KR102276005B1 - Method and apparatus for treating substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 방법을 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 기판 처리 방법은 기판을 회전시키는 단계와; 상기 기판의 상면으로 공정 유체를 공급하여 액막을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 기판이 회전되는 동안에 상기 기판 상에 상기 액막의 두께는 설정두께로 조절된다.The present invention provides a method of processing a substrate. In an embodiment, a method for processing a substrate includes rotating a substrate; and supplying a process fluid to the upper surface of the substrate to form a liquid film, wherein a thickness of the liquid film on the substrate is adjusted to a set thickness while the substrate is rotated.

Description

기판 처리 방법 및 기판 처리 장치{METHOD AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}Substrate processing method and substrate processing apparatus {METHOD AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}

본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method.

반도체 장치나 액정 표시 장치 등의 제조 공정에서는, 실리콘 질화막과 실리콘 산화막이 형성된 기판의 표면 전면(front surface)에 식각액으로서의 고온의 인산 수용액을 공급하여, 실리콘 질화막을 선택적으로 제거하는 습식 식각 처리가 행해진다.In the manufacturing process of a semiconductor device or a liquid crystal display device, a wet etching process in which a silicon nitride film is selectively removed by supplying a high temperature aqueous solution of phosphoric acid as an etchant to the front surface of a substrate on which a silicon nitride film and a silicon oxide film are formed. All.

인산 수용액은 고온으로 제공될수록 식각 속도가 높아진다. 그러나 175℃ 이상으로 가열된 인산은 공급 배관에 문제를 일으킨다.As the phosphoric acid aqueous solution is provided at a higher temperature, the etching rate increases. However, phosphoric acid heated above 175°C causes problems in the supply piping.

본 발명은 기판 처리 효율을 높일 수 있는 처리 방법과 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a processing method and apparatus capable of increasing substrate processing efficiency.

또한, 본 발명은, 식각 속도 높은 기판 처리 방법과 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method and apparatus for processing a substrate having a high etch rate.

또한, 본 발명은, 공정 유체의 유량을 절감할 수 있는 기판 처리 방법과 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing method and apparatus capable of reducing the flow rate of a process fluid.

본 발명은 기판을 처리하는 방법을 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 기판 처리 방법은 기판을 회전시키는 단계와; 상기 기판의 상면으로 공정 유체를 공급하여 액막을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 기판이 회전되는 동안에 상기 기판 상에 상기 액막의 두께는 설정두께로 조절된다.The present invention provides a method of processing a substrate. In an embodiment, a method for processing a substrate includes rotating a substrate; and supplying a process fluid to the upper surface of the substrate to form a liquid film, wherein a thickness of the liquid film on the substrate is adjusted to a set thickness while the substrate is rotated.

일 실시 예에 있어서, 상기 설정두께는 2mm이하일 수 있다.In one embodiment, the set thickness may be less than 2mm.

일 실시 예에 있어서, 상기 설정두께의 조절은 상기 기판의 회전 속도를 조절하여 이루어질 수 있다.In one embodiment, the adjustment of the set thickness may be made by adjusting the rotation speed of the substrate.

일 실시 예에 있어서, 상기 기판의 회전 속도는 30rpm이상 200rpm이하일 수 있다.In an embodiment, the rotation speed of the substrate may be 30 rpm or more and 200 rpm or less.

일 실시 예에 있어서, 상기 설정두께의 조절은 상기 기판으로 공급되는 공정 유체의 단위 시간당 토출량을 조절하여 이루어질 수 있다.일 실시 예에 있어서, 상기 공정 유체의 단위 시간당 토출량은 100cc/min 이상 500cc/min 이하일 수 있다.In an embodiment, the adjustment of the set thickness may be performed by adjusting the discharge amount per unit time of the process fluid supplied to the substrate. In an embodiment, the discharge amount per unit time of the process fluid is 100 cc/min or more and 500 cc/min. min or less.

일 실시 예에 있어서, 상기 액막 형성 단계는 노즐이 상기 기판의 중심에서 소정거리 이격된 위치에서부터 기판의 에지 사이를 왕복하며 공정 유체를 토출하는 것일 수 있다.In an embodiment, the forming of the liquid film may include discharging the process fluid while a nozzle reciprocates between edges of the substrate from a position spaced apart from the center of the substrate by a predetermined distance.

일 실시 예에 있어서, 상기 액막 형성 단계는 노즐이 상기 기판의 중심에서 소정거리 이격된 위치에서부터 기판의 에지에서 소정거리 이격된 위치 사이를 왕복하며 공정 유체를 토출하는 것일 수 있다.In an embodiment, the forming of the liquid film may include discharging the process fluid while a nozzle reciprocates from a position spaced apart from the center of the substrate by a predetermined distance to a position spaced apart from the edge of the substrate by a predetermined distance.

일 실시 예에 있어서, 상기 기판은 300mm 이상의 구경이고, 상기 노즐의 왕복 이동 구간은, 상기 기판의 중심에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치에서부터 상기 기판의 에지에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치의 구간일 수 있다.In one embodiment, the substrate has an aperture of 300 mm or more, and the reciprocating movement section of the nozzle is a position spaced apart from the center of the substrate by 20 mm or more and 70 mm apart from the edge of the substrate by 20 mm or more and 70 mm It may be a section. .

일 실시 예에 있어서, 상기 공정 유체는 제1 온도로 가열되어 공급될 수 있다.In an embodiment, the process fluid may be heated to a first temperature and supplied.

일 실시 예에 있어서, 상기 제1 온도는 150℃ 이상 175℃ 이하일 수 있다.In an embodiment, the first temperature may be 150°C or higher and 175°C or lower.

일 실시 예에 있어서, 상기 액막은 상기 기판 아래에 제공되는 가열 유닛에 의해 전부 또는 일부 영역이 제2 온도로 가열될 수 있다.In an embodiment, all or a portion of the liquid film may be heated to a second temperature by a heating unit provided under the substrate.

일 실시 예에 있어서, 상기 제2 온도는 175℃ 이상 300℃ 이하일 수 있다.In an embodiment, the second temperature may be 175°C or higher and 300°C or lower.

일 실시 예에 있어서, 상기 공정 유체는 인산일 수 있다.In one embodiment, the process fluid may be phosphoric acid.

또한, 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 기판 처리 장치는 처리 공간이 형성된 처리 용기와; 상기 처리 공간에 위치되고 기판을 지지하고 회전시키는 기판 지지 유닛과; 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판에 공정 유체를 공급하는 공정 유체 공급 유닛과; 제어기를 포함하되, 상기 제어기는, 상기 기판 지지 유닛과 상기 공정 유체 공급 유닛을 제어하여 상기 기판이 회전되는 동안에 상기 기판 상에 상기 액막의 두께는 설정두께로 조절하도록 제어한다.The present invention also provides an apparatus for processing a substrate. In an embodiment, a substrate processing apparatus includes: a processing vessel having a processing space formed therein; a substrate support unit positioned in the processing space to support and rotate a substrate; a process fluid supply unit supplying a process fluid to the substrate supported by the substrate support unit; a controller, wherein the controller controls the substrate support unit and the process fluid supply unit to adjust the thickness of the liquid film on the substrate to a set thickness while the substrate is rotated.

일 실시 예에 있어서, 상기 설정두께의 조절은 상기 기판으로 공급되는 공정 유체의 단위 시간당 토출량 또는 상기 기판의 회전 속도를 조절하여 이루어질 수 있다.In an embodiment, the adjustment of the set thickness may be performed by adjusting the discharge amount per unit time of the process fluid supplied to the substrate or the rotation speed of the substrate.

일 실시 예에 있어서, 상기 공정 유체 공급 유닛은, 상기 공정 유체를 기판 표면으로 토출하는 노즐과; 상기 노즐이 처리 용기의 내측과 외측 사이를 이동 가능하도록 제공하는 노즐 이동 부재를 포함하고, 상기 제어기는, 상기 노즐이 상기 기판의 중심에서 소정거리 이격된 위치에서부터 에지 사이를 왕복하며 공정 유체를 공급하도록 상기 노즐 이동 부재를 제어할 수 있다.In an embodiment, the process fluid supply unit includes: a nozzle for discharging the process fluid to a surface of a substrate; and a nozzle moving member for providing the nozzle to move between the inside and the outside of the processing vessel, wherein the controller supplies the process fluid while the nozzle reciprocates between edges from a position spaced apart from the center of the substrate by a predetermined distance. The nozzle moving member may be controlled to do so.

일 실시 예에 있어서, 상기 제어기는, 상기 노즐이 상기 기판의 중심에서 소정거리 이격된 위치에서부터 기판의 에지 사이를 왕복하며 공정 유체를 공급하도록 상기 노즐 이동 부재를 제어할 수 있다.In an embodiment, the controller may control the nozzle moving member to supply the process fluid while the nozzle reciprocates between edges of the substrate from a position spaced apart from the center of the substrate by a predetermined distance.

