KR102295476B1 - 표시 기판의 제조 방법 - Google Patents
표시 기판의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102295476B1 KR102295476B1 KR1020150045316A KR20150045316A KR102295476B1 KR 102295476 B1 KR102295476 B1 KR 102295476B1 KR 1020150045316 A KR1020150045316 A KR 1020150045316A KR 20150045316 A KR20150045316 A KR 20150045316A KR 102295476 B1 KR102295476 B1 KR 102295476B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- display substrate
- substrate
- manufacturing
- mixture
- carrier substrate
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 140
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011242 organic-inorganic particle Substances 0.000 claims abstract description 3
- 230000009975 flexible effect Effects 0.000 claims description 21
- -1 poly dimethyl diphenyl siloxane Chemical compound 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 claims description 6
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 claims description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/80—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass using temporary substrates
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L65/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L65/04—Polyxylenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
- G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/40—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
- H10K71/441—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour in the presence of solvent vapors, e.g. solvent vapour annealing
Abstract
본 기재의 표시 기판의 제조 방법은, 캐리어 기판을 준비하는 단계, 유기물, 무기물 입자 및 용매의 혼합물을 준비하는 단계, 혼합물을 캐리어 기판 상에 도포하는 단계, 혼합물을 경화시켜 유기물에 무기물 입자가 박혀있는 희생층을 형성하는 단계, 희생층 상에 배리어층을 형성하는 단계, 배리어층 상에 표시 기판을 형성하는 단계, 희생층에 레이저를 가하여 배리어층 및 표시 기판을 캐리어 기판으로부터 분리시키는 단계를 포함하여, 온도에 의한 물성의 변화가 미미하며, 에너지 흡수 효율이 증대되어 레이저를 이용한 캐리어 기판과 표시 기판의 분리를 용이하게 한다.
Description
본 발명은 표시 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 고온에서 공정이 진행될 수 있으며, 캐리어 기판과 표시 기판 사이의 분리가 용이하게 이루어질 수 있는 표시 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
현재 널리 알려진 표시 장치로는 액정 표시 장치(liquid crystal display: LCD), 플라즈마 표시 장치(plasma display panel: PDP), 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode device: OLED device), 전계 효과 표시 장치(field effect display: FED), 전기 영동 표시 장치(electrophoretic display device) 등과 같은 다양한 표시 장치들이 있다. 근래에 들어서는 이와 같은 다양한 표시 장치들을 플렉서블한 재질로 형성하는 기술에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 플렉서블한 재질의 표시 장치가 도입되면, 전자 책, 전자 종이와 같은 새로운 분야에 적용될 수 있어, 표시 장치의 사용 범위를 더욱 증대시킬 수 있을 것이다.
플렉서블 표시 장치에 사용되는 플렉서블한 재질의 기판 상에 표시 장치의 구성을 형성하기 위해서는 기판을 고정시켜야 한다. 플렉서블 재질의 기판을 고정시키기 위해서는 강성 재질의 캐리어 기판 상에 플렉서블 기판을 부착시키는 방법이 사용되고 있다. 표시 기판의 제조 공정이 끝난 후에는 완성된 표시 기판과 캐리어 기판을 분리시킨다. 분리 과정에서 발생될 수 있는 기판의 파손을 방지하기 위하여, 캐리어 기판과 플렉서블 기판 사이에는 희생층이 형성될 수 있다. 일반적으로 희생층에 사용되는 물질들은 고온에서 취약한 물성을 지녀 이용에 한계가 있어 왔다.
본 발명은 고온에서 공정이 진행될 수 있으며, 캐리어 기판과 표시 기판 사이의 분리가 용이하게 이루어질 수 있는 표시 기판의 제조 방법을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 방법은, 캐리어 기판을 준비하는 단계, 유기물, 무기물 입자 및 용매의 혼합물을 준비하는 단계, 혼합물을 캐리어 기판 상에 도포하는 단계, 혼합물을 경화시켜 유기물에 무기물 입자가 박혀있는 희생층을 형성하는 단계, 희생층 상에 배리어층을 형성하는 단계, 배리어층 상에 표시 기판을 형성하는 단계, 희생층에 레이저를 가하여 배리어층 및 표시 기판을 캐리어 기판으로부터 분리시키는 단계를 포함한다.
