KR102351749B1 - Wafer cleanning apparatus - Google Patents

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Abstract

개시된 본 발명에 의한 기판세정장치는, 기판으로 세정액을 공급하여 세정시키는 세정유닛, 기판을 향해 세정액을 분사하는 위치로 세정유닛을 레일 구동시키는 레일유닛 및 세정유닛을 레일유닛에 장착 또는 분리되도록 가이드하는 체인지유닛을 포함한다. 이러한 구성에 의하면, 레일유닛에 세정유닛을 선택적으로 장착시켜 기판을 세정할 수 있게 되어, 간단한 구조로 다양한 종류의 세정액 분사가 가능해진다.
A substrate cleaning apparatus according to the present invention disclosed is a cleaning unit for supplying cleaning liquid to a substrate for cleaning, a rail unit for driving the cleaning unit to a position where the cleaning liquid is sprayed toward the substrate, and a guide so that the cleaning unit is mounted or detached from the rail unit. It includes a change unit that According to this configuration, it is possible to clean the substrate by selectively mounting the cleaning unit to the rail unit, so that various types of cleaning liquids can be sprayed with a simple structure.

Description

기판세정장치{WAFER CLEANNING APPARATUS}Substrate cleaning device {WAFER CLEANNING APPARATUS}

본 발명은 기판세정장치에 관한 것으로서, 간단한 구조로 복수의 세정액을 이용해 기판을 세정함으로써 세정효율을 향상시킬 수 있는 기판세정장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and to a substrate cleaning apparatus capable of improving cleaning efficiency by cleaning a substrate using a plurality of cleaning liquids with a simple structure.

일반적으로 반도체는 리소그래피, 증착 및 에칭 등과 같은 일련의 공정들이 반복적으로 수행되어 제조된다. 이러한 반도체를 구성하는 실리콘 웨이퍼와 같은 기판의 표면은 반복적인 공정에 의해 각종 파티클, 금속 불순물 또는 유기물 등과 같은 오염물질들이 잔존하게 된다. 상기 기판 상에 잔존하는 오염물질은 제조되는 반도체의 신뢰성을 저하시키므로, 이를 개선하기 위해 반도체 제조공정 중 기판세정장치가 채용된다. In general, semiconductors are manufactured by repeatedly performing a series of processes such as lithography, deposition, and etching. Contaminants such as various particles, metal impurities, or organic matter remain on the surface of a substrate such as a silicon wafer constituting the semiconductor by repeated processes. Since the contaminants remaining on the substrate reduce the reliability of the semiconductor manufactured, a substrate cleaning apparatus is employed in the semiconductor manufacturing process to improve this.

상기 기판세정장치는 건식(Dry) 또는 습식(Wet) 중 어느 하나의 방식으로 기판 표면의 오염물질을 처리한다. 한편, 상기 기판세정장치는 서로 다른 복수의 세정액을 각각 분사하는 복수의 노즐을 이용해 기판을 세정한다. 이에 따라, 상기 기판을 세정하기 위한 노즐 구조가 복잡해지며, 복수의 노즐을 설치하기 위해 챔버 내부의 공간 확보가 필요하다는 단점을 가진다. 이에 따라, 근래에는 간단한 구조로 복수의 세정액을 이용해 기판을 세정하는 다양한 연구가 지속적으로 이루어지고 있다. The substrate cleaning apparatus treats contaminants on the surface of the substrate in either a dry or wet manner. Meanwhile, the substrate cleaning apparatus cleans the substrate using a plurality of nozzles that respectively spray a plurality of different cleaning solutions. Accordingly, the nozzle structure for cleaning the substrate is complicated, and there is a disadvantage in that it is necessary to secure a space inside the chamber to install a plurality of nozzles. Accordingly, in recent years, various studies of cleaning a substrate using a plurality of cleaning solutions with a simple structure have been continuously conducted.

