KR102118904B1 - Anti-relrection composition and optical film using thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection coating composition and an optical film using the same.

Description

반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름{ANTI-RELRECTION COMPOSITION AND OPTICAL FILM USING THEREOF}Anti-reflective coating composition and optical film using the same{ANTI-RELRECTION COMPOSITION AND OPTICAL FILM USING THEREOF}

본 발명은 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection coating composition and an optical film using the same.

액정 디스플레이(LCD), 플라스마 디스플레이(PDP), 브라운관(CRT), 전자 발광 디스플레이(EL) 등의 각종 표시장치에는 반사광에 의한 눈부심과 디스플레이 전면의 반사로 인해 화질이 떨어지는 문제를 해소하기 위하여 방현(Anti-Glare)필름이 일반적으로 사용된다. 그러나, 일반적인 방현 필름은 해상도가 떨어진다는 단점이 있다.Various display devices such as liquid crystal displays (LCDs), plasma displays (PDPs), CRTs, and electroluminescent displays (ELs) are implemented to solve the problem of deterioration in image quality due to glare due to reflected light and reflection on the front of the display ( Anti-Glare) films are commonly used. However, the general anti-glare film has a disadvantage that the resolution is poor.

그에 따라 최근에는 해상도가 좋고 반사 방지 기능이 우수한 저 반사 방지 필름(Low Reflectance Film)의 수요가 증가되고 있는 추세이다. Accordingly, in recent years, a demand for a low-reflectance film having a good resolution and excellent anti-reflection function is increasing.

종래에는 이러한 저굴절층 형성을 위한 저굴절 조성물로 불소함유 아크릴 공중합체나 불소함유 올레핀 공중합체 또는 불소함유 에폭시 개환 공중합체 등 불소함유 공중합체와 단순한 함불소 아크릴레이트 타입의 불소화합물을 사용하여왔다. 통상 불소계 화합물은 저굴절, 방수성, 방오염성 등은 우수하나, 경도, 슬립성, 내스크래치성, 내마모성 등이 약한 단점이 있다. 따라서 불소계 화합물의 단점을 보완하고자 하는 연구가 지속되어 왔으며, 투명성이 우수하며, 박막 형성 시 경도가 강하며, 내스크래치 및 내마모성이 우수한 광경화형 코팅조성물 및 이를 포함하는 반사방지필름으로 우리나라 공개특허 제10-2009-0041854호(2009.04.29) 등이 있다. 그러나, 상기 발명은 굴절율을 낮추기 위하여 불소계 화합물 및 UV 관능기를 갖는 실록산 화합물을 포함한 박막의 굴절율이 1.45이하의 값을 가지는 것이 기재되어 있다. 본 발명은 불소계 화합물 및 아크릴기가 포함된 입체적인 구조의 실록산 화합물을 사용하여 충분한 굴절율의 개선 효과뿐 아니라 반사율 제어 특성의 향상 및 투과율 개선이 가능하며 상기 발명 대비 우수한 내찰상성과 연필경도를 달성할 수 있다.Conventionally, a fluorine-containing copolymer such as a fluorine-containing acrylic copolymer, a fluorine-containing olefin copolymer, or a fluorine-containing epoxy ring-opening copolymer, and a simple fluorine-containing fluorine-type fluorine compound have been used as a low-refractive composition for forming the low-refractive layer. . In general, the fluorine-based compound is excellent in low refractive index, water resistance, and anti-fouling properties, but has disadvantages such as hardness, slip resistance, scratch resistance, and abrasion resistance. Therefore, research has been continued to compensate for the disadvantages of the fluorine-based compound, excellent transparency, hardness when forming a thin film, scratch-resistant and abrasion-resistant photo-curing coating composition and anti-reflection film containing the same in Korea Patent Publication 10-2009-0041854 (2009.04.29). However, the present invention describes that the refractive index of a thin film containing a fluorine-based compound and a siloxane compound having a UV functional group has a value of 1.45 or less in order to lower the refractive index. The present invention uses a siloxane compound having a three-dimensional structure containing a fluorine-based compound and an acryl group, as well as an effect of improving a sufficient refractive index, as well as improving reflectance control properties and improving transmittance, and can achieve excellent scratch resistance and pencil hardness compared to the above invention. .

우리나라 공개특허 제10-2009-0041854호(2009.04.29)Korea Patent Publication No. 10-2009-0041854 (2009.04.29)

본 발명은 전체 코팅액의 굴절율 저하를 유발하지 않는 화합물을 사용하여 전체 코팅액의 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 범위를 유지하도록 함으로써, 투명성이 우수한 코팅층을 형성할 수 있는 반사방지용 코팅조성물을 제공하고자 한다. 또한, 내찰상성이 우수하고, 연필경도가 3H 이상으로 향상된 반사 방지용 코팅조성물을 제공하고자 한다.The present invention is to provide an antireflection coating composition capable of forming a coating layer having excellent transparency by maintaining a range in which the refractive index of the entire coating solution is 1.39 to 1.43 using a compound that does not cause a decrease in the refractive index of the entire coating solution. In addition, it is intended to provide an anti-reflection coating composition having excellent scratch resistance and an improved pencil hardness of 3H or more.

또한, 본 발명은 반사방지용 코팅조성물을 도포한 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름을 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide an optical film having a low-refractive coating layer coated with an anti-reflective coating composition.

또한 본 발명은 상기 광학필름을 포함하는 편광판 및 상기 편광판을 포함하는 표시장치를 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide a polarizing plate comprising the optical film and a display device including the polarizing plate.

본 발명은 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 반사방지용 코팅조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflective coating composition comprising a silsesquioxane compound of Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112013045530083-pat00001
Figure 112013045530083-pat00001

(상기 식에서,(In the above formula,

R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로

Figure 112013045530083-pat00002
,
Figure 112013045530083-pat00003
에서 선택되고, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently
Figure 112013045530083-pat00002
,
Figure 112013045530083-pat00003
Is selected from,

상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고, R 5 and R 6 are each independently selected from hydrogen or (C1-C5)alkyl,

상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)Wherein n is an integer selected from 1 to 10, m is an integer selected from 2 to 12, k is an integer selected from 1 to 10, j is an integer selected from 1 to 10.)

상기 화학식 1의 화합물은 굴절율이 1.3 ~ 1.42인 것일 수 있으며, 전체 조성물의 굴절율은 1.39 ~ 1.43인 것일 수 있다.The compound of Formula 1 may have a refractive index of 1.3 to 1.42, and a refractive index of the entire composition may be 1.39 to 1.43.

또한 본 발명은 기재필름의 적어도 일면에, 상기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름에 관한 것이다.In addition, the present invention has at least one surface of the base film, an optical having a low refractive index coating layer coated with an antireflective coating composition comprising a silsesquioxane compound of Formula 1, an ultraviolet curable compound, inorganic particles, a photoinitiator, a surfactant, and a solvent It's about the film.

본 발명에 따른 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산을 사용함으로써 내찰상성, 밀착성 및 연필경도 등의 기계적 물성을 향상시키는 효과가 있다.The anti-reflective coating composition according to the present invention has an effect of improving mechanical properties such as scratch resistance, adhesion, and pencil hardness by using silsesquioxane.

또한, 상기 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름은 전광선투과율이 95%이상으로 우수하고, 헤이즈가 0.3이하로 낮으며, 연필경도가 3H이상으로 높고, 기재필름에 대한 밀착성이 우수하며, 내찰상성이 우수한 효과가 있다.In addition, the optical film having a low-refractive coating layer coated with the anti-reflection coating composition is excellent in total light transmittance of 95% or more, haze is lower than 0.3, pencil hardness is higher than 3H, and adhesion to the base film is high. It is excellent, and has excellent scratch resistance.

이하는 본 발명의 구성에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in more detail.