유기물은, 패럴린(poly-para-xylene), 폴리다이메틸다이페닐 실록산 레진(poly dimethyl diphenyl siloxane resin) 중 하나 이상일 수 있다.
무기물 입자는, 산화 몰리브덴(MoO3), 규소(Si), 인듐 주석 산화물(Indium-Tin-Oxide, ITO) 및 질화 갈륨(GaN) 중 하나 이상일 수 있다.
무기물 입자의 직경은 0.1 내지 3um일 수 있다.
용매는, 1-메톡시-2-프로판올(1-methoxy-2-propanol), 에틸-3-에톡시프로피오네이트(ethyl-3-ethoxupropinate) 중 하나 이상일 수 있다.
혼합물은, 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 프린팅 공법 및 화학 기상 증착법 중 하나에 의해 캐리어 기판 상에 도포될 수 있다.
혼합물은 빛 또는 열에 의해 경화되어 용매가 제거될 수 있다.
희생층의 두께는 40 내지 800nm일 수 있다.
캐리어 기판은 유리, 석영, 세라믹 재질 중 하나 이상으로 이루어질 수 있다.
캐리어 기판의 두께는 0 초과 3mm 이하일 수 있다.
배리어층은, 질화규소(SiNx), 산화규소(SiOx), 산화알루미늄(Al2O3), 옥시나이트라이드 실리콘(silicon oxynitride), 질화 알루미늄(Aluminum nitride), 옥시나이트라이드 알루미늄(Aluminum oxynitride) 중 하나 이상일 수 있다.
표시 기판은 플렉서블 기판을 포함하는 플렉서블 표시 기판일 수 있다.
플렉서블 기판은, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN), 폴리에테르에테르케톤(polyether ether ketone, PEEK), 폴리에틸렌(polyethylene) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 레이저는 엑시머 레이저, 고상 레이저 중 하나일 수 있다.
혼합물은 서스펜션(suspension) 상태로 캐리어 기판에 도포될 수 있다.
본 발명에 의하면 400℃ 이상의 온도에서 표시 기판을 제조하는 공정이 수행된다 하더라도 온도에 의한 물성의 변화가 미미하며, 에너지 흡수 효율이 증대되어 레이저를 이용한 캐리어 기판과 표시 기판의 분리를 용이하게 하는 희생층을 포함하는 표시 기판의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 방법을 순서대로 도시한 순서도이다.
도 2 내지 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 공정을 각각 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2 내지 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 공정을 각각 개략적으로 도시한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분을 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다. 또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서 설명의 편의를 위해 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 방법을 순서대로 도시한 순서도이며, 도 2 내지 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 공정을 각각 개략적으로 도시한 도면이다.
이하에서는 도 1 내지 도 9를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 방법은, 도 1에 도시된 것과 같이, 캐리어 기판(110) 준비 단계(s100), 혼합물(128) 준비 단계(s200), 혼합물(128) 도포 단계(s300), 희생층(120) 형성 단계(s400), 배리어층(130) 형성 단계(s500), 표시 기판(140) 형성 단계(s600), 표시 기판(140) 분리 단계(s700)를 포함한다.
도 2에 도시된 것과 같이, 캐리어 기판(110) 준비 단계는 플렉서블 재질의 표시 기판(140)의 제조 공정이 진행되는 동안 표시 기판(140)을 고정시키는 캐리어 기판(110)을 준비하는 단계이다(s100).
