KR102264628B1 - Cleaning apparatus - Google Patents

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Abstract

(과제) 휘어짐이 심한 판상물이라도 간이한 구성으로 판상물의 전체면을 양호하게 세정하는 것.
(해결 수단) 세정 장치 (1) 가, 판상물 (W) 을 외주 가장자리에서 유지하여 둘레 방향으로 회전시키는 유지 수단 (10) 과, 회전 중인 판상물을 세정하는 세정 수단 (20) 과, 회전 중인 판상물의 상면 (Wa) 및 하면 (Wb) 의 각각에 세정액을 분사하는 세정액 분사 수단을 구비하고, 세정 수단이, 판상물의 상면에 맞닿아 판상물을 세정하는 세정 부재 (23) 와, 세정 부재를 판상물의 직경 방향으로 요동시키는 요동부 (21) 와, 만곡된 판상물의 상면에 세정 부재가 맞닿음으로써 세정 부재가 판상물의 상면에 추종하는 추종 기구 (22) 를 갖고, 유지 수단에 유지된 판상물의 상면에 맞닿아, 세정 부재에 의해 판상물의 상면을 따라 판상물의 상면이 세정되는 구성으로 하였다.(Project) To properly clean the entire surface of a plate-shaped object with a simple configuration even for a plate-shaped object with severe bending.
(Solution Means) The cleaning device 1 includes: a holding means 10 for holding the plate-shaped object W at the outer peripheral edge and rotating it in the circumferential direction; a cleaning means 20 for cleaning the plate-shaped object in rotation; A cleaning liquid spraying means for spraying a cleaning liquid to each of the upper surface Wa and the lower surface Wb of the plate-shaped object is provided, and the cleaning means includes a cleaning member 23 for cleaning the plate-shaped object in contact with the upper surface of the plate-shaped object, and the cleaning member. a plate-shaped object having a swinging portion 21 for swinging in the radial direction of the plate-shaped object, and a follower mechanism 22 in which the cleaning member follows the upper surface of the plate-shaped object when the cleaning member abuts against the upper surface of the curved plate-shaped object; It was set as the structure in which the upper surface of a plate-shaped object was contact|abutted on the upper surface, and the upper surface of a plate-shaped object was wash|cleaned along the upper surface by a cleaning member.

Figure 112017034172863-pat00001
Figure 112017034172863-pat00001

Description

세정 장치{CLEANING APPARATUS}CLEANING APPARATUS {CLEANING APPARATUS}

본 발명은 웨이퍼를 세정하는 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning a wafer.

가공 장치에 의해서 가공된 웨이퍼 등의 판상물에는 오염 등의 가공 부스러기가 부착되기 때문에, 스피너 장치 등의 세정 장치에 의해 판상물이 세정된다. 이 종류의 세정 장치로서, 판상물의 외주 가장자리를 유지하여 판상물의 상면 및 하면을 비접촉으로 세정하는 것이 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조). 특허문헌 1 에 기재된 세정 장치에서는, 파지 클램프에 의해 판상물의 외주 가장자리의 3 점이 유지된 상태에서, 상방의 노즐로부터 판상물의 상면에 세정액이 분사됨과 함께, 하방의 노즐로부터 판상물의 하면에 세정액이 분사되어, 판상물의 상면 및 하면이 동시에 세정된다.Since processing wastes, such as a stain|pollution|contamination, adhere to plate-shaped objects, such as a wafer processed by the processing apparatus, the plate-shaped object is wash|cleaned by cleaning apparatuses, such as a spinner apparatus. As this type of cleaning apparatus, it is known to hold the outer periphery of the plate-shaped object and wash the upper and lower surfaces of the plate-shaped object in a non-contact manner (for example, refer to Patent Document 1). In the cleaning apparatus described in Patent Document 1, in a state where three points of the outer peripheral edge of the plate-shaped object are held by the holding clamp, the cleaning liquid is sprayed from the upper nozzle to the upper surface of the plate-shaped object, and the cleaning liquid is sprayed from the lower nozzle to the lower surface of the plate-shaped object Thus, the upper and lower surfaces of the plate-like object are simultaneously cleaned.

또, 세정 장치로서, 노즐로부터 세정액의 분사에 의한 세정력 부족을 보충하기 위해, 스펀지 등으로 판상물의 상면을 문질러 스크럽 세정하는 세정 장치가 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 2 참조). 특허문헌 2 에 기재된 세정 장치에서는, 세정 테이블 상의 판상물에 대하여 상방의 노즐로부터 세정액이 분사되고, 통형상의 스펀지 롤이 판상물의 상면에 회전 맞닿음함으로써 판상물의 상면이 세정된다. 이때, 판상물의 직경 이상의 스펀지 롤이 사용되어, 스펀지 롤에 대하여 판상물이 상대 이동함으로써 판상물의 상면 전체에 스펀지 롤을 맞닿게 하는 것이 가능하게 되어 있다.Moreover, as a washing|cleaning device, in order to make up for the lack of washing|cleaning power by spraying of a washing|cleaning liquid from a nozzle, the washing|cleaning device which scrub-cleans the upper surface of a plate-shaped object with a sponge etc. is known (for example, refer patent document 2). In the washing|cleaning apparatus described in patent document 2, a washing|cleaning liquid is sprayed with respect to the plate-shaped object on a washing table from the upper nozzle, and the upper surface of a plate-shaped object is wash|cleaned by the tubular sponge roll rotating abutting against the upper surface of a plate-shaped object. At this time, a sponge roll having a diameter larger than the plate-shaped object is used, and the plate-shaped object moves relative to the sponge roll, thereby making it possible to make the sponge roll contact the entire upper surface of the plate-shaped object.

일본 공개특허공보 평11-031643호Japanese Patent Laid-Open No. 11-031643 일본 공개특허공보 2014-110270호Japanese Patent Laid-Open No. 2014-110270

그러나, 판상물의 외주 가장자리를 유지하는 세정 장치에서 스펀지 롤을 사용한 스크럽 세정을 실시하는 경우에는, 휘어짐이 심한 판상물에 대해서는 스펀지 롤로 양호하게 세정할 수 없다. 즉, 판상물의 휘어짐이 심하면, 스펀지 롤과 판상물이 부분적으로만 맞닿아, 판상물의 전체면을 스펀지 롤로 스크럽 세정하는 것이 곤란하였다. 판상물의 휘어짐에 따라 스펀지 롤을 연직 방향으로 상하 이동시키는 기구를 구비하는 것도 고려할 수 있지만, 세정 장치의 장치 구성이 복잡해져 비용이 증대되어 버린다는 문제가 있었다.However, when scrub cleaning using a sponge roll is performed in the cleaning apparatus which holds the outer peripheral edge of a plate-shaped object, about a plate-shaped object with severe curvature, it cannot wash|clean favorably with a sponge roll. That is, when the bending of the plate-shaped object was severe, the sponge roll and the plate-shaped object only partially contacted, and it was difficult to scrub and clean the entire surface of the plate-shaped object with the sponge roll. It is also conceivable to provide a mechanism for moving the sponge roll up and down in the vertical direction as the plate-like material warps, but there is a problem that the device configuration of the cleaning device becomes complicated and the cost increases.

본 발명은 이러한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 휘어짐이 심한 판상물이라도 간이한 구성으로 판상물의 전체면을 양호하게 세정할 수 있는 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to provide a cleaning apparatus capable of cleaning the entire surface of a plate-shaped object with a simple configuration, even if it is a plate-shaped object with severe bending.

본 발명의 세정 장치는, 판상물을 외주 가장자리에서 유지하여 판상물을 둘레 방향으로 회전시키는 유지 수단과, 그 유지 수단에 의해 유지되어 회전하고 있는 판상물을 세정하는 세정 수단과, 그 유지 수단에 유지된 판상물의 상면 및 하면의 각각에 세정액을 분사하는 세정액 분사 수단을 구비한 세정 장치로서, 그 세정 수단은, 판상물의 상면에 맞닿아 판상물을 세정하는 세정 부재와, 그 세정 부재를 판상물의 직경 방향으로 요동시킴과 함께 만곡된 판상물의 상면에 추종하는 요동부를 구비하고, 그 유지 수단에 유지된 판상물의 상면에 맞닿아 그 세정 부재가 판상물의 상면을 따라 판상물의 상면을 세정하는 것을 특징으로 한다.The cleaning apparatus of the present invention includes a holding means for holding a plate-shaped object at an outer peripheral edge and rotating the plate-shaped object in a circumferential direction, a cleaning means for cleaning the rotating plate-shaped object held by the holding means, and the holding means. A cleaning apparatus provided with a cleaning liquid spraying means for spraying a cleaning liquid to each of the upper and lower surfaces of the held plate-like object, the cleaning means comprising: a cleaning member for cleaning the plate-like object in contact with the upper surface of the plate-like object; It is characterized in that it has a swinging part following the upper surface of the plate-shaped object which is curved while swinging in the radial direction, and abuts against the upper surface of the plate-shaped object held by the holding means, and the cleaning member cleans the upper surface of the plate-shaped object along the upper surface of the plate-shaped object. do.