일 실시 예에 있어서, 상기 기판은 300mm 이상의 구경이고, 상기 노즐의 왕복 이동 구간은, 상기 기판의 중심에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치에서부터 상기 기판의 에지에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치의 구간일 수 있다.In one embodiment, the substrate has an aperture of 300 mm or more, and the reciprocating movement section of the nozzle is a position spaced apart from the center of the substrate by 20 mm or more and 70 mm apart from the edge of the substrate by 20 mm or more and 70 mm It may be a section. .

일 실시 예에 있어서, 상기 공정 유체의 단위 시간당 토출량은 100cc/min 이상 500cc/min 이하일 수 있다.In an embodiment, the discharge amount per unit time of the process fluid may be 100 cc/min or more and 500 cc/min or less.

일 실시 예에 있어서, 상기 기판 지지 유닛에 의한 기판의 회전 속도는 30rpm이상 200rpm이하일 수 있다.In an embodiment, the rotation speed of the substrate by the substrate support unit may be 30 rpm or more and 200 rpm or less.

일 실시 예에 있어서, 상기 기판 지지 유닛 내에 제공되어 기판을 가열하는 가열 유닛을 더 포함하고, 상기 가열 유닛은 상기 액막의 전부 또는 일부 영역을 175℃ 이상 200℃ 이하로 가열할 수 있다.In an embodiment, the apparatus may further include a heating unit provided in the substrate support unit to heat the substrate, wherein the heating unit may heat all or a portion of the liquid film to 175°C or more and 200°C or less.

일 실시 예에 있어서, 상기 노즐로 토출되는 공정 유체의 온도는 150℃ 이상 175℃ 이하일 수 있다.In one embodiment, the temperature of the process fluid discharged to the nozzle may be 150 °C or more and 175 °C or less.

일 실시 예에 있어서, 공정 유체는 인산일 수 있다.In one embodiment, the process fluid may be phosphoric acid.

본 발명의 일 실시 예에 의하면 기판 처리 효율을 높일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to increase the substrate processing efficiency.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 공정 유체의 유량을 절감할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, there is an effect that can reduce the flow rate of the process fluid.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 식각 속도가 상승되는 효과가 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, there is an effect of increasing the etching rate.

도 1은 본 발명의 일 예에 따른 기판 처리 장치가 제공된 기판 처리 설비의 일 예를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 3은 도1의 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 4는 도 2의 기판 지지 유닛과 가열 유닛의 일 실시 예를 보여주는 단면도이다.
도 5는 기판에 공정 유체를 공급하여 기판에 형성된 액막을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 6은 도 5의 I-I'의 단면도와 노즐의 이동을 도시한 도면이다.
도 7은 공정 유체가 이동하며 액막을 형성하는 경로를 나타낸 도면이다.
도 8은 영역별 온도 프로파일을 개략적으로 도시한 그래프이다.1 is a plan view schematically illustrating an example of a substrate processing facility provided with a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view of the substrate processing apparatus of FIG. 1 .
3 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus of FIG. 1 .
4 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of the substrate support unit and the heating unit of FIG. 2 .
5 is a diagram schematically illustrating a liquid film formed on a substrate by supplying a process fluid to the substrate.
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line I-I' of FIG. 5 and the movement of the nozzle.
7 is a diagram illustrating a path through which a process fluid moves and forms a liquid film.
8 is a graph schematically illustrating a temperature profile for each region.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Accordingly, the shapes of elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1은 본 발명의 기판 처리 설비(1)를 개략적으로 나타낸 평면도이다. 1 is a plan view schematically showing a substrate processing facility 1 of the present invention.

도 1을 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스 모듈(1000)과 공정 처리 모듈(2000)을 포함한다. 인덱스 모듈(1000)은 로드 포트(1200) 및 이송 프레임(1400)을 포함한다. 로드 포트(1200), 이송 프레임(1400), 그리고 공정 처리 모듈(2000)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드 포트(1200), 이송 프레임(1400), 그리고 공정 처리 모듈(2000)이 배열된 방향을 제1 방향(12)이라 한다. 그리고 상부에서 바라볼 때 제1 방향(12)과 수직한 방향을 제2 방향(14)이라 하고, 제1 방향(12)과 제2 방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3 방향(16)이라 한다.Referring to FIG. 1 , a substrate processing facility 1 includes an index module 1000 and a process processing module 2000 . The index module 1000 includes a load port 1200 and a transport frame 1400 . The load port 1200 , the transfer frame 1400 , and the process processing module 2000 are sequentially arranged in a line. Hereinafter, a direction in which the load port 1200 , the transfer frame 1400 , and the process processing module 2000 are arranged is referred to as a first direction 12 . And when viewed from the top, a direction perpendicular to the first direction 12 is referred to as a second direction 14 , and a direction perpendicular to a plane including the first direction 12 and the second direction 14 is referred to as a third direction. It is called (16).

로드 포트(1200)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(1300)가 안착된다. 로드 포트(1200)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2 방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 도 1에서는 네 개의 로드 포트(1200)가 제공된 것으로 도시하였다. 그러나 로드 포트(1200)의 개수는 공정 처리 모듈(2000)의 공정효율 및 풋 프린트 등의 조건에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(1300)에는 기판(W)의 가장자리를 지지하도록 제공된 슬롯(미도시)이 형성된다. 슬롯은 제3 방향(16)으로 복수 개가 제공된다. 기판(W)은 제3 방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 캐리어(1300)내에 위치된다. 캐리어(1300)로는 전면 개방 일체형 포드(Front Opening Unified Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.The carrier 1300 in which the substrate W is accommodated is seated on the load port 1200 . A plurality of load ports 1200 are provided and they are arranged in a line along the second direction 14 . In FIG. 1, it is shown that four load ports 1200 are provided. However, the number of load ports 1200 may increase or decrease according to conditions such as process efficiency and footprint of the process processing module 2000 . A slot (not shown) provided to support the edge of the substrate W is formed in the carrier 1300 . A plurality of slots are provided in the third direction 16 . The substrates W are positioned in the carrier 1300 to be stacked apart from each other along the third direction 16 . As the carrier 1300 , a Front Opening Unified Pod (FOUP) may be used.

공정 처리 모듈(2000)은 버퍼 유닛(2200), 이송 챔버(2400), 그리고 공정 챔버(2600)를 포함한다. 이송 챔버(2400)는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 제2 방향(14)를 따라 이송 챔버(2400)의 일측 및 타측에는 각각 공정 챔버들(2600)이 배치된다. 이송 챔버(2400)의 일측에 위치한 공정 챔버들(2600)과 이송 챔버(2400)의 타측에 위치한 공정 챔버들(2600)은 이송 챔버(2400)를 기준으로 서로 대칭이 되도록 제공된다. 공정 챔버(2600)들 중 일부는 이송 챔버(2400)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 챔버(2600)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송 챔버(2400)의 일측에는 공정 챔버(2600)들이 A X B(A와 B는 각각 1이상의 자연수)의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1 방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(2600)의 수이고, B는 제3 방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(2600)의 수이다. 이송 챔버(2400)의 일측에 공정 챔버(2600)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 챔버(2600)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 챔버(2600)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정 챔버(2600)는 이송 챔버(2400)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 상술한 바와 달리, 공정 챔버(2600)는 이송 챔버(2400)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.The process module 2000 includes a buffer unit 2200 , a transfer chamber 2400 , and a process chamber 2600 . The transfer chamber 2400 is disposed in a longitudinal direction parallel to the first direction 12 . Process chambers 2600 are respectively disposed on one side and the other side of the transfer chamber 2400 in the second direction 14 . The process chambers 2600 located at one side of the transfer chamber 2400 and the process chambers 2600 located at the other side of the transfer chamber 2400 are provided to be symmetrical with respect to the transfer chamber 2400 . Some of the process chambers 2600 are disposed along the longitudinal direction of the transfer chamber 2400 . Also, some of the process chambers 2600 are disposed to be stacked on each other. That is, on one side of the transfer chamber 2400 , the process chambers 2600 may be arranged in an arrangement of A X B (each of A and B being a natural number equal to or greater than 1). Here, A is the number of process chambers 2600 provided in a row along the first direction 12 , and B is the number of process chambers 2600 provided in a row along the third direction 16 . When four or six process chambers 2600 are provided on one side of the transfer chamber 2400 , the process chambers 2600 may be arranged in an arrangement of 2 X 2 or 3 X 2 . The number of process chambers 2600 may increase or decrease. Unlike the above, the process chamber 2600 may be provided only on one side of the transfer chamber 2400 . Also, unlike the above, the process chamber 2600 may be provided on one side and both sides of the transfer chamber 2400 as a single layer.

버퍼 유닛(2200)은 이송 프레임(1400)과 이송 챔버(2400) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(2200)은 이송 챔버(2400)와 이송 프레임(1400) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 유닛(2200)은 그 내부에 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공되며, 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3 방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개 제공된다. 버퍼 유닛(2200)에서 이송 프레임(1400)과 마주보는 면과 이송 챔버(2400)와 마주보는 면 각각이 개방된다. The buffer unit 2200 is disposed between the transfer frame 1400 and the transfer chamber 2400 . The buffer unit 2200 provides a space in which the substrate W stays before the substrate W is transferred between the transfer chamber 2400 and the transfer frame 1400 . The buffer unit 2200 is provided with a slot (not shown) in which the substrate W is placed, and a plurality of slots (not shown) are provided to be spaced apart from each other in the third direction 16 . In the buffer unit 2200 , a surface facing the transfer frame 1400 and a surface facing the transfer chamber 2400 are respectively opened.

