KR102243720B1 - Apparatus for etching substrates - Google Patents

Apparatus for etching substrates Download PDF

Info

Publication number
KR102243720B1
KR102243720B1 KR1020190172687A KR20190172687A KR102243720B1 KR 102243720 B1 KR102243720 B1 KR 102243720B1 KR 1020190172687 A KR1020190172687 A KR 1020190172687A KR 20190172687 A KR20190172687 A KR 20190172687A KR 102243720 B1 KR102243720 B1 KR 102243720B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
scanner
substrate
vacuum chamber
moving
unit
Prior art date
Application number
KR1020190172687A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유우종
최교원
이석희
박영순
김종우
Original Assignee
주식회사 에스에프에이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에스에프에이 filed Critical 주식회사 에스에프에이
Priority to KR1020190172687A priority Critical patent/KR102243720B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102243720B1 publication Critical patent/KR102243720B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/362Laser etching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67063Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67069Apparatus for fluid treatment for etching for drying etching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
    • H01L51/0017
    • H01L51/56
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/20Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
    • H10K71/231Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

Disclosed is a top-down substrate etching apparatus. The top-down substrate etching apparatus according to the present invention comprises: a vacuum chamber in which an etching process for a substrate is performed; a stage unit disposed inside the vacuum chamber and having a chucking unit for chucking the substrate loaded into the vacuum chamber; a laser unit having a laser scanner which penetrates a lower wall of the vacuum chamber through a chamber through hole formed in the lower wall of the vacuum chamber and performs irradiation of a laser beam onto the substrate in the vacuum chamber to perform an etching process; and a scanner moving unit which supports the laser scanner, is connected to the vacuum chamber, seals the inside of the vacuum chamber, and moves the laser scanner in an up/down direction so that the laser scanner can approach and can be separated from the substrate. Therefore, the top-down substrate etching apparatus can shorten the focal length of the laser scanner, thereby reducing the size of a laser beam.

Description

하향식 기판 에칭장치{Apparatus for etching substrates}Top-down substrate etching apparatus {Apparatus for etching substrates}

본 발명은, 하향식 기판 에칭장치에 관한 것에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 레이저 스캐너의 초점거리(focal length)를 단축하여 레이저 빔의 빔 사이즈를 줄일 수 있는 하향식 기판 에칭장치에 관한 것이다.The present invention relates to a top-down substrate etching apparatus, and more particularly, to a top-down substrate etching apparatus capable of reducing a beam size of a laser beam by shortening a focal length of a laser scanner.

정보 통신 기술의 비약적인 발전과 시장의 팽창에 따라 디스플레이 소자로 평판표시소자(Flat Panel Display)가 각광 받고 있다.With the rapid development of information and communication technology and the expansion of the market, flat panel displays are in the spotlight as display devices.

이러한 평판표시소자에는 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이장치(Plasma Display Panel), 유기발광다이오드 디스플레이(Organic Light Emitting Diode Display ) 등이 있다.Such flat panel display devices include a liquid crystal display, a plasma display panel, and an organic light emitting diode display.

이 중에서 유기발광다이오드 디스플레이(OLED display)는, 빠른 응답속도, 기존의 액정표시장치(LCD)보다 낮은 소비 전력, 경량성, 별도의 백라이트(back light) 장치가 필요 없어서 초박형으로 만들 수 있는 점, 고휘도 등의 매우 좋은 장점을 가지고 있어 차세대 디스플레이 소자로 각광받고 있다.Among them, the OLED display has a fast response speed, lower power consumption than a conventional liquid crystal display (LCD), light weight, and the point that it can be made ultra-thin because it does not require a separate back light device. It has very good advantages such as high luminance, so it is attracting attention as a next-generation display device.

유기발광다이오드 디스플레이(OLED display)는 구동방식에 따라 수동형인 PMOLED와 능동형인 AMOLED로 나눌 수 있다. 특히 AMOLED는 자발광형 디스플레이로서 기존의 디스플레이보다 응답속도가 빠르며, 색감도 자연스럽고 전력 소모가 적다는 장점이 있다. 또한 AMOLED는 기판이 아닌 필름(Film) 등에 적용하면 플렉시블 디스플레이(Flexible Display)의 기술을 구현할 수 있게 된다.Organic light-emitting diode displays can be divided into passive PMOLED and active AMOLED depending on the driving method. In particular, AMOLED is a self-luminous display, which has the advantage of having faster response speed than conventional displays, natural color sense, and low power consumption. In addition, when AMOLED is applied to a film rather than a substrate, the technology of a flexible display can be implemented.

이러한 유기발광다이오드 디스플레이(OLED display)는 패턴(Pattern) 형성 공정, 유기박막 증착 공정, 에칭 공정, 봉지 공정, 그리고 유기박막이 증착된 기판과 봉지 공정을 거친 기판을 붙이는 합착 공정 등을 통해 제품으로 생산될 수 있다.These OLED displays are made into products through a pattern formation process, an organic thin film deposition process, an etching process, an encapsulation process, and a bonding process in which the substrate on which the organic thin film is deposited and the substrate that has undergone the sealing process are attached. Can be produced.

한편, 다양한 공정들 중에서 에칭 공정은, 기판의 표면에서 불필요한 부분을 물리적 혹은 화학적 방법으로 식각, 즉 에칭함으로써, 원하는 모양을 얻어내는 공정이다.Meanwhile, among various processes, the etching process is a process of obtaining a desired shape by physically or chemically etching, that is, etching an unnecessary portion of the surface of the substrate.

에칭 공정에는 반도체와 마찬가지로 물리적 혹은 화학적인 다양한 방법이 사용되고 있는데, 이중의 하나가 레이저에 의한 에칭 방법이다. 레이저에 의한 기판의 에칭 방법은 다른 방법들에 비해 구조가 간단하고 에칭 시간을 줄일 수 있어 근자에 들어 널리 채용되고 있다.In the etching process, as in semiconductors, various physical or chemical methods are used, one of which is an etching method using a laser. A method of etching a substrate by a laser has been widely adopted in recent years because it has a simpler structure and can reduce an etching time compared to other methods.

도 1은 일반적인 하향식 기판 에칭 장치의 구성도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 일반적인 하향식 기판 에칭 장치의 경우, 에칭 처리 대상의 기판(G)이 상부에 배치되고, 기판(G)의 하부로 레이저 빔(Laser Beam)을 조사하는 레이저 모듈(10)이 배치되는 구조를 갖는다.1 is a configuration diagram of a general top-down substrate etching apparatus. As shown in FIG. 1, in the case of a general top-down substrate etching apparatus, a substrate G to be etched is disposed on an upper portion, and a laser module 10 that irradiates a laser beam to a lower portion of the substrate G ) Is arranged.

기판(G)은 진공 챔버의 내부에 배치되는데 반해 레이저 모듈(10)은 진공 챔버의 외부에 배치되며, 그 위치에서 레이저 빔을 기판(G)으로 조사한다. 이때, 레이저 모듈(10)이 배치되는 진공 챔버의 벽면에는 레이저 빔이 통과되는 투명한 챔버 윈도우(20, Chamber Window)가 개재된다.The substrate G is disposed inside the vacuum chamber, while the laser module 10 is disposed outside the vacuum chamber, and a laser beam is irradiated onto the substrate G at that position. At this time, a transparent chamber window 20 through which the laser beam passes is interposed on the wall surface of the vacuum chamber in which the laser module 10 is disposed.

이에, 챔버 윈도우(20)의 바깥쪽에 위치되는 레이저 모듈(10)이 레이저 빔을 조사하면 레이저 빔은 챔버 윈도우(20)를 통과하여 기판(G)으로 조사됨으로써 기판(G)에 증착된 증착막에서 불필요한 부분을 에칭하게 된다.Accordingly, when the laser module 10 located outside the chamber window 20 irradiates a laser beam, the laser beam passes through the chamber window 20 and is irradiated to the substrate G, thereby It will etch unnecessary parts.

그런데, 종래기술에 따른 하향식 기판 에칭 장치는 기판(G)과 레이저 모듈(10) 사이의 거리가 멀어 초점거리(focal length)가 길고, 그에 따라 레이저 빔의 빔 사이즈를 소정의 크기 이하로 축소시킬 수 없는 문제점이 있다. However, in the top-down substrate etching apparatus according to the prior art, the focal length is long due to the long distance between the substrate G and the laser module 10, thereby reducing the beam size of the laser beam to a predetermined size or less. There is a problem that cannot be done.

즉, 종래기술에 따른 하향식 기판 에칭 장치에서는 빔 사이즈를 소정의 크기 이하로 줄일 수 없어 미세 에칭 작업이 어려운 문제점이 있었다. That is, in the top-down substrate etching apparatus according to the prior art, since the beam size cannot be reduced to a predetermined size or less, it is difficult to perform fine etching.

대한민국 공개특허공보 제10-2007-0013776호, (2008.08.13.)Korean Patent Application Publication No. 10-2007-0013776, (2008.08.13.)

따라서 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 레이저 스캐너의 초점거리(focal length)를 단축하여 레이저 빔의 빔 사이즈를 축소시킬 수 있는 하향식 기판 에칭장치를 제공하는 것이다.Accordingly, a problem to be solved by the present invention is to provide a top-down substrate etching apparatus capable of reducing a beam size of a laser beam by shortening a focal length of a laser scanner.

본 발명의 일 측면에 따르면, 내부에서 기판에 대한 에칭 공정이 수행되는 진공 챔버; 상기 진공 챔버의 내부에 배치되며, 상기 진공 챔버의 내부로 로딩된 상기 기판을 척킹하는 척킹부를 구비하는 스테이지유닛; 상기 진공 챔버의 하부벽에 형성된 챔버 관통공을 통해 상기 진공 챔버의 하부벽을 관통하며 상기 진공 챔버 내의 기판으로 레이저 빔(Laser Beam)을 조사(照射, irradiation)하여 상기 에칭 공정을 수행하는 레이저 스캐너를 구비하는 레이저유닛; 및 상기 레이저 스캐너를 지지하고, 상기 진공 챔버에 연결되어 상기 진공 챔버의 내부를 밀봉하며, 상기 레이저 스캐너가 상기 기판에 대해 접근 및 이격될 수 있도록 상기 레이저 스캐너를 업/다운(up/down) 방향으로 이동시키는 스캐너 이동유닛을 포함하는 하향식 기판 에칭장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a vacuum chamber in which an etching process is performed on a substrate; A stage unit disposed inside the vacuum chamber and including a chucking portion for chucking the substrate loaded into the vacuum chamber; A laser scanner that penetrates the lower wall of the vacuum chamber through a chamber through hole formed in the lower wall of the vacuum chamber and performs the etching process by irradiating a laser beam to a substrate in the vacuum chamber. A laser unit having a; And supporting the laser scanner, being connected to the vacuum chamber to seal the interior of the vacuum chamber, and moving the laser scanner in an up/down direction so that the laser scanner can be approached and separated from the substrate. A top-down substrate etching apparatus including a scanner moving unit to move to may be provided.

상기 스캐너 이동유닛은, 상기 레이저 스캐너를 지지하며, 업/다운(up/down) 방향으로 이동되는 스캐너용 이동 플레이트부; 상기 스캐너용 이동 플레이트부에 연결되며, 상기 스캐너용 이동 플레이트부를 이동시키는 플레이트용 이동부; 및 상기 스캐너용 이동 플레이트부와 상기 진공 챔버에 연결되며, 상기 레이저 스캐너를 상기 진공 챔버의 내부에 대해 차폐하는 밀봉부를 포함할 수 있다.The scanner moving unit includes: a moving plate portion for a scanner that supports the laser scanner and moves in an up/down direction; A plate moving part connected to the moving plate part for the scanner and moving the moving plate part for the scanner; And a sealing part connected to the moving plate part for the scanner and the vacuum chamber, and shielding the laser scanner from the inside of the vacuum chamber.

상기 스캐너용 이동 플레이트부는, 상기 플레이트용 이동부가 결합되는 이동 플레이트부 본체; 및 상기 이동 플레이트부 본체에 결합되며, 상기 레이저 빔이 투과하는 투과 윈도우를 포함할 수 있다.The moving plate part for the scanner may include a moving plate main body to which the moving part for the plate is coupled; And a transmission window coupled to the moving plate body and through which the laser beam passes.

상기 이동 플레이트부 본체는, 다수개의 절개공이 형성된 플레이트 몸체부; 및 상기 플레이트 몸체부에 연결되며, 상기 절개공에 연통되는 삽입홈을 형성하는 포켓부를 포함할 수 있다.The movable plate body includes a plate body having a plurality of cut-out holes; And a pocket portion connected to the plate body portion and forming an insertion groove communicating with the cut-out hole.

상기 포켓부는, 상기 플레이트 몸체부에 결합되는 포켓부용 측벽부; 및 상기 포켓부용 측벽부에 결합되며, 상기 투과 윈도우가 배치되는 윈도우 배치공이 형성된 포켓부용 바닥벽부를 포함할 수 있다.The pocket portion may include a side wall portion for a pocket portion coupled to the plate body portion; And a bottom wall portion for a pocket portion coupled to the side wall portion for the pocket portion and in which a window arranging hole in which the transmission window is disposed is formed.

상기 플레이트용 이동부는, 상기 진공 챔버의 하부벽을 관통하여 상기 스캐너용 이동 플레이트부에 결합되는 스캐너용 가압 샤프트부; 및 상기 스캐너용 가압 샤프트부에 연결되고 상기 진공 챔버의 외부에 배치되며, 상기 스캐너용 가압 샤프트부를 업/다운(up/down) 이동시키는 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부를 포함할 수 있다.The plate moving part may include a pressure shaft part for a scanner that penetrates through a lower wall of the vacuum chamber and is coupled to the moving plate part for the scanner; And a pressure shaft moving driver for a scanner connected to the pressure shaft portion for the scanner and disposed outside the vacuum chamber, and moving the pressure shaft portion for the scanner up/down.

상기 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부는, 상기 스캐너용 가압 샤프트부가 결합되는 스캐너용 엘엠 블록(LM block); 상기 스캐너용 엘엠 블록의 이동을 안내하는 스캐너용 엘엠 가이드(LM guide); 및 상기 스캐너용 엘엠 블록에 연결되며, 상기 스캐너용 엘엠 블록을 이동시키는 스캐너용 엘엠 블록용 구동부를 포함할 수 있다.The scanner pressure shaft movement driving unit, the scanner for the scanner LM block (LM block) to which the pressure shaft for the scanner is coupled; An LM guide for a scanner guiding the movement of the scanner LM block; And a driving unit for a scanner LM block connected to the scanner LM block and moving the scanner LM block.

상기 밀봉부는, 상단부가 상기 스캐너용 이동 플레이트부에 결합되고 하단부가 상기 진공 챔버의 하부벽에 결합되며 길이가 가변되는 스캐너용 벨로우즈관을 포함할 수 있다.The sealing portion may include a scanner bellows tube having an upper end portion coupled to the moving plate portion for the scanner, a lower portion portion coupled to the lower wall of the vacuum chamber, and having a variable length.

상기 스캐너 이동유닛은, 상기 스캐너용 이동 플레이트부에 지지되며, 상기 레이저 빔을 집속시키는 렌즈부를 더 포함할 수 있다.The scanner moving unit may further include a lens unit supported by the moving plate unit for the scanner and focusing the laser beam.

상기 진공 챔버에 연결되며, 상기 기판을 지지하고 상기 기판을 척킹부 방향으로 이동시키는 기판 트레이유닛을 더 포함하며, 상기 기판 트레이유닛은, 상기 기판에 마련된 비액티브 영역에 접촉되는 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛을 포함할 수 있다.A substrate tray unit connected to the vacuum chamber and supporting the substrate and moving the substrate in a direction of a chucking unit, wherein the substrate tray unit is a non-active area contact type in contact with an inactive area provided on the substrate It may include a substrate tray unit.

상기 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛은, 상기 진공 챔버의 내부에 배치되며, 상기 기판을 지지하는 기판 지지모듈; 및 상기 기판 지지모듈에 연결되며, 상기 기판 지지모듈을 상기 척킹부에 대하여 업/다운(up/down) 이동시키는 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈을 포함할 수 있다.The inactive area contact type substrate tray unit includes: a substrate support module disposed inside the vacuum chamber and supporting the substrate; And an up/down moving module for a support module connected to the substrate support module and moving the substrate support module up/down with respect to the chucking part.

상기 기판 지지모듈은, 상기 업/다운(up/down) 이동모듈에 지지되는 지지모듈 프레임부; 및 상기 지지모듈 프레임부에 연결되며, 상기 기판의 상기 비액티브 영역에 접촉되는 기판 접촉부를 포함할 수 있다.The substrate support module includes: a support module frame part supported by the up/down moving module; And a substrate contact portion connected to the support module frame portion and contacting the inactive region of the substrate.

상기 지지모듈 프레임부는, 상기 기판 접촉부가 결합되며, 상호 이격되어 배치되는 다수개의 접촉부 장착용 가로 바아부; 각각의 상기 접촉부 장착용 가로 바아부에 결합되며, 상호 이격되어 배치되는 다수개의 세로 바아부; 및 상기 세로 바아부에 결합되며, 상기 업/다운(up/down) 이동모듈이 결합되는 결합용 가로 바아부를 포함할 수 있다.The support module frame portion includes: a horizontal bar portion for mounting a plurality of contact portions, to which the substrate contact portions are coupled, and disposed to be spaced apart from each other; A plurality of vertical bar portions coupled to each of the horizontal bar portions for mounting the contact portions and disposed to be spaced apart from each other; And a coupling horizontal bar portion coupled to the vertical bar portion and coupled to the up/down moving module.

상기 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈은, 상기 진공 챔버의 하부벽을 관통하여 상기 지지모듈 프레임부에 결합되는 트레이유닛용 가압 샤프트부; 및 상기 트레이유닛용 가압 샤프트부에 연결되고 상기 진공 챔버의 외부에 배치되며, 상기 트레이유닛용 가압 샤프트부를 업/다운(up/down) 이동시키는 트레이유닛용 샤프트용 이동 구동부를 포함할 수 있다.The up/down moving module for the support module includes: a pressure shaft for a tray unit coupled to the frame of the support module through a lower wall of the vacuum chamber; And a moving drive part for a shaft for a tray unit connected to the pressure shaft for the tray unit, disposed outside the vacuum chamber, and moving the pressure shaft for the tray unit up/down.

본 발명의 실시예들은, 진공 챔버에 연결되어 진공 챔버의 내부를 밀봉하며 레이저 스캐너가 기판에 대해 접근 및 이격될 수 있도록 레이저 스캐너를 업/다운(up/down) 방향으로 이동시키는 스캐너 이동유닛을 구비함으로써, 레이저 스캐너의 초점거리(focal length)를 단축할 수 있고, 그에 따라 레이저 빔의 빔 사이즈를 축소시킬 수 있할 수 있다.Embodiments of the present invention include a scanner moving unit that is connected to the vacuum chamber to seal the interior of the vacuum chamber and moves the laser scanner in the up/down direction so that the laser scanner can be approached and separated from the substrate. By providing, it is possible to shorten the focal length of the laser scanner, thereby reducing the beam size of the laser beam.

도 1은 일반적인 하향식 기판 에칭 장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 하향식 기판 에칭장치가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 3은 도 2의 레이저유닛과 스캐너 이동유닛이 도시된 도면이다.
도 4는 도 2의 A-A 선에 따른 단면이 도시된 도면이다.
도 5는 도 4의 'B' 부분의 확대도이다.
도 6은 도 2의 기판이 도시된 도면이다.
도 7은 도 2의 기판 트레이유닛이 된 정면도이다.
도 8은 도 7의 기판 지지모듈의 측면도이다.
도 9은 도 7의 기판 지지모듈의 평면도이다.
도 10은 도 7의 기판 트레이유닛의 동작상태도이다.
1 is a configuration diagram of a general top-down substrate etching apparatus.
2 is a schematic diagram illustrating a top-down substrate etching apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating the laser unit and the scanner moving unit of FIG. 2.
FIG. 4 is a diagram illustrating a cross section taken along line AA of FIG. 2.
5 is an enlarged view of part'B' of FIG. 4.
6 is a diagram illustrating the substrate of FIG. 2.
7 is a front view of the substrate tray unit of FIG. 2.
8 is a side view of the substrate support module of FIG. 7.
9 is a plan view of the substrate support module of FIG. 7.
10 is an operational state diagram of the substrate tray unit of FIG. 7.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the implementation of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings illustrating preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by describing a preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings. However, in describing the present invention, a description of a function or configuration that is already known will be omitted in order to clarify the gist of the present invention.

한편, 이하에서 기술되는 기판은 유기발광다이오드 디스플레이(OLED display)용 유리기판일 수 있다.Meanwhile, the substrate described below may be a glass substrate for an OLED display.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 하향식 기판 에칭장치가 개략적으로 도시된 도면이고, 도 3은 도 2의 레이저유닛과 스캐너 이동유닛이 도시된 도면이며, 도 4는 도 2의 A-A 선에 따른 단면이 도시된 도면이고, 도 5는 도 4의 'B' 부분의 확대도이며, 도 6은 도 2의 기판이 도시된 도면이고, 도 7은 도 2의 기판 트레이유닛이 된 정면도이며, 도 8은 도 7의 기판 지지모듈의 측면도이고, 도 9은 도 7의 기판 지지모듈의 평면도이며, 도 10은 도 7의 기판 트레이유닛의 동작상태도이다. 도 2에서는 도시의 편의를 위해 스테이지 이동유닛(170)의 도시를 생략하였다.FIG. 2 is a schematic diagram of a top-down substrate etching apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a view showing the laser unit and the scanner moving unit of FIG. 2, and FIG. 4 is a line AA of FIG. 5 is an enlarged view of a portion'B' of FIG. 4, FIG. 6 is a view showing the substrate of FIG. 2, and FIG. 7 is a front view of the substrate tray unit of FIG. 2, 8 is a side view of the substrate support module of FIG. 7, FIG. 9 is a plan view of the substrate support module of FIG. 7, and FIG. 10 is an operation state diagram of the substrate tray unit of FIG. 7. In FIG. 2, the illustration of the stage moving unit 170 is omitted for convenience of illustration.

도 2 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 하향식 기판 에칭장치는, 내부에서 기판에 대한 에칭 공정이 수행되는 진공 챔버(110)와, 진공 챔버(110)의 내부에 배치되며 진공 챔버(110)의 내부로 로딩된 기판을 척킹하는 척킹부(미도시)를 구비하는 스테이지유닛(120)과, 스테이지유닛(120)에 연결되며 스테이지유닛(120)을 지지하고 스테이지유닛(120)을 이동시키는 스테이지 이동유닛(170)과, 진공 챔버(110)의 하부벽에 형성된 챔버 관통공(111)을 통해 진공 챔버(110)의 내부로 이동되며 진공 챔버(110) 내의 기판으로 레이저 빔(Laser Beam)을 조사(照射, irradiation)하여 에칭 공정을 수행하는 레이저 스캐너(161)를 구비하는 레이저유닛(160)과, 레이저 스캐너(161)를 지지하고 진공 챔버(110)에 연결되어 진공 챔버(110)의 내부를 밀봉하며 레이저 스캐너(161)가 기판에 대해 접근 및 이격될 수 있도록 레이저 스캐너(161)를 업/다운(up/down) 방향으로 이동시키는 스캐너 이동유닛(180)과, 진공 챔버(110)에 연결되며 기판을 지지하고 기판을 척킹부(미도시) 방향으로 이동시키는 기판 트레이유닛(130)과, 진공 챔버(110)의 하부 영역에 배치되며 기판 트레이유닛(130)과 기판의 얼라인(align)을 위해 진공 챔버(110)에 마련된 관측용 윈도우(미도시)를 통해 기판 트레이유닛(130)과 기판을 촬상하는 얼라인용 카메라유닛(미도시)과, 얼라인용 카메라유닛(미도시)과 스테이지유닛(120)에 전기적으로 연결되는 제어유닛(미도시)을 포함한다.As shown in FIGS. 2 to 10, the top-down substrate etching apparatus according to the present embodiment includes a vacuum chamber 110 in which an etching process is performed on a substrate, and a vacuum chamber 110 is disposed inside the vacuum chamber 110, and A stage unit 120 having a chucking unit (not shown) for chucking a substrate loaded into the chamber 110, and connected to the stage unit 120 to support the stage unit 120 and the stage unit 120 The stage moving unit 170 for moving the unit 170 and the chamber through-hole 111 formed in the lower wall of the vacuum chamber 110 are moved into the interior of the vacuum chamber 110, and a laser beam ( A laser unit 160 including a laser scanner 161 that performs an etching process by irradiating a laser beam), and a vacuum chamber ( A scanner moving unit 180 that seals the interior of 110 and moves the laser scanner 161 in the up/down direction so that the laser scanner 161 can be approached and separated from the substrate, and a vacuum chamber A substrate tray unit 130 connected to 110 and supporting a substrate and moving the substrate in a chucking portion (not shown), and disposed in the lower region of the vacuum chamber 110 and between the substrate tray unit 130 and the substrate. An alignment camera unit (not shown) for imaging the substrate tray unit 130 and the substrate through an observation window (not shown) provided in the vacuum chamber 110 for alignment, and an alignment camera unit (not shown). City) and a control unit (not shown) electrically connected to the stage unit 120.

본 실시예의 기판은 다수개의 패널용 셀(cell, G1)이 마련된 다면취(多面取) 기판이다. 패널용 셀(G1)은 증착막이 형성된 부분으로 에칭공정을 거쳐 디스플레이 패널로 제작되는 부분이다.The substrate of this embodiment is a multi-faceted substrate in which a plurality of panel cells (cells G1) are provided. The panel cell G1 is a portion on which a deposition film is formed, and is a portion manufactured into a display panel through an etching process.

이러한 본 실시예에 따른 기판에는, 도 6 및 도 10에 도시된 바와 같이, 상호 이격되어 배치되는 다수개의 패널용 셀(G1)을 감싸는 비액티브 영역(G2)이 배치된다. 비액티브 영역(G2)은 기판에서 패널용 셀(G1)을 취한 후 제거되는 부분이다. 본 실시예에서 비액티브 영역(G2)은 기판의 가장자리 영역은 물론 기판의 중앙 영역에도 배치된다.In the substrate according to the present exemplary embodiment, as shown in FIGS. 6 and 10, an inactive region G2 surrounding a plurality of panel cells G1 disposed to be spaced apart from each other is disposed. The inactive region G2 is a portion removed after taking the panel cell G1 from the substrate. In this embodiment, the inactive region G2 is disposed in the central region of the substrate as well as the edge region of the substrate.

진공 챔버(110)는, 도 2에 도시된 바와 같이 박스(box)형 구조물로서, 그 내부에서 기판에 대한 에칭 공정이 진행되는 장소를 이룬다. 진공 챔버(110)의 일측 벽면에는 기판이 출입되는 출입 게이트(T)가 마련된다. The vacuum chamber 110 is a box-type structure as shown in FIG. 2 and forms a place in which an etching process for a substrate is performed. An entrance gate T through which a substrate enters and exits is provided on one wall surface of the vacuum chamber 110.

본 실시예의 진공 챔버(110)의 하부벽에는 챔버 관통공(111)이 형성된다. 이러한 챔버 관통공(111)을 관통하여 레이저 스캐너(161)가 기판에 근접하는 방향으로 이동됨으로써, 레이저 스캐너(161)와 기판 사이의 거리가 단축되어 초점거리가 짧아지고, 그에 따라 작은 레이저 빔의 빔 사이즈가 축소될 수 있다(왜냐하면 빔 사이즈는 레이저의 파장과 초점거리(focal length)에 비례한다).A chamber through hole 111 is formed in the lower wall of the vacuum chamber 110 of the present embodiment. As the laser scanner 161 moves in a direction close to the substrate through the chamber through-hole 111, the distance between the laser scanner 161 and the substrate is shortened and the focal length is shortened. The beam size can be reduced (because the beam size is proportional to the laser's wavelength and focal length).

한편, 스테이지유닛(120)은 진공 챔버(110)의 내부에 배치된다. 이러한 스테이지유닛(120)은, 진공 챔버(110)의 내부로 로딩된 기판을 부착하는 척킹부(미도시)와, 척킹부(미도시)에 연결되며 얼라인을 위해 척킹부(미도시)를 이동시키는 얼라인부(미도시)와, 척킹부(미도시)에 연결되며 기판의 가장자리 영역을 척킹부(미도시)로 가압하여 기판을 파지하는 그리퍼부(미도시)를 구비한다. Meanwhile, the stage unit 120 is disposed inside the vacuum chamber 110. The stage unit 120 is connected to a chucking unit (not shown) for attaching a substrate loaded into the vacuum chamber 110 and a chucking unit (not shown) for alignment. An alignment unit (not shown) to be moved and a gripper unit (not shown) connected to the chucking unit (not shown) and pressing the edge region of the substrate with the chucking unit (not shown) to hold the substrate.

척킹부(미도시)는 스테이지유닛(120)의 하단부 영역에 배치되어 기판의 상면부에 접촉된다.The chucking part (not shown) is disposed in the lower end area of the stage unit 120 to contact the upper surface of the substrate.

본 실시예에서 척킹부(미도시)에는 정전척(Electrostatic Chuck, ESC)이 사용되는데, 이에 본 발명의 권리범위가 한정되지 않으며, 기판을 척킹할 수 있는 다양한 척킹장치가 본 실시예의 척킹부(미도시)로 사용될 수 있다.In this embodiment, an electrostatic chuck (ESC) is used for the chucking unit (not shown), but the scope of the present invention is not limited, and various chucking devices capable of chucking the substrate are used in the chucking unit ( Not shown).

얼라인부(미도시)는 척킹부(미도시)에 연결되어 얼라인을 위해 척킹부(미도시)를 이동시킨다. 이러한 얼라인부(미도시)는 UVW의 얼라인 작동요소를 구비할 수 있다. 이러한 UVW의 얼라인 작동요소를 사용하는 얼라인 방식은 디스플레이 제작공정에서 두 물체를 정렬시키는 데 자주 사용하는 공지의 기술로서 자세한 설명은 생략하기로 한다. The alignment unit (not shown) is connected to the chucking unit (not shown) to move the chucking unit (not shown) for alignment. Such an alignment unit (not shown) may include an alignment operation element of UVW. The alignment method using the UVW alignment operation element is a known technique frequently used to align two objects in a display manufacturing process, and a detailed description thereof will be omitted.

그리퍼부(미도시)는 척킹부(미도시)에 연결되며 기판의 가장자리 영역을 척킹부(미도시)로 가압하여 기판을 파지한다. 이러한 그리퍼부(미도시)는 상하 방향으로 이동되어 기판의 가장자리 영역을 척킹부(미도시)로 가압하여 기판을 파지한다. 이러한 그리퍼부(미도시)는 기판 트레이유닛(130)의 기판 접촉부(148)에 간섭되지 않는 위치에 배치된다. 또한, 그리퍼부(미도시)는 기판의 척킹을 위해 기판 트레이유닛(130)이 기판을 척킹부(미도시)로 이동시킬 때에는 수평 방향으로 이동되어 기판을 회피하게 구성될 수도 있다.The gripper part (not shown) is connected to the chucking part (not shown) and grips the substrate by pressing the edge region of the substrate with the chucking part (not shown). The gripper portion (not shown) is moved in the vertical direction to press the edge region of the substrate with a chucking portion (not shown) to hold the substrate. Such a gripper part (not shown) is disposed at a position where it does not interfere with the substrate contact part 148 of the substrate tray unit 130. In addition, the gripper unit (not shown) may be configured to avoid the substrate by moving in a horizontal direction when the substrate tray unit 130 moves the substrate to the chucking unit (not shown) for chucking the substrate.

스테이지 이동유닛(170)은 진공 챔버(110)의 내부에 배치된다. 이러한 스테이지 이동유닛(170)은 스테이지유닛(120)을 지지하고 스테이지유닛(120)을 이동시킨다. 본 실시예에서 스테이지 이동유닛(170)은 리니어모터 방식으로 스테이지유닛(120)을 이동시킨다. The stage moving unit 170 is disposed inside the vacuum chamber 110. The stage moving unit 170 supports the stage unit 120 and moves the stage unit 120. In this embodiment, the stage moving unit 170 moves the stage unit 120 in a linear motor manner.

이러한 스테이지 이동유닛(170)은, 스테이지유닛(120)이 결합되는 스테이지용 이동블록(171)과, 스테이지용 이동블록(171)이 결합되며 스테이지용 이동블록(171)의 이동을 안내하는 가이드레일(미도시)과, 전자기력에 의해 스테이지용 이동블록(171)을 이동시키는 스테이지용 구동부(173)를 포함한다. 여기서 스테이지용 구동부(173)는 스테이지용 이동블록(171)에 마련되는 제1 자성체(미도시)에 상호 작용하여 스테이지용 이동블록(171)에 전자기력에 의한 추진력을 발생시키도록 가이드레일(미도시)의 길이방향을 따라 배치되는 제2 자성체(미도시)를 포함한다.The stage moving unit 170 includes a moving block 171 for a stage to which the stage unit 120 is coupled, a moving block 171 for a stage, and a guide rail for guiding the movement of the moving block 171 for the stage. (Not shown) and a stage driving unit 173 for moving the stage moving block 171 by electromagnetic force. Here, the driving unit 173 for the stage interacts with a first magnetic body (not shown) provided in the moving block 171 for the stage to generate a propulsion force by the electromagnetic force in the moving block 171 for the stage. ) And a second magnetic material (not shown) disposed along the longitudinal direction.

여기서 제1 자성체(미도시)는 영구자석으로 마련되고 제2 자성체(미도시)는 전자석으로 마련된다.Here, the first magnetic body (not shown) is provided as a permanent magnet and the second magnetic body (not shown) is provided as an electromagnet.

한편, 레이저유닛(160)은 진공 챔버(110) 내의 기판으로 레이저 빔을 조사하여 에칭 공정을 진행시키는 역할을 한다. 이러한 레이저유닛(160)은, 레이저 빔(L)이 발진되는 레이저 발진기(미도시)와, 레이저 발진기(미도시)에서 발진된 레이저 빔(L)을 변환하는 레이저 변환기(미도시)와, 레이저 변환기(미도시)에서 변환된 레이저 빔(L)을 전달받아 기판으로 조사하는 레이저 스캐너(161)를 포함한다. Meanwhile, the laser unit 160 serves to perform an etching process by irradiating a laser beam onto the substrate in the vacuum chamber 110. The laser unit 160 includes a laser oscillator (not shown) in which the laser beam L is oscillated, a laser converter (not shown) for converting the laser beam L oscillated by the laser oscillator (not shown), and a laser It includes a laser scanner 161 that receives the converted laser beam (L) by a converter (not shown) and irradiates the substrate.

본 실시예에서 레이저 발진기(미도시)와 레이저 변환기(미도시)는 진공 챔버(110)의 외부, 즉 하부 영역에 배치된다. 진공 챔버(110)의 내부는 진공이 형성되기 때문에 기판 외의 구성들이 진공 챔버(110)의 내부에 배치되는 것은 바람직하지 않다. 다만, 레이저 스캐너(161)는 진공 챔버(110)의 하부벽에 형성된 챔버 관통공(111)을 관통하여 기판에 근접하는 방향으로 이동될 수 있다. 상술한 바와 같이 이러한 레이저 스캐너(161)의 이동에 따라 레이저 스캐너(161)와 기판 사이의 거리를 단축시킬 수 있고, 그에 따라 레이저 빔의 빔 사이즈를 축소시킬 있다. In this embodiment, a laser oscillator (not shown) and a laser converter (not shown) are disposed outside the vacuum chamber 110, that is, in a lower area. Since a vacuum is formed inside the vacuum chamber 110, it is not preferable that components other than the substrate are disposed inside the vacuum chamber 110. However, the laser scanner 161 may pass through the chamber through-hole 111 formed in the lower wall of the vacuum chamber 110 and move in a direction close to the substrate. As described above, according to the movement of the laser scanner 161, the distance between the laser scanner 161 and the substrate can be shortened, and accordingly, the beam size of the laser beam can be reduced.

한편, 스캐너 이동유닛(180)은 레이저 스캐너(161)를 지지한다. 이러한 스캐너 이동유닛(180)은, 레이저 스캐너(161)가 기판에 대해 접근 및 이격될 수 있도록, 레이저 스캐너(161)를 상하방향인 업/다운(up/down) 방향으로 이동시킨다. 또한 스캐너 이동유닛(180)은 진공 챔버(110)에 연결되어 진공 챔버(110)의 내부를 밀봉한다.Meanwhile, the scanner moving unit 180 supports the laser scanner 161. The scanner moving unit 180 moves the laser scanner 161 in an up/down direction so that the laser scanner 161 can be approached and separated from the substrate. In addition, the scanner moving unit 180 is connected to the vacuum chamber 110 to seal the interior of the vacuum chamber 110.

본 실시예에 따른 스캐너 이동유닛(180)은, 도 3 내지 도 5에 자세히 도시된 바와 같이, 레이저 스캐너(161)를 지지하며 업/다운(up/down) 방향으로 이동되는 스캐너용 이동 플레이트부(181)와, 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 연결되며 스캐너용 이동 플레이트부(181)를 이동시키는 플레이트용 이동부(187, 188)와, 스캐너용 이동 플레이트부(181)와 진공 챔버(110)에 연결되며 레이저 스캐너(161)를 진공 챔버(110)의 내부에 대해 차폐하는 밀봉부(189)와, 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 지지되며 레이저 빔을 집속시키는 렌즈부(M)를 포함한다. The scanner moving unit 180 according to the present embodiment supports the laser scanner 161 and moves in the up/down direction as shown in detail in FIGS. 3 to 5. 181, plate moving parts 187 and 188 connected to the scanner moving plate part 181 and moving the scanner moving plate part 181, the scanner moving plate part 181 and the vacuum chamber ( 110, a sealing part 189 that shields the laser scanner 161 from the inside of the vacuum chamber 110, and a lens part M that is supported by the moving plate part 181 for the scanner and focuses the laser beam Includes.

스캐너용 이동 플레이트부(181)에는 레이저 스캐너(161)가 결합된다. 이러한 스캐너용 이동 플레이트부(181) 업/다운(up/down) 방향으로 이동된다. 본 실시예에 따른 스캐너용 이동 플레이트부(181)는, 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 플레이트용 이동부(187, 188)가 결합되는 이동 플레이트부 본체(182)와, 이동 플레이트부 본체(182)에 결합되며 레이저 빔이 투과하는 투과 윈도우(185)를 포함한다. The laser scanner 161 is coupled to the scanner moving plate part 181. The scanner moving plate portion 181 is moved in an up/down direction. The moving plate part 181 for a scanner according to this embodiment includes a moving plate part main body 182 to which the plate moving parts 187 and 188 are coupled, as shown in FIGS. 3 to 5, and a moving plate part. It is coupled to the body 182 and includes a transmission window 185 through which the laser beam passes.

이동 플레이트부 본체(182)는, 다수개의 절개공(183a)이 형성된 플레이트 몸체부(183)와, 플레이트 몸체부(183)에 연결되며 절개공(183a)에 연통되는 삽입홈(184c)을 형성하는 포켓부(184)를 포함한다. The moving plate part main body 182 forms a plate body part 183 in which a plurality of cutout holes 183a are formed, and an insertion groove 184c connected to the plate body part 183 and in communication with the cutout hole 183a. It includes a pocket portion 184 to be.

플레이트 몸체부(183)는 얇은 디스크 플레이트 형상으로 마련된다. 이러한 플레이트 몸체부(183)에는 다수개의 절개공(183a)이 상호 이격되어 배치된다.The plate body portion 183 is provided in the shape of a thin disk plate. In this plate body portion 183, a plurality of cut-out holes 183a are disposed to be spaced apart from each other.

포켓부(184)는 플레이트 몸체부(183)에 연결된다. 이러한 포켓부(184)는 절개공(183a)에 연통되는 삽입홈(184c)을 형성한다. 본 실시예에 따른 포켓부(184)는, 플레이트 몸체부(183)에 결합되는 포켓부용 측벽부(184a)와, 포켓부용 측벽부(184a)에 결합되며 투과 윈도우(185)가 배치되는 윈도우 배치공(184d)이 형성된 포켓부용 바닥벽부(184b)를 포함한다.The pocket portion 184 is connected to the plate body portion 183. This pocket part 184 forms an insertion groove 184c communicating with the cutout hole 183a. The pocket portion 184 according to the present embodiment includes a sidewall portion 184a for a pocket portion coupled to the plate body portion 183, and a window arrangement in which the transmission window 185 is coupled to the sidewall portion 184a for the pocket portion. It includes a bottom wall portion (184b) for the pocket portion in which the ball (184d) is formed.

포켓부용 측벽부(184a)는 플레이트 몸체부(183)에 결합된다. 이러한 포켓부용 측벽부(184a)는 내부가 중공되고 상단부와 하단부가 개구된 파이프 형상으로 마련된다.The side wall portion (184a) for the pocket portion is coupled to the plate body portion (183). The side wall portion 184a for the pocket portion is provided in the shape of a pipe with an inner hollow and an upper end and an open lower end thereof.

포켓부용 바닥벽부(184b)는 원형의 디스크 형상으로 마련된다. 포켓부용 측벽부(184a)에 결합되어 포켓부용 측벽부(184a)의 하단부를 마감한다. 이러한 포켓부용 측벽부(184a)에는 투과 윈도우(185)가 배치되는 윈도우 배치공(184d)이 형성된다. The bottom wall portion 184b for the pocket portion is provided in a circular disk shape. It is coupled to the side wall portion (184a) for the pocket portion to close the lower end of the side wall portion (184a) for the pocket portion. A window arranging hole 184d in which the transmission window 185 is disposed is formed in the side wall portion 184a for the pocket portion.

투과 윈도우(185)는, 특정 파장의 레이저 빔을 통과시킬 수 있는 창으로서, 레이저 스캐너(161)에서 방출된 레이저 빔이 진공 챔버(110) 내부로 투과되도록 하는 장소를 이룬다.The transmission window 185 is a window through which a laser beam of a specific wavelength can pass, and forms a place in which the laser beam emitted from the laser scanner 161 is transmitted into the vacuum chamber 110.

플레이트용 이동부(187, 188)는 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 연결된다. 이러한 플레이트용 이동부(187, 188)는 스캐너용 이동 플레이트부(181)를 이동시킨다. The plate moving parts 187 and 188 are connected to the scanner moving plate part 181. These plate moving parts 187 and 188 move the scanner moving plate part 181.

플레이트용 이동부(187, 188)는, 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 진공 챔버(110)의 하부벽을 관통하여 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 결합되는 스캐너용 가압 샤프트부(187)와, 스캐너용 가압 샤프트부(187)에 연결되고 진공 챔버(110)의 외부에 배치되며 스캐너용 가압 샤프트부(187)를 업/다운(up/down) 이동시키는 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부(188)와, 스캐너용 가압 샤프트부(187)의 일부를 감싸며 스캐너용 가압 샤프트부(187)가 관통한 진공 챔버(110)의 영역을 밀봉하는 샤프트용 벨로우즈관(K)을 포함한다.As shown in FIGS. 3 to 5, the plate moving parts 187 and 188 penetrate the lower wall of the vacuum chamber 110 and are coupled to the scanner moving plate part 181 ( 187), the scanner pressure shaft movement driving unit connected to the scanner pressure shaft portion 187, disposed outside the vacuum chamber 110, and moving the scanner pressure shaft portion 187 up/down (188) and a bellows tube (K) for a shaft that surrounds a part of the pressure shaft portion for the scanner 187 and seals the region of the vacuum chamber 110 through which the pressure shaft portion for the scanner 187 passes.

스캐너용 가압 샤프트부(187)는 진공 챔버(110)의 하부벽을 관통하여 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 결합된다. The pressure shaft portion 187 for the scanner passes through the lower wall of the vacuum chamber 110 and is coupled to the moving plate portion 181 for the scanner.

스캐너용 가압 샤프트부(187)는 진공 챔버(110)의 하부벽을 관통하여 플레이트 몸체부(183)에 결합된다. 스캐너용 가압 샤프트부(187)는, 도 3 내지 도 5에 자세히 도시된 바와 같이 긴 길이를 갖는 샤프트 형상으로 마련된다. 이러한 스캐너용 가압 샤프트부(187)는 세로 방향으로 배치되어 진공 챔버(110)의 하부벽을 관통한다. The pressure shaft portion 187 for the scanner passes through the lower wall of the vacuum chamber 110 and is coupled to the plate body portion 183. The pressure shaft portion 187 for the scanner is provided in a shaft shape having a long length as shown in detail in FIGS. 3 to 5. The pressure shaft portion 187 for the scanner is disposed in the vertical direction and penetrates the lower wall of the vacuum chamber 110.

본 실시예의 스캐너용 가압 샤프트부(187)의 상단부 영역은 진공 챔버(110)의 내부에 배치되고 스캐너용 가압 샤프트부(187)의 하단부 영역은 진공 챔버(110)의 외부에 배치된다.The upper portion of the pressure shaft portion 187 for a scanner according to the present embodiment is disposed inside the vacuum chamber 110, and the lower portion of the pressure shaft portion 187 for a scanner is disposed outside the vacuum chamber 110.

스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부(188)는 스캐너용 가압 샤프트부(187)에 연결된다. 이러한 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부(188)는 진공 챔버(110)의 외부에 배치되어 스캐너용 가압 샤프트부(187)를 업/다운(up/down) 이동시킨다.The scanner pressure shaft movement driving unit 188 is connected to the scanner pressure shaft unit 187. The pressure shaft moving drive unit 188 for the scanner is disposed outside the vacuum chamber 110 to move the pressure shaft unit 187 for the scanner up/down.

본 실시예에 따른 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부(188)는, 스캐너용 가압 샤프트부(187)가 결합되는 스캐너용 엘엠 블록(188a)과, 스캐너용 엘엠 블록(188a)의 이동을 안내하는 스캐너용 엘엠 가이드(188b)와, 스캐너용 엘엠 블록(188a)에 연결되며 스캐너용 엘엠 블록(188a)을 이동시키는 스캐너용 엘엠 블록용 구동부(188d, 188e)를 포함한다.The scanner pressure shaft movement driving unit 188 according to the present embodiment is for a scanner that guides the movement of the scanner LM block 188a to which the scanner pressure shaft unit 187 is coupled, and the scanner LM block 188a. It includes an LM guide 188b and a scanner LM block driving unit 188d and 188e connected to the scanner LM block 188a and moving the scanner LM block 188a.

스캐너용 엘엠 가이드(188b)는 스캐너용 엘엠 블록(188a)의 이동을 안내한다. 스캐너용 엘엠 가이드(188b)는 스캐너용 엘엠 블록(188a)에 결합된 이동블록(미도시)과, 이동블록(미도시)이 슬라이딩 이동가능하게 연결되는 가이드 레일(미도시)을 포함한다. The scanner LM guide 188b guides the movement of the scanner LM block 188a. The scanner LM guide 188b includes a moving block (not shown) coupled to the scanner LM block 188a, and a guide rail (not shown) to which the moving block (not shown) is slidably connected.

스캐너용 엘엠 블록용 구동부(188d, 188e)는 스캐너용 엘엠 블록(188a)에 연결된다. 이러한 스캐너용 엘엠 블록용 구동부(188d, 188e)는 스캐너용 엘엠 블록(188a)을 이동시킨다. 본 실시예에 따른 스캐너용 엘엠 블록용 구동부(188d, 188e)는, 스캐너용 엘엠 블록(188a)에 결합되는 이동너트(미도시)와, 이동너트(미도시)에 치합되는 스캐너용 볼 스크류(188d)와, 스캐너용 볼 스크류(188d)에 결합되며 스캐너용 볼 스크류(188d)를 회전시키는 스캐너용 구동모터(188e)를 포함한다. The scanner LM block driving units 188d and 188e are connected to the scanner LM block 188a. The scanner LM block driving units 188d and 188e move the scanner LM block 188a. The scanner LM block driving units 188d and 188e according to the present embodiment include a movable nut (not shown) coupled to the scanner LM block 188a, and a scanner ball screw (not shown) engaged with the movable nut (not shown). 188d) and a scanner driving motor 188e that is coupled to the scanner ball screw 188d and rotates the scanner ball screw 188d.

샤프트용 벨로우즈관(K)은 스캐너용 가압 샤프트부(187)의 일부를 감싸며 스캐너용 가압 샤프트부(187)가 관통하는 진공 챔버(110)의 영역을 밀봉한다. 이러한 샤프트용 벨로우즈관(K)은 스캐너용 가압 샤프트부(187)의 업/다운 과정에서 진공 챔버(110)의 진공 상태가 파괴되는 것을 방지한다. 즉 본 실시예의 샤프트용 벨로우즈관(K)은 스캐너용 가압 샤프트부(187)가 관통하는 진공 챔버(110)의 영역을 외부의 대기압 공간에 대해 차폐한다.The bellows pipe K for the shaft surrounds a part of the pressure shaft portion 187 for the scanner and seals the area of the vacuum chamber 110 through which the pressure shaft portion 187 for the scanner passes. The bellows pipe K for the shaft prevents the vacuum state of the vacuum chamber 110 from being destroyed during the up/down process of the pressurizing shaft part 187 for the scanner. That is, the bellows pipe K for a shaft of the present embodiment shields the area of the vacuum chamber 110 through which the pressure shaft portion 187 for a scanner passes through an external atmospheric pressure space.

샤프트용 벨로우즈관(K)의 상단부는 진공 챔버(110)의 외벽에 연결되고 하단부는 스캐너용 엘엠 블록(188a)에 연결된다. 이러한 샤프트용 벨로우즈관(K)은 스캐너용 엘엠 블록(188a)의 승강에 따라 길이가 신축된다. 즉 스캐너용 엘엠 블록(188a)가 상승할 때에는 길이가 줄어들고 스캐너용 엘엠 블록(188a)이 하강할 때에는 길이가 신장된다.The upper end of the bellows pipe K for the shaft is connected to the outer wall of the vacuum chamber 110 and the lower end is connected to the scanner LM block 188a. This shaft bellows pipe (K) is extended and contracted in length according to the lifting of the scanner LM block (188a). That is, when the scanner LM block 188a rises, the length decreases, and when the scanner LM block 188a descends, the length increases.

밀봉부(189)는 스캐너용 이동 플레이트부(181)와 진공 챔버(110)에 연결된다. 이러한 밀봉부(189)는 레이저 스캐너(161)를 진공 챔버(110)의 내부에 대해 차폐한다. 이와 같이 본 실시예에 따른 하향식 기판 에칭장치는, 레이저 스캐너(161)를 진공 챔버(110)의 내부에 대해 차폐하는 밀봉부(189)를 구비함으로서, 진공 챔버(110)의 내부를 밀봉하여 외부 공기가 진공 챔버(110)의 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있다.The sealing part 189 is connected to the moving plate part 181 for the scanner and the vacuum chamber 110. This sealing part 189 shields the laser scanner 161 from the inside of the vacuum chamber 110. As described above, the top-down substrate etching apparatus according to the present embodiment includes a sealing portion 189 that shields the laser scanner 161 from the inside of the vacuum chamber 110, thereby sealing the inside of the vacuum chamber 110 to the outside. Air can be prevented from flowing into the vacuum chamber 110.

이러한 밀봉부(189)는, 상단부가 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 결합되고 하단부가 진공 챔버(110)의 하부벽에 결합되며 길이가 가변되는 스캐너용 벨로우즈관(189a)을 포함한다.The sealing portion 189 includes a scanner bellows tube 189a whose upper end is coupled to the moving plate portion 181 for the scanner, the lower end is coupled to the lower wall of the vacuum chamber 110 and has a variable length.

이러한 스캐너용 벨로우즈관(189a)은 스캐너용 이동 플레이트부(181)의 업/다운 과정에서 진공 챔버(110) 내부의 진공 상태가 파괴되는 것을 방지한다. 즉 본 실시예의 스캐너용 벨로우즈관(189a)은 진공 챔버(110)의 내부를 외부의 대기압 공간에 대해 차폐한다.The scanner bellows tube 189a prevents the vacuum inside the vacuum chamber 110 from being destroyed during the up/down process of the scanner moving plate part 181. That is, the bellows tube 189a for a scanner according to the present embodiment shields the interior of the vacuum chamber 110 from an external atmospheric pressure space.

스캐너용 벨로우즈관(189a)의 상단부는 플레이트 몸체부(183)에 결합되고 하단부는 진공 챔버(110)의 하부벽에 결합된다. 이러한 스캐너용 벨로우즈관(189a)은 플레이트 몸체부(183)의 승강에 따라 길이가 신축된다. 즉, 스플레이트 몸체부(183)가 상승할 때에는 길이가 산장되고 플레이트 몸체부(183)가 하강할 때에는 길이가 작아진다.The upper end of the scanner bellows tube 189a is coupled to the plate body 183 and the lower end is coupled to the lower wall of the vacuum chamber 110. The length of the bellows pipe 189a for a scanner expands and contracts according to the elevation of the plate body portion 183. That is, when the plate body portion 183 is raised, the length is increased, and when the plate body portion 183 is lowered, the length is reduced.

렌즈부(M)에 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 지지된다. 이러한 렌즈부(M)는 레이저 스캐너(161)에서 방출되어 투과 윈도우(185)를 통과한 레이저 빔을 집속시킨다. 본 실시예에서 렌즈부(M)는 포켓부(184)에 착탈 가능하게 결합된다. 따라서, 에칭 공정에 의해 발생된 파티클에 오염된 렌즈부(M)는 새로운 렌즈부(M)로 교체될 수 있다.It is supported by the moving plate part 181 for a scanner to the lens part (M). The lens unit M focuses the laser beam emitted from the laser scanner 161 and passing through the transmission window 185. In this embodiment, the lens unit M is detachably coupled to the pocket unit 184. Accordingly, the lens unit M contaminated with particles generated by the etching process may be replaced with a new lens unit M.

한편, 기판 트레이유닛(130)은 진공 챔버(110)에 연결된다. 이러한 기판 트레이유닛(130)은 기판을 지지하고 기판을 척킹부(미도시) 방향으로 이동시킨다. 본 실시예에서 기판 트레이유닛(130)은, 기판에 마련된 비액티브 영역(G2)에 접촉되는 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130)으로 마련된다. Meanwhile, the substrate tray unit 130 is connected to the vacuum chamber 110. The substrate tray unit 130 supports the substrate and moves the substrate in a chucking portion (not shown). In this embodiment, the substrate tray unit 130 is provided as a non-active area-contact type substrate tray unit 130 that contacts the non-active area G2 provided on the substrate.

이러한 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130)은, 도 7 내지 도 10에 자세히 도시된 바와 같이, 진공 챔버(110)의 내부에 배치되며 기판을 지지하는 기판 지지모듈(140)과, 기판 지지모듈(140)에 연결되며 기판 지지모듈(140)을 척킹부(미도시)에 대하여 업/다운(up/down) 이동시키는 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈(150)을 포함한다.Such a non-active area contact type substrate tray unit 130, as shown in detail in FIGS. 7 to 10, is disposed inside the vacuum chamber 110 and supports a substrate, a substrate support module 140, and a substrate support. It is connected to the module 140 and includes an up/down moving module 150 for a support module that moves the substrate support module 140 up/down with respect to the chucking part (not shown). do.

기판 지지모듈(140)은 진공 챔버(110)의 내부에 배치된다. 이러한 기판 지지모듈(140)은 기판을 지지한다. The substrate support module 140 is disposed inside the vacuum chamber 110. Such a substrate support module 140 supports a substrate.

본 실시예에 따른 기판 지지모듈(140)은, 도 7 내지 도 10에 자세히 도시된 바와 같이, 업/다운(up/down) 이동모듈에 지지되는 지지모듈 프레임부(141)과, 지지모듈 프레임부(141)에 연결되며 기판의 비액티브 영역(G2)에 접촉되는 기판 접촉부(148)를 포함한다. The substrate support module 140 according to the present embodiment includes a support module frame part 141 supported by an up/down moving module, as shown in detail in FIGS. 7 to 10, and a support module frame. It includes a substrate contact portion 148 connected to the portion 141 and in contact with the inactive region G2 of the substrate.

지지모듈 프레임부(141)는 업/다운(up/down) 이동모듈에 지지된다. 이러한 지지모듈 프레임부(141)는, 도 7 내지 도 10에 자세히 도시된 바와 같이, 기판 접촉부(148)가 결합되며 상호 이격되어 배치되는 다수개의 접촉부 장착용 가로 바아부(142)와, 각각의 접촉부 장착용 가로 바아부(142)에 결합되며 상호 이격되어 배치되는 다수개의 세로 바아부(143)와, 세로 바아부(143)에 결합되며 업/다운(up/down) 이동모듈이 결합되는 결합용 가로 바아부(144)와, 접촉부 장착용 가로 바아부(142)와 결합용 가로 바아부(144) 사이에 배치되며 세로 바아부(143)들에 연결되는 연결용 가로 바아부(145)를 포함한다.The support module frame part 141 is supported by an up/down moving module. This support module frame portion 141, as shown in detail in Figures 7 to 10, the substrate contact portion 148 is coupled to a plurality of the contact portion mounting horizontal bar portion 142 disposed to be spaced apart from each other, each A combination in which a plurality of vertical bar portions 143 that are coupled to the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portion and are arranged to be spaced apart from each other, and that are coupled to the vertical bar portion 143 and that an up/down moving module is coupled The horizontal bar portion 145 for connection is disposed between the horizontal bar portion 144 for mounting and the horizontal bar portion 142 for contact portion mounting and the horizontal bar portion 144 for coupling, and is connected to the vertical bar portions 143. Includes.

접촉부 장착용 가로 바아부(142)에는 기판 접촉부(148)가 결합된다. 이러한 접촉부 장착용 가로 바아부(142)는, 도 7 내지 도 10에 자세히 도시된 바와 같이, 다수개로 마련되어 상호 이격되어 배치된다. 본 실시예에서 접촉부 장착용 가로 바아부(142)는 바아 형상으로 마련되어 X축 방향으로 길게 연장되어 마련된다.The substrate contact portion 148 is coupled to the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portion. As shown in detail in FIGS. 7 to 10, the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portion is provided in a plurality and disposed to be spaced apart from each other. In this embodiment, the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portion is provided in a bar shape and extended in the X-axis direction.

세로 바아부(143)는 다수개로 마련되어 상호 이격되어 배치된다. 이러한 세로 바아부(143) 각각은 접촉부 장착용 가로 바아부(142)에 결합되다. 본 실시예에서 세로 바아부(143)는 바아 형상으로 마련되어 X축 방향에 교차하는 Z축 방향으로 길게 연장되어 마련된다.The vertical bar portion 143 is provided in plural and disposed to be spaced apart from each other. Each of these vertical bar portions 143 is coupled to the horizontal bar portion 142 for mounting a contact portion. In this embodiment, the vertical bar portion 143 is provided in a bar shape and extends long in the Z-axis direction crossing the X-axis direction.

결합용 가로 바아부(144)는 세로 바아부(143)들에 결합된다. 이러한 결합용 가로 바아부(144)에는 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈(150)이 결합된다. 본 실시예에서 결합용 가로 바아부(144)는 바아 형상으로 마련되어 X축 방향 및 Z축 방향에 교차하는 Y축 방향으로 길게 연장되어 마련된다. The horizontal bar portion 144 for coupling is coupled to the vertical bar portions 143. The horizontal bar portion 144 for coupling is coupled to an up/down moving module 150 for a support module. In this embodiment, the horizontal bar portion 144 for coupling is provided in a bar shape and extended in a Y-axis direction crossing the X-axis direction and the Z-axis direction.

연결용 가로 바아부(145)는 접촉부 장착용 가로 바아부(142)와 결합용 가로 바아부(144) 사이에 배치된다. 이러한 연결용 가로 바아부(145)는 세로 바아부(143)들에 연결된다. 이러한 연결용 가로 바아부(145)는 바아 형상으로 마련되어 Y축 방향으로 길게 연장되어 마련된다. The connecting horizontal bar portion 145 is disposed between the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portion and the horizontal bar portion 144 for coupling. The horizontal bar portion 145 for this connection is connected to the vertical bar portions 143. The horizontal bar portion 145 for connection is provided in a bar shape and extends long in the Y-axis direction.

본 실시예의 연결용 가로 바아부(145)는, 접촉부 장착용 가로 바아부(142)와 결합용 가로 바아부(144) 사이에 배치되어 세로 바아부(143)들에 결합됨으로써, 세로 방향으로 긴 길이를 가지는 세로 바아부(143)가 기울어지거나 세로 바아부(143)에 흔들림이 발생되는 것을 방지한다.The horizontal bar portion 145 for connection of the present embodiment is disposed between the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portion and the horizontal bar portion 144 for coupling, and is coupled to the vertical bar portions 143, so that it is long in the vertical direction. The vertical bar portion 143 having a length is prevented from being inclined or shaking in the vertical bar portion 143.

기판 접촉부(148)는 접촉부 장착용 가로 바아부(142)에 결합된다. 이러한 기판 접촉부(148)는 기판의 비액티브 영역(G2)에 접촉된다. 본 실시예에서 기판 접촉부(148)는 기판 접촉부(148)는 다수개로 마련된다. 다수개의 기판 접촉부(148)는, 도 7 내지 도 10에 자세히 도시된 바와 같이 미리 결정된 이격간격에 따라 상호 이격되어 배치된다.The substrate contact portion 148 is coupled to the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portion. The substrate contact portion 148 is in contact with the inactive region G2 of the substrate. In this embodiment, the substrate contact portion 148 includes a plurality of substrate contact portions 148. The plurality of substrate contacting portions 148 are disposed to be spaced apart from each other according to a predetermined spacing as shown in detail in FIGS. 7 to 10.

이와 같이 본 실시예에 따른 기판 접촉부(148)들은, 상호 이격되어 배치되는 접촉부 장착용 가로 바아부(142)의 상단부에 상호 이격되어 배치됨으로써, 기판의 중앙영역에 마련된 비액티브 영역(G2)에 접촉되어 기판의 중앙 영역의 처짐을 방지할 수 있다.As described above, the substrate contact portions 148 according to the present embodiment are disposed to be spaced apart from each other at the upper end of the horizontal bar portion 142 for mounting the contact portions disposed to be spaced apart from each other, so that the inactive region G2 provided in the central region of the substrate By contacting, it is possible to prevent sagging of the central region of the substrate.

한편, 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈(150)은 기판 지지모듈(140)에 연결된다. 이러한 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈(150)은 기판 지지모듈(140)을 척킹부(미도시)에 대하여 업/다운(up/down) 이동시킨다. Meanwhile, the up/down moving module 150 for the support module is connected to the substrate support module 140. The support module up/down movement module 150 moves the substrate support module 140 up/down with respect to the chucking part (not shown).

본 실시예에서 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈(150)은, 진공 챔버(110)의 하부벽을 관통하여 지지모듈 프레임부(141)에 결합되는 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)와, 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)에 연결되고 진공 챔버(110)의 외부에 배치되며 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)를 업/다운(up/down) 이동시키는 트레이유닛용 샤프트용 이동 구동부(153, 154, 155)와, 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)의 일부를 감싸며 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)가 관통한 진공 챔버(110)의 영역을 밀봉하는 샤프트용 벨로우즈관(K)을 포함한다.In this embodiment, the up/down moving module 150 for the support module is a pressure shaft part for a tray unit that penetrates the lower wall of the vacuum chamber 110 and is coupled to the support module frame part 141 ( 151 and a tray unit shaft connected to the pressure shaft portion 151 for the tray unit, disposed outside the vacuum chamber 110, and moving the pressure shaft portion 151 for the tray unit up/down The bellows for the shaft that surrounds a part of the moving drive unit 153, 154, 155 for the tray unit and the pressure shaft unit 151 for the tray unit and seals the area of the vacuum chamber 110 through the pressurization shaft unit 151 for the tray unit. Includes tube (K).

트레이유닛용 가압 샤프트부(151)는 진공 챔버(110)의 하부벽을 관통하여 결합용 가로 바아부(144)에 결합된다. 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)는, 도 7 내지 도 10에 자세히 도시된 바와 같이 긴 길이를 갖는 샤프트 형상으로 마련된다. 이러한 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)는 세로 방향으로 배치되어 진공 챔버(110)의 하부벽을 관통한다. The pressure shaft portion 151 for the tray unit penetrates the lower wall of the vacuum chamber 110 and is coupled to the horizontal bar portion 144 for coupling. The pressure shaft portion 151 for the tray unit is provided in a shaft shape having a long length as shown in detail in FIGS. 7 to 10. The pressure shaft portion 151 for the tray unit is disposed in a vertical direction and penetrates the lower wall of the vacuum chamber 110.

본 실시예의 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)의 상단부 영역은 진공 챔버(110)의 내부에 배치되고 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)의 하단부 영역은 진공 챔버(110)의 외부에 배치된다.The upper portion of the pressure shaft portion 151 for the tray unit of the present embodiment is disposed inside the vacuum chamber 110 and the lower portion of the pressure shaft portion 151 for the tray unit is disposed outside the vacuum chamber 110.

트레이유닛용 샤프트용 이동 구동부(153, 154, 155)는 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)에 연결된다. 이러한 트레이유닛용 샤프트용 이동 구동부(153, 154, 155)는 진공 챔버(110)의 외부에 배치되어 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)를 업/다운(up/down) 이동시킨다. The movable drive units 153, 154, and 155 for the shaft for the tray unit are connected to the pressure shaft unit 151 for the tray unit. The tray unit shaft moving drive unit 153, 154, 155 is disposed outside the vacuum chamber 110 to move the tray unit pressurizing shaft unit 151 up/down.

본 실시예에 따른 트레이유닛용 샤프트용 이동 구동부(153, 154, 155)는, 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)가 결합되는 트레이유닛용 엘엠 블록(LM block, 153)과, 트레이유닛용 엘엠 블록(153)의 이동을 안내하는 트레이유닛용 엘엠 가이드(LM guide, 154)와, 트레이유닛용 엘엠 블록(153)에 연결되며 트레이유닛용 엘엠 블록(153)을 이동시키는 트레이유닛용 엘엠 블록용 구동부(155)를 포함한다.The movable drive unit (153, 154, 155) for a shaft for a tray unit according to the present embodiment includes an LM block (153) for a tray unit to which the pressure shaft unit 151 for a tray unit is coupled, and an LM block for a tray unit. An LM guide (154) for a tray unit that guides the movement of the block 153, and an LM block for a tray unit that is connected to the LM block 153 for a tray unit and moves the LM block 153 for the tray unit. Includes a driving unit 155.

트레이유닛용 엘엠 가이드(154)는 트레이유닛용 엘엠 블록(153)의 이동을 안내한다. 트레이유닛용 엘엠 가이드(154)는 트레이유닛용 엘엠 블록(153)에 결합된 이동블록(미도시)과, 이동블록(미도시)이 슬라이딩 이동가능하게 연결되는 가이드 레일(미도시)을 포함한다. The tray unit LM guide 154 guides the movement of the tray unit LM block 153. The tray unit LM guide 154 includes a moving block (not shown) coupled to the tray unit LM block 153 and a guide rail (not shown) to which the moving block (not shown) is slidably connected. .

트레이유닛용 엘엠 블록용 구동부(155)는 트레이유닛용 엘엠 블록(153)에 연결된다. 이러한 트레이유닛용 엘엠 블록용 구동부(155)는 트레이유닛용 엘엠 블록(153)을 이동시킨다. 본 실시예에 따른 트레이유닛용 엘엠 블록용 구동부(155)는, 트레이유닛용 엘엠 블록(153)에 결합되는 이동너트(미도시)와, 이동너트(미도시)에 치합되는 트레이유닛용 볼 스크류(155a)와, 트레이유닛용 볼 스크류(155a)에 결합되며 트레이유닛용 볼 스크류(155a)를 회전시키는 트레이유닛용 구동모터(155b)를 포함한다. The drive unit 155 for the tray unit LM block is connected to the LM block 153 for the tray unit. The drive unit 155 for the tray unit LM block moves the LM block 153 for the tray unit. The drive unit 155 for the tray unit LM block according to the present embodiment includes a moving nut (not shown) coupled to the tray unit LM block 153, and a ball screw for a tray unit engaged with the moving nut (not shown). It includes (155a) and a drive motor (155b) for a tray unit coupled to the ball screw (155a) for the tray unit to rotate the ball screw (155a) for the tray unit.

