KR102267173B1 - Exhaust Unit, Apparatus and Method for treating substrate with the unit - Google Patents

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KR102267173B1 KR1020140106306A KR20140106306A KR102267173B1 KR 102267173 B1 KR102267173 B1 KR 102267173B1 KR 1020140106306 A KR1020140106306 A KR 1020140106306A KR 20140106306 A KR20140106306 A KR 20140106306A KR 102267173 B1 KR102267173 B1 KR 102267173B1
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세메스 주식회사
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    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기 및 상기 처리 공간에서 발생되는 퓸을 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은 상기 처리 용기에 결합되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관, 내부에 분기 유로가 형성되는 복수 개의 분기 배관들, 그리고 상기 통합 유로와 선택된 상기 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되, 상기 밸브 어셈블리는 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디 및 선택된 상기 분기 유로의 일부가 상기 통합 유로에 연통되고, 상기 분기 유로의 다른 일부를 차단하도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함한다. 따라서 복수 개의 분기 배관들을 선택적으로 개방하는 배기 유닛의 구성을 간소화할 수 있다.The present invention relates to an apparatus and method for processing a substrate. The substrate processing apparatus includes a processing container providing a processing space for processing a substrate therein and an exhaust unit exhausting fumes generated in the processing space, wherein the exhaust unit is coupled to the processing container and has an integrated flow path therein An integrated pipe formed therein, a plurality of branch pipes having a branch flow path formed therein, and a valve assembly communicating the integrated flow path and the selected branch flow path with each other, wherein the valve assembly includes an inner body having a buffer space therein; and a driving member configured to rotate the inner body so that a part of the selected branch flow path communicates with the integrated flow path and blocks the other part of the branch flow path. Accordingly, it is possible to simplify the configuration of the exhaust unit selectively opening the plurality of branch pipes.

Description

배기 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법{Exhaust Unit, Apparatus and Method for treating substrate with the unit}Exhaust unit, substrate processing apparatus having same, and method for treating substrate with the unit

본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 케미칼 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for treating a substrate, and more particularly, to an apparatus and method for chemically treating a substrate.

반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들이 수행된다. 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 공정이 진행되기 전 또는 후 단계에서 기판을 세정하는 세정 공정이 실시된다.In order to manufacture a semiconductor device or a liquid crystal display, various processes such as photolithography, etching, ashing, ion implantation, and thin film deposition are performed on a substrate. A cleaning process of cleaning the substrate is performed before or after the process to remove contaminants and particles generated in each process.

세정 공정은 기판 상에 케미칼을 공급하여 기판 상에 잔류된 파티클을 제거하는 공정이다. 세정 공정에는 다양한 종류의 케미칼들이 사용되며, 이 중에는 강산 또는 강염기의 성질을 가지는 케미칼들이 사용된다. 특히 강산의 케미칼과 강염기의 케미칼은 서로 혼합되는 경우에 염을 발생시키고, 케미칼의 회수 라인을 오염시킨다. 이로 인해 서로 다른 성질을 가지는 케미칼들은 각각 분리 배출하여 서로 혼합되는 것을 방지하고, 재사용할 수 있다.The cleaning process is a process of supplying chemicals to the substrate to remove particles remaining on the substrate. Various types of chemicals are used in the cleaning process, among which chemicals having properties of strong acids or strong bases are used. In particular, when a chemical of a strong acid and a chemical of a strong base are mixed with each other, salt is generated and the chemical recovery line is contaminated. As a result, chemicals having different properties are separately discharged, prevented from mixing with each other, and can be reused.

또한 강산 및 강염기의 케미칼들은 다량의 퓸을 발생시킨다. 각각의 퓸은 서로 혼합되어 염을 발생시키고, 주변 장치를 오염시킨다. 이에 따라 각각의 퓸은 서로 분리 배기시켜야 한다. 도 1은 일반적인 배기 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 하우징 내에 분위기는 통합 라인(2) 및 복수 개의 분기 라인들(4a,4b)로 배기된다. 각각의 분기 라인(4)에는 밸브(6a,6b)가 설치되며, 밸브(6)는 그 분기 라인(4)을 개폐한다. 예컨대, 강산의 케미칼 처리 공정이 수행될 때에는 하우징의 내부 분위기를 제1분기 라인(4a)으로 배기하고, 강염기의 케미칼 처리 공정이 수행될 때에는 제2분기 라인(4b)을 배기할 수 있다. In addition, chemicals of strong acids and strong bases generate a large amount of fume. Each fumes mix with each other, generating salts and contaminating the surrounding equipment. Accordingly, each of the fumes must be exhausted separately from each other. 1 is a cross-sectional view showing a general exhaust unit. Referring to FIG. 1 , the atmosphere in the housing is exhausted to an integrated line 2 and a plurality of branch lines 4a and 4b. Each branch line 4 is provided with valves 6a and 6b, and the valve 6 opens and closes the branch line 4 . For example, when the chemical treatment process of strong acid is performed, the internal atmosphere of the housing may be exhausted to the first branch line 4a, and when the chemical treatment process of strong base is performed, the second branch line 4b may be exhausted.

그러나 상술한 바와 같이, 복수 개의 분기 라인들(4)을 개폐하기 위해서는 복수 개의 밸브들(6)이 설치된다. 이에 따라 그 밸브들(6)을 설치하기 위한 설치 공간이 증대되어야 하며, 분기 라인(4)의 개수가 증가할수록 밸브(6)의 개수도 함께 증가된다. However, as described above, a plurality of valves 6 are installed to open and close the plurality of branch lines 4 . Accordingly, the installation space for installing the valves 6 must be increased, and as the number of branch lines 4 increases, the number of valves 6 also increases.

또한 분기 라인(4)이 분기되는 지점이 직육면체 형상으로 제공되는 경우에는 그 내부 공간의 가장자리 영역에 퓸이 정체되고, 이는 통합 라인(2) 또는 분기 라인(4)을 오염시킨다.In addition, when the branching point of the branch line 4 is provided in a rectangular parallelepiped shape, the fume stagnates in the edge region of the inner space, which contaminates the integrated line 2 or the branch line 4 .

본 발명은 새로운 구조의 배기 유닛을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide an exhaust unit having a novel structure.

또한 본 발명은 배기 유닛의 구성이 간소화된 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus in which the configuration of an exhaust unit is simplified.

또한 본 발명은 단일의 구동 부재를 통해 복수 개의 분기 라인들을 개폐할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of opening and closing a plurality of branch lines through a single driving member.

본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기, 상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제1처리액을 공급하는 제1처리액 공급 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제2처리액을 공급하는 제2처리액 공급 유닛, 상기 처리 용기와 상기 기판 지지 유닛 간에 상대 높이가 변경되도록 상기 처리 용기 또는 상기 기판 지지 유닛을 승하강시키는 승강 유닛, 그리고 상기 처리 공간에서 발생되는 퓸을 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은 상기 처리 용기에 결합되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관, 내부에 분기 유로가 각각 형성되는 복수 개의 분기 배관들, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 선택된 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되, 상기 밸브 어셈블리는 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들이 서로 연통되도록 상기 통합 배관 및 상기 분기 배관들 각각에 연결되는 외측 바디, 상기 외측 바디 내에 위치되며, 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 하나가 서로 연통되도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함한다. Embodiments of the present invention relate to apparatus and methods for processing substrates. A substrate processing apparatus includes a processing vessel providing a processing space for processing a substrate therein, a substrate supporting unit supporting a substrate in the processing space, and a first processing solution supplying a first processing liquid onto a substrate supported by the substrate supporting unit a liquid supply unit, a second processing liquid supply unit supplying a second processing liquid on a substrate supported by the substrate support unit, the processing container or the substrate support unit such that a relative height between the processing container and the substrate support unit is changed an elevating unit for elevating and lowering the unit, and an exhaust unit for evacuating fume generated in the processing space, wherein the exhaust unit is coupled to the processing container, an integrated pipe having an integrated flow path formed therein, and a branching flow path therein A plurality of branch pipes respectively formed, and a valve assembly communicating the integrated flow path and a branch flow path selected from among the branch flow paths, wherein the valve assembly includes the integrated pipe so that the integrated flow path and the branch flow paths communicate with each other. and an outer body connected to each of the branch pipes, an inner body positioned within the outer body and having a buffer space therein, and a drive for rotating the inner body so that the integrated flow path and one of the branch flow paths communicate with each other include absence.