이 구성에 의하면, 판상물의 외주 가장자리가 유지된 상태에서 판상물의 상면 및 하면에 세정액이 분사됨과 함께, 판상물의 상면에 세정 부재가 맞닿아져 판상물이 스크럽 세정된다. 이때, 판상물이 둘레 방향으로 회전된 상태에서, 세정 부재가 판상물의 상면의 만곡에 추종하면서 판상물의 직경 방향으로 요동되므로, 판상물의 상면 전체에 세정 부재를 맞닿게 할 수 있다. 또, 세정 부재가 판상물의 상면에 맞닿아 판상물의 상면을 따라 세정 부재의 움직임이 추종되므로, 세정 부재를 상하 방향으로 이동시키는 기구가 불필요해져 장치 구성이 복잡해지는 일이 없다. 이와 같이, 휘어짐이 심한 판상물이라도 간이한 구성으로 판상물의 전체면을 양호하게 세정할 수 있다.According to this configuration, while the cleaning liquid is sprayed on the upper and lower surfaces of the plate-shaped object while the outer peripheral edge of the plate-shaped object is maintained, the cleaning member is brought into contact with the upper surface of the plate-shaped object to scrub the plate-shaped object. At this time, while the plate-shaped object is rotated in the circumferential direction, the cleaning member swings in the radial direction of the plate-shaped object while following the curvature of the upper surface of the plate-shaped object, so that the cleaning member can be brought into contact with the entire upper surface of the plate-shaped object. In addition, since the cleaning member abuts against the upper surface of the plate-shaped object and the movement of the cleaning member is followed along the upper surface of the plate-shaped object, a mechanism for moving the cleaning member in the vertical direction is unnecessary and the apparatus configuration is not complicated. In this way, even for a plate-shaped object with severe warpage, the entire surface of the plate-shaped object can be satisfactorily cleaned with a simple configuration.

본 발명의 세정 장치에 있어서, 그 요동부는, 요동하는 선단에 배치 형성되어 그 세정 부재를 연직 방향으로 가이드하는 연직 가이드와, 그 세정 부재를 유지하고 또한 그 연직 가이드에 가이드되는 홀더와, 그 홀더를 그 연직 가이드에 가이드된 상태로 그 요동부의 그 선단에 고정시키는 스프링을 구비하고, 그 스프링이 신축함으로써 그 연직 가이드를 따라 그 홀더 및 그 세정 부재가 상하로 요동하여 만곡된 판상물의 상면에 추종한다.In the cleaning apparatus of the present invention, the swinging portion includes: a vertical guide disposed at a swinging tip and guiding the cleaning member in a vertical direction; a holder holding the cleaning member and guided by the vertical guide; and the holder is provided with a spring for fixing it to the tip of the swinging part while being guided by the vertical guide, and when the spring expands and contracts, the holder and the cleaning member swing up and down along the vertical guide to the upper surface of the curved plate-shaped object follow

본 발명의 세정 장치에 있어서, 그 요동부의 그 선단에 배치 형성되어 연직 하향으로 연신되어 있는 피스톤 부재와, 그 피스톤 부재에 걸어맞추는 오목부를 구비하고 연직 방향으로 구동 가능한 실린더 부재와, 그 실린더 부재의 그 오목부 내에 연직 하향으로 압축 에어를 분사하는 에어 분사구와, 그 실린더 부재의 하면측에 배치 형성된 그 세정 부재를 구비하고, 그 피스톤 부재의 그 에어 분사구로부터 그 오목부 내에 압축 에어가 분사되어 그 오목부 내에 공간을 갖는 상태로 그 세정 부재가 판상물에 맞닿고, 그 피스톤 부재를 따라 그 실린더 부재 및 그 세정 부재가 상하로 요동하여 만곡된 판상물의 상면에 추종한다.In the cleaning apparatus of the present invention, there is provided a piston member disposed at the tip end of the swinging part and extending vertically downward, a cylinder member having a recess for engaging the piston member and capable of being driven in the vertical direction, and the cylinder member an air injection port for jetting compressed air vertically downward into the concave portion of the piston member, and the cleaning member disposed on the lower surface side of the cylinder member, wherein compressed air is injected into the concave portion from the air injection port of the piston member The cleaning member abuts against the plate-shaped object with a space in the recessed portion, and the cylinder member and the cleaning member swing up and down along the piston member to follow the curved upper surface of the plate-shaped object.

본 발명에 의하면, 세정 부재가 만곡된 판상물의 상면에 압입됨으로써, 판상물의 상면에 세정 부재의 움직임을 추종시켜, 휘어짐이 심한 판상물이라도 간이한 구성으로 판상물의 전체면을 양호하게 세정할 수 있다.According to the present invention, the cleaning member is press-fitted to the upper surface of the curved plate-shaped object, so that the movement of the cleaning member is followed on the upper surface of the plate-shaped object, and the entire surface of the plate-shaped object can be cleaned with a simple configuration even for a plate-shaped object with severe bending. .

도 1 은, 본 실시형태의 세정 장치의 모식도이다.
도 2 는, 비교예의 세정 수단에 의한 세정 동작의 설명도이다.
도 3 은, 본 실시형태의 세정 수단의 사시도 및 측면 모식도이다.
도 4 는, 본 실시형태의 세정 수단에 의한 세정 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 5 는, 제 1 변형예의 세정 수단의 사시도이다.
도 6 은, 제 2 변형예의 세정 수단의 사시도이다.1 is a schematic diagram of a cleaning apparatus according to the present embodiment.
2 is an explanatory diagram of a cleaning operation by a cleaning means of a comparative example.
3 is a perspective view and a schematic side view of the cleaning means according to the present embodiment.
4 is a diagram showing an example of a cleaning operation by the cleaning means of the present embodiment.
Fig. 5 is a perspective view of the cleaning means according to the first modification.
6 is a perspective view of a cleaning means according to a second modification.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 실시형태의 세정 장치에 대해 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태의 세정 장치의 모식도이다. 또한, 이하에 나타내는 세정 장치는 일례를 나타내는 것이며, 이 구성에 한정되지 않는다.Hereinafter, the washing|cleaning apparatus of this embodiment is demonstrated with reference to an accompanying drawing. 1 is a schematic diagram of a cleaning apparatus according to the present embodiment. In addition, the washing|cleaning apparatus shown below shows an example, and is not limited to this structure.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 세정 장치 (1) 는, 이른바 에지 클램프식의 세정 장치로서, 가공이 끝난 판상물 (W) 의 외주 가장자리를 유지함으로써, 유지 수단 (10) 의 테이블면 (13) 으로부터 판상물 (W) 을 띄운 상태로 세정하도록 구성되어 있다. 세정 장치 (1) 에서는 테이블면 (13) 에 대하여 판상물 (W) 이 비접촉으로 세정되기 때문에, 판상물 (W) 의 하면 (Wb) 에 오염 등의 가공 부스러기가 잘 부착되지 않도록 되어 있다. 또한, 판상물 (W) 은 세정 대상이 되는 것이면 되고, 예를 들어, 실리콘, 갈륨비소 등의 반도체 기판, 사파이어, 탄화규소 등의 무기 재료 기판, 전자 부품에 사용되는 각종 세라믹 기판이어도 된다.As shown in FIG. 1, the washing|cleaning apparatus 1 is a so-called edge-clamp type washing|cleaning device, and by holding the outer peripheral edge of the processed plate-shaped object W, from the table surface 13 of the holding means 10. It is comprised so that it may wash|clean in the state which floated the plate-shaped object W. In the washing|cleaning apparatus 1, since the plate-shaped object W is wash|cleaned non-contact with respect to the table surface 13, processing wastes, such as a stain|pollution|contamination, do not adhere to the lower surface Wb of the plate-shaped object W easily. The plate-like object W may be any object to be cleaned, and may be, for example, a semiconductor substrate such as silicon or gallium arsenide, an inorganic material substrate such as sapphire or silicon carbide, or various ceramic substrates used for electronic components.