본 실시예에 따른 캐리어 기판(110)은 플렉서블 재질의 표시 기판(140)과는 달리, 표시 기판(140)이 접착되어 고정될 수 있도록 강성(rigid) 재질로 이루어질 수 있다. 일 예로, 본 실시예의 캐리어 기판(110)은 유리, 석영, 세라믹 재질 중 하나 이상으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 실시예에 따른 캐리어 기판(110)은 0 초과 3mm 이하의 두께를 가질 수 있으며, 캐리어 기판(110) 상에 형성되는 다른 구성들과 비교하여 훨씬 두꺼운 두께를 가지기 때문에 이후 캐리어 기판(110) 상에 적층되어 제조되는 표시 기판(140)을 보다
혼합물(128) 준비 단계는 본 실시예의 캐리어 기판(110)과 표시 기판(140) 사이에 형성되어 이들을 분리할 때 표시 기판(140)의 파손을 방지할 수 있는 희생층(120)을 형성하는 원료를 준비하는 단계이다(s200).
본 실시예에 사용되는 유기물(122)은 패럴린(poly-para-xylene), 폴리다이메틸다이페닐 실록산 레진(poly dimethyl diphenyl siloxane resin) 중 하나 이상일 수 있다. 일반적으로 표시 기판(140)을 제조하는 공정들은 400℃ 이상의 고온에서 수행된다. 따라서 이와 같이 고온 상태에서 안정한 유기물(122)이 사용되어야 한다. 본 실시예에 사용되는 유기물(122)인 패럴린(poly-para-xylene) 및 폴리다이메틸다이페닐 실록산(poly dimethyl diphenyl siloxane resin)는 400℃ 이상의 고온에서 안정한 성질을 가지기 때문에, 본 실시예의 희생층(120)으로 사용되기에 적합하다.
본 실시예에 사용되는 무기물 입자(124)는 반도체 물질로, 산화 몰리브덴(MoO3), 규소(Si), 인듐 주석 산화물(Indium-Tin-Oxide, ITO) 및 질화 갈륨(GaN) 중 하나 이상일 수 있다.
이때 본 실시예에 따라 구 형상으로 제공되는 무기물 입자(124)의 직경은 0.1 내지 3um일 수 있다.
또한 본 실시예에서 사용되는 용매(126)는 1-메톡시-2-프로판올(1-methoxy-2-propanol), 에틸-3-에톡시프로피오네이트(ethyl-3-ethoxupropinate) 중 하나 이상일 수 있다. 이들 용매(126)는 쉽게 휘발될 수 있기 때문에, 혼합물(128)을 경화시키는 과정에서 용매(126)는 매우 용이하게 제거될 수 있다. 따라서 잔여 유기물(122)에 의해 유기물 매트릭스의 형성이 보다 용이해지며, 혼합물(128)을 경화시켜 희생층(120)을 형성하는 공정이 보다 용이하게 수행될 수 있다.
이때, 본 실시예에 따른 혼합물(128)은 유기물(122), 무기물 입자(124) 및 용매(126)를 혼합하여 서스펜션(suspension) 상태로 준비될 수 있다.
혼합물(128)을 캐리어 기판(110) 상에 도포하는 단계는, 본 실시예에 따른 혼합물(128)은 캐리어 기판(110) 상에 혼합물(128)을 떨어뜨리고, 얇고 균일하게 캐리어 기판(110) 상에 펼치는 단계이다(s300).
도 3에는 본 실시예에 따른 혼합물(128)을 캐리어 기판(110) 상에 떨어뜨리는 모습이 도시되어 있으며, 도 4에는 얇고 균일하게 도포된 혼합물(128)의 모습이 도시되어 있다.
도 4와 같이 얇고 균일하게 혼합물(128)이 도포될 수 있도록, 본 실시예에 따른 혼합물(128)은 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 프린팅 공법 및 화학 기상 증착법 중 하나에 의해 캐리어 기판(110) 상에 도포될 수 있다.
도 5에 도시된 것과 같이, 희생층(120) 형성 단계는 도포된 혼합물(128)을 캐리어 기판(110) 상에 얇고 넓게 펴 바른 뒤, 혼합물(128)에 포함된 용매(126)를 건조시켜, 혼합물(128)에 포함된 유기물(122)은 매트릭스를 형성하며 유기물 매트릭스에는 무기물 입자(124)가 박혀있는 희생층(120)을 형성하는 단계이다(s400).
