KR102246690B1 - Photocurable resin composition, cured coating film formed from the composition, anti-glare film formed from the composition, method of producing cured coating film, and method of producing anti-glare film - Google Patents

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Abstract

방현성이 우수하고, 또한 휘도 불균일이 적은 경화 피막을 형성할 수 있는 광경화성 수지 조성물을 제공한다. 광중합성 성분(A), 미립자(B) 및 광중합 개시제(C)를 함유하는 광경화성 수지 조성물로서, 광중합성 성분(A)이, 중량 평균 분자량이 10,000 이상인 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)를 포함하고, 미립자(B)가, 평균 입자경이 1.0㎛ 이상 2.8㎛ 이하인 유기 미립자 및/또는 무기 미립자를 포함하고, 23℃에 있어서의 점도가 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물이다.A photocurable resin composition capable of forming a cured film having excellent anti-glare properties and less luminance unevenness is provided. A photocurable resin composition containing a photopolymerizable component (A), fine particles (B) and a photopolymerization initiator (C), wherein the photopolymerizable component (A) is a photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight of 10,000 or more. A sight characterized in that the fine particles (B) contain organic fine particles and/or inorganic fine particles having an average particle diameter of 1.0 μm or more and 2.8 μm or less, and the viscosity at 23° C. is 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less. It is a chemical conversion resin composition.

Description

광경화성 수지 조성물, 이 조성물로 형성되는 경화 피막 및 방현 필름과, 경화 피막 및 방현 필름의 제조방법{PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, CURED COATING FILM FORMED FROM THE COMPOSITION, ANTI-GLARE FILM FORMED FROM THE COMPOSITION, METHOD OF PRODUCING CURED COATING FILM, AND METHOD OF PRODUCING ANTI-GLARE FILM}Photocurable resin composition, cured film and anti-glare film formed from this composition, and method of manufacturing cured film and anti-glare film {PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, CURED COATING FILM FORMED FROM THE COMPOSITION, ANTI-GLARE FILM FORMED FROM THE COMPOSITION, METHOD OF PRODUCING CURED COATING FILM, AND METHOD OF PRODUCING ANTI-GLARE FILM}

본 발명은, 광경화성 수지 조성물, 이 조성물로 형성되는 경화 피막 및 방현 필름과, 경화 피막 및 방현 필름의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable resin composition, a cured film and an anti-glare film formed from the composition, and a method for producing a cured film and an anti-glare film.

태블릿 단말이나 텔레비젼을 비롯한 화상 표시장치(이하, 간단히 디스플레이라고도 한다)에서는, 태양광이나 형광등 등이 화면에 비치는 것에 의해, 화면의 시인성이 낮아져 버린다. 따라서, 비침을 억제하기 위해, 디스플레이의 표면에는 방현 필름이 설치된다.In image display devices such as tablet terminals and televisions (hereinafter, also simply referred to as displays), the visibility of the screen is lowered by the light of sunlight or fluorescent lamps being reflected on the screen. Therefore, in order to suppress see-through, an anti-glare film is provided on the surface of the display.

일반적으로, 방현 필름은, 투명성 기재와, 방현성을 갖는 경화 피막(이하, 간단히 방현층이라고도 한다)을 적층시켜 구성되어 있다. 방현층은, 예를 들면, 미립자를 포함하는 광경화성 수지 조성물을 투명성 기재 위에 도포·경화시켜 형성되고 있고, 미립자에 의한 미소한 요철을 표면에 갖고 있다. 방현 필름에 따르면, 방현층이 요철에 의해 빛을 산란 혹은 확산시킴으로써 방현성을 나타내므로, 비침을 억제할 수 있다.In general, an anti-glare film is constituted by laminating a transparent base material and a cured film having anti-glare properties (hereinafter, also simply referred to as an anti-glare layer). The anti-glare layer is formed, for example, by coating and curing a photocurable resin composition containing fine particles on a transparent substrate, and has minute irregularities due to fine particles on the surface. According to the anti-glare film, since the anti-glare layer exhibits anti-glare properties by scattering or diffusing light due to irregularities, reflection can be suppressed.

그런데, 최근, 디스플레이에 있어서는, 해상도가 향상되고 있어, 표시되는 화상이 보다 고선명으로 되고 있다. 이 해상도의 향상에 따라, 방현 필름에 있어서는, 고해상도의 디스플레이에 부착할 때에, 방현층의 표면에 휘도 불균일이 생겨, 화면의 시인성이 저하한다고 한 문제가 생기고 있다. 휘도 불균일은, 디스플레이를 점등했을 때, 배면에서의 투과광이 화면에 도달했을 때에, 화면 표면에 미세한 휘도(밝기)의 불균일이 나타나고, 관찰자가 보는 각도를 바꾸어 가면, 그 휘도 불균일의 위치가 변해 가는 것과 같이 보이는 현상으로, 특히 전체면 백색 표시나 전체면 녹색 표시일 때에 현저하다. 이 휘도 불균일은, 투과광이 방현층의 요철과 간섭 함으로써 생기는 것으로 생각되고 있다. 이와 같이, 방현 필름에 있어서는, 방현층의 요철에 의해 방현성이 얻어지지만, 그 요철에 의해 휘도 불균일이 생겨 버리므로, 우수한 방현성과, 휘도 불균일의 억제를 양립하는 것은 곤란하게 되어 있다.By the way, in recent years, in a display, the resolution is improved, and the displayed image becomes higher definition. With the improvement of this resolution, in the case of the anti-glare film, when affixed to a high-resolution display, a problem arises in that luminance unevenness occurs on the surface of the anti-glare layer and the visibility of the screen decreases. The luminance unevenness is when the display is turned on, when the transmitted light from the rear reaches the screen, a minute luminance (brightness) unevenness appears on the screen surface, and when the viewer changes the viewing angle, the location of the luminance unevenness changes. This is a phenomenon that looks like this, and is particularly remarkable when the entire surface is white or the entire surface is green. This luminance unevenness is considered to be caused by the transmitted light interfering with the unevenness of the antiglare layer. In this way, in the anti-glare film, the anti-glare property is obtained due to the unevenness of the anti-glare layer, but since the unevenness of luminance occurs due to the unevenness, it is difficult to achieve both excellent anti-glare property and suppression of luminance unevenness.

이 문제를 해결하는 방법으로서, 방현 필름의 방현층을 구성하는 수지의 굴절률과, 방현층에 포함되는 미립자의 굴절률의 차이를 소정의 범위 내로 조정하는 방법이 개시되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1∼3을 참조).As a method of solving this problem, a method of adjusting the difference between the refractive index of the resin constituting the anti-glare layer of the anti-glare layer and the refractive index of the fine particles contained in the anti-glare layer within a predetermined range is disclosed (for example, Patent Document See 1-3).

일본국 특개평 11-326608호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-326608 일본국 특개 2008-262190호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-262190 일본국 특개 2009-175375호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-175375

그렇지만, 특허문헌 1∼3의 방법에서는, 우수한 방현성을 유지하면서, 휘도 불균일을 억제하기 위해서는 한계가 있어, 개선의 여지가 있다.However, in the methods of Patent Documents 1 to 3, there is a limit to suppressing luminance unevenness while maintaining excellent anti-glare properties, and there is room for improvement.

본 발명은, 상기 과제를 감안해서 이루어진 것으로, 방현성이 우수하고, 또한 휘도 불균일이 적은 경화 피막을 형성할 수 있는 광경화성 수지 조성물, 경화 피막 및 방현 필름과, 경화 피막 및 방현 필름의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and a photocurable resin composition capable of forming a cured film having excellent anti-glare properties and less luminance unevenness, a cured film and an anti-glare film, and a method for producing a cured film and an anti-glare film It aims to provide.

본 발명의 일 태양에 따르면,According to an aspect of the present invention,

광중합성 성분(A), 미립자(B) 및 광중합 개시제(C)를 함유하는 광경화성 수지 조성물로서,As a photocurable resin composition containing a photopolymerizable component (A), fine particles (B) and a photopolymerization initiator (C),

상기 광중합성 성분(A)이, 중량 평균 분자량이 10,000 이상인 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)를 포함하고,The photopolymerizable component (A) contains a photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight of 10,000 or more,

상기 미립자(B)가, 평균 입자경이 1.0㎛ 이상 2.8㎛ 이하인 산화 알루미늄 미립자 내포형 폴리오가노 실세스퀴옥산 미립자를 포함하고,The fine particles (B) contain polyorgano silsesquioxane fine particles containing aluminum oxide fine particles having an average particle diameter of 1.0 μm or more and 2.8 μm or less,

23℃에 있어서의 점도가 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물이 제공된다.A photocurable resin composition having a viscosity at 23°C of 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less is provided.

본 발명의 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

상기한 태양의 광경화성 수지 조성물로 형성되고, 상기 미립자(B)에 의한 요철을 표면에 갖는 경화 피막이 제공된다.A cured film formed of the photocurable resin composition of the above-described aspect and having irregularities due to the fine particles (B) on its surface is provided.

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

투명성 기재와, 상기한 태양의 경화 피막을 구비한 방현 필름이 제공된다.An anti-glare film provided with a transparent base material and the cured film of the above-described aspect is provided.

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

상기한 태양의 방현 필름을 구비한, 화상 표시장치가 제공된다.An image display device provided with the anti-glare film of the above aspect is provided.

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

상기한 태양의 광경화성 수지 조성물을 광조사에 의해 경화시키는 경화 공정을 갖는 경화 피막의 제조방법이 제공된다.There is provided a method for producing a cured film having a curing step of curing the photocurable resin composition of the above aspect by irradiation with light.

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

제1∼제4 태양의 어느 한 개의 광경화성 수지 조성물을 투명성 기재의 적어도 한쪽의 주면에 도포하는 도포공정과,A coating step of applying the photocurable resin composition of any one of the first to fourth aspects to at least one main surface of the transparent substrate, and

상기 도포공정 후, 광조사에 의해 상기 광경화성 수지 조성물을 경화시켜 경화 피막을 형성하는 경화공정을 갖는 방현 필름의 제조방법이 제공된다.After the coating step, there is provided a method for producing an anti-glare film having a curing step of curing the photocurable resin composition by light irradiation to form a cured film.

본 발명에 따르면, 방현성이 우수하고, 또한 휘도 불균일이 적은 방현 필름을 형성할 수 있는 광경화성 수지 조성물, 경화 피막 및 필름이 얻어진다.According to the present invention, a photocurable resin composition, a cured film and a film capable of forming an anti-glare film having excellent anti-glare properties and less luminance unevenness are obtained.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 관한 방현 필름의 단면의 일부를 도시한 개략도다.
도 2는 종래의 방현 필름의 단면의 일부를 도시한 개략도다.
1 is a schematic diagram showing a part of a cross section of an anti-glare film according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram showing a part of a cross section of a conventional anti-glare film.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명자가 검토를 행한 바, 종래의 방현 필름에서 휘도 불균일이 생기는 원인은, 주로, 이하의 2가지 점인 것을 알 수 있었다.In order to solve the above-described problems, the inventors studied, and it was found that the causes of luminance unevenness in a conventional anti-glare film are mainly the following two points.

한가지는, 방현층의 요철이 면 내부에 치밀하게 형성되어 있지 않은 점이다. 도 2에 나타낸 것과 같이, 방현층(110)에 있어서는, 미립자(B)가 두께 방향의 소정의 위치에 존재함으로써 표면에 볼록부(111)가 형성되는데, 종래에는, 미립자(B)가 방현층(110) 내부로 침강해서 볼록부가 부분적으로 형성되지 않는 개소(112)가 생기는 일이 있다. 그 때문에, 볼록부(111)가 방현층(110)의 면 내부에 드문드문하게 분포하게 되어, 방현층(110)에 있어서의 요철의 평균 간격 Sm이 크다.One is that the unevenness of the anti-glare layer is not densely formed inside the surface. As shown in Fig. 2, in the antiglare layer 110, the convex portion 111 is formed on the surface by the presence of the fine particles (B) at a predetermined position in the thickness direction, but conventionally, the fine particles (B) are used as the antiglare layer. (110) There may be a case where the portion 112 is settled inside and the convex portion is not partially formed. Therefore, the convex portions 111 are sparsely distributed inside the surface of the anti-glare layer 110, and the average interval Sm of the irregularities in the anti-glare layer 110 is large.