세정 장치 (1) 의 유지 수단 (10) 은, 판상물 (W) 의 외주 가장자리를 복수 (본 실시형태에서는 4 개) 의 클램프 아암 (11) 에 의해 유지하고, 각 클램프 아암 (11) 이 장착된 회전 테이블 (12) 에 의해 판상물 (W) 을 둘레 방향으로 회전시키고 있다. 각 클램프 아암 (11) 은, 회전 테이블 (12) 의 외주 부분에 요동 가능하게 연결되어 있고, 스프링이나 에어 실린더 등으로 이루어지는 개폐 기구에 의해 움직여지고 있다. 각 클램프 아암 (11) 의 선단측이 회전 테이블 (12) 의 내측으로 기울어짐으로써 판상물 (W) 의 외주 가장자리가 유지되고, 각 클램프 아암 (11) 의 선단측이 회전 테이블 (12) 의 외측으로 기울어짐으로써 판상물 (W) 의 외주 가장자리가 해방된다.The holding means 10 of the washing|cleaning apparatus 1 hold|maintains the outer peripheral edge of the plate-shaped object W with the clamp arm 11 of a plurality (four in this embodiment), and each clamp arm 11 is attached. The plate-shaped object W is rotated in the circumferential direction by the used rotary table 12. Each clamp arm 11 is connected to the outer peripheral part of the rotary table 12 so that it can swing, and is moved by the opening-and-closing mechanism which consists of a spring, an air cylinder, etc.. The outer periphery of the plate-shaped object W is maintained by the tip side of each clamp arm 11 being inclined inward of the turn table 12, and the front end side of each clamp arm 11 is the outer side of the turn table 12. The outer peripheral edge of the plate-shaped object W is released by inclining to .

회전 테이블 (12) 의 하부에는 구동 모터 (도시 생략) 가 연결되어 있고, 구동 모터에 의해 회전 테이블 (12) 이 연직축 둘레로 회전된다. 회전 테이블 (12) 의 테이블면 (13) 의 중심에는, 판상물 (W) 의 하면 (Wb) 에 세정액을 분사하는 분사구 (14) 가 형성되어 있다. 회전 테이블 (12) 의 상방에는, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 세정액을 분사하는 분사 노즐 (15) 이 위치되어 있다. 분사구 (14) 및 분사 노즐 (15) 에는 세정액의 공급원 (16, 17) 이 접속되어 있고, 이들 분사구 (14), 분사 노즐 (15), 공급원 (16, 17) 에 의해 세정액 분사 수단이 구성되어 있다. 또, 세정 장치 (1) 에는, 유지 수단 (10) 에 유지되어 있는 회전 중인 판상물 (W) 을 세정하는 세정 수단 (20) 이 형성되어 있다.A drive motor (not shown) is connected to the lower portion of the rotary table 12, and the rotary table 12 is rotated about the vertical axis by the drive motor. In the center of the table surface 13 of the rotary table 12, an injection port 14 for spraying the cleaning liquid to the lower surface Wb of the plate-like object W is formed. Above the rotary table 12 , a spray nozzle 15 for spraying the cleaning liquid onto the upper surface Wa of the plate-like object W is located. A supply source 16, 17 of a cleaning liquid is connected to the injection port 14 and the injection nozzle 15, and the cleaning liquid injection means is constituted by the injection port 14, the injection nozzle 15, and the supply source 16, 17, have. Moreover, in the washing|cleaning apparatus 1, the washing|cleaning means 20 which wash|cleans the plate-shaped object W in rotation hold|maintained by the holding|maintenance means 10 is provided.

그런데, 도 2 의 비교예에 나타내는 바와 같이, 일반적인 세정 수단 (90) 은 수평 방향으로 스크럽 세정하도록 구성되어 있어, 판상물 (W) 이 유지 수단 (10) (도 1 참조) 에 대하여 수평 자세로 유지되어 있는 것이 전제로 되어 있다. 이 때문에, 판상물 (W) 에 휘어짐이 발생해 있으면, 판상물 (W) 의 전체면에 균일하게 세정 부재 (91) 를 맞닿게 할 수 없다. 즉, 판상물 (W) 의 높은 위치와 낮은 위치에서는 세정 부재 (91) 의 닿는 정도나 스펀지 부분의 찌부러지는 정도가 달라져, 판상물 (W) 에 대하여 균일한 조건으로 스크럽 세정할 수 없다. 이 때문에, 판상물 (W) 의 표면에 오염 등의 가공물이 남아 버릴 우려가 있었다.By the way, as shown in the comparative example of FIG. 2, the general washing|cleaning means 90 is comprised so that it may scrub-clean in a horizontal direction, and the plate-shaped object W is horizontal with respect to the holding means 10 (refer FIG. 1). It is assumed to be maintained. For this reason, if curvature occurs in the plate-shaped object W, it is impossible to make the cleaning member 91 contact|abut uniformly to the whole surface of the plate-shaped object W. As shown in FIG. That is, at the high and low positions of the plate-like object W, the degree of contact of the cleaning member 91 and the degree of crushing of the sponge portion are different, and the plate-like object W cannot be scrubbed under uniform conditions. For this reason, there existed a possibility that processed objects, such as a stain|pollution|contamination, might remain on the surface of the plate-shaped object W.

이 경우, 판상물 (W) 의 휘어짐에 따라 세정 수단 (90) 을 연직 방향으로 상하 이동시키는 기구를 형성하는 것도 고려할 수 있지만, 전기적인 제어가 필요해져 세정 수단 (90) 의 구조가 복잡해진다는 문제가 있었다. 또 통상적으로 기계적인 구조에는 강도를 고려하여 금속제의 부품이 사용되는데, 중량이 증가함과 함께 세정액에 사용되는 약품으로 인해 부식될 우려가 있었다. 그래서, 본 실시형태에서는, 판상물 (W) 에 세정 부재 (23) 가 맞닿았을 때에 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 세정 부재 (23) 의 움직임을 추종시키도록 하고 있다. 또, 경량이고 내약품성이 높은 수지 재료를 사용하여 세정 수단 (20) 을 형성하도록 하고 있다.In this case, it may be considered to form a mechanism for moving the cleaning means 90 up and down in the vertical direction according to the bending of the plate-like object W, but electrical control is required and the structure of the cleaning means 90 becomes complicated. There was a problem. In addition, metal parts are typically used in consideration of strength for mechanical structures, but there is a risk of corrosion due to chemicals used in cleaning liquids with an increase in weight. Then, in this embodiment, when the washing|cleaning member 23 abuts against the plate-shaped object W, it is made to follow the movement of the washing|cleaning member 23 with the upper surface Wa of the plate-shaped object W. As shown in FIG. Moreover, it is trying to form the washing|cleaning means 20 using the light weight and high chemical-resistance resin material.

이하, 도 3 을 참조하여, 본 실시형태의 세정 수단에 대해 상세하게 설명한다. 도 3 은, 본 실시형태의 세정 수단의 사시도 및 측면 모식도이다. 또한, 도 3A 는 세정 수단의 사시도, 도 3B 는 세정 수단의 측면 모식도를 각각 나타내고 있다.Hereinafter, with reference to FIG. 3, the washing|cleaning means of this embodiment is demonstrated in detail. 3 is a perspective view and a schematic side view of the cleaning means according to the present embodiment. 3A is a perspective view of the cleaning means, and FIG. 3B is a schematic side view of the cleaning means.