-. 국내등록특허 제10-1060686호(출원인: 주식회사 케이씨텍)-. Domestic Registered Patent No. 10-1060686 (Applicant: KC Tech)

본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로서, 간단한 구조로 복수의 세정액을 이용해 기판을 세정시킬 수 있는 기판세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
The present invention has been devised in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus capable of cleaning a substrate using a plurality of cleaning liquids with a simple structure.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 기판세정장치는, 기판으로 세정액을 공급하여 세정시키는 세정유닛, 상기 기판을 향해 상기 세정액을 분사하는 위치로 상기 세정유닛을 레일 구동시키는 레일유닛 및, 상기 세정유닛을 상기 레일유닛에 장착 또는 분리되도록 가이드하는 체인지유닛을 포함한다. A substrate cleaning apparatus according to the present invention for achieving the above object includes a cleaning unit for supplying a cleaning liquid to a substrate for cleaning, a rail unit for rail driving the cleaning unit to a position where the cleaning liquid is sprayed toward the substrate, and the cleaning and a change unit for guiding the unit to be mounted or separated from the rail unit.

일측에 의하면, 자력에 의해 상기 세정유닛이 상기 체인지유닛에 선택적으로 장착 또는 분리된다. According to one side, the cleaning unit is selectively mounted or separated from the change unit by magnetic force.

일측에 의하면, 상기 세정유닛은 노즐 수납부에 수납되어 보관되는 서로 다른 세정액을 분사하는 복수의 세정노즐을 포함하며, 상기 복수의 세정노즐 중 어느 하나가 상기 체인지유닛에 의해 선택되어 상기 레일유닛에 장착되어 레일 구동된다. According to one side, the cleaning unit includes a plurality of cleaning nozzles for spraying different cleaning liquids accommodated and stored in the nozzle receiving unit, any one of the plurality of cleaning nozzles is selected by the change unit and applied to the rail unit. mounted and rail driven.

일측에 의하면, 상기 세정유닛은 노즐 수납부에 수납되어 보관되는 서로 다른 세정액을 분사하는 복수의 세정노즐을 포함하며, 상기 레일유닛은 복수개 마련되어, 상기 복수의 세정노즐 중 적어도 일부가 상기 복수의 레일유닛을 따라 동시에 구동 가능하다. According to one side, the cleaning unit includes a plurality of cleaning nozzles for spraying different cleaning liquids accommodated and stored in the nozzle receiving unit, and the rail unit is provided in plurality, and at least some of the plurality of cleaning nozzles are disposed on the plurality of rails. Units can be driven simultaneously.

일측에 의하면, 상기 레일유닛은, 상기 세정유닛을 상기 기판의 중앙부로 안내하는 레일몸체, 상기 레일몸체에 설치되어, 상기 세정유닛을 상기 레일몸체를 따라 양방향 직선 운동시키는 레일 구동체, 상기 레일 구동체에 구동력을 제공하는 레일 구동원 및, 상기 레일 구동체에 설치되어 구동되되, 상기 체인지유닛에 의해 이송된 상기 세정유닛이 장착되는 레일 장착부재를 포함한다. According to one side, the rail unit, a rail body for guiding the cleaning unit to the central portion of the substrate, a rail driving body installed on the rail body to linearly move the cleaning unit in both directions along the rail body, the rail driving It includes a rail driving source for providing a driving force to the sieve, and a rail mounting member installed on the rail driving body and driven, to which the cleaning unit transferred by the change unit is mounted.

일측에 의하면, 상기 레일 장착부재는 장착된 상기 세정유닛을 고정시키는 고정핀이 마련된다. According to one side, the rail mounting member is provided with a fixing pin for fixing the mounted cleaning unit.

일측에 의하면, 상기 체인지유닛은, 상기 세정유닛을 자력에 의해 선택적으로 파지하는 파지부재 및, 상기 파지부재를 상기 레일유닛으로 안내하도록 회전 및 승하강시키는 구동부재를 포함한다. According to one side, the change unit includes a holding member for selectively holding the cleaning unit by magnetic force, and a driving member for rotating and elevating the holding member to guide the rail unit to the rail unit.

본 발명의 바람직한 일 실시예에 의한 기판세정장치는, 기판으로 세정액을 공급하여 세정시키는 복수의 세정노즐을 구비하는 세정유닛, 상기 기판을 향해 상기 세정액을 분사하는 위치로 상기 세정노즐을 레일 구동시키는 레일유닛 및, 상기 복수의 세정노즐 중 적어도 어느 하나를 상기 레일유닛에 장착 또는 분리되도록 가이드하는 체인지유닛을 포함한다. A substrate cleaning apparatus according to a preferred embodiment of the present invention includes a cleaning unit having a plurality of cleaning nozzles for cleaning by supplying a cleaning liquid to a substrate, and rail driving the cleaning nozzles to a position where the cleaning liquid is sprayed toward the substrate. A rail unit and a change unit for guiding at least one of the plurality of cleaning nozzles to be mounted or separated from the rail unit.

