KR102297381B1 - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 기판을 처리하는 장치는 제1방향을 향하는 길이 방향을 가지는 베이스, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판으로 액을 공급하는 액 공급 유닛, 그리고 상기 액 공급 유닛으로부터 토출되는 액의 토출 상태를 측정하는 측정 유닛을 포함하되, 상기 기판 지지 유닛, 상기 액 공급 유닛, 그리고 상기 측정 유닛은 상기 베이스 상에 위치되고, 상부에서 바라볼 때 상기 기판 지지 유닛, 상기 액 공급 유닛, 그리고 상기 측정 유닛은 서로가 상기 제1방향을 따라 상대 이동이 가능하도록 제공된다.

Description

기판 처리 장치 및 방법{Apparatus and Method for treating substrate}
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 기판을 액 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
최근에는 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 이러한 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판, 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.
이 같이 컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정과 같은 처리액을 도포하는 장치로는 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다. 이러한 도포 장치는 처리액을 토출하는 토출 헤드를 가진다. 토출 헤드는 서로 구분된 공정 처리 공간과 유지 보수 공간 간에 이동하면서 처리액을 토출한다. 도 1은 일반적인 도포 장치를 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 토출 헤드(2)는 공정 처리 공간(4)에서 기판 상에 처리액을 공급하고, 유지 보수 공간(6)에서 처리액의 토출 상태를 측정한다. 따라서 토출 헤드(2)는 공정 처리 공간(4)과 유지 보수 공간(6) 간에 이동 가능한 장치에 결합되어 이동된다. 일 예에 의하면, 토출 헤드(@)를 지지하는 장치는 갠트리(8)일 수 있다. 상부에서 바라볼 때 갠트리(8)는 공정 처리 공간(4)과 유지 보수 공간(6)을 함께 감싸는 바 형상을 가지며, 토출 헤드(2)는 갠트리(8) 상에서 직선 이동이 가능하도록 제공된다.
그러나 갠트리의 길이가 길어질수록 갠트리는 무게로 인한 휘어짐이 발생된다. 이 결과 유지 보수 공간에서 처리액의 탄착점을 측정하고, 측정값을 근거로 실제 토출 위치값을 보정할지라도, 갠트리의 수평도 문제로 인해 처리액의 탄착점이 정 위치를 벗어나게 된다.
본 발명은 처리액의 탄착점을 정 위치로 보정할 수 있는 장치 및 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한 본 발명은 갠트리가 휘어지는 문제점을 최소화할 수 있는 장치 및 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다.
기판을 처리하는 장치는 제1방향을 향하는 길이 방향을 가지는 베이스, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판으로 액을 공급하는 액 공급 유닛, 그리고 상기 액 공급 유닛으로부터 토출되는 액의 토출 상태를 측정하는 측정 유닛을 포함하되, 상기 기판 지지 유닛, 상기 액 공급 유닛, 그리고 상기 측정 유닛은 상기 베이스 상에 위치되고, 상부에서 바라볼 때 상기 기판 지지 유닛, 상기 액 공급 유닛, 그리고 상기 측정 유닛은 서로가 상기 제1방향을 따라 상대 이동이 가능하도록 제공된다.
상기 장치는 상기 액 공급 유닛을 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 액 공급 유닛은, 상기 베이스의 상부에서 액을 토출하는 헤드 유닛과 상기 헤드 유닛과 상기 측정 유닛, 그리고 상기 헤드 유닛과 상기 기판 지지 유닛 각각의 상대 높이를 조절하는 조절 부재를 포함하되, 상기 제어기는 상기 헤드 유닛의 토출단으로부터 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 및 상기 측정 유닛 각각에 토출되는 토출 거리가 동일하도록 상기 조절 부재를 제어할 수 있다.
상기 베이스의 상면으로부터 기판이 고정 높이가 부상되도록 상기 베이스의 상면에는 에어를 토출하는 에어홀이 형성되고, 상기 액 공급 유닛은 상기 베이스의 상부에 위치되며, 상기 조절 부재를 지지하는 갠트리를 더 포함할 수 있다.
상기 기판 지지 유닛은, 상기 에어홀로부터 토출되는 에어에 의해 부상되는 기판을 지지하는 제1그립퍼와 상기 제1그립퍼를 상기 제1방향으로 이동시키는 제1구동 부재를 포함하되, 상기 기판 지지 유닛과 상기 측정 유닛은 상기 제1방향을 따라 나란하게 배열될 수 있다.
상기 측정 유닛은, 상기 토출단으로부터 토출되는 액이 직접 공급되는 측정 표면을 가지는 측정 부재와 상기 측정 부재를 상기 제1방향으로 이동시키는 제2구동 부재를 포함하되, 상기 제어기는 상기 토출단과 상기 측정 표면, 그리고 상기 토출단과 상기 제1그립퍼에 지지된 기판의 표면이 동일한 거리를 가지도록 상기 조절 부재를 제어할 수 있다. 상기 측정 부재는, 상기 에어홀로부터 토출되는 에어에 의해 부상되며, 상면이 상기 측정 표면으로 제공되는 측정 플레이트와 상기 측정 플레이트를 지지하는 제2그립퍼를 포함할 수 있다.
또한 상기 측정 부재는, 상기 제1방향과 수직한 상기 베이스의 양측 각각에 위치되는 풀리와 상기 베이스의 상부에 위치되도록 상기 풀리에 연결되며, 상면이 상기 측정 표면으로 제공되는 필름 부재를 포함할 수 있다.
기판을 처리하는 방법은 상부에서 바라볼 때 액을 토출하는 헤드와 상기 기판을 제1방향으로 상대 이동시켜 상기 기판 상에 액을 공급하고, 상기 액을 공급하기 전후에 상기 액의 토출 상태를 측정하되, 상기 액의 토출 상태를 측정하는 것은, 상부에서 바라볼 때 상기 헤드와 상기 기판이 상대 이동되는 경로 상에서 수행된다.
상기 액의 토출 상태를 측정하는 것은 측정 표면에 상기 액을 토출하여 이루어지되, 상기 헤드의 토출단과 상기 측정 표면 간의 측정 거리는 상기 토출단과 상기 기판의 표면 간의 실제 거리와 동일하도록 상기 측정 거리가 조절될 수 있다.
상기 기판은 에어 부상에 의해 고정된 높이를 가지며, 상기 측정 거리는 상기 헤드의 높이를 조절하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 토출단과 측정 표면 간의 거리, 그리고 토출단과 기판의 표면 간의 거리는 동일하게 제공된다. 이로 인해 처리액의 탄착점을 정 위치로 보정할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 측정 유닛과 기판 지지 유닛은 동일 베이스 상에 위치된다. 이로 인해 갠트리의 길이를 최소화하여 휘어지는 문제점을 최소화할 수 있다.
도 1은 일반적인 액 도포 장치를 보여주는 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 방식의 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 도 2의 액 토출부를 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 3의 액 토출부를 보여주는 평면도이다.
도 5는 도 4의 측정 유닛의 제1실시예를 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 4의 토출 헤드와 기판, 그리고 토출 헤드와 측정 플레이트 간의 거리를 조절하는 과정을 보여주는 도면이다.
도 7은 도 4의 측정 유닛의 제2실시예를 보여주는 단면도이다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
본 실시예에는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 대상물에 처리액을 도포하는 기판 처리 장치를 설명한다. 예컨대, 대상물은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 처리액은 액정(Liquid Crystal), 배향액, 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 배향액으로는 폴리이미드(polyimide)가 사용될 수 있다.
배향액은 컬러 필터(CF) 기판과 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있고, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다. 잉크는 컬러 필터(CF) 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙 매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.
본 실시예의 기판 처리 장치(1)는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal)을 도포하는 설비이다.
기판은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다.
도 2는 잉크젯 방식의 기판 처리 장치을 나타내는 도면이다. 도 2를 참조하면, 기판처리장치(1)는 액 토출부(10), 기판 반송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액 토출부(10)와 기판 반송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액 토출부(10)를 중심으로 기판 반송부(20)와 마주하는 위치에는 액 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 반송부(20)를 중심으로 액 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다.
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액 토출부(10)와 기판 반송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.
액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 반송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액 토출부(10)로 반송한다. 액 토출부(10)는 액 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 반송부(20)는 액 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 반송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액 토출부(10), 기판 반송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.
도 3은 도 2의 액 토출부를 보여주는 사시도이고, 도 4는 도 3의 액 토출부를 보여주는 평면도이다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 액 토출부(10)는 베이스(100), 기판 지지 유닛(200), 액 공급 유닛(300), 측정 유닛(400), 그리고 제어기(500)을 포함한다.