도 3A 및 도 3B 에 나타내는 바와 같이, 세정 수단 (20) 은, 유지 수단 (10) (도 1 참조) 에 의해 판상물 (W) 이 둘레 방향으로 회전된 상태에서, 요동부 (21) 에 의해 세정 부재 (23) 를 판상물 (W) 의 직경 방향으로 요동시키고, 세정 부재 (23) 를 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 맞닿게 하여 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 을 세정하도록 구성되어 있다. 요동부 (21) 의 요동 아암 (29) 은, 수지 재료에 의해 장척 (長尺) 으로 형성되어 있고, 기단측의 요동축 (도시 생략) 에 회전 가능하게 축 지지되어 있다. 요동부 (21) 는, 세정 부재 (23) 를 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 만곡에 추종시키는 추종 기구 (22) 를 구비하고 있다. 또, 요동부 (21) 에는, 이 추종 기구 (22) 를 개재하여 부재 홀더 (36) 에 수용된 세정 부재 (23) 가 장착되어 있다.3A and 3B , the washing means 20 is rotated in the circumferential direction by the holding means 10 (refer to FIG. 1 ), in the state in which the plate-like object W is rotated in the circumferential direction by the swinging part 21 . The cleaning member 23 is rocked in the radial direction of the plate-shaped object W, and the cleaning member 23 is brought into contact with the upper surface Wa of the plate-shaped object W to wash the upper surface Wa of the plate-shaped object W. is configured to do so. The rocking arm 29 of the rocking|fluctuation part 21 is formed elongately by the resin material, and is rotatably pivotally supported by the rocking|fluctuation shaft (not shown) of the base end side. The rocking part 21 is equipped with the following mechanism 22 which makes the washing|cleaning member 23 follow the curvature of the upper surface Wa of the plate-shaped object W. As shown in FIG. Moreover, the cleaning member 23 accommodated in the member holder 36 via this tracking mechanism 22 is attached to the rocking|fluctuation part 21 .

추종 기구 (22) 는, 요동 아암 (29) 의 선단측에 고정된 가이드 플레이트 (25) 와 세정 부재 (23) 를 유지하는 홀더 플레이트 (홀더) (31) 가 스프링 (35) 에 의해 연결되어 구성되어 있다. 가이드 플레이트 (25) 는, 수지 재료의 세로판부 (26) 와 가로판부 (27) 에 의해 측면에서 보아 역 L 자상으로 형성되어 있다. 가이드 플레이트 (25) 의 세로판부 (26) 의 전면에는, 홀더 플레이트 (31) 를 개재하여 세정 부재 (23) 를 연직 방향으로 가이드하는 1 쌍의 연직 가이드 (28) 가 수평 방향으로 간격을 두고 형성되어 있다. 가이드 플레이트 (25) 의 가로판부 (27) 의 하면에는, 수지 재료로 형성된 스프링 (35) 의 상단이 연결되어 있다.The follower mechanism 22 is configured in which a guide plate 25 fixed to the tip side of the swing arm 29 and a holder plate (holder) 31 holding the cleaning member 23 are connected by a spring 35 by a spring 35 . has been The guide plate 25 is formed in an inverted L-shape when viewed from the side by a vertical plate portion 26 and a horizontal plate portion 27 made of a resin material. On the front surface of the vertical plate portion 26 of the guide plate 25, a pair of vertical guides 28 for guiding the cleaning member 23 in the vertical direction via the holder plate 31 are formed at intervals in the horizontal direction. has been An upper end of a spring 35 made of a resin material is connected to the lower surface of the horizontal plate portion 27 of the guide plate 25 .

홀더 플레이트 (31) 는, 수지 재료에 의해 요동부 (21) 의 연장 방향으로 연장되는 장척상으로 형성되어 있다. 홀더 플레이트 (31) 의 기단측에는, 1 쌍의 연직 가이드 (28) 에 의해 연직 방향으로 가이드되는 슬라이더 (32) 가 기립 형성되어 있고, 슬라이더 (32) 의 상면에는 스프링 (35) 의 하단이 연결되어 있다. 홀더 플레이트 (31) 의 선단측에는, 부재 홀더 (홀더) (36) 를 장착 가능한 개구 (33) 가 형성되어 있다. 부재 홀더 (36) 는, 수지 재료에 의해 원통상으로 형성된 상부 홀더 (37) 와 하부 홀더 (38) 로 이루어져 있고, 각 홀더의 상단측의 플랜지 부분을 개재하여 홀더 플레이트 (31) 에 나사 고정되어 있다.The holder plate 31 is formed in the elongate shape extended in the extending direction of the rocking|fluctuation part 21 with the resin material. On the base end side of the holder plate 31, a slider 32 guided in the vertical direction by a pair of vertical guides 28 is formed to stand up, and the lower end of the spring 35 is connected to the upper surface of the slider 32, have. An opening 33 in which a member holder (holder) 36 can be attached is formed on the tip side of the holder plate 31 . The member holder 36 is composed of an upper holder 37 and a lower holder 38 formed in a cylindrical shape made of a resin material, and is screwed to the holder plate 31 via a flange portion on the upper end side of each holder. have.

상부 홀더 (37) 와 하부 홀더 (38) 는, 하부 홀더 (38) 의 통형상 부분의 내측으로 상부 홀더 (37) 의 통형상 부분이 들어가도록 하여 조합되고, 상부 홀더 (37) 의 통형상 부분의 하단과 하부 홀더 (38) 의 바닥벽 부분 사이에 세정 부재 (23) 가 장착되어 있다. 하부 홀더 (38) 의 바닥벽 부분에는 개구 (39) 가 형성되어 있고, 이 개구 (39) 를 통해 세정 부재 (23) 가 하부 홀더 (38) 로부터 하방으로 돌출되어 있다. 세정 부재 (23) 는, PVA (Polyvinyl Alcohol) 에 의해 스펀지상으로 형성되어 있고, 상부 홀더 (37) 의 통형상 부분과 하부 홀더 (38) 의 바닥벽 부분 사이에 끼워지도록 하여 부재 홀더 (36) 에 고정되어 있다.The upper holder 37 and the lower holder 38 are combined such that the cylindrical portion of the upper holder 37 enters the inside of the cylindrical portion of the lower holder 38 , and the cylindrical portion of the upper holder 37 . A cleaning member 23 is mounted between the lower end of the lower holder 38 and the bottom wall portion of the lower holder 38 . An opening 39 is formed in the bottom wall portion of the lower holder 38 , through which the cleaning member 23 projects downwardly from the lower holder 38 . The cleaning member 23 is formed in a sponge shape with PVA (Polyvinyl Alcohol), and is sandwiched between the cylindrical portion of the upper holder 37 and the bottom wall portion of the lower holder 38, and the member holder 36 is is fixed on

세정 수단 (20) 에서는, 만곡된 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 의해 세정 부재 (23) 가 압입됨으로써, 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 만곡에 추종된다. 즉, 만곡된 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 세정 부재 (23) 가 맞닿으면, 판상물 (W) 의 만곡에 따라 스프링 (35) 이 신축함으로써, 1 쌍의 연직 가이드 (28) 를 따라 홀더 플레이트 (31), 부재 홀더 (36), 세정 부재 (23) 가 일체적으로 상하로 요동한다. 이로써, 판상물 (W) 이 둘레 방향으로 회전된 상태에서, 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 만곡에 추종하면서 판상물 (W) 의 직경 방향으로 요동되므로, 판상물 (W) 의 상면 전체에 세정 부재 (23) 가 맞닿는다. 또한, 스프링 (35) 으로는, 판상물 (W) 의 종류에 따라 적절한 스프링 정수 (定數) 인 것이 사용된다.In the cleaning means 20, the cleaning member 23 is press-fitted by the upper surface Wa of the curved plate-shaped object W, so that the cleaning member 23 follows the curvature of the upper surface Wa of the plate-shaped object W. do. That is, when the cleaning member 23 comes into contact with the upper surface Wa of the curved plate-shaped object W, the spring 35 expands and contracts according to the curvature of the plate-shaped object W, whereby a pair of vertical guides 28 The holder plate 31 , the member holder 36 , and the cleaning member 23 integrally swing up and down along the . Thereby, in the state in which the plate-shaped object W is rotated in the circumferential direction, the cleaning member 23 swings in the radial direction of the plate-shaped object W while following the curvature of the upper surface Wa of the plate-shaped object W. The cleaning member 23 is in contact with the entire upper surface of the water W. In addition, as the spring 35, according to the kind of plate-shaped object W, what is an appropriate spring constant is used.

도 4 를 참조하여, 세정 수단에 의한 세정 동작에 대해 설명한다. 도 4 는, 본 실시형태의 세정 수단에 의한 세정 동작의 일례를 나타내는 도면이다. 또한, 도 4A 는 판상물의 외주 가장자리측의 세정 상태, 도 4B 는 판상물의 중앙측의 세정 상태를 각각 나타내고 있다.With reference to FIG. 4, the washing|cleaning operation|movement by a washing|cleaning means is demonstrated. 4 is a diagram showing an example of a cleaning operation by the cleaning means of the present embodiment. In addition, FIG. 4A shows the washing|cleaning state of the outer peripheral edge side of a plate-shaped object, and FIG. 4B has shown the washing|cleaning state of the center side of a plate-shaped object, respectively.

