions 21a, 22a, and 23a having the same height position cooperate to support one substrate to be processed 100 in a horizontal posture. In this embodiment, the susceptor 14 is moved along a predetermined attachment/detachment direction X1 (the front-rear direction in this embodiment) that intersects the vertical direction with respect to the support portions 21a, 22a, and 23a having the same height position. , the susceptor 14 can be attached to and detached from the support portions 21a, 22a and 23a.

本実施形態では、支持部２１ａ，２２ａ，２３ａに対してサセプタ１４を装着方向Ｘ１１に変位させることで、支持部２１ａ，２２ａ，２３ａにサセプタ１４を載せて装着できる。また、支持部２１ａ，２２ａ，２３ａに対してサセプタ１４を取外し方向Ｘ１２に変位させることで、支持部２１ａ，２２ａ，２３ａからサセプタ１４を取り外すことができる。このようにして、支持部２１ａ，２２ａ，２３ａは、サセプタ１４の外周縁部を３点支持する。 In this embodiment, by displacing the susceptor 14 in the mounting direction X11 with respect to the support portions 21a, 22a, and 23a, the susceptor 14 can be placed and mounted on the support portions 21a, 22a, and 23a. Further, the susceptor 14 can be removed from the support portions 21a, 22a, and 23a by displacing the susceptor 14 in the removal direction X12 with respect to the support portions 21a, 22a, and 23a. In this manner, the support portions 21a, 22a, and 23a support the outer peripheral portion of the susceptor 14 at three points.

サセプタ１４は、被処理基板１００が載せられる部材である。サセプタ１４は、高さ位置が同じである一組の支持部２１ａ，２２ａ，２３ａに対して一つ取り付けられている。本実施形態では、一部の組の支持部２１ａ，２２ａ，２３ａにサセプタ１４が取り付けられている。なお、サセプタ１４の数は、１以上であればよく、具体的な数は限定されない。サセプタ１４は、水平に延びる平板状部材である。サセプタ１４は、本実施形態では、左右対称な形状に形成されており、平面視で略Ω字状に形成されている。なお、サセプタ１４は、図４ではハッチングで示されている。 The susceptor 14 is a member on which the substrate 100 to be processed is placed. One susceptor 14 is attached to a set of support portions 21a, 22a, and 23a having the same height position. In this embodiment, the susceptor 14 is attached to some of the sets of support portions 21a, 22a, and 23a. Note that the number of susceptors 14 may be one or more, and the specific number is not limited. The susceptor 14 is a horizontally extending plate-like member. In this embodiment, the susceptor 14 is formed in a bilaterally symmetrical shape, and is formed in a substantially Ω-shape in plan view. The susceptor 14 is indicated by hatching in FIG.

サセプタ１４は、基板配置部２５と、基板配置部２５の外周縁部２５ａから基板配置部２５の中心に向けて延びる切欠部２６と、基板配置部２５の外周縁部２５ａから突出するストッパ２７Ｌ，２７Ｒと、を有している。 The susceptor 14 includes a substrate placement portion 25, a notch portion 26 extending from the outer peripheral edge portion 25a of the substrate placement portion 25 toward the center of the substrate placement portion 25, a stopper 27L projecting from the outer peripheral edge portion 25a of the substrate placement portion 25, 27R and.

基板配置部２５は、被処理基板１００が配置される部分である。基板配置部２５は、略円形状に形成されている。基板配置部２５の外周縁部２５ａの後端部は、支持部２３ａに載せられている。 The substrate placement portion 25 is a portion where the substrate to be processed 100 is placed. The board placement portion 25 is formed in a substantially circular shape. A rear end portion of an outer peripheral edge portion 25a of the board placement portion 25 is placed on the support portion 23a.

左右方向における基板配置部２５の全長（基板配置部２５の直径）は、支持部２１ａ，２２ａの全幅（支持部２１ａの右端から支持部２２ａの左端までの長さ）よりも短く設定されている。これにより、基板配置部２５は、支持体１３の前方から支持体１３に向けて装着方向Ｘ１１に移動されることで、支持体１３の支持部２１ａ，２２ａ，２３ａに通されることができる。 The total length of the substrate placement portion 25 in the horizontal direction (the diameter of the substrate placement portion 25) is set shorter than the full width of the support portions 21a and 22a (the length from the right end of the support portion 21a to the left end of the support portion 22a). . As a result, the board placement portion 25 can be passed through the support portions 21a, 22a, and 23a of the support 13 by being moved from the front of the support 13 toward the support 13 in the mounting direction X11.

基板配置部２５の上面の全体が、被処理基板１００を載せるための面として規定されている。本実施形態では、搬送ハンド１０によって、基板配置部２５の略中央に被処理基板１００が載せられる。 The entire upper surface of the substrate placement portion 25 is defined as a surface on which the substrate 100 to be processed is placed. In this embodiment, the substrate to be processed 100 is placed substantially in the center of the substrate placement portion 25 by the transport hand 10 .

切欠部２６は、搬送ハンド１０を通すために設けられており、基板配置部２５の前端部から後方に延びている。切欠部２６は、左右方向において、搬送ハンド１０の幅よりも広い幅を有しており、前後方向において、基板配置部２５の中央位置よりも後方の位置まで延びている。この構成により、搬送ハンド１０は、被処理基板１００を基板配置部２５の中央に配置することができる。 The notch 26 is provided to allow the transport hand 10 to pass therethrough, and extends rearward from the front end of the board placement portion 25 . The cutout portion 26 has a width wider than the width of the transport hand 10 in the left-right direction, and extends to a position rearward of the center position of the substrate placement portion 25 in the front-rear direction. With this configuration, the transport hand 10 can place the substrate 100 to be processed in the center of the substrate placement portion 25 .

ストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、着脱方向Ｘ１と交差（本実施形態では、直交）する左右方向（幅方向）において基板配置部２５から突出して延び、対応する移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒおよび対応する柱２２，２１に受けられる部分である。これら一対のストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、左右方向に離隔して一対設けられている。 The stoppers 27L, 27R protrude and extend from the board placement portion 25 in the left-right direction (width direction) intersecting (perpendicular to, in this embodiment) the attaching/detaching direction X1, and the corresponding movement restricting members 15L, 15R and the corresponding pillars 22, 21 is the part received. A pair of these stoppers 27L and 27R are spaced apart in the left-right direction.

