KR102269697B1 - Substrate transfer robot, vacuum processing apparatus - Google Patents

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겐지 에토
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가부시키가이샤 알박
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Abstract

(과제) 핸드의 선단을 검출하지 않아도 기판의 정확한 이동이 가능한 기판 반송 로봇을 제공한다.
(해결 수단) 핸드 (40) 의 위치 결정 손가락부 (55) 를, 지지판 (41) 상에 석영판 (42) 을 배치하여 구성하고, 석영판 (42) 의 근본 부분에, 지지판 (41) 에 고정되는 고정부 (50) 를 형성한다. 석영판 (42) 은 고정부 (50) 이외의 부분은 지지판 (41) 에는 고정시키지 않고, 가열되어 지지판 (41) 이 신장되어도, 석영판 (42) 은 신장되지 않고, 석영판 (42) 의 선단에 형성된 선단측 스토퍼 (56) 의 열팽창에 의한 이동은 없다.(Project) To provide a substrate transfer robot capable of accurately moving a substrate without detecting the tip of the hand.
(Solution Means) The positioning finger portion 55 of the hand 40 is configured by arranging a quartz plate 42 on a support plate 41 , at the base of the quartz plate 42 and on the support plate 41 . A fixing part 50 to be fixed is formed. The quartz plate 42 is not fixed to the support plate 41 except for the fixing part 50, and even if the support plate 41 is elongated by heating, the quartz plate 42 is not elongated. There is no movement due to thermal expansion of the tip-side stopper 56 formed at the tip.

Figure R1020170093481
Figure R1020170093481

Description

기판 반송 로봇, 진공 처리 장치{SUBSTRATE TRANSFER ROBOT, VACUUM PROCESSING APPARATUS}SUBSTRATE TRANSFER ROBOT, VACUUM PROCESSING APPARATUS

본 발명은, 기판 반송 로봇의 기술 분야에 관한 것으로, 특히, 기판의 위치 결정을 정확하게 실시할 수 있는 기판 반송 로봇에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to the technical field of a substrate transfer robot, and more particularly, to a substrate transfer robot capable of accurately positioning a substrate.

종래부터, 유리판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판을 이동시키기 위해서, 핸드 상에 기판을 배치하고, 핸드를 이동시키는 기판 반송 로봇은 널리 사용되고 있다.DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, in order to move board|substrates, such as a glass plate and a semiconductor wafer, the board|substrate transfer robot which arrange|positions a board|substrate on a hand and moves a hand is widely used.

기판 반송 로봇의 핸드는, 가늘고 긴 복수의 손가락부 (축부) 에 기판을 재치 (載置) 하고 기판을 반송하는 타입이 존재한다.The hand of the board|substrate conveyance robot exists in the type which carries a board|substrate by mounting a board|substrate on several elongate finger part (shaft part).

핸드의 선단에는 선단측 스토퍼가 형성되고, 기판의 어긋남을 방지함과 함께, 기판의 위치를 결정하고 있다 (선행 문헌 1).A tip-side stopper is formed at the tip of the hand to prevent displacement of the substrate and to determine the position of the substrate (Prior Document 1).

기판 반송 로봇은, 처리가 종료된 전공정의 진공 처리실의 내부로부터, 다음의 처리인 후공정을 실시하는 진공 처리실의 내부를 향하여, 진공 분위기 중에서 기판을 이동시키고 있다.The substrate transfer robot moves the substrate in a vacuum atmosphere from the inside of the vacuum processing chamber of the pre-process where the processing is completed toward the inside of the vacuum processing chamber where the post-process, which is the next processing, is performed.

전공정의 처리를 실시할 때에는 기판은 가열되고, 또, 후공정에 이동시키고자 하는 기판은 고온으로 승온되어 있는 경우가 있다. 고온의 기판이 핸드의 가늘고 긴 손가락부 상에 놓이면, 손가락부가 가열된다.In the case of performing the treatment of the pre-process, the substrate is heated, and the substrate to be moved in the post-process is heated to a high temperature in some cases. When a hot substrate is placed on the elongated finger portion of the hand, the finger portion is heated.

손가락부는 강도가 필요하므로 세라믹 혹은 금속으로 구성되어 있다.Since the finger part needs strength, it is composed of ceramic or metal.

손가락부가 가열되어 손가락부가 승온되면, 손가락부는, 손가락부를 구성하는 재료의 열팽창 계수에 따른 양만큼 열팽창하여 길어지고, 그 결과, 손가락부의 선단에 형성된 선단측 스토퍼의 위치는, 손가락부의 근본으로부터 멀어지는 방향으로 이동한다.When the finger portion is heated and the finger portion is heated, the finger portion thermally expands by an amount corresponding to the coefficient of thermal expansion of the material constituting the finger portion and becomes elongated. move to

반송 장수의 증가나 반송 시간 (운전 시간) 의 경과에 따라, 손가락부의 온도가 상승하고, 온도의 상승에 수반하여 선단측 스토퍼의 위치가 바뀌기 때문에, 후공정의 진공 처리실에 반송되는 기판의 위치가 일정해지지 않는다는 과제가 있다.As the number of transfer sheets increases or transfer time (operation time) elapses, the temperature of the finger portion rises, and the position of the tip-side stopper changes with the rise in temperature, so the position of the substrate transferred to the vacuum processing chamber in the post-process is changed. There is a problem that it is not constant.

일본 공개특허공보 2015-82532호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-82532

본 발명은 상기 종래 기술의 문제를 해결하기 위해서 창작된 것이며, 그 목적은, 손가락부의 온도가 상승해도 선단측 스토퍼의 위치 변동이 적은 기판 반송 로봇을 제공하는 것에 있다.The present invention was created in order to solve the problems of the prior art, and an object thereof is to provide a substrate transfer robot with little change in the position of the tip side stopper even when the temperature of the finger portion rises.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은, 기판이 배치되는 핸드를 이동시키는 기판 반송 로봇으로서, 상기 핸드는, 손바닥부와, 상기 손바닥부에 형성되고, 1 장의 기판이 배치되는 복수 개의 가늘고 긴 손가락부를 가지며, 복수 개의 상기 손가락부 중, 적어도 1 개의 상기 손가락부는, 근본 부분이 상기 손바닥부에 고정된 가늘고 긴 지지판과, 상기 지지판 상에 상기 지지판을 따라 놓인 가늘고 긴 석영판을 갖는 위치 결정 손가락부이고, 상기 석영판의 양단 중, 상기 손바닥부에 가까운 근본측의 일단에는 고정부가 형성되고, 상기 손바닥부로부터 먼 선단측의 타단에는 선단측 스토퍼가 형성되고, 상기 고정부는, 상기 손바닥부와 상기 지지판으로 구성되는 지지체에 장착되고, 선단측의 상기 타단은 상기 지지체에는 장착되어 있지 않은 기판 반송 로봇이다. In order to solve the above problems, the present invention provides a substrate transfer robot for moving a hand on which a substrate is placed, wherein the hand includes a palm portion and a plurality of long fingers formed in the palm portion and on which a single substrate is placed. and at least one of said finger portions among a plurality of said finger portions, a positioning finger portion having an elongated support plate having a base fixed to said palm portion, and an elongated quartz plate placed on said support plate along said support plate. and, among both ends of the quartz plate, a fixing part is formed at one end on the root side close to the palm part, and a tip side stopper is formed on the other end on the tip side far from the palm part, and the fixing part comprises the palm part and the palm part. It is a board|substrate conveyance robot which is attached to the support body comprised by the support plate, and the said other end of the front-end|tip side is not attached to the said support body.