도 4A 에 나타내는 바와 같이, 유지 수단 (10) 의 복수의 클램프 아암 (11) 에 의해 판상물 (W) 의 외주 가장자리가 유지되고, 회전 테이블 (12) 에 의해 복수의 클램프 아암 (11) 에 유지된 판상물 (W) 이 둘레 방향으로 회전된다. 또, 회전 테이블 (12) 의 분사구 (14) 로부터 판상물 (W) 의 하면 (Wb) 을 향하여 세정액이 분사됨과 함께, 회전 테이블 (12) 의 상방의 분사 노즐 (15) 로부터 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 을 향하여 세정액이 분사된다. 그리고, 요동부 (21) 가 회전 중인 판상물 (W) 의 중심과 외주 가장자리 사이에서 세정 부재 (23) 를 요동시키고, 추종 기구 (22) 에 의해 판상물 (W) 의 만곡에 추종시키면서 판상물 (W) 의 상면 전체에 세정 부재 (23) 를 맞닿게 하고 있다.As shown to FIG. 4A, the outer peripheral edge of the plate-shaped object W is hold|maintained by the some clamp arm 11 of the holding means 10, and it hold|maintained by the some clamp arm 11 by the rotary table 12. The plate-shaped object W is rotated in the circumferential direction. Moreover, while the washing|cleaning liquid is injected toward the lower surface Wb of the plate-shaped object W from the injection port 14 of the turn table 12, the plate-shaped object W from the injection nozzle 15 above the turn table 12. The cleaning liquid is sprayed toward the upper surface Wa of the Then, the cleaning member 23 is rocked between the center and the outer periphery of the plate-shaped object W in which the swinging part 21 is rotating, and the follower mechanism 22 follows the curve of the plate-shaped object W while following the plate-shaped object. The cleaning member 23 is brought into contact with the entire upper surface of (W).

이 경우, 판상물 (W) 이 중앙으로부터 외주 가장자리측을 향하여 높아지도록 휘어져 있으므로, 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 외주 가장자리측에 위치되면, 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 의해 상방으로 압입된다. 이로써, 홀더 플레이트 (31) 의 슬라이더 (32) 가 가이드 플레이트 (25) 의 1 쌍의 연직 가이드 (28) 에 의해 가이드되면서 상측 이동되어, 가이드 플레이트 (25) 와 홀더 플레이트 (31) 를 연결하는 스프링 (35) 이 수축된다. 이와 같이, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 높은 위치에서는 스프링 (35) 의 반력에 저항하여 세정 부재 (23) 가 상측 이동함으로써, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 만곡에 세정 부재 (23) 를 추종시키고 있다.In this case, since the plate-shaped object W is bent so as to rise from the center toward the outer peripheral edge side, when the cleaning member 23 is positioned on the outer peripheral edge side of the plate-shaped object W, the cleaning member 23 is moved to the plate-shaped object W ) is press-fitted upward by the upper surface Wa. As a result, the slider 32 of the holder plate 31 is moved upward while being guided by a pair of vertical guides 28 of the guide plate 25 , and a spring connecting the guide plate 25 and the holder plate 31 . (35) is contracted. In this way, at the high position of the upper surface Wa of the plate-shaped object W, the cleaning member 23 moves upward against the reaction force of the spring 35, thereby cleaning the curved surface of the upper surface Wa of the plate-shaped object W. The member 23 is followed.

한편, 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 중앙측에 위치되면, 세정 부재 (23) 가 스프링 (35) 의 반발력에 의해 하방으로 약간 되밀린다. 이로써, 홀더 플레이트 (31) 의 슬라이더 (32) 가 가이드 플레이트 (25) 의 1 쌍의 연직 가이드 (28) 에 의해 가이드되면서 하측 이동되어, 가이드 플레이트 (25) 와 홀더 플레이트 (31) 를 연결하는 스프링 (35) 이 신장된다. 이와 같이, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 낮은 위치에서는 스프링 (35) 의 반력에 의해, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 고저차만큼 세정 부재 (23) 가 하측 이동됨으로써, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 만곡에 세정 부재 (23) 를 추종시키고 있다.On the other hand, when the cleaning member 23 is positioned on the central side of the plate-like object W, the cleaning member 23 is slightly pushed downward by the repulsive force of the spring 35 . Thereby, the slider 32 of the holder plate 31 is moved downward while being guided by a pair of vertical guides 28 of the guide plate 25 , and a spring connecting the guide plate 25 and the holder plate 31 . (35) is elongated. In this way, at a low position of the upper surface Wa of the plate-shaped object W, the cleaning member 23 is moved downward by the height difference of the upper surface Wa of the plate-shaped object W by the reaction force of the spring 35, whereby the plate-shaped object W is moved downward. The cleaning member 23 is made to follow the curvature of the upper surface Wa of the water W.

이와 같이, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 만곡에 세정 부재 (23) 를 추종시킴으로써, 판상물 (W) 의 상면 전체에 세정 부재 (23) 를 맞닿게 하고 있다. 따라서, 판상물 (W) 의 높은 위치와 낮은 위치에서 세정 부재 (23) 가 닿는 정도나 스펀지 부분이 찌부러지는 정도를 대략 동일하게 하여, 판상물 (W) 에 대하여 대략 균일한 조건으로 스크럽 세정하는 것이 가능하게 되어 있다. 또, 세정 수단 (20) 의 전체가 내약품성이 높은 수지 재료를 사용하여 형성되어 있으므로, 세정액에 약품이 포함되는 경우라도, 금속과 같이 약품으로 인해 세정 수단 (20) 이 부식되는 일이 없고, 또한 금속과 비교하여 경량화를 도모할 수 있다.In this way, by following the cleaning member 23 to the curvature of the upper surface Wa of the plate-shaped object W, the cleaning member 23 is brought into contact with the entire upper surface of the plate-shaped object W. Therefore, the degree of contact of the cleaning member 23 and the degree of crushing of the sponge part at the high and low positions of the plate-like object W is approximately equal, and the plate-like object W is scrubbed under substantially uniform conditions. thing is made possible In addition, since the entire cleaning means 20 is formed using a resin material with high chemical resistance, even if the cleaning liquid contains chemicals, the cleaning means 20 is not corroded by chemicals such as metal. Moreover, compared with metal, weight reduction can be aimed at.

이상과 같이, 본 실시형태의 세정 장치 (1) 에서는, 판상물 (W) 의 외주 가장자리가 유지된 상태에서 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 및 하면 (Wb) 에 세정액이 분사됨과 함께, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 세정 부재 (23) 가 맞닿아져 판상물 (W) 이 스크럽 세정된다. 이때, 판상물 (W) 이 둘레 방향으로 회전된 상태에서, 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 만곡에 추종하면서 판상물 (W) 의 직경 방향으로 요동되므로, 판상물 (W) 의 상면 전체에 세정 부재 (23) 를 맞닿게 할 수 있다. 또, 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 맞닿고, 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 을 따라 세정 부재 (23) 의 움직임이 추종되므로, 세정 부재 (23) 를 상하 방향으로 이동시키는 기구가 불필요해져 장치 구성이 복잡지는 일이 없다. 이와 같이, 휘어짐이 심한 판상물 (W) 이라도, 간이한 구성으로 판상물 (W) 의 전체면을 양호하게 세정할 수 있다.As described above, in the cleaning apparatus 1 of the present embodiment, the cleaning liquid is sprayed to the upper surface Wa and the lower surface Wb of the plate-shaped object W while the outer peripheral edge of the plate-shaped object W is maintained, The cleaning member 23 is contact|abutted to the upper surface Wa of the plate-shaped object W, and the plate-shaped object W is scrub-cleaned. At this time, in the state in which the plate-shaped object W is rotated in the circumferential direction, the cleaning member 23 swings in the radial direction of the plate-shaped object W while following the curvature of the upper surface Wa of the plate-shaped object W. The cleaning member 23 can be brought into contact with the entire upper surface of the water W. Further, since the cleaning member 23 abuts against the upper surface Wa of the plate-shaped object W, and the movement of the cleaning member 23 is followed along the upper surface Wa of the plate-shaped object W, the cleaning member 23 There is no need for a mechanism for moving in the vertical direction, so that the device configuration is not complicated. Thus, even if it is the plate-shaped object W with severe curvature, the whole surface of the plate-shaped object W can be wash|cleaned favorably with a simple structure.