상기 내측 바디는 구 형상으로 제공되며, 상기 통합 유로와 통하는 유입홀 및 상기 분기 유로들 중 어느 하나와 통하는 유출홀이 형성될 수 있다. 상기 구동 부재는 상기 유입홀이 향하는 방향에 평행한 축을 중심으로 상기 내측 바디를 회전시킬 수 있다. 상기 외측 바디는 상기 통합 배관과 결합되는 통합 포트, 상기 분기 배관들과 결합되는 복수 개의 분기 포트들, 그리고 상기 통합 포트 및 상기 분기 포트들을 서로 연결하고, 내부에 상기 내측 바디가 위치되는 중앙 몸체를 포함하되, 상기 유입홀은 상기 통합 포트에 대향하고, 상기 유출홀은 상기 분기 포트 중 어느 하나에 대향되게 제공될 수 있다. 상기 통합 포트의 길이방향과 평행한 방향으로 상기 밸브 어셈블리를 바라볼 때, 상기 분기 포트들은 상기 통합 포트를 둘러싸도록 위치될 수 있다. 서로 인접한 상기 분기 포트들 간의 사이각들은 동일하게 제공될 수 있다. 상기 처리 용기는 상기 기판 지지 유닛을 감싸는 안내벽, 상기 안내벽을 감싸며, 상기 안내벽의 상단과의 사이 공간에 제1유입구를 가지는 내부 회수통, 그리고 상기 내부 회수통을 감싸며, 상기 내부 회수통의 상단과의 사이 공간에 제2처리액이 유입되는 제2유입구를 가지는 외부 회수통을 포함할 수 있다. 상기 안내벽의 하단과 상기 내부 회수통 간에 사이 공간에는 제1배출구가 형성되고, 상기 내부 회수통의 하단과 상기 외부 회수통 간의 사이 공간에는 제2배출구가 형성될 수 있다. The inner body may be provided in a spherical shape, and an inlet hole communicating with the integrated flow path and an outlet hole communicating with any one of the branch flow paths may be formed. The driving member may rotate the inner body about an axis parallel to a direction in which the inlet hole faces. The outer body includes an integrated port coupled to the integrated pipe, a plurality of branch ports coupled to the branch pipes, and a central body that connects the integrated port and the branch ports to each other, in which the inner body is located. However, the inlet hole may be provided to face the integration port, and the outlet hole may be provided to face any one of the branch ports. When looking at the valve assembly in a direction parallel to the longitudinal direction of the integration port, the branch ports may be positioned to surround the integration port. Angles between the branch ports adjacent to each other may be provided to be the same. The processing container includes a guide wall surrounding the substrate support unit, an internal recovery container that surrounds the guide wall, a first inlet in a space between an upper end of the guide wall, and an internal recovery container, and surrounds the internal recovery container It may include an external recovery container having a second inlet through which the second treatment liquid flows into a space between the upper end of the . A first outlet may be formed in a space between the lower end of the guide wall and the internal collection container, and a second outlet may be formed in a space between the lower end of the internal collection container and the external collection container.

기판을 처리하는 처리 공간의 분위기를 배기하는 장치는 상기 처리 공간에 연결되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관, 내부에 분기 유로가 각각 형성되는 복수 개의 분기 배관들, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 선택된 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되, 상기 밸브 어셈블리는 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들이 서로 연통되도록 상기 통합 배관 및 상기 분기 배관들 각각에 연결되는 외측 바디, 상기 외측 바디 내에 위치되며, 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디, 그리고 상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 하나가 서로 연통되도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함한다. An apparatus for evacuating an atmosphere of a processing space for processing a substrate is connected to the processing space, an integrated pipe having an integrated flow path formed therein, a plurality of branch pipes each having a branch flow path formed therein, and the integrated flow path and the an outer body connected to each of the integrated pipe and the branch pipes so that the integrated flow path and the branch flow paths communicate with each other; It is located in the inner body, and includes an inner body having a buffer space therein, and a driving member for rotating the inner body so that one of the integrated passage and the branch passage communicates with each other.

상기 내측 바디는 구 형상으로 제공되며, 상기 통합 유로와 통하는 유입홀 및 상기 분기 유로들 중 어느 하나와 통하는 유출홀이 형성될 수 있다. 상기 구동 부재는 상기 유입홀이 향하는 방향에 평행한 축을 중심으로 상기 내측 바디를 회전시킬 수 있다. The inner body may be provided in a spherical shape, and an inlet hole communicating with the integrated flow path and an outlet hole communicating with any one of the branch flow paths may be formed. The driving member may rotate the inner body about an axis parallel to a direction in which the inlet hole faces.

상기 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법으로는 상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하고, 상기 제1유입구를 통해 상기 제1처리액을 회수하고, 이후에 상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하고, 상기 제2유입구를 통해 상기 제2처리액을 회수하되, 상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 어느 하나의 분기 유로를 통해 배기되도록 상기 내측 바디를 이동시키고, 상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 다른 하나의 분기 유로를 통해 상기 내측 바디를 이동시키는 것을 포함한다. As a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus, the first processing liquid is supplied on the substrate, the first processing liquid is recovered through the first inlet, and then the second processing liquid is supplied on the substrate. The second treatment liquid is supplied and the second treatment liquid is recovered through the second inlet, and the fumes generated during the recovery of the first treatment liquid are exhausted through any one branch passage of the branch pipes. The fume generated while moving the inner body and recovering the second treatment liquid includes moving the inner body through another branch flow path among the branch pipes.

상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제1유입구에 대응된 위치에서 진행되고, 상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제2유입구에 대응된 위치에서 진행될 수 있다. 상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제1배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기되고, 상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제2배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기될 수 있다. 상기 제1처리액은 산을 포함하는 케미칼이고, 상기 제2처리액은 염기를 포함하는 케미칼로 제공될 수 있다.The supply of the first processing liquid onto the substrate is performed at a position corresponding to the first inlet of the substrate, and the supply of the second processing liquid onto the substrate is performed at the position of the substrate corresponding to the second inlet. It can proceed in a given location. The fume generated while recovering the first treatment liquid is exhausted to the exhaust unit through the first outlet, and the fume generated while recovering the second treatment liquid is exhausted to the exhaust unit through the second outlet. can be The first treatment liquid may be a chemical containing an acid, and the second treatment liquid may be provided as a chemical containing a base.