이송 프레임(1400)은 로드 포트(1200)에 안착된 캐리어(1300)와 버퍼 유닛(2200) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 프레임(1400)에는 인덱스 레일(1420)과 인덱스 로봇(1440)이 제공된다. 인덱스 레일(1420)은 그 길이 방향이 제2 방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스 로봇(1440)은 인덱스 레일(1420) 상에 설치되며, 인덱스 레일(1420)을 따라 제2 방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스 로봇(1440)은 베이스(1441), 몸체(1442), 그리고 인덱스 아암(1443)을 가진다. 베이스(1441)는 인덱스 레일(1420)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(1442)는 베이스(1441)에 결합된다. 몸체(1442)는 베이스(1441) 상에서 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(1442)는 베이스(1441) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스 아암(1443)은 몸체(1442)에 결합되고, 몸체(1442)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스 아암(1443)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스 아암(1443)들은 제3 방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스 아암(1443)들 중 일부는 공정 처리 모듈(2000)에서 캐리어(1300)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 다른 일부는 캐리어(1300)에서 공정 처리 모듈(2000)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다.The transfer frame 1400 transfers the substrate W between the carrier 1300 seated on the load port 1200 and the buffer unit 2200 . The transfer frame 1400 is provided with an index rail 1420 and an index robot 1440 . The index rail 1420 is provided in a longitudinal direction parallel to the second direction 14 . The index robot 1440 is installed on the index rail 1420 and linearly moves in the second direction 14 along the index rail 1420 . The index robot 1440 has a base 1441 , a body 1442 , and an index arm 1443 . The base 1441 is installed to be movable along the index rail 1420 . The body 1442 is coupled to the base 1441 . The body 1442 is provided to be movable along the third direction 16 on the base 1441 . In addition, the body 1442 is provided to be rotatable on the base 1441 . The index arm 1443 is coupled to the body 1442 and is provided to be movable forward and backward with respect to the body 1442 . A plurality of index arms 1443 are provided to be individually driven. The index arms 1443 are spaced apart from each other and stacked in the third direction 16 . Some of the index arms 1443 are used when transferring the substrate W from the process processing module 2000 to the carrier 1300 , and other parts of the index arms 1443 are used for transferring the substrate W from the carrier 1300 to the process processing module 2000 . It can be used to return

이송 챔버(2400)는 버퍼 유닛(2200)과 공정 챔버(2600) 간에, 그리고 공정 챔버(2600)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 챔버(2400)에는 가이드 레일(2420)과 메인 로봇(2440)이 제공된다. 가이드 레일(2420)은 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인 로봇(2440)은 가이드 레일(2420) 상에 설치되고, 가이드 레일(2420) 상에서 제1 방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인 로봇(2440)은 베이스(2441), 몸체(2442), 그리고 메인 아암(2443)을 가진다. 베이스(2441)는 가이드 레일(2420)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(2442)는 베이스(2441)에 결합된다. 몸체(2442)는 베이스(2441) 상에서 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(2442)는 베이스(2441) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인 아암(2443)은 몸체(2442)에 결합되고, 이는 몸체(2442)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인 아암(2443)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인 아암(2443)들은 제3 방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 버퍼 유닛(2200)에서 공정 챔버(2600)로 기판(W)을 반송할 때 사용되는 메인 아암(2443)과 공정 챔버(2600)에서 버퍼 유닛(2200)으로 기판(W)을 반송할 때 사용되는 메인 아암(2443)은 서로 상이할 수 있다. The transfer chamber 2400 transfers the substrate W between the buffer unit 2200 and the process chamber 2600 and between the process chambers 2600 . The transfer chamber 2400 is provided with a guide rail 2420 and a main robot 2440 . The guide rail 2420 is disposed so that its longitudinal direction is parallel to the first direction 12 . The main robot 2440 is installed on the guide rail 2420 and linearly moved along the first direction 12 on the guide rail 2420 . The main robot 2440 has a base 2441 , a body 2442 , and a main arm 2443 . The base 2441 is installed to be movable along the guide rail 2420 . The body 2442 is coupled to the base 2441 . The body 2442 is provided to be movable along the third direction 16 on the base 2441 . In addition, the body 2442 is provided to be rotatable on the base 2441 . A main arm 2443 is coupled to the body 2442 , which is provided to be movable forward and backward relative to the body 2442 . A plurality of main arms 2443 are provided to be individually driven. The main arms 2443 are disposed to be stacked in a state of being spaced apart from each other in the third direction 16 . The main arm 2443 used when transferring the substrate W from the buffer unit 2200 to the process chamber 2600 and the substrate W used when transferring the substrate W from the process chamber 2600 to the buffer unit 2200 The main arm 2443 may be different from each other.

공정 챔버(2600) 내에는 기판(W)에 대해 액 처리 공정을 수행하는 기판 처리 장치(10)가 제공된다. 각각의 공정 챔버(2600) 내에 제공된 기판 처리 장치(10)는 수행하는 액 처리 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 각각의 공정 챔버(2600) 내의 기판 처리 장치(10)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정 챔버(2600)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정 챔버(2600)에 제공된 기판 처리 장치(10)들은 서로 동일한 구조를 가지고, 상이한 그룹에 속하는 공정 챔버(2600)에 제공된 기판 처리 장치(10)들은 서로 상이한 구조를 가질 수 있다. 예컨대, 공정 챔버(2600)가 2개의 그룹으로 나누어지는 경우, 이송 챔버(2400)의 일측에는 제1 그룹의 공정 챔버들(2600)이 제공되고, 이송 챔버(2400)의 타측에는 제2 그룹의 공정 챔버들(2600)이 제공될 수 있다. 선택적으로 이송 챔버(2400)의 일측 및 타측 각각에서 하층에는 제1 그룹의 공정 챔버(2600)들이 제공되고, 상층에는 제2 그룹의 공정 챔버(2600)들이 제공될 수 있다. 제1 그룹의 공정 챔버(2600)와 제2 그룹의 공정 챔버(2600)는 각각 사용되는 케미컬의 종류나, 액 처리 방식의 종류에 따라 구분될 수 있다. A substrate processing apparatus 10 for performing a liquid processing process on the substrate W is provided in the process chamber 2600 . The substrate processing apparatus 10 provided in each of the process chambers 2600 may have a different structure according to the type of the liquid processing process performed. Alternatively, the substrate processing apparatus 10 in each process chamber 2600 may have the same structure. Optionally, the process chambers 2600 are divided into a plurality of groups, and the substrate processing apparatuses 10 provided in the process chamber 2600 belonging to the same group have the same structure and are provided in the process chamber 2600 belonging to different groups. The substrate processing apparatuses 10 may have different structures. For example, when the process chamber 2600 is divided into two groups, the first group of process chambers 2600 are provided on one side of the transfer chamber 2400 , and the second group of process chambers 2600 are provided on the other side of the transfer chamber 2400 . Process chambers 2600 may be provided. Optionally, a first group of process chambers 2600 may be provided on a lower layer in each of one side and the other side of the transfer chamber 2400 , and a second group of process chambers 2600 may be provided on an upper layer. The first group of process chambers 2600 and the second group of process chambers 2600 may be classified according to the type of chemical used or the type of liquid treatment method, respectively.

아래의 실시예에서는 고온의 인산을 사용하여 기판(W)의 질화막을 제거(strip)하는 장치를 예로 들어 설명한다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않으며, 식각 공정 등과 같이 기판(W)을 회전시키면서 공정을 수행하는 다양한 종류의 장치에 모두 적용될 수 있다.In the following embodiment, an apparatus for stripping the nitride film of the substrate W using high-temperature phosphoric acid will be described as an example. However, the technical spirit of the present invention is not limited thereto, and may be applied to various types of devices that perform a process while rotating the substrate W, such as an etching process.

도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이고, 도 3은 도 1의 기판 처리 장치의 단면도이다. 도 2와 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 챔버(800), 처리 용기(100), 기판 지지 유닛(200), 가열 유닛(280) 공정 유체 공급 유닛(300), 공정 배기부(500) 그리고 승강 유닛(600)을 포함한다. FIG. 2 is a plan view of the substrate processing apparatus of FIG. 1 , and FIG. 3 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus of FIG. 1 . 2 and 3 , the substrate processing apparatus 10 includes a chamber 800 , a processing vessel 100 , a substrate support unit 200 , a heating unit 280 , a process fluid supply unit 300 , and a process exhaust unit. 500 and a lifting unit 600 .

챔버(800)는 밀폐된 내부 공간을 제공한다. The chamber 800 provides an enclosed interior space.