또한, 본 발명은, 상기 핸드는 상기 위치 결정 손가락부를 2 개 이상 갖는 기판 반송 로봇이다. Moreover, this invention is a board|substrate conveyance robot which said hand has two or more said positioning finger parts.

본 발명은, 상기 석영판은, 복수의 석영 부재가 서로 고정되어 형성되어 있는 기판 반송 로봇이다. In the present invention, the quartz plate is a substrate transport robot in which a plurality of quartz members are fixed to each other.

본 발명은, 상기 지지판은 알루미나로 구성된 기판 반송 로봇이다. In the present invention, the support plate is a substrate transport robot made of alumina.

본 발명은, 기판이 배치되는 핸드를 이동시키는 기판 반송 로봇과, 상기 기판 반송 로봇이 배치된 진공조를 갖는 반송실과, 상기 반송실에 접속되고, 상기 기판을 진공 처리하는 진공 처리실을 가지며, 상기 핸드는, 손바닥부와, The present invention includes a substrate transfer robot for moving a hand on which a substrate is placed, a transfer chamber having a vacuum chamber in which the substrate transfer robot is disposed, and a vacuum processing chamber connected to the transfer chamber and vacuum processing the substrate, The hand is a palm part,

상기 손바닥부에 형성되고, 1 장의 기판이 배치되는 복수 개의 가늘고 긴 손가락부를 가지며, It is formed in the palm part and has a plurality of long and thin finger parts on which one substrate is disposed,

복수 개의 상기 손가락부 중, 적어도 1 개의 상기 손가락부는, 근본 부분이 상기 손바닥부에 고정된 가늘고 긴 지지판과, 상기 지지판 상에 상기 지지판을 따라 놓인 가늘고 긴 석영판을 갖는 위치 결정 손가락부이고, 상기 석영판의 양단 중, 상기 손바닥부에 가까운 근본측의 일단에는 고정부가 형성되고, 상기 손바닥부로부터 먼 선단측의 타단에는 선단측 스토퍼가 형성되고, 상기 고정부는, 상기 손바닥부와 상기 지지판으로 구성되는 지지체에 장착되고, 선단측의 상기 타단은 상기 지지체에는 장착되어 있지 않고, 상기 핸드는 상기 위치 결정 손가락부를 2 개 이상 갖는 진공 처리 장치이다. at least one of the plurality of finger portions is a positioning finger portion having an elongated support plate having a base portion fixed to the palm portion, and an elongated quartz plate placed on the support plate along the support plate; Among both ends of the quartz plate, a fixing part is formed at one end on the root side close to the palm part, and a tip side stopper is formed on the other end on the tip side farther from the palm part, and the fixing part consists of the palm part and the support plate. The hand is a vacuum processing device having two or more of the positioning finger parts, the other end being not attached to the support body, and the other end on the tip side is not attached to the support body.

본 발명은, 상기 핸드는 상기 위치 결정 손가락부를 2 개 이상 갖는 진공 처리 장치이다. The present invention is a vacuum processing device in which the hand has two or more of the positioning finger portions.

본 발명은, 상기 석영판은, 복수의 석영 부재가 서로 고정되어 형성된 진공 처리 장치이다. According to the present invention, the quartz plate is a vacuum processing device in which a plurality of quartz members are fixed to each other.

또한, 본 발명은, 상기 지지판은 알루미나로 구성된 진공 처리 장치이다. Moreover, this invention is a vacuum processing apparatus in which the said support plate was comprised with alumina.

손가락부에 석영으로 이루어지는 석영판을 형성하고, 석영판의 선단에 선단측 스토퍼를 형성했기 때문에, 선단측 스토퍼의 열팽창에 의한 이동량이 작아지고, 기판의 위치 결정이 정확해진다.Since a quartz plate made of quartz is formed in the finger portion and a tip-side stopper is formed at the tip of the quartz plate, the amount of movement of the tip-side stopper due to thermal expansion is reduced, and the positioning of the substrate is accurate.

도 1 은 진공 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 2 는 반송실을 설명하기 위한 도면이다.
도 3 은 기판 반송 로봇을 설명하기 위한 부분 단면도이다.
도 4 는 그 기판 반송 로봇의 사시도이다.
도 5 는 핸드의 평면도이다.
도 6 은 그 핸드에 기판을 배치한 상태를 설명하기 위한 평면도이다.
도 7 은 위치 결정 손가락부를 설명하기 위한 부분 단면도이다.
도 8(a) : 도 5 의 I-I 선 절단 단면도, (b) : 도 5 의 II-II 선 절단 단면도, (c) : 고정부의 일례를 나타내는 단면도, (d) : 연결부를 설명하기 위한 평면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure for demonstrating a vacuum processing apparatus.
2 is a view for explaining a transfer room.
3 is a partial cross-sectional view for explaining a substrate transfer robot.
Fig. 4 is a perspective view of the substrate transfer robot.
5 is a plan view of the hand;
Fig. 6 is a plan view for explaining a state in which a substrate is placed on the hand.
Fig. 7 is a partial cross-sectional view for explaining a positioning finger portion;
Fig. 8 (a): a cross-sectional view taken along line II of Fig. 5, (b): a cross-sectional view taken along line II-II of Fig. 5, (c): a cross-sectional view showing an example of the fixing part, (d): a plan view for explaining the connection part to be.

도 1 은, 처리 대상물의 진공 처리를 실시하는 진공 처리 장치 (10) 이고, 이 진공 처리 장치 (10) 는, 반송실 (11) 과, 복수의 진공 처리실 (12) 과, 적어도 1 대의 반출입실 (13) 을 가지고 있다.1 is a vacuum processing apparatus 10 for performing vacuum processing of an object to be processed. The vacuum processing apparatus 10 includes a transfer chamber 11 , a plurality of vacuum processing chambers 12 , and at least one carrying-in/out chamber. (13) has

각 진공 처리실 (12) 과 반출입실 (13) 은 반송실 (11) 의 주위에 배치되고, 게이트 밸브를 개폐함으로써, 각 진공 처리실 (12) 의 내부와 반출입실 (13) 의 내부는, 반송실 (11) 의 내부와 접속 또는 차단되도록 구성되어 있다.Each of the vacuum processing chambers 12 and the carrying-in/out chamber 13 is arranged around the transfer chamber 11, and by opening and closing the gate valve, the inside of each vacuum processing chamber 12 and the inside of the carrying-in/out chamber 13 are transferred to each other. (11) is configured to connect or block the interior of the.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 반송실 (11) 은, 진공조 (21) 와, 반송 로봇 (20) 을 가지고 있다.As shown in FIG. 2 , the transfer chamber 11 includes a vacuum chamber 21 and a transfer robot 20 .

도 3 은 반송 로봇 (20) 의 측면의 확대도이고, 도 4 는 사시도이다.3 is an enlarged view of the side of the transport robot 20, and FIG. 4 is a perspective view.

반송 로봇 (20) 은, 핸드 (40) 와, 슬라이드판 (33) 과, 대좌 (32) 와, 지주부 (31) 를 가지고 있다.The transfer robot 20 includes a hand 40 , a slide plate 33 , a pedestal 32 , and a support member 31 .

핸드 (40) 와 슬라이드판 (33) 과 대좌 (32) 는, 진공조 (21) 의 내부에 배치되어 있고, 지주부 (31) 는, 하부가 진공조 (21) 의 외부에 형성되어 있고, 지주부 (31) 의 진공조 (21) 의 내부 부분에는, 하방으로부터, 대좌 (32) 와 슬라이드판 (33) 과 핸드 (40) 가 이 순서로 장착되어 있다.The hand 40, the slide plate 33, and the pedestal 32 are arranged inside the vacuum chamber 21, and the support member 31 has a lower portion formed outside the vacuum chamber 21, The pedestal 32, the slide plate 33, and the hand 40 are attached in this order to the inner part of the vacuum chamber 21 of the support|pillar part 31 from below.