일측에 의하면, 상기 복수의 세정노즐은 노즐 수납부에 수납되어 보관되며, 자력에 의해 상기 체인지유닛이 상기 복수의 세정노즐 중 어느 하나를 파지하여 이동시킨다. According to one side, the plurality of cleaning nozzles are accommodated and stored in the nozzle receiving unit, and the change unit grips and moves any one of the plurality of cleaning nozzles by magnetic force.

일측에 의하면, 상기 레일유닛은, 상기 세정노즐을 상기 기판의 중앙부로 안내하는 레일몸체, 상기 레일몸체에 설치되어, 상기 세정노즐을 상기 레일몸체를 따라 양방향 직선 운동시키는 레일 구동체, 상기 레일 구동체에 구동력을 제공하는 레일 구동원 및, 상기 레일 구동체에 설치되어 구동되되, 상기 체인지유닛에 의해 이송된 상기 세정노즐이 장착되는 레일 장착부재를 포함한다. According to one side, the rail unit includes a rail body for guiding the cleaning nozzle to the central portion of the substrate, a rail driver installed on the rail body, and linear motion of the cleaning nozzle in both directions along the rail body, and the rail drive It includes a rail driving source for providing a driving force to the sieve, and a rail mounting member installed on the rail driving body and driven, to which the cleaning nozzle transferred by the change unit is mounted.

일측에 의하면, 상기 레일 장착부재는 장착된 상기 세정노즐을 고정시키는 고정핀이 마련된다. According to one side, the rail mounting member is provided with a fixing pin for fixing the mounted cleaning nozzle.

일측에 의하면, 상기 체인지유닛은, 상기 세정노즐을 자력에 의해 선택적으로 파지하는 파지부재 및, 상기 파지부재를 상기 레일유닛으로 안내하도록 회전 및 승하강시키는 구동부재를 포함한다.
According to one side, the change unit includes a holding member for selectively holding the cleaning nozzle by magnetic force, and a driving member for rotating and elevating the holding member to guide the rail unit to the rail unit.

상기와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의하면, 첫째, 세정유닛을 레일유닛에 선택적으로 장착 또는 분리시킴으로써, 간단한 구조로 다양한 세정조건에 대응하여 세정유닛 변환이 용이해진다. According to the present invention having the above configuration, first, by selectively mounting or detaching the cleaning unit to the rail unit, it is easy to change the cleaning unit in response to various cleaning conditions with a simple structure.

둘째, 복수의 세정노즐 중 어느 하나를 체인지유닛이 레인유닛에 안내하여 장착하거나 교체시킴으로써, 복수의 세정노즐을 이용한 기판 세정 효율 향상에 기여할 수 있게 된다. Second, by installing or replacing any one of the plurality of cleaning nozzles by the change unit to guide the rain unit, it is possible to contribute to the improvement of substrate cleaning efficiency using the plurality of cleaning nozzles.

셋째, 세정노즐이 레일유닛을 따라 레일 구동되면서 세정함으로써, 기판의 전영역에 대한 균일 세정이 가능해져 세정 품질을 향상시킬 수 있게 된다.
Third, by cleaning the cleaning nozzle while driving the rail along the rail unit, uniform cleaning of the entire area of the substrate is possible, thereby improving cleaning quality.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의한 기판세정장치를 개략적으로 도시한 사시도,
도 2는 도 1에 도시된 체인지유닛에 의해 레일유닛에 세정유닛이 장착되는 동작을 설명하기 위해 개략적으로 도시한 사시도,
도 3은 세정유닛으로부터 체인지유닛이 분리되는 동작을 설명하기 위해 개략적으로 도시한 사시도, 그리고,
도 4는 세정유닛이 레일유닛을 따라 이동하여 세정액을 분사하는 동작을 설명하기 위해 개략적으로 도시한 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing a substrate cleaning apparatus according to a preferred embodiment of the present invention;
2 is a perspective view schematically illustrating an operation in which the cleaning unit is mounted on the rail unit by the change unit shown in FIG. 1;
3 is a perspective view schematically illustrating an operation in which the change unit is separated from the cleaning unit, and
4 is a perspective view schematically illustrating an operation in which the cleaning unit moves along the rail unit and sprays the cleaning liquid.