챔버(800)의 상부에는 기류 공급 유닛(810)이 설치된다. 기류 공급 유닛(810)은 챔버(800) 내부에 하강 기류를 형성한다. 기류 공급 유닛(810)은 고습도 외기를 필터링하여 챔버 내부로 공급한다. 고습도 외기는 기류 공급 유닛(810)을 통과하여 챔버 내부로 공급되며 하강 기류를 형성한다. 하강 기류는 기판(W)의 상부에 균일한 기류를 제공하며, 처리 유체에 의해 기판(W) 표면이 처리되는 과정에서 발생되는 오염 물질들을 공기와 함께 처리 용기(100)의 회수통들(110,120,130)을 통해 공정 배기부(500)로 배출시킨다.An airflow supply unit 810 is installed at an upper portion of the chamber 800 . The airflow supply unit 810 forms a downdraft in the chamber 800 . The airflow supply unit 810 filters the high-humidity outside air and supplies it to the inside of the chamber. The high-humidity outdoor air passes through the airflow supply unit 810 and is supplied into the chamber to form a descending airflow. The descending airflow provides a uniform airflow over the substrate W, and collects contaminants generated in the process of treating the surface of the substrate W by the processing fluid together with the air in the collecting troughs 110 , 120 , and 130 of the processing vessel 100 . ) through the process exhaust unit 500 .

챔버(800)는 수평 격벽(814)에 의해 공정 영역(816)과 유지보수 영역(818)으로 나뉜다. 공정 영역(816)에는 처리 용기(100)와 기판 지지 유닛(200)이 위치한다. 유지보수 영역(818)에는 처리 용기(100)와 연결되는 배출 라인(141,143,145), 배기 라인(510) 이외에도 승강 유닛(600)의 구동부과, 공정 유체 공급 유닛(300)과 연결되는 구동부, 공급 라인 등이 위치한다. 유지보수 영역(818)은 공정 영역(816)으로부터 격리된다.The chamber 800 is divided into a process area 816 and a maintenance area 818 by a horizontal bulkhead 814 . In the process region 816 , the processing vessel 100 and the substrate support unit 200 are positioned. In the maintenance area 818 , in addition to the discharge lines 141 , 143 , and 145 connected to the processing vessel 100 , and the exhaust line 510 , a driving unit of the elevating unit 600 , a driving unit connected to the process fluid supply unit 300 , and a supply line etc are located. The maintenance area 818 is isolated from the process area 816 .

처리 용기(100)는 상부가 개방된 원통 형상을 갖고, 기판(W)을 처리하기 위한 공정 공간을 제공한다. 처리 용기(100)의 개방된 상면은 기판(W)의 반출 및 반입 통로로 제공된다. 공정 공간에는 기판 지지 유닛(200)이 위치된다. 기판 지지 유닛(200)은 공정 진행시 기판(W)을 지지한 상태에서 기판(W)을 회전시킨다. The processing vessel 100 has a cylindrical shape with an open top, and provides a process space for processing the substrate W. Referring to FIG. The open upper surface of the processing container 100 is provided as a passage for carrying out and carrying in the substrate W. Referring to FIG. The substrate support unit 200 is positioned in the process space. The substrate support unit 200 rotates the substrate W while supporting the substrate W during the process.

처리 용기(100)는 강제 배기가 이루어지도록 하단부에 배기 덕트(190)가 연결된 하부공간을 제공한다. 처리 용기(100)에는 회전되는 기판(W)상에서 비산되는 공정 유체와 기체를 유입 및 흡입하는 제1 내지 제3 회수통(110, 120, 130)이 다단으로 배치된다. The processing vessel 100 provides a lower space to which the exhaust duct 190 is connected at the lower end so that forced exhaust is performed. In the processing vessel 100 , the first to third recovery tubes 110 , 120 , and 130 for introducing and sucking the process fluid and gas scattered on the rotating substrate W are arranged in multiple stages.

환형의 제1 내지 제3 회수통(110, 120, 130)은 하나의 공통된 환형 공간과 통하는 배기구(H)들을 갖는다. 구체적으로, 제1 내지 제3 회수통(110, 120, 130)은 각각 환형의 링 형상을 갖는 바닥면 및 바닥면으로부터 연장되어 원통 형상을 갖는 측벽을 포함한다. 제2 회수통(120)은 제1 회수통(110)를 둘러싸고, 제1 회수통(110)로부터 이격되어 위치한다. 제3 회수통(130)은 제2 회수통(120)을 둘러싸고, 제2 회수통(120)로부터 이격되어 위치한다.The annular first to third collection cylinders 110 , 120 , 130 have exhaust ports H communicating with one common annular space. Specifically, each of the first to third collection tubes 110 , 120 , and 130 includes a bottom surface having an annular ring shape and a side wall extending from the bottom surface having a cylindrical shape. The second collection tube 120 surrounds the first collection tube 110 and is positioned to be spaced apart from the first collection tube 110 . The third collection tube 130 surrounds the second collection tube 120 , and is positioned to be spaced apart from the second collection tube 120 .

제1 회수통(110)에 유입된 공정 유체는 제1 회수 라인(141)을 통해 외부로 배출된다. 제2 회수통(120)에 유입된 공정 유체는 제2 회수 라인(143)을 통해 외부로 배출된다. 제3 회수통(130)에 유입된 공정 유체는 제3 회수 라인(145)을 통해 외부로 배출된다. The process fluid introduced into the first recovery container 110 is discharged to the outside through the first recovery line 141 . The process fluid introduced into the second recovery container 120 is discharged to the outside through the second recovery line 143 . The process fluid introduced into the third recovery container 130 is discharged to the outside through the third recovery line 145 .

공정 유체 공급 유닛(300)은 기판(W) 표면을 식각하기 위한 고온의 케미칼을 토출한다. 일 예에 따른 식각 조성물이다.The process fluid supply unit 300 discharges high-temperature chemicals for etching the surface of the substrate W. An etching composition according to an example.

공정 유체 노즐 부재(310)는 노즐(311), 노즐 아암(313), 지지 로드(315), 노즐 구동기(317)를 포함한다. 노즐(311)은 공급부(320)를 통해 공정 유체를 공급받는다. 노즐(311)은 공정 유체를 기판(W) 표면으로 토출한다. 노즐 아암(313)은 일 방향으로 길이가 길게 제공되는 암으로, 선단에 노즐(311)이 장착된다. 노즐 아암(313)은 노즐(311)을 지지한다. 노즐 아암(313)의 후단에는 지지 로드(315)가 장착된다. 지지 로드(315)는 노즐 아암(313)의 하부에 위치한다. 지지 로드(315)는 노즐 아암(313)에 수직하게 배치된다. 노즐 구동기(317)는 지지 로드(315)의 하단에 제공된다. 노즐 구동기(317)는 지지 로드(315)의 길이 방향 축을 중심으로 지지 로드(315)를 회전시킨다. 지지 로드(315)의 회전으로 노즐 아암(313)과 노즐(311)이 지지 로드(315)를 축으로 스윙 이동한다. 노즐(311)은 처리 용기(100)의 외측과 내측 사이를 스윙 이동할 수 있다. 그리고, 노즐(311)은 기판(W)의 중심과 가장 자리영역 사이 구간을 스윙 이동하며 공정 유체를 토출할 수 있다.The process fluid nozzle member 310 includes a nozzle 311 , a nozzle arm 313 , a support rod 315 , and a nozzle driver 317 . The nozzle 311 receives the process fluid through the supply unit 320 . The nozzle 311 discharges the process fluid to the surface of the substrate W. The nozzle arm 313 is an arm provided with a long length in one direction, and the nozzle 311 is mounted at the tip. The nozzle arm 313 supports the nozzle 311 . A support rod 315 is mounted on the rear end of the nozzle arm 313 . The support rod 315 is located below the nozzle arm 313 . The support rod 315 is disposed perpendicular to the nozzle arm 313 . The nozzle driver 317 is provided at the lower end of the support rod 315 . The nozzle driver 317 rotates the support rod 315 about the longitudinal axis of the support rod 315 . The rotation of the support rod 315 causes the nozzle arm 313 and the nozzle 311 to swing about the support rod 315 as an axis. The nozzle 311 may swing between the outside and the inside of the processing vessel 100 . In addition, the nozzle 311 swings in a section between the center and the edge region of the substrate W to discharge the process fluid.

공정 배기부(500)는 처리 용기(100) 내부의 배기를 담당한다. 일 예로, 공정 배기부(500)는 공정시 제1 내지 제3 회수통(110, 120, 130)중 공정 유체를 회수하는 회수통에 배기압력(흡입압력)을 제공하기 위한 것이다. 공정 배기부(500)는 배기 덕트(190)와 연결되는 배기 라인(510), 댐퍼(520)를 포함한다. 배기 라인(510)은 배기펌프(미도시됨)로부터 배기압을 제공받으며 반도체 생산라인의 바닥 공간에 매설된 메인 배기 라인과 연결된다. The process exhaust unit 500 is responsible for exhausting the inside of the processing vessel 100 . As an example, the process exhaust unit 500 is for providing exhaust pressure (suction pressure) to the recovery cylinders for recovering the process fluid among the first to third recovery cylinders 110 , 120 , and 130 during the process. The process exhaust unit 500 includes an exhaust line 510 connected to the exhaust duct 190 and a damper 520 . The exhaust line 510 receives exhaust pressure from an exhaust pump (not shown) and is connected to the main exhaust line buried in the floor space of the semiconductor production line.