또 한가지는, 요철에 의한 표면 거칠기가 큰 점이다. 도 2에 나타낸 것과 같이, 방현층(110)에 있어서는, 표면의 볼록부(111)의 높이에 의해 표면 거칠기 Ra가 결정되는데, 종래에는, 미립자(B)가 응집해서 형성된 거칠고 엉성한 2차 입자에 의해 볼록부의 높이가 과도하게 큰 개소(113)가 생기는 일이 있다. 이에 따라, 방현층(110)의 표면 거칠기 Ra가 크다.Another thing is that the surface roughness due to irregularities is large. As shown in Fig. 2, in the anti-glare layer 110, the surface roughness Ra is determined by the height of the convex portion 111 on the surface. As a result, there may be a case where the height of the convex portion is excessively large (113). Accordingly, the surface roughness Ra of the anti-glare layer 110 is large.

이와 같이, 방현층(110)에 있어서의 요철의 평균 간격 Sm과 표면 거칠기 Ra가 커지면, 디스플레이로부터의 투과광이 요철에서 간섭하기 쉽기 때문인지, 휘도 불균일이 생기기 쉬워진다. 이것으로부터, 방현층(110)에 있어서, 우수한 방현성을 유지하면서, 휘도 불균일을 저감하기 위해서는, 요철의 평균 간격 Sm 및 요철에 의한 표면 거칠기 Ra가 작아지도록 구성하면 된다는 것을 알 수 있다.As described above, when the average interval Sm of the irregularities in the antiglare layer 110 and the surface roughness Ra increase, the transmitted light from the display is likely to interfere with the irregularities, or luminance unevenness tends to occur. From this, in order to reduce the luminance unevenness while maintaining excellent anti-glare properties in the anti-glare layer 110, it is understood that the average spacing Sm of the unevenness and the surface roughness Ra due to the unevenness may be made small.

따라서, 본 발명자는, 요철의 평균 간격 Sm 및 요철에 의한 표면 거칠기 Ra를 작게 하기 위해, 방현층을 형성하는 광경화성 수지 조성물에 있어서, 미립자의 침강 및 응집을 억제하는 방법에 대해 검토를 행하였다. 구체적으로는, 원하는 요철을 형성할 수 있고, 소정의 방현성을 얻을 수 있도록 평균 입자경이 1.0∼2.8㎛인 미립자의 침강 및 응집을 억제하는 방법에 대해 검토를 행하였다.Therefore, the present inventors studied a method of suppressing sedimentation and aggregation of fine particles in the photocurable resin composition for forming the antiglare layer in order to reduce the average spacing Sm of the irregularities and the surface roughness Ra due to the irregularities. . Specifically, a method of suppressing the sedimentation and aggregation of fine particles having an average particle diameter of 1.0 to 2.8 µm was examined so that desired unevenness can be formed and a predetermined anti-glare property can be obtained.

우선, 본 발명자는, 광경화성 수지 조성물의 점도를 높게 설정해서 검토를 행하였다. 이것은, 일반적으로 점도가 높으면, 광경화성 수지 조성물에 분산되어 있는 미립자의 침강이나 응집이 생기기 어려워지기 때문이다. 검토의 결과, 23℃에 있어서의 점도를 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하의 범위로 했을 때에, 미립자의 침강이나 응집을 억제할 수 있지만, 광경화성 수지 조성물에 포함되는 광중합성 (메타)아크릴 수지의 분자량이 낮으면, 침강이나 응집을 충분히 억제할 수 없다는 것을 알 수 있었다. 즉, 미립자의 침강 및 응집을 억제하기 위해서는, 점도의 조정만으로는 불충분하고, 광중합성 (메타)아크릴 수지의 분자량을 크게 할 필요가 있는 것을 알 수 있었다.First of all, the present inventors examined by setting the viscosity of a photocurable resin composition high. This is because, in general, when the viscosity is high, sedimentation or aggregation of fine particles dispersed in the photocurable resin composition becomes difficult to occur. As a result of the examination, when the viscosity at 23°C is in the range of 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less, sedimentation and aggregation of fine particles can be suppressed, but the photopolymerizable (meth)acrylic resin contained in the photocurable resin composition It was found that when the molecular weight of was low, sedimentation and aggregation could not be sufficiently suppressed. That is, in order to suppress sedimentation and aggregation of fine particles, it was found that only adjusting the viscosity was insufficient, and it was necessary to increase the molecular weight of the photopolymerizable (meth)acrylic resin.

광중합성 (메타)아크릴 수지의 분자량에 대해서, 한층 더 검토를 행한 바, 중량 평균 분자량이 10,000 미만이면, 점도를 상기 범위 내로 하여도 미립자의 침강이나 응집을 충분히 억제할 수 없지만, 중량 평균 분자량이 10,000 이상이면, 양호하게 억제할 수 있다는 것을 알 수 있었다.The molecular weight of the photopolymerizable (meth)acrylic resin was further investigated. When the weight average molecular weight is less than 10,000, sedimentation and aggregation of the fine particles cannot be sufficiently suppressed even if the viscosity is within the above range, but the weight average molecular weight is When it was 10,000 or more, it turned out that it can suppress satisfactorily.

이것의 요인으로서는, 본 발명자는 이하와 같이 추측하고 있다. 일반적으로, 분자량이 낮을수록 수지 성분의 분자 사슬이 짧고, 분자량이 높을수록 분자 사슬이 길어지는 것이 알려져 있다. 고분자량으로 분자 사슬이 긴 수지 성분에 따르면, 저분자량으로 분자 사슬이 짧은 수지 성분과 비교해서 사이즈가 크므로, 소정의 평균 입자경의 미립자를 포착하기 쉽다. 그 때문에, 고분자량의 수지 성분을 포함하는 광경화성 수지 조성물에 있어서는, 미립자는, 포착되어 침강이 억제되고 있으므로, 부유하기 쉽다. 또한, 미립자는, 포착되어 미립자끼리의 응집이 억제되고 있으므로, 미세하게 분산할 수 있다. 따라서, 그것으로 형성되는 방현층에 있어서는, 미립자의 침강 및 응집이 억제되어, 요철의 평균 간격 Sm 및 요철에 의한 표면 거칠기 Ra가 작게 구성되게 된다. 즉, 상기 구성에 따르면, 방현성이 우수하고, 또한 휘도 불균일이 적은 경화 피막을 형성할 수 있다.As a factor of this, the present inventor estimates as follows. In general, it is known that the lower the molecular weight, the shorter the molecular chain of the resin component, and the higher the molecular weight, the longer the molecular chain. According to the resin component having a high molecular weight and a long molecular chain, the size is larger than that of a resin component having a low molecular weight and a short molecular chain, so that it is easy to capture fine particles having a predetermined average particle diameter. Therefore, in a photocurable resin composition containing a high molecular weight resin component, fine particles are trapped and sedimentation is suppressed, so that they are easy to float. Moreover, since the fine particles are trapped and agglomeration of fine particles is suppressed, they can be finely dispersed. Therefore, in the anti-glare layer formed therefrom, sedimentation and aggregation of fine particles are suppressed, and the average spacing Sm of the irregularities and the surface roughness Ra due to the irregularities are made small. That is, according to the above configuration, it is possible to form a cured film having excellent anti-glare properties and less luminance unevenness.

본 발명은, 상기한 지견에 근거해서 이루어진 것이다.The present invention has been achieved based on the above findings.

이하, 본 발명의 일 실시형태에 대해서, 이하의 순서로 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in the following order.

1. 광경화성 수지 조성물1. Photocurable resin composition

1-1. 광중합성 성분(A)1-1. Photopolymerizable component (A)

1-2. 미립자(B)1-2. Particulate (B)

1-3. 광중합 개시제(C)1-3. Photopolymerization initiator (C)

1-4. 점도1-4. Viscosity

1-5. 기타의 첨가제1-5. Other additives

1-6. 조제 방법1-6. Preparation method

2. 방현 필름2. Anti-glare film

3. 방현 필름의 제조방법3. Manufacturing method of anti-glare film

4. 본 실시형태에 관한 효과4. Effects of this embodiment

<1. 광경화성 수지 조성물><1. Photocurable resin composition>

본 실시형태에 관한 광경화성 수지 조성물은, 광중합성 성분(A)과 미립자(B)와 광중합 개시제(C)를 혼합해서 얻어지고, 23℃에 있어서의 점도가 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하이다.The photocurable resin composition according to the present embodiment is obtained by mixing a photopolymerizable component (A), fine particles (B), and a photopolymerization initiator (C), and has a viscosity at 23°C of 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less. .

<1-1. 광중합성 성분(A)><1-1. Photopolymerizable component (A)>

광중합성 성분(A)은, 중량 평균 분자량이 10,000 이상인 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)(이하, 간단히, 「(메타)아크릴 수지(a1)이라고도 한다」)를 포함하고 있다. 이때, 본 명세서에 있어서, (메타)아크릴이란, 아크릴 및 그것에 대응하는 메타크릴 중 적어도 중 어느 한개를 나타낸다.The photopolymerizable component (A) contains a photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight of 10,000 or more (hereinafter, simply referred to as "(meth)acrylic resin (a1)"). At this time, in this specification, (meth)acryl represents at least any one of acrylic and methacryl corresponding to it.

(메타)아크릴 수지(a1)는, 주골격으로 (메타)아크릴 모노머의 중합체를, 측쇄에 광중합성 관능기를 갖는 수지 성분이다. 광중합성 관능기로서는, 예를 들면, (메타)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등을 들 수 있다. 그중에서도, 반응성이 높고, 광조사에 의한 경화 속도가 빠르기 때문에, (메타)아크릴로일기가 바람직하다.The (meth)acrylic resin (a1) is a resin component having a polymer of a (meth)acrylic monomer as a main skeleton and a photopolymerizable functional group in the side chain. As a photopolymerizable functional group, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, etc. are mentioned, for example. Among them, since the reactivity is high and the curing rate by light irradiation is fast, a (meth)acryloyl group is preferable.

(메타)아크릴 수지(a1)의 중량 평균 분자량은 10,000 이상, 바람직하게는 15,000 이상이다. 상기한 것과 같이, 중량 평균 분자량이 10,000 미만이 되면, 광경화성 수지 조성물에 있어서의 미립자(B)의 침강이나 응집을 충분히 억제할 수 없기 때문에, 방현층에 있어서의 요철의 평균 간격 Sm 및 요철에 의한 표면 거칠기 Ra가 커져, 휘도 불균일이 생기기 쉬워진다. 경화 피막에 있어서, 요철의 평균 간격 Sm 및 요철에 의한 표면 거칠기 Ra를 작게 하면서, 응집물이나 움푹 패임 등의 결점의 발생을 방지해서 외관을 양호하게 한다는 관점에서는, 중량 평균 분자량은 큰 것이 바람직하고, 15,000 이상이면 된다. 이때, 중량 평균 분자량의 상한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 200,000 이하, 보다 바람직하게는 100,000 이하, 더욱 바람직하게는 60,000 이하이다. 이와 같은 중량 평균 분자량으로 함으로써, 경화 피막에 있어서, 가요성이나 유연성 등을 손상시키지 않고, 원하는 높은 경도를 얻을 수 있다. 이때, 본 실시형태에 있어서, 중량 평균 분자량은, 폴리스틸렌을 표준으로 하여, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)의 측정 결과로부터 산출되는 것이다.The weight average molecular weight of the (meth)acrylic resin (a1) is 10,000 or more, preferably 15,000 or more. As described above, when the weight average molecular weight is less than 10,000, the sedimentation and aggregation of the fine particles (B) in the photocurable resin composition cannot be sufficiently suppressed. The resulting surface roughness Ra increases, and luminance unevenness tends to occur. In the cured film, from the viewpoint of improving the appearance by preventing the occurrence of defects such as aggregates and dents while reducing the average spacing Sm of the irregularities and the surface roughness Ra due to the irregularities, it is preferable that the weight average molecular weight is large, It should be 15,000 or more. At this time, the upper limit of the weight average molecular weight is not particularly limited, but is preferably 200,000 or less, more preferably 100,000 or less, and still more preferably 60,000 or less. By setting it as such a weight average molecular weight, in a cured film, flexibility, flexibility, etc. are not impaired, and desired high hardness can be obtained. At this time, in this embodiment, the weight average molecular weight is calculated from the measurement result of gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard.