도 4 에서 혼합물(128)이 캐리어 기판(110) 상에 도포된 것과 비교하여, 도 5에서 용매(126)가 건조되어 제거된 희생층(120)이 형성된 모습을 살펴보면, 용매(126)가 건조된 희생층(120)의 두께가 더 얇은 것을 알 수 있다.
본 실시예에 의해 형성되는 희생층(120)은 유기물 매트릭스에 의해 40 내지 800 nm의 두께를 가지지만, 유기물 매트릭스에 박혀있는 무기물 입자(124)의 직경은, 앞서 설명한 것과 같이 0.1 내지 3um이기 때문에 희생층(120)의 외부로 돌출되어 희생층(120)의 표면의 거칠기를 증가시킬 수 있다.
표시 기판(140)을 완성하여 레이저(150)를 가해 분리하는 공정이 수행될 때, 매끈하고 투명한 희생층(120)의 경우에는 에너지의 흡수율이 낮기 때문에 분리가 원활하게 일어나지 않는다. 따라서 표면이 거칠고 불투명한 희생층(120)이 형성되어야 레이저(150)에 의해 가해지는 에너지를 원활하게 흡수하여 분리가 용이하다.
따라서 본 실시예의 희생층(120)의 경우, 고온에서 사용하기에 적합한 유기물(122)을 매트릭스를 기반으로, 유기물 매트릭스 사이에 박힌 불순물인 무기물 입자(124)에 의해 희생층(120) 표면의 거칠기는 증가되고, 희생층(120)의 투명도는 저하될 수 있도록 형성된다.
한편, 본 실시예의 희생층(120)에 사용되는 유기물(122) 또는 무기물 입자(124)의 경우, 분리를 위해 레이저(150)를 가하면 기체를 발생되어 분리가 보다 용이해질 수 있다. 일 예로, 본 실시예의 유기물(122) 중 하나인 패럴린의 경우에는 유기물(122) 고분자를 형성하면서 메탄 가스(CH4)를 발생시킬 수 있으며, 본 실시예의 무기물 입자(124) 중 하나인 질화 갈륨은 레이저(150)에 의해 분해되어 질소 가스(N2)를 발생시킬 수 있다.
배리어층(130)을 형성하는 단계는, 도 6에 도시된 것과 같이, 희생층(120)과 표시 기판(140) 사이의 물질의 확산을 방지하여 표시 기판(140)을 보호하는 배리어층(130)을 희생층(120) 상에 형성하는 단계이다(s500).
본 실시예의 배리어층(130)은 물질의 확산을 방지할 수 있는 세라믹 재질로, 예를 들어, 질화규소(SiNx), 산화규소(SiOx), 산화알루미늄(Al2O3), 옥시나이트라이드 실리콘(silicon oxynitride), 질화 알루미늄(Aluminum nitride), 옥시나이트라이드 알루미늄(Aluminum oxynitride) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
표시 기판(140)을 형성하는 단계는, 도 7에 도시된 것과 같이, 배리어층(130) 상에 본 실시예의 표시 기판(140)을 형성하는 단계이다(s600).
도 7에는 구체적인 표시 기판(140)의 구성이 도시되지 않았으나, 본 실시예의 표시 기판(140)은, 화상을 표시하는 빛을 발생시키기 위한 구조 및 원리에 따라 액정 표시 기판(140), 플라즈마 표시 기판(140), 유기 발광 표시 기판(140)과 같은 다양한 종류가 존재할 수 있으나, 이에 한정되지 않고 이 외에도 다양한 종류의 표시 기판(140)이 본 실시예에 적용될 수 있을 것이다.
한편, 본 실시예에 따른 표시 기판(140)은 플렉서블한 재질의 플렉서블 기판을 포함하는 플렉서블 표시 기판(140)일 수 있으며, 따라서 본 실시예의 플렉서블 기판으로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN), 폴리에테르에테르케톤(polyether ether ketone, PEEK), 폴리에틸렌(polyethylene) 중 하나 이상의 플렉서블한 성질의 고분자 필름 기판이 사용될 수 있다. 다만, 이는 일 실시예에 불과하며, 이 외에도 다양한 플렉서블 재질의 표시 기판(140)이 본 실시예에 사용될 수 있다.