한편, 처리 용기(100)는 처리 용기(100)의 수직 위치를 변경시키는 승강 유닛(600)과 결합된다. 승강 유닛(600)은 처리 용기(100)를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 처리 용기(100)가 상하로 이동됨에 따라 기판 지지 유닛(200)에 대한 처리 용기(100)의 상대 높이가 변경된다. Meanwhile, the processing container 100 is coupled to the lifting unit 600 for changing the vertical position of the processing container 100 . The lifting unit 600 linearly moves the processing container 100 up and down. As the processing vessel 100 moves up and down, the relative height of the processing vessel 100 with respect to the substrate support unit 200 is changed.

승강 유닛(600)은 브라켓(612), 이동 축(614), 그리고 구동기(616)를 포함한다. 브라켓(612)은 처리 용기(100)의 외벽에 고정설치된다. 브라켓(612)에는 구동기(616)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동 축(614)이 고정결합된다. 기판(W)이 척 스테이지(210)에 로딩 또는 척 스테이지(210)로부터 언로딩될 때 척 스테이지(210)가 처리 용기(100)의 상부로 돌출되도록 처리 용기(100)는 하강한다. 또한, 공정이 진행시에는 기판(W)에 공급된 공정 유체의 종류에 따라 공정 유체가 기설정된 회수통들(110, 120, 130)로 유입될 수 있도록 처리 용기(100)의 높이가 조절된다. 처리 용기(100)와 기판(W) 간의 상대적인 수직 위치가 변경된다. 처리 용기(100)는 상기 각 회수 공간(RS1, RS2, RS3) 별로 회수되는 공정 유체와 오염 가스의 종류를 다르게 할 수 있다. 일 실시예에 의하면, 승강 유닛(600)은 처리 용기(100)를 수직 이동시켜 처리 용기(100)와 기판 지지 유닛(200) 간의 상대적인 수직 위치를 변경시킨다.The lifting unit 600 includes a bracket 612 , a moving shaft 614 , and a driver 616 . The bracket 612 is fixedly installed on the outer wall of the processing vessel 100 . A moving shaft 614 that is moved in the vertical direction by the actuator 616 is fixedly coupled to the bracket 612 . When the substrate W is loaded into or unloaded from the chuck stage 210 , the processing container 100 descends so that the chuck stage 210 protrudes above the processing container 100 . In addition, when the process is in progress, the height of the processing vessel 100 is adjusted so that the process fluid can be introduced into the predetermined collection troughs 110 , 120 , 130 according to the type of the process fluid supplied to the substrate W. . The relative vertical position between the processing vessel 100 and the substrate W is changed. The processing vessel 100 may have different types of process fluid and pollutant gas recovered for each recovery space RS1 , RS2 , and RS3 . According to an embodiment, the lifting unit 600 vertically moves the processing vessel 100 to change a relative vertical position between the processing vessel 100 and the substrate support unit 200 .

도 4는 도 2의 기판 지지 유닛과 가열 유닛의 일 실시예를 보여주는 단면도이다. 이하 도 2 내지 도 4를 참조하면, 기판 지지 유닛(200)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지하며, 공정이 진행되는 동안 구동부(240)에 의해 회전될 수 있다.4 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of the substrate support unit and the heating unit of FIG. 2 . 2 to 4 , the substrate support unit 200 supports the substrate W during the process, and may be rotated by the driving unit 240 during the process.

기판 지지 유닛(200)은 척 스테이지(210), 석영 윈도우(220), 회전부(230) 그리고 백노즐(240)을 포함한다.The substrate support unit 200 includes a chuck stage 210 , a quartz window 220 , a rotating unit 230 , and a back nozzle 240 .

척 스테이지(210)는 원형의 상부면을 가진다. 척 스테이지(210)는 회전부(230)에 결합되어 회전된다. 척 스테이지(210)의 가장자리에는 척킹 핀(212)들이 설치된다. 척킹 핀(212)들은 석영 윈도우(220)를 관통해서 석영 윈도우(220) 상측으로 돌출되도록 제공된다. 척킹 핀(212)들은 다수의 지지 핀(224)들에 의해 지지된 기판(W)이 정 위치에 놓이도록 기판(W)을 정렬한다. 공정 진행시 척킹 핀(212)들은 기판(W)의 측부와 접촉되어 기판(W)이 정 위치로부터 이탈되는 것을 방지한다.The chuck stage 210 has a circular top surface. The chuck stage 210 is rotated by being coupled to the rotating part 230 . Chucking pins 212 are installed at the edge of the chuck stage 210 . The chucking pins 212 are provided to protrude upward through the quartz window 220 through the quartz window 220 . The chucking pins 212 align the substrate W so that the substrate W supported by the plurality of support pins 224 is positioned. During the process, the chucking pins 212 come into contact with the side of the substrate W to prevent the substrate W from being separated from the original position.

회전부(230)는 중공형의 형상을 갖고, 척 스테이지(210)와 결합하여 척 스테이지(210)를 회전시킨다.The rotating part 230 has a hollow shape and is coupled to the chuck stage 210 to rotate the chuck stage 210 .

석영 윈도우(220)는 기판(W)과 척 스테이지(210) 상부에 위치한다. 석영 윈도우(220)는 가열 부재(250)를 보호하기 위해 제공된다. 석영 윈도우(220)는 투명하게 제공될 수 있다. 석영 윈도우(220)는 척 스테이지(210)와 함께 회전될 수 있다. 석영 윈도우(220)는 지지 핀(224)들을 포함한다. 지지 핀(224)들은 석영 윈도우(220)의 상부 면 가장자리부에 소정 간격 이격되어 배치된다. 지지 핀(224)은 석영 윈도우(220)로부터 상측으로 돌출되도록 제공된다. 지지 핀(224)들은 기판(W)의 하면을 지지하여 기판(W)이 석영 윈도우(220)로부터 상측 방향으로 이격된 상태에서 지지되도록 한다. The quartz window 220 is positioned on the substrate W and the chuck stage 210 . A quartz window 220 is provided to protect the heating element 250 . The quartz window 220 may be provided transparently. The quartz window 220 may be rotated together with the chuck stage 210 . The quartz window 220 includes support pins 224 . The support pins 224 are disposed to be spaced apart from each other by a predetermined distance on the edge of the upper surface of the quartz window 220 . The support pins 224 are provided to protrude upwardly from the quartz window 220 . The support pins 224 support the lower surface of the substrate W so that the substrate W is supported while being spaced apart from the quartz window 220 in the upper direction.

백노즐(240)는 기판(W)의 배면에 공정 유체를 분사하기 위해 제공된다. 백노즐(240)는 노즐 몸체(242) 및 공정 유체 분사부(244)를 포함한다. 공정 유체 분사부(244)는 척 스테이지(210)와 석영 윈도우(220)의 중앙 상부에 위치된다. 노즐 몸체(242)는 중공형의 회전부(230) 내에 관통 축설되며, 노즐 몸체(242)의 내부에는 공정 유체 이동 라인, 가스 공급 라인 및 퍼지 가스 공급 라인이 제공될 수 있다. 공정 유체 이동 라인은 기판(W) 배면의 처리를 위한 공정 유체를 공정 유체 분사부(244)에 공급하고, 가스 공급 라인은 기판(W)의 배면에 식각 균일도 조절을 위한 질소 가스를 공급하고, 퍼지 가스 공급 라인은 석영 윈도우(220)와 노즐 몸체(242) 사이로 공정 유체가 침투되는 것을 방지하도록 질소 퍼지가스를 공급한다.The back nozzle 240 is provided to inject the process fluid to the rear surface of the substrate W. The back nozzle 240 includes a nozzle body 242 and a process fluid ejection unit 244 . The process fluid ejection unit 244 is located on the central upper portion of the chuck stage 210 and the quartz window 220 . The nozzle body 242 is axially installed through the hollow rotating part 230 , and a process fluid moving line, a gas supply line, and a purge gas supply line may be provided inside the nozzle body 242 . The process fluid movement line supplies a process fluid for processing the rear surface of the substrate W to the process fluid ejection unit 244, and the gas supply line supplies nitrogen gas for etching uniformity control to the rear surface of the substrate W, The purge gas supply line supplies nitrogen purge gas to prevent the process fluid from penetrating between the quartz window 220 and the nozzle body 242 .

가열 유닛(280)은 기판 지지 유닛(200)의 내측에 설치된다. 가열 유닛(280)은 공정 진행 중 기판(W)을 가열한다. 가열 유닛(280)은 가열 부재(250), 반사 부재(260) 그리고 온도 제어부(270)를 포함한다. The heating unit 280 is installed inside the substrate support unit 200 . The heating unit 280 heats the substrate W during the process. The heating unit 280 includes a heating member 250 , a reflective member 260 , and a temperature controller 270 .