이하, 본 발명의 바람직한 일 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 설명한다.
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2를 참고하면, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의한 기판세정장치(1)는 세정유닛(10), 레일유닛(20) 및 체인지유닛(30)을 포함한다.
1 and 2 , the substrate cleaning apparatus 1 according to the preferred embodiment of the present invention includes a cleaning unit 10 , a rail unit 20 , and a change unit 30 .

참고로, 상기 기판세정장치(1)는 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼의 제조공정 중 기판 표면의 파티클, 금속 불순물 또는 유기물과 같은 오염물질을 세정한다. 한편, 본 발명을 설명함에 있어서, 상기 기판이 반도체의 기판이 되는 실리콘 웨이퍼로 예시 및 도시하나, 꼭 이를 한정하지 않으며 LCD(Liquid Crystal Display) 또는 PDP(Plasma Display Panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용 유리기판이 채용될 수 있음은 당연하다.
For reference, the substrate cleaning apparatus 1 cleans contaminants such as particles, metal impurities, or organic matter on the surface of a substrate during a manufacturing process of a silicon wafer to be a semiconductor substrate. Meanwhile, in describing the present invention, the substrate is exemplified and illustrated as a silicon wafer as a substrate of a semiconductor, but the present invention is not limited thereto, and glass for a flat panel display device such as a liquid crystal display (LCD) or a plasma display panel (PDP). It goes without saying that a substrate may be employed.

상기 세정유닛(10)은 기판(W)으로 세정액을 공급하여 세정시킨다. 이러한 세정유닛(10)은 서로 다른 세정액을 분사하는 복수의 세정노즐(11)을 포함한다. 이러한 복수의 세정노즐(11)은 기판(W)이 세정되는 세정챔버(13)의 일측에 마련된 노즐 수납부(12)에 수납되어 보관된다. 한편, 상기 복수의 세정노즐(11)은 자력에 의해 간섭 가능한 금속 재질로 형성된다. The cleaning unit 10 is cleaned by supplying a cleaning solution to the substrate (W). The cleaning unit 10 includes a plurality of cleaning nozzles 11 for spraying different cleaning liquids. The plurality of cleaning nozzles 11 are accommodated and stored in the nozzle receiving part 12 provided on one side of the cleaning chamber 13 in which the substrate W is cleaned. On the other hand, the plurality of cleaning nozzles 11 are formed of a metal material that can interfere with the magnetic force.

참고로, 상기 복수의 세정노즐(11) 각각에 대해 서로 다른 복수의 세정액을 공급하는 세정액 공급 기술은 공지된 기술로부터 이해 가능하므로, 자세한 설명은 생략하였다. For reference, a cleaning liquid supply technique for supplying a plurality of different cleaning liquids to each of the plurality of cleaning nozzles 11 can be understood from a known technology, and thus a detailed description thereof is omitted.

상기 레일유닛(20)은 기판(W)을 향해 세정액을 분사하는 위치로 세정유닛(10)을 레일 구동시킨다. 즉, 상기 레일유닛(20)은 복수의 세정노즐(11) 중에서 선택된 어느 하나를 레일유닛(20)을 따라 구동시킨다. 이러한 레일유닛(20)은 레일몸체(21), 레일 구동체(22), 레일 구동원(23) 및 레일 장착부재(24)를 포함한다. The rail unit 20 rail drives the cleaning unit 10 to a position where the cleaning liquid is sprayed toward the substrate W. That is, the rail unit 20 drives any one selected from the plurality of cleaning nozzles 11 along the rail unit 20 . The rail unit 20 includes a rail body 21 , a rail drive body 22 , a rail drive source 23 , and a rail mounting member 24 .

상기 레일몸체(21)는 세정유닛(10) 즉, 세정노즐(11)을 기판(W)의 중앙부로 안내한다. 상기 레일몸체(21)는 기판(W)의 지름방향으로 세정노즐(11)을 왕복 직선 구동시키는 레일 경로를 제공한다. The rail body 21 guides the cleaning unit 10 , that is, the cleaning nozzle 11 to the center of the substrate W. The rail body 21 provides a rail path for reciprocally and linearly driving the cleaning nozzle 11 in the radial direction of the substrate W.