표시 기판(140)을 제조하는 단계(s600)가 완료된 이후에는, 표시 기판(140)을 캐리어 기판(110)으로부터 분리시키는 단계(s700)가 수행된다.
표시 기판(140)을 캐리어 기판(110)으로부터 분리시키는 단계는 희생층(120)에 레이저(150)를 가하여, 희생층(120)에 포함된 유기물(122) 또는 무기물 입자(124)가 레이저(150)에 반응하여 기체를 발생시키면서 표시 기판(140)과 캐리어 기판(110)을 분리시키는 단계이다(s700).
도 8에는 본 실시예에 따라 희생층(120)에 레이저(150)를 가하여 표시 기판(140)을 캐리어 기판(110)으로부터 분리하는 모습이 도시되어 있으며, 도 9에는 본 실시예에 따라 희생층(120)을 기준으로 표시 기판(140) 및 배리어층(130)과, 캐리어 기판(110)으로 분리된 모습이 도시되어 있다.
이때, 도 9에 도시된 것과 같이, 본 실시예의 희생층(120)은 표시 기판(140) 및 캐리어 기판(110) 중 어느 하나에 잔류할 수 있으나, 분리 이후 쉽게 제거될 수 있으므로 표시 기판(140)의 물성을 저하시키지 않으며, 잔여물로 인한 불량의 발생을 방지할 수 있다.
본 실시예에 따라 희생층(120)에 에너지를 전달하는 레이저(150)로는 엑시머 레이저, 고상 레이저와 같은 레이저 장비가 사용될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 실시예의 희생층(120)은 앞서 서술한 것과 같이, 레이저(150)를 조사받아 유기물(122) 또는 무기물이 반응하면서 발생되는 기체로 인해 표시 기판(140)과 캐리어 기판(110)의 분리를 보다 용이하게 한다. 또한 본 실시예의 희생층(120)은 유기물 매트릭스에 무기물 입자(124)가 박혀있는 구조를 가지기 때문에, 표면의 거칠기가 증가되고 투명도가 감소된다. 그러므로, 본 실시예의 희생층(120)은 레이저(150)의 흡수 효율이 증대될 수 있으므로, 표시 기판(140)과 캐리어 기판(110)을 분리시키기에 보다 효과적이다.
이상에서는 본 발명의 일 실시예에 따라 유기물 매트릭스에 무기물 입자(124)가 박혀있는 희생층(120)을 이용하여 캐리어 기판(110)으로부터 표시 기판(140)의 분리가 용이한 표시 기판(140)의 제조 방법에 대해 설명하였다. 본 실시예에 따른 희생층(120)은 400℃ 이상의 온도에서 표시 기판(140)을 제조하는 공정이 수행된다 하더라도 온도에 의한 물성의 변화가 미미하며, 에너지 흡수 효율이 증대되어 레이저(150)를 이용한 캐리어 기판(110)과 표시 기판(140)의 분리를 용이하게 한다.
앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
110: 캐리어 기판
120: 희생층
122: 유기물
124: 무기물 입자
126: 용매
128: 혼합물
130: 배리어층
140: 표시 기판
150: 레이저
120: 희생층
122: 유기물
124: 무기물 입자
126: 용매
128: 혼합물
130: 배리어층
140: 표시 기판
150: 레이저
Claims (15)
- 캐리어 기판을 준비하는 단계;
유기물, 무기물 입자 및 용매의 혼합물을 준비하는 단계;
상기 혼합물을 상기 캐리어 기판 상에 도포하는 단계;
상기 혼합물을 경화시켜 상기 유기물에 상기 무기물 입자가 박혀있는 희생층을 형성하는 단계;
상기 희생층 상에 배리어층을 형성하는 단계;
상기 배리어층 상에 표시 기판을 형성하는 단계;
상기 희생층에 레이저를 가하여 상기 배리어층 및 상기 표시 기판을 상기 캐리어 기판으로부터 분리시키는 단계를 포함하는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 유기물은,
패럴린(poly-para-xylene), 폴리다이메틸다이페닐 실록산 레진(poly dimethyl diphenyl siloxane resin) 중 하나 이상을 포함하는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 무기물 입자는,
산화 몰리브덴(MoO3), 규소(Si), 인듐 주석 산화물(Indium-Tin-Oxide, ITO) 및 질화 갈륨(GaN) 중 하나 이상을 포함하는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 무기물 입자의 직경은 0.1 내지 3um인, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 용매는,
1-메톡시-2-프로판올(1-methoxy-2-propanol), 에틸-3-에톡시프로피오네이트(ethyl-3-ethoxupropinate) 중 하나 이상을 포함하는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 혼합물은,
스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 프린팅 공법 및 화학 기상 증착법 중 하나에 의해 상기 캐리어 기판 상에 도포되는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 혼합물은 빛 또는 열에 의해 경화되어 상기 용매가 제거되는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 희생층의 두께는 40 내지 800nm인, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 캐리어 기판은 유리, 석영, 세라믹 재질 중 하나 이상으로 이루어지는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 캐리어 기판의 두께는 0 초과 3mm 이하인, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 배리어층은,
질화규소(SiNx), 산화규소(SiOx), 산화알루미늄(Al2O3), 옥시나이트라이드 실리콘(silicon oxynitride), 질화 알루미늄(Aluminum nitride), 옥시나이트라이드 알루미늄(Aluminum oxynitride) 중 하나 이상을 포함하는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 표시 기판은 플렉서블 기판을 포함하는 플렉서블 표시 기판인, 표시 기판의 제조 방법. - 제12항에 있어서,
상기 플렉서블 기판은,
폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN), 폴리에테르에테르케톤(polyether ether ketone, PEEK), 폴리에틸렌(polyethylene) 중 하나 이상을 포함하는, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 레이저는 엑시머 레이저, 고상 레이저 중 하나인, 표시 기판의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 혼합물은 서스펜션(suspension) 상태로 상기 캐리어 기판에 도포되는, 표시 기판의 제조 방법.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150045316A KR102295476B1 (ko) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 표시 기판의 제조 방법 |
| US15/008,492 US9685640B2 (en) | 2015-03-31 | 2016-01-28 | Manufacturing method of display substrate using a carrier substrate and a sacrificial layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150045316A KR102295476B1 (ko) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 표시 기판의 제조 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20160117800A KR20160117800A (ko) | 2016-10-11 |
| KR102295476B1 true KR102295476B1 (ko) | 2021-08-30 |
Family
ID=57017767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020150045316A KR102295476B1 (ko) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 표시 기판의 제조 방법 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9685640B2 (ko) |
| KR (1) | KR102295476B1 (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230072202A (ko) | 2021-11-17 | 2023-05-24 | 동우 화인켐 주식회사 | 수지 필름 형성용 캐리어 기판, 이를 이용한 수지 필름 제조 방법 및 이를 이용한 전기 디바이스의 제조 방법 |
| KR20230086902A (ko) | 2021-12-09 | 2023-06-16 | 동우 화인켐 주식회사 | 전기 디바이스의 제조 방법 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107507927B (zh) * | 2017-07-11 | 2019-04-30 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性显示装置的制作方法 |
| CN108665806B (zh) * | 2018-05-14 | 2019-11-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性显示装置的制造方法及制造装置、基板分离方法 |
| KR20210019633A (ko) * | 2019-08-12 | 2021-02-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