가열 부재(250)는 척 스테이지(210)의 상부에 설치된다. 가열 부재(250)는 서로 상이한 직경으로 제공된다. 가열 부재(250)는 복수개 제공된다. 가열 부재(250)는 링형상으로 제공될 수 있다. 가열 부재(250)는 IR lamp, UV lamp, LED, laser, heater 등 열을 전달할 수 있는 방법으로 선택된다. 일 예로 가열 부재(250)는 링 형상으로 제공되는 복수의 램프(252)들로 제공될 수 있다. 각 램프(252)에는 온도 제어부(270)가 구성되어 있어 각각 제어가 가능할 수 있다.The heating member 250 is installed on the chuck stage 210 . The heating elements 250 are provided with different diameters. A plurality of heating members 250 are provided. The heating member 250 may be provided in a ring shape. The heating member 250 is selected by a method capable of transferring heat, such as an IR lamp, a UV lamp, an LED, a laser, or a heater. For example, the heating member 250 may be provided with a plurality of lamps 252 provided in a ring shape. Each of the lamps 252 is configured with a temperature control unit 270, so that each can be controlled.

가열 부재(250)는 동심의 다수의 구역들로 세분될 수 있다. 각각의 구역에는 각각의 구역을 개별적으로 가열시킬 수 있는 램프(252)들이 제공된다. 램프(252)들은 척 스테이지(210)의 중심에 대해 상이한 반경 거리에서 동심적으로 배열되는 링 형상으로 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 6개의 램프(252)들이 도시되어 있지만, 이는 하나의 예에 불과하며 램프들의 수는 원하는 온도 제어된 정도에 의존하여 가감될 수 있다. 가열 부재(250)는 각각의 개별적인 구역의 온도를 제어함으로써, 공정 진행 동안 기판(W)의 반경에 따라 온도를 연속적으로 증가 또는 감소하게 제어할 수 있다. 이를 위해 각 램프(252)들의 온도를 개별적으로 체크하기 위한 온도 제어부(270)가 반사 부재(260)에 설치된다. 일 예로, 램프(252)들이 척 스테이지(210)와 함께 회전되는 구조에서는 가열 부재(250)로 전원을 공급하는 방식은 슬립링을 사용할 수 있다.The heating element 250 may be subdivided into a plurality of concentric zones. Each zone is provided with lamps 252 that can individually heat each zone. The ramps 252 may be provided in a ring shape concentrically arranged at different radial distances with respect to the center of the chuck stage 210 . Although six lamps 252 are shown in this embodiment, this is only an example, and the number of lamps may be increased or decreased depending on a desired temperature controlled degree. The heating member 250 may control the temperature of each individual zone to continuously increase or decrease the temperature according to the radius of the substrate W during the process. To this end, a temperature controller 270 for individually checking the temperature of each lamp 252 is installed on the reflective member 260 . For example, in a structure in which the lamps 252 are rotated together with the chuck stage 210 , a slip ring may be used to supply power to the heating member 250 .

반사 부재(260)는 가열 부재(250)와 척 스테이지(210) 사이에 제공된다. 반사 부재(260)는 하측 반사판(261), 내측 반사판(263), 메인 반사판(265) 그리고 외측 반사판(267)을 포함한다. 반사 부재(260)는 램프(252)들에서 발생되는 열을 상부 기판(W)으로 반사하여 전달한다. 반사 부재(260)는 회전부(230)의 중앙 공간에 관통하여 설치되는 노즐 몸체(242)에 지지될 수 있다. 반사 부재(260)는 내측단에 하측으로 연장되어 형성된다. 반사 부재(260)는 척 스테이지(210)와 함께 회전되지 않는 고정식으로 제공된다. The reflective member 260 is provided between the heating member 250 and the chuck stage 210 . The reflective member 260 includes a lower reflector 261 , an inner reflector 263 , a main reflector 265 , and an outer reflector 267 . The reflective member 260 reflects heat generated from the lamps 252 to the upper substrate W and transmits the reflected heat. The reflective member 260 may be supported by the nozzle body 242 installed through the central space of the rotating part 230 . The reflective member 260 is formed to extend downwardly at the inner end. The reflective member 260 is provided in a fixed manner that is not rotated together with the chuck stage 210 .

온도 제어부(270)들은 램프(252)들 각각의 온도를 측정하기 위해 반사 부재(260)의 일직선상에 일렬로 설치된다. 온도 제어부(270)는 지지판(272)과 온도 센서 소자(273)를 포함한다. 온도 제어부(270)는 반사 부재(260)에 박형의 온도 제어부(270)를 장착하여 측정 및 온도 제어를 할 수 있다. The temperature controllers 270 are installed in a straight line on the reflective member 260 to measure the temperature of each of the lamps 252 . The temperature controller 270 includes a support plate 272 and a temperature sensor element 273 . The temperature controller 270 may measure and control the temperature by mounting the thin temperature controller 270 on the reflective member 260 .

지지판(272)은 박형(silm) 형태로 고정 블록의 일측으로 연장되어 형성된다. 지지판(272)은 하측 반사판(261)의 상면으로 이격되어 배치되고, 하측 반사판(261)에는 지지판(272)과 대향하는 부분에 관통홀(269)이 형성된다. 바닥(261) 저면을 흐르는 쿨링 가스가 관통홀(269)을 통해 온도 제어부(270)를 냉각시킬 수 있다.The support plate 272 is formed to extend to one side of the fixing block in a thin shape (silm). The support plate 272 is disposed to be spaced apart from the upper surface of the lower reflector 261 , and a through hole 269 is formed in the lower reflector 261 at a portion facing the support plate 272 . The cooling gas flowing through the bottom surface of the floor 261 may cool the temperature controller 270 through the through hole 269 .

제어기(미도시)는 상술한 구성들의 동작을 제어한다.A controller (not shown) controls the operation of the above-described components.

도 5는 기판에 공정 유체를 공급하여 기판에 형성된 액막을 개략적으로 도시한 도면이고 도 6은 도 5의 I-I'의 단면도와 노즐의 이동을 도시한 도면이다. 도 7은 공정 유체가 이동하며 액막을 형성하는 경로를 나타낸 도면이다. 도 5, 도 6 및 도 7을 참조하여 설명한다.FIG. 5 is a diagram schematically illustrating a liquid film formed on a substrate by supplying a process fluid to the substrate, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line I-I' of FIG. 5 and movement of a nozzle. 7 is a diagram illustrating a path through which a process fluid moves and forms a liquid film. It will be described with reference to FIGS. 5, 6 and 7 .

실시예에 따른 공정 유체는 인산일 수 있다. 인산은 식각액으로 기능할 수 있다. 공정 유체는 인산과 첨가제의 혼합물로 구성되는 식각 조성물일 수 있다.The process fluid according to an embodiment may be phosphoric acid. Phosphoric acid may function as an etchant. The process fluid may be an etching composition comprising a mixture of phosphoric acid and an additive.

노즐(311)은 기판의 중심(C)에서 기판의 에지(E) 사이의 영역(C-E영역)을 왕복 운동할 수 있다. 노즐(311)은 C-E영역 사이에서, 기판의 중심(C)에서 소정거리 이격된 지점(P1)과 기판의 에지(E)에서 소정거리 이격된 지점(P2)의 사이를 왕복 운동하며, 식각액를 토출한다. 식각액이 기판에 공급되는 동안 기판은 회전한다. 공급된 식각액은 기판의 표면에서 액막을 형성한다.The nozzle 311 may reciprocate in a region (region C-E) between the edge E of the substrate and the center C of the substrate. The nozzle 311 reciprocates between a point P1 spaced a predetermined distance from the center C of the substrate and a point P2 spaced a predetermined distance from the edge E of the substrate between the CE regions, and discharges the etchant. do. The substrate rotates while the etchant is supplied to the substrate. The supplied etchant forms a liquid film on the surface of the substrate.

일 실시 예에 의하면, 300mm 구경의 기판에 대하여, 노즐(311)의 왕복 이동 구간은, 기판의 중심(C)에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치에서부터 기판의 에지(E)에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치이다. 예컨대 C에서 P1의 거리는 50mm이고, E에서 P2의 거리는 50mm일 수 있다.According to one embodiment, with respect to the substrate of the 300mm diameter, the reciprocating movement section of the nozzle 311 is from a position spaced 20 mm or more 70 mm from the center C of the substrate, and 20 mm or more 70 mm away from the edge E of the substrate. to be. For example, a distance from C to P1 may be 50 mm, and a distance from E to P2 may be 50 mm.

기판의 중심에 신규의 공정 유체가 토출되는 것을 제한하여, 기 토출된 공정 유체가 신규로 토출된 공정 유체로 치환되는 시간을 길게 할 수 있다. 또한, 기판의 에지 영역에 신규의 공정 유체가 토출되는 것을 제한하여 에지 영역의 신규 토출 약액이 공급되는 시간을 길게 하여 P2-E영역에서 회전 방향으로 고온(175℃~300℃)의 유체 꼬리를 획득 할 수 있다. 유체 꼬리는 에지 영역의 식각률을 높인다.By limiting the discharge of the new process fluid to the center of the substrate, it is possible to increase the time for the previously discharged process fluid to be replaced with the newly discharged process fluid. In addition, by limiting the discharge of the new process fluid to the edge area of the substrate, the time for which the new discharge chemical solution is supplied to the edge area is lengthened, so that the high temperature (175 ° C. ~ 300 ° C) fluid tail in the rotational direction in the P2-E area can be obtained The fluid tail increases the etch rate of the edge region.