베이스(100)는 일정한 높이를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(100)는 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 길이 방향을 가지며, 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 폭을 가진다. 베이스(100)의 상부 공간은 기판(S)을 처리하기 위한 장치들이 배치되는 처리 공간으로 제공된다. 베이스(100)의 상면에는 복수의 에어홀(120)이 형성된다. 예컨대, 에어홀(120)은 수직 방향을 향하도록 제공될 수 있다. 에어홀(120)로부터 토출되는 에어는 대상을 부상시킨다. 예컨대, 기판(S) 및 측정 플레이트(420)는 에어에 의해 부상될 수 있다. 기판(S) 및 측정 플레이트(420)는 고정 높이를 가지도록 부상될 수 있다. 각각의 에어홀(120)은 수평도를 위해 균등하게 배치될 수 있다.
기판 지지 유닛(200)은 베이스(100)의 상부에서 기판(S)을 지지 및 반송한다. 기판 지지 유닛(200)은 제1그립퍼(220) 및 제1구동 부재(240)를 포함한다. 제1그립퍼(220)는 기판(S)의 측부를 지지한다. 제1그립퍼(220)는 기판(S)이 안정적으로 부상되도록 기판(S)을 지지한다. 제1그립퍼(220)는 기판(S)의 양면을 각각을 그립하는 지지 부재로 제공된다. 제1그립퍼(220)는 1 개 또는 복수 개로 제공될 수 있다. 제1그립퍼(220)가 1 개로 제공될 경우에는 베이스(100)의 일측에 배치되며, 기판(S)의 일측부를 지지할 수 있다. 제1그립퍼(220)가 복수 개로 제공될 경우에는 베이스(100)의 양측 각각에 배치되며, 기판(S)의 양측부 각각을 지지할 수 있다. 제1구동 부재(240)는 제1그립퍼(220)를 제1방향으로 왕복 이동시킨다. 제1구동 부재(240)는 제1그립퍼(220)가 설치되는 레일일 수 있다. 제1구동 부재(240)에 의해 기판(S) 및 제1그립퍼(220)는 공정 위치로 이동 가능하다. 여기서 공정 위치는 기판(S)과 토출 헤드(360)가 서로 마주하는 위치일 수 있다.
액 공급 유닛(300)은 기판 지지 유닛(200)에 지지된 기판(S) 상에 액정을 공급한다. 액 공급 유닛(300)은 갠트리(320), 조절 부재(340), 그리고 헤드 유닛(360)을 포함한다. 갠트리(320)는 베이스(100)의 상부에 조절 부재(340) 및 헤드 유닛(360)이 위치되도록 조절 부재(340) 및 헤드 유닛(360)을 지지한다. 갠트리(320)는 수직부(324) 및 수평부(322)를 가진다. 상부에서 바라볼 때 갠트리(320)는 제1방향과 수직한 제2방향을 향하는 바 형상을 가진다. 수직부(324)는 길이 방향이 상하 방향을 향하는 바 형상을 가지고, 수평부(322)는 길이 방향이 제2방향을 향하는 바 형상을 가진다. 수직부(324)는 복수 개로 제공되며, 베이스(100)의 양측 각각에 위치된다. 즉, 수직부(324)는 제2방향을 따라 베이스(100)를 사이에 두고 배열된다. 일 예에 의하면, 갠트리(320)는 2 개로 제공될 수 있다. 각각은 제2방향을 향해 서로 마주하도록 위치된다. 수평부(322)는 수직부(324) 각각으로부터 수직한 방향으로 연장되게 제공된다. 수평부(322)는 수직부(324) 각각의 상단으로부터 연장된다.
조절 부재(340)는 헤드 유닛(360)과 측정 유닛(400), 그리고 헤드 유닛(360)과 기판(S) 각각의 상대 높이를 조절한다. 본 실시예에는 기판(S) 및 측정 유닛(400)의 높이가 에어홀(120)로부터 토출되는 에어에 의해 고정되므로, 헤드 유닛(360)의 높이를 조절함으로써, 각각의 상대 높이를 조절하는 것으로 설명한다. 조절 부재(340)는 갠트리(320)의 수평부(322)의 일측면 상에서 헤드 유닛(360)을 이동시킨다. 조절 부재(340)는 헤드 유닛(360) 조절 부재(340)는 헤드 유닛(360)을 갠트리(320) 상에서 수평부(322)의 길이 방향과 평행한 방향, 그리고 수직부(324)의 길이 방향과 평행한 방향으로 이동시킨다. 일 예에 의하면, 헤드 유닛(360)은 상하 방향 및 제2방향 각각으로 이동 가능할 수 있다.