본 발명의 발명자들은 표면의 내찰상성이 우수하며, 기재필름과의 밀착성이 우수한 반사방지용 코팅조성물을 개발하기 위하여 연구한 결과, 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물을 사용함으로써 목적으로 하는 물성을 달성할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하였다. The inventors of the present invention have researched to develop an anti-reflective coating composition having excellent surface scratch resistance and excellent adhesion to a base film, and achieve the desired physical properties by using a silsesquioxane compound of Formula 1 below. The present invention was completed by discovering that it was possible.

또한, 하기 화학식 1의 화합물과 함께 자외선 경화형 화합물로써, 불소계 (메타)아크릴레이트 단량체와 중공 실리카 미립자를 혼합하여 사용함으로써, 연필경도가 상승하는 것을 발견하여 본 발명을 완성하였다.In addition, the present invention was completed by discovering that the pencil hardness was increased by mixing and using a fluorine-based (meth)acrylate monomer and hollow silica fine particles as a UV curable compound together with the compound of Formula 1 below.

본 발명의 일 양태는 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 반사방지용 코팅조성물에 관한 것이다.An aspect of the present invention relates to an antireflection coating composition comprising a silsesquioxane compound of Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112013045530083-pat00004
Figure 112013045530083-pat00004

(상기 식에서,(In the above formula,

R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로

Figure 112013045530083-pat00005
,
Figure 112013045530083-pat00006
에서 선택되고, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently
Figure 112013045530083-pat00005
,
Figure 112013045530083-pat00006
Is selected from,

상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고, R 5 and R 6 are each independently selected from hydrogen or (C1-C5)alkyl,

상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)Wherein n is an integer selected from 1 to 10, m is an integer selected from 2 to 12, k is an integer selected from 1 to 10, j is an integer selected from 1 to 10.)

본 발명의 일 양태에서 상기 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, the antireflection coating composition may include a silsesquioxane compound, an ultraviolet curable compound, inorganic particles, a photoinitiator, a surfactant, and a solvent.

구체적으로 상기 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산 화합물 0.1 ~ 10 중량%, 자외선 경화형 화합물 0.5 ~ 10 중량%, 무기입자 0.1 ~ 5 중량%, 광개시제 0.01 ~ 2 중량%, 계면활성제 0.01 ~ 0.1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 것일 수 있다. Specifically, the anti-reflection coating composition is silsesquioxane compound 0.1 ~ 10% by weight, ultraviolet curing compound 0.5 ~ 10% by weight, inorganic particles 0.1 ~ 5% by weight, photoinitiator 0.01 ~ 2% by weight, surfactant 0.01 ~ 0.1% by weight And a residual amount of solvent.

본 발명에 따른 반사방지용 코팅조성물은 광학필름의 저굴절 코팅층을 형성하는데 사용되는 것일 수 있다.The anti-reflective coating composition according to the present invention may be used to form a low-refractive coating layer of an optical film.

또한, 본 발명의 일 양태는 기재필름의 적어도 일면에, 상기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름에 관한 것이다.In addition, an aspect of the present invention is a low refractive index coating composition for preventing reflection, including a silsesquioxane compound of Formula 1, an ultraviolet curable compound, an inorganic particle, a photoinitiator, a surfactant, and a solvent on at least one surface of a base film. It relates to an optical film having a coating layer.

또한 본 발명의 일 양태는 상기 광학필름을 포함하는 편광판에 관한 것이다.In addition, an aspect of the present invention relates to a polarizing plate comprising the optical film.

또한 본 발명의 일 양태는 상기 편광판을 포함하는 표시장치에 관한 것이다.
In addition, an aspect of the present invention relates to a display device including the polarizing plate.

이하는 본 발명의 반사방지용 코팅조성물에 사용될 수 있는 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.
The following specifically describes the components that can be used in the antireflection coating composition of the present invention.

[실세스퀴옥산 화합물][Silsesquioxane compound]

본 발명의 실세스퀴옥산 화합물은 하기 화학식 1에서 선택된다. The silsesquioxane compound of the present invention is selected from Formula 1 below.

[화학식 1] [Formula 1]

Figure 112013045530083-pat00007
Figure 112013045530083-pat00007

(상기 식에서,(In the above formula,

R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로

Figure 112013045530083-pat00008
,
Figure 112013045530083-pat00009
에서 선택되고, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently
Figure 112013045530083-pat00008
,
Figure 112013045530083-pat00009
Is selected from,

상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고, R 5 and R 6 are each independently selected from hydrogen or (C1-C5)alkyl,

상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)Wherein n is an integer selected from 1 to 10, m is an integer selected from 2 to 12, k is an integer selected from 1 to 10, j is an integer selected from 1 to 10.)

본 발명의 일 양태에서, 알킬은 직쇄 또는 분쇄 형태를 모두 포함한다. In one aspect of the invention, alkyl includes both straight chain or ground forms.

구체적으로, 상기 화학식 1의 화합물에서,Specifically, in the compound of Formula 1,

상기 R1, R2, R3 및 R4

Figure 112013045530083-pat00010
이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수인 것일 수 있다.R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are
Figure 112013045530083-pat00010
, J may be an integer selected from 1 to 10.

또한, 상기 화학식 1의 화합물에서,In addition, in the compound of Formula 1,

상기 R1, R2, R3 및 R4

Figure 112013045530083-pat00011
Figure 112013045530083-pat00012
이 5 ~ 9 : 1 ~ 5 몰비로 치환되며, R5는 (C1-C5)알킬에서 선택되고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수인 것일 수 있다.R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are
Figure 112013045530083-pat00011
and
Figure 112013045530083-pat00012
It is substituted with a molar ratio of 5 to 9: 1 to 5, R 5 is selected from (C1-C5) alkyl, m is an integer selected from 2 to 12, and j may be an integer selected from 1 to 10.

또한, 상기 화학식 1의 화합물에서,In addition, in the compound of Formula 1,

상기 R1, R2, R3 및 R4

Figure 112013045530083-pat00013
Figure 112013045530083-pat00014
이 5 ~ 9 : 1 ~ 5 몰비로 치환되며, R6는 (C1-C5)알킬에서 선택되고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수인 것일 수 있다.R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are
Figure 112013045530083-pat00013
and
Figure 112013045530083-pat00014
It is substituted with a molar ratio of 5 to 9: 1 to 5, R 6 is selected from (C1-C5) alkyl, k is an integer selected from 1 to 10, j may be an integer selected from 1 to 10.

본 발명의 일 양태에서, 실세스퀴옥산 화합물은 조성물의 굴절율을 조절하기 위하여 사용되는 것으로, 굴절율이 1.3 ~ 1.42인 범위이며, 불소 및 아크릴기가 치환되어 전체 반사방지 코팅조성물의 굴절율이 낮은 조성물을 제조할 수 있으며, UV경화 시 다른 경화성 화합물과 광경화를 하게 되어 연필경도가 더욱 개선되는 효과가 있다. In one aspect of the present invention, the silsesquioxane compound is used to control the refractive index of the composition, and the refractive index is in the range of 1.3 to 1.42, and the fluorine and acrylic groups are substituted to form a composition having a low refractive index of the entire antireflection coating composition. It can be manufactured, and the photocuring with other curable compounds during UV curing has the effect of further improving the pencil hardness.