광중합성 성분(A)은, 상기 (메타)아크릴 수지(a1) 이외의 성분으로서, (메타)아크릴레이트계 모노머 및/또는 (메타)아크릴레이트계 수지(a2)를 함유하는 것이 바람직하다. 이와 같은 (메타)아크릴레이트계 모노머 및/또는 (메타)아크릴레이트계 수지(a2)를 함유시킴으로써, 경화 피막의 경도 및 내스크래치성을 향상시킬 수 있다.It is preferable that the photopolymerizable component (A) contains a (meth)acrylate-based monomer and/or a (meth)acrylate-based resin (a2) as components other than the (meth)acrylic resin (a1). By containing such a (meth)acrylate-based monomer and/or a (meth)acrylate-based resin (a2), the hardness and scratch resistance of the cured film can be improved.

(메타)아크릴레이트계 모노머로서는, 예를 들면, 중합성 관능기를 모노머 중에 2개 이상 갖는 것을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 2 관능 모노머: 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸이소시아누레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시프로필)이소시아누레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 다관능 모노머를 들 수 있다. 이것 중에서도, 경화 피막의 경도를 향상시킨다는 관점에서는, 모노머 중에 중합성 관능기를 4개 이상 갖는 다관능 모노머가 특히 바람직하다. 이들 (메타)아크릴레이트계 모노머는, 1종 단독으로, 혹은 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.As the (meth)acrylate-based monomer, for example, one having two or more polymerizable functional groups in the monomer can be used. Specifically, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tri Bifunctional monomers such as ethylene glycol di (meth) acrylate and tetraethylene glycol di (meth) acrylate: trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate , Tris(2-(meth)acryloyloxypropyl)isocyanurate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol Polyfunctional monomers such as penta(meth)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, etc. Among these, from the viewpoint of improving the hardness of the cured film, the monomer has 4 or more polymerizable functional groups. Functional monomers are particularly preferred These (meth)acrylate-based monomers can be used alone or in combination of two or more.

또한, (메타)아크릴레이트계 수지로서는, 예를 들면, 우레탄 (메타)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트, 폴리에테르 (메타)아크릴레이트, 에폭시 (메타)아크릴레이트 등의 광경화성 (메타)아크릴레이트계 모노머를 중합해서 얻어지는 수지를 들 수 있다. 이들 (메타)아크릴레이트계 수지는, 1종을 단독으로, 혹은 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.In addition, as a (meth)acrylate-based resin, for example, photocurable (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, etc. ) A resin obtained by polymerizing an acrylate-based monomer is mentioned. These (meth)acrylate-based resins can be used alone or in combination of two or more.

(메타)아크릴레이트계 모노머 및/또는 (메타)아크릴레이트계 수지(a2)의 배합량은, 경화 피막의 경도를 과도하게 향상시키지 않는 관점에서, 광경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량부에 대해 0질량부 이상 40질량부 이하가 바람직하고, 0질량부 이상 20질량부 이하가 보다 바람직하다. 이때, 본 실시형태에 있어서, 고형분이란, 광경화성 수지 조성물로부터 유기용제 등의 휘발 성분을 제외한 것이며, 경화시켰을 때에 경화 피막으로서 잔존하는 성분을 나타낸다.The blending amount of the (meth)acrylate-based monomer and/or (meth)acrylate-based resin (a2) is 0 mass per 100 parts by mass of the solid content of the photocurable resin composition from the viewpoint of not excessively improving the hardness of the cured film. Parts by mass or more and 40 parts by mass or less are preferable, and 0 parts by mass or more and 20 parts by mass or less are more preferable. At this time, in the present embodiment, the solid content refers to a component which excludes volatile components such as organic solvents from the photocurable resin composition, and remains as a cured film when cured.

<1-2. 미립자(B)><1-2. Particles (B)>

미립자(B)는, 광경화성 수지 조성물을 경화시켰을 때에, 경화 피막(방현층)의 표면에 요철을 형성하는 것이다. 미립자(B)로서는, 평균 입자경이 1.0㎛ 이상 2.8㎛ 이하인 것을 사용할 수 있다. 미립자(B)의 평균 입자경이 1.0㎛ 미만이면, 광경화성 수지 조성물을 경화시켰을 때에, 방현층에 있어서의 볼록부의 높이가 작아, 그것의 표면 거칠기 Ra가 과도하게 작아진다. 그 때문에, 요철에 의해 비침을 충분히 억제할 수 없어, 높은 방현성을 얻을 수 없게 된다. 한편, 평균 입자경이 2.8㎛을 초과하면, 방현층의 볼록부의 높이가 커져, 표면 거칠기 Ra가 과도하게 커진다. 그 때문에, 방현층에 있어서 휘도 불균일이 생겨서 시인성이 저하하여 버린다. 이때, 본 실시형태에 있어서, 평균 입자경은 메디안 직경(D50)을 나타낸다.When the photocurable resin composition is cured, the fine particles (B) form irregularities on the surface of the cured film (glare layer). As the fine particles (B), those having an average particle diameter of 1.0 µm or more and 2.8 µm or less can be used. When the average particle diameter of the fine particles (B) is less than 1.0 µm, when the photocurable resin composition is cured, the height of the convex portion in the antiglare layer is small, and the surface roughness Ra thereof becomes excessively small. Therefore, reflection cannot be sufficiently suppressed due to irregularities, and high anti-glare properties cannot be obtained. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 2.8 µm, the height of the convex portion of the anti-glare layer increases, and the surface roughness Ra becomes excessively large. Therefore, non-uniformity in luminance occurs in the anti-glare layer, resulting in a decrease in visibility. At this time, in this embodiment, the average particle diameter represents a median diameter (D50).

미립자(B)로서는, 종래 공지의 미립자를 사용할 수 있다. 예를 들면, 유기 미립자로서, 아크릴 미립자, 폴리스틸렌 미립자, 폴리에틸렌 왁스 미립자, 폴리프로필렌 왁스 미립자, PTFE 미립자, 우레탄 미립자, 실리콘 미립자 등을 사용할 수 있다. 또한 예를 들면, 무기 미립자로서, 이산화 규소 미립자, 산화 알루미늄 미립자, 산화 지르코늄 미립자, 산화 아연 미립자, 산화 티탄 미립자 등의 금속 산화물 미립자를 사용할 수 있다. 이것들은 1종을 단독으로 사용하여도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 미립자(B)로서는, 휘도 불균일을 보다 억제한다는 관점에서는, 유기 미립자인 실리콘 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 휘도 불균일을 억제하는 동시에 비침을 억제해서 방현성을 향상시킨다는 관점에서는, 알루미나 미립자를 내포하는 실리콘 미립자가 보다 바람직하다. 알루미나 미립자를 내포하는 실리콘 미립자는, 실리콘 미립자와 비교해서 빛의 확산성이 우수하여, 방현성을 보다 향상시킬 수 있다.As the fine particles (B), conventionally known fine particles can be used. For example, acrylic fine particles, polystyrene fine particles, polyethylene wax fine particles, polypropylene wax fine particles, PTFE fine particles, urethane fine particles, silicone fine particles, etc. can be used as the organic fine particles. Further, for example, as the inorganic fine particles, metal oxide fine particles such as silicon dioxide fine particles, aluminum oxide fine particles, zirconium oxide fine particles, zinc oxide fine particles, and titanium oxide fine particles can be used. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. As the fine particles (B), it is preferable to use silicon fine particles which are organic fine particles from the viewpoint of more suppressing the luminance unevenness. Silicon fine particles containing alumina fine particles are more preferable from the viewpoint of suppressing non-uniformity in luminance and improving anti-glare properties by suppressing reflection. Silicon fine particles containing alumina fine particles have superior light diffusivity compared to silicon fine particles, and can further improve anti-glare properties.

미립자(B)의 배합량은, 경화 피막에 요구되는 방현성, 내스크래치성 및 투명성(탁도) 등의 제특성에 따라 적절히 변경할 수 있다. 광경화성 수지 조성물을, 화상 표시장치의 화면에 부착시키는 방현 필름에 적용하는 경우, 제특성을 밸런스가 좋게 할 필요가 있기 때문에, 미립자(B)의 배합량은, 광경화성 수지 조성물의 고형분 100질량부에 대해 0.1 질량부 이상 20질량부 이하가 바람직하고, 4질량부 이상 10질량부 이하가 보다 바람직하다. 미립자(B)의 배합량이 상기 범위보다도 적으면, 제특성을 밸런스가 좋게 얻을 수 없을 우려가 있고, 상기 범위보다도 많으면, 경화 피막의 탁도가 높아져, 투명성이 손상될 우려가 있다.The blending amount of the fine particles (B) can be appropriately changed according to various properties such as anti-glare property, scratch resistance, and transparency (turbidity) required for the cured film. When the photocurable resin composition is applied to an antiglare film attached to a screen of an image display device, since it is necessary to have a good balance of various properties, the blending amount of the fine particles (B) is 100 parts by mass of the solid content of the photocurable resin composition. With respect to, 0.1 parts by mass or more and 20 parts by mass or less are preferable, and 4 parts by mass or more and 10 parts by mass or less are more preferable. If the blending amount of the fine particles (B) is less than the above range, there is a fear that various properties cannot be obtained in a good balance, and if it is greater than the above range, the turbidity of the cured film is increased and transparency may be impaired.

<1-3. 광중합 개시제(C)><1-3. Photoinitiator (C)>

광중합 개시제(C)는, 광조사에 의해 라디칼 또는 양이온을 발생하여, 광중합성 성분(A)을 경화시키는 것이다. 광중합 개시제(C)로서는, 광중합성 성분(A)을 경화할 수 있으면 된다. 예를 들면, 벤조인계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제 등을 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator (C) generates a radical or a cation by light irradiation to cure the photopolymerizable component (A). As a photoinitiator (C), what is necessary is just to be able to harden the photopolymerizable component (A). For example, a benzoin photoinitiator, an acetophenone photoinitiator, a benzophenone photoinitiator, a thioxanthone photoinitiator, and the like can be used.

벤조인계 광중합 개시제로서는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르 등을 들 수 있다.As a benzoin type photoinitiator, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned.

아세토페논계 광중합 개시제로서는, 벤질 디메틸 케탈(별명, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논), 디에톡시아세토페논, 4-페녹시디클로로아세토페논, 4-t-부틸-디클로로 아세토페논, 4-t-부틸-트리클로로아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 등을 들 수 있다.As an acetophenone-based photoinitiator, benzyl dimethyl ketal (another name, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone), diethoxyacetophenone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloro acetophenone, 4-t-Butyl-trichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropane-1 -One, 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl(2-hydroxy-2-propyl)ketone , 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, and the like.

벤조페논계 광중합 개시제로서는, 벤조페논, 벤조일벤조산, 벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸 디페닐 설파이드, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.As a benzophenone-based photoinitiator, benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl diphenyl sulfide, 3,3'-dimethyl And -4-methoxybenzophenone.

티오크산톤계 광중합 개시제로서는, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등을 들 수 있다.As a thioxanthone photoinitiator, thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-dichloro thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, and the like.

이들 광중합 개시제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.These photoinitiators may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

광중합 개시제(C)의 배합량은, 광경화성 수지 조성물의 고형분 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부 이상 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 3질량부 이상 6질량부 이하다. 배합량이 상기 범위보다도 적으면, 광경화성 수지 조성물을 경화시킬 때의 속도(경화 속도)가 늦어질 우려가 있고, 상기 범위보다도 많으면, 경화 속도가 과도하게 빨라질 우려가 있다.The blending amount of the photopolymerization initiator (C) is preferably 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and more preferably 3 parts by mass or more and 6 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the solid content of the photocurable resin composition. If the blending amount is less than the above range, there is a concern that the rate (curing rate) at the time of curing the photocurable resin composition may be slowed, and if it is more than the above range, the curing rate may be excessively accelerated.