一対のストッパ２７Ｌ，２７Ｒの一方としての右ストッパ２７Ｒは、基板配置部２５の外周縁部２５ａの右斜め前部から基板配置部２５の径方向外方に延びている。一対のストッパ２７Ｌ，２７Ｒの他方としての左ストッパ２７Ｌは、基板配置部２５の外周縁部２５ａの左斜め前部から基板配置部２５の径方向外方に延びている。各ストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、先鋭な形状に形成されている。より具体的には、平面視で、各ストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、外周縁部２５ａとの接続部が平面視で湾曲形状に形成されており、外周縁部２５ａから基板配置部２５の径方向外方に遠ざかるに従い幅狭となるように延びている。そして、ストッパ２７Ｌ，２７Ｒのそれぞれの先端部２８Ｌ，２８Ｒの外周縁部が平面視で略Ｖ字状に形成されている。 The right stopper 27R, which is one of the pair of stoppers 27L and 27R, extends radially outward of the substrate placement portion 25 from the diagonally right front portion of the outer peripheral edge portion 25a of the substrate placement portion 25. As shown in FIG. The left stopper 27L, which is the other of the pair of stoppers 27L and 27R, extends radially outward of the substrate placement portion 25 from the oblique left front portion of the outer peripheral edge portion 25a of the substrate placement portion 25. As shown in FIG. Each stopper 27L, 27R is formed in a sharp shape. More specifically, each of the stoppers 27L and 27R has a curved shape in plan view at the connecting portion with the outer peripheral edge portion 25a, and the stoppers 27L and 27R extend radially outward from the outer peripheral edge portion 25a to the board placement portion 25. It extends so that the width becomes narrower as it goes away. The outer peripheral edge portions of the tip portions 28L and 28R of the stoppers 27L and 27R are formed in a substantially V shape in plan view.

右ストッパ２７Ｒの先端部２８Ｒは、本実施形態では、基板配置部２５の右端部の位置から僅かに右方に突出した位置に配置されている。左ストッパ２７Ｌの先端部２８Ｌは、本実施形態では、基板配置部２５の左端部の位置から僅かに左方に突出した位置に配置されている。各ストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、基板配置部２５の前端部の位置から後方側に進んだ位置に配置されている。 In this embodiment, the tip portion 28R of the right stopper 27R is arranged at a position that protrudes slightly to the right from the position of the right end portion of the board placement portion 25. As shown in FIG. In this embodiment, the tip portion 28L of the left stopper 27L is arranged at a position slightly protruding leftward from the position of the left end portion of the board placement portion 25. As shown in FIG. Each of the stoppers 27L and 27R is arranged at a position advanced to the rear side from the position of the front end portion of the board placement portion 25. As shown in FIG.

右ストッパ２７Ｒの先端部２８Ｒは、右側第１平行部２９Ｒと、右側前部３０Ｒと、を有している。同様に、左ストッパ２７Ｌの先端部２８Ｌは、左側第１平行部２９Ｌと、左側前部３０Ｌと、を有している。 A tip portion 28R of the right stopper 27R has a right first parallel portion 29R and a right front portion 30R. Similarly, the tip portion 28L of the left stopper 27L has a left first parallel portion 29L and a left front portion 30L.

右側第１平行部２９Ｒは、先端部２８Ｒの右端部を構成しており、本実施形態では、着脱方向Ｘ１に沿って直線状に延びている。右側第１平行部２９Ｒは、基板配置部２５の右端部の前方に位置している。右側第１平行部２９Ｒは、右側第２平行部３２Ｒと左右方向に向かい合っている。右側第２平行部３２Ｒは、右柱２１の凹部２１ｂの右端面であり、対応する右ストッパ２７Ｒが載せられている支持部２１ａの上方に配置されている。右側第２平行部３２Ｒは、右側第１平行部２９Ｒが延びている方向としての着脱方向Ｘ１に沿って延びており、右側第１平行部２９Ｒと平行に延びている。すなわち、互いに隣接する右側第１平行部２９Ｒと右側第２平行部３２Ｒとが互いに平行に延びている。 The first right parallel portion 29R constitutes the right end portion of the tip portion 28R, and in this embodiment, extends linearly along the attachment/detachment direction X1. The right first parallel portion 29</b>R is located in front of the right end portion of the board placement portion 25 . The first right parallel portion 29R faces the second right parallel portion 32R in the left-right direction. The right second parallel portion 32R is the right end face of the recess 21b of the right column 21, and is arranged above the support portion 21a on which the corresponding right stopper 27R is placed. The right second parallel portion 32R extends along the attachment/detachment direction X1, which is the direction in which the right first parallel portion 29R extends, and extends parallel to the right first parallel portion 29R. That is, the right first parallel portion 29R and the right second parallel portion 32R adjacent to each other extend parallel to each other.

左側第１平行部２９Ｌは、先端部２８Ｌの左端部を構成しており、本実施形態では、着脱方向Ｘ１に沿って直線状に延びている。左側第１平行部２９Ｌは、基板配置部２５の左端部の前方に位置している。左側第１平行部２９Ｌは、左側第２平行部３２Ｌと左右方向に向かい合っている。左側第２平行部３２Ｌは、左柱２２の凹部２２ｂの左端面であり、対応する左ストッパ２７Ｌが載せられている支持部２２ａの上方に配置されている。左側第２平行部３２Ｌは、左側第１平行部２９Ｌが延びている方向としての着脱方向Ｘ１に沿って延びており、左側第１平行部２９Ｌと平行に延びている。すなわち、互いに隣接する左側第１平行部２９Ｌと左側第２平行部３２Ｌとが互いに平行に延びている。 The first left parallel portion 29L constitutes the left end portion of the tip portion 28L, and in this embodiment, extends linearly along the attachment/detachment direction X1. The first left parallel portion 29L is located in front of the left end portion of the board placement portion 25 . The first left parallel portion 29L faces the second left parallel portion 32L in the left-right direction. The left second parallel portion 32L is the left end surface of the recessed portion 22b of the left column 22, and is arranged above the support portion 22a on which the corresponding left stopper 27L is placed. The second left parallel portion 32L extends along the attachment/detachment direction X1, which is the direction in which the first left parallel portion 29L extends, and extends parallel to the first left parallel portion 29L. That is, the left first parallel portion 29L and the left second parallel portion 32L adjacent to each other extend parallel to each other.

上記の構成により、支持体１３の左柱２２および右柱２１は、一対の第１平行部２９Ｌ，２９Ｒと接触可能な一対の第２平行部３２Ｌ，３２Ｒを有している。なお、本実施形態では、右側第１平行部２９Ｒと右側第２平行部３２Ｒとの間に僅かに隙間が形成されており、また、左側第１平行部２９Ｌと左側第２平行部３２Ｌとの間に僅かに隙間が形成されている。これにより、サセプタ１４を支持体１３に対して着脱するときにストッパ２７Ｌ，２７Ｒが左柱２２および右柱２１に接触することを抑制できる。 With the above configuration, the left column 22 and the right column 21 of the support 13 have a pair of second parallel portions 32L, 32R that can come into contact with the pair of first parallel portions 29L, 29R. In the present embodiment, a slight gap is formed between the first right parallel portion 29R and the second right parallel portion 32R, and the first left parallel portion 29L and the second left parallel portion 32L are separated. A slight gap is formed between them. This can prevent the stoppers 27L and 27R from coming into contact with the left column 22 and the right column 21 when the susceptor 14 is attached to or detached from the support 13 .