또한, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않고, 여러 가지 변경하여 실시하는 것이 가능하다. 상기 실시형태에 있어서, 첨부 도면에 도시되어 있는 크기나 형상 등에 대해서는 이것에 한정되지 않고, 본 발명의 효과를 발휘하는 범위 내에서 적절히 변경하는 것이 가능하다. 그 외, 본 발명의 목적의 범위를 일탈하지 않는 한에 있어서 적절히 변경하여 실시하는 것이 가능하다.In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It is possible to implement with various changes. In the said embodiment, about the size, shape, etc. shown in an accompanying drawing, it is not limited to this, It is possible to change suitably within the range which exhibits the effect of this invention. In addition, as long as it does not deviate from the range of the objective of this invention, it can change suitably and implement.

예를 들어, 본 실시형태에서는, 세정 수단 (20) 이 스프링 (35) 의 신축에 의해 홀더 플레이트 (31) 를 상하 방향으로 요동시켜, 홀더 플레이트 (31) 의 선단에 고정된 세정 부재 (23) 를 판상물 (W) 의 만곡에 추종시키는 구성으로 하였으나 이 구성에 한정되지 않는다. 세정 수단 (20) 은, 만곡된 판상물 (W) 의 상면에 맞닿음으로써 세정 부재 (23) 가 판상물 (W) 의 상면에 추종하는 추종 기구 (22) 를 구비하고 있으면 된다. 이하, 도 5 및 도 6 을 참조하여, 세정 수단의 변형예에 대해 설명한다. 또한, 변형예의 세정 수단에서는, 본 실시형태와 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략한다.For example, in the present embodiment, the cleaning means 20 swings the holder plate 31 in the vertical direction by the expansion and contraction of the spring 35 , and the cleaning member 23 fixed to the tip of the holder plate 31 . Although it was set as the structure which follows the curvature of the plate-shaped object W, it is not limited to this structure. The washing means 20 should just be equipped with the follower mechanism 22 in which the washing|cleaning member 23 follows the upper surface of the plate-shaped object W by contact|abutting against the upper surface of the curved plate-shaped object W. Hereinafter, a modified example of the cleaning means will be described with reference to FIGS. 5 and 6 . In addition, in the washing|cleaning means of a modified example, description is abbreviate|omitted about the structure similar to this embodiment.

도 5 에 나타내는 바와 같이, 제 1 변형예의 세정 수단 (40) 에 있어서, 요동부 (41) 의 추종 기구 (42) 는, 요동 아암 (49) 의 선단측에 L 자 플레이트 (45) 를 개재하여 연장 플레이트 (48) 가 장착되고, 연장 플레이트 (48) 와 부재 홀더 (56) 를 복수 (본 실시형태에서는 3 개) 의 스프링 (55) 으로 연결하여 구성되어 있다. L 자 플레이트 (45) 는, 수지 재료의 세로판부 (46) 와 가로판부 (47) 에 의해 측면에서 보아 역 L 자상으로 형성되어 있다. L 자 플레이트 (45) 의 가로판부 (47) 에는 수지 재료로 형성된 연장 플레이트 (48) 가 고정되어 있고, 연장 플레이트 (48) 의 하면에는 수지 재료로 형성된 복수의 스프링 (55) 의 상단이 연결되어 있다.As shown in FIG. 5 , in the cleaning means 40 of the first modification, the follower mechanism 42 of the swinging portion 41 has an L-shaped plate 45 interposed on the distal end side of the swinging arm 49 . An extension plate 48 is attached, and the extension plate 48 and the member holder 56 are connected by the spring 55 of a plurality (three in this embodiment), and it is comprised. The L-shaped plate 45 is formed in an inverted L-shape when viewed from the side by the vertical plate portion 46 and the horizontal plate portion 47 made of a resin material. An extension plate 48 made of a resin material is fixed to the horizontal plate portion 47 of the L-shaped plate 45, and upper ends of a plurality of springs 55 made of a resin material are connected to the lower surface of the extension plate 48. have.

L 자 플레이트 (45) 의 세로판부 (46) 에는, L 자상의 홀더 플레이트 (51) 의 세로판부 (52) 가 고정되어 있고, 홀더 플레이트 (51) 의 가로판부 (53) 에는 부재 홀더 (56) 를 연직 방향으로 가이드 가능한 개구 (도시 생략) 가 형성되어 있다. 홀더 플레이트 (51) 의 개구에는 부재 홀더 (56) 의 통형상 부분이 들어가고, 부재 홀더 (56) 의 플랜지 부분에 의해 홀더 플레이트 (51) 에 빠짐 방지 가능하게 지지되어 있다. 이와 같이, 제 1 변형예의 홀더 플레이트 (51) 는, 상기 본 실시형태의 홀더 플레이트 (31) (도 3 참조) 와 같이 부재 홀더 (56) 와 일체로 요동하는 요동 부재가 아니라, 부재 홀더 (56) 의 연직 방향의 가이드로서 기능하고 있다.The vertical plate part 52 of the L-shaped holder plate 51 is fixed to the vertical plate part 46 of the L-shaped plate 45, and the member holder 56 is fixed to the horizontal plate part 53 of the holder plate 51. An opening (not shown) capable of guiding in the vertical direction is formed. The cylindrical portion of the member holder 56 enters the opening of the holder plate 51 , and is supported by the holder plate 51 so as to be prevented from falling off by the flange portion of the member holder 56 . In this way, the holder plate 51 of the first modification is not a swinging member that swings integrally with the member holder 56 like the holder plate 31 (see FIG. 3 ) of the present embodiment, but the member holder 56 ) functions as a guide in the vertical direction.

부재 홀더 (56) 는, 상기한 바와 같이 상부 홀더 (57) 와 하부 홀더 (58) 로 이루어지고, 상부 홀더 (57) 의 상면에는 복수의 스프링 (55) 의 하단이 연결되어 있다. 복수의 스프링 (55) 은, 부재 홀더 (56) 로부터 균일한 힘을 받도록, 부재 홀더 (56) 의 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다. 이 경우, 세정 부재 (43) 와 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 맞닿음 위치의 바로 위에 복수의 스프링 (55) 이 위치하고 있으므로, 맞닿음 위치로부터 복수의 스프링 (55) 에 대하여 맞닿음시의 반력이 다이렉트로 전달된다. 이와 같이, 제 1 변형예의 세정 수단 (40) 에서는 맞닿음시의 반력이 곧바로 스프링 (55) 에 작용하기 때문에, 부재 홀더 (56) 의 요동시의 편차가 억제된 상태에서, 만곡된 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 세정 부재 (43) 의 움직임을 추종시키는 것이 가능하게 되어 있다.The member holder 56 consists of the upper holder 57 and the lower holder 58 as described above, and the lower ends of the plurality of springs 55 are connected to the upper surface of the upper holder 57 . The plurality of springs 55 are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the member holder 56 so as to receive a uniform force from the member holder 56 . In this case, since the plurality of springs 55 are located directly above the abutting position of the cleaning member 43 and the upper surface Wa of the plate-like object W, the plurality of springs 55 abut from the abutting position. The reaction force of poetry is transmitted directly. As described above, in the cleaning means 40 of the first modification, since the reaction force at the time of contact acts directly on the spring 55, the curved plate-like object ( It is possible to follow the movement of the cleaning member 43 to the upper surface Wa of W).