식각액은 기판(W)에 접촉하기 전 가열될 수 있다. 공급되는 식각액의 온도(제1 온도)는 150℃ 이상 175℃ 이하이다. 식각액이 175℃를 초과하여 가열된 상태로 공급되는 경우 설비의 손상을 초래할 수 있다.The etchant may be heated before contacting the substrate W. The temperature (first temperature) of the supplied etchant is 150° C. or more and 175° C. or less. If the etchant is supplied in a heated state exceeding 175°C, it may cause damage to the equipment.

기판(W)의 표면에 형성된 식각액의 액막은 제2 온도로 가열된다. 가열 부재(250)는 액막을 가열하기 위해500℃ 이상 1000℃의 제3 온도로 가열되어 열을을기판에 제공한다.The liquid film of the etchant formed on the surface of the substrate W is heated to a second temperature. The heating member 250 is heated to a third temperature of 500° C. or more and 1000° C. to heat the liquid film to provide heat to the substrate.

액막은 175℃ 이상 300℃이하로 가열될 수 있다. 액막의 온도가 175℃ 이하이면 식각 속도가 낮고, 300℃ 이상이면 웨이퍼가 깨지거나 선택비가 낮다. 액막의 온도가 400℃ 이상이 되면 기판이 폭발할 수 있다.The liquid film may be heated to 175°C or higher and 300°C or lower. If the temperature of the liquid film is 175° C. or less, the etching rate is low, and if it is 300° C. or more, the wafer is broken or the selectivity is low. If the temperature of the liquid film is 400°C or higher, the substrate may explode.

노즐이 P1지점과 P2지점 사이를 스캔하며 식각액를 토출하면, 기판에 액막은 온도 및 액막의 두께에 따라 크게 3개의 영역으로 분리되며 형성된다. 갓 토출된 신규의 식각액이 기판에 접촉되면, 식각액은 나선 모양을 그리며 기판의 에지 영역으로 퍼져 나가면서 액막을 형성한다(도 7 참조). 도 5의 A1 영역에서는 식각액이 계속하여 공급되므로 액막의 온도가 낮고 액막의 두께가 약 2mm이상으로 두껍다. A2 영역에서는 비산되어 잔류한 액막이 기판에 의해 더 가열된다. A3 영역에서는 A2영역의 액막이 더 비산되어 약 2mm이하로 얇아지고, 기판에 의해 더 가열되어 고온이 된다. A3에서 액막의 온도 범위는 200℃ 이상 300℃이하이다. When the nozzle scans between the points P1 and P2 and discharges the etchant, the liquid film on the substrate is largely divided into three regions depending on the temperature and the thickness of the liquid film. When the freshly discharged etchant comes into contact with the substrate, the etchant forms a liquid film while spreading to the edge region of the substrate in a spiral shape (see FIG. 7 ). In the area A1 of FIG. 5 , since the etching solution is continuously supplied, the temperature of the liquid film is low and the thickness of the liquid film is about 2 mm or more. In the A2 region, the scattered and remaining liquid film is further heated by the substrate. In the A3 region, the liquid film in the A2 region scatters further and becomes thinner to about 2 mm or less, and is further heated by the substrate, resulting in a high temperature. In A3, the temperature range of the liquid film is 200°C or more and 300°C or less.

<기판의 영역별 액막 두께와 온도><Liquid film thickness and temperature for each area of the substrate> 영역domain 액막 두께liquid film thickness 액막 온도liquid film temperature A1A1 두꺼움Thickness 저온low temperature A2A2 중간middle 중온medium temperature A3A3 얇음
(2mm 이하)tenuity
(2mm or less) 고온
(200℃ 이상 300℃이하)High temperature
(200℃ or more and 300℃ or less)

액막의 온도를 175℃ 이상 300℃이하로 조절하기 위하여, 기판의 회전 속도와 식각액의 토출 유속을 조절한다. 기판의 회전 속도(제1 회전 속도)는 30rpm이상 200rpm이하이다. 식각액의 토출 유속(제1 유속)은 100cc/min 이상 500cc/min 이하이다. 100cc/min 미만의 유량으로 식각액를 토출하는 경우 지나치게 가열(over heated)되어 기판이 깨질 수 있다. 500cc/min 초과의 유량으로 식각액를 토출하는 경우 수막의 두께가 두꺼워져 설정 온도 범위에 도달할 수 없으며, 기판 처리 효율이 감소할 수 있다.In order to control the temperature of the liquid film to be 175°C or higher and 300°C or lower, the rotation speed of the substrate and the discharge flow rate of the etchant are adjusted. The rotation speed (first rotation speed) of the substrate is 30 rpm or more and 200 rpm or less. The discharge flow rate (first flow rate) of the etchant is 100 cc/min or more and 500 cc/min or less. When the etchant is discharged at a flow rate of less than 100 cc/min, the substrate may be cracked due to excessive heating. When the etchant is discharged at a flow rate of more than 500 cc/min, the thickness of the water film becomes thick, and thus the set temperature range cannot be reached, and substrate processing efficiency may be reduced.

도 8은 영역별 온도 프로파일을 개략적으로 도시한 그래프이다. 도 8의 기판 영역은 도 5의 A3영역일 수 있다. 가열 부재(250)를 이용하여 제3 온도의 열을 방출하여 기판(W)을 가열하면 액막은 제2 온도까지 가열될 수 있다. 일 실시예에 의하면 제3 온도는 900℃ 이고, 제2 온도는 220℃ 이다.8 is a graph schematically illustrating a temperature profile for each region. The substrate area of FIG. 8 may be area A3 of FIG. 5 . When the substrate W is heated by emitting heat of the third temperature using the heating member 250 , the liquid film may be heated to the second temperature. According to an embodiment, the third temperature is 900°C, and the second temperature is 220°C.

상술한 실시 예와 같이 기판의 회전 속도, 기판의 가열 온도를 및 노즐의 구동 범위를 조절하여 액막 두께를 조절함에 따라, 식각액의 가열 효율이 증가된다. 가열 효율이 증가됨에 이에 따라 높은 식각 속도를 얻을 수 있다.As in the above-described embodiment, as the liquid film thickness is adjusted by adjusting the rotation speed of the substrate, the heating temperature of the substrate, and the driving range of the nozzle, the heating efficiency of the etchant is increased. As heating efficiency is increased, a high etching rate may be obtained.

또한, 상술한 노즐의 구동 범위로 인해 토출 유량을 줄이고, 낮은 회전 속도로 기판을 회전시켜도 균일한 기판 처리가 가능하다. In addition, due to the above-described driving range of the nozzle, a uniform substrate processing is possible even when the discharge flow rate is reduced and the substrate is rotated at a low rotation speed.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The above detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the above description shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications are possible within the scope of the concept of the invention disclosed herein, the scope equivalent to the written disclosure, and/or within the scope of skill or knowledge in the art. The written embodiment describes the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required in the specific application field and use of the present invention are possible. Accordingly, the detailed description of the present invention is not intended to limit the present invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

10 : 기판 처리 장치
100 : 처리 용기
200 : 기판 지지 유닛
260 : 반사 부재
280 : 가열 유닛
300 : 공정 유체 공급 유닛
600 : 승강 유닛10: substrate processing device
100: processing vessel
200: substrate support unit
260: reflective member
280: heating unit
300: process fluid supply unit
600: elevating unit

Claims (25)