각 실 (11 ∼ 13) 의 진공조에는 진공 배기 장치 (14) 가 접속되어 있고, 진공 배기 장치 (14) 를 동작시켜 각 실 (11 ∼ 13) 의 내부를 진공 배기한다. 진공 배기 장치 (14) 와 반송 로봇 (20) 과 하기 모터 (23) 의 동작은 제어 장치 (28) 에 의해 제어되고 있다.An evacuation device 14 is connected to the vacuum chamber of each of the chambers 11 to 13, and the evacuation device 14 is operated to evacuate the inside of each of the chambers 11 to 13. The operations of the evacuation device 14 , the transfer robot 20 , and the following motor 23 are controlled by the control device 28 .

대좌 (32) 는 지주부 (31) 에 회전 및 승강 가능하게 설치되어 있다. 슬라이드판 (33) 은, 대좌 (32) 에 고정되고 모터 (23) 의 동작에 의해 지주부 (31) 의 내부의 회전축이 회전하면, 슬라이드판 (33) 은 대좌 (32) 와 함께 회전하고, 또, 회전축이 상하로 이동하면 슬라이드판 (33) 은 대좌 (32) 와 함께 상하로 이동한다.The pedestal 32 is rotatably installed on the support member 31 so as to be able to move up and down. The slide plate 33 is fixed to the pedestal 32, and when the rotation shaft inside the support part 31 rotates by the operation of the motor 23, the slide plate 33 rotates together with the pedestal 32, Moreover, when the rotating shaft moves up and down, the slide plate 33 moves up and down together with the pedestal 32. As shown in FIG.

핸드 (40) 는, 손바닥부 (34) 와, 손바닥부 (34) 에 형성된 복수의 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 를 가지고 있다. 손바닥부 (34) 는 금속제, 또는 알루미나 등의 세라믹스제이며, 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 는, 금속제, 또는 알루미나 등의 세라믹스제의 부재를 가지고 있다.The hand 40 has a palm portion 34 and a plurality of finger portions 51a to 54a and 51b to 54b formed in the palm portion 34 . The palm portion 34 is made of metal or ceramics such as alumina, and the finger portions 51a to 54a, 51b to 54b have a member made of metal or ceramics such as alumina.

슬라이드판 (33) 은 수평으로 배치되고, 상방을 향하는 표면에는 안내 홈 (49) 이 형성되어 있다. 슬라이드판 (33) 은 장방형 형상이며, 안내 홈 (49) 은 직선상으로서, 슬라이드판 (33) 의 장변과 평행하게 형성되어 있고, 또, 안내 홈 (49) 은 수평으로 배치되어 있다.The slide plate 33 is arranged horizontally, and guide grooves 49 are formed on the upwardly facing surface. The slide plate 33 has a rectangular shape, the guide grooves 49 are linear, and are formed parallel to the long side of the slide plate 33, and the guide grooves 49 are horizontally arranged.

손바닥부 (34) 는 제어 장치 (28) 에 의해 제어된 도시를 생략한 모터에 접속되어 있고, 손바닥부 (34) 는, 이 모터가 동작하여, 안내 홈 (49) 이 연장되는 방향을 따라 이동할 수 있도록 안내 홈 (49) 에 장착되어 있다.The palm part 34 is connected to a motor (not shown) controlled by the control device 28, and the palm part 34 moves along the direction in which the guide groove 49 extends by operating this motor. It is mounted on the guide groove 49 so that

이 예에서는, 손바닥부 (34) 가 슬라이드판 (33) 상을 수평으로 이동할 때에는, 손바닥부 (34) 는, 수평면 내를 직선 이동하도록 되어 있다.In this example, when the palm portion 34 moves horizontally on the slide plate 33 , the palm portion 34 moves linearly in the horizontal plane.

손바닥부 (34) 에는, 수평으로 된 복수의 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 가 형성되어 있다. 이 예에서는, 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 의 전부가, 손바닥부 (34) 의 후술하는 전진 이동 및 후퇴의 이동 방향과 평행하게, 동일한 방향을 향하도록, 서로 이간되어 형성되어 있다.The palm portion 34 is provided with a plurality of horizontal finger portions 51a to 54a and 51b to 54b. In this example, all of the finger portions 51a to 54a and 51b to 54b are formed to be spaced apart from each other so as to face the same direction in parallel with the later-described forward and backward movement directions of the palm portion 34 . .

복수 개의 손가락부 (51a ∼ 54a) (여기서는 4 개) 와 나머지의 복수 개의 손가락부 (51b ∼ 54b) (여기서는 4 개) 는, 일방의 복수 개가 상단이고 타방의 복수 개가 하단인 2 단으로 형성되어 있다. 상단과 하단 중 일방의 단에 배치된 복수 개의 손가락부 (51a ∼ 54a) 와 타방의 단에 배치된 복수 개의 손가락부 (51b ∼ 54b) 는 각각 별개의 기판을 유지할 수 있다.The plurality of finger parts 51a to 54a (here, four) and the other plurality of finger parts 51b to 54b (here, four) are formed in two stages, one of which is the upper end and the other is the lower end, have. The plurality of finger portions 51a to 54a disposed at one end of the upper end and the lower end and the plurality of finger portions 51b to 54b disposed at the other end can hold separate substrates, respectively.

상단의 손가락부 (51a ∼ 54a) 는 서로 동일한 정도의 높이에 형성되고, 하단의 손가락부 (51b ∼ 54b) 는 서로 동일한 정도의 높이에 형성되어 있고, 각각 기판 (16) 이 1 장 놓이게 되어 있다.The upper finger portions 51a to 54a are formed at the same level as each other, and the lower finger portions 51b to 54b are formed at the same level as each other, and one substrate 16 is placed on each. .

도 4, 6 의 부호 16 은, 핸드 (40) 의 상단의 손가락부 (51a ∼ 54a), 또는 하단의 손가락부 (51b ∼ 54b) 에 배치된 기판을 나타내고 있다.Reference numeral 16 in FIGS. 4 and 6 denotes a substrate disposed on the upper finger portions 51a to 54a of the hand 40 or the lower finger portions 51b to 54b of the hand 40 .

이와 같이, 핸드 (40) 에서는, 상단의 손가락부 (51a ∼ 54a) 와 하단의 손가락부 (51b ∼ 54b) 에 각각 1 장씩 기판 (16) 을 배치할 수 있으므로, 핸드 (40) 에는, 2 장의 기판 (16) 을 배치할 수 있다. 손바닥부 (34) 가 안내 홈 (49) 을 따라 전진 이동 또는 후퇴 이동하면, 핸드 (40) 와, 핸드 (40) 에 배치된 기판 (16) 은, 손바닥부 (34) 및 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 와 함께 전진 이동 또는 후퇴 이동한다.In this way, in the hand 40, one substrate 16 can be disposed in the upper finger portions 51a to 54a and the lower finger portions 51b to 54b, respectively, so that the hand 40 has two A substrate 16 may be disposed. When the palm portion 34 moves forward or backward along the guide groove 49, the hand 40 and the substrate 16 disposed on the hand 40, the palm portion 34 and the finger portions 51a to 54a, 51b to 54b), move forward or backward.