도 1은 일반적인 배기 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 3의 배기 유닛을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4의 밸브 어셈블리를 보여주는 사시도이다.
도 6은 도 5의 밸브 어셈블리를 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 5의 밸브 어셈블리를 수직으로 절단한 사시도이다.
도 8 및 도 9는 도 6의 밸브 어셈블리의 배기 경로를 전환하는 과정을 보여주는 단면도들이다.
도 10은 도 5의 밸브 어셈블리의 다른 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 11은 도 5의 밸브 어셈블리의 또 다른 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 12는 도 3의 처리 용기의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a general exhaust unit.
2 is a plan view illustrating a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating the substrate processing apparatus of FIG. 2 .
FIG. 4 is a view schematically showing the exhaust unit of FIG. 3 .
FIG. 5 is a perspective view showing the valve assembly of FIG. 4 ;
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the valve assembly of FIG. 5 .
7 is a perspective view of the valve assembly of FIG. 5 cut vertically.
8 and 9 are cross-sectional views illustrating a process of switching an exhaust path of the valve assembly of FIG. 6 .
10 is a perspective view illustrating another embodiment of the valve assembly of FIG. 5 ;
11 is a perspective view showing another embodiment of the valve assembly of FIG. 5 .
12 is a cross-sectional view illustrating another embodiment of the processing vessel of FIG. 3 .

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This example is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Accordingly, the shapes of the components in the drawings are exaggerated in order to emphasize a clearer description.

본 실시예에는 기판을 케미칼 처리 및 린스 처리하는 세정 공정을 일 예로 설명한다. 그러나 본 실시예는 세정 공정에 한정되지 않고, 식각 공정, 애싱 공정, 현상 공정 등, 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 공정에 적용 가능하다.In this embodiment, a cleaning process of chemically treating and rinsing the substrate will be described as an example. However, the present embodiment is not limited to the cleaning process, and may be applied to a process of treating a substrate using a treatment solution, such as an etching process, an ashing process, and a developing process.

이하, 도 2 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 12 .

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스모듈(10)과 공정처리모듈(20)을 가진다. 인덱스모듈(10)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 가진다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다. 2 is a plan view illustrating a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2 , the substrate processing facility 1 includes an index module 10 and a process processing module 20 . The index module 10 has a load port 120 and a transfer frame 140 . The load port 120 , the transfer frame 140 , and the process processing module 20 are sequentially arranged in a line. Hereinafter, the direction in which the load port 120 , the transfer frame 140 , and the process treatment module 20 are arranged is referred to as a first direction 12 , and when viewed from the top, is perpendicular to the first direction 12 . The direction is referred to as a second direction 14 , and a direction perpendicular to a plane including the first direction 12 and the second direction 14 is referred to as a third direction 16 .

로드포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드포트(120)의 개수는 공정처리모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다. The carrier 130 in which the substrate W is accommodated is seated on the load port 140 . A plurality of load ports 120 are provided and they are arranged in a line along the second direction 14 . The number of load ports 120 may increase or decrease according to process efficiency and footprint conditions of the process processing module 20 . A plurality of slots (not shown) are formed in the carrier 130 for accommodating the substrates W in a horizontally arranged state with respect to the ground. As the carrier 130 , a Front Opening Unifed Pod (FOUP) may be used.

공정처리모듈(20)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정 챔버(260)를 가진다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송챔버(240)의 양측에는 각각 공정 챔버들(260)이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정 챔버들(260)은 이송챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송챔버(240)의 일측에는 복수 개의 기판처리부(260)들이 제공된다. 공정 챔버들(260) 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 챔버들(260) 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정 챔버들(260)이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정 챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정 챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정 챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.The process module 20 includes a buffer unit 220 , a transfer chamber 240 , and a process chamber 260 . The transfer chamber 240 is disposed in a longitudinal direction parallel to the first direction (12). Process chambers 260 are respectively disposed on both sides of the transfer chamber 240 . At one side and the other side of the transfer chamber 240 , the process chambers 260 are provided to be symmetrical with respect to the transfer chamber 240 . A plurality of substrate processing units 260 are provided at one side of the transfer chamber 240 . Some of the process chambers 260 are disposed along the longitudinal direction of the transfer chamber 240 . In addition, some of the process chambers 260 are disposed to be stacked on each other. That is, the process chambers 260 may be arranged in an A X B arrangement on one side of the transfer chamber 240 . Here, A is the number of process chambers 260 provided in a line along the first direction 12 , and B is the number of process chambers 260 provided in a line along the third direction 16 . When four or six process chambers 260 are provided on one side of the transfer chamber 240 , the process chambers 260 may be arranged in an arrangement of 2×2 or 3×2. The number of process chambers 260 may increase or decrease. Unlike the above, the process chamber 260 may be provided only on one side of the transfer chamber 240 . In addition, the process chamber 260 may be provided as a single layer on one side and both sides of the transfer chamber 240 .

버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 마주보는 면 및 이송챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다. The buffer unit 220 is disposed between the transfer frame 140 and the transfer chamber 240 . The buffer unit 220 provides a space in which the substrate W stays before the substrate W is transferred between the transfer chamber 240 and the transfer frame 140 . A slot (not shown) in which the substrate W is placed is provided in the buffer unit 220 . A plurality of slots (not shown) are provided to be spaced apart from each other in the third direction 16 . The buffer unit 220 has a surface facing the transfer frame 140 and a surface facing the transfer chamber 240 are opened.

이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정처리모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다. The transfer frame 140 transfers the substrate W between the carrier 130 seated on the load port 120 and the buffer unit 220 . The transfer frame 140 is provided with an index rail 142 and an index robot 144 . The index rail 142 is provided in a longitudinal direction parallel to the second direction 14 . The index robot 144 is installed on the index rail 142 and moves linearly in the second direction 14 along the index rail 142 . The index robot 144 has a base 144a, a body 144b, and an index arm 144c. The base 144a is installed to be movable along the index rail 142 . The body 144b is coupled to the base 144a. The body 144b is provided to be movable along the third direction 16 on the base 144a. In addition, the body 144b is provided to be rotatable on the base 144a. The index arm 144c is coupled to the body 144b and is provided to be movable forward and backward with respect to the body 144b. A plurality of index arms 144c are provided to be individually driven. The index arms 144c are arranged to be stacked apart from each other in the third direction 16 . Some of the index arms 144c are used when transferring the substrate W from the process processing module 20 to the carrier 130 , and the other part of the index arms 144c is used for transferring the substrate W from the carrier 130 to the process processing module 20 . ) can be used to return This may prevent particles generated from the substrate W before the process from adhering to the substrate W after the process in the process of the index robot 144 loading and unloading the substrate W.

이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정 챔버(260) 간에, 그리고 공정 챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. The transfer chamber 240 transfers the substrate W between the buffer unit 220 and the process chamber 260 and between the process chambers 260 . A guide rail 242 and a main robot 244 are provided in the transfer chamber 240 . The guide rail 242 is disposed so that its longitudinal direction is parallel to the first direction 12 . The main robot 244 is installed on the guide rail 242 and linearly moved along the first direction 12 on the guide rail 242 . The main robot 244 has a base 244a, a body 244b, and a main arm 244c. The base 244a is installed to be movable along the guide rail 242 . The body 244b is coupled to the base 244a. The body 244b is provided to be movable along the third direction 16 on the base 244a. In addition, the body 244b is provided to be rotatable on the base 244a. The main arm 244c is coupled to the body 244b, which is provided to be movable forward and backward with respect to the body 244b. A plurality of main arms 244c are provided to be individually driven. The main arms 244c are arranged to be stacked apart from each other in the third direction 16 .

공정 챔버(260)는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판 처리 장치(300)가 제공된다. 기판 처리 장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정 챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정 챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 기판 처리 장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 기판 처리 장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.The process chamber 260 is provided with a substrate processing apparatus 300 for performing a cleaning process on the substrate W. The substrate processing apparatus 300 may have a different structure according to the type of cleaning process performed. Alternatively, the substrate processing apparatus 300 in each process chamber 260 may have the same structure. Optionally, the process chambers 260 are divided into a plurality of groups, so that the substrate processing apparatuses 300 in the process chamber 260 belonging to the same group are the same as each other, and the substrate processing apparatuses in the process chamber 260 belonging to different groups. The structure of 300 may be provided differently from each other.

기판 처리 장치(300)는 도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(300)는 하우징(310), 처리 용기(320), 기판 지지 유닛(340), 승강 유닛(360), 액 공급 유닛(370), 그리고 배기 유닛을 포함한다. 3 is a cross-sectional view illustrating the substrate processing apparatus of FIG. 2 . Referring to FIG. 3 , the substrate processing apparatus 300 includes a housing 310 , a processing container 320 , a substrate support unit 340 , an elevation unit 360 , a liquid supply unit 370 , and an exhaust unit. .

하우징(310)은 내부에 공간을 형성한다. 처리 용기(320)는 하우징(310)의 내부에 위치된다. 처리 용기(320)의 내부에는 기판(W)을 처리하는 처리 공간이 형성된다. 처리 용기(320)는 안내벽(321), 내부 회수통(322), 중간 회수통(324), 그리고 외부 회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,324,326)은 공정에 사용된 처리액 중 서로 상이한 처리액을 분리 회수한다. 안내벽(321)은 기판 지지 유닛(340)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 내부 회수통(322)은 안내벽(321)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 중간 회수통(324)은 내부 회수통(322)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부 회수통(326)은 중간 회수통(324)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(322)과 안내벽(321)의 사이 공간은(322a)은 처리액이 유입되는 제1유입구로 기능한다. 내부 회수통(322)과 중간 회수통(324)의 사이 공간(324a)은 처리액이 유입되는 제2유입구로 기능한다. 중간 회수통(324)과 외부 회수통(326)의 사이 공간(326a)은 처리액이 유입되는 제3유입구로 기능한다. 또한 안내벽(321)의 하단과 내부 회수통(322)의 사이 공간(322c)은 처리액으로부터 발생된 퓸을 배출되는 제1배출구로 기능한다. 내부 회수통(322)의 하단과 중간 회수통(324)의 사이 공간(324c)은 처리액으로부터 발생된 퓸을 배출되는 제2배출구로 기능한다. 중간 회수통(324)의 하단과 외부 회수통(326)의 사이 공간(326c)은 처리액으로부터 발생된 퓸을 배출되는 제3배출구로 기능한다. 각각의 회수통에는 서로 상이한 종류의 처리액이 유입될 수 있다. 각각의 회수통(322,324,326)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수 라인(322b,324b,326b)이 연결된다. 각각의 회수라인(322b,324b,326b)은 각각의 회수통(322,324,326)을 통해 유입된 처리액을 배출한다. 배출된 처리액은 외부의 처리액 재생 시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다. The housing 310 forms a space therein. The processing vessel 320 is located inside the housing 310 . A processing space for processing the substrate W is formed in the processing container 320 . The processing container 320 has a guide wall 321 , an inner recovery container 322 , an intermediate recovery container 324 , and an external recovery container 326 . Each of the recovery tubes 322 , 324 , and 326 separates and recovers different treatment liquids from among the treatment liquids used in the process. The guide wall 321 is provided in the shape of an annular ring surrounding the substrate support unit 340 , and the internal collection container 322 is provided in the shape of an annular ring surrounding the guide wall 321 . The intermediate recovery container 324 is provided in an annular ring shape surrounding the inner recovery container 322 , and the outer recovery container 326 is provided in an annular ring shape surrounding the intermediate recovery container 324 . The space 322a between the internal recovery container 322 and the guide wall 321 functions as a first inlet through which the treatment liquid flows. The space 324a between the internal recovery container 322 and the intermediate recovery container 324 functions as a second inlet through which the treatment liquid flows. The space 326a between the intermediate collection tube 324 and the external collection tube 326 functions as a third inlet through which the treatment liquid flows. In addition, the space 322c between the lower end of the guide wall 321 and the internal collection container 322 functions as a first outlet for discharging the fumes generated from the treatment liquid. The space 324c between the lower end of the internal recovery container 322 and the intermediate recovery container 324 functions as a second outlet through which the fume generated from the treatment liquid is discharged. The space 326c between the lower end of the intermediate collection tube 324 and the external collection tube 326 functions as a third outlet through which the fume generated from the treatment liquid is discharged. Different types of treatment liquids may be introduced into each of the recovery bins. Recovery lines 322b, 324b, and 326b extending vertically downwards are connected to each of the recovery barrels 322, 324, and 326. Each of the recovery lines 322b, 324b, and 326b discharges the treatment liquid introduced through the respective recovery tanks 322, 324, and 326. The discharged treatment liquid may be reused through an external treatment liquid regeneration system (not shown).

기판 지지 유닛(340)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시키는 스핀 헤드로 제공된다. 스핀 헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 구동부(349)에 의해 회전가능한 지지축(348)이 고정결합된다.The substrate support unit 340 is provided as a spin head for supporting the substrate W and rotating the substrate W during the process. The spin head 340 has a body 342 , a support pin 344 , a chuck pin 346 , and a support shaft 348 . Body 342 has a top surface that is provided as a generally circular shape when viewed from above. A rotatable support shaft 348 is fixedly coupled to the bottom surface of the body 342 by the driving unit 349 .

지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다. A plurality of support pins 344 are provided. The support pins 344 are disposed to be spaced apart from each other at predetermined intervals on the edge of the upper surface of the body 342 and protrude upward from the body 342 . The support pins 344 are arranged to have an annular ring shape as a whole by combination with each other. The support pin 344 supports the rear edge of the substrate W so that the substrate W is spaced a predetermined distance from the upper surface of the body 342 .

척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀 헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기 위치와 지지 위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기 위치는 지지 위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지 위치에 위치된다. 지지 위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.A plurality of chuck pins 346 are provided. The chuck pin 346 is disposed farther from the center of the body 342 than the support pin 344 . The chuck pin 346 is provided to protrude upward from the body 342 . The chuck pin 346 supports the side of the substrate W so that the substrate W is not laterally separated from the original position when the spin head 340 is rotated. The chuck pin 346 is provided to enable linear movement between the standby position and the support position along the radial direction of the body 342 . The standby position is a position further away from the center of the body 342 compared to the support position. When the substrate W is loaded or unloaded from the spin head 340 , the chuck pin 346 is positioned at a standby position, and when a process is performed on the substrate W, the chuck pin 346 is positioned at a support position. In the support position, the chuck pin 346 is in contact with the side of the substrate W.

승강 유닛(360)은 처리 용기(320)를 상하 방향으로 직선이동시킨다. 처리 용기(320)가 상하로 이동됨에 따라 스핀 헤드(340)에 대한 처리 용기(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 처리 용기(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀 헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀 헤드(340)가 처리 용기(320)의 상부로 돌출되도록 처리 용기(320)는 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 처리 용기(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강 유닛(360)은 스핀 헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.The lifting unit 360 linearly moves the processing container 320 in the vertical direction. As the processing vessel 320 moves up and down, the relative height of the processing vessel 320 with respect to the spin head 340 is changed. The lifting unit 360 has a bracket 362 , a moving shaft 364 , and a driver 366 . The bracket 362 is fixedly installed on the outer wall of the processing vessel 320 , and a moving shaft 364 , which is moved in the vertical direction by the driver 366 , is fixedly coupled to the bracket 362 . When the substrate W is placed on or lifted from the spin head 340 , the processing vessel 320 is lowered so that the spin head 340 protrudes above the processing vessel 320 . In addition, when the process is in progress, the height of the processing container 320 is adjusted so that the processing liquid can be introduced into the predetermined collection container 360 according to the type of the processing liquid supplied to the substrate W. Optionally, the lifting unit 360 may move the spin head 340 in the vertical direction.