헤드 유닛(360)은 기판 지지 유닛(200)에 지지된 기판(S) 상에 액을 직접 공급한다. 예컨대, 액은 액정을 포함하는 잉크로 제공될 수 있다. 잉크는 점성을 가지는 액일 수 있다. 헤드 유닛(360)은 1 개 또는 복수 개의 토출 헤드(360a,360b,360c, 이하 360)를 포함한다. 토출 헤드(360)가 복수 개로 제공되는 경우에는 제2방향을 따라 나란하게 배열될 수 있다. 토출 헤드들(360)은 서로 간의 간격이 고정된 상태로 조절 부재(340)에 의해 이동될 수 있다. 토출 헤드(360)의 저면은 액을 토출하는 토출단으로 제공된다. 토출 헤드(360)의 저면에는 복수의 토출홀들이 형성된다. 토출홀은 피에조 소자에 의해 개폐되며, 액의 토출을 공급 또는 중지할 수 있다.
측정 유닛(400)은 토출 헤드(360)로부터 토출된 액의 상태를 측정한다. 예컨대, 측정 유닛(400)은 토출 헤드(360)로부터 토출되는 액의 탄착점을 측정할 수 있다. 도 5는 도 4의 측정 유닛의 제1실시예를 보여주는 단면도이다. 측정 유닛(400)은 측정 플레이트(420), 제2그립퍼(440), 제2구동 부재(460), 그리고 비전 부재(480)를 포함한다. 측정 플레이트(420)는 판 형상을 가지며, 상면은 토출 헤드(360)로부터 낙하된 액이 제공되는 측정 표면으로 제공된다. 측정 표면 상에는 1 개 또는 복수 개의 토출홀로부터 토출되는 액정이 제공될 수 있다. 측정 플레이트(420)는 에어홀(120)로부터 토출되는 에어에 의해 고정된 높이를 갖도록 부상된다. 측정 플레이트(420)는 기판(S)에 비해 무게 및 형상 등이 상이하므로, 서로 다른 높이를 가진다.
제2그립퍼(440)는 측정 플레이트(420)의 측부를 지지한다. 제2그립퍼(440)는 측정 플레이트(420)가 안정적으로 부상되도록 측정 플레이트(420)를 지지한다. 제2그립퍼(440)는 측정 플레이트(420)의 양면을 각각 그립하는 지지 부재로 제공된다. 따라서 기판(S)과 측정 플레이트(420)는 제1방향을 따라 서로 나란하게 배치된다. 제2그립퍼(440)는 1 개 또는 복수 개로 제공될 수 있다. 제2그립퍼(440)가 1 개로 제공될 경우에는 베이스(100)의 일측에 배치되며, 측정 플레이트(420)의 일측부를 지지할 수 있다. 제2그립퍼(440)가 복수 개로 제공될 경우에는 측정 플레이트(420)의 양측 각각에 배치되며, 측정 플레이트(420)의 양측부 각각을 지지할 수 있다. 제2구동 부재(460)는 제2그립퍼(440)를 제1방향으로 왕복 이동시킨다. 제2구동 부재(460)는 제1구동 부재(240)와 독립되게 구동될 수 있다. 제2구동 부재(460)는 측정 플레이트(420) 및 제2그립퍼(440)를 제1위치, 제2위치, 그리고 대기 위치로 이동 가능하다. 여기서 제1위치는 측정 플레이트(420)와 토출 헤드(360)가 마주하는 위치이고, 제2위치는 측정 플레이트(420)와 비전 부재(480)가 마주하는 위치일 수 있다. 대기 위치는 측정 플레이트(420)가 제1위치 및 제2위치를 벗어난 위치일 수 있다.