도 6A 및 도 6B 에 나타내는 바와 같이, 제 2 변형예의 세정 수단 (60) 에 있어서, 요동부 (61) 의 추종 기구 (62) 는, 요동 아암 (64) 의 선단측에 L 자 플레이트 (65) 를 개재하여 연장 플레이트 (68) 가 장착되고, 연장 플레이트 (68) 의 피스톤 부재 (71) 와 부재 홀더 (81) 의 오목부 (82) 에 의해 공기 스프링을 구성하고 있다. L 자 플레이트 (65) 는, 수지 재료의 세로판부 (66) 와 가로판부 (67) 에 의해 측면에서 보아 역 L 자상으로 형성되어 있다. L 자 플레이트 (65) 의 가로판부 (67) 에는 수지 재료로 형성된 연장 플레이트 (68) 가 고정되어 있고, 연장 플레이트 (68) 에는 수지 재료로 형성된 피스톤 부재 (71) 가 장착되는 개구 (69) 가 형성되어 있다.6A and 6B , in the cleaning means 60 of the second modification, the follower mechanism 62 of the swinging part 61 is provided on the distal end side of the swinging arm 64 by an L-shaped plate 65 . An extension plate 68 is attached therebetween, and the piston member 71 of the extension plate 68 and the concave portion 82 of the member holder 81 constitute an air spring. The L-shaped plate 65 is formed in an inverted L-shape when viewed from the side by the vertical plate portion 66 and the horizontal plate portion 67 made of a resin material. An extension plate 68 made of a resin material is fixed to the horizontal plate portion 67 of the L-shaped plate 65, and the extension plate 68 has an opening 69 to which a piston member 71 made of a resin material is mounted. is formed

피스톤 부재 (71) 는, 연장 플레이트 (68) 의 개구 (69) 로부터 연직 하향으로 통형상 부분이 연신되고, 통형상 부분의 기단의 플랜지 부분에서 연장 플레이트 (68) 에 고정되어 있다. 피스톤 부재 (71) 의 통형상 부분에는 에어 유로가 형성되어 있고, 통형상 부분의 상단측에는 커넥터 (72) 를 개재하여 컴프레서 등이 접속되어 있다. 피스톤 부재 (71) 의 통형상 부분은 부재 홀더 (81) 의 오목부 (82) 에 들어가고, 피스톤 부재 (71) 의 하단에는 오목부 (82) 내에 연직 하향의 압축 에어를 분사하는 에어 분사구 (73) 가 형성되어 있다. 이 에어 분사구 (73) 로부터의 압축 에어의 분사에 의해 부재 홀더 (81) 의 오목부 (82) 내의 압력이 조정되어 있다.The piston member 71 has a cylindrical portion extending vertically downward from the opening 69 of the extension plate 68 , and is being fixed to the extension plate 68 at a flange portion of the base end of the cylindrical portion. An air flow path is formed in the cylindrical part of the piston member 71, and the compressor etc. are connected to the upper end side of the cylindrical part via the connector 72. The tubular portion of the piston member 71 enters the concave portion 82 of the member holder 81 , and at the lower end of the piston member 71 , an air injection port 73 for jetting compressed air vertically downward into the concave portion 82 . ) is formed. The pressure in the concave portion 82 of the member holder 81 is adjusted by the injection of compressed air from the air injection port 73 .

L 자 플레이트 (65) 의 세로판부 (66) 에는, L 자상의 홀더 플레이트 (75) 의 세로판부 (76) 가 고정되어 있고, 홀더 플레이트 (75) 의 가로판부 (77) 에는 부재 홀더 (81) 를 연직 방향으로 가이드 가능한 개구 (78) 가 형성되어 있다. 홀더 플레이트 (75) 의 개구 (78) 에는 부재 홀더 (81) 의 통형상 부분이 들어가고, 부재 홀더 (81) 의 플랜지 부분에 의해 홀더 플레이트 (75) 에 빠짐 방지 가능하게 지지되어 있다. 이와 같이, 제 2 변형예의 홀더 플레이트 (75) 는, 상기 본 실시형태의 홀더 플레이트 (31) (도 3 참조) 와 같이 부재 홀더 (81) 와 일체로 요동하는 요동 부재가 아니라, 부재 홀더 (81) 의 연직 방향의 가이드로서 기능하고 있다.The vertical plate part 76 of the L-shaped holder plate 75 is fixed to the vertical plate part 66 of the L-shaped plate 65, and the member holder 81 is fixed to the horizontal plate part 77 of the holder plate 75. An opening 78 capable of guiding in the vertical direction is formed. The cylindrical part of the member holder 81 enters into the opening 78 of the holder plate 75, and it is supported by the holder plate 75 by the flange part of the member holder 81 so that falling-off is possible. In this way, the holder plate 75 of the second modification is not a swinging member that swings integrally with the member holder 81 like the holder plate 31 (see FIG. 3 ) of the present embodiment, but the member holder 81 ) functions as a guide in the vertical direction.

부재 홀더 (81) 는, 상기한 바와 같이 상부 홀더 (83) 와 하부 홀더 (84) 로 이루어지고, 상부 홀더 (83) 에 피스톤 부재 (71) 의 통형상 부분이 끼워넣어지는 오목부 (82) 가 형성되어 있다. 이와 같이, 제 2 변형예에서는, 부재 홀더 (81) 의 상부 홀더 (83) 가, 피스톤 부재 (71) 가 들어가는 오목부 (82) 를 갖는 실린더 부재로서 기능하고 있다. 이 경우, 피스톤 부재 (71) 의 에어 분사구 (73) 로부터 오목부 (82) 내에 압축 에어가 분사되어, 오목부 (82) 의 바닥면과 피스톤 부재 (71) 의 하면 사이의 공간의 압력이 높아져 있다. 그리고, 오목부 (82) 내의 공간을 갖는 상태로 세정 부재 (63) 가 판상물 (W) 에 맞닿음으로써, 오목부 (82) 내의 공간을 찌부러트리면서 피스톤 부재 (71) 를 따라 부재 홀더 (81) 채로 세정 부재 (63) 가 상하로 요동된다.The member holder 81 is composed of an upper holder 83 and a lower holder 84 as described above, and a recess 82 into which the cylindrical portion of the piston member 71 is fitted in the upper holder 83 . is formed. Thus, in the second modification, the upper holder 83 of the member holder 81 functions as a cylinder member having the recess 82 into which the piston member 71 is inserted. In this case, compressed air is injected into the concave portion 82 from the air injection port 73 of the piston member 71, and the pressure in the space between the bottom surface of the concave portion 82 and the lower surface of the piston member 71 is increased. have. Then, the cleaning member 63 abuts against the plate-like object W in a state of having a space in the recessed portion 82, thereby crushing the space in the recessed portion 82, along with the piston member 71, the member holder ( 81) The cleaning member 63 swings up and down.

이와 같이, 제 2 변형예의 세정 수단 (60) 에서는, 스프링 대신에 공기 스프링을 사용함으로써 스프링 등을 사용하지 않고, 만곡된 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 에 세정 부재 (43) 의 움직임을 추종시키는 것이 가능하게 되어 있다. 또, 세정 부재 (63) 와 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 의 맞닿음 위치의 바로 위에서 부재 홀더 (81) 가 상하 방향으로 요동하고 있으므로, 부재 홀더 (81) 의 요동시의 편차가 억제되어 있다. 또한, 오목부 (82) 내의 압력은, 판상물 (W) 의 종류에 따라 적절한 값으로 조정된다.In this way, in the cleaning means 60 of the second modification, by using an air spring instead of a spring, the movement of the cleaning member 43 on the upper surface Wa of the curved plate-like object W is performed without using a spring or the like. It is possible to follow. Moreover, since the member holder 81 swings in the vertical direction just above the abutting position between the cleaning member 63 and the upper surface Wa of the plate-like object W, the deviation in the swinging of the member holder 81 is suppressed. has been In addition, the pressure in the recessed part 82 is adjusted to an appropriate value according to the kind of plate-shaped object W. As shown in FIG.

또한, 세정 수단 (20) 은, 상기한 제 1, 제 2 변형예의 세정 수단 (40, 60) 에 그 밖에도 다른 변형예가 고려된다. 예를 들어, 제 1 변형예의 세정 수단 (40) 로부터 홀더 플레이트 (51) 를 제외한 구성으로 해도 되고, 연장 플레이트 (48) 에 단일의 스프링 (55) 을 개재하여 부재 홀더 (56) 를 연결한 구성으로 해도 된다.In addition, as for the washing|cleaning means 20, other modified examples are considered to the washing|cleaning means 40 and 60 of the above-mentioned 1st and 2nd modification. For example, it may be configured such that the holder plate 51 is removed from the cleaning means 40 of the first modification, or the member holder 56 is connected to the extension plate 48 via a single spring 55 . can be done with

또, 본 실시형태 및 각 변형예에서는, 세정 수단 (20, 40, 60) 이 내약품성이 높은 수지 재료로 형성되는 것이 바람직하지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 내약품성이 높은 금속 재료로 형성되어도 되고, 약품을 포함하지 않는 세정액이면, 내약품성이 낮은 재료를 사용해도 된다.Moreover, in this embodiment and each modification, although it is preferable that the washing|cleaning means 20, 40, 60 are formed of the resin material with high chemical-resistance, it is not limited to this structure. For example, it may be formed of a metal material with high chemical resistance, and as long as it is a cleaning liquid containing no chemical, a material with low chemical resistance may be used.

또, 본 실시형태 및 각 변형예에서는, 유지 수단 (10) 이 복수의 클램프 아암 (11) 에 의해 판상물 (W) 의 외주 가장자리를 유지하는 구성으로 하였으나, 이 구성에 한정되지 않는다. 유지 수단 (10) 은 판상물 (W) 의 외주 가장자리를 유지 가능한 구성이면 되고, 예를 들어, 복수의 진퇴 핀을 판상물 (W) 의 외주 가장자리에 맞닿게 함으로써 유지하는 구성으로 해도 된다.Moreover, in this embodiment and each modification, although the holding means 10 set it as the structure which hold|maintains the outer peripheral edge of the plate-shaped object W with the some clamp arm 11, it is not limited to this structure. The holding means 10 should just be a structure which can hold|maintain the outer peripheral edge of the plate-shaped object W, for example, it is good also as a structure hold|maintained by making a several advancing and retreating pin abut against the outer peripheral edge of the plate-shaped object W.

또, 본 실시형태 및 각 변형예에서는, 세정액 분사 수단이 회전 테이블 (12) 의 분사구 (14) 와 분사 노즐 (15) 로 구성되었지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 세정액 분사 수단은 판상물 (W) 의 상면 (Wa) 및 하면 (Wb) 에 세정액을 분사 가능한 구성이면 되고, 예를 들어, 판상물 (W) 의 상방 및 하방에 형성한 상하의 분사 노즐로 구성되어도 된다.In addition, in this embodiment and each modified example, although the washing|cleaning liquid injection means was comprised with the injection port 14 of the rotary table 12, and the injection nozzle 15, it is not limited to this structure. The cleaning liquid spraying means may have a configuration capable of spraying the cleaning liquid on the upper surface Wa and the lower surface Wb of the plate-shaped object W, for example, it may be composed of upper and lower spray nozzles formed above and below the plate-shaped object W. do.

또, 본 실시형태 및 각 변형예에서는, 세정 부재 (23) 가 스펀지상으로 형성되었지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 세정 부재 (23) 는 판상물 (W) 을 스크럽 세정 가능한 것이면 되고, 예를 들어, 브러시상으로 형성되어 있어도 된다.In addition, in this embodiment and each modification, although the cleaning member 23 was formed in the shape of a sponge, it is not limited to this structure. The cleaning member 23 should just be a thing which can scrub-clean the plate-shaped object W, and may be formed in the shape of a brush, for example.

또, 본 실시형태 및 각 변형예에서는, 요동부 (21) 가 세정 부재 (23) 를 선회시킴으로써, 세정 부재 (23) 를 판상물 (W) 의 직경 방향으로 요동시키는 구성으로 하였지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 요동부 (21) 는, 세정 부재 (23) 를 판상물 (W) 의 직경 방향으로 요동시키는 구성이면 되고, 예를 들어, 세정 부재 (23) 를 직선적으로 이동시킴으로써, 세정 부재 (23) 를 판상물 (W) 의 직경 방향으로 요동시켜도 된다.In addition, in this embodiment and each modification, the swinging part 21 rotates the cleaning member 23 to swing the cleaning member 23 in the radial direction of the plate-like object W. However, in this configuration, the cleaning member 23 is swinging in the radial direction of the plate-like object W. not limited The swinging portion 21 may be configured to swing the cleaning member 23 in the radial direction of the plate-like object W, and for example, by moving the cleaning member 23 linearly, the cleaning member 23 can be moved in the plate-like shape. You may make it rock|fluctuate in the radial direction of water W.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은, 휘어짐이 심한 판상물이라도 간이한 구성으로 판상물의 전체면을 양호하게 세정할 수 있다는 효과를 갖고, 특히, 심한 휘어짐이 발생한 판상물을 세정하는 세정 장치에 유용하다.As described above, the present invention has the effect that the entire surface of the plate-like object can be cleaned well with a simple configuration even for a plate-like object with severe warpage, and is particularly useful for a cleaning apparatus for cleaning a plate-like object with severe warping. .

1 : 세정 장치
10 : 유지 수단
14 : 분사구 (세정액 분사 수단)
15 : 분사 노즐 (세정액 분사 수단)
16, 17 : 공급원 (세정액 분사 수단)
20, 40, 60 : 세정 수단
21, 41, 61 : 요동부
22, 42, 62 : 추종 기구
23, 43, 63 : 세정 부재
28 : 연직 가이드
31 : 홀더 플레이트 (홀더)
35, 55 : 스프링
36, 56, 81 : 부재 홀더 (홀더)
71 : 피스톤 부재
73 : 에어 분사구
82 : 부재 홀더의 오목부
83 : 상부 홀더 (실린더 부재)
W : 판상물
Wa : 판상물의 상면
Wb : 판상물의 하면1: cleaning device
10: maintenance means
14: injection port (cleaning liquid injection means)
15: injection nozzle (cleaning liquid injection means)
16, 17: source (cleaning liquid injection means)
20, 40, 60: cleaning means
21, 41, 61: rocking part
22, 42, 62: following mechanism
23, 43, 63: cleaning member
28: vertical guide
31: holder plate (holder)
35, 55: spring
36, 56, 81: member holder (holder)
71: piston member
73: air nozzle
82: recess of member holder
83: upper holder (cylinder member)
W: plate
Wa: the upper surface of the plate
Wb: the lower surface of the plate

Claims (3)

판상물을 외주 가장자리에서 유지하여 판상물을 둘레 방향으로 회전시키는 유지 수단과, 그 유지 수단에 의해 유지되어 회전하고 있는 판상물을 세정하는 세정 수단과, 그 유지 수단에 유지된 판상물의 상면 및 하면의 각각에 세정액을 분사하는 세정액 분사 수단을 구비한 세정 장치로서,
그 세정 수단은, 판상물의 상면에 맞닿아 판상물을 세정하는 세정 부재와, 그 세정 부재를 판상물의 직경 방향으로 요동시킴과 함께 만곡된 판상물의 상면에 추종하는 요동부를 구비하고,
그 유지 수단에 유지된 판상물의 상면에 맞닿아 그 세정 부재가 판상물의 상면을 따라 판상물의 상면을 세정하고,
그 요동부의 그 선단에 배치 형성되어 연직 하향으로 연신되어 있는 피스톤 부재와, 그 피스톤 부재에 걸어맞추는 오목부를 구비하고 연직 방향으로 구동 가능한 실린더 부재와, 그 실린더 부재의 그 오목부 내에 연직 하향으로 압축 에어를 분사하는 에어 분사구와, 그 실린더 부재의 하면측에 배치 형성된 그 세정 부재를 구비하고,
그 피스톤 부재의 그 에어 분사구로부터 그 오목부 내에 압축 에어가 분사되어 그 오목부 내에 공간을 갖는 상태로 그 세정 부재가 판상물에 맞닿고, 그 피스톤 부재를 따라 그 실린더 부재 및 그 세정 부재가 상하로 요동하여 만곡된 판상물의 상면에 추종하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.Holding means for holding the plate-shaped object at the outer peripheral edge and rotating the plate-shaped object in the circumferential direction, cleaning means for cleaning the plate-shaped object held by the holding means and rotating, the upper and lower surfaces of the plate-shaped object held by the holding means A cleaning device provided with a cleaning liquid spraying means for spraying a cleaning liquid to each of the
The cleaning means includes a cleaning member for cleaning the plate-shaped object in contact with the upper surface of the plate-shaped object, and a swinging part that swings the cleaning member in the radial direction of the plate-shaped object and follows the curved upper surface of the plate-shaped object,
Abutting against the upper surface of the plate-shaped object held by the holding means, the cleaning member cleans the upper surface of the plate-shaped object along the upper surface of the plate-shaped object,
A piston member disposed at the tip of the swinging portion and extending vertically downward, a cylinder member having a recess for engaging the piston member and capable of being driven in the vertical direction, and vertically downwardly in the recess of the cylinder member. an air injection port for injecting compressed air, and a cleaning member disposed on a lower surface side of the cylinder member;
Compressed air is injected into the concave portion from the air injection port of the piston member, and the cleaning member abuts against the plate-like object with a space in the concave portion, and the cylinder member and the cleaning member move up and down along the piston member. A cleaning device characterized in that it follows the upper surface of the curved plate-like object by swinging with the . 삭제delete 삭제delete
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