右側前部３０Ｒは、右側移動規制部材１５Ｒに受けられる部分である。右側前部３０Ｒは、先端部２８Ｒの前端部を構成しており、左右方向（幅方向）に沿って延びている。本実施形態では、右側前部３０Ｒの長さと、右側第１平行部２９Ｒの長さとが略同じに設定されている。右側前部３０Ｒは、右側移動規制部材１５Ｒの真後ろに配置されている。 The right front portion 30R is a portion that is received by the right movement restricting member 15R. The right front portion 30R constitutes the front end portion of the tip portion 28R and extends along the left-right direction (width direction). In this embodiment, the length of the right front portion 30R and the length of the right first parallel portion 29R are set to be substantially the same. The right front portion 30R is arranged directly behind the right movement restricting member 15R.

左側前部３０Ｌは、左側移動規制部材１５Ｌに受けられる部分である。左側前部３０Ｌは、先端部２８Ｌの前端部を構成しており、左右方向（幅方向）に沿って延びている。本実施形態では、左側前部３０Ｌの長さと、左側第１平行部２９Ｌの長さとが略同じに設定されている。左側前部３０Ｌは、左側移動規制部材１５Ｌの真後ろに配置されている。 The left front portion 30L is a portion received by the left movement restricting member 15L. The left front portion 30L constitutes the front end portion of the tip portion 28L and extends in the left-right direction (width direction). In this embodiment, the length of the left front portion 30L and the length of the left first parallel portion 29L are set to be substantially the same. The left front portion 30L is arranged directly behind the left movement restricting member 15L.

一対の移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとしての右側移動規制部材１５Ｒおよび左側移動規制部材１５Ｌは、ボトムプレート１１およびトッププレート１２に取り付けられた状態において、サセプタ１４に対する被処理基板１００の出し入れを許容しつつ各サセプタ１４が支持体１３に対して移動することを規制するために設けられている。また、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、それぞれ、ボトムプレート１１の高さ位置からトッププレート１２の高さ位置にかけて延びる棒部材であり、サセプタ１４を支持体１３に着脱するためにプレート１１，１２に着脱可能に構成されている。 The right movement regulating member 15R and the left movement regulating member 15L as a pair of movement regulating members 15L and 15R are attached to the bottom plate 11 and the top plate 12 while allowing the substrate 100 to be processed to be taken in and out of the susceptor 14. It is provided to restrict movement of each susceptor 14 with respect to the support 13 . Further, the movement restricting members 15L and 15R are rod members extending from the height position of the bottom plate 11 to the height position of the top plate 12, respectively. It is configured to be detachable.

右側移動規制部材１５Ｒは、右ストッパ２７Ｒに対応しており、左側移動規制部材１５Ｌは、左ストッパ２７Ｌに対応している。各移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、棒部材であり、本実施形態では丸軸部材であり、上下方向に沿って延び各サセプタ１４の対応するストッパ２７Ｌ，２７Ｒに接触可能である。なお、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、角柱状に形成されていてもよい。各移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、上端部１５ａおよび下端部１５ｂがブロック状に形成されているとともにこれら上端部１５ａおよび下端部１５ｂのそれぞれの中心に上下方向に延びる貫通孔が形成された構成を有している。また、各移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの中間部１５ｃは、円筒状に形成されており、上端部１５ａおよび下端部１５ｂが一体に形成されている。 The right movement restricting member 15R corresponds to the right stopper 27R, and the left movement restricting member 15L corresponds to the left stopper 27L. Each movement restricting member 15L, 15R is a rod member, in this embodiment, a round shaft member, extends in the vertical direction, and can contact the corresponding stoppers 27L, 27R of each susceptor 14 . In addition, the movement restricting members 15L and 15R may be formed in a prism shape. Each of the movement restricting members 15L and 15R has a block-shaped upper end portion 15a and a lower end portion 15b, and a vertically extending through hole is formed in the center of each of the upper end portion 15a and the lower end portion 15b. have. Further, an intermediate portion 15c of each of the movement restricting members 15L and 15R is formed in a cylindrical shape, and an upper end portion 15a and a lower end portion 15b are integrally formed.

右側移動規制部材１５Ｒは、右ストッパ２７Ｒの右側前部３０Ｒのすぐ前方に配置されており、プレート１１，１２の右前端部に取り付けられている。左側移動規制部材１５Ｌは、左ストッパ２７Ｌの左側前部３０Ｌのすぐ前方に配置されており、プレート１１，１２の左前端部に取り付けられている。本実施形態では、各移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの直径は、右柱２１の直径（左柱２２の直径）と略同じに設定されている。 The right movement restricting member 15R is arranged immediately in front of the right front portion 30R of the right stopper 27R and attached to the right front end portions of the plates 11 and 12. As shown in FIG. The left movement restricting member 15L is arranged immediately in front of the left front portion 30L of the left stopper 27L and attached to the left front end portions of the plates 11 and 12. As shown in FIG. In this embodiment, the diameter of each of the movement restricting members 15L and 15R is set to be substantially the same as the diameter of the right pillar 21 (the diameter of the left pillar 22).

上記の構成により、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、各サセプタ１４のストッパ２７Ｌ，２７Ｒを受けることで、サセプタ１４が前方に位置ずれすること、および、支持体１３から脱落することを防止する。また、一対の移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、一対のストッパ２７Ｌ，２７Ｒを受けることで、サセプタ１４が平面視で支持体１３に対して時計回り方向または反時計回り方向に回転変位（回転位置ずれ）することを防止できる。また、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒが右柱２１および左柱２２に隣接して配置されている。その結果、一対の第２平行部３２Ｌ，３２Ｒは、一対の第１平行部２９Ｌ，２９Ｒを挟むようにしてこれら一対の第１平行部２９Ｌ，２９Ｒに隣接して配置される。これにより、平面視におけるサセプタ１４の回転変位は、一対の第１平行部２９Ｌ，２９Ｒの何れかが対応する第２平行部に接触することによっても規制される。 With the above configuration, the movement restricting members 15L and 15R receive the stoppers 27L and 27R of the susceptors 14 to prevent the susceptors 14 from being displaced forward and from falling off the support 13 . Further, the pair of movement restricting members 15L and 15R receive the pair of stoppers 27L and 27R, so that the susceptor 14 is rotated clockwise or counterclockwise relative to the support body 13 in a plan view (rotational displacement). ). Also, the movement restricting members 15L and 15R are arranged adjacent to the right column 21 and the left column 22, respectively. As a result, the pair of second parallel portions 32L, 32R are arranged adjacent to the pair of first parallel portions 29L, 29R so as to sandwich the pair of first parallel portions 29L, 29R. As a result, the rotational displacement of the susceptor 14 in plan view is also restricted by the contact of one of the pair of first parallel portions 29L and 29R with the corresponding second parallel portion.

このように、互いに隣接配置された右柱２１および右側移動規制部材１５Ｒと、互いに隣接配置された左柱２２および左側移動規制部材１５Ｌと、が協働している。これにより、サセプタ１４が支持体１３から取外し方向Ｘ１２に位置ずれすること、および、サセプタ１４が平面視で回転方向に位置ずれすること、を防止できる。なお、支持体１３に対するサセプタ１４の後方への位置ずれは、後柱２３がサセプタ１４を受けることで防止される。 In this manner, the right column 21 and the right movement restricting member 15R adjacent to each other cooperate with the left column 22 and the left movement restricting member 15L adjacent to each other. This prevents the susceptor 14 from being displaced from the support 13 in the removal direction X12 and the susceptor 14 from being displaced in the rotational direction in plan view. Rearward displacement of the susceptor 14 with respect to the support 13 is prevented by receiving the susceptor 14 on the rear column 23 .