상기 레일 구동체(22)는 레일몸체(21)에 설치되어, 세정유닛(10)의 세정노즐(11)을 레일몸체(21)를 따라 양방향 직선 운동시킨다. 이러한 레일 구동체(22)는 레일몸체(21)의 내면에 밀착 설치되는 벨트를 포함한다. The rail driving body 22 is installed on the rail body 21 , and linearly moves the cleaning nozzle 11 of the cleaning unit 10 along the rail body 21 in both directions. The rail driving body 22 includes a belt that is installed in close contact with the inner surface of the rail body 21 .

상기 레일 구동원(23)은 레일 구동체(22)에 구동력을 제공한다. 상기 레일 구동원(23)은 회전력을 발생시키는 모터를 포함하며, 레일 구동원(23)에 레일 구동체(22)가 권선됨으로써 세정노즐(11)을 레일몸체(21)를 따라 직선 왕복 구동시키게 된다. The rail driving source 23 provides a driving force to the rail driving body 22 . The rail drive source 23 includes a motor that generates a rotational force, and the rail drive body 22 is wound around the rail drive source 23 to linearly reciprocate the cleaning nozzle 11 along the rail body 21 .

상기 레일 장착부재(24)는 레일 구동체(22)에 설치되어, 세정유닛(10)을 선택적으로 파지하여 장착한다. 상기 레일 장착부재(24)에는 세정노즐(11)이 장착되는 장착홈(25)이 마련된다. 이러한 레일 장착부재(24)에는 도 3과 같이, 파지된 세정노즐(11)을 고정시키는 고정핀(26)을 구비한다. The rail mounting member 24 is installed on the rail driving body 22 , and selectively grips and mounts the cleaning unit 10 . The rail mounting member 24 is provided with a mounting groove 25 in which the cleaning nozzle 11 is mounted. As shown in FIG. 3 , the rail mounting member 24 is provided with a fixing pin 26 for fixing the gripped cleaning nozzle 11 .

상기 체인지유닛(30)은 세정유닛(10)인 세정노즐(11)을 레일유닛(20)에 장착 또는 분리되도록 가이드한다. 상기 체인지유닛(30)은 복수의 세정노즐(11) 중 어느 하나를 선택하여 파지한 후, 레일유닛(20)의 레일 장착부재(24)로 안내한다. 이를 위해, 상기 체인지유닛(30)은 파지부재(31) 및 구동부재(32)를 포함한다. The change unit 30 guides the cleaning nozzle 11 , which is the cleaning unit 10 , to be mounted or separated from the rail unit 20 . The change unit 30 selects and grips any one of the plurality of cleaning nozzles 11 , and then guides it to the rail mounting member 24 of the rail unit 20 . To this end, the change unit 30 includes a holding member 31 and a driving member 32 .

상기 파지부재(31)는 세정노즐(11)을 자력에 의해 선택적으로 파지한다. 이러한 파지부재(31)에도 세정노즐(11)에 대응되는 파지홈(31a)이 마련되며, 자성을 가지는 재질로 형성된다. 참고로, 상기 파지부재(31)가 세정노즐(11)을 파지한 상태로 레일유닛(20)으로 진입됨을 간섭하지 않도록, 레일몸체(21)의 일측엔 진입구(21a)가 개방되어 형성된다. The gripping member 31 selectively grips the cleaning nozzle 11 by magnetic force. The gripping member 31 is also provided with a gripping groove 31a corresponding to the cleaning nozzle 11, and is made of a magnetic material. For reference, in order not to interfere with the entry of the holding member 31 into the rail unit 20 while holding the cleaning nozzle 11 , the entrance 21a is opened at one side of the rail body 21 .

상기 구동부재(32)는 레일유닛(20)으로 파지부재(31)를 안내하도록 회전 및 승하강시킨다. 상기 구동부재(32)는 복수의 세정노즐(11)이 수납된 노즐 수납부(12)에서 세정노즐(11)을 파지한 후, 기판(W)과 대응되는 위치로 상승한 후 레일유닛(20)을 향해 회전된다. 이러한 구동부재(32)의 승하강 및 회전 구동을 위한 구동력은 자세히 도시되지 않았으나 구동모터로부터 발생될 수 있다.
The driving member 32 rotates and elevates to guide the holding member 31 to the rail unit 20 . The driving member 32 holds the cleaning nozzle 11 in the nozzle accommodating part 12 in which the plurality of cleaning nozzles 11 are accommodated, and then rises to a position corresponding to the substrate W, and then the rail unit 20 rotated towards Although not shown in detail, the driving force for elevating and rotating the driving member 32 may be generated from a driving motor.

