JP2011503658A - Antireflection coating composition, antireflection film and method for producing the same - Google Patents

Antireflection coating composition, antireflection film and method for producing the same Download PDF

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Abstract

【課題】
【解決手段】本発明は、屈折率が1.2〜1.45である低屈折物質および屈折率が1.46〜2である高屈折樹脂を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上である反射防止コーティング組成物、これを用いて製造した反射防止フィルムおよびその製造方法を提供する。本発明によれば、優れた耐摩耗性および反射防止機能を有する反射防止フィルムを単一な組成物を用いて1回のコーティング工程によって製造することができるので製造費用が節減される効果がある。
【選択図】図1
【Task】
The present invention includes a low refractive material having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive resin having a refractive index of 1.46 to 2, and the surfaces of the low refractive material and the high refractive material. Provided are an antireflection coating composition having an energy difference of 5 mN / m or more, an antireflection film produced using the same, and a production method thereof. According to the present invention, an anti-reflection film having excellent wear resistance and anti-reflection function can be manufactured by a single coating process using a single composition, so that the manufacturing cost can be reduced. .
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、反射防止コーティング組成物、それを用いて製造した反射防止フィルムおよびその製造方法に関する。より具体的には、互いに異なる屈折率を有する樹脂を含む単一コーティング組成物を用いて、1回のコーティング工程によって単一コーティング層を形成する場合にも、前記単一コーティング層内で相分離が起こることにより、反射防止機能と耐摩耗性を同時に付与できる反射防止コーティング組成物、それを用いて製造した反射防止フィルムおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to an antireflection coating composition, an antireflection film produced using the same, and a method for producing the same. More specifically, even when a single coating composition including resins having different refractive indexes is used to form a single coating layer by a single coating process, phase separation is performed within the single coating layer. It is related with the antireflection coating composition which can provide an antireflection function and abrasion resistance simultaneously, antireflection film manufactured using the same, and its manufacturing method.

本出願は2007年11月13日に韓国特許庁に提出された第10−2007−0115348号および第10−2007−0115329号、2007年11月14日に韓国特許庁に提出された第10−2007−0115967号 および2008年4月18日に提出された第10−2008−0035891号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。   This application was filed with the 10-2007-0115348 and 10-2007-0115329 filed with the Korean Patent Office on November 13, 2007, and the 10-th filed with the Korean Patent Office on November 14, 2007. Claims the benefit of the filing date of 2007-0115967 and 10-2008-0035891 filed April 18, 2008, the entire contents of which are included herein.

ディスプレイ装置の表面に表面処理を施す目的は、ディスプレイの耐摩耗性を向上させ、外部光源の反射を減少させ、イメージコントラストを向上させることである。外部光の反射量減少は大きく2つの方法によって実現することができる。第1は、表面凹凸形状を通じた乱反射の誘導であり、第2は、多層コーティング設計によって消滅干渉を誘導する方法である。   The purpose of applying a surface treatment to the surface of the display device is to improve the wear resistance of the display, reduce the reflection of the external light source, and improve the image contrast. The reduction in the amount of reflection of external light can be largely realized by two methods. The first is the induction of diffuse reflection through the surface irregularities, and the second is the method of inducing annihilation interference by multilayer coating design.

既存には表面凹凸形状を有するアンチグレアコーティングを主に適用した。しかし、表面凹凸形状を用いる場合、高解像度ディスプレイにおいては、解像度が低下する問題と、表面における乱反射によってイメージの鮮明性が低下する問題があった。このような問題を解決するために、日本公開特許公報平11−138712号(特許文献1)においては、バインダーと屈折率差がある有機フィラーを用い、フィルム内部に光が拡散する光拡散フィルムを製造した。しかし、光拡散フィルムを用いる場合、輝度とコントラストが低下する問題点があるため、依然として改善が必要である。   Existing anti-glare coatings with surface irregularities were mainly applied. However, when the uneven surface shape is used, the high resolution display has a problem that the resolution is lowered and a problem that the sharpness of the image is lowered due to irregular reflection on the surface. In order to solve such a problem, in Japanese Patent Publication No. 11-138712 (Patent Document 1), an organic filler having a refractive index difference with a binder is used, and a light diffusion film in which light diffuses inside the film is used. Manufactured. However, when a light diffusing film is used, there is a problem that luminance and contrast are lowered, so that improvement is still necessary.

日本公開特許公報平02−234101号(特許文献2)および日本公開特許公報平06−18704号(特許文献3)には、多層コーティング設計によって反射光を消滅干渉させる方法が開示されている。この方法は、相の歪みなしで反射防止機能を果たすことができる。この時、反射光を消滅干渉させるためには、各層から反射される光の間に位相差があるべきであり、消滅干渉時に反射率を最小化できるように反射される光の間の波形の振幅が合わなければならない。例えば、基材上に備えられた単層反射防止コーティング層に対して入射角が0度である場合、次のような数学式を求めることができる。   Japanese Laid-Open Patent Publication No. 02-234101 (Patent Document 2) and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 06-18704 (Patent Document 3) disclose a method of causing reflected light to annihilate and interfere by multilayer coating design. This method can perform an antireflection function without phase distortion. At this time, in order to cause the reflected light to annihilate, there should be a phase difference between the light reflected from each layer, and the waveform between the reflected lights can be minimized so that the reflectance can be minimized during annihilation interference. The amplitude must match. For example, when the incident angle is 0 degree with respect to the single-layer antireflection coating layer provided on the substrate, the following mathematical formula can be obtained.

[数学式1]
os=n1 2
2n11=(m+1/2)λ(m=0、1、2、3...)
(no:空気の屈折率、ns:基材の屈折率、n1:膜の屈折率、d1:膜の厚さ、λ:入射光の波長)
通常、反射防止コーティング層の屈折率が基材の屈折率より低いほど反射防止効果が大きいが、コーティング層の耐摩耗性を考慮し、反射防止コーティング層の屈折率は基材の屈折率に対して1.3〜1.5倍程度の屈折率を有することが好ましく、この時、反射率は3%未満になる。しかし、プラスチックフィルムに反射防止コーティング層を形成する場合、ディスプレイの耐摩耗性を満足させることができないため、数マイクロン厚さのハードコーティング層が反射防止コーティング層の下方に必要となる。すなわち、消滅干渉を用いた反射防止コーティング層の場合、耐摩耗性を補強するためのハードコーティング層とその上に1層以上の反射防止コーティング層が形成される。したがって、前記多層コーティング方式は相の歪みなしで反射防止機能を有するが、多層コーティングのために製造費用が上昇するという問題点が依然として発生することになる。
[Mathematical Formula 1]
n o n s = n 1 2
2n 1 d 1 = (m + 1/2) λ (m = 0, 1, 2, 3,...)
(N o : refractive index of air, n s : refractive index of substrate, n 1 : refractive index of film, d 1 : film thickness, λ: wavelength of incident light)
Normally, the lower the refractive index of the antireflection coating layer is, the greater the antireflection effect is. However, considering the wear resistance of the coating layer, the refractive index of the antireflection coating layer is less than the refractive index of the substrate. The refractive index is preferably about 1.3 to 1.5 times. At this time, the reflectance is less than 3%. However, when the antireflection coating layer is formed on the plastic film, the abrasion resistance of the display cannot be satisfied, and therefore, a hard coating layer having a thickness of several microns is required below the antireflection coating layer. That is, in the case of an antireflection coating layer using annihilation interference, a hard coating layer for reinforcing wear resistance and one or more antireflection coating layers are formed thereon. Therefore, although the multilayer coating method has an antireflection function without phase distortion, a problem of increasing manufacturing cost due to the multilayer coating still occurs.

最近では、単層コーティング設計によって反射光を消滅干渉させる方法が提示されている。例えば、日本公開特許公報平07−168006号(特許文献4)には、超微粒子分散液を基材に塗布し、微粒子の球形状が表面に露出されるようにして、界面である空気と粒子間に屈折率の漸進的な差が発生するようにすることにより、反射防止効果を付与する方法が開示されている。しかし、このような方法は、超微粒子の形状と大きさが一定でなければならず、基材上にこの粒子が均一に分布しなければならないため、一般的なコーティング工程によっては実現し難い。また、バインダーが一定量以下で含まれないと表面に球形状を得ることができないため、耐摩耗性には非常にぜい弱な短所がある。また、コーティング厚さも微粒子の直径より薄いべきであるため、前記のような単層コーティング方法によっては耐摩耗性の実現が非常に難しい。   Recently, a method has been proposed for annihilating and interfering reflected light with a single layer coating design. For example, in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 07-168006 (Patent Document 4), an ultrafine particle dispersion is applied to a base material so that the spherical shape of the fine particles is exposed on the surface, and air and particles that are interfaces A method for providing an antireflection effect by causing a gradual difference in refractive index between the two is disclosed. However, such a method is difficult to realize by a general coating process because the shape and size of the ultrafine particles must be constant and the particles must be uniformly distributed on the substrate. Moreover, since a spherical shape cannot be obtained on the surface unless the binder is contained in a certain amount or less, there is a very weak disadvantage in wear resistance. Also, since the coating thickness should be smaller than the diameter of the fine particles, it is very difficult to achieve wear resistance by the single layer coating method as described above.

特開平11−138712号公報JP-A-11-138712 特開平02−234101号公報JP 02-234101 A 特開平06−18704号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-18704 特開平07−168006号公報JP 07-168006 A

前記のような従来の問題点を解決するために、本発明は、単一コーティング組成物を用いて1回のコーティング工程によってコーティング層を形成しても、コーティング層内の成分が相分離して反射防止機能を付与できると同時に優れた耐摩耗性も付与できるため、工程効率の向上および製造費用の節減効果を得ることができる反射防止コーティング組成物、それを用いて製造した反射防止フィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。   In order to solve the conventional problems as described above, the present invention is able to form a coating layer by a single coating process using a single coating composition. An antireflection coating composition capable of providing an antireflection function and at the same time providing excellent wear resistance, thereby improving process efficiency and reducing manufacturing costs, and an antireflection film produced using the antireflection coating composition An object is to provide a manufacturing method.

前記目的を達成するために、本発明は、屈折率が1.2〜1.45である低屈折物質および屈折率が1.46〜2である高屈折樹脂を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上である反射防止コーティング組成物を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention includes a low refractive material having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive resin having a refractive index of 1.46 to 2. Provided is an antireflection coating composition in which a refractive energy has a surface energy difference of 5 mN / m or more.

また、本発明は、
a)屈折率が1.2〜1.45である低屈折物質および屈折率が1.46〜2である高屈折樹脂を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上である反射防止コーティング組成物を準備するステップ;
b)前記コーティング組成物を基材上に塗布してコーティング層を形成するステップ;
c)前記コーティング層を乾燥して低屈折物質と高屈折物質が相分離するようにするステップ;および
d)前記乾燥されたコーティング層を硬化するステップ
を含む反射防止フィルムの製造方法を提供する。
The present invention also provides:
a) a low refractive material having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive resin having a refractive index of 1.46 to 2, the surface energy difference between the low refractive material and the high refractive material being 5 mN / m Providing an antireflective coating composition as described above;
b) applying the coating composition onto a substrate to form a coating layer;
c) drying the coating layer so that the low refractive material and the high refractive material are phase separated; and d) curing the dried coating layer.

前記反射防止コーティング組成物は、低屈折物質と高屈折物質の相分離を促進するためにフッ素系化合物またはナノ微粒子分散液をさらに含むことができる。   The anti-reflective coating composition may further include a fluorine compound or a nano-particle dispersion to promote phase separation between the low refractive material and the high refractive material.

また、本発明は、屈折率が1.2〜1.45である低屈折物質および屈折率が1.46〜2である高屈折樹脂を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上であり、前記低屈折物質と高屈折物質が厚さ方向に濃度勾配を有する単一コーティング層を含む反射防止フィルムを提供する。   The present invention also includes a low refractive material having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive resin having a refractive index of 1.46 to 2, and a difference in surface energy between the low refractive material and the high refractive material. Is an antireflective film including a single coating layer in which the low refractive material and the high refractive material have a concentration gradient in the thickness direction.

また、本発明は、a)偏光膜、b)前記偏光膜の少なくとも一面に備えられた本発明に係る反射防止フィルムを含む偏光板を提供する。   The present invention also provides a polarizing plate comprising a) a polarizing film and b) an antireflection film according to the present invention provided on at least one surface of the polarizing film.

また、本発明は、前記反射防止フィルムまたは前記偏光板を含むディスプレイ装置を提供する。   In addition, the present invention provides a display device including the antireflection film or the polarizing plate.

本発明においては、前述した反射防止コーティング組成物および反射防止フィルムの製造方法を利用することにより、単一コーティング層でありながらも反射防止機能と耐摩耗性に優れた反射防止層を含む反射防止フィルムを提供することができる。本発明に係る反射防止フィルムは、優れた耐摩耗性および低反射機能を有し、1回のコーティング工程によって製造することができるため、工程効率の向上および製造費用の節減効果を有する。   In the present invention, by using the antireflection coating composition and the method for producing an antireflection film described above, an antireflection layer including an antireflection layer having excellent antireflection function and wear resistance while being a single coating layer. A film can be provided. The antireflection film according to the present invention has excellent wear resistance and low reflection function, and can be manufactured by a single coating process. Therefore, it has an effect of improving process efficiency and reducing manufacturing cost.

実施例1による反射防止フィルムの断面を透過電子顕微鏡で観察した写真である。It is the photograph which observed the cross section of the antireflection film by Example 1 with the transmission electron microscope.

以下、本発明を詳細に説明すれば次の通りである。   Hereinafter, the present invention will be described in detail as follows.

本発明に係る反射防止コーティング組成物は、屈折率が1.2〜1.45である低屈折物質および屈折率が1.46〜2である高屈折樹脂を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上であることを特徴とする。前記反射防止コーティング組成物を用いることにより、低屈折物質と高屈折物質が、表面エネルギ差によって塗布、乾燥および硬化工程を進行する過程において相分離し得る。これにより、単一組成物による1回のコーティング工程によっても優れた反射防止機能および耐摩耗性を同時に付与することができる。   The antireflective coating composition according to the present invention includes a low refractive material having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive resin having a refractive index of 1.46 to 2, the low refractive material and the high refractive index. The surface energy difference of the substance is 5 mN / m or more. By using the anti-reflective coating composition, the low refractive material and the high refractive material can be phase-separated in the process of applying, drying and curing due to the difference in surface energy. Thereby, the antireflection function and abrasion resistance which were excellent also by the single coating process by a single composition can be provided simultaneously.

本発明において、表面エネルギとは、該当材料を硬化した時に生成された硬化物で測定した表面エネルギを意味する。   In the present invention, the surface energy means surface energy measured with a cured product generated when the corresponding material is cured.

前記低屈折物質は、コーティング後高屈折物質との表面エネルギ差によって徐々にコーティング層の上部に移動し、高屈折物質は、相対的にコーティング層の下部に位置する。このような相分離を最大限活用し、乾燥および硬化ステップで相分離された位置をある程度固着化させるために、前記低屈折物質は、常温では流動性を有し、温度に応じて徐々に硬化される熱硬化型であることが好ましい。また、前記低屈折物質は、表面エネルギが25mN/m以下であることが好ましく、5mN/m以上、25mN/m以下であることがより好ましい。   The low-refractive material gradually moves to the upper part of the coating layer due to the surface energy difference from the high-refractive material after coating, and the high-refractive material is relatively located at the lower part of the coating layer. In order to make maximum use of such phase separation and to fix the phase-separated position in the drying and curing steps to some extent, the low refractive material has fluidity at room temperature and gradually cures according to temperature. It is preferable to be a thermosetting type. Further, the low refractive material preferably has a surface energy of 25 mN / m or less, more preferably 5 mN / m or more and 25 mN / m or less.

本発明において、全体コーティング組成物100重量部に対し、低屈折物質は5〜80重量部で含まれることが好ましく、高屈折物質は10〜90重量部で含まれることが好ましい。   In the present invention, the low refractive material is preferably contained in an amount of 5 to 80 parts by weight and the high refractive material is preferably contained in an amount of 10 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total coating composition.

前記熱硬化型低屈折物質は、屈折率が1.2〜1.45である熱硬化型物質であって、例えば、ゾル−ゲル反応が可能なアルコキシシラン反応物、ウレタン反応基化合物、尿素反応基化合物、エステル化反応物などがある。   The thermosetting low refractive material is a thermosetting material having a refractive index of 1.2 to 1.45, for example, an alkoxysilane reactant, a urethane reactive group compound, a urea reaction capable of sol-gel reaction. There are basic compounds, esterification reaction products, and the like.

前記アルコキシシラン反応物とは、アルコキシシラン、フッ素系アルコキシシラン、シラン系有機置換体などを水および触媒条件下でゾル−ゲル反応によって加水分解および縮合反応を進行させて製造した反応性オリゴマーをいう。前記ゾル−ゲル反応は、本発明が属する技術分野で通常的に用いられる方法を利用することができる。前記ゾル−ゲル反応は、アルコキシシラン、フッ素系アルコキシシラン、シラン系有機置換体、触媒、水および有機溶媒を含む組成成分を反応温度0〜150℃で1〜70時間反応させて進行させることができる。この時、前記反応性オリゴマーであるアルコキシシラン反応物の平均分子量は、GPC(Gel Permeation Chromatography)を利用し、ポリスチレンを標準物質にして測定した時、1,000〜200,000が好ましい。このように製造されたアルコキシシラン反応物は、コーティング後、常温以上の温度条件下で縮合反応を進行して架橋構造の網を形成するようになる。   The alkoxysilane reactant refers to a reactive oligomer produced by subjecting alkoxysilane, fluorine-based alkoxysilane, silane-based organic substituent, or the like to hydrolysis and condensation reaction by sol-gel reaction under water and catalytic conditions. . For the sol-gel reaction, a method usually used in the technical field to which the present invention belongs can be used. The sol-gel reaction is allowed to proceed by reacting a composition component containing alkoxysilane, fluorine-based alkoxysilane, silane-based organic substituent, catalyst, water and organic solvent at a reaction temperature of 0 to 150 ° C. for 1 to 70 hours. it can. At this time, the average molecular weight of the alkoxysilane reactant, which is the reactive oligomer, is preferably 1,000 to 200,000 when measured using GPC (Gel Permeation Chromatography) and polystyrene as a standard substance. After the coating, the alkoxysilane reactant produced in this manner undergoes a condensation reaction under a temperature condition of room temperature or higher to form a network of a crosslinked structure.

前記アルコキシシランは、最外郭コーティング薄膜に一定レベルの強度を提供することができる。具体的には、前記アルコキシシラン成分としては、テトラアルコキシシラン系またはトリアルコキシシラン系を用いることができ、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびグリシドキシプロピルトリエトキシシランなどからなる群から選択された1つまたは2つ以上の物質を用いることが好ましいが、これらの例だけに限定されるものではない。   The alkoxysilane can provide a certain level of strength to the outermost coating thin film. Specifically, as the alkoxysilane component, tetraalkoxysilane or trialkoxysilane can be used, and tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, It is preferable to use one or more substances selected from the group consisting of glycidoxypropyltrimethoxysilane, glycidoxypropyltriethoxysilane, and the like, but is not limited to these examples. .

前記アルコキシシラン反応物中の基本単量体であるアルコキシシランの含量は、アルコキシシラン反応物100重量部に対して5〜50重量部が好ましい。5重量部未満である場合には耐摩耗性に十分に優れず、50重量部を超過する場合にはアルコキシシラン反応物の低屈折の実現および高屈折物質との相分離が難しい。   The content of alkoxysilane as a basic monomer in the alkoxysilane reactant is preferably 5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkoxysilane reactant. When the amount is less than 5 parts by weight, the abrasion resistance is not sufficiently excellent, and when it exceeds 50 parts by weight, it is difficult to realize low refraction of the alkoxysilane reactant and phase separation from the high refraction material.

前記フッ素系アルコキシシランは、コーティング薄膜の屈折率と表面張力を下げて高屈折物質との相分離を容易にすることができる。前記フッ素系アルコキシシランとしては、1.3〜1.4の低い屈折率と10〜15mN/mの低い表面張力を有する低屈折材料を用いることが好ましい。前記フッ素系アルコキシシランとしては、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびヘプタデカフルオロデシルトリイソプロポキシシランなどからなる群から選択された1つまたは2つ以上の物質を用いることが好ましいが、これらの例だけに限定されるものではない。   The fluorine-based alkoxysilane can lower the refractive index and surface tension of the coating thin film and facilitate phase separation from a highly refractive material. As the fluorine-based alkoxysilane, it is preferable to use a low refractive material having a low refractive index of 1.3 to 1.4 and a low surface tension of 10 to 15 mN / m. Examples of the fluorine-based alkoxysilane include one or more substances selected from the group consisting of tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriisopropoxysilane, and the like. Although it is preferable to use it, it is not limited only to these examples.

前記アルコキシシラン反応物が屈折率1.2〜1.45でありながら高屈折物質との相分離を容易に誘導するために、フッ素系アルコキシシランの含量が前記アルコキシシラン反応物100重量部に対して10〜70重量部であることが好ましい。10重量部未満である場合には低屈折の実現および高屈折物質との相分離が難しく、70重量部を超過する場合には組成物の液相安定性と耐スクラッチ性の確保が難しい。   In order to easily induce phase separation from a highly refractive material while the alkoxysilane reactant has a refractive index of 1.2 to 1.45, the content of fluorine-based alkoxysilane is 100 parts by weight of the alkoxysilane reactant. It is preferably 10 to 70 parts by weight. If it is less than 10 parts by weight, it is difficult to realize low refraction and phase separation from a highly refractive material, and if it exceeds 70 parts by weight, it is difficult to ensure the liquid phase stability and scratch resistance of the composition.

前記シラン系有機置換体は、アルコキシシランと化学的結合をすることができ、高屈折物質と反応し二重結合を形成して低屈折材料と高屈折材料の相溶性を増進させ、相分離後にはアルコキシシランと高屈折物質との界面における密着性を向上させる役割を果たす。したがって、このような役割を果たす化合物であれば特に制限されることなく用いることができる。前記シラン系有機置換体としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−n−プロポキシシラン、ビニルトリ−n−ペントキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ジフェニルエトキシビニルシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ジビニルジ(β−メトキシエトキシ)シラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ−n−プロポキシシラン、ジビニルジ(イソプロポキシ)シラン、ジビニルジ−n−ペントキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランなどからなる群から選択された1つまたは2つ以上の物質を用いることが好ましいが、これらの例だけに限定されるものではない。   The silane-based organic substitute can chemically bond with alkoxysilane, reacts with a high-refractive substance to form a double bond, promotes compatibility between the low-refractive material and the high-refractive material, and after phase separation Plays a role in improving adhesion at the interface between the alkoxysilane and the highly refractive material. Therefore, any compound that fulfills such a role can be used without particular limitation. Examples of the silane-based organic substituent include vinyltrimethoxysilane, vinyltri (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, vinyltri-n-propoxysilane, vinyltri-n-pentoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, diphenylethoxy. Vinylsilane, vinyltriisopropoxysilane, divinyldi (β-methoxyethoxy) silane, divinyldimethoxysilane, divinyldiethoxysilane, divinyldi-n-propoxysilane, divinyldi (isopropoxy) silane, divinyldi-n-pentoxysilane, 3- Acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxy Although it is preferable to use one or more substances selected from the group consisting of a run, but is not limited to these examples.

前記アルコキシシラン反応物がコーティング液状態で相溶性および安定性を維持するために、前記シラン系有機置換体の含量は、前記アルコキシシラン反応物100重量部に対して0〜50重量部であることが好ましい。50重量部を超過する場合には、低屈折の実現が難しく、高屈折物質との相分離が難しい。また、前記シラン系有機置換体が添加されない場合には、高屈折物質に対する低屈折物質の相溶性が不足してコーティング液が均一に混合されないことがある。   In order for the alkoxysilane reactant to maintain compatibility and stability in the coating liquid state, the content of the silane-based organic substituent is 0 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkoxysilane reactant. Is preferred. When the amount exceeds 50 parts by weight, it is difficult to realize low refraction, and phase separation from a highly refractive material is difficult. In addition, when the silane-based organic substitute is not added, the compatibility of the low refractive material with the high refractive material is insufficient, and the coating liquid may not be mixed uniformly.

前記ゾル−ゲル反応に用いられる触媒は、ゾル−ゲル反応時間を制御するために必要な成分である。前記触媒としては、硝酸、塩酸、および酢酸のような酸を用いることが好ましく、ジルコニウム、インジウムのような塩と共に塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩、および酢酸塩の形態のものを用いることがより好ましいが、必ずしもこれらに限定されるものではない。この時、前記触媒の含量は、前記アルコキシシラン反応物100重量部に対して0.1〜10重量部であることが好ましい。   The catalyst used in the sol-gel reaction is a necessary component for controlling the sol-gel reaction time. The catalyst is preferably an acid such as nitric acid, hydrochloric acid, and acetic acid, and more preferably in the form of hydrochloride, nitrate, sulfate, and acetate together with a salt such as zirconium or indium. However, it is not necessarily limited to these. At this time, the content of the catalyst is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkoxysilane reactant.

前記ゾル−ゲル反応に用いられる水は、加水分解反応と縮合反応のために必要な成分である。前記水の含量は、前記アルコキシシラン反応物100重量部に対して5〜50重量部であれば好ましい。   Water used for the sol-gel reaction is a necessary component for the hydrolysis reaction and the condensation reaction. The water content is preferably 5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkoxysilane reactant.

前記ゾル−ゲル反応に用いられる有機溶媒は、加水縮合物の分子量を適切に調節するための成分である。前記有機溶媒は、アルコール類、セロソルブ類、ケトン類またはこれらのうちから選択された2つ以上の混合溶媒であることが好ましい。この時、前記有機溶媒の含量は、前記アルコキシシラン反応物100重量部に対して0.1〜50重量部であれば好ましい。   The organic solvent used for the sol-gel reaction is a component for appropriately adjusting the molecular weight of the hydrolyzate. The organic solvent is preferably alcohols, cellosolves, ketones, or a mixed solvent of two or more selected from these. At this time, the content of the organic solvent is preferably 0.1 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkoxysilane reactant.

一方、前記ウレタン反応基化合物は、アルコールとイソシアネート化合物を金属触媒下で反応させて製造することができる。2つ以上の官能基を含む多官能アルコールと多官能イソシアネートおよび金属触媒を混合した組成物を常温以上の温度に置いておけば、ウレタン反応基を有する網構造を形成することができる。この時、低屈折特性の実現および高屈折物質との相分離を誘導するためにアルコールやイソシアネートにフッ素基を導入することができる。   Meanwhile, the urethane reactive group compound can be produced by reacting an alcohol and an isocyanate compound under a metal catalyst. If a composition in which a polyfunctional alcohol containing two or more functional groups is mixed with a polyfunctional isocyanate and a metal catalyst is placed at a temperature equal to or higher than normal temperature, a network structure having urethane reactive groups can be formed. At this time, a fluorine group can be introduced into alcohol or isocyanate in order to realize low refractive characteristics and induce phase separation from a highly refractive material.

前記フッ素を含む多官能アルコールの例としては1H,1H,4H,4H−ペルフルオロ−1,4−ブタンジオール、1H,1H,5H,5H−ペルフルオロ−1,5−ペンタンジオール、1H,1H,6H,6H−ペルフルオロ−1,6−ヘキサンジオール、1H,1H,8H,8H−ペルフルオロ−1,8−オクタンジオール、1H,1H,9H,9H−ペルフルオロ−1,9−ノナンジオール、1H,1H,10H,10H−ペルフルオロ−1,10−デカンジオール、1H,1H,12H,12H−ペルフルオロ−1,12−ドデカンジオール、フッ素化されたトリエチレングリコール、フッ素化されたテトラエチレングリコールなどが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   Examples of the polyfunctional alcohol containing fluorine are 1H, 1H, 4H, 4H-perfluoro-1,4-butanediol, 1H, 1H, 5H, 5H-perfluoro-1,5-pentanediol, 1H, 1H, 6H. , 6H-perfluoro-1,6-hexanediol, 1H, 1H, 8H, 8H-perfluoro-1,8-octanediol, 1H, 1H, 9H, 9H-perfluoro-1,9-nonanediol, 1H, 1H, Examples include 10H, 10H-perfluoro-1,10-decanediol, 1H, 1H, 12H, 12H-perfluoro-1,12-dodecanediol, fluorinated triethylene glycol, and fluorinated tetraethylene glycol. However, it is not necessarily limited to these.

前記ウレタン反応基化合物の製造時に用いられるイソシアネート成分としては、脂肪族イソシアネート、脂環族イソシアネート、芳香族イソシアネート、複素環族イソシアネートなどが好ましく用いられる。具体的には、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,3,3−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トルエン−2,6−ジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキサンジイソシアネートなどのようなジイソシアネートまたは3官能以上のイソシアネート、例えば、商品名DIC社のDN950、DN980などを用いることが好ましい。   As the isocyanate component used in the production of the urethane reactive group compound, aliphatic isocyanate, alicyclic isocyanate, aromatic isocyanate, heterocyclic isocyanate and the like are preferably used. Specifically, diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, 1,3,3-trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, toluene-2,6-diisocyanate, 4,4′-dicyclohexane diisocyanate, or trifunctional or higher functional isocyanates. For example, it is preferable to use DN950, DN980, etc. of brand name DIC.

本発明において、ウレタン反応基化合物を製造する時に触媒を用いることができ、触媒としてはルイス酸またはルイス塩基を用いることができる。触媒の具体的な例としては、錫オクチレート、ジブチルすずジアセテート、ジブチルすずジラウレート、ジブチルすずメルカプチド、ジブチルすずジマレート、ジメチルすずヒドロキシドおよびトリエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   In the present invention, a catalyst can be used when producing the urethane reactive group compound, and a Lewis acid or a Lewis base can be used as the catalyst. Specific examples of the catalyst include, but are not limited to, tin octylate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin mercaptide, dibutyltin dimaleate, dimethyltin hydroxide and triethylamine.

前記ウレタン反応基化合物を製造する時に用いられるイソシアネートと多官能アルコールの含量は、官能基であるNCO基とOH基のモル比(NCO/OH)が0.5〜2であることが好ましく、0.75〜1.1であることがより好ましい。これは、前記官能基のモル比が0.5未満であるか2を超過すれば、未反応の官能基が増加して膜の強度が低下する問題が発生し得る。   The content of isocyanate and polyfunctional alcohol used when producing the urethane reactive group compound is preferably such that the molar ratio of NCO group to OH group (NCO / OH) is 0.5 to 2, More preferably, it is .75 to 1.1. If the molar ratio of the functional groups is less than 0.5 or exceeds 2, there may be a problem that unreacted functional groups increase and the strength of the film decreases.

前記尿素反応基化合物は、アミン類とイソシアネート類の反応によって製造することができる。イソシアネート類はウレタン反応物の製造時に使用可能な成分と同一成分が用いられることができ、アミン類はペルフルオロ類の2官能以上のアミン類物質が用いられることができる。本発明において、必要によっては触媒を用いることができ、触媒としてはルイス酸またはルイス塩基を用いることができる。触媒の具体的な例としては、錫オクチレート、ジブチルすずジアセテート、ジブチルすずジラウレート、ジブチルすずメルカプチド、ジブチルすずジマレート、ジメチルすずヒドロキシドおよびトリエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   The urea reactive group compound can be produced by a reaction between amines and isocyanates. As the isocyanate, the same component as that which can be used in the production of the urethane reaction product can be used, and as the amine, a perfluoro-functional bifunctional or higher amine substance can be used. In the present invention, a catalyst can be used if necessary, and a Lewis acid or a Lewis base can be used as the catalyst. Specific examples of the catalyst include, but are not limited to, tin octylate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin mercaptide, dibutyltin dimaleate, dimethyltin hydroxide and triethylamine.

前記エステル化反応物は、酸とアルコールが脱水、縮合反応を経て製造される。前記エステル化反応物も、コーティング組成物中に配合すれば、架橋構造の膜を形成することができる。前記酸としてはフッ素を含む2官能以上の酸を用いることが好ましく、その例としてはペルフルオロコハク酸(perfluorosuccinic acid)、ペルフルオログルタル酸(perfluoroglutaric acid)、ペルフルオロアジピン酸(perfluoroadipic acid)、ペルフルオロスベリン酸(perfluorosuberic acid)、ペルフルオロアゼライン酸(perfluoroazelaic acid)、ペルフルオロセバシン酸(perfluorosebacic acid)、ペルフルオロラウリン酸(perfluorolauric acid)などが挙げられる。前記アルコールとしては多官能アルコールを用いることが好ましく、多官能アルコールの例としては1,4−ブタンジオール、1,2−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2,4−ヘプタンジオール、ペンタエリスリトールおよびトリメチロールプロパンなどが挙げられるが、これらだけに限定されるものではない。前記エステル化反応には硫酸などの酸触媒や、テトラブトキシチタンなどのアルコキシチタンなどを用いることができる。しかし、必ずしもこれらに限定されるものではない。   The esterification reaction product is produced through a dehydration and condensation reaction of an acid and an alcohol. If the esterification reaction product is also blended in the coating composition, a film having a crosslinked structure can be formed. As the acid, it is preferable to use a bifunctional or higher acid containing fluorine. Examples thereof include perfluorosuccinic acid, perfluoroglutaric acid, perfluoroadipic acid, and perfluorosuberic acid ( perfluorosuberic acid, perfluoroazelaic acid, perfluorosebacic acid, perfluorolauric acid, and the like. The alcohol is preferably a polyfunctional alcohol. Examples of the polyfunctional alcohol include 1,4-butanediol, 1,2-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 1, Examples include, but are not limited to, 4-cyclohexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 2,4-heptanediol, pentaerythritol, and trimethylolpropane. For the esterification reaction, an acid catalyst such as sulfuric acid or an alkoxytitanium such as tetrabutoxytitanium can be used. However, it is not necessarily limited to these.

前記高屈折物質は、屈折率が1.45〜2である樹脂であり、前記低屈折物質に比べて相対的に高い屈折率を有し、硬化時の硬化物の表面エネルギが低屈折物質の硬化時の表面エネルギと5mN/m以上差があることを特徴としており、低屈折物質の硬化時の表面エネルギより5mN/m以上大きいことが好ましい。   The high refractive material is a resin having a refractive index of 1.45 to 2, has a relatively high refractive index as compared with the low refractive material, and the surface energy of the cured product at the time of curing is a low refractive material. It is characterized by a difference of 5 mN / m or more from the surface energy at the time of curing, and preferably 5 mN / m or more larger than the surface energy at the time of curing of the low refractive material.

前記高屈折物質としては高屈折紫外線硬化型樹脂を用いることが好ましい。前記高屈折紫外線硬化型樹脂の材料は、アクリレート系樹脂、光開始剤および溶媒と、必要な場合、界面活性剤などを含むことができる。   It is preferable to use a high refractive UV curable resin as the high refractive material. The material of the high refractive UV curable resin may include an acrylate resin, a photoinitiator and a solvent, and a surfactant if necessary.

前記アクリレート系樹脂としてはアクリレートモノマー、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、エステルアクリレートオリゴマーなどが挙げられ、高屈折率を得るためには硫黄、塩素、金属などの置換基や芳香族を含有することもできる。その例としてはジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレート、トリメチレンプロパントリアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、9,9−ビス(4−(2−アクリロキシエトキシフェニル)フルオレン(屈折率1.62)、ビス(4−メタクリロキシチオフェニル)スルフィド(屈折率1.689)、ビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド(屈折率1.695)などが挙げられ、これらを1種または2種以上混合して用いることができる。   Examples of the acrylate resins include acrylate monomers, urethane acrylate oligomers, epoxy acrylate oligomers, and ester acrylate oligomers. In order to obtain a high refractive index, they may contain substituents such as sulfur, chlorine, metal, and aromatics. it can. Examples thereof include dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tri / tetraacrylate, trimethylenepropane triacrylate, ethylene glycol diacrylate, 9,9-bis (4- (2-acryloxyethoxyphenyl) fluorene (refractive index 1. 62), bis (4-methacryloxythiophenyl) sulfide (refractive index 1.589), bis (4-vinylthiophenyl) sulfide (refractive index 1.695), and the like. It can be used by mixing.

前記アクリレート系樹脂の含量は、前記高屈折物質100重量部に対して10〜80重量部であれば好ましい。この含量が10重量部未満である場合には、コーティング膜の耐スクラッチ性、耐摩耗性が低下し、コーティング液の粘度がコーティング機と基材に転写しないほど過度に低くなる問題点があり、80重量部を超過する場合には、コーティング液の粘度が高くなって低屈折物質との相分離が難しく、コーティング膜の平坦度およびコーティング性が悪くなるなどの問題点がある。   The content of the acrylate resin is preferably 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the highly refractive material. When this content is less than 10 parts by weight, there is a problem that the scratch resistance and abrasion resistance of the coating film are lowered, and the viscosity of the coating solution becomes excessively low so as not to be transferred to the coating machine and the substrate. When the amount exceeds 80 parts by weight, there are problems that the viscosity of the coating liquid becomes high and phase separation from a low refractive material is difficult, and the flatness and coating properties of the coating film are deteriorated.

前記光開始剤としては紫外線に分解可能な化合物を用いることが好ましく、その例としては1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシジメチルアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテルなどが挙げられる。   As the photoinitiator, a compound decomposable into ultraviolet rays is preferably used. Examples thereof include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyl dimethyl ketal, hydroxydimethylacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether. And benzoin butyl ether.

前記光開始剤の含量は、高屈折物質100重量部に対して1〜20重量部で含まれることが好ましい。この含量が1重量部未満である場合には未硬化が発生し得るし、20重量部を超過する場合にはコーティング膜の耐スクラッチ性、耐摩耗性が低下し得る。   The content of the photoinitiator is preferably 1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the highly refractive material. When this content is less than 1 part by weight, uncured can occur, and when it exceeds 20 parts by weight, the scratch resistance and wear resistance of the coating film can be reduced.

前記溶媒としてはアルコール類、アセテート類、ケトン類、または芳香族溶媒などを用いることができる。具体的には、メタノール、エタノール、イソフロピルアルコール、ブタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−イソプロポキシエタノール、メチルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、またはベンゼンなどを用いることができるが、これらだけに限定されるものではない。   As the solvent, alcohols, acetates, ketones, or aromatic solvents can be used. Specifically, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-isopropoxyethanol, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl Ketone, cyclohexane, cyclohexanone, toluene, xylene, benzene, or the like can be used, but is not limited thereto.

前記溶媒の含量は、高屈折物質100重量部に対して10〜90重量部で含まれることが好ましい。この含量が10重量部未満である場合には、コーティング液の粘度が高くなって低屈折物質との相分離が難しく、コーティング膜の平坦度が悪くなるなどの問題点があり、90重量部を超過する場合には、コーティング膜の耐スクラッチ性および耐摩耗性が低下し、コーティング液の粘度がコーティング機と基材に転写しないほど過度に低くなる問題点がある。   The content of the solvent is preferably 10 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the high refractive material. When this content is less than 10 parts by weight, there is a problem that the viscosity of the coating liquid is high, phase separation from a low refractive material is difficult, and the flatness of the coating film is deteriorated. When exceeding, there is a problem that the scratch resistance and abrasion resistance of the coating film are lowered, and the viscosity of the coating liquid becomes excessively low so as not to be transferred to the coating machine and the substrate.

前記高屈折紫外線硬化型樹脂は界面活性剤を含むことができる。前記界面活性剤はレベリング剤または湿潤剤などが用いられることができ、特にフッ素系またはポリシロキサン系化合物を用いることが好ましいが、これらだけに限定されるものではない。   The high refractive UV curable resin may include a surfactant. As the surfactant, a leveling agent, a wetting agent, or the like can be used. In particular, a fluorine-based or polysiloxane-based compound is preferably used, but is not limited thereto.

前記界面活性剤の含量は、高屈折物質100重量部に対して最大5重量部で含まれることが好ましい。この含量が5重量部を超過する場合には、低屈折物質との相分離効率が低下し、基材との付着性、コーティング膜の耐スクラッチ性および耐摩耗性が低下する問題点がある。前記界面活性剤は、高屈折物質100重量部に対して0.05以上添加することが、この添加による効果を十分に発揮するのに好ましい。   The content of the surfactant is preferably 5 parts by weight at the maximum with respect to 100 parts by weight of the highly refractive material. When this content exceeds 5 parts by weight, there is a problem that the phase separation efficiency with the low refractive material is lowered, and the adhesion to the substrate, the scratch resistance and the wear resistance of the coating film are lowered. The surfactant is preferably added in an amount of 0.05 or more with respect to 100 parts by weight of the high refractive material in order to sufficiently exhibit the effect of this addition.

前述した低屈折物質と高屈折物質は、相互間の乾燥、硬化後屈折率差が0.01以上になることが好ましく、この場合、単一コーティング層が機能的に2層以上からなるGRIN(gradient refractive index)構造を形成することによって反射防止効果を得ることができる。この時、低屈折物質の硬化時の表面エネルギが25mN/m以下であり、低屈折物質と高屈折物質との間の表面エネルギ差が5mN/m以上でないと相分離が効果的に行われない。   The aforementioned low refractive material and high refractive material preferably have a refractive index difference of 0.01 or more after drying and curing between them. In this case, a single coating layer is functionally composed of two or more GRIN ( An antireflection effect can be obtained by forming a gradient refractive index) structure. At this time, the surface energy during curing of the low refractive material is 25 mN / m or less, and the phase separation is not effectively performed unless the surface energy difference between the low refractive material and the high refractive material is 5 mN / m or more. .

本発明に係る反射防止コーティング組成物は、フッ素系化合物およびナノ微粒子分散液のうちの少なくとも1つをさらに含むことができる。これらは低屈折樹脂と高屈折樹脂との間の相分離を促進し得る。   The antireflection coating composition according to the present invention may further include at least one of a fluorine-based compound and a nanoparticle dispersion. These can promote phase separation between the low refractive resin and the high refractive resin.

前記フッ素系化合物は、屈折率が1.5以下であり、分子量が低屈折物質の分子量より小さく、表面エネルギが高屈折物質と低屈折物質の表面エネルギの間にあることが好ましい。前記フッ素系化合物は、全体コーティング組成物100重量部に対して0.05〜72重量部で含まれることが好ましい。   The fluorine-based compound preferably has a refractive index of 1.5 or less, a molecular weight smaller than that of the low refractive material, and a surface energy between the surface energy of the high refractive material and the low refractive material. The fluorine-based compound is preferably included in an amount of 0.05 to 72 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the entire coating composition.

前記フッ素系化合物としては、フッ素系アルコキシシラン、フッ素系アルコール、フッ素系イソシアネート、フッ素系アミン類、フッ素を含む2官能以上の酸などのように前記低屈折熱硬化型樹脂として例示したフッ素系化合物、下記化学式1〜5で示され、置換基としてC1−C6の直鎖もしくは分枝鎖の炭化水素基をさらに有し得る1つまたは2つ以上のフッ素系アクリレート類、フッ素成分を含有するレベリング剤、分散剤、表面改質剤、湿潤剤、脱泡剤、相溶化剤などのような各種フッ素系添加剤およびフッ素系溶媒などからなる群から選択された1つまたは2つ以上の物質が好ましく用いられる。 Examples of the fluorine compounds include fluorine-based alkoxysilanes, fluorine-based alcohols, fluorine-based isocyanates, fluorine-based amines, and fluorine-containing compounds exemplified as the low refractive thermosetting resin such as fluorine-containing bifunctional or higher acid. , is represented by the following chemical formula 1-5, containing one or more fluorine-based acrylates, fluorine component may further include a straight or branched chain hydrocarbon radical of C 1 -C 6 as a substituent One or more selected from the group consisting of various fluorine-based additives such as leveling agents, dispersants, surface modifiers, wetting agents, defoaming agents, compatibilizers, and fluorine-based solvents Substances are preferably used.

前記化学式1において、R1は−HまたはC1−C6の炭化水素基であり、aは0〜4の整数であり、bは1〜3の整数である。前記C1−C6の炭化水素基はメチル基(−CH3)であることが好ましい。 In Formula 1, R 1 is —H or a C 1 -C 6 hydrocarbon group, a is an integer of 0 to 4, and b is an integer of 1 to 3. It is preferred hydrocarbon groups of the C 1 -C 6 is a methyl group (-CH 3).

前記化学式2において、cは1〜10の整数である。 In Chemical Formula 2, c is an integer of 1-10.

前記化学式3において、dは1〜9の整数である。 In Chemical Formula 3, d is an integer of 1-9.

前記化学式4において、eは1〜5の整数である。 In Formula 4, e is an integer of 1 to 5.

前記化学式5において、fは4〜10の整数である。 In Formula 5, f is an integer of 4 to 10.

前記フッ素系化合物は、コーティング膜の低反射特性、コーティング膜の強度およびディスプレイ基材との付着性を維持する範囲内で用いることが好ましく、具体的には、前記低屈折物質100重量部に対して1〜90重量部の含量で用いることが好ましい。   The fluorine-based compound is preferably used within a range that maintains the low reflection characteristics of the coating film, the strength of the coating film, and the adhesion to the display substrate, and specifically, with respect to 100 parts by weight of the low refractive material. It is preferable to use at a content of 1 to 90 parts by weight.

前記ナノ微粒子分散液は、可視光線の散乱および拡散なしで透明なフィルムを得るために、平均粒子大きさが1,000nm以下、好ましくは1〜200nm、より好ましくは2〜100nm以下であるナノ微粒子を含むことが好ましい。前記ナノ微粒子分散液は、屈折率が1.45以下であることが好ましい。前記ナノ微粒子分散液は、分散性強化用キレート剤、フッ素系アクリレート、溶媒などをさらに含むことができる。前記ナノ微粒子分散液は、全体コーティング組成物100重量部に対して2〜27重量部で含まれることが好ましい。   The nanoparticulate dispersion is a nanoparticulate having an average particle size of 1,000 nm or less, preferably 1 to 200 nm, more preferably 2 to 100 nm or less in order to obtain a transparent film without scattering and diffusion of visible light. It is preferable to contain. The nanoparticle dispersion preferably has a refractive index of 1.45 or less. The nanoparticle dispersion may further include a dispersibility enhancing chelating agent, a fluorine-based acrylate, a solvent, and the like. The nano fine particle dispersion is preferably included in an amount of 2 to 27 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the entire coating composition.

前記ナノ微粒子としては金属フッ化物、その他の有無機中空および多孔性微粒子などがある。具体的には、金属フッ化物は、平均粒子大きさが10〜100nmである微粒子であり、NaF、LiF、AlF3、Na5Al314、Na3AlF6、MgF2、NaMgF3およびYF3などからなる群から選択された1つまたは2つ以上の物質を用いることができる。 Examples of the nano fine particles include metal fluoride, other hollow hollow and porous fine particles. Specifically, the metal fluoride is a fine particle having an average particle size of 10 to 100 nm and is NaF, LiF, AlF 3 , Na 5 Al 3 F 14 , Na 3 AlF 6 , MgF 2 , NaMgF 3 and YF. One or more substances selected from the group consisting of 3 and the like can be used.

前記ナノ微粒子は、コーティング膜の低反射特性、コーティング膜の強度およびディスプレイ基材との付着性を維持する範囲内で用いることが好ましい。前記ナノ微粒子の含量は、分散液100重量部に対して5重量部〜70重量部で含まれることが好ましい。   The nanoparticles are preferably used within a range that maintains the low reflection characteristics of the coating film, the strength of the coating film, and the adhesion to the display substrate. The nano-particle content is preferably 5 to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dispersion.

前記分散性強化用キレート剤は、前記高屈折物質および低屈折物質と前記ナノ微粒子間の相溶性を付与してコーティング膜の形成時にナノ微粒子が容易に固まってしまうことを防止し、コーティング膜が霞むといった問題を解決するために用いられる成分であって、液相が好ましく、必要に応じて添加することができる。前記分散性強化用キレート剤としては、Mg(CF3COO)2、Na(CF3COO)、K(CF3COO)、Ca(CF3COO)2、Mg(CF2COCHCOCF32、Na(CF2COCHCOCF3)、Zr(AcAc)、Zn(AcAc)、Ti(AcAc)、およびAl(AcAc)などからなる群から選択された1つまたは2つ以上の物質を用いることが好ましい。ここで、AcAcはアセチルアセトン(acetyl acetone)である。 The dispersibility-enhancing chelating agent imparts compatibility between the high-refractive substance and the low-refractive substance and the nanoparticulate to prevent the nanoparticulate from easily solidifying during the formation of the coating film. It is a component used to solve the problem of stagnation, preferably in a liquid phase, and can be added as necessary. Examples of the dispersibility enhancing chelating agent include Mg (CF 3 COO) 2 , Na (CF 3 COO), K (CF 3 COO), Ca (CF 3 COO) 2 , Mg (CF 2 COCHCOCF 3 ) 2 , Na It is preferable to use one or more substances selected from the group consisting of (CF 2 COCHCOCF 3 ), Zr (AcAc), Zn (AcAc), Ti (AcAc), and Al (AcAc). Here, AcAc is acetylacetone.

また、溶媒としてはDAA、AcAc、セロソルブ類などを用いることが好ましいが、これらだけに限定されるものではない。   Moreover, as a solvent, it is preferable to use DAA, AcAc, cellosolve, etc., However, It is not limited only to these.

前記分散性強化用キレート剤は、ナノ微粒子の分散性とコーティング膜の強度およびディスプレイ基材との付着性を維持する範囲内で用いることが好ましい。具体的には、前記ナノ微粒子分散液100重量部に対して10〜80重量部で用いることが好ましい。   The dispersibility enhancing chelating agent is preferably used within a range that maintains the dispersibility of the nanoparticles, the strength of the coating film, and the adhesion to the display substrate. Specifically, it is preferable to use 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the nano fine particle dispersion.

前記フッ素系アクリレートは前記高屈折物質および低屈折物質との相溶性および化学的結合を通じた膜強度を付与するために用いられており、前記化学式1〜5で示され、置換基としてC1−C6の炭化水素基をさらに有し得る化合物からなる群から選択された1つまたは2つ以上の物質が用いられる。前記フッ素系アクリレートの含量は、前記ナノ微粒子分散液100重量部に対して80重量部以下であることが好ましい。 The fluorine-based acrylate is used to impart film strength through the compatibility and chemical bonds between the high refractive material and a low refractive material is represented by Formula 1 to 5, C 1 - as a substituent One or more substances selected from the group consisting of compounds that may further have a C 6 hydrocarbon group are used. The content of the fluorinated acrylate is preferably 80 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the nanoparticulate dispersion.

前記ナノ微粒子分散液の溶媒としてはアルコール類、アセテート類、ケトン類、または芳香族溶媒などを用いることができ、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−イソプロポキシエタノール、メチルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、またはベンゼンなどを用いることができる。前記溶媒の含量は、前記ナノ微粒子分散液100重量部に対して10〜90重量部で含まれることが好ましい。   Alcohols, acetates, ketones, or aromatic solvents can be used as the solvent of the nanoparticle dispersion liquid. Specifically, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 2-methoxyethanol, 2-methoxyethanol, Ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-isopropoxyethanol, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexane, cyclohexanone, toluene, xylene, benzene, or the like can be used. The content of the solvent is preferably 10 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the nanoparticle dispersion.

本発明は、前述した反射防止コーティング組成物を用いて製造した反射防止フィルムおよびその製造方法を提供する。   The present invention provides an antireflection film manufactured using the above-described antireflection coating composition and a method for manufacturing the same.

本発明に係る反射防止フィルムの製造方法は、a)前述した反射防止コーティング組成物を準備するステップ;b)前記コーティング組成物を基材上に塗布してコーティング層を形成するステップ;c)前記コーティング層を乾燥して低屈折物質と高屈折物質が相分離するようにするステップ;およびd)前記乾燥されたコーティング層を硬化するステップを含む。   The method for producing an antireflection film according to the present invention comprises: a) preparing the above-described antireflection coating composition; b) applying the coating composition on a substrate to form a coating layer; c) Drying the coating layer to phase separate the low refractive material and the high refractive material; and d) curing the dried coating layer.

前記b)ステップにおける基材としてはガラス、プラスチックシートおよびフィルムなどを用いることができ、厚さの制限はない。プラスチックフィルムの種類としてはトリアセテートセルロースフィルム、ノルボルネン系シクロオレフィンポリマー、ポリエステルフィルム、ポリメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルムなどが挙げられるが、これらの例だけに限定されるものではない。   As the base material in the step b), glass, plastic sheet and film can be used, and the thickness is not limited. Examples of the plastic film include triacetate cellulose film, norbornene-based cycloolefin polymer, polyester film, polymethacrylate film, polycarbonate film, and the like, but are not limited to these examples.

前記b)ステップにおけるコーティング組成物のコーティング方法は主にバーコーティング、2ロールまたは3ロールリバースコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、マイクログラビアコーティング、コンマコーティングなどのように様々な方法のうちから採択することができ、これは、基材の種類およびコーティング液の液相やレオロジー特性により自由に選択することができる。   The coating method of the coating composition in the step b) is mainly selected from various methods such as bar coating, 2-roll or 3-roll reverse coating, gravure coating, die coating, micro gravure coating, and comma coating. This can be freely selected according to the type of substrate and the liquid phase and rheological properties of the coating liquid.

コーティング厚さは、特に限定されず、0.5〜30μmであることが好ましい。コーティング後、溶媒乾燥のための乾燥工程を経る。前記コーティング物の乾燥厚さは、0.5μm未満である場合には、耐摩耗性が充分ではなく、30μmを超過する場合には、低屈折物質と高屈折物質の相分離が円滑ではないために満足できるほどの反射度結果を得ることができない。   The coating thickness is not particularly limited, and is preferably 0.5 to 30 μm. After coating, a drying process for solvent drying is performed. When the dry thickness of the coating is less than 0.5 μm, the abrasion resistance is not sufficient, and when it exceeds 30 μm, the phase separation between the low refractive material and the high refractive material is not smooth. It is not possible to obtain a reflectivity result sufficient to satisfy

前記c)ステップにおける乾燥は、コーティング組成物中の有機溶剤が揮発し、低屈折物質がコーティング層の上部に位置して徐々に硬化されるように40〜150℃で0.1〜30分間行われる。乾燥温度が40℃未満である場合には、有機溶剤の揮発が不足して紫外線硬化時の硬化度が低下し得るし、150℃を超過する場合には、低屈折物質がコーティング層の上部に位置する前に硬化がなされる心配がある。   The drying in the step c) is performed at 40 to 150 ° C. for 0.1 to 30 minutes so that the organic solvent in the coating composition is volatilized and the low refractive material is gradually cured by being positioned on the coating layer. Is called. When the drying temperature is less than 40 ° C., the organic solvent may be insufficiently vaporized and the degree of curing during UV curing may decrease. When the drying temperature exceeds 150 ° C., a low-refractive material is formed on the coating layer. There is a concern that curing will occur before it is positioned.

前記d)ステップにおける硬化は、用いられた樹脂の種類に応じて紫外線または熱によって遂行することができる。熱硬化型樹脂と紫外線硬化型樹脂を全て用いる場合、紫外線硬化を先に遂行し、熱硬化を後ほど遂行することが好ましい。   Curing in the step d) can be performed by ultraviolet rays or heat depending on the type of resin used. When all of the thermosetting resin and the ultraviolet curable resin are used, it is preferable that the ultraviolet curing is performed first and the thermal curing is performed later.

前記紫外線硬化は、紫外線照射量0.01〜2J/cm2で1〜600秒間紫外線を照射することによって遂行することができる。これにより、コーティング層が十分な耐摩耗性を有し得る。紫外線照射量が前記範囲に達しない場合には、未硬化した樹脂がコーティング層に残って表面に粘り気があって耐摩耗性が良くなく、前記範囲を超過する場合には、紫外線硬化型樹脂の硬化度が高すぎて、次に行われる熱硬化ステップにおいて熱硬化型樹脂の硬化を妨害し得る。 The ultraviolet curing can be performed by irradiating ultraviolet rays for 1 to 600 seconds at an ultraviolet irradiation amount of 0.01 to 2 J / cm 2 . Thereby, the coating layer may have sufficient abrasion resistance. When the amount of UV irradiation does not reach the above range, the uncured resin remains in the coating layer and the surface is sticky and wear resistance is not good. The degree of cure is too high and may hinder the curing of the thermosetting resin in the subsequent thermosetting step.

前記熱硬化は20〜200℃の温度で1〜72時間行うことができる。硬化温度が20℃未満である場合には、熱硬化速度が遅くて熱硬化時間が過度に長くなり、200℃を超過した場合には、コーティング基材の安定性が危険であるという問題がある。硬化時間は温度に応じて1〜72時間にするが、コーティング層の耐スクラッチ性を最大に上げるために熱硬化型樹脂の硬化が十分に行われるようにすることが好ましい。   The thermosetting can be performed at a temperature of 20 to 200 ° C. for 1 to 72 hours. When the curing temperature is less than 20 ° C, the thermal curing rate is slow and the heat curing time becomes excessively long. When the curing temperature exceeds 200 ° C, the stability of the coating substrate is dangerous. . The curing time is 1 to 72 hours depending on the temperature, but it is preferable that the thermosetting resin is sufficiently cured in order to maximize the scratch resistance of the coating layer.

前述した反射防止コーティング組成物を用いて製造した本発明に係る反射防止フィルムは、屈折率が1.2〜1.45である低屈折樹脂および屈折率が1.46〜2である高屈折物質を含み、好ましくは、フッ素系化合物およびナノ微粒子分散液のうちの少なくとも1つをさらに含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上であり、前記低屈折物質と高屈折物質が厚さ方向に濃度勾配を有する単一コーティング層を含む。前記反射防止フィルムは、前記コーティング層の一面に備えられた基材をさらに含むことができる。   The antireflection film according to the present invention manufactured using the antireflection coating composition described above includes a low refractive resin having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive material having a refractive index of 1.46 to 2. Preferably, it further includes at least one of a fluorine-based compound and a nano-particle dispersion liquid, and a surface energy difference between the low refractive material and the high refractive material is 5 mN / m or more, The refractive material includes a single coating layer having a concentration gradient in the thickness direction. The antireflection film may further include a substrate provided on one surface of the coating layer.

前記反射防止フィルムにおいて、前記コーティング層の空気と接する面から厚さ方向に50%に該当する領域に含まれる低屈折物質は、低屈折物質総重量に対して70%以上が好ましく、85%以上がより好ましく、95%以上がさらに好ましい。本発明に係る反射防止フィルムは反射率が3%未満で優れた反射防止効果を示す。   In the antireflection film, the low refractive material contained in the region corresponding to 50% in the thickness direction from the surface of the coating layer in contact with air is preferably 70% or more, and 85% or more with respect to the total weight of the low refractive material. Is more preferable, and 95% or more is more preferable. The antireflection film according to the present invention exhibits an excellent antireflection effect when the reflectance is less than 3%.

また、本発明は、前述した本発明に係る反射防止フィルムを含む偏光板を提供する。具体的には、本発明に係る偏光板は、a)偏光膜、b)前記偏光膜の少なくとも一面に備えられた本発明に係る反射防止フィルムを含む。前記偏光膜と反射防止フィルムとの間には保護フィルムが備えられてもよい。また、前記保護フィルムは、前記反射防止フィルムの製造時、単一コーティング層を形成するための基材がそのまま用いられてもよい。前記偏光膜と前記反射防止フィルムは接着剤によって貼り合わせることができる。前記偏光膜としては当技術分野に知られているものを用いることができる。   Moreover, this invention provides the polarizing plate containing the antireflection film which concerns on this invention mentioned above. Specifically, the polarizing plate according to the present invention includes a) a polarizing film, and b) an antireflection film according to the present invention provided on at least one surface of the polarizing film. A protective film may be provided between the polarizing film and the antireflection film. Moreover, the said protective film WHEREIN: The base material for forming a single coating layer may be used as it is at the time of manufacture of the said antireflection film. The polarizing film and the antireflection film can be bonded together with an adhesive. As the polarizing film, those known in the art can be used.

本発明は、前記反射防止フィルムまたは偏光板を含むディスプレイ装置を提供する。前記ディスプレイ装置は、液晶表示装置やプラズマディスプレイ装置であってもよい。本発明に係るディスプレイ装置は、本発明に係る反射防止フィルムが備えられていることを除いては当技術分野に知られている構造を有してもよい。例えば、本発明に係るディスプレイ装置において、前記反射防止フィルムは、ディスプレイパネルの観測者側またはバックライト側の最外郭表面に備えられてもよい。また、本発明に係るディスプレイ装置は、ディスプレイパネル、前記パネルの少なくとも一面に備えられた偏光膜および前記偏光膜のパネルと接する反対側面に備えられた反射防止フィルムを含むことができる。   The present invention provides a display device including the antireflection film or the polarizing plate. The display device may be a liquid crystal display device or a plasma display device. The display device according to the present invention may have a structure known in the art except that the antireflection film according to the present invention is provided. For example, in the display device according to the present invention, the antireflection film may be provided on the outermost surface on the observer side or the backlight side of the display panel. The display device according to the present invention may include a display panel, a polarizing film provided on at least one surface of the panel, and an antireflection film provided on an opposite side surface in contact with the panel of the polarizing film.

以下、本発明の理解を助けるために好ましい実施例を提示するが、下記実施例は本発明を例示するだけのものに過ぎず、本発明の範囲が下記実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, preferred examples are presented to help understanding of the present invention, but the following examples are merely illustrative of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

製造例
<熱硬化型低屈折物質(物質A)の準備>
イソシアネート官能基の数が平均3個であるDN980(DIC社の商品名)15.3重量部、フッ素を含有する2官能アルコールとして1H,1H,12H,12H−ペルフルオロ−1,12−ドデカンジオール14重量部、金属触媒としてジブチルすずジラウレート0.7重量部、溶媒としてジアセトンアルコール(DAA)とメチルエチルケトン(MEK)各々35重量部を均一に混合して、低屈折物質を溶液相として準備した。
Production Example <Preparation of Thermosetting Low Refractive Material (Material A)>
15.3 parts by weight of DN980 having a mean number of isocyanate functional groups of 3 (trade name of DIC), 1H, 1H, 12H, 12H-perfluoro-1,12-dodecanediol 14 as a bifunctional alcohol containing fluorine Part by weight, 0.7 parts by weight of dibutyltin dilaurate as a metal catalyst, and 35 parts by weight of diacetone alcohol (DAA) and methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent were uniformly mixed to prepare a low refractive material as a solution phase.

<熱硬化型低屈折物質(物質B)の準備>
テトラエトキシシラン10重量部、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン30重量部、メタアクリルトリメトキシシラン20重量部、水10重量部、塩酸0.5重量部、エタノール40重量部、2−ブタノール40重量部の混合物を常温で12時間ゾル−ゲル反応させて、熱硬化型低屈折物質を溶液相として準備した。
<Preparation of Thermosetting Low Refractive Material (Material B)>
10 parts by weight of tetraethoxysilane, 30 parts by weight of heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, 20 parts by weight of methacryltrimethoxysilane, 10 parts by weight of water, 0.5 part by weight of hydrochloric acid, 40 parts by weight of ethanol, 40 parts by weight of 2-butanol The mixture was subjected to a sol-gel reaction at room temperature for 12 hours to prepare a thermosetting low refractive material as a solution phase.

<熱硬化型低屈折物質(物質C)の準備>
フルオロアルキルメトキシシラン25重量部、テトラエトキシシラン20重量部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン7重量部、水7.5重量部、硝酸0.5重量部、メタノール20重量部および2−ブチルアルコール20重量部の混合物を常温で24時間ゾル−ゲル反応させて、低屈折熱硬化型材料の溶液を組成した。
<Preparation of Thermosetting Low Refractive Material (Material C)>
25 parts by weight of fluoroalkylmethoxysilane, 20 parts by weight of tetraethoxysilane, 7 parts by weight of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 7.5 parts by weight of water, 0.5 parts by weight of nitric acid, 20 parts by weight of methanol and 2-butyl alcohol 20 parts by weight of the mixture was subjected to a sol-gel reaction at room temperature for 24 hours to form a solution of a low refractive thermosetting material.

<熱硬化型低屈折物質(物質D)の準備>
フルオロアルキルメトキシシラン15重量部、テトラエトキシシラン25重量部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン12重量部、水7.5重量部、硝酸0.5重量部、メタノール20重量部および2−ブチルアルコール20重量部の混合物を常温で24時間ゾル−ゲル反応させて、低屈折熱硬化型材料の溶液を組成した。
<Preparation of Thermosetting Low Refractive Material (Material D)>
15 parts by weight of fluoroalkylmethoxysilane, 25 parts by weight of tetraethoxysilane, 12 parts by weight of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 7.5 parts by weight of water, 0.5 parts by weight of nitric acid, 20 parts by weight of methanol and 2-butyl alcohol 20 parts by weight of the mixture was subjected to a sol-gel reaction at room temperature for 24 hours to form a solution of a low refractive thermosetting material.

<紫外線硬化型高屈折物質(物質E)の準備>
コーティング膜の膜強度を付与する多官能アクリレートとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)28重量部、紫外線開始剤であるDarocur 1173を2重量部、溶媒としてジアセトンアルコール(DAA)とメチルエチルケトン(MEK)各々35重量部を均一に混合して、紫外線硬化型高屈折物質を溶液相として準備した。
<Preparation of UV-curable high refractive material (Substance E)>
28 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) as a polyfunctional acrylate imparting film strength of the coating film, 2 parts by weight of Darocur 1173 as an ultraviolet initiator, and diacetone alcohol (DAA) and methyl ethyl ketone (MEK) as solvents 35 parts by weight were uniformly mixed to prepare a UV-curable high refractive material as a solution phase.

<紫外線硬化型高屈折物質(物質F)の準備>
コーティング膜の膜強度を付与する多官能アクリレートとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)30重量部、紫外線開始剤であるDarocur 1173を1重量部、溶媒としてエタノール20重量部、n−ブチルアルコール29重量部およびアセチルアセトン(AcAc)20重量部を均一に混合して、高屈折紫外線硬化型材料の溶液を組成した。
<Preparation of UV-curable high refractive material (Substance F)>
30 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) as a polyfunctional acrylate imparting film strength of the coating film, 1 part by weight of Darocur 1173 as an ultraviolet initiator, 20 parts by weight of ethanol as a solvent, 29 parts by weight of n-butyl alcohol And 20 parts by weight of acetylacetone (AcAc) were uniformly mixed to form a solution of a high refractive UV curable material.

<熱硬化型低屈折物質(物質G)の準備>
フルオロアルキルエトキシシラン5重量部、テトラメトキシシラン37重量部、ビニルトリメトキシシラン10重量部、水7.5重量部、硝酸0.5重量部、メタノール40重量部の混合物を常温で24時間ゾル−ゲル反応させて、低屈折熱硬化型材料の溶液を組成した。
<Preparation of Thermosetting Low Refractive Material (Material G)>
A mixture of 5 parts by weight of fluoroalkylethoxysilane, 37 parts by weight of tetramethoxysilane, 10 parts by weight of vinyltrimethoxysilane, 7.5 parts by weight of water, 0.5 parts by weight of nitric acid, and 40 parts by weight of methanol is dissolved at room temperature for 24 hours. A gel reaction was performed to form a solution of a low refractive thermosetting material.

<紫外線硬化型高屈折物質(物質H)の準備>
コーティング膜の膜強度を付与する多官能アクリレートとしてペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレート20重量部、トリメチレンプロパントリアクリレート10重量部、紫外線開始剤であるDarocur 1173を1重量部、界面活性剤であるBYK 333を5重量部、BYK371を4重量部、溶媒としてエタノール20重量部、n−ブチルアルコール20重量部およびメチルエチルケトン(MEK)20重量部を均一に混合して、高屈折紫外線硬化型材料の溶液を組成した。
<Preparation of UV curable high refractive material (Material H)>
As polyfunctional acrylate for imparting film strength of the coating film, 20 parts by weight of pentaerythritol tri / tetraacrylate, 10 parts by weight of trimethylenepropane triacrylate, 1 part by weight of Darocur 1173 which is an ultraviolet initiator, and BYK 333 which is a surfactant. 5 parts by weight, 4 parts by weight of BYK371, 20 parts by weight of ethanol as a solvent, 20 parts by weight of n-butyl alcohol and 20 parts by weight of methyl ethyl ketone (MEK) are uniformly mixed to form a solution of a high refractive UV curable material. did.

熱硬化型低屈折物質である物質A 30重量部と紫外線硬化型高屈折物質である物質E 70重量部を均一に混合して、反射防止コーティング組成物を準備した。   An anti-reflective coating composition was prepared by uniformly mixing 30 parts by weight of substance A, which is a thermosetting low-refractive substance, and 70 parts by weight of substance E, which is an ultraviolet-curable high-refractive substance.

前記準備した組成物を80μm厚さのトリアセテートセルロースフィルムにワイヤーバー(5号)でコーティングした。これを60℃オーブンで2分間乾燥し、1J/cm2のUVエネルギで紫外線硬化した後、120℃オーブンに1日間放置して最終熱硬化した。最終コーティング層の厚さは1μm程度であり、その断面を透過電子顕微鏡で観察した写真を図1に示す。 The prepared composition was coated on a triacetate cellulose film having a thickness of 80 μm with a wire bar (No. 5). This was dried in a 60 ° C. oven for 2 minutes, UV cured with 1 J / cm 2 of UV energy, and then left in a 120 ° C. oven for 1 day for final heat curing. The thickness of the final coating layer is about 1 μm, and a photograph of the cross section observed with a transmission electron microscope is shown in FIG.

図1を参照すれば、基材上に高屈折物質層と低屈折物質層が鮮明に分離し、層状構造を有して形成されていることを確認することができる。このような屈折率が互いに異なる物質が層状構造で形成されていれば、単層の場合に比べてより効果的な反射率を実現することができる。   Referring to FIG. 1, it can be confirmed that the high refractive material layer and the low refractive material layer are clearly separated on the substrate and have a layered structure. If such materials having different refractive indexes are formed in a layered structure, a more effective reflectivity can be realized as compared with the case of a single layer.

熱硬化型低屈折物質として物質Aの代わりに物質Bを用いたことを除いては実施例1と同じ方法によって実施した。   The same method as in Example 1 was performed except that the material B was used instead of the material A as the thermosetting low refractive material.

熱硬化型低屈折物質として物質C 25重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 75重量部を均一に混合して相溶性のある混合液を組成し、コーティング組成物を準備した。   25 parts by weight of the substance C as a thermosetting low-refractive substance and 75 parts by weight of the substance F as an ultraviolet curable high-refractive substance were uniformly mixed to form a compatible mixed solution to prepare a coating composition.

前記製造したコーティング液を80μm厚さのトリアセテートセルロースフィルムにワイヤーバー(5号)でコーティングした。これを120℃オーブンで2分間乾燥し、200mJ/cm2のUVエネルギで紫外線硬化した後、120℃オーブンに1日間放置して最終熱硬化した。コーティングフィルムの厚さは1μm程度である。 The prepared coating solution was coated on a 80 μm thick triacetate cellulose film with a wire bar (No. 5). This was dried in a 120 ° C. oven for 2 minutes, UV cured with UV energy of 200 mJ / cm 2 , and then left in a 120 ° C. oven for 1 day for final heat curing. The thickness of the coating film is about 1 μm.

熱硬化型低屈折物質として物質A 30重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 70重量部を均一に混合して相溶性のあるコーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   A compatible coating composition was prepared by uniformly mixing 30 parts by weight of the substance A as a thermosetting low refractive material and 70 parts by weight of the substance F as an ultraviolet curable high refractive substance. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

熱硬化型低屈折物質として物質C 20重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 75重量部、フッ素系化合物としてトリフルオロエチルアクリレート5重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   Anti-reflective coating that is compatible by uniformly mixing 20 parts by weight of substance C as a thermosetting low-refractive substance, 75 parts by weight of substance F as an ultraviolet-curable high-refractive substance, and 5 parts by weight of trifluoroethyl acrylate as a fluorine compound. A composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

熱硬化型低屈折物質として物質A 25重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 70重量部およびフッ素系化合物としてトリフルオロエチルアクリレート5重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   Antireflective coating that is compatible by uniformly mixing 25 parts by weight of substance A as a thermosetting low-refractive substance, 70 parts by weight of substance F as an ultraviolet-curable high-refractive substance, and 5 parts by weight of trifluoroethyl acrylate as a fluorine compound. A composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

熱硬化型低屈折物質として物質D 25重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 70重量部、フッ素系化合物としてトリフルオロエチルアクリレート5重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   Antireflective coating that is compatible by uniformly mixing 25 parts by weight of substance D as a thermosetting low-refractive substance, 70 parts by weight of substance F as an ultraviolet-curable high-refractive substance, and 5 parts by weight of trifluoroethyl acrylate as a fluorine compound A composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

熱硬化型低屈折物質として物質C 22重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 70重量部、フッ素系化合物としてトリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン8重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   22 parts by weight of substance C as a thermosetting low-refractive substance, 70 parts by weight of substance F as an ultraviolet-curable high-refractive substance, and 8 parts by weight of tridecafluorooctyltriethoxysilane as a fluorine-based compound are uniformly mixed to be compatible. An antireflective coating composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

熱硬化型低屈折物質として物質C 26重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 70重量部、フッ素系化合物としてFluorad FC4430(3M社)4重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   26 parts by weight of substance C as a thermosetting low-refractive substance, 70 parts by weight of substance F as an ultraviolet-curable high-refractive substance, and 4 parts by weight of Fluorad FC4430 (3M company) as a fluorine-based compound are uniformly mixed to make a compatible reflection A preventive coating composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

10% MgF2分散液50重量部、マグネシウムトリフルオロアセテート30重量部、メチルエチルケトン(MEK)20重量部を均一に混合して金属フッ化物分散液を組成した。 A metal fluoride dispersion was prepared by uniformly mixing 50 parts by weight of 10% MgF 2 dispersion, 30 parts by weight of magnesium trifluoroacetate, and 20 parts by weight of methyl ethyl ketone (MEK).

熱硬化型低屈折物質として物質C 8重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 75重量部、前記金属フッ化物分散液17重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   8 parts by weight of substance C as a thermosetting low-refractive substance, 75 parts by weight of substance F as an ultraviolet curable high-refractive substance, and 17 parts by weight of the above-mentioned metal fluoride dispersion are uniformly mixed to provide a compatible antireflection coating composition. Prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

熱硬化型低屈折物質として物質Cの代わりに物質Aを用いたことを除いては、前記実施例10と同様に遂行してコーティング液およびコーティングフィルムを製造した。   A coating solution and a coating film were manufactured in the same manner as in Example 10 except that the material A was used instead of the material C as the thermosetting low refractive material.

熱硬化型低屈折物質として物質D 25重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質F 70重量部および実施例10で製造した金属フッ化物分散液5重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。   25 parts by weight of substance D as a thermosetting low-refractive substance, 70 parts by weight of substance F as an ultraviolet-curable high-refractive substance, and 5 parts by weight of the metal fluoride dispersion prepared in Example 10 are mixed uniformly to be compatible. An antireflective coating composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

平均粒子大きさ30〜40nmのNaMgF3 10重量部、イソプロピルアルコール(IPA)90重量部を均一に混合して金属フッ化物分散液を組成した。この金属フッ化物分散液を用いたことを除いては、実施例10と同様に遂行してコーティング液およびコーティングフィルムを製造した。 A metal fluoride dispersion was prepared by uniformly mixing 10 parts by weight of NaMgF 3 having an average particle size of 30 to 40 nm and 90 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA). A coating solution and a coating film were produced in the same manner as in Example 10 except that this metal fluoride dispersion was used.

平均粒子大きさが20nmであり、孔隙率が20%であるMeso−porous Silica 10重量部、メタノール90重量部を均一に混合してナノ微粒子分散液を組成した。このナノ微粒子分散液を用いたことを除いては、実施例10と同様に遂行してコーティング液およびコーティングフィルムを製造した。   10 parts by weight of Meso-porous Silica having an average particle size of 20 nm and a porosity of 20% and 90 parts by weight of methanol were uniformly mixed to form a nanoparticle dispersion. A coating solution and a coating film were produced in the same manner as in Example 10 except that this nanoparticle dispersion was used.

[比較例1]
紫外線硬化型高屈折物質である物質Eだけをコーティング層形成のための材料として用い、これを80μm厚さのトリアセテートセルロースフィルムにワイヤーバー(5号)でコーティングした。これを60℃オーブンで2分間乾燥し、1J/cm2のUVエネルギで紫外線硬化させることによってコーティングフィルムを製造した。コーティングフィルムの厚さは1μm程度である。
[Comparative Example 1]
Only the substance E which is an ultraviolet curable high refractive substance was used as a material for forming a coating layer, and this was coated on a triacetate cellulose film having a thickness of 80 μm with a wire bar (No. 5). This was dried in a 60 ° C. oven for 2 minutes, and UV-cured with UV energy of 1 J / cm 2 to produce a coating film. The thickness of the coating film is about 1 μm.

[比較例2]
熱硬化型低屈折物質である物質Aだけをコーティング層形成のための材料として用い、これを80μm厚さのトリアセテートセルロースフィルムにワイヤーバー(5号)でコーティングした。これを120℃オーブンに1日間放置して熱硬化させることによってコーティングフィルムを製造した。コーティングフィルムの厚さは1μm程度である。
[Comparative Example 2]
Only substance A, which is a thermosetting low-refractive substance, was used as a material for forming a coating layer, and this was coated on a triacetate cellulose film having a thickness of 80 μm with a wire bar (No. 5). This was left to stand in a 120 ° C. oven for 1 day to thermally cure to produce a coating film. The thickness of the coating film is about 1 μm.

[比較例3]
熱硬化型低屈折物質である物質Bだけをコーティング層形成のための材料として用い、これを80μm厚さのトリアセテートセルロースフィルムにワイヤーバー(5号)でコーティングした。これを120℃オーブンに1日間放置して熱硬化させることによってコーティングフィルムを製造した。コーティングフィルムの厚さは1μm程度である。
[Comparative Example 3]
Only material B, which is a thermosetting low-refractive material, was used as a material for forming a coating layer, and this was coated on a triacetate cellulose film having a thickness of 80 μm with a wire bar (No. 5). This was left to stand in a 120 ° C. oven for 1 day to thermally cure to produce a coating film. The thickness of the coating film is about 1 μm.

[比較例4]
紫外線硬化型高屈折物質である物質Fだけをコーティング層形成のための材料として用い、これを80μm厚さのトリアセテートセルロースフィルムにワイヤーバー(5号)でコーティングした。これを120℃オーブンで2分間乾燥し、200mJ/cm2のUVエネルギで紫外線硬化した後、120℃オーブンに1日間放置した。コーティングフィルムの厚さは1μm程度である。
[Comparative Example 4]
Only the substance F, which is an ultraviolet curable high-refractive substance, was used as a material for forming a coating layer, and this was coated on a triacetate cellulose film having a thickness of 80 μm with a wire bar (No. 5). This was dried in a 120 ° C. oven for 2 minutes, UV-cured with UV energy of 200 mJ / cm 2 and then left in a 120 ° C. oven for 1 day. The thickness of the coating film is about 1 μm.

[比較例5]
熱硬化型低屈折物質として物質G 25重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質H 70重量部、フッ素系化合物としてトリフルオロエチルアクリレート5重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。
[Comparative Example 5]
Antireflective coating that is compatible by uniformly mixing 25 parts by weight of substance G as a thermosetting low-refractive substance, 70 parts by weight of substance H as an ultraviolet-curable high-refractive substance, and 5 parts by weight of trifluoroethyl acrylate as a fluorine compound. A composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

[比較例6]
熱硬化型低屈折物質として物質G 25重量部、紫外線硬化型高屈折物質として物質H 70重量部、実施例10で製造した金属フッ化物分散液5重量部を均一に混合して相溶性のある反射防止コーティング組成物を準備した。この組成物を利用して実施例3と同じ方法によってコーティングフィルムを製造した。
[Comparative Example 6]
25 parts by weight of the substance G as a thermosetting low-refractive substance, 70 parts by weight of the substance H as an ultraviolet curable high-refractive substance, and 5 parts by weight of the metal fluoride dispersion prepared in Example 10 are mixed uniformly to be compatible. An antireflective coating composition was prepared. Using this composition, a coating film was produced in the same manner as in Example 3.

実験例
製造例で製造した低屈折および高屈折物質を用いた硬化物の屈折率と表面エネルギを測定して表1に示す。各材料の硬化物の製造方法は次の通りである。熱硬化型低屈折材料は、80μm厚さのトリアセテートセルロースフィルムにワイヤーバー(5号)でコーティングして、120℃オーブンに1日間放置し、紫外線硬化型高屈折材料は、前記低屈折材料と同じ方法によってコーティングするが、これを60℃オーブンで2分間乾燥し、200mJ/cm2のUVエネルギで紫外線硬化した。屈折率はSairon Technology社のprism couplerを利用して測定し、表面エネルギはKRUSS社のDrop shape analysis製品であるDSA100を使い、水とジヨードメタン(CH22)を基準にして測定した。
Experimental Example Table 1 shows the refractive index and surface energy of the cured product using the low refractive and high refractive materials manufactured in the manufacturing example. The manufacturing method of the hardened | cured material of each material is as follows. The thermosetting low refractive material is coated on a 80 μm thick triacetate cellulose film with a wire bar (No. 5) and left in an oven at 120 ° C. for 1 day. The ultraviolet curable high refractive material is the same as the low refractive material. It was coated by the method, but this was dried in a 60 ° C. oven for 2 minutes and UV cured with 200 mJ / cm 2 of UV energy. The refractive index was measured using a prism coupler manufactured by Sairon Technology, and the surface energy was measured using DSA100, a drop shape analysis product manufactured by KRUSS, based on water and diiodomethane (CH 2 I 2 ).

実施例および比較例の方法により製造されたコーティングフィルムの厚さは1μmであった。実施例および比較例で製造された反射防止フィルムの耐摩耗性および光特性として反射率、透過率およびヘーズを下記のように評価した。 The thickness of the coating film produced by the methods of Examples and Comparative Examples was 1 μm. Reflectance, transmittance, and haze were evaluated as follows as wear resistance and optical properties of the antireflection films produced in Examples and Comparative Examples.

1)耐スクラッチ性の評価
前記で準備したそれぞれのコーティングフィルムサンプルに対し、1kg荷重下でスチールウール(steel wool #0000)で10回往復した後、スクラッチが発生した程度を評価した。
1) Evaluation of scratch resistance Each coating film sample prepared above was evaluated for the degree of occurrence of scratches after 10 reciprocations with steel wool (steel wool # 0000) under a 1 kg load.

2)反射率の評価
コーティングフィルムの裏面を黒色処理した後、Shimadzu社のSolid Spec.3700 spectrophotometerで反射率を測定し、最小反射率値で低反射特性を評価した。
2) Evaluation of reflectance After the black color was applied to the back surface of the coating film, Shimadzu's Solid Spec. The reflectance was measured with a 3700 spectrophotometer, and the low reflectance characteristics were evaluated with the minimum reflectance value.

3)透過率およびヘーズの評価
日本の村上社のHR−100を利用してコーティングフィルムの透過率とヘーズを評価した。
3) Evaluation of transmittance and haze The transmittance and haze of the coating film were evaluated using HR-100 from Murakami of Japan.

反射率、透過率、ヘーズの評価結果は表2および3に示す。   The evaluation results of reflectance, transmittance, and haze are shown in Tables 2 and 3.

前記表2および3から確認できるように、実施例1〜14の場合、耐スクラッチ性が良好に評価され、耐摩耗性に優れるだけでなく、反射率、透過率およびヘーズに優れた光特性を示す。その反面、比較例1および4〜6の場合は、透過率やヘーズと関連した光学物性が実施例に比べて低い。比較例2および3の場合は、耐スクラッチ性がぜい弱であり、これを保護するための別途のハードコーティングが要求されるという点で工程上の効率性が低下する短所がある。 As can be seen from Tables 2 and 3, in the case of Examples 1 to 14, scratch resistance is well evaluated and not only excellent in abrasion resistance, but also has excellent light characteristics in reflectance, transmittance and haze. Show. On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 and 4 to 6, the optical properties related to transmittance and haze are lower than those of the Examples. In the case of Comparative Examples 2 and 3, the scratch resistance is weak, and there is a disadvantage that the process efficiency is lowered in that a separate hard coating is required to protect this.

前記実施例および比較例を通じ、本発明に係る反射防止フィルムは、単一コーティング工程によって製造されることにより、工程効率に優れ、製造費用が節減されるだけでなく、反射防止性能および耐摩耗性に優れていることを確認することができる。   Through the examples and comparative examples, the antireflection film according to the present invention is manufactured by a single coating process, so that the process efficiency is excellent and the manufacturing cost is reduced, as well as antireflection performance and wear resistance. Can be confirmed.

以上で説明した本発明の最適な実施例が開示された。ここでは、特定の用語が用いられたが、これは、単に当業者に本発明を詳細に説明するための目的で用いられたものであって、意味限定や特許請求の範囲に記載された本発明の範囲を制限するために用いられたものではない。   The preferred embodiment of the present invention described above has been disclosed. Certain terminology has been used herein for the purpose of describing the invention to those skilled in the art in detail, and is intended to be limited in meaning and claimed. It is not used to limit the scope of the invention.

Claims (22)

屈折率が1.2〜1.45である低屈折物質および屈折率が1.46〜2である高屈折物質を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上である反射防止コーティング組成物。   A low refractive material having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive material having a refractive index of 1.46 to 2, and a difference in surface energy between the low refractive material and the high refractive material is 5 mN / m or more. An antireflective coating composition. 前記低屈折物質は表面エネルギが25mN/m以下である、請求項1に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflective coating composition of claim 1, wherein the low refractive material has a surface energy of 25 mN / m or less. 前記低屈折物質は熱硬化型樹脂であり、前記高屈折物質は紫外線硬化型樹脂である、請求項1に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflection coating composition according to claim 1, wherein the low refractive material is a thermosetting resin, and the high refractive material is an ultraviolet curable resin. 前記低屈折物質は、ゾル−ゲル反応が可能なアルコキシシラン反応物、ウレタン反応基化合物、尿素反応基化合物およびエステル化反応物からなる群から選択された1種以上を含む、請求項3に記載の反射防止コーティング組成物。   The low-refractive material includes one or more selected from the group consisting of an alkoxysilane reactant, a urethane reactive group compound, a urea reactive group compound, and an esterification reactant capable of sol-gel reaction. Anti-reflective coating composition. 前記高屈折物質は、アクリレート系樹脂、光開始剤および溶媒を含む、請求項3に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflective coating composition according to claim 3, wherein the highly refractive material includes an acrylate resin, a photoinitiator, and a solvent. 全体コーティング組成物100重量部に対し、前記高屈折物質の含量は10〜90重量部であり、前記低屈折物質の含量は5〜80重量部である、請求項1に記載の反射防止コーティング組成物。   The anti-reflective coating composition according to claim 1, wherein the content of the high refractive material is 10 to 90 parts by weight and the content of the low refractive material is 5 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total coating composition. object. 前記高屈折物質と前記低屈折物質の硬化後屈折率差が0.01以上である、請求項1に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflection coating composition according to claim 1, wherein a difference in refractive index after curing between the high refractive material and the low refractive material is 0.01 or more. 前記反射防止コーティング組成物は、フッ素系化合物およびナノ微粒子分散液のうちの少なくとも1つをさらに含む、請求項1に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflection coating composition according to claim 1, wherein the antireflection coating composition further comprises at least one of a fluorine-based compound and a nanoparticulate dispersion. 前記フッ素系化合物は、屈折率が1.5以下であり、分子量が低屈折物質の分子量より小さく、表面エネルギが高屈折物質と低屈折物質の表面エネルギの間である、請求項8に記載の反射防止コーティング組成物。   9. The fluorine compound according to claim 8, wherein the fluorine compound has a refractive index of 1.5 or less, a molecular weight is smaller than a molecular weight of the low refractive material, and a surface energy is between the surface energy of the high refractive material and the low refractive material. Anti-reflective coating composition. 前記ナノ微粒子分散液は、平均粒子大きさが1,000nm以下であるナノ微粒子を含む、請求項8に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflection coating composition according to claim 8, wherein the nanoparticle dispersion includes nanoparticles having an average particle size of 1,000 nm or less. 前記ナノ微粒子分散液は屈折率が1.45以下である、請求項8に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflection coating composition according to claim 8, wherein the nanoparticle dispersion has a refractive index of 1.45 or less. 前記ナノ微粒子分散液は、分散性強化用キレート剤、フッ素系アクリレートおよび溶媒をさらに含む、請求項10に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflection coating composition according to claim 10, wherein the nanoparticulate dispersion further comprises a dispersibility enhancing chelating agent, a fluorine-based acrylate and a solvent. 前記ナノ微粒子は、金属フッ化物または有機もしくは無機の中空または多孔性微粒子である、請求項10に記載の反射防止コーティング組成物。   The antireflection coating composition according to claim 10, wherein the nanoparticle is a metal fluoride or an organic or inorganic hollow or porous particle. a)請求項1〜13のうちのいずれか1項による反射防止コーティング組成物を準備するステップ;
b)前記コーティング組成物を基材上に塗布してコーティング層を形成するステップ;
c)前記コーティング層を乾燥して低屈折物質と高屈折物質が相分離するようにするステップ;および
d)前記乾燥されたコーティング層を硬化するステップ
を含む反射防止フィルムの製造方法。
a) providing an antireflective coating composition according to any one of claims 1 to 13;
b) applying the coating composition onto a substrate to form a coating layer;
c) drying the coating layer so that the low refractive material and the high refractive material are phase separated; and d) curing the dried coating layer.
前記b)ステップにおけるコーティング厚さは、1〜30μmである、請求項14に記載の反射防止フィルムの製造方法。   The method for producing an antireflection film according to claim 14, wherein the coating thickness in the step b) is 1 to 30 μm. 前記低屈折物質は熱硬化型樹脂であり、前記高屈折物質は紫外線硬化型樹脂であり、前記d)ステップは、d1)前記高屈折紫外線硬化型樹脂を紫外線照射量0.1〜2J/cm2で1〜600秒間紫外線照射して硬化するステップ、およびd2)前記低屈折熱硬化型樹脂を20〜200℃で1〜72時間硬化するステップを含む、請求項14に記載の反射防止フィルムの製造方法。 The low-refractive material is a thermosetting resin, the high-refractive material is an ultraviolet curable resin, and the d) step includes d1) converting the high-refractive ultraviolet curable resin to an ultraviolet irradiation amount of 0.1 to 2 J / cm. The antireflective film according to claim 14, comprising a step of curing by irradiating ultraviolet rays for 1 to 600 seconds at 2 , and d2) curing the low refractive thermosetting resin at 20 to 200 ° C. for 1 to 72 hours. Production method. 請求項1〜13のうちのいずれか1項による反射防止コーティング組成物を用いて形成され、前記低屈折物質と高屈折物質が厚さ方向に濃度勾配を有する単一コーティング層を含む反射防止フィルム。   An antireflection film comprising the single coating layer formed using the antireflection coating composition according to any one of claims 1 to 13, wherein the low refractive material and the high refractive material have a concentration gradient in the thickness direction. . 前記反射防止フィルムは、a)屈折率が1.2〜1.45である低屈折樹脂および屈折率が1.46〜2である高屈折物質を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が5mN/m以上である反射防止コーティング組成物を準備するステップ;b)前記コーティング組成物を基材上に塗布してコーティング層を形成するステップ;c)前記コーティング層を乾燥して低屈折物質と高屈折物質が相分離するようにするステップ;およびd)前記乾燥されたコーティング層を硬化するステップを含む方法によって製造される、請求項17に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film includes a) a low refractive resin having a refractive index of 1.2 to 1.45 and a high refractive material having a refractive index of 1.46 to 2, and the surfaces of the low refractive material and the high refractive material. Providing an anti-reflective coating composition having an energy difference of 5 mN / m or more; b) applying the coating composition onto a substrate to form a coating layer; c) drying the coating layer 18. The antireflective film of claim 17, wherein the antireflective film is made by a method comprising: causing a refractive material and a high refractive material to phase separate; and d) curing the dried coating layer. 前記単一コーティング層の空気と接する面から厚さ方向に50%に該当する領域に含まれる低屈折物質は、前記低屈折物質総重量に対して70%以上である、請求項17に記載の反射防止フィルム。   The low-refractive material included in a region corresponding to 50% in the thickness direction from the surface of the single coating layer in contact with air is 70% or more based on the total weight of the low-refractive material. Antireflection film. 反射率が3%未満である、請求項17に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 17, wherein the reflectance is less than 3%. a)偏光膜、およびb)請求項17の反射防止フィルムを含む偏光板。   A polarizing plate comprising: a) a polarizing film; and b) the antireflection film according to claim 17. 請求項17による反射防止フィルムを含むディスプレイ装置。   A display device comprising an antireflection film according to claim 17.
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