핸드 (40) 를 전진 이동시키면, 반송실 (11) 내에 위치하는 핸드 (40) 를 전공정의 진공 처리실 (12) 내에 이동시킬 수 있다. 그리고 핸드 (40) 를 전공정의 진공 처리실 (12) 에 대한 정위치에서 정지 (靜止) 시키고, 전공정의 진공 처리실 (12) 내에 배치된 기판 (16) 을 핸드 (40) 상에 놓는다. 이어서 핸드 (40) 를 후퇴 이동시키고, 핸드 (40) 를 반송실 (11) 내에 이동시키고, 대좌 (32) 를 회전시켜 핸드 (40) 의 방향을 바꾸고, 핸드 (40) 를 전진 이동시키고, 후공정의 진공 처리실 (12) 내에 기판 (16) 을 이동시키고, 후공정의 진공 처리실 (12) 에 대해 정해진 위치에 정지시키면, 후공정의 진공 처리실 (12) 내의 대 (臺) 상에 기판 (16) 을 배치할 수 있다.When the hand 40 is moved forward, the hand 40 located in the transfer chamber 11 can be moved into the vacuum processing chamber 12 in the previous step. And the hand 40 is stopped at a fixed position with respect to the vacuum processing chamber 12 of a previous process, and the board|substrate 16 arrange|positioned in the vacuum processing chamber 12 of a previous process is put on the hand 40. Next, the hand 40 is moved backward, the hand 40 is moved into the transfer chamber 11, the pedestal 32 is rotated to change the direction of the hand 40, the hand 40 is moved forward, and the When the substrate 16 is moved in the vacuum processing chamber 12 of the post-process and stopped at a predetermined position with respect to the vacuum processing chamber 12 of the post-process, the substrate 16 is placed on a stand in the vacuum processing chamber 12 of the post-process. ) can be placed.

상단 또는 하단의 어느 것에 배치되고, 동일한 기판 (16) 이 배치되는 복수의 손가락부 (51a ∼ 54a) 또는 손가락부 (51b ∼ 54b) 중, 적어도 1 개, 바람직하게는 2 개 이상의 손가락부 (51a, 53a, 54a, 51b, 53b, 54b) 는, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 가늘고 긴 지지판 (41) 과, 지지판 (41) 상에 배치된 석영으로 이루어지는 가늘고 긴 석영판 (42) 을 가지고 있고, 이들 지지판 (41) 과 석영판 (42) 을 갖는 손가락부 (51a, 53a, 54a, 51b, 53b, 54b) 를, 위치 결정 손가락부로 하면, 도 7 의 부호 55 는, 위치 결정 손가락부를 나타내고 있다. 다른 손가락부 (52a, 52b) 는, 평판상의 지지판 (43) 을 가지고 있고, 그 위에는 석영판은 형성되어 있지 않다.At least one, preferably two or more finger portions 51a among the plurality of finger portions 51a to 54a or the finger portions 51b to 54b arranged on either the upper end or the lower end and on which the same substrate 16 is arranged. , 53a, 54a, 51b, 53b, 54b), as shown in FIG. 5, has an elongated support plate 41 and an elongated quartz plate 42 made of quartz disposed on the support plate 41, When finger portions 51a, 53a, 54a, 51b, 53b, 54b having these support plates 41 and quartz plate 42 are used as positioning finger portions, reference numeral 55 in FIG. 7 denotes a positioning finger portion. The other finger portions 52a and 52b have a flat support plate 43, and no quartz plate is formed thereon.

복수의 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 중, 단에 위치하는 손가락부 (51a, 51b, 54a, 54b) 에 석영판 (42) 을 형성하고, 위치 결정 손가락부 (55) 로 하는 것이 바람직하다.Among the plurality of finger portions 51a to 54a and 51b to 54b, the quartz plate 42 is formed in the finger portions 51a, 51b, 54a, 54b positioned at the end to form the positioning finger portion 55. desirable.

도 7 은, 위치 결정 손가락부 (55) 의 측면의 단면도이고, 도 8(a) 는, 도 5 의 위치 결정 손가락부 (55) 의 I-I 선 절단 단면도이다. 지지판 (41) 은 개구가 상방을 향한 コ 자형 형상이고, 길이 방향이 손바닥부 (34) 의 전진 이동 및 후퇴 이동의 방향을 따라 배치되어 있고, 석영판 (42) 은, 그 길이 방향을 지지판 (41) 의 길이 방향을 따라 지지판 (41) 의 바닥면 상에 배치되어 있다. コ 자형 형상의 일부를 구성하는 2 개의 벽 부분 (48) 이 석영판 (42) 의 측면과 접촉할 수 있도록 되어 있고, 석영판 (42) 이 벽 방향으로 이동했을 때에, 2 개의 벽 부분 (48) 중 어느 것에 접촉함으로써 석영판 (42) 은 지지판 (41) 상으로부터 탈락하지 않게 되어 있다.Fig. 7 is a cross-sectional view of a side surface of the positioning finger portion 55, and Fig. 8(a) is a cross-sectional view taken along the line II-I of the positioning finger portion 55 of Fig. 5 . The support plate 41 has a U-shape with an opening facing upward, and the longitudinal direction is arranged along the direction of forward and backward movement of the palm portion 34, and the quartz plate 42 has the longitudinal direction of the support plate ( 41) is disposed on the bottom surface of the support plate 41 along the longitudinal direction. The two wall portions 48 constituting a part of the U-shaped shape are adapted to be in contact with the side surfaces of the quartz plate 42, and when the quartz plate 42 moves in the wall direction, the two wall portions 48 ), the quartz plate 42 does not fall off from the support plate 41 top.

지지판 (41) 의 양단 중, 일단은 손바닥부 (34) 상 또는 손바닥부 (34) 의 근처에 위치하고 있고, 타단은 손바닥부 (34) 로부터 먼 곳에 위치하고 있고, 석영판 (42) 은 후술하는 고정부 (50) 에 의해 지지판 (41) 중 손바닥부 (34) 측의 일단에 고정되고, 또한 손바닥부 (34) 로부터 먼 곳의 부분은 고정되어 있지 않다.Among the both ends of the support plate 41, one end is located on or near the palm portion 34, the other end is located far from the palm portion 34, and the quartz plate 42 is The top 50 is fixed to one end of the support plate 41 on the palm portion 34 side, and the portion farther from the palm portion 34 is not fixed.

따라서, 석영판 (42) 은 지지판 (41) 보다 열팽창성이 작고, 석영판 (42) 은 일단밖에 구속되어 있지 않다. 따라서, 지지판 (41) 과 석영판 (42) 이 함께 가열되고, 또는 함께 냉각되어, 지지판 (41) 이 석영판 (42) 에 대해 길이 방향으로 신축되었을 때에, 고정된 부분 이외의 부분이 지지판 (41) 에 대해 슬라이딩 이동하도록 구성되어 있기 때문에, 온도가 상승 또는 하강하여 지지판 (41) 이 신축되어도, 지지판 (41) 은 석영판 (42) 에 대해 어긋나, 석영판 (42) 은 지지판 (41) 의 신축 전과 거의 동일한 길이를 유지할 수 있다.Therefore, the quartz plate 42 has a smaller thermal expansibility than the support plate 41, and the quartz plate 42 is restrained only at one end. Accordingly, when the support plate 41 and the quartz plate 42 are heated together or cooled together, and the support plate 41 is stretched and contracted in the longitudinal direction with respect to the quartz plate 42, parts other than the fixed part are formed by the support plate ( 41), even when the temperature rises or falls and the support plate 41 expands and contracts, the support plate 41 shifts with respect to the quartz plate 42, and the quartz plate 42 moves with the support plate 41. It is possible to maintain almost the same length as before expansion.