상기와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판세정장치(1)의 세정동작을 도 1 내지 도 4를 참고하여 설명한다. The cleaning operation of the substrate cleaning apparatus 1 according to the present invention having the above configuration will be described with reference to FIGS. 1 to 4 .

도 1 및 도 2의 도시와 같이, 상기 노즐 수납부(12)에 수납된 복수의 세정노즐(11)들 중에서 하나의 세정노즐(11)을 체인지유닛(30)의 파지부재(31)가 자력에 의해 파지한다. 이때, 상기 파지부재(31)는 구동부재(32)에 의해 노즐 수납부(12)를 향해 하강된 상태에서 레일유닛(20)에 대응되는 높이로 승강한 후, 레일유닛(20)을 향해 회전하게 된다. As shown in FIGS. 1 and 2 , the holding member 31 of the change unit 30 uses a magnetic force to hold one cleaning nozzle 11 among the plurality of cleaning nozzles 11 accommodated in the nozzle accommodating part 12 . gripped by At this time, the holding member 31 is lifted to a height corresponding to the rail unit 20 in a state lowered toward the nozzle receiving part 12 by the driving member 32 , and then rotates toward the rail unit 20 . will do

도 2와 같이, 상기 레일유닛(20)의 레일 장착부재(24)에 세정노즐(11)이 안착되면, 도 3과 같이 세정노즐(11)을 파지하던 체인지유닛(30)의 파지부재(31)는 구동부재(32)에 의해 회전되어 레일유닛(20)을 벗어나게 된다. 상기 레일 장착부재(24)에 안착된 세정노즐(11)은 고정핀(26)에 의해 자세 고정되어 장착되게 된다. As shown in FIG. 2, when the cleaning nozzle 11 is seated on the rail mounting member 24 of the rail unit 20, the gripping member 31 of the change unit 30 that grips the cleaning nozzle 11 as shown in FIG. ) is rotated by the driving member 32 to leave the rail unit 20 . The cleaning nozzle 11 seated on the rail mounting member 24 is mounted with a posture fixed by a fixing pin 26 .

상기 레일 장착부재(24)에 장착된 세정노즐(11)은 도 4와 같이 레일몸체(21)를 따라 레일 구동체(22)에 의해 구동됨으로써, 기판(W)을 향해 세정액을 분사하여 세정시키게 된다. 이때, 상기 세정노즐(11)은 레일몸체(21)를 따라 직선방향으로 왕복 구동되면서 기판(W)을 향해 세정액을 분사하게 된다.
The cleaning nozzle 11 mounted on the rail mounting member 24 is driven by the rail driver 22 along the rail body 21 as shown in FIG. do. At this time, the cleaning nozzle 11 is driven reciprocally in a linear direction along the rail body 21 to spray the cleaning liquid toward the substrate W.

한편, 상기 레일유닛(20)이 하나로 마련되어 복수의 세정노즐(11)들 중에서 어느 하나만을 레일 구동시키는 것으로 도시 및 예시하나, 꼭 이에 한정되지 않는다. 즉, 상기 레일유닛(20)이 복수개 마련되어 복수의 세정노즐(11) 중 적어도 일부가 동시에 레일 구동되어 기판(W)을 세정시키는 변형예도 가능하다. 이 경우, 상기레일유닛(20)이 복수개 마련됨에 대응하여 체인지유닛(30)도 복수개 마련된다.
On the other hand, the rail unit 20 is provided as one and is illustrated and exemplified as one of the plurality of cleaning nozzles 11 to drive the rail, but the present invention is not limited thereto. That is, a modified example in which a plurality of the rail units 20 are provided so that at least some of the plurality of cleaning nozzles 11 are simultaneously rail driven to clean the substrate W is also possible. In this case, in response to the plurality of rail units 20 being provided, a plurality of change units 30 are also provided.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art can variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. You will understand that it can be done.

1: 기판세정장치 W: 기판
10: 세정유닛 11: 세정노즐
12: 노즐 수납부 13: 세정챔버
20: 레일유닛 21: 레일몸체
22: 레일 구동체 23: 레일 구동원
24: 레일 장착부재 30: 체인지유닛
31: 파지부재 32: 구동부재 1: Substrate cleaning device W: Substrate
10: cleaning unit 11: cleaning nozzle
12: nozzle accommodating part 13: washing chamber
20: rail unit 21: rail body
22: rail driving body 23: rail driving source
24: rail mounting member 30: change unit
31: gripping member 32: driving member

Claims (12)

기판으로 세정액을 공급하여 세정시키는 세정유닛;
상기 기판을 향해 상기 세정액을 분사하는 상기 기판의 중앙부로 상기 세정유닛을 레일 구동시키는 레일유닛; 및
자성을 갖는 재질로 형성되어서 상기 세정유닛을 자력에 의해서 선택적으로 파지하고, 상기 세정유닛에 대응되는 파지홈이 마련되는 파지부재를 구비하고, 상기 세정유닛을 상기 레일유닛에 장착 또는 분리되도록 가이드하는 체인지유닛;
을 포함하고,
상기 레일유닛은,
상기 세정유닛이 진입 가능하도록 상기 파지부재가 진입하는 위치가 개방되어 진입구가 마련되는 레일몸체; 및
상기 레일몸체를 따라 구동되게 설치되고, 상기 체인지유닛에 의해 이송된 상기 세정유닛이 장착되도록 상기 진입구의 개방 부분과 대응되게 개방되어 장착홈이 마련되는 레일 장착부재;
를 포함하고,
상기 파지부재는 상기 진입구에 진입할 때, 상기 파지홈의 개방된 부분이 상기 진입구에 대해서 대향되게 형성되는 기판세정장치.
a cleaning unit supplying a cleaning solution to the substrate and cleaning the substrate;
a rail unit for rail driving the cleaning unit to a central portion of the substrate for spraying the cleaning liquid toward the substrate; and
It is formed of a magnetic material, selectively grips the cleaning unit by magnetic force, includes a gripping member provided with a gripping groove corresponding to the cleaning unit, and guides the cleaning unit to be mounted or detached from the rail unit change unit;
including,
The rail unit is
a rail body in which an entry port is provided by opening a position at which the holding member enters so that the cleaning unit can enter; and
a rail mounting member installed to be driven along the rail body and having a mounting groove that is opened to correspond to an open portion of the entry port so that the cleaning unit transported by the change unit is mounted;
including,
When the gripping member enters the entry hole, an open portion of the gripping groove is formed to face the entry hole.
 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 세정유닛은 노즐 수납부에 수납되어 보관되는 서로 다른 세정액을 분사하는 복수의 세정노즐을 포함하며,
상기 복수의 세정노즐 중 어느 하나가 상기 체인지유닛에 의해 선택되어 상기 레일유닛에 장착되어 레일 구동되는 기판세정장치.
According to claim 1,
The cleaning unit includes a plurality of cleaning nozzles for spraying different cleaning liquids accommodated and stored in the nozzle receiving unit,
A substrate cleaning apparatus in which any one of the plurality of cleaning nozzles is selected by the change unit and mounted on the rail unit to be rail driven.
 제1항에 있어서,
상기 세정유닛은 노즐 수납부에 수납되어 보관되는 서로 다른 세정액을 분사하는 복수의 세정노즐을 포함하며,
상기 레일유닛은 복수개 마련되어, 상기 복수의 세정노즐 중 적어도 일부가 상기 복수의 레일유닛을 따라 동시에 구동 가능한 기판세정장치.
According to claim 1,
The cleaning unit includes a plurality of cleaning nozzles for spraying different cleaning liquids accommodated and stored in the nozzle receiving unit,
A plurality of rail units are provided, and at least some of the plurality of cleaning nozzles can be simultaneously driven along the plurality of rail units.
 제1항에 있어서,
상기 레일유닛은,
상기 레일몸체에 설치되어, 상기 세정유닛을 상기 레일몸체를 따라 양방향 직선 운동시키는 레일 구동체; 및
상기 레일 구동체에 구동력을 제공하는 레일 구동원;
을 더 포함하는 기판세정장치.
According to claim 1,
The rail unit is
a rail driving body installed on the rail body to linearly move the cleaning unit in both directions along the rail body; and
a rail driving source providing a driving force to the rail driving body;