본 발명의 일 양태에서 상기 실세스퀴옥산 화합물은 중량평균분자량이 3,000 ~ 30,000인 것을 사용하는 것이 CTA와의 상용성이 우수하므로 바람직하다. 본 발명의 일 양태에서 상기 실세스퀴옥산 화합물은 조성물 내 0.1 ~ 10 중량%, 보다 바람직하게는 1 ~ 5 중량%로 사용하는 것이 바람직하다. 고형분 함량이 0.1 중량% 미만인 경우는 그 효과가 미미하고, 10 중량%를 초과하는 경우는 광경화가 느리게 진행될 수 있다. 상기 함량범위로 사용함으로써 전체 코팅조성물의 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 반사방지용 코팅조성물을 제조할 수 있다.
In one aspect of the present invention, the silsesquioxane compound is preferred because it has excellent compatibility with CTA to use a weight average molecular weight of 3,000 to 30,000. In one aspect of the present invention, the silsesquioxane compound is preferably used in a composition of 0.1 to 10% by weight, more preferably 1 to 5% by weight. If the solid content is less than 0.1% by weight, the effect is minimal, and when it exceeds 10% by weight, photocuring may proceed slowly. By using in the above content range, it is possible to prepare an antireflection coating composition having a refractive index of 1.39 to 1.43 of the entire coating composition.

[자외선 경화형 화합물][Ultraviolet curing type compound]

본 발명의 일 양태에서 상기 자외선 경화형 화합물은 (메타)아크릴계 수지, 불소계 (메타)아크릴레이트에서 선택되는 하나 이상인 것일 수 있다. 바람직하게는 불소계 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 최종 조성물의 저굴절을 구현할 수 있으며, 상기 실세스퀴옥산 화합물과의 혼화성이 우수하므로 바람직하다. In one embodiment of the present invention, the ultraviolet curable compound may be one or more selected from (meth)acrylic resins and fluorine (meth)acrylates. Preferably, it is preferable to use a fluorine-based (meth)acrylate because it can realize low refraction of the final composition and has excellent compatibility with the silsesquioxane compound.

조성물 내 상기 자외선 경화형 화합물의 고형분 함량은 0.5 ~ 10 중량%, 보다 구체적으로 0.6 ~ 8 중량%를 사용할 수 있다. 상기 자외선 경화형 화합물의 함량이 0.5 중량% 미만인 경우는 코팅막의 내스크래치성, 내마모성이 저하되고 코팅액의 점도가 코팅기계와 기재에 전사되지 않을 정도로 지나치게 낮아질 수 있고, 10 중량%를 초과하여 사용하는 경우는 점도가 높아져서 코팅막의 평탄화도 및 코팅성이 나빠지는 등의 문제점이 발생할 수 있다.The content of solid content of the ultraviolet curable compound in the composition may be 0.5 to 10% by weight, more specifically 0.6 to 8% by weight. When the content of the UV curable compound is less than 0.5% by weight, the scratch resistance and abrasion resistance of the coating film may be lowered, and the viscosity of the coating solution may be too low to be transferred to the coating machine and the substrate, and when used in excess of 10% by weight The viscosity may increase, which may cause problems such as deterioration of the flatness and coating properties of the coating film.

상기 (메타)아크릴계 수지는 (메타)아크릴레이트 모노머, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 에스테르 아크릴레이트 올리고머 등이 사용될 수 있으며, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 트리메틸렌프로판트리아크릴레이트, 에틸렌글리콜다이아크릴레이트, 9,9-비스(4-(2-아크릴록시에톡시페닐)플루오렌, 비스(4-메타크릴록시티오페닐)설파이드, 비스(4-비닐티오페닐)설파이드 등을 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The (meth)acrylic resin may include (meth)acrylate monomer, urethane acrylate oligomer, epoxy acrylate oligomer, ester acrylate oligomer, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetra Acrylate, trimethylenepropane triacrylate, ethylene glycol diacrylate, 9,9-bis(4-(2-acryloxyethoxyphenyl)fluorene, bis(4-methacryloxythiophenyl)sulfide, bis( 4-vinylthiophenyl) sulfide or the like can be used by mixing one or two or more.

상기 (메타)아크릴계 모노머의 구체적인 예로는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 스타일릭 (메타)아크릴레이트, 도데실 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 2-페녹시 에틸 (메타)아크릴레이트, 나프톨에틸 (메타)아크릴레이트, 2-페닐페놀 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-사이오페놀에틸 (메타)아크릴레이트, 불소 변성 (메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 이소보네올 (메타)아크릴레이트, 노보넨 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로퓨란올 (메타)아크릴레이트, 시클로펜텐 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 히드록시 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴로 모폴린 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the (meth)acrylic monomers include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth) )Acrylate, stylic (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, 2-phenoxy ethyl (meth)acrylate, naphtholethyl (meth)acrylate, 2-phenylphenol Ethyl (meth)acrylate, 2-thiophenolethyl (meth)acrylate, fluorine-modified (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, isobornol (meth)acrylate, norbornene (meth) )Acrylate, tetrahydrofuranol (meth)acrylate, cyclopentene (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl ( Meta)acrylate, caprolactone modified hydroxy (meth)acrylate, (meth)acrylomorpholine, and the like, but are not limited thereto.

상기 불소계 (메타)아크릴레이트는 저굴절률 향상, 막의 균일성 향상 등을 위하여 사용될 수 있으며, 하기 화학식 2 내지 화학식 4에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있다.The fluorine-based (meth)acrylate may be used for improving a low refractive index, improving the uniformity of a film, and the like, and any one or more selected from Formulas 2 to 4 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112013045530083-pat00015
Figure 112013045530083-pat00015

(상기 식에서, a는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)(In the above formula, a is an integer selected from 1 to 10.)

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112013045530083-pat00016
Figure 112013045530083-pat00016

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112013045530083-pat00017
Figure 112013045530083-pat00017

(상기 식에서, R7은 수소 또는 (C1-C6)알킬이고, b는 0 ~ 4에서 선택되는 정수이고, c는 1 ~ 3에서 선택되는 정수이다.)
(In the above formula, R 7 is hydrogen or (C1-C6) alkyl, b is an integer selected from 0 to 4, and c is an integer selected from 1 to 3.)

[무기입자][Weapons]

본 발명의 일 양태에서, 상기 무기입자는 굴절률을 낮추어 반사 방지 특성을 높이고, 내스크래치성을 높이기 위하여 사용된다.In one aspect of the present invention, the inorganic particles are used to increase the anti-reflection property by lowering the refractive index and increase scratch resistance.

그 함량은 0.1 ~ 5 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 3 중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 범위로 사용함으로써 코팅조성물의 굴절률 조절이 가능하고, 반사방지 특성이 양호하게 발휘될 수 있다.The content is preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.5 to 3% by weight. By using in the above range, it is possible to control the refractive index of the coating composition, and the antireflection property can be exhibited satisfactorily.

상기 무기입자는 형성하고자 하는 저굴절 코팅층의 두께에 대하여 30 ~ 150% 범위인 것이 바람직하다. 가시광선의 산란 및 확산 없이 투명한 필름을 얻고, 상기 무기입자에 의해 표면 상에 미세한 요철을 형성시켜 슬립성이 우수하도록 하기 위해서는 평균입경이 1 ~ 1000 nm인, 보다 구체적으로는 2 ~ 100 nm, 더욱 바람직하게는 10 ~ 80nm인 것을 사용하는 것이 좋다. 평균입경이 10nm 미만인 경우는 입자 내 공기 함유가 적어 굴절율의 개선 효과가 미미하고, 1000nm를 초과하는 경우는 표면 요철이 형성되어 입사광의 산란이 발생할 수 있다.The inorganic particles are preferably in the range of 30 to 150% with respect to the thickness of the low-refractive coating layer to be formed. In order to obtain a transparent film without scattering and diffusing visible light, and to form fine irregularities on the surface by the inorganic particles, to have excellent slip properties, the average particle diameter is 1 to 1000 nm, more specifically 2 to 100 nm, further It is preferable to use those having 10 to 80 nm. When the average particle diameter is less than 10 nm, the air content in the particles is small, so the effect of improving the refractive index is negligible, and when it exceeds 1000 nm, surface irregularities are formed and scattering of incident light may occur.

상기 무기입자의 일 예로는 중공 또는 다공성 실리카입자인 것일 수 있다.An example of the inorganic particles may be hollow or porous silica particles.

보다 바람직하게는 중공 실리카입자를 사용하는 것일 수 있으며, 상기 중공 실리카 입자는 굴절률을 낮추어 반사 방지 특성을 높이고, 내스크래치성을 더욱 높일 수 있다.More preferably, the hollow silica particles may be used, and the hollow silica particles may have a lower refractive index to increase anti-reflection properties and further improve scratch resistance.

상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 바람직하게는 1.17 ~ 1.40이고, 더 바람직하게는 1.17 ~ 1.35이며, 가장 바람직하게는 1.17 ~ 1.30이다. 여기서 굴절률은 실리카의 굴절률, 즉 중공 입자를 형성하는 외곽의 굴절률을 의미하는 것이 아니라, 입자 전체의 굴절률을 의미하는 것이다. The refractive index of the hollow silica particles is preferably 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.30. Here, the refractive index does not mean the refractive index of the silica, that is, the outer refractive index forming the hollow particle, but the refractive index of the entire particle.

이때 중공 실리카 입자 내의 공극률은 바람직하게는 10 ~ 60%의 범위이고, 더 바람직하게는 20 ~ 60%의 범위이며, 가장 바람직하게는 30 ~ 60%의 범위이다.At this time, the porosity in the hollow silica particles is preferably in the range of 10 to 60%, more preferably in the range of 20 to 60%, and most preferably in the range of 30 to 60%.

중공 실리카 입자의 저 굴절률 및 이의 고 공극률을 달성하려고 하는 경우, 외곽의 두께는 감소되고 입자의 강도는 약해진다. 따라서, 내스크래치성의 관점에서, 중공 실리카 입자의 굴절률이 1.17 미만인 경우는 내스크래치성이 떨어질 수 있다. 아울러 중공 실리카 입자의 굴절률이 1.40을 초과하는 경우 굴절률이 높아 반사 방지특성이 떨어질 수 있다. 상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 Abbe 굴절률계(ATAGO사 제품)를 사용하여 측정한다.When trying to achieve the low refractive index of the hollow silica particles and its high porosity, the thickness of the outer shell is reduced and the strength of the particles is weakened. Therefore, from the viewpoint of scratch resistance, when the refractive index of the hollow silica particles is less than 1.17, scratch resistance may deteriorate. In addition, when the refractive index of the hollow silica particles exceeds 1.40, the refractive index may be high and the anti-reflection characteristics may deteriorate. The refractive index of the hollow silica particles is measured using an Abbe refractive index meter (manufactured by ATAGO).

상기 중공 실리카 입자는 결정질 입자이거나 비결정질 입자일 수 있고, 단분산입자가 바람직하다. 형태를 고려 시, 구형 입자가 가장 바람직하나, 부정형의 입자도 문제 없이 사용 가능하다. 상기 중공 실리카 미립자의 평균 입자직경은 또한 전자 현미경 사진을 사용함으로써 측정한다.The hollow silica particles may be crystalline particles or amorphous particles, and monodisperse particles are preferred. When considering the shape, spherical particles are most preferred, but amorphous particles can be used without problems. The average particle diameter of the hollow silica fine particles is also measured by using electron micrographs.

상기 중공 실리카 입자는 실란커플링제로 표면 처리를 행한 것을 사용할 수 있으며, 이 경우 용매와의 분산성이 향상되고 경화 공정시 경화에 참여하여 바인더와의 네트워크 형성을 통해 코팅층의 내구성을 향상시키게 된다.The hollow silica particles may be surface treated with a silane coupling agent. In this case, dispersibility with a solvent is improved, and the curing layer is participated in curing during the curing process, thereby improving the durability of the coating layer through network formation with a binder.

상기 실란커플링제는 구체적으로 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리에톡시실란, γ-글리시독시에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시에틸트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(β-글리시독시메톡시)프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리에톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실라옥틸트리에톡시실란, 데실트리에톡시실란, 부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 3-우레이도이소프로필프로필트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리메톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리이소프로폭시실란, 트리플우로오프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, 트리메틸실란올, 메틸트리클로로실란로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종을 사용 할 수 있다.The silane coupling agent is specifically methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethane Methoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl -3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltri Ethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxymethoxy)propyltrimethoxysilane, γ-(meth)acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ-(meth)acryloxymethyltriethoxysilane, γ-(meth)acrylo Oxyethyltrimethoxysilane, γ-(meth)acrylooxyethyltriethoxysilane, γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, γ -(Meth)acrylooxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyl Liethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluoro Looctylethyl triisopropoxysilane, trifluoropropyl trimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltri At least one member selected from the group consisting of methoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, and methyltrichlorosilane can be used.

상기 무기입자의 분산성을 더욱 향상시키기 위해서는 상기 무기입자를 (메타)아크릴계 단량체, 올리고머 등에 분산시킨 분산액 상태로 사용하는 것일 수 있다. 이때 상기 무기입자의 고형분 함량은 10 ~ 30 중량%인 것이 바람직하다.
In order to further improve the dispersibility of the inorganic particles, the inorganic particles may be used in a dispersion state in which (meth)acrylic monomers, oligomers, and the like are dispersed. At this time, the solid content of the inorganic particles is preferably 10 to 30% by weight.

[광개시제][Photoinitiator]

본 발명의 일 양태에서 상기 광개시제는 자외선에 분해 가능한 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 그 예로는 α-아미노 아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴린프로판온-1, 디페닐케톤 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 벤조페논에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니며, 당해 분야에서 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it is preferable to use a compound capable of decomposing to ultraviolet light, for example, α-amino acetophenone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholine Propanone-1, diphenylketone benzyldimethylketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-one, 4-hydroxycyclophenylketone, dimethoxy-2-phenylatetophenone, anthraquinone, Fluorene, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-knoacetophenone, 4,4-dimethoxyacetophenone, 4,4-diaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone and Any one or two or more mixtures selected from benzophenone can be used. However, the present invention is not limited thereto, and what is used in the art may be used without limitation.

그 함량은 0.01 ~ 2 중량%, 보다 구체적으로 0.05 ~ 1 중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 0.01 중량% 미만으로 사용하는 경우는 미경화가 발생할 수 있으며, 2 중량부를 초과하여 사용하는 경우는 코팅막의 내스크래치성, 내마모성이 저하될 수 있다.
The content is preferably 0.01 to 2% by weight, more specifically 0.05 to 1% by weight. When used in less than 0.01% by weight, uncured may occur, and when used in excess of 2 parts by weight, scratch resistance and abrasion resistance of the coating film may be deteriorated.

[계면활성제][Surfactants]

본 발명의 일 양태에서 상기 계면활성제는 상기 무기입자와 실세스퀴옥산화합물 및 자외선 경화형 화합물 간의 결합을 더욱 향상시키기 위하여 사용되는 것이다. 상기 계면활성제는 레벨링제 또는 습윤제 등이 사용될 수 있으며, 불소계 화합물 또는 폴리실록산계 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. In one aspect of the present invention, the surfactant is used to further improve the bonding between the inorganic particles and the silsesquioxane compound and the ultraviolet curable compound. Leveling agent or wetting agent may be used as the surfactant, and it is preferable to use a fluorine-based compound or a polysiloxane-based compound.

그 함량은 0.01 ~ 0.1 중량%, 보다 바람직하게는 0.02 ~ 0.05 중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 그 함량이 0.01 중량% 미만인 경우는 효과가 미미하며, 0.1 중량%를 초과하여 사용하는 경우는 기재필름과의 밀착력이 저하될 수 있고, 코팅막의 내스크래치성 및 내마모성이 저하될 수 있다.
The content is preferably 0.01 to 0.1% by weight, more preferably 0.02 to 0.05% by weight. If the content is less than 0.01% by weight, the effect is negligible, and when used in excess of 0.1% by weight, adhesion to the base film may be reduced, and scratch resistance and abrasion resistance of the coating film may be reduced.

[용매][menstruum]

본 발명의 일 양태에서, 상기 용매는 각 성분을 균일하게 용해시키며, 이러한 성분들과 반응하지 않는 것을 고려하여 사용하는 것이 바람직하다.In one aspect of the present invention, the solvent is dissolved in each component uniformly, it is preferable to use in consideration of not reacting with these components.

구체적으로는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브, 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논, 헥산, 헵탄, 옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.Specifically, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, methyl cellulose, ethyl solusorb, methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, cyclohexanone, hexane, heptane, octane , Any one or a mixture of two or more selected from benzene, toluene, and xylene may be used.

상기 용매는 상기 전체 코팅조성물의 고형분 함량이 2 ~ 10 중량%인 범위로 조절하기 위하여 그 함량이 조절될 수 있다.
The content of the solvent can be adjusted to control the solid content of the entire coating composition in a range of 2 to 10% by weight.

본 발명의 반사방지용 코팅조성물은 상기 성분들 이외에도 필요에 따라 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 열적고분자화 금지제, 레벨링제, 계면활성제, 윤활제 등이 함께 사용될 수 있다.
In addition to the above components, an anti-reflective coating composition of the present invention may be used together with antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants, lubricants, and the like, as necessary.

본 발명은 상기 반사방지용 코팅조성물을 이용하여 형성된 저굴절층을 포함하는 광학필름을 제공한다.The present invention provides an optical film comprising a low-refractive layer formed using the anti-reflection coating composition.

본 발명의 일 양태는 기재필름의 적어도 일면에, 상기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름이다.An aspect of the present invention, at least one surface of the base film, the silsesquioxane compound of Formula 1, a UV curable compound, an inorganic particle, a photoinitiator, a low-refractive coating layer coated with an anti-reflective coating composition comprising a surfactant and a solvent. It has an optical film.

본 발명의 일 양태에서, 상기 기재필름은 셀룰로오스아실레이트, 폴리노보넨, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리메틸메타아크릴레이트 및 폴리에테르케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택되는 단독 또는 이들의 혼합물로 이루어진 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, the base film is cellulose acylate, polynorbornene, polyimide, polycarbonate, polyester, polystyrene, polyolefin, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmetha It may be composed of acrylate and polyether ketone, polyvinyl alcohol and polyvinyl chloride alone or a mixture thereof.

바람직하게는 상기 예시한 기재필름 중 셀룰로오스아실레이트 필름인 것일 수 있으며, 본 발명의 반사방지용 코팅조성물은 셀룰로오스아실레이트 수지와의 혼화성이 우수하므로, 기재필름과의 밀착성이 더욱 우수한 필름을 제공할 수 있다. Preferably, it may be a cellulose acylate film among the above-described base film, and the antireflective coating composition of the present invention has excellent miscibility with the cellulose acylate resin, thereby providing a film having better adhesion with the base film. Can be.

상기 셀룰로오스아실레이트수지는 셀룰로오스와 아세트산의 에스테르로서, 셀룰로오스를 구성하는 글루코오스 단위의 2위, 3위 및 6위에 존재하는 히드록실기의 수소원자의 전부 또는 일부가 아세틸기, 프로피로닐기, 부티릴기에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상으로 치환될 수 있다. 보다 바람직하게는 셀룰로오스를 구성하는 글루코오스 단위의 2위, 3위 및 6위에 존재하는 히드록실기의 수소원자의 전부 또는 일부가 아세틸기로 치환된 것을 사용할 수 있다. 구체적으로 예를 들면, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등을 포함한다.The cellulose acylate resin is an ester of cellulose and acetic acid, and all or part of the hydrogen atoms of the hydroxyl groups present in the 2nd, 3rd and 6th positions of the glucose units constituting cellulose are acetyl, propyronyl, and butyryl groups. It may be substituted with any one or two or more selected from. More preferably, those in which all or part of the hydrogen atoms of the hydroxyl groups present in the second, third and sixth positions of the glucose unit constituting cellulose are substituted with acetyl groups can be used. Specifically, for example, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, and the like are included.

셀룰로오스아실레이트 수지의 치환도는 제한되는 것은 아니나, 바람직하게는 2.7 이상이고, 보다 바람직하게는 2.7 ~ 3.0이다. 상기 치환도는 ASTM 의 D-817-91 에 준하여 측정할 수 있다. The degree of substitution of the cellulose acylate resin is not limited, but is preferably 2.7 or more, and more preferably 2.7 to 3.0. The substitution degree can be measured according to ASTM D-817-91.

셀룰로오스아실레이트 수지의 분자량 범위는 제한되는 것은 아니나, 중량평균분자량이 200,000 ~ 350,000범위인 것이 바람직하다. 또한, 셀룰로오스아실레이트 수지의 분자량분포도 Mw/Mn(Mw는 중량평균분자량, Mn은 수평균분자량)가 1.4 ~ 1.8 인 것이 바람직하고, 1.5 ~ 1.7인 것이 더욱 바람직하다.The molecular weight range of the cellulose acylate resin is not limited, but the weight average molecular weight is preferably in the range of 200,000 to 350,000. In addition, the molecular weight distribution of the cellulose acylate resin is also preferably Mw/Mn (Mw is the weight average molecular weight, Mn is the number average molecular weight) of 1.4 to 1.8, and more preferably 1.5 to 1.7.

본 발명의 일 양태에서, 상기 반사방지용 코팅조성물의 도포방법은 공지된 방법이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 구체적으로 예를 들면, 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아, 마이크로 그라비아 또는 스핀코팅 등의 적당한 방식으로 도공(Coating Process)이 가능하다. 상기 도공 후 UV를 조사하여 경화시키는 것이 바람직하다. In one aspect of the present invention, the method for applying the antireflection coating composition may be used without limitation as long as it is a known method, and specifically, for example, a die coater, air knife, reverse roll, spray, blade, casting, gravure, The coating process is possible by a suitable method such as micro gravure or spin coating. It is preferable to cure by irradiating UV after the coating.

본 발명의 일 양태에서, 상기 저굴절 코팅층은 건조도포두께가 10 ~ 200nm인 것이 바람직하며, 상기 두께에서 우수한 반사방지 효과를 얻을 수 있다.In one aspect of the invention, the low-refractive coating layer is preferably a dry coating thickness of 10 ~ 200nm, it is possible to obtain an excellent anti-reflection effect at the thickness.

본 발명의 일 양태에서, 상기 저굴절 코팅층은 굴절율이 1.39~1.43인 것일 수 있다. In one aspect of the present invention, the low-refractive-coating layer may have a refractive index of 1.39 to 1.43.

본 발명의 일 양태에서, 상기 광학필름은 상기 기재필름과 저굴절 코팅층의 사이에 하드코팅층을 더 포함하는 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, the optical film may further include a hard coating layer between the base film and the low-refractive coating layer.

상기 하드코팅층은 표면경도를 구현하기 위한 것으로 굴절율이 1.49 ~ 1.53인 것이 바람직하다. 굴절율이 상기 범위에서 우수한 반사방지 효과를 얻을 수 있다.The hard coating layer is for realizing the surface hardness, it is preferred that the refractive index is 1.49 ~ 1.53. The refractive index can obtain an excellent anti-reflection effect in the above range.

상기 하드코팅층을 형성하기 위한 하드코팅층 형성용 조성물은 통상적으로 해당분야에서 사용되는 것이라면 제한되지 않고 사용 가능하다.
The composition for forming a hard coating layer for forming the hard coating layer is not limited, as long as it is commonly used in the art.

본 발명에 따른 광학필름은 반사방지 필름일 수 있으며, 본 발명은 상기 반사방지필름을 포함하는 편광판을 제공한다. 구체적으로, 본 발명에 따른 편광판은 편광막, 상기 편광막의 적어도 일면에 구비된, 본 발명에 따른 반사방지필름을 포함한다. 상기 편광막과 반사방지 필름 사이에는 보호필름이 구비될 수 있다. 또한, 상기 보호필름은 상기 반사방지 필름의 제조 시 단일코팅층을 형성하기 위한 기재가 그대로 사용될 수도 있다. 상기 편광막과 상기 반사방지층이 구비된 기재는 접착제에 의하여 합지될 수 있다. 상기 편광막으로는 당해 기술분야에 알려져 있는 것을 사용할 수 있다.The optical film according to the present invention may be an antireflection film, and the present invention provides a polarizing plate including the antireflection film. Specifically, the polarizing plate according to the present invention includes a polarizing film, an antireflection film according to the present invention, provided on at least one surface of the polarizing film. A protective film may be provided between the polarizing film and the anti-reflection film. Further, as the protective film, a substrate for forming a single coating layer may be used as it is when manufacturing the antireflection film. The substrate provided with the polarizing film and the anti-reflection layer may be laminated by an adhesive. As the polarizing film, one known in the art may be used.

본 발명은 상기 반사방지 필름 또는 편광판을 포함하는 표시장치를 제공한다. 상기 표시장치는 액정 표시장치나 플라즈마 디스플레이 장치일 수 있다. 본 발명에 따른 표시장치는 본 발명에 따른 반사방지필름이 구비된 것을 제외하고는 해당 기술분야에 알려져 있는 구조를 가질 수 있다. 예컨대 본 발명에 따른 디스플레이 장치에서, 상기 반사방지 필름은 디스플레이 패널의 관측자측 또는 백라이트측의 최외각 표면에 구비될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는 디스플레이 패널, 상기 패널의 적어도 일면에 구비된 편광막 및 상기 편광막의 패널과 접하는 반대측 면에 구비된 반사방지 필름을 포함할 수 있다.
The present invention provides a display device including the anti-reflection film or polarizing plate. The display device may be a liquid crystal display device or a plasma display device. The display device according to the present invention may have a structure known in the art, except that the anti-reflection film according to the present invention is provided. For example, in the display device according to the present invention, the anti-reflection film may be provided on the outermost surface of the viewer side or the backlight side of the display panel. In addition, the display device according to the present invention may include a display panel, a polarizing film provided on at least one surface of the panel, and an anti-reflection film provided on an opposite side of the polarizing film in contact with the panel.

이하는 본 발명의 구체적인 설명을 위하여 일 예를 들어 설명하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
The following will be described as an example for a detailed description of the present invention, the present invention is not limited to the following examples.

이하 필름의 물성은 다음의 측정방법에 의하여 측정하였다.Hereinafter, the physical properties of the film were measured by the following measuring method.

1) 내찰상성1) scratch resistance

#0000의 스틸 울(Steel wool)을 사용하여 500g의 하중으로 코팅막을 20번 왕복하여 스크래치를 주었다. 스크래치의 정도에 따라 1 ~ 5로 표시하였다. Using a steel wool of #0000, the coating film was reciprocated 20 times under a load of 500 g and scratched. 1 to 5 depending on the degree of scratch.

1: 코팅막이 완전히 벗겨졌을 경우1: When the coating film is completely peeled off

2: 스크래치가 20개 이상2: 20 or more scratches

3: 스크래치가 10 ~ 20개3: 10 to 20 scratches

4: 스크래치가 1 ~ 10개4: 1 to 10 scratches

5: 스크래치 없음
5: No scratch

2) 연필 경도2) Pencil hardness

연필경도 측정기(충북테크사제)를 이용하여 500g의 추를 올리고 미쯔비시 연필을 이용하여 테스트 하였다
A 500 g weight was raised using a pencil hardness tester (produced by Chungbuk Tech) and tested using a Mitsubishi pencil.

3) 전광선 투과율3) Total light transmittance

전광선 투과율은 ASTM D1003 Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics 규격을 적용하여 투과율 측정기(Haze Meter HM-150, Murakami Color Research Laboratory 제조)에서 측정하였다.
The total light transmittance was measured by a transmittance meter (Haze Meter HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory) by applying ASTM D1003 Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics standards.

4) 헤이즈4) Haze

필름 시료 40mm × 40mm를 25℃ 상대습도 60%로 헤이즈 미터(Murakami Color Research Laboratory, HM-150)에서 측정하였다.
The film sample 40 mm×40 mm was measured at a haze meter (Murakami Color Research Laboratory, HM-150) at 25° C. and 60% relative humidity.

5) 반사율(%)5) Reflectance (%)

분광 광도계 UV2450 (시마주사)에 어댑터 MPC2200를 장착하여, 380 내지 780nm의 파장 영역에서 입사각 5°에서의 출사각 5°에 대한 경면 반사율을 측정하고, 450 내지 650nm의 평균 반사율을 산출하였다.
The adapter MPC2200 was mounted on a spectrophotometer UV2450 (Shima Corporation) to measure specular reflectance for an angle of incidence of 5° at an angle of incidence of 5° in a wavelength region of 380 to 780 nm, and an average reflectance of 450 to 650 nm was calculated.

6) 밀착성 6) Adhesion

칼로 100개의 바둑판 무늬 (1 ㎜ × 1 ㎜)의 흠집을 낸 후 셀로판 테이프를 이용하여 박리실험을 하였다. 무늬가 전혀 박리 되지 않은 것을 ○로 표시하고, 1~10 개의 박리가 된 것은 △ 로 표시하였으며, 10 개 이상의 무늬가 박리된 것은 ×로 표시하였다.
Peeling was performed using cellophane tape after scratching 100 checkerboards (1 mm × 1 mm) with a knife. The pattern that was not peeled at all was indicated by ○, and 1 to 10 peelings were indicated by △, and 10 or more patterns peeled were indicated by ×.

[실시예 1] [Example 1]

1) 저굴절 코팅액(1)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (1)

실세스퀴옥산 화합물 1(동진쎄미켐사제, 300S, 굴절율 1.4, 중량평균분자량 3000) 1g과 불소계 아크릴레이트 1(Kyoeisha사제, Linc-162A) 2g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.Silsesquioxane compound 1 (Dongjin Semichem, 300S, refractive index 1.4, weight average molecular weight 3000) 1 g and fluorine-based acrylate 1 (Kyoeisha, Linc-162A) 2 g and pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) 2.5 g Was mixed with 224 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(1)을 제조하였다.Subsequently, 6 g of hollow silica (illumination catalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle size of 40 nm) was mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. It was added to prepare a low-refractive coating solution (1).

[실세스퀴옥산 화합물 1][Silsesquioxane compound 1]

Figure 112013045530083-pat00018
Figure 112013045530083-pat00018

(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4

Figure 112013045530083-pat00019
이고, j는 6이다.)(In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are
Figure 112013045530083-pat00019
And j is 6.)

[불소계 아크릴레이트 1][Fluorine acrylate 1]

Figure 112013045530083-pat00020
Figure 112013045530083-pat00020

(상기 식에서, a는 8이다.)
(In the above formula, a is 8.)

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(1)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution (1) was applied to the top of the hard coating layer so that the dry coating thickness was 100 nm using a wire bar, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[실시예 2][Example 2]

1) 저굴절 코팅액(2)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (2)

실세스퀴옥산 화합물 1(동진쎄미켐사제, 300S, 굴절율 1.4, 중량평균분자량 3000) 2g과 불소계 아크릴레이트(Kyoeisha사제, Linc-162A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.2 g of silsesquioxane compound 1 (Dongjin Semichem, 300S, refractive index 1.4, weight average molecular weight 3000), 1 g of fluorine-based acrylate (Kyoeisha, Linc-162A) and 2.5 g of pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) The mixture was dissolved in 224 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(2)을 제조하였다.
Subsequently, 6 g of hollow silica (illumination catalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle size of 40 nm) were mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. It was added to prepare a low-refractive coating solution (2).

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(2)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution (2) was applied to the top of the hard coating layer so that the dry coating thickness was 100 nm using a wire bar, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[실시예 3] [Example 3]

1) 저굴절 코팅액(3)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (3)

실세스퀴옥산 화합물 1(동진쎄미켐사제, 300S, 굴절율 1.4, 중량평균분자량 3000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.Silsesquioxane compound 1 (Dongjin Semichem, 300S, refractive index 1.4, weight average molecular weight 3000) 2 g and fluorine acrylate 2 (Kyoeisha, Linc-5A) 1 g and pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) 2.5 g Was mixed with 224 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(3)을 제조하였다.Subsequently, 6 g of hollow silica (illumination catalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle size of 40 nm) was mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. A low-refractive coating solution (3) was prepared by addition.

[불소계 아크릴레이트 2][Fluorine-based acrylate 2]

Figure 112013045530083-pat00021
Figure 112013045530083-pat00021

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(3)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution (3) was applied to the top of the hard coating layer so that the dry coating thickness was 100 nm using a wire bar, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[실시예 4] [Example 4]

1) 저굴절 코팅액(4)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (4)

실세스퀴옥산 화합물 2(동진쎄미켐사제, 300S-7, 굴절율 1.45, 중량평균분자량 10,000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.Silsesquioxane compound 2 (Dongjin Semichem, 300S-7, refractive index 1.45, weight average molecular weight 10,000) 2 g and fluorine-based acrylate 2 (Kyoeisha, Linc-5A) 1 g and pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) 2.5 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) was mixed with 224 g to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(4)을 제조하였다.Subsequently, 6 g of hollow silica (illumination catalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle size of 40 nm) was mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. The low-refractive coating solution (4) was prepared by addition.

[실세스퀴옥산 화합물 2][Silsesquioxane compound 2]

Figure 112013045530083-pat00022
Figure 112013045530083-pat00022

(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4

Figure 112013045530083-pat00023
이고, j는 6이다.)
(In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are
Figure 112013045530083-pat00023
And j is 6.)

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(4)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution (4) was applied to the top of the hard coating layer so that the dry coating thickness was 100 nm using a wire bar, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[실시예 5] [Example 5]

1) 저굴절 코팅액(5)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (5)

실세스퀴옥산 화합물 3(동진쎄미켐사제, 300S-P, 굴절율 1.32, 중량평균분자량 4,000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.Silsesquioxane compound 3 (Dongjin Semichem, 300S-P, refractive index 1.32, weight average molecular weight 4,000) 2 g and fluorine-based acrylate 2 (Kyoeisha, Linc-5A) 1 g and pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) 2.5 g was mixed with 224 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(5)을 제조하였다.Subsequently, 6 g of hollow silica (monocatalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle diameter of 40 nm) were mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. It was added to prepare a low-refractive coating solution (5).

[실세스퀴옥산 화합물 3][Silsesquioxane compound 3]

Figure 112013045530083-pat00024
Figure 112013045530083-pat00024

(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4

Figure 112013045530083-pat00025
Figure 112013045530083-pat00026
이 7 : 3 몰비로 치환되며, 상기 R5는 CH3이고 m은 6이다.)
(In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are
Figure 112013045530083-pat00025
and
Figure 112013045530083-pat00026
It is substituted with a 7:3 molar ratio, and R 5 is CH 3 and m is 6.)

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(5)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution 5 was applied to the top of the hard coating layer using a wire bar so that the dry coating thickness was 100 nm, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[실시예 6] [Example 6]

1) 저굴절 코팅액(6)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (6)

실세스퀴옥산 화합물 4(동진쎄미켐사제, 300S-FM55, 굴절율 1.35, 중량평균분자량 5,000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.Silsesquioxane compound 4 (Dongjin Semichem, 300S-FM55, refractive index 1.35, weight average molecular weight 5,000) 2 g and fluorine-based acrylate 2 (Kyoeisha, Linc-5A) 1 g and pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) 2.5 g was mixed with 224 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(6)을 제조하였다.Subsequently, 6 g of hollow silica (monocatalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle diameter of 40 nm) were mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. By addition, a low-refractive coating solution (6) was prepared.

[실세스퀴옥산 화합물 4][Silsesquioxane compound 4]

Figure 112013045530083-pat00027
Figure 112013045530083-pat00027

(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4

Figure 112013045530083-pat00028
Figure 112013045530083-pat00029
(In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are
Figure 112013045530083-pat00028
and
Figure 112013045530083-pat00029

이 5 : 5 몰비로 치환되며, 상기 R6는 CH3이고 k은 2이다.)
This 5:5 molar ratio is substituted, and R 6 is CH 3 and k is 2.)

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(6)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution 6 was applied to the top of the hard coating layer so that the dry coating thickness was 100 nm using a wire bar, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[비교예 1][Comparative Example 1]

1) 저굴절 코팅액(7)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (7)

불소계 아크릴레이트 1(Kyoeisha사제, Linc-162A) 3g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.3 g of fluorine-based acrylate 1 (Kyoeisha, Linc-162A) and 2.5 g of pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) were mixed in 224 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(7)을 제조하였다.
Subsequently, 6 g of hollow silica (monocatalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle diameter of 40 nm) were mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. A low refractive index coating solution (7) was prepared by addition.

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(7)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution (7) was applied to the top of the hard coating layer so that the dry coating thickness was 100 nm using a wire bar, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[비교예 2][Comparative Example 2]

1) 저굴절 코팅액(8)의 제조1) Preparation of low-refractive coating solution (8)

불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 3g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.3 g of fluorine-based acrylate 2 (Kyoeisha, Linc-5A) and 2.5 g of pentaerythritol triacrylate (NK Chemical, PETA) were mixed in 224 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) to dissolve completely.

이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(8)을 제조하였다.
Subsequently, 6 g of hollow silica (monocatalyst, 20% by weight solid dispersion, silica average particle diameter of 40 nm) were mixed, 0.3 g of α-amino acetophenone (BASF, Irgacure 907) as a photoinitiator, and 0.05 g of BYK-3570 as a surfactant. A low-refractive coating solution (8) was prepared by addition.

2) 광학필름의 제조2) Preparation of optical film

두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.On the surface of the transparent substrate cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a hard coating solution (Kyoeisha, HX-610UV) was applied to a dry coating thickness of 5 μm using a wire bar, and then dried and cured. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(8)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.The low-refractive coating solution 8 was applied to the top of the hard coating layer so that the dry coating thickness was 100 nm using a wire bar, followed by drying and curing. Drying was performed at 90° C. for 1 minute, and curing was UV-cured under a nitrogen atmosphere for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp of 120 W/cm.

제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
The physical properties of the prepared film were measured and are shown in Table 1 below.

[표 1][Table 1]

Figure 112013045530083-pat00030
Figure 112013045530083-pat00030

상기 표 1에서 보이는 바와 같이, 본 발명의 실시예는 전광선투과율이 95%이상으로 우수하며, 헤이즈가 낮은 것을 알 수 있고, 내찰상성, 밀착성이 우수함을 알 수 있다. 또한, 비교예 1~2와 실시예 1~ 6을 비교하면, 본 발명의 실세스퀴옥산 화합물을 첨가하는 경우 비교예에 비하여 연필경도 및 내찰상성이 더욱 향상됨을 알 수 있었다.
As shown in Table 1, it can be seen that the embodiment of the present invention has excellent total light transmittance of 95% or more, low haze, and excellent scratch resistance and adhesion. In addition, when comparing Comparative Examples 1 and 2 and Examples 1 to 6, it was found that when the silsesquioxane compound of the present invention was added, the pencil hardness and scratch resistance were further improved compared to the comparative example.