移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒ間の間隔は、被処理基板１００の直径よりも大きく設定されている。これにより、搬送ハンド１０による被処理基板１００の出し入れ動作の際に、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒと被処理基板１００との接触を防止できる。 The distance between the movement restricting members 15L and 15R is set larger than the diameter of the substrate 100 to be processed. As a result, contact between the movement restricting members 15L and 15R and the substrate to be processed 100 can be prevented when the substrate to be processed 100 is moved in and out by the transport hand 10 .

図２および図５を参照して、本実施形態では、プレート１１，１２と移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとは、上下方向（縦方向）に沿って延びる軸線を中心軸線とするテーパ結合によって連結されている。また、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、ボトムプレート１１およびトッププレート１２に対して着脱可能に構成されている。具体的には、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとボトムプレート１１とをテーパ結合する第１テーパ結合機構１６Ｌ，１６Ｒが設けられている。また、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとトッププレート１２とをテーパ結合する第２テーパ結合機構１７Ｌ，１７Ｒが設けられている。 2 and 5, in the present embodiment, plates 11 and 12 and movement restricting members 15L and 15R are connected by taper coupling with an axis extending in the vertical direction (longitudinal direction) as the central axis. ing. Further, the movement restricting members 15L and 15R are configured to be attachable/detachable to/from the bottom plate 11 and the top plate 12, respectively. Specifically, first taper coupling mechanisms 16L and 16R are provided for taper coupling the movement restricting members 15L and 15R and the bottom plate 11 . Further, second taper coupling mechanisms 17L and 17R for taper coupling the movement restricting members 15L and 15R and the top plate 12 are provided.

一対の第１テーパ結合機構１６Ｌ，１６Ｒの一方としての右側第１テーパ結合機構１６Ｒは、右側第１テーパ孔部３３Ｒと、右側第１テーパ軸部３４Ｒと、を有している。同様に、一対の第１テーパ結合機構１６Ｌ，１６Ｒの他方としての左側第１テーパ結合機構１６Ｌは、左側第１テーパ孔部３３Ｌと、左側第１テーパ軸部３４Ｌと、を有している。 The right first taper coupling mechanism 16R, which is one of the pair of first taper coupling mechanisms 16L and 16R, has a right first taper hole portion 33R and a right first taper shaft portion 34R. Similarly, the left first taper coupling mechanism 16L as the other of the pair of first taper coupling mechanisms 16L, 16R has a left first taper hole portion 33L and a left first taper shaft portion 34L.

右側第１テーパ孔部３３Ｒは、ボトムプレート１１のうち右側移動規制部材１５Ｒが配置される箇所としての右前部に形成されている。左側第１テーパ孔部３３Ｌは、ボトムプレート１１のうち左側移動規制部材１５Ｌが配置される箇所としての左前部に形成されている。各第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒは、ボトムプレート１１の上面に開放された円錐台テーパ状部分であり、本実施形態では、ボトムプレート１１を上下方向に貫通している。本実施形態では、各第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒのテーパ角としての第１テーパ角θ１は、鉛直方向を基準として４０°に設定されている。 The right first tapered hole portion 33R is formed in the right front portion of the bottom plate 11 where the right movement restricting member 15R is arranged. The first left tapered hole portion 33L is formed in the front left portion of the bottom plate 11 where the left movement restricting member 15L is arranged. Each of the first tapered holes 33L and 33R is a truncated conical tapered portion that is open to the upper surface of the bottom plate 11, and penetrates the bottom plate 11 in the vertical direction in this embodiment. In this embodiment, the first taper angle θ1 as the taper angle of each of the first taper holes 33L and 33R is set to 40° with respect to the vertical direction.

右側第１テーパ軸部３４Ｒは、右側移動規制部材１５Ｒの下端部に形成されている。左側第１テーパ軸部３４Ｌは、左側移動規制部材１５Ｌの下端部に形成されている。各第１テーパ軸部３４Ｌ，３４Ｒは、下方に進むに従い直径が小さくなる円錐台テーパ状部分である。本実施形態では、各第１テーパ軸部３４Ｌ，３４Ｒのテーパ角は、各第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒのテーパ角と同じ角度としての第１テーパ角θ１に設定されている。各第１テーパ軸部３４Ｌ，３４Ｒは、対応する第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒにテーパ嵌合している。これにより、各移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、ボトムプレート１１の対応する第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒにテーパ結合している。 The right first tapered shaft portion 34R is formed at the lower end portion of the right movement restricting member 15R. The left first tapered shaft portion 34L is formed at the lower end portion of the left movement restricting member 15L. Each of the first tapered shaft portions 34L, 34R is a truncated conical tapered portion whose diameter decreases downward. In this embodiment, the taper angles of the first tapered shaft portions 34L, 34R are set to the first taper angle θ1, which is the same angle as the taper angles of the first tapered hole portions 33L, 33R. Each first tapered shaft portion 34L, 34R is taper-fitted into the corresponding first tapered hole portion 33L, 33R. As a result, the movement restricting members 15L and 15R are tapered to the corresponding first tapered holes 33L and 33R of the bottom plate 11 .

一対の第２テーパ結合機構１７Ｌ，１７Ｒの一方としての右側第２テーパ結合機構１７Ｒは、右側第２テーパ孔部３５Ｒと、右側第２テーパ軸部３７Ｒを含む右キャップ３６Ｒと、を有している。同様に、一対の第２テーパ結合機構１７Ｌ，１７Ｒの他方としての左側第２テーパ結合機構１７Ｌは、左側第２テーパ孔部３５Ｌと、左側第２テーパ軸部３７Ｌを含む左キャップ３６Ｌと、を有している A right second taper coupling mechanism 17R as one of the pair of second taper coupling mechanisms 17L and 17R has a right second taper hole 35R and a right cap 36R including a right second taper shaft 37R. there is Similarly, the left second taper coupling mechanism 17L as the other of the pair of second taper coupling mechanisms 17L and 17R includes a left second taper hole portion 35L and a left cap 36L including a left second taper shaft portion 37L. have

右側第２テーパ孔部３５Ｒは、トッププレート１２のうち右側移動規制部材１５Ｒが配置される箇所としての右前部に形成されている。左側第２テーパ孔部３５Ｌは、トッププレート１２のうち左側移動規制部材１５Ｌが配置される箇所としての左前部に形成されている。各第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒは、円錐台テーパ状部分であり、トッププレート１２を上下方向に貫通している。本実施形態では、各第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒのテーパ角としての第２テーパ角θ２は、鉛直方向を基準として３０°に設定されている。 The right second tapered hole portion 35R is formed in the right front portion of the top plate 12 where the right movement restricting member 15R is arranged. The left second tapered hole portion 35L is formed in the left front portion of the top plate 12 where the left movement restricting member 15L is arranged. Each of the second tapered holes 35L, 35R is a truncated cone tapered portion, and penetrates the top plate 12 in the vertical direction. In this embodiment, the second taper angle θ2 as the taper angle of each of the second taper holes 35L and 35R is set to 30° with respect to the vertical direction.