도 8(b) 는, 도 5 의 위치 결정 손가락부 (55) 의 II-II 선 절단 단면도이고, 석영판 (42) 에는, 복수 지점에 구멍 (63) 이 형성되고, 각 구멍 (63) 내에, 베어링 (64) 이 배치되어 있다.Fig. 8(b) is a cross-sectional view taken along the II-II line of the positioning finger portion 55 of Fig. 5, in which holes 63 are formed in the quartz plate 42 at a plurality of points, and in each hole 63 , bearing 64 is arranged.

베어링 (64) 은, 본체 (65) 와, 본체 (65) 의 상단에 배치되고, 회전 가능하게 본체 (65) 에 장착된 볼 (66) 을 가지고 있고, 볼 (66) 은, 지지판 (41) 이나 석영판 (42) 보다 높은 위치에 배치되고, 볼 (66) 의 상단은 노출되어 있다.The bearing 64 has a main body 65 and a ball 66 disposed on the upper end of the main body 65 and rotatably mounted to the main body 65 , and the ball 66 includes a support plate 41 . It is arranged at a higher position than the or quartz plate 42 , and the upper end of the ball 66 is exposed.

구멍 (63) 은 길이 방향을 따른 장공 (長孔) 이며, 베어링 (64) 은, 본체 (65) 가 지지판 (41) 에 접촉하여 지지판 (41) 상에 배치되어 있다.The hole 63 is a long hole along the longitudinal direction, and the bearing 64 is disposed on the support plate 41 with the main body 65 in contact with the support plate 41 .

석영판 (42) 의 구멍 (63) 은 손가락부 (51a 등) 의 길이 방향으로 장공으로 되어 있고, 지지판 (41) 과 석영판 (42) 이 가열 또는 냉각되고 지지판 (41) 이 석영판 (42) 에 대해 신축될 때에는, 베어링 (64) 은, 구멍 (63) 의 가장자리와 접촉하지 않고, 지지판 (41) 과 석영판 (42) 의 위치가 어긋나도 간섭하지 않도록 구성되어 있다. 베어링 (64) 은, 석영판 (42) 에 장착하는 것도 가능하지만, 강도상, 지지판 (41) 에 장착하는 것이 바람직하다.The hole 63 of the quartz plate 42 is a long hole in the longitudinal direction of the finger portions 51a and the like, and the support plate 41 and the quartz plate 42 are heated or cooled, and the support plate 41 becomes the quartz plate 42 ), the bearing 64 does not come into contact with the edge of the hole 63 and is configured not to interfere even if the positions of the support plate 41 and the quartz plate 42 shift. Although it is also possible to attach the bearing 64 to the quartz plate 42, it is preferable to attach to the support plate 41 from the viewpoint of strength.

베어링 (64) 은, 위치 결정 손가락부 (55) 이외의 손가락부 (52a, 52b) 에도 배치되어 있고, 동일한 기판 (16) 이 배치되는 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 에 배치된 베어링 (64) 의 볼 (66) 이 노출된 상단은, 동일한 높이에 배치되어 있다.The bearing 64 is also disposed on the finger portions 52a, 52b other than the positioning finger portion 55, and is disposed on the finger portions 51a-54a, 51b-54b on which the same substrate 16 is disposed. The upper end at which the ball 66 of 64 is exposed is arranged at the same height.

따라서, 기판 (16) 을, 핸드 (40) 에 배치할 때에는, 기판 (16) 의 이면은 볼 (66) 과 접촉한다.Accordingly, when the substrate 16 is placed on the hand 40 , the back surface of the substrate 16 is in contact with the ball 66 .

기판 (16) 에 수평 방향의 힘이 인가되면 볼 (66) 은 회전하여 기판 (16) 이 볼 (66) 위를 롤링 이동한다. 따라서, 기판 (16) 과 지지판 (41) 이나 석영판 (42) 은 접촉하지 않고, 슬라이딩에 의한 더스트나 기판 (16) 의 흠집이 발생하지 않도록 되어 있다.When a horizontal force is applied to the substrate 16 , the ball 66 rotates so that the substrate 16 rolls on the ball 66 . Therefore, the board|substrate 16, the support plate 41, and the quartz plate 42 do not come into contact, and dust by sliding or the damage|wound of the board|substrate 16 does not generate|occur|produce.

그런데, 본 실시예에서 사용되는 1 장의 석영판 (42) 은, 복수의 가늘고 긴 석영 부재 (421 ∼ 423) 에 의해 구성되어 있고, 각 석영 부재 (421 ∼ 423) 의 길이 방향의 중심 축선이 동일한 직선 상에 배치되고, 각 석영 부재 (421 ∼ 423) 는 단부 (端部) 가 접촉하여 배치되어 있다.By the way, one quartz plate 42 used in the present embodiment is constituted by a plurality of elongated quartz members 42 1 to 42 3 , and each of the quartz members 42 1 to 42 3 is formed in the longitudinal direction of each quartz member 42 1 to 42 3 . The central axis line is arranged on the same straight line, and each of the quartz members 42 1 to 42 3 is arranged so that the ends thereof are in contact with each other.

복수의 석영 부재 (421 ∼ 423) 중, 1 장의 석영 부재 (421) 가 손바닥부 (34) 에 가장 가까운 근본측에 위치하고, 다른 1 장의 석영 부재 (423) 가 근본측과는 반대의 선단측에 위치하고, 나머지 1 장 또는 복수 장의 석영 부재 (422) 가 근본측과 선단측의 2 장의 석영 부재 (421, 423) 사이에 위치하고 있다.Among the plurality of quartz members 42 1 to 42 3 , one quartz member 42 1 is located on the root side closest to the palm portion 34 , and the other quartz member 42 3 is opposite to the root side. Located on the tip side of the, the remaining one or a plurality of quartz members (42 2 ) is located between the two quartz members (42 1 , 42 3 ) on the root side and the front side.

복수의 석영 부재 (421 ∼ 423) 중, 인접하는 2 개의 석영 부재 (421 ∼ 423) 가 접촉하는 단부에는, 서로 끼워 넣어지도록, 연결부 (60) 가 형성되어 있고, 복수의 가늘고 긴 석영 부재 (421 ∼ 423) 는, 복수의 석영 부재 (421 ∼ 423) 가 연결부 (60) 에 의해 연결되어 1 장의 석영판 (42) 으로 되어 있다.Among the plurality of quartz members 42 1 to 42 3 , at the end portions where two adjacent quartz members 42 1 to 42 3 contact each other, a connecting portion 60 is formed so as to be inserted into each other, and a plurality of elongated In the quartz members 42 1 to 42 3 , a plurality of quartz members 42 1 to 42 3 are connected by a connecting portion 60 to form a single quartz plate 42 .

도 8(d) 는, 연결부 (60) 의 확대 평면도이고, 여기서는 한가운데의 석영 부재 (422) 와 선단측의 석영 부재 (423) 를 연결하는 연결부 (60) 가 나타나 있다. 일방의 석영 부재 (423) 에 형성된 볼록부 (67) 가, 타방의 석영 부재 (422) 의 오목부 (37) 에 끼워 넣어져 연결부 (60) 가 구성되어 있다.Fig. 8(d) is an enlarged plan view of the connecting portion 60, in which the connecting portion 60 connecting the middle quartz member 42 2 and the distal end quartz member 42 3 is shown. The convex part 67 formed in one quartz member 42 3 is fitted in the recessed part 37 of the other quartz member 42 2, and the connection part 60 is comprised.

손바닥부 (34) 와 지지판 (41) 은, 금속이나 알루미나 등의, 석영보다 기계적 강도가 높은 재료로 구성되어 있고, 손바닥부 (34) 와 지지판 (41) 은, 나사 (45) 등에 의해 서로 고정되어 있다.The palm portion 34 and the support plate 41 are made of a material having higher mechanical strength than quartz, such as metal or alumina, and the palm portion 34 and the support plate 41 are fixed to each other by screws 45 or the like. has been

석영판 (42) 의 근본 부분은, 손바닥부 (34) 상 또는 지지판 (41) 상에 위치하고 있고, 석영판 (42) 의 근본 부분에는, 석영판 (42) 을 지지판 (41) 에 고정시키는 고정부 (50) 가 형성되어 있다. 고정부 (50) 는 근본에 위치하는 석영 부재 (421) 에 형성되어 있다.The base portion of the quartz plate 42 is located on the palm portion 34 or on the support plate 41 , and in the base portion of the quartz plate 42 , the quartz plate 42 is fixed to the support plate 41 . A government 50 is formed. The fixing part 50 is formed in the quartz member 42 1 located at the root.

고정부 (50) 를 설명하면, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 이 예에서는, 석영판 (42) 에는 석영판측 관통공 (46a) 이 형성되고, 지지판 (41) 에는, 석영판측 관통공 (46a) 과 연통되는 지지판측 관통공 (46b) 이 형성되어 있고, 상부가 플랜지상으로 형성된 볼트 (44) 가, 그 하단이 석영판측 관통공 (46a) 과 지지판측 관통공 (46b) 에 삽입 통과되고, 볼트 (44) 와 석영판측 관통공 (46a) 과 지지판측 관통공 (46b) 에 의해, 석영판 (42) 과 지지판 (41) 을 서로 고정시키는 고정부 (50) 가 구성되어 있다. 석영판 (42) 과 손바닥부 (34) 를 서로 고정시켜 고정부 (50) 가 구성되어도 된다.When the fixing part 50 is demonstrated, as shown in FIG. 7, in this example, the quartz plate side through-hole 46a is formed in the quartz plate 42, and the quartz plate side through-hole 46a is formed in the support plate 41. The support plate side through-hole 46b communicating with the bolt 44 is formed, and the lower end of the bolt 44 is inserted into the quartz plate side through-hole 46a and the supporting plate side through-hole 46b. The fixing part 50 for fixing the quartz plate 42 and the support plate 41 to each other is comprised by the bolt 44, the quartz plate side through-hole 46a, and the support plate side through-hole 46b. The fixing portion 50 may be constituted by fixing the quartz plate 42 and the palm portion 34 to each other.

석영판 (42) 의 손바닥부 (34) 측의 일단은, 고정부 (50) 에 의해, 지지판 (41) 에 고정되어 있다.One end of the quartz plate 42 on the palm portion 34 side is fixed to the support plate 41 by a fixing portion 50 .

고정부 (50) 는 손바닥부 (34) 에 형성되어 있어도 되고, 또, 석영판 (42) 과 지지판 (41) 을 클램프 등으로 끼워 넣어 고정시킬 수도 있다.The fixing part 50 may be formed in the palm part 34, and the quartz plate 42 and the support plate 41 can also be clamped and fixed.

석영판 (42) 의 손바닥부 (34) 측의 일단은, 지지판 (41) 에 고정되어도 되고, 또는 손바닥부 (34) 에 고정되어도 되므로, 서로 고정된 손바닥부 (34) 와 지지판 (41) 을 지지체 (30) 라고 부르면, 석영판 (42) 은, 고정부 (50) 에 의해, 지지체 (30) 에 고정되어 있으면 되게 되어, 석영판 (42) 의 중량은, 지지체 (30) 에 의해 지지된다.One end of the quartz plate 42 on the palm portion 34 side may be fixed to the support plate 41 or may be fixed to the palm portion 34, so that the palm portion 34 and the support plate 41 fixed to each other are separated. When referred to as the support body 30 , the quartz plate 42 should just be fixed to the support body 30 by the fixing part 50 , and the weight of the quartz plate 42 is supported by the support body 30 . .

석영판 (42) 은, 고정부 (50) 로부터, 석영판 (42) 의 선단 또는 지지판 (41) 의 선단까지, 바닥면이 지지체 (30) 에 접촉되어 있는데, 석영판 (42) 의, 고정부 (50) 보다 선단측 부분은, 지지체 (30) 에 고정되지 않고 지지판 (41) 이 석영판 (42) 과는 서로 분리되어 있고, 승온에 의해 지지판 (41) 이 석영판 (42) 보다 크게 신장될 때에는, 고정부 (50) 의 위치와는 반대측이 되는 석영판 (42) 의 선단측에서, 지지판 (41) 과 석영판 (42) 은 별개의 신장량으로 신장된다.The quartz plate 42 has a bottom surface in contact with the support body 30 from the fixing portion 50 to the tip of the quartz plate 42 or the tip of the support plate 41. In the portion on the front end side of the top 50 , the support plate 41 is separated from the quartz plate 42 without being fixed to the support body 30 , and the support plate 41 is larger than the quartz plate 42 by temperature increase. When stretched, on the tip side of the quartz plate 42 which is on the opposite side to the position of the fixing portion 50, the support plate 41 and the quartz plate 42 are stretched by separate extension amounts.

석영판 (42) 의 양단 중, 고정부 (50) 와는 반대측인 선단측에는, 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 상에 배치되는 기판 (16) 의 측면과 접촉하는 높이에 선단측 스토퍼 (56) 가 형성되어 있다.Among both ends of the quartz plate 42, on the tip side opposite to the fixed part 50, a tip-side stopper at a height in contact with the side surface of the substrate 16 disposed on the finger parts 51a to 54a, 51b to 54b. 56) is formed.

손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 상에 배치된 기판 (16) 이 선단 방향으로 이동하면 선단측 스토퍼 (56) 에 접촉하고, 정지하게 되어 있다.When the substrate 16 disposed on the finger portions 51a to 54a and 51b to 54b moves in the tip direction, it comes into contact with the tip side stopper 56 and stops.

석영판 (42) 의 열팽창 계수는 0.6 × 10-6/K 이고, 알루미나는 7.2 × 10-6/K 이고, 가열되었을 때의 지지판 (41) 의 열팽창량은, 석영판 (42) 의 열팽창량보다 10 배 이상 크게 되어 있고, 위치 결정 손가락부 (55) 가 가열되면, 위치 결정 손가락부 (55) 의 지지판 (41) 과 석영판 (42) 에서는, 지지판 (41) 이 석영판 (42) 보다 크게 열팽창한다.The coefficient of thermal expansion of the quartz plate 42 is 0.6 x 10 -6 /K, the alumina is 7.2 x 10 -6 /K, and the amount of thermal expansion of the support plate 41 when heated is the amount of thermal expansion of the quartz plate 42 When the positioning finger part 55 is heated, the support plate 41 and the quartz plate 42 of the positioning finger part 55 have the support plate 41 larger than the quartz plate 42. great thermal expansion

석영판 (42) 과 지지판 (41) 은, 고정부 (50) 이외의 부분에서는 서로 고정되어 있지 않기 때문에, 고정부 (50) 에 있어서 지지판 (41) 과 석영판 (42) 이 서로 고정된 상태에서, 지지판 (41) 의 선단이, 석영판 (42) 에 방해받지 않고 신장되고, 지지판 (41) 의 선단의 진공조 (21) 에 대한 위치가 크게 변화된다.Since the quartz plate 42 and the support plate 41 are not fixed to each other in portions other than the fixed part 50 , the support plate 41 and the quartz plate 42 are fixed to each other in the fixed part 50 . , the tip of the support plate 41 is extended without being obstructed by the quartz plate 42, and the position of the tip of the support plate 41 with respect to the vacuum chamber 21 is greatly changed.