<1-4. 점도><1-4. Viscosity>

본 실시형태에 관한 광경화성 수지 조성물의 점도는, 23℃에 있어서, 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하이다. 바람직하게는 1∼500mPa·s, 보다 바람직하게는 3∼60mPa·s, 더욱 바람직하게는 3∼40mPa·s이다. 점도가 1mPa·s 미만이 되면, 점도가 과도하게 낮아지므로, 광경화성 수지 조성물에 있어서 미립자(B)가 침강 혹은 응집해 버린다. 한편, 점도가 1000mPa·s를 초과하면, 광경화성 수지 조성물의 레벨링성이 낮아지므로, 도포하기 어려워져, 균일한 막두께의 경화 피막을 형성할 수 없어진다.The viscosity of the photocurable resin composition according to the present embodiment is 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less at 23°C. It is preferably 1 to 500 mPa·s, more preferably 3 to 60 mPa·s, and still more preferably 3 to 40 mPa·s. When the viscosity is less than 1 mPa·s, the viscosity becomes excessively low, so that the fine particles (B) settle or aggregate in the photocurable resin composition. On the other hand, when the viscosity exceeds 1000 mPa·s, since the leveling property of the photocurable resin composition is low, it becomes difficult to apply, and a cured film having a uniform film thickness cannot be formed.

<1-5. 기타의 첨가제><1-5. Other additives>

본 실시형태에 관한 광경화성 수지 조성물에는, 필요에 따라, 전술한 성분 이외의 기타 첨가제를 함유시켜도 된다. 기타 첨가제로서, 점도를 소정의 범위로 조정한다는 관점에서, 유기 용제를 함유시켜도 된다. 유기 용제로서는, 종래 공지의 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 방향족 탄화수소류(예: 크실렌, 톨루엔 등), 케톤류(예: 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 에틸 케톤, 시클로헥사논 등), 에스테르류(예: 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 아세트산 이소부틸 등), 알코올류(예: 이소프로필 알코올, 부탄올 등), 글리콜 에테르류(예: 프로플렌 글리콜 모노메틸 에테르 등) 등의 각종 유기 용제를 들 수 있다. 이들 유기 용제는, 1종 단독으로, 혹은 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.In the photocurable resin composition according to the present embodiment, if necessary, other additives other than the above-described components may be contained. As other additives, from the viewpoint of adjusting the viscosity to a predetermined range, an organic solvent may be contained. As the organic solvent, a conventionally known one can be used. For example, aromatic hydrocarbons (e.g. xylene, toluene, etc.), ketones (e.g. methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (e.g. ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, etc.) ), alcohols (eg, isopropyl alcohol, butanol, etc.), glycol ethers (eg, propylene glycol monomethyl ether, etc.), and various organic solvents. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

또한, 그 밖의 첨가제로서, 레벨링제를 함유시켜도 된다. 레벨링제에 따르면, 광경화성 수지 조성물의 움푹 패임을 개선하고, 피도포면에의 젖음성을 향상시켜, 막두께가 균일한 경화 피막을 형성할 수 있다. 레벨링제로서는, 예를 들면, 불소계, 아크릴계, 실리콘계 등의 각종 레벨링제를 들 수 있다. 이 중에서도, 레벨링성을 향상시킬 뿐만 아니라, 발수·발유성이라고 하는 오염 방지 기능을 부여할 수 있기 때문에, 불소계 레벨링제가 보다 바람직하다. 이들 레벨링제의 배합량은, 광경화성 조성물의 고형분 100질량부에 대하여, 0.1질량부 이상 1.5질량부 이하가 바람직하고, 0.5질량부 이상 1.0질량부 이하가 보다 바람직하다.Moreover, you may contain a leveling agent as another additive. According to the leveling agent, it is possible to improve the dents of the photocurable resin composition, improve wettability to the surface to be coated, and form a cured film having a uniform film thickness. Examples of the leveling agent include various leveling agents such as fluorine-based, acrylic-based, and silicone-based. Among these, a fluorine-based leveling agent is more preferable because it not only improves the leveling property, but also can impart a contamination prevention function such as water and oil repellency. The blending amount of these leveling agents is preferably 0.1 parts by mass or more and 1.5 parts by mass or less, and more preferably 0.5 parts by mass or more and 1.0 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the solid content of the photocurable composition.

또한, 그 밖의 첨가제로서, 소포제를 함유시켜도 된다. 소포제에 따르면, 광경화성 수지 조성물에서의 기포의 발생을 억제하여, 경화 피막의 외관을 양호하게 할 수 있다. 소포제로서는, 예를 들면, 아크릴계, 실리콘계 등의 각종 소포제를 들 수 있다. 이들 소포제의 배합량은, 광경화성 조성물의 고형분 100질량부에 대하여, 0.0001질량부 이상 1.0질량부 이하가 바람직하다.Further, as another additive, a defoaming agent may be contained. According to the antifoaming agent, generation of air bubbles in the photocurable resin composition can be suppressed, and the appearance of the cured film can be improved. Examples of the antifoaming agent include various antifoaming agents such as acrylic and silicone. The blending amount of these antifoaming agents is preferably 0.0001 parts by mass or more and 1.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the solid content of the photocurable composition.

또한, 그 밖의 첨가제로서, 중합 금지제, 비반응성 희석제, 소광제, 침강 방지제, 분산제, 열안정제, 자외선 흡수제 등을 함유시켜도 된다. 이들의 배합량은, 본 실시형태의 효과를 손상하지 않는 범위에서 적절히 변경할 수 있다.Further, as other additives, a polymerization inhibitor, a non-reactive diluent, a matting agent, an anti-settling agent, a dispersant, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, and the like may be contained. These blending amounts can be appropriately changed within a range that does not impair the effects of the present embodiment.

<1-6. 조제 방법><1-6. Preparation method>

본 실시형태에 관한 광경화성 수지 조성물은, 예를 들면, 이하와 같이 해서 조제된다.The photocurable resin composition according to the present embodiment is prepared, for example, as follows.

우선, 유기 용제에 광중합성 성분(A), 광중합 개시제(C), 및 필요에 따라 기타 첨가제를 용해시킨다. 이어서, 얻어진 용해 액에 미립자(B)를 첨가해서 교반함으로써, 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물을 얻는다. 이때, 조제시에는, 광경화성 수지 조성물의 점도가 소정의 범위가 되도록, 광중합성 성분(A)과 미립자(B), 유기 용제 등의 배합량을 적절히 변경하면 된다.First, a photopolymerizable component (A), a photopolymerization initiator (C), and other additives as necessary are dissolved in an organic solvent. Next, the photocurable resin composition of the present embodiment is obtained by adding and stirring the fine particles (B) to the obtained solution. At this time, at the time of preparation, the amount of the photopolymerizable component (A), fine particles (B), organic solvent, and the like may be appropriately changed so that the viscosity of the photocurable resin composition is within a predetermined range.

<2. 방현 필름><2. Anti-glare film>

이어서, 전술한 광경화성 수지 조성물을 사용해서 형성된 방현 필름(1)에 대해서, 도 1을 사용하여 설명한다. 도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 관한 방현 필름(1)의 단면을 도시한 개략도다.Next, the anti-glare film 1 formed using the photocurable resin composition described above will be described using FIG. 1. 1 is a schematic diagram showing a cross section of an anti-glare film 1 according to an embodiment of the present invention.

도 1에 나타낸 것과 같이, 본 실시형태에 관한 방현 필름(1)은, 투명성 기재(20)와, 경화 피막(방현층)(10)을 구비해서 구성되어 있다.As shown in FIG. 1, the anti-glare film 1 according to the present embodiment is configured with a transparent substrate 20 and a cured film (anti-glare layer) 10.

투명성 기재(20)로서는, 투명한 재료로 이루어진 투명 플라스틱 필름을 사용할 수 있다. 투명 플라스틱 필름으로서는, 예를 들면, 트리아세틸 셀룰로오스 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름, 디아세틸 셀룰로오스 필름, 아세테이트 부틸레이트 셀룰로오스 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리아크릴계 수지 필름, 폴리우레탄계 수지 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리에테르 케톤 필름, (메타)아크릴로니트릴 필름 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이 강도와 광학 특성 등의 밸런스 등의 점에서 바람직하다.As the transparent substrate 20, a transparent plastic film made of a transparent material can be used. As a transparent plastic film, for example, a triacetyl cellulose film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a diacetyl cellulose film, an acetate butyrate cellulose film, a polyethersulfone film, a polyacrylic resin film, a polyurethane resin film, polyester A film, a polycarbonate film, a polysulfone film, a polyether film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, a (meth)acrylonitrile film, etc. are mentioned. Among these, a polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoint of the balance of strength and optical properties.

경화 피막(방현층)(10)은, 투명성 기재(20)의 한쪽의 주면에 설치되어 있다. 경화 피막(10)은, 광경화성 수지 조성물로 형성되고, 미립자(B)에 의한 요철을 표면에 갖고 있다. 상기한 것과 같이, 광경화성 수지 조성물에서는 미립자(B)의 침강 및 응집이 억제되고 있다. 그 때문에, 광경화성 수지 조성물을 도포했을 때, 그 도막에 있어서는, 미립자(B)가 침강하지 않고 두께 방향으로 부유하는 동시에, 응집하지 않고 미세하게 분산하고 있다. 이 도막을 경화해서 얻어지는 경화 피막(10)에 있어서는, 미립자(B)의 침강이 억제되어 미립자(B)에 의한 볼록부(11)가 면 내부에 균일하게 형성되어 있기 때문에, 요철의 분포가 치밀하게 되어 있다. 또한, 볼록부(11)는, 미립자(B)의 응집이 억제되어 볼록부(11)의 높이가 과도하게 커지지 않도록 형성되어 있기 때문에, 경화 피막(10)에 있어서 요철에 의한 표면 거칠기가 작아지고 있다.The cured film (antiglare layer) 10 is provided on one main surface of the transparent substrate 20. The cured film 10 is formed of a photocurable resin composition, and has irregularities due to fine particles (B) on its surface. As described above, in the photocurable resin composition, sedimentation and aggregation of the fine particles (B) are suppressed. Therefore, when the photocurable resin composition is applied, in the coating film, the fine particles (B) do not settle and float in the thickness direction, and are finely dispersed without aggregation. In the cured film 10 obtained by curing this coating film, sedimentation of the fine particles (B) is suppressed, and the convex portions 11 by the fine particles (B) are uniformly formed inside the surface, so that the distribution of irregularities is dense. It is supposed to be done. In addition, since the convex portion 11 is formed so that the aggregation of the fine particles B is suppressed and the height of the convex portion 11 is not excessively large, the surface roughness due to irregularities in the cured film 10 is reduced. have.

구체적으로는, 경화 피막(10)에 있어서는, 요철이 치밀하게 형성되어 있어, 요철의 평균 간격 Sm이, 바람직하게는 30㎛ 이상 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 40㎛ 이상 200㎛ 이하가 된다. 평균 간격 Sm은 볼록부(11) 사이의 거리의 평균을 나타내고 있고, 평균 간격 Sm이 커질수록 볼록부(11)의 밀도가 작아진다. 평균 간격 Sm이 300㎛을 초과하는 경우에서는, 요철이 드문드문하게 되기 때문에, 휘도 불균일은 억제되지만, 우수한 방현성을 얻는 것이 곤란하게 된다.Specifically, in the cured film 10, the irregularities are densely formed, and the average interval Sm of the irregularities is preferably 30 µm or more and 300 µm or less, and more preferably 40 µm or more and 200 µm or less. The average spacing Sm represents the average of the distances between the convex portions 11, and as the average spacing Sm increases, the density of the convex portions 11 decreases. When the average interval Sm exceeds 300 µm, irregularities in luminance are suppressed because irregularities become sparse, but it becomes difficult to obtain excellent anti-glare properties.

또한, 경화 피막(10)에 있어서는, 요철에 의한 표면 거칠기 Ra가, 바람직하게는 0.01㎛ 이상 0.17㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.05㎛ 이상 0.15㎛ 이하가 된다. 표면 거칠기 Ra가 0.01㎛ 미만이 되면, 우수한 방현성을 얻을 수 없고, 0.17㎛을 초과하면, 휘도 불균일을 충분히 억제할 수 없을 우려가 있다.In addition, in the cured film 10, the surface roughness Ra due to irregularities is preferably 0.01 µm or more and 0.17 µm or less, and more preferably 0.05 µm or more and 0.15 µm or less. When the surface roughness Ra is less than 0.01 µm, excellent anti-glare properties cannot be obtained, and when it exceeds 0.17 µm, there is a fear that luminance unevenness cannot be sufficiently suppressed.

본 실시형태에 관한 방현 필름(1)은, 특히 태블릿 단말의 가장 표면에 바람직하게 사용할 수 있지만, 그 이외, 텔레비젼 등의 디스플레이에도 적용할 수 있다.The anti-glare film 1 according to the present embodiment can be particularly preferably used on the most surface of a tablet terminal, but can also be applied to displays such as televisions other than that.

이때, 경화 피막(10)은, 투명성 기재(20)의 한 면 뿐만 아니라, 양면에 형성되어도 된다. 또한, 투명성 기재(20)와 경화 피막(10) 사이에 다른 층(도시 생략)이 형성되어도 된다. 다른 층으로서는, 예를 들면, 편광층, 광확산층, 저반사층, 오염 방지층, 대전 방지층, 자외선·근적외선(NIE) 흡수층, 네온 커트층, 전자파 실드층 등을 들 수 있다. 또한, 경화 피막(10)의 표면에, 오염 방지층 등의 피복층(도시 생략)이 형성되어도 된다.At this time, the cured film 10 may be formed not only on one side of the transparent substrate 20 but also on both sides. Further, another layer (not shown) may be formed between the transparent substrate 20 and the cured film 10. As another layer, a polarizing layer, a light diffusion layer, a low reflection layer, a contamination prevention layer, an antistatic layer, an ultraviolet/near infrared (NIE) absorption layer, a neon cut layer, an electromagnetic wave shield layer, etc. are mentioned, for example. Further, a coating layer (not shown) such as a contamination prevention layer may be formed on the surface of the cured film 10.

<3. 방현 필름의 제조방법><3. Manufacturing method of anti-glare film>

이어서, 전술한 방현 필름(1)의 제조방법에 대해 설명한다. 방현 필름(1)은, 예를 들면, 이하의 공정에 의해 제조된다.Next, the manufacturing method of the anti-glare film 1 mentioned above is demonstrated. The anti-glare film 1 is manufactured by the following process, for example.

(준비공정)(Preparation process)

우선, 투명성 기재(20)로서 예를 들면 두께 100㎛의 PET 필름을 준비한다.First, as the transparent substrate 20, a PET film having a thickness of, for example, 100 μm is prepared.

(도포공정)(Application process)

이어서, 투명성 기재(20)의 한쪽의 주면 위에 광경화성 수지 조성물을 도포해서 도막을 형성한다. 이때의 도막의 두께(광경화성 수지 조성물의 도포 두께)는, 경화 피막(방현층)(10)에 요구되는 특성에 따라 다르지만, 예를 들면 경화 피막(10)의 두께가 적어도 1㎛ 이상, 바람직하게는 2㎛ 이상이 되도록 조정한다. 한편, 경화 피막의 두께의 상한값은, 특별히 한정되지 않지만, 방현 필름(1)의 취급성의 관점에서는, 예를 들면, 4㎛ 이하, 바람직하게는 3㎛ 이하가 되도록, 도막의 두께를 조정하면 된다.Next, a photocurable resin composition is applied on one main surface of the transparent substrate 20 to form a coating film. The thickness of the coating film (applied thickness of the photocurable resin composition) at this time varies depending on the properties required for the cured film (glare layer) 10, but, for example, the thickness of the cured film 10 is at least 1 μm, preferably. Adjust it so that it is 2㎛ or more. On the other hand, the upper limit of the thickness of the cured film is not particularly limited, but from the viewpoint of the handleability of the anti-glare film 1, for example, the thickness of the coating film may be adjusted to be 4 µm or less, preferably 3 µm or less. .

도포 방법은, 광경화성 수지 조성물의 종류나 조성, 도포되는 투명성 기재(20)의 종류 등에 따라 적절히 변경할 수 있다. 예를 들면, 스프레이 코트법, 딥 코트법, 에어 나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바코드법, 그라비아 코트법이나 익스트루젼 코트법 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 작업성 및 생산성의 관점에서 스프레이 코트법이 바람직하다.The application method can be appropriately changed according to the type or composition of the photocurable resin composition, the type of the transparent substrate 20 to be applied, and the like. For example, a spray coating method, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire barcode method, a gravure coating method, an extrusion coating method, and the like can be mentioned. Among these, the spray coating method is preferable from the viewpoint of workability and productivity.

(광조사공정)(Light irradiation process)

이어서, 도막에 대해 활성 에너지선을 광조사 한다. 활성 에너지선으로서는, 원자외선, 자외선, 근자외선, 적외선 등의 광선 이외에, X선, γ선 등의 전자파, 전자선, 양성자선, 중성자선 등을 들 수 있고, 그중에서도, 경화 속도, 조사장치의 입수의 용이함, 가격 등의 면에서, 자외선이 바람직하다. 자외선으로 경화시키는 방법으로서는, 200∼500nm 파장 영역의 빛을 발생하는 고압 수은 램프, 메탈 핼라이드 램프, 크세논 램프, 케미컬 램프 등을 사용하여, 100∼3000mJ/㎠ 정도 조사하는 방법 등을 들 수 있다.Subsequently, the coating film is irradiated with light with an active energy ray. As the active energy rays, in addition to rays such as far ultraviolet rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, and infrared rays, electromagnetic waves such as X-rays and γ rays, electron rays, proton rays, neutron rays, and the like can be exemplified. From the viewpoint of ease, price, etc., ultraviolet rays are preferred. As a method of curing with ultraviolet rays, a method of irradiating about 100 to 3000 mJ/cm 2 using a high-pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, chemical lamp, etc. that generate light in a wavelength range of 200 to 500 nm, etc. .

소정 시간의 광조사에 의해, 광경화성 수지 조성물을 경화시켜 경화 피막(10)을 형성한다. 이에 따라, 본 실시형태에 관한 방현 필름(1)을 얻는다.The photocurable resin composition is cured by light irradiation for a predetermined period of time to form a cured film 10. Thereby, the anti-glare film 1 according to the present embodiment is obtained.

이때, 본 실시형태에 있어서는, 도포공정과 광조사공정 사이에, 광경화성 수지 조성물을 건조시키는 건조공정을 설치해도 된다. 건조방법으로서는, 예를 들면, 감압 건조 또는 가열 건조, 더구나 이들 건조를 조합하는 방법 등을 들 수 있다.At this time, in this embodiment, a drying step for drying the photocurable resin composition may be provided between the coating step and the light irradiation step. Examples of the drying method include vacuum drying or heat drying, and further, a method of combining these dryings.

<4. 본 발명의 실시형태에 관한 효과><4. Effects related to the embodiment of the present invention>

본 실시형태에 따르면, 이하에 나타내는 1개 또는 복수의 효과를 나타낸다.According to this embodiment, one or more effects shown below are exhibited.

본 실시형태의 광경화성 수지 조성물에 따르면, 중량 평균 분자량이 10,000 이상인 (메타)아크릴 수지(a1)와, 평균 입자경이 1.0㎛ 이상 2.8㎛ 이하의 미립자(B)를 사용하여, 23℃에 있어서의 점도를 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하가 되도록 구성하고 있다. 이에 따라, 광경화성 수지 조성물에 있어서의 미립자(B)의 침강을 억제할 수 있으므로, 그것으로 형성되는 경화 피막(10)에 있어서, 미립자(B)에 의한 볼록부(11)를 치밀하게 형성하여, 요철의 평균 간격 Sm을 작게, 예를 들면, 30∼300㎛의 범위로 구성할 수 있다. 그것+과 동시에, 미립자(B)의 응집을 억제할 수 있으므로, 미립자(B)에 의한 볼록부(11)를 과도하게 커지지 않도록 형성할 수 있으므로, 경화 피막(10)의 표면 거칠기 Ra를 작게, 예를 들면, 0.01∼0.17㎛의 범위로 구성할 수 있다. 따라서, 본 실시형태에 따르면, 방현성이 우수하고, 또한 휘도 불균일이 적은 경화 피막(10), 및 그것을 구비한 방현 필름(1)을 형성할 수 있다.According to the photocurable resin composition of the present embodiment, using a (meth)acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight of 10,000 or more and fine particles (B) having an average particle diameter of 1.0 µm or more and 2.8 µm or less, at 23°C. The viscosity is configured to be 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less. Thereby, since sedimentation of the fine particles (B) in the photocurable resin composition can be suppressed, in the cured film 10 formed therefrom, the convex portions 11 by the fine particles (B) are formed densely. , The average spacing Sm of irregularities can be made small, for example, in the range of 30 to 300 µm. At the same time as +, since the aggregation of the fine particles (B) can be suppressed, the convex portions 11 due to the fine particles (B) can be formed so as not to be excessively large, so that the surface roughness Ra of the cured film 10 is reduced, For example, it can be configured in the range of 0.01 to 0.17 µm. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to form a cured film 10 having excellent anti-glare properties and less luminance unevenness, and an anti-glare film 1 provided with the same.

또한, 본 실시형태에 있어서, 미립자(B)로서, 알루미나 미립자를 내포하는 실리콘 미립자를 사용하면 된다. 알루미나 미립자를 내포하는 실리콘 미립자는, 실리콘 미립자 등과 비교해서 빛의 확산성이 우수하므로, 경화 피막(10)의 방현성을 보다 향상시킬 수 있다.In addition, in this embodiment, as the fine particles (B), silicon fine particles containing alumina fine particles may be used. Since silicon fine particles containing alumina fine particles have superior light diffusivity compared to silicon fine particles or the like, the anti-glare property of the cured film 10 can be further improved.

또한, 본 실시형태에 있어서, 미립자(B)를, 고형분 100질량부에 대해 0.1∼20질량부의 범위에서 함유시키면 된다. 이에 따라, 경화 피막(10)의 내스크래치성이 얻어지는 동시에, 미립자(B)에 의한 탁도의 증가를 억제해서 투명성을 확보할 수 있다.In addition, in the present embodiment, the fine particles (B) may be contained within a range of 0.1 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content. Thereby, while the scratch resistance of the cured film 10 is obtained, an increase in turbidity due to the fine particles (B) can be suppressed to ensure transparency.

또한, 본 실시형태에 있어서, 광중합성 성분(A)으로서, (메타)아크릴 수지(a1) 이외에, (메타)아크릴레이트계 모노머 및/또는 (메타)아크릴레이트계 수지(a2)를 함유시키면 된다. 이에 따라, 경화 피막(10)의 경도를 향상할 수 있고, 내스크래치성을 한층 더 향상시킬 수 있다.In addition, in this embodiment, as the photopolymerizable component (A), in addition to the (meth)acrylic resin (a1), it is sufficient to contain a (meth)acrylate-based monomer and/or a (meth)acrylate-based resin (a2). . Accordingly, the hardness of the cured film 10 can be improved, and scratch resistance can be further improved.

또한, 본 실시형태에 있어서, 경화 피막(10)은 방현성이 우수하고, 바람직하게는, 방현성의 지표인 JIS K5600-4-7에 준거해서 측정되는 60°거울면 광택도가 120% 이하가 된다.In addition, in this embodiment, the cured film 10 has excellent anti-glare properties, and preferably, a 60° mirror glossiness measured in accordance with JIS K5600-4-7, which is an index of anti-glare properties, is 120% or less. Becomes.

또한, 본 실시형태에 있어서, 경화 피막(10)을 구비한 방현 필름(1)은 투명성이 우수하고, 투명성의 지표인 JIS K7136에 준거해서 측정되는 탁도가 40% 이하가 된다.In addition, in this embodiment, the anti-glare film 1 provided with the cured film 10 is excellent in transparency, and the turbidity measured in conformity with JIS K7136 which is an index of transparency is 40% or less.