すなわち、第１テーパ角θ１は、第２テーパ角θ２よりも大きく設定されている。このように、第１テーパ角θ１を大きくしたことで、まず、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの下端部を第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒに精度よく位置決めするとともに、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの上端部を第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒに位置調整可能に配置できる。そして、第２テーパ角θ２を第１テーパ角θ１より小さくしているため、キャップ３６Ｌ，３６Ｒを用いた第２テーパ結合機構１７Ｌ，１７Ｒにより、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒ全体の姿勢の安定化が図られる。これにより、当該第２テーパ結合機構１７Ｌ，１７Ｒから離れている移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの下端部も、第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒの所定位置に位置決めされ、移動を規制される。このため、第１テーパ角θ１を大きくした場合でも、第１テーパ軸部３４Ｌ，３４Ｒが第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒの傾斜を通って外れることを防止できる。以上の結果、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの位置決め精度の向上と姿勢の安定化の双方が可能となる。なお、上記した、第１テーパ角θ１が第２テーパ角θ２よりも大きい構成は一例であり、この構成に限定されない。基板支持装置６の配置位置や形状に応じて、第２テーパ角θ２を第１テーパ角θ１よりも大きくしてもよい。 That is, the first taper angle θ1 is set larger than the second taper angle θ2. By increasing the first taper angle θ1 in this way, first, the lower ends of the movement restricting members 15L and 15R are accurately positioned in the first tapered holes 33L and 33R, and the upper ends of the movement restricting members 15L and 15R are aligned. can be arranged in the second tapered holes 35L, 35R so as to be positionally adjustable. Since the second taper angle .theta.2 is smaller than the first taper angle .theta.1, the second taper coupling mechanisms 17L and 17R using the caps 36L and 36R stabilize the posture of the movement restricting members 15L and 15R as a whole. planned. As a result, the lower ends of the movement restricting members 15L and 15R, which are separated from the second taper coupling mechanisms 17L and 17R, are also positioned at predetermined positions of the first taper holes 33L and 33R, and their movement is restricted. Therefore, even when the first taper angle θ1 is increased, it is possible to prevent the first taper shaft portions 34L and 34R from coming off through the inclination of the first taper hole portions 33L and 33R. As a result, it is possible to both improve the positioning accuracy of the movement restricting members 15L and 15R and stabilize their attitudes. Note that the configuration in which the first taper angle θ1 is larger than the second taper angle θ2 is an example, and the configuration is not limited to this configuration. The second taper angle .theta.2 may be larger than the first taper angle .theta.1 depending on the arrangement position and shape of the substrate support device 6. FIG.

右側移動規制部材１５Ｒの上端部１５ａは、右側第２テーパ孔部３５Ｒ内に配置される。同様に、左側移動規制部材１５Ｌの上端部１５ａは、左側第２テーパ孔部３５Ｌ内に配置される。 The upper end portion 15a of the right movement restricting member 15R is arranged in the right second tapered hole portion 35R. Similarly, the upper end portion 15a of the left movement restricting member 15L is arranged in the left second tapered hole portion 35L.

右キャップ３６Ｒは、右キャップ３６Ｒの外周面に形成された右側第２テーパ軸部３７Ｒと、右キャップ３６Ｒの内周面に形成され右側移動規制部材１５Ｒを挿入される右側挿入孔部３８Ｒと、を有している。同様に、左キャップ３６Ｌは、左キャップ３６Ｌの外周面に形成された左側第２テーパ軸部３７Ｌと、左キャップ３６Ｌの内周面に形成され左側移動規制部材１５Ｌを挿入される左側挿入孔部３８Ｌと、を有している。 The right cap 36R includes a right second tapered shaft portion 37R formed on the outer peripheral surface of the right cap 36R, a right insertion hole portion 38R formed on the inner peripheral surface of the right cap 36R and into which the right movement restricting member 15R is inserted, have. Similarly, the left cap 36L has a left second tapered shaft portion 37L formed on the outer peripheral surface of the left cap 36L, and a left insertion hole portion formed on the inner peripheral surface of the left cap 36L and into which the left movement restricting member 15L is inserted. 38L and.

各挿入孔部３８Ｌ，３８Ｒの直径は、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの外径と略同じに設定されており、各キャップ３６Ｌ，３６Ｒと対応する移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとの間でがたつきが生じないように構成されている。 The diameters of the insertion holes 38L and 38R are set to be substantially the same as the outer diameters of the movement restricting members 15L and 15R. It is configured so that it does not occur.

右側第２テーパ軸部３７Ｒは、右キャップ３６Ｒの下端側部分に形成されている。左側第２テーパ軸部３７Ｌは、左キャップ３６Ｌの下端側部分に形成されている。各第２テーパ軸部３７Ｌ，３７Ｒは、下方に進むに従い直径が小さくなる円錐台テーパ状部分である。本実施形態では、各第２テーパ軸部３７Ｌ，３７Ｒのテーパ角は、各第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒのテーパ角と同じ角度としての第２テーパ角θ２に設定されている。各第２テーパ軸部３７Ｌ，３７Ｒは、対応する第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒの上方からこれらの第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒに挿入されることでテーパ嵌合している。これにより、各移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、トッププレート１２の対応する第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒにテーパ結合している。 The right second tapered shaft portion 37R is formed at the lower end portion of the right cap 36R. The left second tapered shaft portion 37L is formed at the lower end portion of the left cap 36L. Each of the second tapered shaft portions 37L, 37R is a truncated conical tapered portion whose diameter decreases as it progresses downward. In this embodiment, the taper angles of the second tapered shaft portions 37L and 37R are set to the second taper angle θ2 which is the same angle as the taper angles of the second tapered hole portions 35L and 35R. Each of the second tapered shaft portions 37L, 37R is taper-fitted by being inserted into the second tapered hole portions 35L, 35R from above the corresponding second tapered hole portions 35L, 35R. As a result, the movement restricting members 15L and 15R are tapered to the corresponding second tapered holes 35L and 35R of the top plate 12 .

キャップ３６Ｌ，３６Ｒがそれぞれ第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒに嵌合しているときにおいて、各キャップ３６Ｌ，３６Ｒの上端部は、トッププレート１２から上方に突出している。これにより、作業員は、各キャップ３６Ｌ，３６Ｒの上端部をクランプ工具等で掴むことができる。これにより、各キャップ３６Ｌ，３６Ｒをトッププレート１２から容易に取り外すことができる。 The upper ends of the caps 36L, 36R protrude upward from the top plate 12 when the caps 36L, 36R are fitted in the second tapered holes 35L, 35R, respectively. This allows the operator to grip the upper ends of the caps 36L, 36R with a clamp tool or the like. Thereby, each cap 36L, 36R can be easily removed from the top plate 12. As shown in FIG.

以上が、熱処理装置１の概略構成である。 The schematic configuration of the heat treatment apparatus 1 has been described above.

この熱処理装置１の基板支持装置６において、サセプタ１４を交換する際には、図６を参照して、まず、作業員が、各キャップ３６Ｌ，３６Ｒをトッププレート１２から取り外す。次に、作業員は、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒを上方に持ち上げることで、これらの移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒをボトムプレート１１およびトッププレート１２から取り外す。 When replacing the susceptor 14 in the substrate support device 6 of the heat treatment apparatus 1, first, an operator removes the caps 36L and 36R from the top plate 12, referring to FIG. Next, the operator removes the movement restricting members 15L, 15R from the bottom plate 11 and the top plate 12 by lifting the movement restricting members 15L, 15R upward.

これにより、サセプタ１４の前方から移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒが取り除かれる。この状態で、作業員は、交換対象のサセプタ１４を支持体１３に対して取り外し方向Ｘ１２（図６の紙面手前側）に動かすことで、前方に引き抜く。そして、新しく支持体１３に取り付けられるサセプタ１４は、支持体１３の前方側から装着方向Ｘ１１（図６の紙面奥側）に動かされることで、支持体１３の対応する支持部２１ａ，２２ａ，２３ａに載せられる。 As a result, the movement restricting members 15L and 15R are removed from the front of the susceptor 14. As shown in FIG. In this state, the operator moves the susceptor 14 to be replaced with respect to the support 13 in the removal direction X12 (the front side of the paper surface of FIG. 6), thereby pulling it forward. Then, the susceptor 14 newly attached to the support 13 is moved from the front side of the support 13 in the mounting direction X11 (back side of the paper surface of FIG. is placed on

次に、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒがトッププレート１２の対応する第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒに通され、さらに、ボトムプレート１１の対応する第１テーパ孔部３３Ｌ，３３Ｒにテーパ嵌合される。その後、各キャップ３６Ｌ，３６Ｒが、対応する第２テーパ孔部３５Ｌ，３５Ｒにテーパ嵌合される。以上の作業により、サセプタ１４の交換作業が完了する。 Next, the movement restricting members 15L, 15R are passed through the corresponding second tapered holes 35L, 35R of the top plate 12, and further taper-fitted into the corresponding first tapered holes 33L, 33R of the bottom plate 11. . After that, each cap 36L, 36R is taper-fitted into the corresponding second tapered hole 35L, 35R. By the above operations, the replacement operation of the susceptor 14 is completed.

以上説明したように、本実施形態の基板支持装置６によると、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒが設けられていることにより、支持体１３に対するサセプタ１４の位置ずれを抑制できる。これにより、振動や空気圧等の外力が支持体１３とサセプタ１４との間に作用しても、支持体１３に対するサセプタ１４の位置ずれをより確実に抑制できる。よって、支持体１３からのサセプタ１４の脱落を抑制できる。また、サセプタ１４が平面視で時計回り方向または反時計回り方向に回転することを抑制できるので、サセプタ１４がウェハ搬送ハンド１０等の他の部材と接触することを、より確実に抑制できる。さらに、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒは、ボトムプレート１１およびトッププレート１２に対して着脱可能に構成されている。これにより、破損したサセプタ１４を交換する際には、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒをボトムプレート１１およびトッププレート１２から取り外すことで、サセプタ１４を支持体１３から取り外すことができる。よって、例えば、複数のサセプタ１４のうち破損したサセプタ１４を交換する際に、破損したサセプタ１４のみを支持体１３から取り外すことができる。その結果、サセプタ１４の交換作業を容易且つ安価に行うことができる。 As described above, according to the substrate support device 6 of the present embodiment, the displacement of the susceptor 14 with respect to the support 13 can be suppressed by providing the movement restricting members 15L and 15R. As a result, even if an external force such as vibration or air pressure acts between the support 13 and the susceptor 14, displacement of the susceptor 14 with respect to the support 13 can be suppressed more reliably. Therefore, it is possible to prevent the susceptor 14 from falling off from the support 13 . In addition, since the susceptor 14 can be prevented from rotating clockwise or counterclockwise in a plan view, the contact of the susceptor 14 with other members such as the wafer transfer hand 10 can be more reliably prevented. Furthermore, the movement restricting members 15L and 15R are configured to be attachable/detachable to/from the bottom plate 11 and the top plate 12, respectively. Accordingly, when replacing the damaged susceptor 14 , the susceptor 14 can be removed from the support 13 by removing the movement restricting members 15 L and 15 R from the bottom plate 11 and the top plate 12 . Therefore, for example, when replacing a damaged susceptor 14 among the plurality of susceptors 14 , only the damaged susceptor 14 can be removed from the support 13 . As a result, the susceptor 14 can be replaced easily and inexpensively.

また、基板支持装置６によると、サセプタ１４は、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒによって前後方向に位置決めされている。この構成によると、破損したサセプタ１４を新しいサセプタ１４に交換したとき、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒがサセプタ１４を位置決めすることとなる。これにより、サセプタ１４の交換作業を繰り返した場合でも、基板支持装置６が新品の状態における基板支持装置６の各部の位置関係を維持することができる。これにより、作業員の熟練度合いに因らずにサセプタ１４の交換作業に伴うサセプタ１４の位置決め作業の精度を高くできる。よって、作業員の教育にかかる手間をより少なくできる。 Further, according to the substrate supporting device 6, the susceptor 14 is positioned in the front-rear direction by the movement restricting members 15L and 15R. According to this configuration, when the damaged susceptor 14 is replaced with a new susceptor 14, the movement restricting members 15L and 15R position the susceptor 14. FIG. As a result, even if the replacement work of the susceptor 14 is repeated, the positional relationship of each part of the substrate supporting device 6 in the new state can be maintained. As a result, the accuracy of the positioning work of the susceptor 14 associated with the replacement work of the susceptor 14 can be improved regardless of the skill level of the operator. Therefore, it is possible to reduce the time and effort required for educating workers.

また、基板支持装置６によると、支持体１３にサセプタ１４は接着されていないけれども、代わりに移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒが設けられていることで、支持体１３からのサセプタ１４の脱落が防止されている。このため、振動や空気圧等によりサセプタ１４が位置ずれして支持体１３から脱落する現象が生じているか否かを、作業員が定期的に目視する必要がない。その結果、基板支持装置６のメンテナンス周期（メンテナンスとメンテナンスとの間の期間）をより長くできる。 Further, according to the substrate supporting device 6, although the susceptor 14 is not adhered to the supporting body 13, the movement restricting members 15L and 15R are provided instead, thereby preventing the susceptor 14 from falling off from the supporting body 13. ing. Therefore, it is not necessary for the operator to periodically visually check whether or not the susceptor 14 is displaced due to vibration, air pressure, or the like and falls off from the support member 13 . As a result, the maintenance cycle (period between maintenances) of the substrate support device 6 can be made longer.