석영판 (42) 의 가열에 의한 신장이나 냉각에 의한 수축은, 지지판 (41) 의 신축과 비교하여 소량이며, 석영판 (42) 의 선단에 위치하는 선단측 스토퍼 (56) 의, 가열이나 냉각에 의한 진공조 (21) 에 대한 위치의 변화는 작다.The expansion and contraction by heating of the quartz plate 42 is small compared with the expansion and contraction of the support plate 41 , and heating or cooling of the tip-side stopper 56 located at the tip of the quartz plate 42 . The change of the position with respect to the vacuum chamber 21 by

손바닥부 (34) 가 진공조 (21) 의 내부에서 진공조 (21) 에 대해 동일한 위치에 배치되었을 때에, 진공조 (21) 에 대한 위치가 동일해지도록, 기판 (16) 을 그 손바닥부 (34) 의 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 상에 복수 회 배치할 때에, 각 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 의 온도가 상이하고, 기판 (16) 과 지지판 (41) 의 선단 사이의 위치 관계가 크게 상이해도, 기판 (16) 과 선단측 스토퍼 (56) 사이의 위치 관계에는 큰 차이는 없다.When the palm portion 34 is disposed at the same position with respect to the vacuum chamber 21 inside the vacuum chamber 21, the substrate 16 is attached to the palm portion so that the position with respect to the vacuum chamber 21 becomes the same. When disposing on the finger portions 51a to 54a, 51b to 54b of 34), the temperatures of the respective finger portions 51a to 54a, 51b to 54b are different, and the substrate 16 and the support plate 41 are Even if the positional relationship between the tips differs greatly, there is no significant difference in the positional relationship between the substrate 16 and the tip-side stopper 56 .

따라서, 복수의 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 끼리의 온도가 상이해도, 핸드 (40) 에 배치하는 기판 (16) 을, 선단측 스토퍼 (56) 에 대해 동일한 위치에 배치할 수 있다.Therefore, even if the temperatures of the plurality of finger portions 51a to 54a and 51b to 54b are different, the substrate 16 placed on the hand 40 can be placed at the same position with respect to the tip side stopper 56 . .

도 7 의 부호 57 은, 근본측 스토퍼이고, 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 상에 배치되는 기판 (16) 과 손바닥부 (34) 사이에 위치하고 있다. 손가락부 (51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b) 상에 배치된 기판 (16) 은 근본측으로 이동하면 근본측 스토퍼에 접촉하여 정지하므로, 근본측 스토퍼 (57) 를 초과하여 이동하는 일이 없도록 되어 있다.Reference numeral 57 in Fig. 7 denotes a proximal stopper, and is located between the palm portion 34 and the substrate 16 disposed on the finger portions 51a to 54a and 51b to 54b. When the substrate 16 disposed on the finger portions 51a to 54a and 51b to 54b moves to the root side, it comes into contact with the root side stopper and stops, so that it does not move beyond the root side stopper 57 .

또한, 도 5, 6 중, 부호 58 은 L 자형 형상의 보조판이고, 보조판 (58) 의 선단에 장착된 측방 스토퍼 (59) 는, 기판 (16) 의 4 변 중, 선단측 스토퍼 (56) 와 근본측 스토퍼 (57) 가 각각 접촉하는 변과는 상이한 변에 접촉하고, 기판 (16) 이 이동 방향과는 수직인 방향으로 이동하지 않도록 되어 있다. 도 2, 3, 7 에서는, 보조판 (58) 은 생략되어 있다.In Figs. 5 and 6, reference numeral 58 denotes an L-shaped auxiliary plate, and the side stopper 59 attached to the tip of the auxiliary plate 58 is, among the four sides of the substrate 16, the tip side stopper 56 and the The base-side stopper 57 is in contact with a side different from the contact side, so that the substrate 16 does not move in a direction perpendicular to the moving direction. 2, 3, and 7, the auxiliary plate 58 is abbreviate|omitted.

근본측 스토퍼 (57) 의 장착예를 도 8(c) 에 나타낸다. 근본측 스토퍼 (57) 의 구조와 선단측 스토퍼 (56) 의 구조는 동일하다.An example of attachment of the root-side stopper 57 is shown in Fig. 8(c). The structure of the root-side stopper 57 and the structure of the tip-side stopper 56 are the same.

부호 69 는 근본측 스토퍼 (57) 의 스토퍼 본체이고, 이 예에서는, 스토퍼 본체 (69) 에는 복수의 위치 결정공 (孔) (72a) 과, 1 개의 스토퍼 장공 (68) 이 형성되어 있다. 석영판 (42) 에는, 고정용 관통공 (72b) 이 형성되어 있고, 고정용 관통공 (72b) 에는, 위치 결정용 핀 (74) 이 배치되어 있다.Reference numeral 69 denotes a stopper body of the root-side stopper 57, and in this example, a plurality of positioning holes 72a and one long stopper hole 68 are formed in the stopper body 69. As shown in FIG. A through hole 72b for fixing is formed in the quartz plate 42, and the pin 74 for positioning is arrange|positioned in the through hole 72b for fixing.

복수의 위치 결정공 (72a) 은, 스토퍼 장공 (68) 이 신장되는 방향을 따라 배치되고, 복수의 위치 결정공 (72a) 과 스토퍼 장공 (68) 은 일렬로 늘어서도록 형성되어 있다.The plurality of positioning holes 72a are arranged along the direction in which the stopper long hole 68 extends, and the plurality of positioning holes 72a and the stopper long hole 68 are formed so as to be arranged in a line.

복수의 위치 결정공 (72a) 중, 원하는 위치 결정공 (72a) 에, 고정용 관통공 (72b) 상에 돌출된 핀 (74) 의 상부가 삽입되도록, 스토퍼 본체 (69) 를 석영판 (42) 에 놓는다. 핀 (74) 의 상부가 삽입되는 위치 결정공 (72a) 을 변경하면, 스토퍼 본체 (69) 의 위치를 변경할 수 있다.Among the plurality of positioning holes 72a, the stopper body 69 is attached to the quartz plate 42 so that the upper portion of the pin 74 protruding on the fixing through hole 72b is inserted into the desired positioning hole 72a. ) is placed on By changing the positioning hole 72a into which the upper part of the pin 74 is inserted, the position of the stopper body 69 can be changed.

스토퍼 본체 (69) 에는, 스토퍼 장공 (68) 이 형성되고, 스토퍼 장공 (68) 과 연통되는 위치의 석영판 (42) 의 부분에는 석영판 장공 (62a) 이 형성되어 있다.A stopper elongated hole 68 is formed in the stopper body 69 , and a quartz plate elongated hole 62a is formed in a portion of the quartz plate 42 at a position communicating with the stopper elongated hole 68 .

석영판 장공 (62a) 의 하방에 위치하는 지지판 (41) 에는, 석영판 장공 (62a) 과 연통하는 장소에 지지판 세공 (細孔) (62b) 이 형성되어 있다.In the support plate 41 located below the quartz plate elongate hole 62a, the support plate fine hole 62b is formed in the place which communicates with the quartz plate elongate hole 62a.