또한, 본 실시형태에 있어서, 방현 필름(1)은, 방현성이 우수하고, 또한 휘도 불균일이 적은 경화 피막(10)을 구비하고 있으므로, 화면에의 빛의 비침이나 화면의 번쩍임을 억제 할 수 있다. 즉, 방현 필름(1)은, 시인성이 우수하다. 구체적으로는, JIS K7374에 준거하여, 슬릿 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm의 광학 빗(optical comb)을 사용해서 측정되는 상 선명도의 합계값이 350% 이상이 되어, 시인성이 우수하다.In addition, in the present embodiment, since the anti-glare film 1 is provided with a cured film 10 having excellent anti-glare properties and less luminance unevenness, it is possible to suppress the reflection of light on the screen and the glare of the screen. have. That is, the anti-glare film 1 is excellent in visibility. Specifically, in accordance with JIS K7374, the sum of the image sharpness measured using an optical comb having a slit width of 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm is 350% or more. , Excellent visibility.

[실시예][Example]

다음에, 본 발명에 대해 실시예에 근거하여 한층 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 이들 실시예에 한정되지 않는다.Next, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<실시예 1><Example 1>

[원료][Raw material]

사용한 원료는 이하와 같다.The raw materials used are as follows.

광중합성 성분(A)으로서,As a photopolymerizable component (A),

주골격이 아크릴이며, 측쇄에 광중합성 관능기로서 (메타)아크릴로일기를 갖는 중량 평균 분자량(Mw)이 40,000인 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)(타이세이파인케미컬주식회사제 「아크릿 8KX-078」, 고형분 40%)를 사용하였다.A photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) whose main skeleton is acrylic and has a (meth)acryloyl group as a photopolymerizable functional group in the side chain and has a weight average molecular weight (Mw) of 40,000 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd. -078", solid content 40%) was used.

미립자(B)로서,As fine particles (B),

평균 입자경이 1.9㎛인 알루미나 미립자 내포형 실리콘 미립자(산화 알루미늄 미립자 내포형 폴리오가노 실세스퀴옥산 미립자: 고형분 100%)를 사용하였다. 이때, 평균 입자경은, 레이저 회절식 입자경 분포 측정 장치(시마츠제작소주식회사제 「SALD-2200」)를 사용하여, 하기 조건에서 측정되었다.Alumina fine particles encapsulated silicon fine particles (alumina fine particles enclosed polyorgano silsesquioxane fine particles: solid content 100%) having an average particle diameter of 1.9 µm were used. At this time, the average particle diameter was measured under the following conditions using a laser diffraction type particle diameter distribution measuring device ("SALD-2200" manufactured by Shimadzu Corporation).

분산매: 물Dispersion medium: water

분산제: 헥사메타인산 나트륨Dispersant: Sodium hexamethaphosphate

회전 스피드: 7Spin speed: 7

초음파 분산 시간: 10분간Ultrasonic dispersing time: 10 minutes

광중합 개시제(C)로서,As a photoinitiator (C),

1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤(BASF 주식회사제 「일가큐어 184D」, 고형분 100%)과, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드(BASF 주식회사제 「일가큐어 TPO」, 고형분 100%)를 사용하였다.1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (BASF Corporation ``Ilgacure 184D'', solid content 100%) and 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenyl phosphine oxide (BASF Co., Ltd. ``Ilgacure TPO'', solid content 100%) ) Was used.

그 밖의 첨가제로서,As other additives,

중합 금지제인 하이드로퀴논(미츠이화학 주식회사제, 고형분 100%)과,Hydroquinone (manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd., 100% solid content), which is a polymerization inhibitor,

실리콘계 소포제(BYK 주식회사제 「BYK-066N」, 고형분 1%)와,Silicone antifoaming agent (BYK Co., Ltd. ``BYK-066N'', solid content 1%),

불소계 레벨링제(DIC 주식회사제 「메가팍 ES-75」, 고형분 40%)와,Fluorine-based leveling agent (DIC Co., Ltd. ``Megapak ES-75'', solid content 40%),

유기 용제인 메틸 에틸 케톤을 사용하였다.Methyl ethyl ketone, an organic solvent, was used.

[광경화성 수지 조성물의 조제][Preparation of photocurable resin composition]

하기 표 1에 나타낸 것과 같이, 상기 원료를 배합함으로써, 실시예 1의 광경화성 수지 조성물을 조제하였다. As shown in Table 1 below, by blending the above raw materials, a photocurable resin composition of Example 1 was prepared.

구체적으로는, 메틸 에틸 케톤 29.3질량부에, 광중합성 성분(A)으로서, 중량 평균 분자량(Mw)이 40,000인 광중합성 아크릴 수지(a1)를 67.0질량부와, (C) 광중합 개시제로서, 일가큐어 184D를 0.6질량부, 및 일가큐어 TPO를 0.6질량부와, 기타 참가제로서, 하이드로퀴논을 0.02질량부, 실리콘계 소포제를 0.02질량부, 및 불소계 레벨링제를 0.7질량부를 첨가하여, 용해시켰다. 그후, 용해 액에, 평균 입자경이 1.9㎛인 알루미나 미립자 내포형 실리콘 미립자를 1.8질량부 첨가해서 교반하였다. 이에 따라, 미립자(B)가 분산된 광경화성 수지 조성물을 얻었다.Specifically, as a photopolymerizable component (A), 67.0 parts by mass of a photopolymerizable acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight (Mw) of 40,000 was added to 29.3 parts by mass of methyl ethyl ketone, and (C) as a photopolymerization initiator, monovalent 0.6 parts by mass of Cure 184D, 0.6 parts by mass of Ilga Cure TPO, and 0.02 parts by mass of hydroquinone, 0.02 parts by mass of a silicone antifoaming agent, and 0.7 parts by mass of a fluorine-based leveling agent were added and dissolved as other additives. Then, 1.8 parts by mass of encapsulated silicon fine particles of alumina fine particles having an average particle diameter of 1.9 µm were added to the solution and stirred. Thereby, a photocurable resin composition in which fine particles (B) were dispersed was obtained.

조제한 광경화성 수지 조성물에 대해서, 점도계(ThermoFisher Scientific 주식회사제 「HAAKE Viscotester 6 plus」)를 사용하여, 23℃에 있어서의 점도를 측정한 바, 16mPa·s인 것이 확인되었다.About the prepared photocurable resin composition, when the viscosity at 23 degreeC was measured using a viscometer ("HAAKE Viscotester 6 plus" manufactured by ThermoFisher Scientific Co., Ltd.), it was confirmed that it was 16 mPa·s.

[방현 필름의 제작][Production of anti-glare film]

다음에, 상기에서 얻어진 광경화성 수지 조성물을 사용해서 방현 필름을 제작하였다.Next, an anti-glare film was produced using the photocurable resin composition obtained above.

우선, 투명성 기재로서, PET 필름(도요보 주식회사제 「코스모 샤인 A4300」, 종 200mm×횡 150mm×두께 100㎛)을 준비하였다. 이어서, 상기에서 조제한 광경화성 수지 조성물을 PET 필름의 한쪽의 주면에 도포하여, 도막을 형성하였다. 이때, 얻어지는 경화 피막의 막두께(드라이 막두께)가 2∼3㎛가 되도록, 도막의 두께를 조정해서 도포하였다. 이어서, 고압 수은 램프를 사용하여, 도막에 대해 자외선을 조사하였다(조사량: 300∼400mJ/㎠). 조사에 의해 도막을 경화시켜, 막두께 2.0㎛의 경화 피막을 형성하여, 본 실시예의 방현 필름을 제작하였다.First, as a transparent substrate, a PET film ("Cosmo Shine A4300" manufactured by Toyobo Co., Ltd., 200 mm long x 150 mm wide x 100 µm thick) was prepared. Next, the photocurable resin composition prepared above was applied to one main surface of the PET film to form a coating film. At this time, it applied by adjusting the thickness of a coating film so that the film thickness (dry film thickness) of the obtained cured film might become 2-3 micrometers. Next, using a high-pressure mercury lamp, ultraviolet rays were irradiated to the coating film (irradiation amount: 300 to 400 mJ/cm 2 ). The coating film was cured by irradiation, a cured film having a thickness of 2.0 µm was formed, and an anti-glare film of this example was produced.

얻어진 방현 필름에 대해서, 경화 피막에 있어서의 요철의 평균 간격 Sm과 요철에 의한 표면 거칠기 Ra를 측정한 바, 평균 간격 Sm이 49.6㎛이고, 표면 거칠기 Ra가 0.11㎛인 것이 확인되었다. 이때, 평균 간격 Sm 및 표면 거칠기 Ra는, 초소형 표면 거칠기 측정기 E-35B 도쿄정밀 주식회사제)을 사용해서 측정하였다.About the obtained anti-glare film, when the average interval Sm of the irregularities in the cured film and the surface roughness Ra due to the irregularities were measured, it was confirmed that the average interval Sm was 49.6 µm and the surface roughness Ra was 0.11 µm. At this time, the average spacing Sm and the surface roughness Ra were measured using an ultra-small surface roughness measuring instrument E-35B manufactured by Tokyo Precision Co., Ltd.).

[평가 방법][Assessment Methods]

다음에, 얻어진 방현 필름에 대하여, 이하와 같은 평가를 행하였다.Next, the following evaluation was performed about the obtained anti-glare film.

(방현성)(Anti-glare)

JIS K5600-4-7에 준거해서 60°거울면 광택도를 측정하여, 방현 필름의 방현성을 평가하였다. 본 실시예에서는, 60°거울면 광택도가 120% 이하이면, 방현성이 우수한 것으로 평가하였다.According to JIS K5600-4-7, the glossiness of a 60 degree mirror surface was measured, and the anti-glare property of an anti-glare film was evaluated. In this example, when the glossiness on a 60° mirror surface was 120% or less, it was evaluated as having excellent anti-glare properties.

(휘도 불균일)(Uneven luminance)

방현 필름에 비추어진 화상의 번쩍임을 육안으로 판단함으로써, 휘도 불균일의 정도를 평가하였다. 구체적으로는, 화상 표시장치로서 「iPad(등록상표)」를 사용하고, 어플리케이션 소프트웨어 「Free Light」에서, 디스플레이 표시를 녹색으로 설정한 후에, 방현 필름을 경화 피막면이 표면측이 되도록 디스플레이 위에 싣고 꽉 눌렀을 때의, 화상의 번쩍임을 육안으로 판단하였다. 본 실시예에서는, 번쩍임의 정도를 이하의 레벨로 분류하여, 레벨이 3 이상이면, 휘도 불균일이 적은 것으로 평가하였다.The degree of luminance unevenness was evaluated by visually judging the glare of the image projected on the anti-glare film. Specifically, using "iPad (registered trademark)" as an image display device, setting the display display to green in the application software "Free Light", and placing an anti-glare film on the display so that the cured film surface is on the surface side. When pressed, the glare of the image was judged with the naked eye. In this example, the degree of glare was classified into the following levels, and when the level was 3 or more, it was evaluated that there was little luminance unevenness.

5: 번쩍임이 전혀 없다5: no glare

4: 번쩍임이 거의 없다4: almost no glare

3: 번쩍임이 다소 있지만, 허용범위이다3: There is some flashing, but it is an acceptable range

2: 번쩍임이 많다2: There is a lot of flash

1: 번쩍임이 상당히 많다1: There is a lot of glare

(탁도)(Turbidity)

JIS K7136에 준거해서 방현 필름의 탁도(헤이즈(haze): HZ)를 측정하여, 평가하였다. 본 실시예에서는, 탁도가 40% 이하이면, 화상의 시인성이 우수하고, 20% 이하이면, 특히 우수한 것으로 평가하였다. 이때, 탁도는, 헤이즈미터 NDH 2000(니폰덴쇼쿠공업 주식회사제)을 사용해서 측정하였다.According to JIS K7136, the turbidity (haze: HZ) of the anti-glare film was measured and evaluated. In this example, when the turbidity was 40% or less, the image visibility was excellent, and when it was 20% or less, it was evaluated as being particularly excellent. At this time, the turbidity was measured using a haze meter NDH 2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries, Ltd.).