また、基板支持装置６によると、柱部材２１，２２，２３のそれぞれの櫛歯状部分（支持部２１ａ，２２ａ，２３ａ）で複数のサセプタ１４を個別に支持することができる。そして、棒部材である移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒがこれらのサセプタ１４に接触することで、サセプタ１４が柱２１，２２，２３に対して位置ずれすることを抑制できる。 Further, according to the substrate supporting device 6, the plurality of susceptors 14 can be individually supported by the comb-shaped portions (supporting portions 21a, 22a, 23a) of the column members 21, 22, 23, respectively. The susceptor 14 can be prevented from being displaced with respect to the columns 21 , 22 and 23 by contacting the movement restricting members 15L and 15R, which are bar members, with the susceptor 14 .

また、基板支持装置６によると、各プレート１１，１２と移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとは、上下方向に沿って延びる軸線を中心軸線とするテーパ結合によって連結されている。この構成によると、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒを各プレート１１，１２に強固に且つ正確な位置に固定できる。さらに、テーパ結合を解除することで、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒを各プレート１１，１２から容易に取り外すことができる。 Further, according to the substrate support device 6, the plates 11 and 12 and the movement restricting members 15L and 15R are connected by taper coupling with the axis extending along the vertical direction as the central axis. With this configuration, the movement restricting members 15L and 15R can be firmly fixed to the plates 11 and 12 at accurate positions. Furthermore, the movement restricting members 15L and 15R can be easily removed from the plates 11 and 12 by releasing the taper coupling.

また、基板支持装置６によると、第１テーパ結合機構１６Ｌ，１６Ｒおよび第２テーパ結合機構１７Ｌ，１７Ｒが設けられている。この構成によると、支持体１３の下部に配置されたボトムプレート１１と、支持体１３の上部に配置されたトッププレート１２のそれぞれが、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとテーパ結合できる。これにより、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒと各プレート１１，１２との互いの結合強度をより高くできる。 Further, according to the substrate support device 6, first taper coupling mechanisms 16L, 16R and second taper coupling mechanisms 17L, 17R are provided. According to this configuration, the bottom plate 11 arranged below the support 13 and the top plate 12 arranged above the support 13 can be taper-coupled with the movement restricting members 15L and 15R. As a result, the mutual bonding strength between the movement restricting members 15L, 15R and the plates 11, 12 can be further increased.

また、基板支持装置６によると、ストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、基板配置部２５から左右方向に突出している。これにより、ストッパ２７Ｌ，２７Ｒを、被処理基板１００の通路を避けた位置に配置できる。よって、ストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとの接触によってサセプタ１４の位置ずれを抑制しつつ、搬送ハンド１０による被処理基板１００の出し入れ動作を邪魔せずに済む。 Further, according to the substrate support device 6, the stoppers 27L and 27R protrude from the substrate placement portion 25 in the left-right direction. Thereby, the stoppers 27L and 27R can be arranged at positions avoiding the path of the substrate 100 to be processed. Therefore, the stoppers 27L and 27R suppress the positional deviation of the susceptor 14 by contact with the movement restricting members 15L and 15R, and do not interfere with the movement of the substrate 100 to be processed by the transport hand 10. FIG.

また、基板支持装置６によると、ストッパ２７Ｌ，２７Ｒは、第１平行部２９Ｌ，２９Ｒを含んでいる。さらに、左柱２２および右柱２１は、第２平行部３２Ｌ，３２Ｒを含んでいる。そして、互いに隣接する第１平行部２９Ｌと第２平行部３２Ｌとが互いに平行に延びているとともに、互いに隣接する第１平行部２９Ｒと第２平行部３２Ｒとが互いに平行に延びている。この構成によると、ストッパ２７Ｌ，２７Ｒの各第１平行部２９Ｌ，２９Ｒが左右の柱２２，２１の対応する第２平行部３２Ｌ，３２Ｒに受けられることができる。これにより、サセプタ１４が各柱２１，２２，２３に対して回転移動する位置ずれの発生を、より確実に抑制できる。 Further, according to the substrate support device 6, the stoppers 27L, 27R include the first parallel portions 29L, 29R. Further, the left pillar 22 and the right pillar 21 include second parallel portions 32L, 32R. The first parallel portion 29L and the second parallel portion 32L adjacent to each other extend parallel to each other, and the first parallel portion 29R and the second parallel portion 32R adjacent to each other extend parallel to each other. According to this configuration, the first parallel portions 29L and 29R of the stoppers 27L and 27R can be received by the corresponding second parallel portions 32L and 32R of the left and right columns 22 and 21, respectively. As a result, the susceptor 14 can be prevented from rotating relative to the pillars 21, 22, and 23, thereby more reliably suppressing the occurrence of positional deviation.

以上、本発明の実施形態について説明したけれども、本発明は上述の実施の形態に限られない。本発明は、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments. The present invention can be modified in various ways within the scope of the claims.

（１）上記実施形態では、第１テーパ結合機構１６Ｌ，１６Ｒにおいて、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの下端部が凸状に形成され、ボトムプレート１１が凹状に形成された構成を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。例えば、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの下端に凹部を設けるとともに、ボトムプレート１１に凸部を設け、これらの凸部および凹部を互いに嵌合することで移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒとボトムプレート１１とを取り外し可能に結合してもよい。また、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒと各プレート１１，１２とは、テーパ結合以外のねじ止め構造等によって結合されていてもよい。 (1) In the above embodiment, in the first taper coupling mechanisms 16L and 16R, the movement restricting members 15L and 15R have convex lower end portions and the bottom plate 11 has a concave shape. However, this need not be the case. For example, concave portions are provided at the lower ends of the movement restricting members 15L and 15R, and convex portions are provided on the bottom plate 11. By fitting these convex portions and concave portions together, the movement restricting members 15L and 15R and the bottom plate 11 are separated. It may be removably coupled. Further, the movement restricting members 15L, 15R and the plates 11, 12 may be connected by a screw structure or the like other than taper connection.

（２）なお、上述の実施形態においては、基板支持装置６が種々の部材を有している構成を例に説明した。しかしながら、基板支持装置６は、少なくとも、サセプタ１４と、支持体１３と、各プレート１１，１２の何れかと、移動規制部材１５Ｌ，１５Ｒの何れかと、を有していればよい。 (2) In the above-described embodiment, the configuration in which the substrate support device 6 has various members has been described as an example. However, the substrate support device 6 only needs to have at least the susceptor 14, the support 13, one of the plates 11 and 12, and one of the movement restricting members 15L and 15R.

本発明は、基板支持装置として適用することができる。 The present invention can be applied as a substrate support device.