액 공급 유닛(370)은 기판(W) 상으로 처리액을 공급한다. 액 공급 유닛(370)은 복수 개로 제공되며, 각각은 서로 상이한 종류의 처리액들을 공급한다. 일 예에의하면, 액 공급 유닛(370)은 제1처리액 공급 유닛(370a) 및 제2처리액 공급 유닛(370b)으로 제공될 수 있다. The liquid supply unit 370 supplies the processing liquid onto the substrate W. A plurality of liquid supply units 370 are provided, each of which supplies different types of treatment liquids. According to an example, the liquid supply unit 370 may be provided to the first processing liquid supply unit 370a and the second processing liquid supply unit 370b.

제1처리액 공급 유닛(370a)은 지지축(376), 아암(372), 구동기(378), 그리고 노즐(374)을 포함한다. 지지축(376)은 처리 용기(320)의 일측에 위치된다. 지지축(376)은 그 길이방향이 제3방향을 향하는 로드 형상을 가진다. 지지축(376)은 구동기(378)에 의해 회전 가능하도록 제공된다. 아암(372)은 지지축(376)의 상단에 결합된다. 아암(372)은 지지축(376)으로부터 수직하게 연장된다. 아암(372)의 끝단에는 노즐(374)이 고정 결합된다. 지지축(376)이 회전됨에 따라 노즐(374)은 아암(372)과 함께 스윙 이동 가능하다. 노즐(374)은 스윙 이동되어 공정 위치 및 대기 위치로 이동될 수 있다. 여기서 공정 위치는 노즐(374)이 기판 지지 유닛(340)에 지지된 기판(W)과 대향되는 위치이고, 대기 위치는 노즐(374)이 공정 위치를 벗어난 위치이다. The first processing liquid supply unit 370a includes a support shaft 376 , an arm 372 , a actuator 378 , and a nozzle 374 . The support shaft 376 is located on one side of the processing vessel 320 . The support shaft 376 has a rod shape whose longitudinal direction faces the third direction. The support shaft 376 is provided to be rotatable by the actuator 378 . The arm 372 is coupled to the upper end of the support shaft 376 . Arm 372 extends perpendicularly from support shaft 376 . A nozzle 374 is fixedly coupled to an end of the arm 372 . As the support shaft 376 is rotated, the nozzle 374 is swingable with the arm 372 . The nozzle 374 may be swingably moved to a process position and a standby position. Here, the process position is a position where the nozzle 374 faces the substrate W supported by the substrate support unit 340 , and the standby position is a position where the nozzle 374 is out of the process position.

선택적으로, 아암(372)은 그 길이방향을 향해 전진 및 후진 이동이 가능하도록 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 노즐(374)은 스윙 이동되어 기판(W)의 중심축과 일치되도록 이동될 수 있다. 예컨대, 제1처리액은 강산의 성질을 가지는 케미칼일 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO4) 또는 인산(P2O5)일 수 있다. Optionally, arm 372 may be provided to enable forward and backward movement in its longitudinal direction. When viewed from the top, the nozzle 374 may be swingably moved to coincide with the central axis of the substrate W. As shown in FIG. For example, the first treatment liquid may be a chemical having a property of a strong acid. The chemical may be sulfuric acid (H 2 SO 4 ) or phosphoric acid (P 2 O 5 ).

제2처리액 공급 유닛(370b)은 기판 지지 유닛(340)에 지지된 기판(W) 상에 제2처리액을 공급한다. 예컨대, 제2처리액은 강염기의 성질을 가지는 케미칼일 수 있다. 제1처리액 및 제2처리액은 서로 혼합되어 염을 발생시키는 케미칼일 수 있다. 제2처리액 공급 유닛(370b)은 제1처리액 공급 유닛(370a)과 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 이에 따라 제2처리액 공급 유닛(370b)에 대한 상세한 설명은 생략한다.The second processing liquid supply unit 370b supplies the second processing liquid on the substrate W supported by the substrate support unit 340 . For example, the second treatment liquid may be a chemical having a property of a strong base. The first treatment liquid and the second treatment liquid may be a chemical that is mixed with each other to generate a salt. The second processing liquid supply unit 370b is provided to have the same shape as the first processing liquid supply unit 370a. Accordingly, a detailed description of the second processing liquid supply unit 370b will be omitted.

배기 유닛(400)은 처리 공간에 발생된 퓸을 배기한다. 배기 유닛(400)은 기판을 액 처리 시 발생되는 퓸을 배기한다. 도 4는 도 3의 배기 유닛(400)을 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 배기 유닛(400)은 통합 배관(410), 분기 배관(420), 밸브 어셈블리(440), 그리고 제어기(490)를 포함한다. 통합 배관(410)은 처리 용기(310)의 배기홀에 연결된다. 통합 배관(410)의 내부에는 통합 경로가 형성된다. 분기 배관(420)은 복수 개로 제공된다. 분기 배관(420)의 내부에는 분기 경로가 형성된다. 각각의 분기 배관(420)은 통합 배관(410)에 연결된다. 각각의 분기 경로는 서로 상이한 종류의 퓸들이 분리 배기되는 경로로 제공된다. 일 예에 의하면, 각각의 분기 배관(420)은 통합 배관(410)의 동일 지점으로부터 분기되게 제공될 수 있다. 분기 배관(420)들은 2 개일 수 있다. 제1분기 배관(420a)은 강산의 퓸이 배기되는 배관이고, 제2분기 배관(420b)은 강염기의 퓸이 배기되는 배관일 수 있다.The exhaust unit 400 exhausts the fume generated in the processing space. The exhaust unit 400 exhausts fumes generated when the substrate is liquid-treated. FIG. 4 is a view schematically showing the exhaust unit 400 of FIG. 3 . Referring to FIG. 4 , the exhaust unit 400 includes an integrated pipe 410 , a branch pipe 420 , a valve assembly 440 , and a controller 490 . The integrated pipe 410 is connected to an exhaust hole of the processing vessel 310 . An integrated path is formed inside the integrated pipe 410 . A plurality of branch pipes 420 are provided. A branch path is formed in the branch pipe 420 . Each branch pipe 420 is connected to the integrated pipe 410 . Each branch path is provided as a path through which different types of fumes are separated and exhausted. According to an example, each branch pipe 420 may be provided to branch from the same point of the integrated pipe 410 . There may be two branch pipes 420 . The first branch pipe 420a may be a pipe through which strong acid fumes are exhausted, and the second branch pipe 420b may be a pipe through which strong acid fumes are exhausted.

밸브 어셈블리(440)는 복수 개의 분기 배관(420)들을 통합 배관(410)에 연결시킨다. 밸브 어셈블리(440)는 분기 경로들 중 일부가 통합 경로에 연통되도록 분기 경로들의 다른 일부를 차단한다. 일 예에 의하면, 밸브 어셈블리(440)는 분기 경로들 중 하나가 통합 경로와 일대일로 연통하도록 나머지 분기 경로들을 차단할 수 있다. The valve assembly 440 connects the plurality of branch pipes 420 to the integrated pipe 410 . The valve assembly 440 blocks other portions of the branch paths such that some of the branch paths communicate with the integrated path. According to an example, the valve assembly 440 may block the other branch paths so that one of the branch paths communicates with the integrated path one-to-one.