(전체 광선 투과율)(Total light transmittance)

JIS K7361에 준거해서 방현 필름의 전체 광선 투과율(TT)을 측정하여, 평가하였다. 본 실시예에서는, 전체 광선 투과율이 85% 이상이면, 투과율이 높은 것으로 평가하였다. 이때, 전체 광선 투과율은, 헤이즈미터 NDH2000(니폰텐쇼쿠공업 주식회사제)을 사용해서 측정하였다.According to JIS K7361, the total light transmittance (TT) of the anti-glare film was measured and evaluated. In this example, if the total light transmittance was 85% or more, it was evaluated that the transmittance was high. At this time, the total light transmittance was measured using a haze meter NDH2000 (manufactured by Nippon Tenshoku Industries, Ltd.).

(상 선명도)(Image clarity)

상 선명도란, 방현 필름 너머로 관찰할 수 있는 화상이 어느 만큼 선명하게 보이는지를 수치 평가한 것이며, JIS K7374에 준거해서 측정된다. 본 실시예에서는, JIS K7374에 준거하여, 슬릿 폭이 다른 5종류의 광학 빗(슬릿 폭: 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1mm 및 2mm)을 사용해서 측정되는 상 선명도의 합계값에 의해 평가하고 있고, 그 합계값이 350% 이상이면, 화상이 선명하게 보이는 것으로 평가하였다. 이때, 상 선명도는, 사상성 측정기 ICM-1T(스가시험기 주식회사제)를 사용해서 측정하였다.The image sharpness is a numerical evaluation of how clearly the image that can be observed through the anti-glare film is seen, and is measured in accordance with JIS K7374. In this example, in accordance with JIS K7374, evaluation by the total value of the image sharpness measured using five types of optical combs (slit widths: 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1 mm and 2 mm) with different slit widths And, if the total value was 350% or more, it was evaluated that the image was clearly visible. At this time, the image sharpness was measured using the fidelity measuring instrument ICM-1T (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).

(경도)(Hardness)

JIS K5600에 준거해서 하중 750g에서 연필 경도 시험을 행하여, 방현 필름의 연필 경도를 측정하여, 평가하였다. 본 실시예에서는, 연필 경도가 H 이상이면, 충분한 경도를 갖고 있고, 내스크래치성이 우수한 것으로 평가하였다.In accordance with JIS K5600, a pencil hardness test was performed under a load of 750 g, and the pencil hardness of the anti-glare film was measured and evaluated. In this example, if the pencil hardness was H or more, it was evaluated as having sufficient hardness and excellent scratch resistance.

(외관)(Exterior)

방현 필름을, 경화 피막을 위로 향한 상태에서 45°기울여, 투명성 기재 너머로 경화 피막을 육안에 의해 관찰하여, 경화 피막의 표면에 있어서의 미립자의 응집물의 유무, 움푹 패임의 유무 및 표면의 균일성을 평가하였다. 본 실시예에서는, 응집물과 움푹 패임이 없고, 표면이 균일한 것을 외관이 양호한 것으로 평가하였다.The anti-glare film is tilted 45° with the cured film facing upward, and the cured film is visually observed over the transparent substrate, and the presence or absence of aggregates of fine particles on the surface of the cured film, the presence or absence of dents, and the uniformity of the surface. Evaluated. In this example, the appearance was evaluated as having a good appearance without agglomerates and dents, and having a uniform surface.

<실시예 2><Example 2>

실시예 2에서는, 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)로서, 중량 평균 분자량이 10,000인 것을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Example 2, as the photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the one having a weight average molecular weight of 10,000 was used to prepare an anti-glare film.

<실시예 3><Example 3>

실시예 3에서는, 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)로서, 중량 평균 분자량이 20,000인 것을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Example 3, as the photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that one having a weight average molecular weight of 20,000 was used to prepare an anti-glare film.

<실시예 4><Example 4>

실시예 4에서는, 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)로서, 중량 평균 분자량이 80,000인 것을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Example 4, as the photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that one having a weight average molecular weight of 80,000 was used to prepare an antiglare film.

<실시예 5><Example 5>

실시예 5에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경이 2.0㎛인 실리콘 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Example 5, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that silicon fine particles having an average particle diameter of 2.0 µm were used to prepare an anti-glare film.

<실시예 6><Example 6>

실시예 6에서는, 광중합성 성분(A)으로서, 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)와 함께 (메타)아크릴레이트계 모노머(a2)를 사용하고, 배합량을 적절히 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하였다. 본 실시예에서는, (메타)아크릴레이트계 모노머(a2)로서, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트의 혼합물(고형분 100%)을 사용하였다.In Example 6, as the photopolymerizable component (A), except for using a (meth)acrylate-based monomer (a2) together with a photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1), and appropriately changing the blending amount, Examples In the same manner as in 1, a photocurable resin composition was prepared. In this example, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (100% solid content) was used as the (meth)acrylate-based monomer (a2).

<실시예 7><Example 7>

실시예 7에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경 1.2㎛인 아크릴 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Example 7, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6, except that acrylic fine particles having an average particle diameter of 1.2 µm were used to prepare an anti-glare film.

<실시예 8><Example 8>

실시예 8에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경 2.3㎛인 아크릴 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Example 8, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6, except that acrylic fine particles having an average particle diameter of 2.3 µm were used to prepare an anti-glare film.

<실시예 9><Example 9>

실시예 9에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경 2.1㎛인 소수성 실리카 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Example 9, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6, except that hydrophobic silica fine particles having an average particle diameter of 2.1 µm were used to prepare an anti-glare film.

Figure 112015082185464-pat00001
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<비교예 1><Comparative Example 1>

비교예 1에서는, 하기 표 2에 나타낸 것과 같이, 광중합성 성분(A)으로서, 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)를 사용하지 않고, 중량 평균 분자량이 900인 우레탄 아크릴레이트 수지(고형분 40%)를 사용하고, 배합량을 적절히 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Comparative Example 1, as shown in Table 2 below, as the photopolymerizable component (A), a photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) was not used, and a urethane acrylate resin having a weight average molecular weight of 900 (solid content 40% ) Was used, and a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the blending amount was appropriately changed, and an anti-glare film was produced.

<비교예 2><Comparative Example 2>

비교예 2에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경이 3.0㎛인 알루미나 미립자 내포형 실리콘 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Comparative Example 2, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6, except that the alumina fine particles encapsulated silicone fine particles having an average particle diameter of 3.0 µm were used to prepare an anti-glare film.

<비교예 3><Comparative Example 3>

비교예 3에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경이 3.0㎛인 아크릴 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Comparative Example 3, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6, except that acrylic fine particles having an average particle diameter of 3.0 µm were used to prepare an anti-glare film.

<비교예 4><Comparative Example 4>

비교예 4에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경이 0.7㎛인 아크릴 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Comparative Example 4, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6, except that acrylic fine particles having an average particle diameter of 0.7 µm were used to prepare an anti-glare film.

<비교예 5><Comparative Example 5>

비교예 5에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경이 0.8㎛인 아크릴 미립자를 사용한 것 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 광경화성 수지 조성물을 조제하여, 방현 필름을 제작하였다.In Comparative Example 5, as the fine particles (B), a photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6, except that acrylic fine particles having an average particle diameter of 0.8 μm were used to prepare an anti-glare film.

Figure 112015082185464-pat00002
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표 1에 나타낸 것과 같이 실시예 1∼9의 방현 필름에서는, 모두 요철의 평균 간격 Sm이 30∼300㎛이고, 표면 평균 거칠기 Ra가 0.01∼0.17㎛인 것이 확인되었다. 실시예 1∼9는, 60°거울면 광택도가 120% 이하로서, 방현성이 우수한 것이 확인되었다. 또한, 번쩍임의 정도의 레벨이 3 이상으로, 휘도 불균일이 적었다. 또한, 탁도, 전체 광선 투과율, 상 선명도 및 경도에 대해서도 우수한 것이 확인되었다.As shown in Table 1, in the anti-glare films of Examples 1 to 9, it was confirmed that the average spacing Sm of the irregularities was 30 to 300 µm, and the surface average roughness Ra was 0.01 to 0.17 µm. In Examples 1 to 9, it was confirmed that the glossiness was 120% or less on a 60° mirror surface, and was excellent in anti-glare properties. Moreover, the level of the degree of glare was 3 or more, and there were few luminance unevenness. Further, it was confirmed that it was excellent also in turbidity, total light transmittance, image clarity, and hardness.

실시예 1, 3∼9와 실시예 2를 비교했을 때, 실시예 1, 3∼9에서는, 중량 평균 분자량이 15,000 이상인 광중합성 아크릴 수지(a1)를 사용했기 때문에, 중량 평균 분자량이 10,000인 광중합성 아크릴 수지(a1)를 사용한 실시예 2보다도, 경화 피막의 외관을 양호하게 할 수 있다는 것이 확인되었다.When comparing Examples 1, 3 to 9 and Example 2, in Examples 1 and 3 to 9, since a photopolymerizable acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight of 15,000 or more was used, light weight having a weight average molecular weight of 10,000 It was confirmed that the appearance of the cured film could be improved more than in Example 2 in which the synthetic acrylic resin (a1) was used.

실시예 1과 실시예 5를 비교했을 때, 미립자(B)로서, 알루미나 미립자 내포형 실리콘 미립자를 사용한 실시예 1에서는, 실리콘 미립자를 사용한 실시예 5보다도 60°거울면 광택도를 저감할 수 있어, 방현성이 보다 우수한 것이 확인되었다. 이것은, 알루미나 미립자 내포형 실리콘 미립자가, 실리콘 미립자보다도 빛의 확산성이 우수하기 때문으로 추측된다.When comparing Example 1 and Example 5, in Example 1 using silicon fine particles containing alumina fine particles as the fine particles (B), the glossiness can be reduced if it is 60° mirrored than Example 5 using silicon fine particles. , It was confirmed that the anti-glare property is more excellent. This is presumed to be because the alumina microparticle-encapsulated silicon microparticles are superior to the silicon microparticles in light diffusivity.

실시예 1∼5와 실시예 6∼9를 비교했을 때, 실시예 6∼9에서는, 아크릴레이트계 모노머(a2)를 사용했기 때문에, 실시예 1∼5보다도 경화 피막의 경도를 높게 할 수 있다는 것이 확인되었다.When comparing Examples 1 to 5 and Examples 6 to 9, in Examples 6 to 9, since the acrylate monomer (a2) was used, the hardness of the cured film can be made higher than that of Examples 1 to 5. Was confirmed.

표 2에 나타낸 것과 같이, 비교예 1에서는, 요철의 평균 간격 Sm이 354.3㎛로 커서, 미립자(B)에 의한 볼록부가 치밀하게 형성되어 있지 않다는 것이 확인되었다. 그 결과, 60°거울면 광택도가 141%로 높아, 방현성이 떨어진다는 것이 확인되었다. 이것은, 중량 평균 분자량이 낮은 우레탄 아크릴레이트 수지를 사용했기 때문에, 방현층에 있어서 미립자(B)가 침강한 것에 따른 것으로 추측된다.As shown in Table 2, in Comparative Example 1, the average spacing Sm of the irregularities was large at 354.3 µm, and it was confirmed that the convex portions due to the fine particles (B) were not formed densely. As a result, it was confirmed that the glossiness was as high as 141% when the mirror was 60°, and the anti-glare property was inferior. This is presumed to be due to the precipitation of the fine particles (B) in the anti-glare layer because a urethane acrylate resin having a low weight average molecular weight was used.

비교예 2, 3에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경이 2.8㎛보다도 큰 것을 사용했기 때문에, 표면 거칠기 Ra가 0.17㎛보다도 큰 것이 확인되었다. 그 결과, 휘도 불균일이 많아지고, 또한 상 선명도가 낮아지는 것이 확인되었다.In Comparative Examples 2 and 3, since the fine particles (B) having an average particle diameter larger than 2.8 µm were used, it was confirmed that the surface roughness Ra was larger than 0.17 µm. As a result, it was confirmed that the luminance unevenness increased and the image sharpness decreased.