연통되는 스토퍼 장공 (68) 과 석영판 장공 (62a) 에는, 상부가 플랜지상으로 형성된 볼트 (61) 의 봉상 부분이 삽입 통과되고, 그 가는 하단은 지지판 세공 (62b) 에 삽입되어 있다.A rod-shaped portion of a bolt 61 having a flange-like upper portion is inserted through the stopper elongated hole 68 and the quartz plate elongated hole 62a, and the thin lower end thereof is inserted into the support plate hole 62b.

볼트 (61) 의 봉상 부분 중 지지판 세공 (62b) 보다 상부는 석영판 장공 (62a) 의 내부와 스토퍼 장공 (68) 의 내부에 위치하고 있고, 플랜지상 부분은, 스토퍼 장공 (68) 의 내부에 위치하고 있다.Among the rod-shaped parts of the bolt 61, the upper part of the support plate hole 62b is located inside the quartz plate long hole 62a and the inside of the stopper long hole 68, and the flange-shaped part is located inside the stopper long hole 68. have.

볼트 (61) 의 플랜지상 부분의 측면이, 스토퍼 본체 (69) 의 스토퍼 장공 (68) 의 내주면과 접촉할 수 있도록 되어 있다. 핀 (74) 과 볼트 (61) 에 의해, 스토퍼 본체 (69) 가 석영판 (42) 에 고정되어 있다.The side surface of the flange-like portion of the bolt 61 is allowed to contact the inner peripheral surface of the stopper long hole 68 of the stopper body 69 . The stopper body 69 is fixed to the quartz plate 42 by the pins 74 and bolts 61 .

선단측 스토퍼 (56) 는, 스토퍼 본체에 위치 결정공과 스토퍼 장공 (68) 이 형성되어 있고, 핀과 볼트로 석영판 (42) 에 고정되어 있는 점에서 동일하다.The tip-side stopper 56 is the same in that a positioning hole and a stopper long hole 68 are formed in the stopper body, and it is fixed to the quartz plate 42 with pins and bolts.

10 : 진공 처리 장치
16 : 기판
20 : 반송 로봇
21 : 진공조
30 : 지지체
34 : 손바닥부
40 : 핸드
41 : 지지판
42 : 석영판
421 ∼ 423 : 석영 부재
50 : 고정부
51a ∼ 54a, 51b ∼ 54b : 손가락부
55 : 위치 결정 손가락부
60 : 연결부10: vacuum processing device
16: substrate
20: transport robot
21: vacuum chamber
30: support
34: palm part
40 : hand
41: support plate
42: quartz plate
42 1 to 42 3 : quartz member
50: fixed part
51a-54a, 51b-54b: finger part
55: positioning finger part
60: connection part

Claims (8)

기판이 배치되는 핸드를 이동시키는 기판 반송 로봇으로서,
상기 핸드는,
손바닥부와,
상기 손바닥부에 형성되고, 1 장의 기판이 배치되는 복수 개의 가늘고 긴 손가락부를 가지며,
복수 개의 상기 손가락부 중, 적어도 1 개의 상기 손가락부는, 근본 부분이 상기 손바닥부에 고정된 가늘고 긴 지지판과, 상기 지지판 상에 상기 지지판을 따라 놓인 가늘고 긴 석영판을 갖는 위치 결정 손가락부이고,
상기 석영판의 양단 중, 상기 손바닥부에 가까운 근본측의 일단에는 고정부가 형성되고, 상기 손바닥부로부터 먼 선단측의 타단에는 선단측 스토퍼가 형성되고,
상기 고정부는, 상기 손바닥부와 상기 지지판으로 구성되는 지지체에 장착되고, 선단측의 상기 타단은 상기 지지체에는 장착되어 있지 않은 기판 반송 로봇.A substrate transfer robot for moving a hand on which a substrate is placed, comprising:
The hand is
palm and
It is formed in the palm part and has a plurality of long and thin finger parts on which one substrate is disposed,
Among the plurality of finger parts, at least one of the finger parts is a positioning finger part having an elongated support plate having a base part fixed to the palm part, and an elongated quartz plate placed on the support plate along the support plate,
Among both ends of the quartz plate, a fixing part is formed at one end on the root side close to the palm part, and a tip side stopper is formed on the other end on the tip side farther from the palm part,
The said fixing part is attached to the support body which consists of the said palm part and the said support plate, and the said other end of the front-end side is not attached to the said support body. 제 1 항에 있어서,
상기 핸드는 상기 위치 결정 손가락부를 2 개 이상 갖는 기판 반송 로봇.The method of claim 1,
wherein the hand has two or more of the positioning finger portions. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 석영판은, 복수의 석영 부재가 서로 고정되어 형성된 기판 반송 로봇.3. The method according to claim 1 or 2,
The quartz plate is a substrate transport robot formed by fixing a plurality of quartz members to each other. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 지지판은 알루미나로 구성된 기판 반송 로봇.3. The method according to claim 1 or 2,
The support plate is a substrate transfer robot made of alumina. 기판이 배치되는 핸드를 이동시키는 기판 반송 로봇과, 상기 기판 반송 로봇이 배치된 진공조를 갖는 반송실과,
상기 반송실에 접속되고, 상기 기판을 진공 처리하는 진공 처리실을 가지며,
상기 핸드는,
손바닥부와,
상기 손바닥부에 형성되고, 1 장의 기판이 배치되는 복수 개의 가늘고 긴 손가락부를 가지며,
복수 개의 상기 손가락부 중, 적어도 1 개의 상기 손가락부는, 근본 부분이 상기 손바닥부에 고정된 가늘고 긴 지지판과, 상기 지지판 상에 상기 지지판을 따라 놓인 가늘고 긴 석영판을 갖는 위치 결정 손가락부이고,
상기 석영판의 양단 중, 상기 손바닥부에 가까운 근본측의 일단에는 고정부가 형성되고, 상기 손바닥부로부터 먼 선단측의 타단에는 선단측 스토퍼가 형성되고,
상기 고정부는, 상기 손바닥부와 상기 지지판으로 구성되는 지지체에 장착되고, 선단측의 상기 타단은 상기 지지체에는 장착되어 있지 않고,
상기 핸드는 상기 위치 결정 손가락부를 2 개 이상 갖는 진공 처리 장치.A transfer chamber having a substrate transfer robot for moving a hand on which a substrate is placed, and a vacuum chamber in which the substrate transfer robot is placed;
a vacuum processing chamber connected to the transfer chamber and vacuum processing the substrate;
The hand is
palm and
It is formed in the palm part and has a plurality of long and thin finger parts on which one substrate is disposed,
of the plurality of finger parts, at least one of the finger parts is a positioning finger part having an elongated support plate having a base part fixed to the palm part, and an elongated quartz plate placed on the support plate along the support plate,
Among both ends of the quartz plate, a fixing part is formed at one end on the root side close to the palm part, and a tip side stopper is formed on the other end on the tip side farther from the palm part,
The fixing part is attached to a support body composed of the palm part and the support plate, and the other end of the front end is not attached to the support body,
The hand is a vacuum processing device having two or more of the positioning finger portions. 제 5 항에 있어서,
상기 핸드는 상기 위치 결정 손가락부를 2 개 이상 갖는 진공 처리 장치.6. The method of claim 5,
The hand is a vacuum processing device having two or more of the positioning finger portions. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
상기 석영판은, 복수의 석영 부재가 서로 고정되어 형성된 진공 처리 장치.7. The method according to claim 5 or 6,
The quartz plate is a vacuum processing apparatus in which a plurality of quartz members are fixed to each other. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
상기 지지판은 알루미나로 구성된 진공 처리 장치.7. The method according to claim 5 or 6,
The support plate is a vacuum processing device composed of alumina.
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