도 5는 도 4의 밸브 어셈블리를 보여주는 사시도이고, 도 6은 도 5의 밸브 어셈블리를 보여주는 단면도이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 밸브 어셈블리(440)는 외측 바디(450), 내측 바디(460), 그리고 구동 부재(470)를 포함한다. 외측 바디(450)는 통합 배관(410)과 복수 개의 분기 배관(420)들을 서로 연결한다. 외측 바디(450)에는 통합 배관(410) 및 분기 배관(420)들이 각각 결합된다. 외측 바디(450)는 중앙 몸체(452), 통합 포트(454), 그리고 분기 포트(456)를 포함한다. 중앙 몸체(452)는 내부에 공간이 형성된다. 공간이 형성되는 중앙 몸체(452)의 내측면은 구 형상을 가지도록 제공된다. 5 is a perspective view illustrating the valve assembly of FIG. 4 , and FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating the valve assembly of FIG. 5 . 5 and 6 , the valve assembly 440 includes an outer body 450 , an inner body 460 , and a driving member 470 . The outer body 450 connects the integrated pipe 410 and the plurality of branch pipes 420 to each other. An integrated pipe 410 and a branch pipe 420 are coupled to the outer body 450 , respectively. The outer body 450 includes a central body 452 , an integration port 454 , and a branch port 456 . The central body 452 has a space formed therein. The inner surface of the central body 452 in which the space is formed is provided to have a spherical shape.

통합 포트(454)는 통합 경로에서 몸체의 내부 공간으로 퓸이 유입되는 밸브 어셈블리(440)의 입구로 기능한다. 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)로부터 연장되게 제공된다. 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)의 외측면으로부터 외측 방향으로 돌출되게 제공된다. 통합 포트(454)는 그 길이 방향이 중앙 몸체(452)의 중심을 지나도록 제공된다. 분기 포트(456)는 몸체의 내부 공간에서 분기 경로로 퓸이 유출되는 밸브 어셈블리(440)의 출구로 기능한다. 분기 포트(456)는 복수 개로 제공된다. 각각의 분기 포트(456)들은 중앙 몸체(452)로부터 연장되게 제공된다. 각각의 분기 포트(456)는 중앙 몸체(452)의 외측면으로부터 외측 방향으로 돌출되게 제공된다. 일 예에 의하면, 분기 포트(456)는 분기 배관(420)과 일대일 대응되는 개수로 제공될 수 있다. 제1분기 포트(456a)에는 제1분기 배관(420a)이 결합되고, 제2분기 포트(456b)에는 제2분기 배관(420b)이 결합될 수 있다. 제1분기 포트(456a) 및 제2분기 포트(456b)는 통합 포트(454)의 길이 방향을 중심으로 서로 대칭되게 위치될 수 있다. 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)의 일측면에 위치되고, 복수 개의 분기 포트(456)들은 그 일측면과 반대되는 타측면에 위치될 수 있다.The integration port 454 functions as an inlet of the valve assembly 440 through which fume is introduced into the interior space of the body in the integration path. An integration port 454 is provided extending from the central body 452 . The integration port 454 is provided to protrude outwardly from the outer surface of the central body 452 . The integration port 454 is provided such that its longitudinal direction passes through the center of the central body 452 . The branch port 456 functions as an outlet of the valve assembly 440 through which the fume flows from the internal space of the body to the branch path. A plurality of branch ports 456 are provided. Each of the branch ports 456 is provided to extend from the central body 452 . Each branch port 456 is provided to protrude outwardly from the outer surface of the central body 452 . According to an example, the branch ports 456 may be provided in a one-to-one correspondence with the branch pipes 420 . A first branch pipe 420a may be coupled to the first branch port 456a, and a second branch pipe 420b may be coupled to the second branch port 456b. The first branch port 456a and the second branch port 456b may be positioned symmetrically with respect to the longitudinal direction of the integration port 454 . The integration port 454 is located on one side of the central body 452 , and the plurality of branch ports 456 may be located on the other side opposite to the one side thereof.

도 7은 도 5의 밸브 어셈블리를 수직으로 절단한 사시도이다. 도 7을 참조하면, 내측 바디(460)는 중앙 몸체(452)의 내측면과 대응되는 형상을 가지도록 제공된다. 내측 바디(460)는 구 형상을 가지도록 제공된다. 내측 바디(460)는 중앙 몸체(452)의 내부에 위치된다. 내측 바디(460)는 중앙 몸체(452)의 내부에서 회전 가능하도록 제공된다. 내측 바디(460)의 내부에는 버퍼 공간(462)이 형성되고, 외측면에는 유입홀(464) 및 유출홀(466)이 형성된다. 유입홀(464)은 통합 포트(454)에 대향되게 위치되고, 유출홀(466)은 제1분기 포트(456a) 또는 제2분기 포트(456b) 중 어느 하나에 대향되게 위치된다. 유입홀(464) 및 유출홀(466)은 버퍼 공간(462)을 통해 서로 통하도록 제공된다.7 is a perspective view of the valve assembly of FIG. 5 cut vertically. Referring to FIG. 7 , the inner body 460 is provided to have a shape corresponding to the inner surface of the central body 452 . The inner body 460 is provided to have a spherical shape. The inner body 460 is located inside the central body 452 . The inner body 460 is provided to be rotatable inside the central body 452 . A buffer space 462 is formed in the inner body 460 , and an inlet hole 464 and an outlet hole 466 are formed in the outer surface. The inlet hole 464 is positioned to face the integration port 454 , and the outlet hole 466 is positioned to face either the first branch port 456a or the second branch port 456b. The inlet hole 464 and the outlet hole 466 are provided to communicate with each other through the buffer space 462 .

다시 도 5 및 도 6을 참조하면, 구동 부재(470)는 통합 포트(454)의 길이방향과 평행한 방향을 축으로 내측 바디(460)를 회전시킨다. 구동 부재(470)는 구동축(472) 및 모터(474)를 포함한다. 구동축(472)은 통합 포트(454)와 평행한 길이방향을 가지도록 제공된다. 구동축(472)을 중앙 몸체(452)를 관통하여 내측 바디(460)에 결합된다. 구동축(472)은 통합 포트(454)와 평행한 길이방향을 가진다. 구동축(472)은 내측 바디(460)를 사이에 두고 통합 포트(454)에 대향되게 위치된다. 모터(474)는 구동축(472)을 회전시킨다. 내측 바디(460)는 구동축(472)과 함께 회전 가능하다.Referring back to FIGS. 5 and 6 , the driving member 470 rotates the inner body 460 about an axis parallel to the longitudinal direction of the integration port 454 . The drive member 470 includes a drive shaft 472 and a motor 474 . The drive shaft 472 is provided to have a longitudinal direction parallel to the integration port 454 . The driving shaft 472 passes through the central body 452 and is coupled to the inner body 460 . Drive shaft 472 has a longitudinal direction parallel to integration port 454 . The drive shaft 472 is positioned to face the integration port 454 with the inner body 460 interposed therebetween. The motor 474 rotates the drive shaft 472 . The inner body 460 is rotatable together with the drive shaft 472 .