Claims (18)

하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물 및 불소계 (메타)아크릴레이트를 포함하는 반사방지용 코팅조성물.
[화학식 1]
Figure 112020006281272-pat00031

(상기 식에서,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로
Figure 112020006281272-pat00032
,
Figure 112020006281272-pat00033
에서 선택되고,
상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고,
상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
An antireflection coating composition comprising a silsesquioxane compound of Formula 1 and a fluorine-based (meth)acrylate.
[Formula 1]
Figure 112020006281272-pat00031

(In the above formula,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently
Figure 112020006281272-pat00032
,
Figure 112020006281272-pat00033
Is selected from,
R 5 and R 6 are each independently selected from hydrogen or (C1-C5)alkyl,
Wherein n is an integer selected from 1 to 10, m is an integer selected from 2 to 12, k is an integer selected from 1 to 10, j is an integer selected from 1 to 10.)
제 1항에 있어서,
상기 실세스퀴옥산 화합물의 굴절율이 1.3 ~ 1.42이고, 전체 코팅조성물의 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 1,
The anti-reflective coating composition having a refractive index of the silsesquioxane compound of 1.3 to 1.42 and a refractive index of the entire coating composition of 1.39 to 1.43.
제 1항에 있어서,
상기 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산 화합물, 불소계 (메타)아크릴레이트, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 것인 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 1,
The anti-reflection coating composition is an anti-reflective coating composition comprising a silsesquioxane compound, a fluorine-based (meth)acrylate, inorganic particles, a photoinitiator, a surfactant, and a solvent.
제 3항에 있어서,
상기 반사방지용 코팅조성물은 (메타)아크릴계 수지를 더 포함하는 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 3,
The antireflection coating composition further comprises a (meth)acrylic resin.
제 1항에 있어서,
상기 불소계 (메타)아크릴레이트는 하기 화학식 2 내지 화학식 3에서 선택되는 어느 하나 이상인 반사방지용 코팅조성물.
[화학식 2]
Figure 112020006281272-pat00034

(상기 식에서, a는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
[화학식 3]
Figure 112020006281272-pat00035
According to claim 1,
The fluorine-based (meth) acrylate is a coating composition for anti-reflection at least one selected from the following formulas 2 to 3.
[Formula 2]
Figure 112020006281272-pat00034

(In the above formula, a is an integer selected from 1 to 10.)
[Formula 3]
Figure 112020006281272-pat00035
제 3항에 있어서,
상기 무기입자는 평균입경이 1 ~ 1000 nm인 중공 또는 다공성 실리카입자인 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 3,
The inorganic particles are anti-reflective coating compositions of hollow or porous silica particles having an average particle diameter of 1 to 1000 nm.
제 6항에 있어서,
상기 무기입자는 평균입경이 10 ~ 80nm인 중공실리카인 반사방지용 코팅조성물.
The method of claim 6,
The inorganic particles are hollow silica coatings having an average particle diameter of 10 to 80 nm for antireflection coating composition.
제 3항에 있어서,
상기 광개시제는 α-아미노 아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴린프로판온-1, 디페닐케톤 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 벤조페논에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 3,
The photoinitiator is α-amino acetophenone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morphopropanone-1, diphenylketone benzyldimethylketal, 2-hydroxy-2-methyl- 1-phenyl-1-one, 4-hydroxycyclophenylketone, dimethoxy-2-phenylacetophenone, anthraquinone, fluorene, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-knoloaceto Antireflective coating composition which is a mixture of any one or two or more selected from phenone, 4,4-dimethoxyacetophenone, 4,4-diaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone and benzophenone.
제 3항에 있어서,
상기 계면활성제는 불소계 화합물 또는 폴리실록산계 화합물인 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 3,
The surfactant is a fluorine-based compound or a polysiloxane-based antireflection coating composition.
제 3항에 있어서,
상기 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브, 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논, 헥산, 헵탄, 옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 3,
The solvent is methanol, ethanol, isopropanol, butanol, methyl cellulose, ethyl solusorb, methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, cyclohexanone, hexane, heptane, octane , Benzene, toluene, xylene, antireflection coating composition which is a mixture of any one or two or more.
제 3항에 있어서,
상기 반사방지용 코팅조성물은 상기 실세스퀴옥산 화합물 0.1 ~ 10 중량%, 불소계 (메타)아크릴레이트 0.5 ~ 10 중량%, 무기입자 0.1 ~ 5 중량%, 광개시제 0.01 ~ 2 중량%, 계면활성제 0.01 ~ 0.1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 것인 반사방지용 코팅조성물.
According to claim 3,
The anti-reflection coating composition is the silsesquioxane compound 0.1 ~ 10 wt%, fluorine-based (meth) acrylate 0.5 ~ 10 wt%, inorganic particles 0.1 ~ 5 wt%, photoinitiator 0.01 ~ 2 wt%, surfactant 0.01 ~ 0.1 An antireflection coating composition comprising weight percent and residual solvent.
제 1항 내지 제 11항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
상기 반사방지용 코팅조성물은 광학필름의 저굴절 코팅층을 형성하는데 사용되는 것인 반사방지용 코팅조성물.
The method according to any one of claims 1 to 11,
The anti-reflection coating composition is an anti-reflective coating composition that is used to form a low-refractive coating layer of an optical film.
기재필름의 적어도 일면에, 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 불소계 (메타)아크릴레이트, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 연필경도가 3 H 이상인 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름.
[화학식 1]
Figure 112020006281272-pat00037

(상기 식에서,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로
Figure 112020006281272-pat00038
,
Figure 112020006281272-pat00039
에서 선택되고,
상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고,
상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
A pencil hardness having an antireflection coating composition comprising at least one surface of the base film, a silsesquioxane compound represented by the following Chemical Formula 1, a fluorine-based (meth)acrylate, inorganic particles, a photoinitiator, a surfactant, and a solvent is 3 H or more. Optical film having a refractive coating layer.
[Formula 1]
Figure 112020006281272-pat00037

(In the above formula,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently
Figure 112020006281272-pat00038
,
Figure 112020006281272-pat00039
Is selected from,
R 5 and R 6 are each independently selected from hydrogen or (C1-C5)alkyl,
Wherein n is an integer selected from 1 to 10, m is an integer selected from 2 to 12, k is an integer selected from 1 to 10, j is an integer selected from 1 to 10.)
제 13항에 있어서,
상기 기재필름은 셀룰로오스아실레이트, 폴리노보넨, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리메틸메타아크릴레이트 및 폴리에테르케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택되는 단독 또는 이들의 혼합물로 이루어진 것인 광학필름.
The method of claim 13,
The base film is cellulose acylate, polynorbornene, polyimide, polycarbonate, polyester, polystyrene, polyolefin, polysulfone, polyether sulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethyl methacrylate and polyether ketone, An optical film consisting of polyvinyl alcohol and polyvinyl chloride alone or a mixture thereof.
제 13항에 있어서,
상기 저굴절 코팅층은 건조도포두께가 10 ~ 200nm이고, 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 광학필름.
The method of claim 13,
The low-refractive coating layer is an optical film having a dry coating thickness of 10 to 200 nm and a refractive index of 1.39 to 1.43.
제 13항에 있어서,
상기 기재필름과 저굴절 코팅층의 사이에 하드코팅층을 더 포함하는 광학필름.
The method of claim 13,
An optical film further comprising a hard coating layer between the base film and the low-refractive coating layer.
제 13항 내지 제 16항에서 선택되는 어느 한 항의 광학필름을 포함하는 편광판.A polarizing plate comprising the optical film of any one of claims 13 to 16. 제 17항의 편광판을 포함하는 표시장치.A display device comprising the polarizing plate of claim 17.
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