６ 基板支持装置
１１ ボトムプレート（ベースプレート）
１２ トッププレート（ベースプレート）
１３ 支持体
１４ サセプタ
１５Ｌ，１５Ｒ 移動規制部材
１６Ｌ，１６Ｒ 第１テーパ結合機構
１７Ｌ，１７Ｒ 第２テーパ結合機構
２１，２２，２３ 柱部材
２１ａ，２２ａ，２３ａ 支持部
２５ 基板配置部
２７Ｌ，２７Ｒ ストッパ
２９Ｌ，２９Ｒ 第１平行部
３２Ｌ，３２Ｒ 第２平行部
１００ 被処理基板
Ｘ１ 着脱方向
6 substrate support device 11 bottom plate (base plate)
12 Top plate (base plate)
13 support body 14 susceptors 15L, 15R movement restricting members 16L, 16R first taper coupling mechanisms 17L, 17R second taper coupling mechanisms 21, 22, 23 column members 21a, 22a, 23a support portion 25 substrate placement portions 27L, 27R stopper 29L , 29R First parallel portions 32L, 32R Second parallel portion 100 Substrate to be processed X1 Detachment direction

Claims (8)

被処理基板がそれぞれ載せられる複数のサセプタと、
複数の前記サセプタを支持する複数の支持部が縦方向に並んだ構成を有するとともに、前記縦方向と交差する所定の着脱方向に沿って前記サセプタを移動させることで前記サセプタを対応する前記支持部に着脱可能に構成された支持体と、
前記支持体が固定されたベースプレートと、
前記サセプタに対する前記被処理基板の出し入れを許容しつつ各前記サセプタが前記支持体に対して移動することを規制するために設けられ、且つ、前記サセプタを前記支持体に着脱するために前記ベースプレートに着脱可能な移動規制部材と、
を備え、
前記支持体は、前記着脱方向に沿って前記被処理基板が移動させられることで前記被処理基板を対応する前記サセプタに着脱させることが可能に構成されており、
前記移動規制部材は、前記被処理基板が通る領域の外側に配置され、前記着脱方向と交差する方向においてサセプタの幅の内側に配置され、且つ、前記着脱方向のうち前記被処理基板を前記サセプタから出す取り外し方向における前記サセプタの下流側に配置されていることを特徴とする、基板支持装置。 a plurality of susceptors on which substrates to be processed are respectively placed;
A plurality of support portions supporting a plurality of the susceptors are arranged in a vertical direction, and the support portions correspond to the susceptors by moving the susceptors along a predetermined attachment/detachment direction that intersects the vertical direction. a support configured to be detachable from the
a base plate to which the support is fixed;
It is provided to restrict the movement of each of the susceptors relative to the support while allowing the substrate to be processed to be taken in and out of the susceptor, and attached to the base plate to attach and detach the susceptor to and from the support. a detachable movement restricting member;
with
The support is configured such that the substrate to be processed can be attached to and detached from the corresponding susceptor by moving the substrate to be processed along the attachment/detachment direction,
The movement restricting member is arranged outside a region through which the substrate to be processed passes, is arranged inside a width of the susceptor in a direction intersecting with the attachment/detachment direction, and is arranged to move the substrate to be processed to the susceptor in the attachment/detachment direction. A substrate support device, characterized in that it is disposed downstream of the susceptor in a direction of removal from the susceptor . 請求項１に記載の基板支持装置であって、
前記支持体は、互いに離隔して配置され前記縦方向に延びる複数の柱部材を含み、
各前記柱部材が前記縦方向に沿う櫛歯状に形成されることで、複数の前記支持部が形成され、
前記移動規制部材は、前記縦方向に沿って延び各前記サセプタに接触可能な棒部材を含んでいることを特徴とする、基板支持装置。 The substrate support device according to claim 1,
the support includes a plurality of column members spaced apart from each other and extending in the longitudinal direction;
A plurality of the support portions are formed by forming each of the pillar members in a comb shape along the vertical direction,
The substrate support device, wherein the movement restricting member includes a bar member extending along the longitudinal direction and capable of coming into contact with each of the susceptors. 請求項１または請求項２に記載の基板支持装置であって、
前記ベースプレートおよび前記移動規制部材は、前記縦方向に沿って延びる軸線を中心軸線とするテーパ結合によって連結されていることを特徴とする、基板支持装置。 The substrate support device according to claim 1 or 2,
The substrate supporting device, wherein the base plate and the movement restricting member are connected by a tapered connection with the axis extending along the longitudinal direction as a central axis. 請求項３に記載の基板支持装置であって、
前記ベースプレートとして、前記縦方向における前記支持体の下端に配置されたボトムプレートと、前記縦方向における前記支持体の上端に配置されたトッププレートと、が設けられ、
前記移動規制部材と前記ボトムプレートとをテーパ結合する第１テーパ結合機構と、
前記移動規制部材と前記トッププレートとをテーパ結合する第２テーパ結合機構と、をさらに備えていることを特徴とする、基板支持装置。 The substrate support device according to claim 3,
As the base plate, a bottom plate arranged at the lower end of the support in the longitudinal direction and a top plate arranged at the upper end of the support in the longitudinal direction are provided,
a first taper coupling mechanism for taper coupling the movement restricting member and the bottom plate;
The substrate supporting device, further comprising: a second taper coupling mechanism for taper coupling the movement restricting member and the top plate. 請求項４に記載の基板支持装置であって、 The substrate support device according to claim 4,
前記第２テーパ結合機構は、前記トッププレートを上下に貫通する貫通孔を形成しこの貫通孔に前記移動規制部材が挿入される孔部と、前記移動規制部材および前記トッププレートとは別部材として形成され前記移動規制部材の外周面と前記孔部の内周面との間に挿入され前記トッププレートと前記移動規制部材とをつなぐキャップと、を有していることを特徴とする、基板支持装置。 The second taper coupling mechanism includes a through hole formed vertically through the top plate into which the movement restricting member is inserted, and a member separate from the movement restricting member and the top plate. a cap formed between the outer peripheral surface of the movement restricting member and the inner peripheral surface of the hole to connect the top plate and the movement restricting member. Device. 請求項５に記載の基板支持装置であって、 The substrate support device according to claim 5,
前記キャップは、前記トッププレートの上方から前記孔部に挿入されており、 The cap is inserted into the hole from above the top plate,
前記孔部の内周面、および前記キャップの外周面は、それぞれ、下方に向けて先細りとされて互いにテーパ結合していることを特徴とする、基板支持装置。 The substrate supporting device, wherein the inner peripheral surface of the hole portion and the outer peripheral surface of the cap are tapered downward and tapered to each other. 請求項１～請求項６の何れか１項に記載の基板支持装置であって、
前記サセプタは、前記被処理基板を配置するための基板配置部と、前記着脱方向と交差する所定の幅方向において前記基板配置部から突出して延び前記移動規制部材に受けられるストッパと、を含んでいることを特徴とする、基板支持装置。 The substrate support device according to any one of claims 1 to 6 ,
The susceptor includes a substrate arranging portion for arranging the substrate to be processed, and a stopper that protrudes from the substrate arranging portion and extends in a predetermined width direction that intersects with the attaching/detaching direction and is received by the movement restricting member. A substrate support device, characterized in that: 請求項７に記載の基板支持装置であって、
前記ストッパは、前記幅方向に離隔して一対設けられており、
各前記ストッパは、第１平行部を含み、
前記支持体は、一対の前記第１平行部と接触可能な一対の第２平行部を含み、
互いに隣接する前記第１平行部と前記第２平行部とが互いに平行に延びていることを特徴とする、基板支持装置。 The substrate support device according to claim 7 ,
A pair of the stoppers are provided spaced apart in the width direction,
each said stopper includes a first parallel portion,
The support includes a pair of second parallel parts that can contact the pair of first parallel parts,
A substrate supporting device, wherein the first parallel portion and the second parallel portion adjacent to each other extend parallel to each other.
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