제어기(490)는 제1처리액 공급 유닛(370a), 제2처리액 공급 유닛(370b), 승강 유닛(360), 그리고 밸브 어셈블리(440)을 제어한다. 제어기(490)는 기판(W)을 제1처리액으로 처리 시 제1유입구(322a)가 기판(W)에 대응되도록 처리 용기(320)의 높이를 조절하고, 통합 배관(410)과 제1분기 배관(420a)이 서로 통하도록 밸브 어셈블리(440)을 제어한다. 또한 제어기(490)는 기판(W)을 제2처리액으로 처리 시 제2유입구(324a)가 기판(W)에 대응되도록 처리 용기(320)의 높이를 조절하고, 통합 배관(410)과 제2분기 배관(420b)이 서로 통하도록 밸브 어셈블리(440)를 제어한다. The controller 490 controls the first processing liquid supply unit 370a , the second processing liquid supply unit 370b , the lifting unit 360 , and the valve assembly 440 . The controller 490 adjusts the height of the processing vessel 320 so that the first inlet 322a corresponds to the substrate W when the substrate W is treated with the first processing liquid, and the integrated pipe 410 and the first The valve assembly 440 is controlled so that the branch pipes 420a communicate with each other. In addition, the controller 490 adjusts the height of the processing vessel 320 so that the second inlet 324a corresponds to the substrate W when the substrate W is treated with the second processing liquid, and the integrated pipe 410 and the second processing liquid. The valve assembly 440 is controlled so that the two branch pipes 420b communicate with each other.

다음은 상술한 배기 유닛(400)을 이용하여 제1처리액 및 제2처리액 각각으로부터 발생된 퓸을 배기하는 과정을 설명한다. 도 8 및 도 9는 도 6의 밸브 어셈블리의 배기 경로를 전환하는 과정을 보여주는 단면도들이다. 도 8 및 도 9를 참조하면, 내부 회수통의 내측 공간이 기판과 대응되는 높이로 이동되면, 제1처리액 공급 유닛은 기판 상에 제1처리액을 공급한다. 이와 동시에 내측 바디(460)는 제1분기 배관(420a)이 개방되도록 회전된다. 내측 바디(460)는 유출홀(466)이 제1분기 배관(420a)과 대향되도록 회전된다. 제1처리액으로부터 발생된 퓸을 순차적으로 통합 배관(410), 밸브 어셈블리(440), 그리고 제1분기 배관(420a)을 통해 배기된다. 이후 외부 회수통과 내부 회수통 간의 사이 공간이 기판과 대응되는 높이로 이동되면, 제2처리액 공급 유닛은 기판 상에 제2처리액을 공급한다. 이와 동시에 내측 바디(460)는 제2분기 배관(420b)이 개방되도록 회전된다. 내측 바디(460)는 유출홀(466)이 제2분기 배관(420b)과 대향되도록 회전된다. 제2처리액으로부터 발생된 퓸을 순차적으로 통합 배관(410), 밸브 어셈블리(440), 그리고 제2분기 배관(420b)을 통해 배기된다.Next, a process of evacuating the fume generated from each of the first treatment liquid and the second treatment liquid using the exhaust unit 400 described above will be described. 8 and 9 are cross-sectional views illustrating a process of switching an exhaust path of the valve assembly of FIG. 6 . 8 and 9 , when the inner space of the internal collection container moves to a height corresponding to the substrate, the first processing liquid supply unit supplies the first processing liquid onto the substrate. At the same time, the inner body 460 is rotated so that the first branch pipe 420a is opened. The inner body 460 is rotated so that the outlet hole 466 faces the first branch pipe 420a. The fume generated from the first treatment liquid is sequentially exhausted through the integrated pipe 410 , the valve assembly 440 , and the first branch pipe 420a. Thereafter, when the space between the external collection container and the internal collection container moves to a height corresponding to the substrate, the second processing liquid supply unit supplies the second processing liquid onto the substrate. At the same time, the inner body 460 is rotated so that the second branch pipe 420b is opened. The inner body 460 is rotated so that the outlet hole 466 faces the second branch pipe 420b. The fume generated from the second treatment liquid is sequentially exhausted through the integrated pipe 410 , the valve assembly 440 , and the second branch pipe 420b.

상술한 실시예에는 분기 배관(420)이 2 개로 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나 도 10과 같이 분기 배관(420) 및 분기 포트(456) 각각은 3 개 이상으로 제공될 수 있다. 통합 포트(454)의 길이방향으로 통합 포트(454)를 바라볼 때, 각각의 분기 포트(456)는 유입 배관을 둘러싸도록 위치될 수 있다. 통합 포트(454)의 길이방향으로 통합 포트(454)를 바라볼 때, 각각의 분기 포트(456)는 통합 포트(454)에 중첩되지 않도록 위치될 수 있다. 각각의 분기 포트(456)는 서로 조합되어 원형으로 제공될 수 있다. In the above-described embodiment, it has been described that two branch pipes 420 are provided. However, as shown in Figure 10, each of the branch pipe 420 and the branch port 456 may be provided in three or more. When looking at the integration port 454 in the longitudinal direction of the integration port 454, each branch port 456 may be positioned to surround the inlet tubing. When looking at the aggregation port 454 in the longitudinal direction of the aggregation port 454 , each branch port 456 may be positioned such that it does not overlap the aggregation port 454 . Each branch port 456 may be combined with each other to provide a circular shape.

또한 통합 포트(454)는 중앙 몸체(452)의 일측면에 제공되고, 분기 포트(456)들은 타측면에 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나 도 11과 같이, 분기 포트(456)들은 중앙 몸체(452)의 일측면에 제공될 수 있다. 분기 포트(456)들은 통합 포트(454)를 감싸도록 배열될 수 있다.In addition, it has been described that the integration port 454 is provided on one side of the central body 452, and the branch ports 456 are provided on the other side. However, as shown in FIG. 11 , the branch ports 456 may be provided on one side of the central body 452 . The branch ports 456 may be arranged to surround the aggregation port 454 .

또한 처리 용기(320)는 내부 회수통(322), 중간 회수통(324), 그리고 외부 회수통(326)을 가지며, 제1처리액 및 제2처리액을 분리 회수하는 것으로 설명하였다. 그러나 도 12와 같이, 처리 용기(320)는 1 개의 회수통으로 제공되며, 처리 공간에 발생된 퓸을 서로 분리 배출할 수 있다. 선택적으로, 회수통은 4 개 이상으로 제공될 수 있다.In addition, the processing container 320 has an internal recovery container 322 , an intermediate recovery container 324 , and an external recovery container 326 , and it has been described that the first processing liquid and the second processing liquid are separated and recovered. However, as shown in FIG. 12 , the processing container 320 is provided as a single collection container, and the fumes generated in the processing space may be separated from each other and discharged. Optionally, four or more collection bins may be provided.