Substrate cleaning apparatus further comprising a.
 제5항에 있어서,
상기 레일 장착부재는 장착된 상기 세정유닛을 고정시키는 고정핀이 마련되는 기판세정장치.
6. The method of claim 5,
The rail mounting member is a substrate cleaning apparatus provided with a fixing pin for fixing the mounted cleaning unit.
 제1항에 있어서,
상기 체인지유닛은,
상기 파지부재를 상기 레일유닛으로 안내하도록 회전 및 승하강시키는 구동부재;
를 더 포함하는 기판세정장치.
According to claim 1,
The change unit is
a driving member for rotating and elevating the gripping member to guide the rail unit;
Substrate cleaning apparatus further comprising a.
 기판으로 세정액을 공급하여 세정시키는 복수의 세정노즐을 구비하는 세정유닛;
상기 기판을 향해 상기 세정액을 분사하는 상기 기판의 중앙부로 상기 세정노즐을 레일 구동시키는 레일유닛; 및
상기 복수의 세정노즐 중 적어도 어느 하나를 자력에 의해서 선택적으로 파지하도록 자성을 갖는 재질로 형성되고, 상기 세정노즐에 대응되는 파지홈이 마련되는 파지부재를 구비하고, 상기 세정노즐을 상기 레일유닛에 장착 또는 분리되도록 가이드하는 체인지유닛;
을 포함하고,
상기 레일유닛은,
상기 세정노즐이 진입 가능하도록 상기 파지부재가 진입하는 위치가 개방되어 진입구가 마련되는 레일몸체; 및
상기 레일몸체를 따라 구동되게 설치되고, 상기 체인지유닛에 의해 이송된 상기 세정노즐이 장착되도록 상기 진입구의 개방 부분과 대응되게 개방되어 장착홈이 마련되는 레일 장착부재;
를 포함하고,
상기 파지부재는 상기 진입구에 진입할 때, 상기 파지홈의 개방된 부분이 상기 진입구에 대해서 대향되게 형성되는 기판세정장치.
a cleaning unit having a plurality of cleaning nozzles for supplying a cleaning solution to the substrate and cleaning the substrate;
a rail unit for rail driving the cleaning nozzle to a central portion of the substrate for spraying the cleaning liquid toward the substrate; and
and a holding member formed of a magnetic material to selectively grip at least one of the plurality of cleaning nozzles by magnetic force, and having a gripping groove corresponding to the cleaning nozzle, and attaching the cleaning nozzle to the rail unit. a change unit for guiding it to be mounted or detached;
including,
The rail unit is
a rail body in which an entry port is provided by opening a position at which the holding member enters so that the cleaning nozzle can enter; and
a rail mounting member installed to be driven along the rail body and having a mounting groove opened to correspond to an open portion of the entry port so that the cleaning nozzle transported by the change unit is mounted;
including,
When the gripping member enters the entry hole, an open portion of the gripping groove is formed to face the entry hole.
 제8항에 있어서,
상기 복수의 세정노즐은 노즐 수납부에 수납되어 보관되는 기판세정장치.
9. The method of claim 8,
The plurality of cleaning nozzles is a substrate cleaning apparatus that is accommodated in the nozzle receiving unit.
 제8항에 있어서,
상기 레일유닛은,
상기 레일몸체에 설치되어, 상기 세정노즐을 상기 레일몸체를 따라 양방향 직선 운동시키는 레일 구동체; 및
상기 레일 구동체에 구동력을 제공하는 레일 구동원;
을 더 포함하는 기판세정장치.
9. The method of claim 8,
The rail unit is
a rail driving body installed on the rail body to linearly move the cleaning nozzle in both directions along the rail body; and
a rail driving source providing a driving force to the rail driving body;
Substrate cleaning apparatus further comprising a.
 제10항에 있어서,
상기 레일 장착부재는 장착된 상기 세정노즐을 고정시키는 고정핀이 마련되는 기판세정장치.
11. The method of claim 10,
The rail mounting member is a substrate cleaning apparatus provided with a fixing pin for fixing the mounted cleaning nozzle.
 제8항에 있어서,
상기 체인지유닛은,
상기 파지부재를 상기 레일유닛으로 안내하도록 회전 및 승하강시키는 구동부재;
를 더 포함하는 기판세정장치.


9. The method of claim 8,
The change unit is
a driving member for rotating and elevating the gripping member to guide the rail unit;
Substrate cleaning apparatus further comprising a.
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