비전 부재(480)는 측정 표면에 제공된 액을 촬상한다. 비전 부재(480)는 갠트리(320)에 설치된다. 일 예에 의하면, 비전 부재(480)는 갠트리(320)에서 조절 부재(340)가 설치된 일측면과 반대되는 타측면에 설치될 수 있다. 비전 부재(480)는 측정 위치에 위치된 측정 플레이트(420)의 상부에서 측정 표면에 제공된 액의 상태를 촬상 가능하다.
제어기(500)는 액 공급 유닛(300)을 제어한다. 제어기(500)는 토출 헤드(360)의 토출단으로부터 기판(S)에 액이 토출되는 제1거리(D1)와 토출단으로부터 측정 표면에 액이 토출되는 제2거리(D2)가 동일하도록 조절 부재(340)를 제어한다. 즉 제어기(500)는 액의 상태를 측정하기 위한 측정 환경과 액을 기판(S)에 토출하는 실제 환경을 동일하도록 조절 부재(340)를 제어한다.
다음은 상술한 장치를 이용하여 기판(S)을 처리하는 과정을 설명한다. 기판(S)을 처리하는 방법은 기판 처리 단계와 액 측정 단계를 포함한다. 기판 처리 단계에는 기판(S)을 공정 위치로 이동시킨 후에, 기판(S) 상으로 액을 공급한다. 예컨대, 토출 헤드(360)와 기판(S)의 상면 간에는 제1거리(D1)를 갖도록 이격되게 위치된다. 토출 헤드(360)는 조절 부재(340)에 의해 기설정된 위치에서 액을 토출하여 기설정된 지점으로 액을 탄착한다.
이와 달리, 액 측정 단계는 기판 처리 단계의 전에 수행된다. 다만, 액 측정 단계는 기판 처리 단계의 전후 각각에 수행될 수 있다. 액 측정 단계에는 측정 플레이트(420)가 제1위치로 이동된다. 토출 헤드(360)는 측정 플레이트(420)의 측정 표면에 액을 토출한다. 액 토출이 완료되면, 측정 플레이트(420)는 제2위치로 이동된다. 측정 플레이트(420)가 제2위치로 이동되면, 도 6과 같이, 토출 헤드(360)는 측정 표면과 토출 헤드(360) 간에 제1거리(D1)와 동일한 제2거리(D2)를 가지도록 토출 헤드(360)의 높이를 조절한다. 토출 헤드(360)는 제2거리(D2)에서 측정 표면에 액을 공급하고, 비전 부재(480)로부터 측정 표면에 공급된 액의 상태가 촬상된다. 비전 부재(480)로부터 측정된 값은 제어기(500)로 전달되고, 제어기(500)는 측정값을 근거로 토출 헤드(360)의 위치를 보정한다. 예컨대, 제어기(500)는 기설정된 값과 측정값 간의 차이로 토출 헤드(360)의 위치를 보정할 수 있다. 액 측정 단계에서 사용된 측정 플레이트(420)는 액이 공급되지 않은 측정 플레이트(420)로 교체될 수 있다.
상술한 실시예에는 측정 부재가 판 형상의 플레이트로 제공되는 것을 설명하였다. 그러나 측정 부재는 도 7과 같이, 풀리(472) 및 필름 부재(474)를 포함할 수 있다. 풀리(472)는 베이스(100)의 양측 각각에 위치되고, 필름 부재(474)는 베이스(100)의 상부에 위치되도록 각 풀리(472)를 감싸도록 제공될 수 있다. 필름 부재(474)의 상면은 측정 표면으로 제공될 수 있다. 풀리(472)의 회전에 의해 필름 부재(474)는 회전 이동될 수 있다. 예컨대, 필름 부재(474)는 상술한 측정 플레이트(420)와 동일하게 제1위치, 제2위치, 그리고 대기 위치로 이동 가능하다. 필름 부재(474)는 액 측정 단계에서 회전이 고정된 채로 제1위치와 제2위치 간에 이동된다. 토출 헤드(360)는 필름 부재(474)의 측정 표면 간의 거리가 제1거리(D1)와 동일한 제2거리(D2)를 가지는 위치에서 액을 공급한다. 이후 액 측정 단계가 완료되면, 회전되어 다음 액 측정 단계에서 사용될 측정 표면을 제공한다.
320: 갠트리 340: 조절 부재
360: 헤드 유닛 360a,360b,360c: 토출 헤드
420: 측정 플레이트 440: 제2그립퍼
480: 비전 부재

Claims (10)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    제1방향을 향하는 길이 방향을 가지는 베이스와;
    기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판으로 액을 공급하는 액 공급 유닛과;
    상기 액 공급 유닛으로부터 토출되는 액의 토출 상태를 측정하고, 상기 액 공급 유닛으로부터 공급되는 액이 직접 공급되는 측정 표면을 가지는 측정 부재를 포함하는 측정 유닛과;
    상기 액 공급 유닛을 제어하는 제어기를 포함하되,
    상기 기판 지지 유닛, 상기 액 공급 유닛, 그리고 상기 측정 유닛은 상기 베이스 상에 위치되고,
    상부에서 바라볼 때 상기 기판 지지 유닛, 상기 액 공급 유닛, 그리고 상기 측정 유닛은 서로가 상기 제1방향을 따라 상대 이동이 가능하도록 제공되고,
    상기 액 공급 유닛은,
    상기 베이스의 상부에서 액을 토출하는 헤드 유닛과;
    상기 헤드 유닛과 상기 측정 유닛, 그리고 상기 헤드 유닛과 상기 기판 지지 유닛 각각의 상대 높이를 조절하는 조절 부재를 포함하고,
    상기 측정 부재의 상기 측정 표면의 위치는 상기 기판의 표면과 다른 위치에 제공되고,
    상기 제어기는 상기 헤드 유닛의 토출단으로부터 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 및 상기 측정 유닛 각각에 토출되는 토출 거리가 동일하도록 상기 조절 부재를 제어하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 측정 부재의 상기 측정 표면은 상기 기판의 표면보다 높은 위치에 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 베이스의 상면으로부터 기판이 고정 높이가 부상되도록 상기 베이스의 상면에는 에어를 토출하는 에어홀이 형성되고,
    상기 액 공급 유닛은,
    상기 베이스의 상부에 위치되며, 상기 조절 부재를 지지하는 갠트리를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 기판 지지 유닛은,
    상기 에어홀로부터 토출되는 에어에 의해 부상되는 기판을 지지하는 제1그립퍼와;
    상기 제1그립퍼를 상기 제1방향으로 이동시키는 제1구동 부재를 포함하되,
    상기 기판 지지 유닛과 상기 측정 유닛은 상기 제1방향을 따라 나란하게 배열되는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서
    상기 측정 유닛은,
    상기 측정 부재를 상기 제1방향으로 이동시키는 제2구동 부재를 더 포함하되,
    상기 제어기는 상기 토출단과 상기 측정 표면, 그리고 상기 토출단과 상기 제1그립퍼에 지지된 기판의 표면이 동일한 거리를 가지도록 상기 조절 부재를 제어하는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 측정 부재는,
    상기 에어홀로부터 토출되는 에어에 의해 부상되며, 상면이 상기 측정 표면으로 제공되는 측정 플레이트와;
    상기 측정 플레이트를 지지하는 제2그립퍼를 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 측정 부재는,
    상기 제1방향과 수직한 상기 베이스의 양측 각각에 위치되는 풀리와;
    상기 베이스의 상부에 위치되도록 상기 풀리에 연결되며, 상면이 상기 측정 표면으로 제공되는 필름 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    상부에서 바라볼 때 액을 토출하는 헤드와 상기 기판을 제1방향으로 상대 이동시켜 상기 기판 상에 액을 공급하고, 상기 액을 공급하기 전후에 상기 액의 토출 상태를 측정하되,
    상기 액의 토출 상태를 측정하는 것은,
    상부에서 바라볼 때 상기 헤드와 상기 기판이 상대 이동되는 경로 상에서 수행되고,
    상기 액의 토출 상태를 측정하는 것은 측정 표면에 상기 액을 토출하여 이루어지되,
    상기 측정 표면은 상기 기판의 표면보다 높은 위치에 제공되고,
    상기 헤드의 토출단과 상기 측정 표면 간의 측정 거리는 상기 토출단과 상기 기판의 표면 간의 실제 거리와 동일하도록 상기 측정 거리가 조절되는 기판 처리 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 측정 표면과 상기 기판의 표면은 고정된 높이 차이를 가지는 기판 처리 방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 기판은 에어 부상에 의해 고정된 높이를 가지며,
    상기 측정 거리는 상기 헤드의 높이를 조절하여 이루어지는 기판 처리 방법.
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