320: 처리 용기 340: 기판 지지 유닛
360: 승강 유닛 370a: 제1처리액 공급 유닛
370b: 제2처리액 공급 유닛 400: 배기 유닛
410: 통합 배관 420: 분기 배관
440: 밸브 어셈블리 450: 외측 바디
460: 내측 바디 470: 구동 부재320: processing vessel 340: substrate support unit
360: elevating unit 370a: first processing liquid supply unit
370b: second processing liquid supply unit 400: exhaust unit
410: integrated piping 420: branch piping
440: valve assembly 450: outer body
460: inner body 470: drive member

Claims (15)

내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기와;
상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제1처리액을 공급하는 제1처리액 공급 유닛과;
상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 제2처리액을 공급하는 제2처리액 공급 유닛과;
상기 처리 용기와 상기 기판 지지 유닛 간에 상대 높이가 변경되도록 상기 처리 용기 또는 상기 기판 지지 유닛을 승하강시키는 승강 유닛과;
상기 처리 공간에서 발생되는 퓸을 배기하는 배기 유닛을 포함하되,
상기 배기 유닛은,
상기 처리 용기에 결합되며, 내부에 통합 유로가 형성되는 통합 배관과;
내부에 분기 유로가 각각 형성되는 복수 개의 분기 배관들과;
상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 선택된 분기 유로를 서로 연통시키는 밸브 어셈블리를 포함하되,
상기 밸브 어셈블리는,
상기 통합 유로와 상기 분기 유로들이 서로 연통되도록 상기 통합 배관 및 상기 분기 배관들 각각에 연결되는 외측 바디와;
상기 외측 바디 내에 위치되며, 내부에 버퍼 공간을 가지는 내측 바디와;
상기 통합 유로와 상기 분기 유로들 중 하나가 서로 연통되도록 상기 내측 바디를 회전시키는 구동 부재를 포함하는 기판 처리 장치.a processing vessel providing a processing space therein for processing a substrate;
a substrate support unit for supporting a substrate in the processing space;
a first processing liquid supply unit configured to supply a first processing liquid onto the substrate supported by the substrate support unit;
a second processing liquid supply unit configured to supply a second processing liquid onto the substrate supported by the substrate support unit;
an elevating unit for elevating or lowering the processing vessel or the substrate supporting unit such that a relative height between the processing vessel and the substrate supporting unit is changed;
An exhaust unit for evacuating the fume generated in the processing space,
The exhaust unit is
an integrated pipe coupled to the processing vessel and having an integrated flow path therein;
a plurality of branch pipes each having branch passages formed therein;
A valve assembly for communicating the integrated flow path and a branch flow path selected among the branch flow paths with each other,
the valve assembly,
an outer body connected to each of the integrated pipe and the branch pipe so that the integrated flow path and the branch flow path communicate with each other;
an inner body positioned within the outer body and having a buffer space therein;
and a driving member configured to rotate the inner body so that the integrated flow path and one of the branch flow paths communicate with each other. 제1항에 있어서,
상기 내측 바디는 구 형상으로 제공되며, 상기 통합 유로와 통하는 유입홀 및 상기 분기 유로들 중 어느 하나와 통하는 유출홀이 형성되는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The inner body is provided in a spherical shape, and an inlet hole communicating with the integrated channel and an outlet hole communicating with any one of the branch channels are formed in the substrate processing apparatus. 제2항에 있어서,
상기 구동 부재는 상기 유입홀이 향하는 방향에 평행한 축을 중심으로 상기 내측 바디를 회전시키는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
The driving member rotates the inner body about an axis parallel to a direction in which the inlet hole faces. 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 밸브 어셈블리는,
상기 외측 바디는,
상기 통합 배관과 결합되는 통합 포트와;
상기 분기 배관들과 결합되는 복수 개의 분기 포트들과;
상기 통합 포트 및 상기 분기 포트들을 서로 연결하고, 내부에 상기 내측 바디가 위치되는 중앙 몸체를 포함하되,
상기 유입홀은 상기 통합 포트에 대향하고, 상기 유출홀은 상기 분기 포트 중 어느 하나에 대향되게 제공되는 기판 처리 장치.4. The method of claim 2 or 3,
the valve assembly,
The outer body,
an integrated port coupled to the integrated pipe;
a plurality of branch ports coupled to the branch pipes;
A central body connecting the integrated port and the branching ports to each other and having the inner body located therein,
The inlet hole faces the integration port, and the outlet hole faces any one of the branch ports. 제4항에 있어서,
상기 통합 포트의 길이방향과 평행한 방향으로 상기 밸브 어셈블리를 바라볼 때, 상기 분기 포트들은 상기 통합 포트를 둘러싸도록 위치되는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
The branch ports are positioned to surround the integration port when looking at the valve assembly in a direction parallel to the longitudinal direction of the integration port. 제5항에 있어서,
서로 인접한 상기 분기 포트들 간의 사이각들은 동일하게 제공되는 기판 처리 장치.6. The method of claim 5,
and angles between the branch ports adjacent to each other are the same. 제4항에 있어서,
상기 처리 용기는,
상기 기판 지지 유닛을 감싸는 안내벽과;
상기 안내벽을 감싸며, 상기 안내벽의 상단과의 사이 공간에 제1유입구를 가지는 내부 회수통과;
상기 내부 회수통을 감싸며, 상기 내부 회수통의 상단과의 사이 공간에 제2처리액이 유입되는 제2유입구를 가지는 외부 회수통을 포함하는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
The processing vessel,
a guide wall surrounding the substrate support unit;
an internal recovery passage that surrounds the guide wall and has a first inlet in a space between the guide wall and an upper end of the guide wall;
and an external recovery container surrounding the internal recovery container and having a second inlet through which a second processing liquid flows into a space between the inner recovery container and an upper end of the container. 제7항에 있어서,
상기 안내벽의 하단과 상기 내부 회수통 간에 사이 공간에는 제1배출구가 형성되고,
상기 내부 회수통의 하단과 상기 외부 회수통 간의 사이 공간에는 제2배출구가 형성되는 기판 처리 장치.8. The method of claim 7,
A first outlet is formed in the space between the lower end of the guide wall and the internal collection container,
A substrate processing apparatus having a second outlet formed in a space between the lower end of the internal collection container and the external collection container. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제8항의 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법에 있어서,
상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하고, 상기 제1유입구를 통해 상기 제1처리액을 회수하고, 이후에 상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하고, 상기 제2유입구를 통해 상기 제2처리액을 회수하되,
상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 어느 하나의 분기 유로를 통해 배기되도록 상기 내측 바디를 이동시키고,
상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 분기 배관들 중 다른 하나의 분기 유로를 통해 상기 내측 바디를 이동시키는 기판 처리 방법.In the method of processing a substrate using the substrate processing apparatus of claim 8,
The first treatment liquid is supplied on the substrate, the first treatment liquid is recovered through the first inlet, and the second treatment liquid is then supplied on the substrate, and the second treatment liquid is supplied through the second inlet. Recover the second treatment liquid,
Moving the inner body so that the fumes generated while recovering the first treatment liquid are exhausted through any one branch flow path of the branch pipes,
The fume generated while recovering the second processing liquid moves the inner body through another branch flow path among the branch pipes. 제12항에 있어서,
상기 기판 상에 상기 제1처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제1유입구에 대응된 위치에서 진행되고,
상기 기판 상에 상기 제2처리액을 공급하는 것은 상기 기판이 상기 제2유입구에 대응된 위치에서 진행되는 기판 처리 방법.13. The method of claim 12,
The supply of the first processing liquid onto the substrate is performed at a position where the substrate corresponds to the first inlet,
The supply of the second processing liquid onto the substrate is a substrate processing method in which the substrate is disposed at a position corresponding to the second inlet. 제13항에 있어서,
상기 제1처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제1배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기되고,
상기 제2처리액을 회수하는 중에 발생되는 퓸은 상기 제2배출구를 통해 상기 배기 유닛으로 배기되는 기판 처리 방법.14. The method of claim 13,
The fume generated while recovering the first treatment liquid is exhausted to the exhaust unit through the first outlet,
The fume generated while recovering the second treatment liquid is exhausted to the exhaust unit through the second outlet. 제12항에 있어서,
상기 제1처리액은 산을 포함하는 케미칼이고,
상기 제2처리액은 염기를 포함하는 케미칼로 제공되는 기판 처리 방법.


13. The method of claim 12,
The first treatment liquid is a chemical containing an acid,
The second treatment solution is a substrate treatment method provided as a chemical containing a base.
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