기판을 처리하는 방법에 있어서,
기판 지지 유닛에 지지된 상기 기판을 회전시키는 단계와;
회전하는 상기 기판의 상면으로 공정 유체를 공급하여 액막을 형성하는 단계를 포함하되,
상기 액막을 형성하는 단계에는,
상기 기판 지지 유닛에 설치되는 가열 부재가 상기 액막을 가열하고,
상기 기판의 중심 영역 및 상기 기판의 에지 영역에 토출되는 신규의 상기 공정 유체의 양이, 상기 중심 영역과 상기 에지 영역 사이의 상기 기판의 중간 영역에 토출되는 신규의 공정 유체의 양보다 적도록, 노즐이 상기 기판의 중심과 상기 기판의 에지 사이의 영역 중 상기 기판의 중심에서 소정거리 이격된 위치에서부터 기판의 에지에서 소정거리 이격된 위치 사이를 왕복하며 공정 유체를 토출하는 기판 처리 방법.A method of processing a substrate, comprising:
rotating the substrate supported on a substrate support unit;
Comprising the step of supplying a process fluid to the upper surface of the rotating substrate to form a liquid film,
In the step of forming the liquid film,
A heating member installed in the substrate support unit heats the liquid film,
so that the amount of the new process fluid discharged to the center region of the substrate and the edge region of the substrate is less than the amount of the new process fluid discharged to the intermediate region of the substrate between the center region and the edge region; A method for processing a substrate, wherein a nozzle reciprocates between a position spaced a predetermined distance from the center of the substrate and a position spaced a predetermined distance from the edge of the substrate in a region between the center of the substrate and the edge of the substrate to discharge the process fluid. 제1 항에 있어서,
상기 액막의 두께는 2mm이하인 기판 처리 방법.According to claim 1,
The thickness of the liquid film is 2mm or less substrate processing method. 제1 항에 있어서,
상기 액막의 두께 조절은 상기 기판의 회전 속도를 조절하여 이루어지는 기판 처리 방법.According to claim 1,
The thickness control of the liquid film is a substrate processing method made by adjusting the rotation speed of the substrate. 제3 항에 있어서,
상기 기판의 회전 속도는 30rpm이상 200rpm이하인 기판 처리 방법.4. The method of claim 3,
A substrate processing method wherein the rotation speed of the substrate is 30 rpm or more and 200 rpm or less. 제1 항에 있어서,
상기 액막의 두께 조절은 상기 기판으로 공급되는 공정 유체의 단위 시간당 토출량을 조절하여 이루어지는 기판 처리 방법.According to claim 1,
The thickness control of the liquid film is a substrate processing method made by controlling the discharge amount per unit time of the process fluid supplied to the substrate. 제5 항에 있어서,
상기 공정 유체의 단위 시간당 토출량은 100cc/min 이상 500cc/min 이하인 기판 처리 방법.6. The method of claim 5,
A method of treating a substrate wherein the discharge amount per unit time of the process fluid is 100 cc/min or more and 500 cc/min or less. 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 기판은 300mm 이상의 구경이고,
상기 노즐의 왕복 이동 구간은,
상기 기판의 중심에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치에서부터 상기 기판의 에지에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치의 구간인 기판 처리 방법.According to claim 1,
The substrate has a diameter of 300 mm or more,
The reciprocating movement section of the nozzle is,
The substrate processing method is a section from a position spaced apart by 20 mm or more and 70 mm from the center of the substrate to a position spaced apart from the edge of the substrate by 20 mm or more and 70 mm. 제1 항에 있어서,
상기 공정 유체는 제1 온도로 가열되어 공급되는 기판 처리 방법.According to claim 1,
The process fluid is heated to a first temperature and supplied. 제10 항에 있어서,
상기 제1 온도는 150℃ 이상 175℃ 이하인 기판 처리 방법.11. The method of claim 10,
The first temperature is a substrate processing method of 150 ℃ or more and 175 ℃ or less. 제1 항에 있어서,
상기 액막은 상기 가열 부재에 의해 전부 또는 일부 영역이 제2 온도로 가열되는 기판 처리 방법.According to claim 1,
wherein the liquid film is entirely or partially heated to a second temperature by the heating member. 제12 항에 있어서,
상기 제2 온도는 175℃ 이상 300℃ 이하인 기판 처리 방법.13. The method of claim 12,
The second temperature is a substrate processing method of 175 °C or more and 300 °C or less. 제1 항에 있어서,
상기 공정 유체는 인산인 기판 처리 방법.According to claim 1,
wherein the process fluid is phosphoric acid. 기판을 처리하는 방법에 있어서,
기판 지지 유닛에 지지된 상기 기판을 회전시키는 단계와;
회전하는 상기 기판의 상면으로 인산을 공급하여 액막을 형성하는 단계를 포함하되,
상기 액막을 형성하는 단계에는,
상기 기판의 중심 영역 및 상기 기판의 에지 영역에 토출되는 신규의 상기 공정 유체의 양이, 상기 중심 영역과 상기 에지 영역 사이의 상기 기판의 중간 영역에 토출되는 신규의 공정 유체의 양보다 적도록, 노즐이 상기 기판의 중심과 상기 기판의 에지 사이의 영역 중 상기 기판의 에지에서 소정거리 이격된 P2 위치와, 상기 P2 위치보다 상기 기판의 중심에 가까운 P1 위치 사이를 왕복하여 공정 유체를 토출하는 기판 처리 방법.A method of processing a substrate, comprising:
rotating the substrate supported on a substrate support unit;
Comprising the step of supplying phosphoric acid to the upper surface of the rotating substrate to form a liquid film,
In the step of forming the liquid film,
an amount of the new process fluid discharged to the central region of the substrate and the edge region of the substrate is less than an amount of the new process fluid discharged to an intermediate region of the substrate between the central region and the edge region; A substrate in which a nozzle reciprocates between a position P2 spaced apart from the edge of the substrate by a predetermined distance and a position P1 closer to the center of the substrate than the P2 position in an area between the center of the substrate and the edge of the substrate processing method. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
처리 공간이 형성된 처리 용기와;
상기 처리 공간에 위치되고 기판을 지지하고 회전시키는 기판 지지 유닛과;
상기 기판 지지 유닛에 지지된 상기 기판에 공정 유체를 공급하는 노즐을 가지는 공정 유체 공급 유닛과;
상기 지지 유닛에 제공되어 상기 기판을 가열하는 가열 유닛과;
제어기를 포함하되,
상기 공정 유체 공급 유닛은,
상기 공정 유체를 상기 기판의 표면으로 토출하는 노즐과;
상기 노즐이 처리 용기의 내측과 외측 사이를 이동 가능하도록 제공하는 노즐 이동 부재를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 기판의 중심 영역 및 상기 기판의 에지 영역에 토출되는 신규의 상기 공정 유체의 양이, 상기 중심 영역과 상기 에지 영역 사이의 상기 기판의 중간 영역에 토출되는 신규의 공정 유체의 양보다 적도록, 상기 노즐이 상기 기판의 중심과 상기 기판의 에지 사이의 영역 중 상기 기판의 중심에서 소정거리 이격된 위치에서부터 기판의 에지에서 소정거리 이격된 위치 사이를 왕복하며 공정 유체를 공급하도록 상기 노즐 이동 부재를 제어하는 기판 처리 장치.An apparatus for processing a substrate, comprising:
a processing container in which a processing space is formed;
a substrate support unit positioned in the processing space to support and rotate a substrate;
a process fluid supply unit having a nozzle for supplying a process fluid to the substrate supported by the substrate support unit;
a heating unit provided in the support unit to heat the substrate;
a controller;
The process fluid supply unit,
a nozzle for discharging the process fluid to the surface of the substrate;
and a nozzle moving member for providing the nozzle to move between the inside and the outside of the processing container;
The controller is
so that the amount of the new process fluid discharged to the center region of the substrate and the edge region of the substrate is less than the amount of the new process fluid discharged to the intermediate region of the substrate between the center region and the edge region; The nozzle moving member so that the nozzle reciprocates from a position spaced a predetermined distance from the center of the substrate to a position spaced a predetermined distance from the edge of the substrate in an area between the center of the substrate and the edge of the substrate to supply the process fluid Controlling substrate processing equipment. 제16 항에 있어서,
상기 공정 유체가 공급되어 기판 상에 형성되는 액막의 두께 조절은 상기 기판으로 공급되는 공정 유체의 단위 시간당 토출량 또는 상기 기판의 회전 속도를 조절하여 이루어지는 기판 처리 장치.17. The method of claim 16,
The thickness of the liquid film formed on the substrate by supplying the process fluid is controlled by adjusting the discharge amount per unit time of the process fluid supplied to the substrate or the rotation speed of the substrate. 삭제delete 삭제delete 제16 항에 있어서,
상기 기판은 300mm 이상의 구경이고,
상기 노즐의 왕복 이동 구간은,
상기 기판의 중심에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치에서부터 상기 기판의 에지에서 20mm 이상 70mm 이격된 위치의 구간인 기판 처리 장치.17. The method of claim 16,
The substrate has a diameter of 300 mm or more,
The reciprocating movement section of the nozzle is,
A substrate processing apparatus which is a section from a position spaced apart by 20 mm or more and 70 mm from the center of the substrate to a position spaced apart by 20 mm or more and 70 mm from the edge of the substrate. 제16 항에 있어서,
상기 공정 유체의 단위 시간당 토출량은 100cc/min 이상 500cc/min 이하인 기판 처리 장치.17. The method of claim 16,
The discharging amount of the process fluid per unit time is 100 cc/min or more and 500 cc/min or less. 제16 항에 있어서,
상기 기판 지지 유닛에 의한 기판의 회전 속도는 30rpm이상 200rpm이하인 기판 처리 장치.17. The method of claim 16,
A substrate processing apparatus in which the rotation speed of the substrate by the substrate support unit is 30 rpm or more and 200 rpm or less. 제17 항에 있어서,
상기 가열 유닛은 상기 액막의 전부 또는 일부 영역을 175℃ 이상 200℃ 이하로 가열하는 기판 처리 장치.18. The method of claim 17,
The heating unit heats all or a part of the liquid film to a temperature of 175° C. or more and 200° C. or less. 제16 항에 있어서,
상기 공정 유체 공급 유닛이 공급하는 공정 유체의 온도는 150℃ 이상 175℃ 이하인 기판 처리 장치.17. The method of claim 16,
The temperature of the process fluid supplied by the process fluid supply unit is 150° C. or more and 175° C. or less. 제16 항에 있어서,
상기 공정 유체는 인산인 기판 처리 장치.17. The method of claim 16,
wherein the process fluid is phosphoric acid.
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