| CN111081743B (zh) * | 2019-12-11 | 2022-06-07 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板的制造方法及显示面板 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103980712A (zh) | 2013-11-18 | 2014-08-13 | 长兴化学工业股份有限公司 | 有机无机复合树脂和含该树脂的涂料组合物及其应用 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI344706B (en) | 2003-06-04 | 2011-07-01 | Myung Cheol Yoo | Method of fabricating vertical structure compound semiconductor devices |
| US8216876B2 (en) | 2008-02-20 | 2012-07-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing flexible semiconductor substrate |
| KR101500684B1 (ko) * | 2008-04-17 | 2015-03-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 캐리어 기판 및 이를 이용한 가요성 표시 장치의 제조 방법 |
| KR101039988B1 (ko) | 2010-03-09 | 2011-06-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 그 제조방법 |
| KR101262464B1 (ko) | 2010-11-24 | 2013-05-08 | 주식회사 포스코 | 레이저를 이용한 플렉서블 전자소자의 제조방법 |
| JP5653876B2 (ja) | 2011-09-30 | 2015-01-14 | 古河電気工業株式会社 | レーザー吸収層付き銅箔および該銅箔を用いた銅張り積層板及びプリント配線板 |
| KR102009727B1 (ko) * | 2012-11-26 | 2019-10-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치, 표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치를 제조하기 위한 캐리어 기판 |
-
2015
- 2015-03-31 KR KR1020150045316A patent/KR102295476B1/ko active IP Right Grant
-
2016
- 2016-01-28 US US15/008,492 patent/US9685640B2/en active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103980712A (zh) | 2013-11-18 | 2014-08-13 | 长兴化学工业股份有限公司 | 有机无机复合树脂和含该树脂的涂料组合物及其应用 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230072202A (ko) | 2021-11-17 | 2023-05-24 | 동우 화인켐 주식회사 | 수지 필름 형성용 캐리어 기판, 이를 이용한 수지 필름 제조 방법 및 이를 이용한 전기 디바이스의 제조 방법 |
| KR20230086902A (ko) | 2021-12-09 | 2023-06-16 | 동우 화인켐 주식회사 | 전기 디바이스의 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20160117800A (ko) | 2016-10-11 |
| US20160293900A1 (en) | 2016-10-06 |
| US9685640B2 (en) | 2017-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102295476B1 (ko) | 표시 기판의 제조 방법 | |
| JP6443350B2 (ja) | ガラス積層体 | |
| JP5796449B2 (ja) | 電子デバイスの製造方法、樹脂層付きキャリア基板の製造方法 | |
| WO2016050017A1 (zh) | 柔性显示基板的制作方法及柔性显示基板母板 | |
| US20120235315A1 (en) | Method for fabricating a flexible device | |
| US9118037B2 (en) | Method of manufacturing flexible substrate and method of manufacturing display device using the same | |
| KR101529778B1 (ko) | 인쇄물 및 인쇄물의 제조방법 | |
| US10333066B2 (en) | Pixel definition layer and manufacturing method thereof, display substrate and display device | |
| US20190011831A1 (en) | Method for Manufacturing Display Substrate | |
| US10151973B2 (en) | Imprint lithography method, method for manufacturing master template using the method and master template manufactured by the method | |
| US9989845B2 (en) | Imprint lithography method, method for manufacturing master template using the method and master template manufactured by the method | |
| US20160288373A1 (en) | Imprint lithography method, method for manufacturing master template using the method, and master template manufactured by the method | |
| US10361402B2 (en) | Porous substrate and fabricating method thereof, and a fabricating method for thin film transistor | |
| TW201806761A (zh) | 玻璃積層體及其製造方法 | |
| US20120013042A1 (en) | Imprint template and pattern forming method | |
| TWI235867B (en) | Manufacturing method of fine structure object, optical device, integrated circuit and electronic machine | |
| JP2018516998A5 (ko) | ||
| JP2011258736A (ja) | インプリント方法 | |
| JP2016035977A (ja) | インプリント用モールドとインプリント方法およびワイヤーグリッド偏光子とその製造方法 | |
| KR102352849B1 (ko) | 플렉서블 표시장치의 제조 방법 및 플렉서블 표시장치 | |
| WO2015016113A1 (ja) | 電子デバイスの製造方法 | |
| TWI510149B (zh) | 可撓性顯示裝置的製造方法 | |
| KR20080020057A (ko) | 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법 | |
| KR102104358B1 (ko) | 박막 트랜지스터와 그 제조방법 및 표시장치 | |
| KR102263627B1 (ko) | 증착용 마스크 및 이의 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |