KR102256690B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 챔버, 기판 지지 유닛, 가스 공급 유닛, 처짐 방지 유닛 등을 포함한다. 챔버는 그 상부를 덮는 덮개를 가진다. 처짐 방지 유닛은 덮개를 지지함으로써, 덮개가 열변형 또는 중량 등에 의해 아래 방향으로 처지는 것을 방지한다. 따라서, 덮개에 설치된 가스 공급 유닛의 가스 분사 높이 및 챔버의 넓이를 설정시와 같게 유지할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 공정 가스를 공급하여 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 칩이나 발광다이오드(LED)와 같은 집적회로의 제조 공정은 기판에 박막을 증착하는 공정을 포함한다. 최근 반도체 소자가 미세화되고, 고효율 및 고출력의 엘이디(LED)가 개발됨에 따라, 증착 공정 중 금속 유기 화학 기상 증착법(MOCVD:Metal Organic Chemical Vapor Deposition)이 각광받고 있다. 금속 유기 화학 기상 증착법은 화학 기상 증착법의 하나로, 유기금속의 열분해 반응을 이용해 기판상에 금속화합물을 퇴적 및 부착시키는 방법이다.
화학 기상 증착 공정을 수행하는 기판 처리 장치는 장치의 대구경화 및 고온 공정으로 인한 열변형에 의해 챔버 덮개의 중심부가 처지는 현상이 발생된다. 따라서, 덮개의 중심부에 설치된 가스 공급 유닛의 위치 변경을 일으키고 이는 공정 결과에 영향을 미친다.
본 발명은 챔버의 덮개의 처짐을 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 하우징과; 상기 하우징 내에 배치되며, 상면이 개방된 몸체 및 상기 몸체의 상면을 개폐하는 덮개를 가지는 챔버;와 상기 챔버 내에서 기판을 지지하도록 제공된 기판 지지 유닛과; 상기 챔버 내로 공정 가스를 공급하는 가스 공급 유닛;을 가지되, 상기 하우징의 상부 벽의 저면과 상기 덮개를 연결하여, 상기 덮개를 지지하는 처짐 방지 유닛;을 포함한다.
상기 처짐 방지 유닛;은 상기 하우징의 상부 벽의 저면과 상기 덮개의 상면 중앙영역을 연결한다.
상기 처짐 방지 유닛은, 상기 덮개를 지지하는 지지 부재와; 상기 지지 부재의 상부에 연결되고, 상기 덮개를 상하 방향으로 이동시키는 제 1 구동 부재;를 가진다.
상기 지지 부재는, 서로 그 일단이 연결되고, 상기 일단에는 상기 제 1 구동 부재가 연결된 복수개의 가로 바와; 상기 가로 바의 타단으로부터 아래 방향으로 연장된 복수개의 세로 바;를 가진다.
상기 세로 바들은, 서로 조합되어 상기 가스 공급 유닛을 둘러싸는 링 형상으로 배열된다.
상기 덮개를 상하 방향으로 이동시키고, 상기 덮개의 가장자리 영역에 복수개 제공되는 제 2 구동 부재;를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 챔버의 중심부를 지지함으로써 챔버의 덮개의 처짐을 방지할 수 있다.
도 1은 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1의 서셉터를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 1의 기판 홀더를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 1의 가스 공급 유닛을 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 4의 노즐을 나타내는 수평 단면도이다.
도 6은 도 1의 가스 배기 유닛을 나타내는 사시도이다.
도 7은 도 1의 처짐 방지 유닛을 상부에서 바라본 평면도이다.
도 8은 도 1의 처짐 방지 유닛을 나타낸 사시도이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
이하, 도 1 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.
기판처리장치는 기판 상에 박막을 증착하는 공정을 수행한다. 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치(1)를 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 기판처리장치(1)는 하우징(100), 챔버(200), 기판 지지 유닛(300), 라이너 유닛(400), 가열 유닛(500), 가스 공급 유닛(600), 가스 배기 유닛(700) 및 처짐 방지 유닛(800)을 포함한다. 하우징(100)은 챔버(200)를 수용하는 공간을 제공한다. 챔버(200)는 내부에 공정 처리가 수행되는 공간을 제공한다. 기판 지지 유닛(300)은 기판(S)을 지지한다. 라이너 유닛(400)은 챔버(200) 내벽을 보호한다. 가열 유닛(500)은 기판(S)을 가열한다. 가스 공급 유닛(600)은 기판(S)으로 공정 가스를 공급한다. 가스 배기 유닛(700)은 기판 처리에 제공된 공정 가스를 챔버(200) 외부로 배기한다. 처짐 방지 유닛(800)은 덮개(210)의 처짐을 방지한다. 이하, 각 구성에 대해 상세하게 설명한다.
하우징(100)은 대체로 직육면체 형상을 가지며, 내부에 공간을 가진다. 도시하지 않았으나, 하우징(100)의 일 측벽에는 개구가 형성되고, 작업자는 개구를 통해 챔버(200)로 기판을 반입할 수 있다. 도시하지 않았으나, 개구는 도어에 의해 개폐될 수 있다. 하우징(100)의 내부에는 챔버(200)가 위치한다. 하우징(100)의 측벽에는 지지턱(120)이 내측으로 돌출되고, 지지턱(120)에는 챔버(200)가 놓일 수 있다.
챔버(200)는 내부가 직육면체의 통 형상으로 제공될 수 있다. 챔버(200)는 덮개(210) 및 몸체(220)를 가진다. 챔버(200)는 원통 형상을 가지며, 덮개(210) 및 몸체(220)가 조합되어 처리 공간을 형성한다. 챔버(200)는 내열성이 약한 금속 재질로 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 챔버(200)는 스테인레스 재질로 제공될 수 있다.
몸체(220)는 상면이 개방되고 측벽(222) 및 하부벽(224)을 가진다.
덮개(210)는 하우징(100)의 상부 벽(110)으로부터 아래 방향으로 소정 거리 이격하여 위치한다. 덮개(210)는 몸체(220)의 상면이 밀폐되도록 덮는다. 덮개(210)는 챔버(200) 내부를 개폐할 수 있다. 작업자는 챔버(200) 내부에 제공되는 장치를 유지 보수할 경우, 덮개(210)를 개방한다. 또한, 챔버(200)에 기판(S)이 출입하는 경우, 덮개(210)가 개방될 수 있다. 덮개(210)는 공정시에 발생되는 열에 의해 변형될 수 있다. 또한, 덮개(210)의 중앙 영역에는 가스 공급 유닛(600)이 설치될 수 있으므로, 덮개(210)는 그 중량 및 가스 공급 유닛(600)의 중량에 의해 그 중앙 영역이 아래 방향으로 처지는 처짐 현상이 발생할 수 있다. 이 경우, 가스 공급 유닛(600)의 가스 분사 높이가 설정 높이와 달라질 수 있으며, 처리 공간의 넓이가 설정시의 넓이와 달라져 공정에 영향을 미친다.
덮개(210)의 가장자리 영역에는 제 2 구동 부재(240)가 제공된다. 제 2 구동 부재(240)는 복수개 제공된다. 제 2 구동 부재(240)는 덮개(210)를 상하 방향으로 이동시킴으로써 덮개(210)를 개폐한다. 제 2 구동 부재(240)의 구조 및 구성은 이하 설명 될 제 1 구동 부재(820)과 유사하게 제공될 수 있다.
기판 지지 유닛(300)은 챔버(200) 내부에서 기판(S)을 지지한다. 기판 지지 유닛(300)은 복수 매의 기판(S)을 동시에 지지할 수 있다. 실시예에 의하면, 기판 지지 유닛(300)은 서셉터(310), 기판 홀더(320), 그리고 서셉터 구동부(330)를 포함한다.
도 2는 도 1의 서셉터(310)를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 서셉터(310)는 챔버(200) 내부에 위치한다. 서셉터(310)는 소정 두께를 갖는 원판으로, 상면이 저면보다 큰 반경을 가지고, 측면이 하향 경사질 수 있다. 서셉터(310)의 상면에는 중앙홈(312) 및 기판 수용홈(311)이 형성된다. 중앙홈(312) 및 기판 수용홈(311) 각각은 원형 홈으로, 소정 깊이로 형성될 수 있다.
중앙홈(312)은 서셉터(310)의 상면 중앙영역에 형성된다. 중앙홈(312)에는 노즐(610)의 끝단이 위치될 수 있다.
기판 수용홈(311)에는 기판(S)을 직접 지지할 수 있는 기판 홀더(320) 등의 처리 대상물이 제공될 수 있다. 기판 수용홈(311)은 복수 개로 제공된다. 기판 수용홈(311)들은 서셉터(310)의 상면 가장자리영역에 형성된다. 기판 수용홈(311)들은 중앙홈(312)의 주변에 형성된다. 기판 수용홈(311)들은 기판 홀더(320)의 크기에 따라 다양한 형상으로 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 기판 수용홈들(311)은 10개로 제공되며, 각각은 서로 조합하여 링 형상으로 배치될 수 있다. 각각의 기판 수용홈들(311)은 중앙홈(312)으로부터 거리가 동일하게 제공될 수 있다. 서로 인접한 기판 수용홈들(311) 간에 간격은 동일하게 제공될 수 있다.
기판 수용홈(311)들의 바닥면에는 돌기(313), 분사홀(314), 그리고 안내홈(315)이 형성된다. 돌기(313)는 기판 수용홈(311)의 바닥면 중앙에서 소정 높이로 돌출된다. 분사홀(314)은 돌기(313) 주변에 복수 개 형성된다. 분사홀(314)들은 가스를 공급하는 가스 공급 유로(317)들과 연결되며, 가스를 분사한다. 분사된 가스는 기판 수용홈(311)에 놓인 기판 홀더(320)을 부양시킨다.
안내홈(315)은 분사홀(314)에서 분사된 가스의 흐름을 안내한다. 안내홈(315)은 분사홀(314)들에 각각 연결된다. 안내홈(315)은 소정 길이를 가지며, 라운드지게 제공된다. 분사홀(314)에서 분사된 가스는 안내홈(315)을 따라 이동하며, 부양된 기판 홀더(320)을 회전시킨다.
서셉터 구동부(330)는 서셉터(310)를 회전 및 승강시킨다. 서셉터 구동부(330)는 회전축(331) 및 모터(332)를 포함한다. 회전축(331)은 서셉터(310)의 하부에서 서셉터(310)를 지지한다. 모터(332)는 회전축(331)을 회전 및 승강시킨다. 실시예에 의하면, 기판 홀더(320)가 회전되는 동안, 모터(332)는 서셉터(310)를 회전시킬 수 있다.
도 3은 도 1의 기판 홀더(320)를 보여주는 단면도이다. 도3을 참조하면, 기판 홀더(320)는 두께가 얇은 원판으로 기판 수용홈(311)에 수용된다. 기판 홀더(320)의 상면에는 안착홈(321)이 형성된다. 안착홈(321)은 소정 깊이로 형성되며, 기판(S)을 수용한다. 안착홈(321)은 기판 홀더(320)의 내측면과 바닥면에 의해 정의될 수 있다. 일 예에 의하면, 안착홈(321)은 원형의 형상으로 제공될 수 있다. 안착홈(321)은 기판(S)의 반경에 상응하거나 그보다 큰 반경을 가질 수 있다. 기판 홀더(320)의 저면에는 고정홈(322)이 형성된다. 고정홈(322)에는 기판 수용홈(311)의 바닥면에 형성된 돌기(313)가 삽입 가능하다. 기판 홀더(320)는 전기 전도율이 높은 재질로 제공될 수 있다. 기판 홀더(320)는 흑연 재질로 제공될 수 있다. 기판 홀더(320)는 복수 개 제공되며, 기판 수용홈(311)들 각각에 수용된다.
다시 도1을 참조하면, 라이너 유닛(400)은 챔버(200) 내부에 위치하며, 챔버(200) 내벽을 보호한다. 라이너 유닛(400)은 챔버(200) 내벽에 공정 가스가 부착되거나, 챔버(200) 내벽과 공정 가스가 반응하는 것을 차단한다. 라이너 유닛(400)은 상부 라이너(410), 측부 라이너(420), 그리고 체결 부재(430)를 포함한다.
상부 라이너(410)는 두께가 얇은 판으로, 서셉터(310)의 상부에서 서셉터(310)의 상면과 나란하게 배치된다. 상부 라이너(410)는 챔버(200)의 덮개(210)로부터 소정 거리 이격하여 위치한다. 상부 라이너(410)는 서셉터(310)의 상면보다 큰 면적을 가진다. 실시예에 의하면, 상부 라이너(410)는 원판이며, 서셉터(310)의 상면보다 큰 반경을 가진다. 상부 라이너(410)의 중심에는 삽입공이 형성된다. 삽입공에는 노즐(610)이 위치한다.
측부 라이너(420)는 상·저면이 개방되며, 내부에 공간이 형성된 통 형상을 가진다. 측부 라이너(420)는 상부 라이너(410)의 하부에서 상부 라이너(410)를 지지한다. 측부 라이너(420)는 상부 라이너(410)에 상응하는 반경을 가지며, 상단에 상부 라이너(410)가 놓인다. 측부 라이너(420)는 서셉터(310)의 주변을 에워싸도록 배치된다. 상부 라이너(410)와 측부 라이너(420)에 의해 구획되는 공간은 기판에 대한 공정 처리가 수행되는 처리 공간(422)으로 제공된다.
상부 라이너(410)와 측부 라이너(420)는 챔버(200)보다 내열성이 우수한 재질로 제공된다. 상부 라이너(410)와 측부 라이너(420)는 그라파이트 재질로 제공될 수 있다.
체결 부재(430)는 상부 라이너(410)를 챔버(200)의 덮개(210)에 고정시킨다. 체결 부재(430)는 플랜지(431)와 볼트(432)를 포함한다. 플랜지(431)는 삽입공이 형성된 상부 라이너(410)의 내측단에 고정 체결된다. 볼트(432)는 챔버(200)의 덮개(210)과 플랜지(431)를 체결한다. 체결 부재(430)에 의하여, 상부 라이너(410)와 챔버(200)의 덮개(210)와 일체로 이동한다. 덮개(210)가 챔버(200)의 내부를 개방하는 경우, 상부 라이너(410)는 덮개(210)와 함께 이동한다.
가열 유닛(500)은 서셉터(310)의 하부에 위치한다. 가열 유닛(500)은 서셉터(310)의 하면으로부터 소정 거리 이격된다. 가열 유닛(500)은 코일로 제공될 수 있다. 코일은 동일 높이에서 나선 형상으로 회전축(331) 주변에 복수 회 감기도록 제공될 수 있다. 가열 유닛(500)에서 발생된 열은 서셉터(310)와 기판 지지판(320)을 통해 기판(S)으로 전달되며, 기판(S)을 가열한다. 일 예에 의하면, 기판(S)은 가열 유닛(500)에 의해 700? 내지 1300?로 가열될 수 있다.
가스 공급 유닛(600)은 상부 라이너(410)와 서셉터(310) 사이 공간으로 퍼지 가스 및 이온화된 공정가스를 공급한다.
도 4는 도 1의 가스 공급 유닛(600)을 나타내는 단면도이고, 도 5는 도 4의 노즐을 나타내는 수평 단면도이다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 가스 공급 유닛(600)은 노즐(610), 제1가스 공급라인(641), 제2가스 공급라인(642), 그리고 퍼지 가스 공급라인(643)을 포함한다.
노즐(610)은 챔버(200)의 덮개(210)의 중앙으로부터 아래로 제공되며, 그 끝단이 서셉터(310)의 중앙홈(312)에 위치한다. 노즐(610)은 상단이 챔버(200)의 덮개(210)에 걸쳐 지지될 수 있다. 따라서, 노즐(610)은 덮개가 상하 방향으로 이동하여 개폐될 경우 덮개와 함께 상하 방향으로 이동될 수 있다.
노즐(610)의 내부는 복수의 공간으로 구획되어 형성된다. 실시예에 의하면, 노즐(610)이 내부에는 3개의 공간(611 내지 613)이 형성된다. 제1공간(611)은 노즐(610)의 중앙영역에 형성된다. 제2공간(612)은 제1공간(611)의 둘레를 따라 링 형상으로 형성된다. 제3공간(613)은 제2공간(612)의 둘레를 따라 링 형상으로 형성된다. 제1 내지 제3공간(611 내지 613)은 구획벽에 의해 구획되며 서로 간에 차단된다.
노즐(610)의 측벽에는 퍼지가스 분사구(621, 622)와 공정가스 분사구(623 내지 625)가 형성될 수 있다.
퍼지가스 분사구(621, 622)는 상부 라이너(410)에 인접한 노즐(610) 영역과 노즐(610) 끝단에 인접한 영역에 각각 형성될 수 있다. 퍼지가스 분사구(621, 622)는 노즐(610) 둘레를 따라 복수 개 형성된다. 퍼지가스 분사구(621, 622)는 제3공간(613)과 연통된다. 제3공간(613)에 공급된 퍼지 가스는 퍼지 가스 분사구(621, 622)들을 통해 처리 공간(422)으로 분사된다. 일 예에 의하면, 노즐(610) 끝단에 인접한 영역에 형성된 퍼지가스 분사구(622)는 중앙홈(312) 내에 위치될 수 있다.
공정 가스 분사구(623 내지 625)는 제1가스를 분사하는 제1가스 분사구(623)와, 제2가스를 분사하는 제2가스 분사구(624, 625)로 구분된다. 제1가스 분사구(623)는 상부에 형성된 퍼지 가스 분사구(621)들과 하부에 형성된 퍼지 가스 분사구(622)들 사이에 형성된다. 제1가스 분사구(623)는 노즐(610)의 둘레를 따라 복수 개 형성된다. 제1가스 분사구(623)는 제1내관(631)을 통해 제1공간(611)과 연통된다. 제1내관(631)은 복수 개가 제1공간(611)을 중심으로 방사상으로 배치되며, 제1가스 분사구(623)들 각각과 연결된다. 제1공간(611)으로 공급된 제1가스는 제1내관(631)과 제1가스 분사구(623)를 순차적으로 거쳐 처리 공간(422)으로 분사된다.
제2가스 분사구(624, 625)는 상부에 형성된 퍼지 가스 분사구(621)들과 제1가스 분사구(623)들 사이 영역, 그리고 제1가스 분사구(623)들과 하부에 형성된 퍼지 가스 분사구(622)들 사이 영역에 각각 형성된다. 제2가스 분사구(624, 625)는 노즐(610)의 둘레를 따라 복수 개 형성된다. 제2가스 분사구(624, 625)는 제2내관(632, 633)을 통해 제2공간(612)과 연통된다. 제2내관(632, 633)은 복수 개가 제2공간(612)을 중심으로 방사상으로 배치되며, 제2가스 분사구(624, 625)들 각각과 연결된다. 제2공간(612)으로 공급된 제2가스는 제2내관(632, 625)과 제2가스 분사구(624, 625)를 순차적으로 거쳐 처리 공간(422)으로 분사된다. 제1가스 분사구(623)와 제2가스 분사구(624, 625)에서 분사된 제1 및 제2가스는 처리 공간(422)에서 혼합되고 기판(S)에 증착된다.
제1가스 공급라인(641)은 노즐(610)의 상단에서 제1공간(611)과 연결된다. 제1가스 공급라인(641)은 제1공간(611)으로 제1가스를 공급한다. 제1가스는 유기금속인 Ⅲ족 원소의 가스일 수 있다. 제1가스는 트리메틸갈륨(TMG) 또는 트리메틸알루미늄(TMA)일 수 있다.
제2가스 공급라인(642)은 노즐(610)의 상단에서 제2공간(612)과 연결될 수 있다. 제2가스 공급 라인(642)은 제2공간(612)으로 제2가스를 공급한다. 제2가스는 V족원소가 수소화물로서 제공될 수 있다. 제2가스는 포스핀(PH3), 수소화비소(AsH3), 또는 암모니아(NH3)일 수 있다.
퍼지 가스 공급라인(643)은 노즐(610)의 상단에서 제3공간(613)과 연결될 수 있다. 퍼지 가스 공급라인(643)은 제3공간(613)으로 퍼지 가스를 공급한다. 퍼지가스는 질소가스(N2)일 수 있다.
가스 배기 유닛(700)은 기판(S) 처리 후 처리 공간(422)에 머무르는 가스를 챔버(200) 외부로 배기한다. 도 6은 도 1의 가스 배기 유닛(700)을 나타내는 사시도이다. 도 1 및 도 6을 참조하면, 가스 배기 유닛(700)은 배기판(710), 배기관(720), 탄성 부재(730)를 포함한다. 배기판(710)은 링 형상의 판으로, 서셉터(310)의 둘레를 따라 제공된다. 배기판(710)의 상면은 서셉터(310)의 상면에 상응하거나 그보다 낮게 위치할 수 있다. 배기판(710)의 상면에는 측부 라이너(420)가 놓인다. 배기판(710)의 상면 영역 중 측부 라이너(420)가 놓인 영역 내측에는 배기홀(711)이 형성된다. 배기홀(711)은 배기판(710)의 상면을 따라 복수 개 형성된다.
배기판(710)의 내부에는 배기 유로(712)가 형성된다. 배기 유로(712)는 배기판(710)의 둘레를 따라 링 형상으로 형성되며, 배기홀(711)들과 연통된다.
배기관(720)은 배기판(710)의 저면과 연결되며, 배기 유로(712)와 연통된다. 실시예에 의하면, 배기관(720)은 복수 개 제공되며, 서로 상이한 위치에서 배기판(710)과 결합된다. 배기관(720)들은 단계별로 합쳐져 중간 배기관(721)으로 연결되고, 중간 배기관(721)들은 하나의 메인 배기관(722)으로 합쳐진다. 메인 배기관(722)에는 진공 펌프(미도시)가 설치된다. 실시예에 의하면, 배기관(720)들은 4개 지점에서 배기판(710)과 연결되고, 한 쌍씩 중간 배기관(721)으로 합쳐진다. 그리고 2개의 중간 배기관(721)은 메인 배기관(722)으로 합쳐진다.
진공 펌프에서 인가된 진공압은 메인 배기관(722), 중간 배기관(721), 배기관(720), 그리고 배기 유로(712)를 순차적으로 거쳐 배기홀(711)들 각각에 인가된다. 진공압은 배기 유로(712)를 거치므로, 배기홀(711)들 각각에는 진공압이 균일하게 인가될 수 있다. 배기홀(711)들에 인가된 진공압은 처리 공간(422)에 인가되며, 처리 공간(422)에 머무르는 가스는 배기홀(711)들로 유입된다. 가스는 배기홀(711)들 각각에 균일하게 유입될 수 있다.
탄성 부재(730)는 배기판(710)의 저면에 제공된다. 탄성 부재(730)는 배기판(710)에 힘이 가해지는 경우, 배기판(710)에 탄성력을 인가한다. 예컨대, 배기판(710)의 상면에 측부 라이너(420)가 놓이거나, 상부 라이너(410)가 개방되는 경우, 탄성력을 제공하여 배기판(710)을 안정적으로 지지한다. 탄성 부재(730)는 스프링이 제공될 수 있다. 스프링(730)은 배기판(710)의 둘레를 따라 복수 개 제공될 수 있다.
도 7은 도 1의 처짐 방지 유닛을 상부에서 바라본 평면도이고, 도 8은 도 1의 처짐 방지 유닛을 나타낸 사시도이다. 도 1, 도 7 및 도 8을 참고하면, 처짐 방지 유닛(800)은 하우징(100)의 상부 벽(110)의 저면과 덮개(210)의 상면 중앙 영역을 연결하여 덮개(210)를 지지한다. 처짐 방지 유닛(800)은 지지 부재(810) 및 제 1 구동 부재(820)를 포함한다.
지지 부재(810)는 그 상부가 제 1 구동 부재(820)와 연결된다. 지지 부재(810)는 제 1 구동 부재(820)로부터 발생된 구동력을 덮개(210)로 전달한다. 지지 부재(810)는 그 하부가 덮개(210)의 상면 중앙 영역에 연결되어 덮개(210)를 지지한다. 지지 부재(810)는 가로 바(811) 및 세로 바(812)를 가진다.
가로 바(811)는 복수개가 제공된다. 가로 바(811)들은 서로 그 일단이 연결되고, 그 일단에는 제 1 구동 부재(820)가 연결된다.
세로 바(812)는 복수개가 제공된다. 세로 바(812)는 가로 바(811)의 타단으로부터 아래 방향으로 연장되도록 제공된다. 세로 바(812)의 하단은 덮개(210)와 연결된다. 세로 바(812)들은 서로 조합되어 가스 공급 유닛(600)을 둘러싸는 링 형상으로 배열된다.
제 1 구동 부재(820)는 덮개(210)를 상하 방향으로 이동시키도록 구동력을 발생시킨다. 제 1 구동 부재(820)는 지지 부재(810)와 연결되어 지지 부재(810)로 구동력을 전달하는 구동축(821)과 구동력을 발생시키는 구동기(822)를 가진다.
상술한 바와 같이, 처짐 방지 유닛(800)이 덮개(210)를 지지함으로써, 덮개(210)가 열변형, 자체 중량 또는 가스 공급 유닛(600)의 중량에 의해 그 중심부가 아래 방향으로 처지는 것을 방지한다. 따라서, 가스 공급 유닛(600)의 가스 분사 높이 및 챔버 내부 공간의 넓이가 설정 시와 상이해지는 것을 방지한다.
1: 기판 처리 장치 S: 기판
100: 하우징 200: 챔버
210: 덮개 300: 기판 지지 유닛
400: 라이너 유닛 500: 가열 유닛
600: 가스 공급 유닛 700: 가스 배기 유닛
800: 처짐 방지 유닛 810: 지지 부재
820: 제 1 구동 부재

Claims (6)

  1. 하우징과;
    상기 하우징 내에 배치되며, 상면이 개방된 몸체 및 상기 몸체의 상면을 개폐하는 덮개를 가지는 챔버;와
    상기 챔버 내에서 기판을 지지하도록 제공된 기판 지지 유닛과;
    상기 챔버 내로 공정 가스를 공급하는 가스 공급 유닛;을 가지되,
    상기 하우징의 상부 벽의 저면과 상기 덮개를 연결하여, 상기 덮개를 지지하는 처짐 방지 유닛;을 포함하되;
    상기 처짐 방지 유닛은,
    상기 덮개를 지지하는 지지 부재와;
    상기 지지 부재의 상부에 연결되고, 상기 덮개를 상하 방향으로 이동시키는 제 1 구동 부재;를 포함하고,
    상기 지지 부재는,
    서로 그 일단이 연결되고, 상기 일단에는 상기 제 1 구동 부재가 연결된 복수개의 가로 바와; 상기 가로 바의 타단으로부터 아래 방향으로 연장된 복수개의 세로 바;를 가지는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 처짐 방지 유닛;은 상기 하우징의 상부 벽의 저면과 상기 덮개의 상면 중앙영역을 연결하는 기판 처리 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 세로 바들은, 서로 조합되어 상기 가스 공급 유닛을 둘러싸는 링 형상으로 배열된 기판 처리 장치.
  6. 제 2 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 덮개를 상하 방향으로 이동시키고, 상기 덮개의 가장자리 영역에 복수개 제공되는 제 2 구동 부재;를 더 포함하는 기판 처리 장치.
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