비교예 4, 5에서는, 미립자(B)로서, 평균 입자경이 1.0㎛보다도 작은 것을 사용하고 있어, 평균 간격 Sm이 300㎛보다도 큰 것이 확인되었다. 그 결과, 휘도 불균일은 적기는 하지만, 요철이 치밀하게 형성되어 있지 않기 때문인지, 60°거울면 광택도가 120%보다도 높아, 충분한 방현성을 얻을 수 없다는 것이 확인되었다.In Comparative Examples 4 and 5, as the fine particles (B), those having an average particle diameter smaller than 1.0 µm were used, and it was confirmed that the average spacing Sm was larger than 300 µm. As a result, although the luminance unevenness was small, it was confirmed that it was because the unevenness was not formed densely, or that the glossiness was higher than 120% when the mirror was 60°, and sufficient anti-glare properties could not be obtained.

<본 발명의 바람직한 태양><Preferred aspect of the present invention>

이하에서, 본 발명의 바람직한 태양에 대해 부기한다.In the following, a preferred aspect of the present invention is added.

[부기 1][Annex 1]

본 발명의 일 태양에 따르면,According to an aspect of the present invention,

광중합성 성분(A), 미립자(B) 및 광중합 개시제(C)를 함유하는 광경화성 수지 조성물로서,As a photocurable resin composition containing a photopolymerizable component (A), fine particles (B) and a photopolymerization initiator (C),

상기 광중합성 성분(A)이, 중량 평균 분자량이 10,000 이상인 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)를 포함하고,The photopolymerizable component (A) contains a photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight of 10,000 or more,

상기 미립자(B)가, 평균 입자경이 1.0㎛ 이상 2.8㎛ 이하인 유기 미립자 및/또는 무기 미립자를 포함하고,The fine particles (B) contain organic fine particles and/or inorganic fine particles having an average particle diameter of 1.0 μm or more and 2.8 μm or less,

23℃에 있어서의 점도가 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하인, 광경화성 수지 조성물이 제공된다.A photocurable resin composition having a viscosity at 23°C of 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less is provided.

[부기 2][Annex 2]

부기 1의 광경화성 수지 조성물에 있어서, 바람직하게는,In the photocurable resin composition of Appendix 1, preferably,

상기 미립자(B)로서, 알루미나 미립자를 내포하는 실리콘 미립자를 포함한다.As the fine particles (B), silicon fine particles containing alumina fine particles are included.

[부기 3][Annex 3]

부기 1 또는 2의 광경화성 수지 조성물에 있어서, 바람직하게는,In the photocurable resin composition of Appendix 1 or 2, Preferably,

상기 미립자(B)를, 고형분 100질량부에 대해 0.1질량부 이상 20질량부 이하의 범위에서 함유한다.The fine particles (B) are contained within a range of 0.1 parts by mass or more and 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of solid content.

[부기 4][Annex 4]

부기 1∼3의 어느 한개의 광경화성 수지 조성물에 있어서, 바람직하게는,In the photocurable resin composition in any one of appendices 1 to 3, preferably,

상기 광중합성 성분(A)이, 상기 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1) 이외의 (메타)아크릴레이트계 모노머 및/또는 (메타)아크릴레이트계 수지(a2)를 함유한다.The photopolymerizable component (A) contains a (meth)acrylate-based monomer and/or a (meth)acrylate-based resin (a2) other than the photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1).

[부기 5][Annex 5]

본 발명의 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

부기 1∼4의 어느 한개의 광경화성 수지 조성물로 형성되고, 상기 미립자(B)에 의한 요철을 표면에 갖는 경화 피막이 제공된다.A cured film formed of any one of the photocurable resin compositions described in Appendix 1 to 4 and having irregularities due to the fine particles (B) on its surface is provided.

[부기 6][Annex 6]

부기 5의 경화 피막에 있어서, 바람직하게는,In the cured film of Appendix 5, preferably,

표면 거칠기 Ra가 0.01㎛ 이상 0.17㎛ 이하이다.The surface roughness Ra is 0.01 µm or more and 0.17 µm or less.

[부기 7][Annex 7]

부기 5 또는 6의 경화 피막에 있어서, 바람직하게는,In the cured film of Appendix 5 or 6, preferably,

요철의 평균 간격 Sm이 30㎛ 이상 300㎛ 이하이다.The average spacing Sm of the irregularities is 30 µm or more and 300 µm or less.

[부기 8][Annex 8]

부기 5∼7의 어느 한개의 경화 피막에 있어서, 바람직하게는,In any one of the cured coatings in Appendix 5 to 7, Preferably,

JIS K5600-4-7에 준거해서 측정되는 60°거울면 광택도가 120% 이하이다.The glossiness of a 60° mirror measured in accordance with JIS K5600-4-7 is 120% or less.

[부기 9][Annex 9]

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

투명성 기재와, 상기 투명성 기재 위에 설치되는 부기 5∼8의 어느 한개의 경화 피막을 구비한 방현 필름이 제공된다.An anti-glare film provided with a transparent substrate and a cured coating of any one of notes 5 to 8 provided on the transparent substrate is provided.

[부기 10][Annex 10]

부기 9의 방현 필름에 있어서, 바람직하게는,In the anti-glare film of Appendix 9, preferably,

JIS K7136에 준거해서 측정되는 탁도가 40% 이하이다.The turbidity measured according to JIS K7136 is 40% or less.

[부기 11][Annex 11]

부기 9 또는 10의 방현 필름에 있어서, 바람직하게는,In the anti-glare film of Appendix 9 or 10, preferably,

JIS K7374에 준거하여, 슬릿 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm의 광학 빗을 사용해서 측정되는 상 선명도의 합계값이 350% 이상이다.In accordance with JIS K7374, the total value of image sharpness measured using optical combs having a slit width of 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm is 350% or more.

[부기 12][Annex 12]

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

부기 9∼11의 어느 한개의 방현 필름을 구비한 화상 표시장치가 제공된다.An image display device provided with any one of the anti-glare films of Appendix 9 to 11 is provided.

[부기 13][Annex 13]

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

부기 1∼4의 어느 한개의 광경화성 수지 조성물을 광조사에 의해 경화시키는 경화공정을 갖는 경화 피막의 제조방법이 제공된다.A method for producing a cured film having a curing step of curing the photocurable resin composition of Appendix 1 to 4 by light irradiation is provided.

[부기 14][Annex 14]

본 발명의 또 다른 태양에 따르면,According to another aspect of the present invention,

부기 1∼4의 어느 한개의 광경화성 수지 조성물을 투명성 기재의 적어도 한쪽의 주면에 도포하는 도포공정과,A coating step of applying any one of the photocurable resin compositions of Appendix 1 to 4 to at least one main surface of the transparent substrate, and

상기 도포공정 후, 광조사에 의해 상기 광경화성 수지 조성물을 경화시켜 경화 피막을 형성하는 경화공정을 갖는 방현 필름의 제조방법이 제공된다.After the coating step, there is provided a method for producing an anti-glare film having a curing step of curing the photocurable resin composition by light irradiation to form a cured film.

1 방현 필름
10 경화 피막(방현층)
11 볼록부
20 투명성 기재
1 anti-glare film
10 Cured film (glare layer)
11 convex
20 Transparency substrate

Claims (15)

광중합성 성분(A), 미립자(B) 및 광중합 개시제(C)를 함유하는 광경화성 수지 조성물로서,
상기 광중합성 성분(A)이, 중량 평균 분자량이 10,000 이상인 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1)를 포함하고,
상기 미립자(B)가, 평균 입자경이 1.0㎛ 이상 2.8㎛ 이하인 산화 알루미늄 미립자 내포형 폴리오가노 실세스퀴옥산 미립자를 포함하고,
23℃에 있어서의 점도가 1mPa·s 이상 1000mPa·s 이하인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
As a photocurable resin composition containing a photopolymerizable component (A), fine particles (B) and a photopolymerization initiator (C),
The photopolymerizable component (A) contains a photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) having a weight average molecular weight of 10,000 or more,
The fine particles (B) contain polyorgano silsesquioxane fine particles containing aluminum oxide fine particles having an average particle diameter of 1.0 μm or more and 2.8 μm or less,
A photocurable resin composition having a viscosity of 1 mPa·s or more and 1000 mPa·s or less at 23°C.
제 1항에 있어서,
상기 미립자(B)를, 고형분 100질량부에 대해 0.1질량부 이상 20질량부 이하의 범위에서 함유하는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
A photocurable resin composition comprising the fine particles (B) in a range of 0.1 parts by mass or more and 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of solid content.
제 1항에 있어서,
상기 광중합성 성분(A)이, 상기 광중합성 (메타)아크릴 수지(a1) 이외의 (메타)아크릴레이트계 모노머 및/또는 (메타)아크릴레이트계 수지(a2)를 함유하는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
A sight characterized in that the photopolymerizable component (A) contains a (meth)acrylate-based monomer and/or a (meth)acrylate-based resin (a2) other than the photopolymerizable (meth)acrylic resin (a1) Chemical conversion resin composition.
청구항 1에 기재된 광경화성 수지 조성물로 형성되고, 상기 미립자(B)에 의한 요철을 표면에 갖는 것을 특징으로 하는 경화 피막.
A cured film formed of the photocurable resin composition according to claim 1, and having irregularities due to the fine particles (B) on its surface.
제 4항에 있어서,
표면 거칠기 Ra가 0.01㎛ 이상 0.17㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 경화 피막.
The method of claim 4,
A cured coating having a surface roughness Ra of 0.01 µm or more and 0.17 µm or less.
제 4항에 있어서,
요철의 평균 간격 Sm이 30㎛ 이상 300㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 경화 피막.
The method of claim 4,
The cured film, characterized in that the average spacing Sm of the irregularities is 30 µm or more and 300 µm or less.
제 5항에 있어서,
요철의 평균 간격 Sm이 30㎛ 이상 300㎛이하인 것을 특징으로 하는 경화 피막.
The method of claim 5,
The cured film, characterized in that the average spacing Sm of the irregularities is 30 µm or more and 300 µm or less.
제 4항에 있어서,
JIS K5600-4-7에 준거해서 측정되는 60°거울면 광택도가 120% 이하인 것을 특징으로 하는 경화 피막.
The method of claim 4,
A cured coating having a glossiness of 120% or less on a 60° mirror surface measured in accordance with JIS K5600-4-7.
투명성 기재와, 상기 투명성 기재 위에 설치되는 청구항 4에 기재된 경화 피막을 구비한 것을 특징으로 하는 방현 필름.
An anti-glare film comprising a transparent substrate and the cured film according to claim 4 provided on the transparent substrate.
제 9항에 있어서,
JIS K7136에 준거해서 측정되는 탁도가 40% 이하인 것을 특징으로 하는 방현 필름.
The method of claim 9,
An anti-glare film characterized in that the turbidity measured in accordance with JIS K7136 is 40% or less.
제 9항에 있어서,
JIS K7374에 준거하여, 슬릿 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm인 광학 빗을 사용해서 측정되는 상 선명도의 합계값이 350% 이상인 것을 특징으로 하는 방현 필름.
The method of claim 9,
An anti-glare film according to JIS K7374, wherein the total value of the image sharpness measured using an optical comb having a slit width of 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm is 350% or more.
청구항 9에 기재된 방현 필름을 구비한 것을 특징으로 하는 화상 표시장치.
An image display device comprising the anti-glare film according to claim 9.
청구항 1에 기재된 광경화성 수지 조성물을 광조사에 의해 경화시키는 경화공정을 갖는 것을 특징으로 하는 경화 피막의 제조방법.
A method for producing a cured film, comprising a curing step of curing the photocurable resin composition according to claim 1 by light irradiation.
청구항 1에 기재된 광경화성 수지 조성물을 투명성 기재의 적어도 한쪽의 주면에 도포하는 도포공정과,
상기 도포공정 후, 광조사에 의해 상기 광경화성 수지 조성물을 경화시켜 경화 피막을 형성하는 경화공정을 갖는 것을 특징으로 하는 방현 필름의 제조방법.
A coating step of applying the photocurable resin composition according to claim 1 to at least one main surface of a transparent substrate, and
After the coating step, a method for producing an anti-glare film, comprising a curing step of curing the photocurable resin composition by light irradiation to form a cured film.
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