샤프트용 벨로우즈관(K)은 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)의 일부를 감싸며 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)가 관통하는 진공 챔버(110)의 영역을 밀봉한다. 이러한 샤프트용 벨로우즈관(K)은 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)의 업/다운 과정에서 진공 챔버(110)의 진공 상태가 파괴되는 것을 방지한다. 즉 본 실시예의 샤프트용 벨로우즈관(K)은 트레이유닛용 가압 샤프트부(151)가 관통하는 진공 챔버(110)의 영역을 외부의 대기압 공간에 대해 차폐한다.The bellows pipe K for the shaft surrounds a part of the pressure shaft portion 151 for the tray unit and seals the region of the vacuum chamber 110 through which the pressure shaft portion 151 for the tray unit passes. The bellows pipe K for the shaft prevents the vacuum state of the vacuum chamber 110 from being destroyed during the up/down process of the pressure shaft part 151 for the tray unit. That is, the bellows pipe K for the shaft of the present embodiment shields the area of the vacuum chamber 110 through which the pressure shaft portion 151 for the tray unit passes through the external atmospheric pressure space.

샤프트용 벨로우즈관(K)의 상단부는 진공 챔버(110)의 외벽에 연결되고 하단부는 트레이유닛용 엘엠 블록(153)에 연결된다. 이러한 샤프트용 벨로우즈관(K)은 트레이유닛용 엘엠 블록(153)의 승강에 따라 길이가 신축된다. 즉 트레이유닛용 엘엠 블록(153)가 상승할 때에는 길이가 줄어들고 엘엠 블록(153)이 하강할 때에는 길이가 신장된다.The upper end of the bellows pipe K for the shaft is connected to the outer wall of the vacuum chamber 110 and the lower end is connected to the LM block 153 for the tray unit. This shaft bellows pipe (K) is extended and contracted in length according to the lifting of the tray unit LM block (153). That is, when the tray unit LM block 153 rises, the length decreases, and when the LM block 153 descends, the length increases.

한편, 얼라인용 카메라유닛(미도시)은 진공 챔버(110)의 하부 영역에 배치된다. 이러한 얼라인용 카메라유닛(미도시)은, 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130)과 기판의 얼라인(align)을 위해 진공 챔버(110)에 마련된 윈도우를 통해 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130)과 기판을 촬상한다.Meanwhile, the alignment camera unit (not shown) is disposed in the lower area of the vacuum chamber 110. Such an alignment camera unit (not shown) is a non-active area contact type substrate tray unit through a window provided in the vacuum chamber 110 for alignment of the substrate with the non-active area contact type substrate tray unit 130 130 and the substrate are imaged.

본 실시예에서 얼라인용 카메라유닛(미도시)은 기판의 모서리 또는 기판에 마련된 기판용 마커(미도시)와 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130)의 모서리 영역(예를 들어, 접촉부 장착용 가로 바아부(142)의 모서리 영역) 또는 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130)에 마련된 트레이용 마커(미도시)를 촬상한다.In the present embodiment, the alignment camera unit (not shown) is at the edge of the substrate or the edge region of the substrate tray unit 130 (for example, for mounting a contact portion) with a marker for a substrate (not shown) provided on the substrate. An image of a tray marker (not shown) provided in the edge area of the horizontal bar part 142) or the non-active area-contact type substrate tray unit 130 is captured.

제어유닛(미도시)은 얼라인용 카메라유닛(미도시)과 스테이지유닛(120)에 전기적으로 연결된다. 제어유닛(미도시)은 얼라인용 카메라유닛(미도시)의 정보를 통해 얼라인부(미도시)를 제어하여 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130)과 기판을 얼라인한다.The control unit (not shown) is electrically connected to the alignment camera unit (not shown) and the stage unit 120. The control unit (not shown) controls the alignment unit (not shown) through information of the alignment camera unit (not shown) to align the non-active area contact type substrate tray unit 130 and the substrate.

본 실시예에서 제어유닛(미도시)은 스테이지 이동유닛(170), 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛(130), 레이저유닛(160) 등에도 전기적으로 연결된다.In this embodiment, the control unit (not shown) is also electrically connected to the stage moving unit 170, the non-active area contact type substrate tray unit 130, the laser unit 160, and the like.

이하에서 본 실시예에 따른 하향식 기판 에칭장치의 동작을 스캐너 이동유닛(180)을 위주로 도 2 내지 도 10을 참고하여 설명한다. Hereinafter, the operation of the top-down substrate etching apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2 to 10 with a focus on the scanner moving unit 180.

본 실시예에서는 레이저 빔의 빔 사이즈를 축소시키기 위해 레이저 스캐너(161)와 기판 사이의 거리를 단축시킨다. 레이저 스캐너(161)와 기판 사이의 거리 단축을 위해 플레이트용 이동부(187, 188)가 동작하여 스캐너용 이동 플레이트부(181)를 상승시킨다.In this embodiment, in order to reduce the beam size of the laser beam, the distance between the laser scanner 161 and the substrate is shortened. In order to shorten the distance between the laser scanner 161 and the substrate, the plate moving parts 187 and 188 are operated to raise the scanner moving plate part 181.

스캐너용 이동 플레이트부(181)의 상승에 따라 스캐너용 이동 플레이트부(181)에 결합된 레이저 스캐너(161)도 함께 상승하여 기판과 레이저 스캐너(161)의 사이가 짧아진다.As the scanner moving plate part 181 rises, the laser scanner 161 coupled to the scanner moving plate part 181 also rises, so that the distance between the substrate and the laser scanner 161 is shortened.

이러한 스캐너용 이동 플레이트부(181)의 상승과정에서 스캐너용 벨로우즈관(189a)의 길이가 길어진다. 이와 같이 스캐너용 벨로우즈관(189a)은 스캐너용 이동 플레이트부(181)의 상승 시 길이가 가변됨으로써, 진공 챔버(110) 내부의 진공 분위기를 유지시킬 수 있다.The length of the scanner bellows tube 189a increases during the raising of the scanner moving plate part 181. As described above, the length of the scanner bellows tube 189a is changed when the scanner moving plate portion 181 is raised, so that a vacuum atmosphere in the vacuum chamber 110 can be maintained.

이와 같이 본 실시예의 하향식 기판 에칭장치는, 진공 챔버(110)에 연결되어 진공 챔버(110)의 내부를 밀봉하며 레이저 스캐너(161)가 기판에 대해 접근 및 이격될 수 있도록 레이저 스캐너(161)를 업/다운(up/down) 방향으로 이동시키는 스캐너 이동유닛(180)을 구비함으로써, 레이저 스캐너(161)의 초점거리(focal length)를 단축할 수 있고, 그에 따라 레이저 빔의 빔 사이즈를 축소시킬 수 있다.As described above, the top-down substrate etching apparatus of the present embodiment is connected to the vacuum chamber 110 to seal the interior of the vacuum chamber 110, and the laser scanner 161 is provided so that the laser scanner 161 can be approached and separated from the substrate. By providing the scanner moving unit 180 that moves in the up/down direction, the focal length of the laser scanner 161 can be shortened, thereby reducing the beam size of the laser beam. I can.

이상 도면을 참조하여 본 실시예에 대해 상세히 설명하였지만 본 실시예의 권리범위가 전술한 도면 및 설명에 국한되지는 않는다.Although the present embodiment has been described in detail with reference to the drawings above, the scope of the present embodiment is not limited to the above-described drawings and description.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.As described above, the present invention is not limited to the described embodiments, and it is apparent to those of ordinary skill in the art that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, such modifications or variations will have to be within the scope of the claims of the present invention.

110: 진공 챔버 111: 챔버 관통공
120: 스테이지유닛 130: 기판 트레이유닛
140: 기판 지지모듈 141: 지지모듈 프레임부
142: 접촉부 장착용 가로 바아부 143: 세로 바아부
144: 결합용 가로 바아부 145: 연결용 가로 바아부
148: 기판 접촉부
150: 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈
160: 레이저유닛 161: 레이저 스캐너
170: 스테이지 이동유닛 180: 스캐너 이동유닛
181: 스캐너용 이동 플레이트부 182: 이동 플레이트부 본체
183: 플레이트 몸체부 183a: 절개공
184: 포켓부 184a: 포켓부용 측벽부
184b: 포켓부용 바닥벽부 184c: 삽입홈
184d: 윈도우 배치공 185: 투과 윈도우
187: 스캐너용 가압 샤프트부
188: 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부
188a: 스캐너용 엘엠 블록 188b: 스캐너용 엘엠 가이드
188d: 스캐너용 볼 스크류 188e: 스캐너용 구동모터
189: 밀봉부 189a: 스캐너용 벨로우즈관
M: 렌즈부
110: vacuum chamber 111: chamber through hole
120: stage unit 130: substrate tray unit
140: substrate support module 141: support module frame portion
142: horizontal bar portion for mounting the contact portion 143: vertical bar portion
144: horizontal bar portion for coupling 145: horizontal bar portion for coupling
148: substrate contact portion
150: up/down moving module for support module
160: laser unit 161: laser scanner
170: stage moving unit 180: scanner moving unit
181: moving plate part for scanner 182: moving plate part main body
183: plate body portion 183a: cut hole
184: pocket portion 184a: side wall portion for pocket portion
184b: bottom wall portion for pocket portion 184c: insertion groove
184d: window placement hole 185: transmission window
187: pressure shaft portion for the scanner
188: pressure shaft moving drive unit for the scanner
188a: LM block for scanner 188b: LM guide for scanner
188d: scanner ball screw 188e: scanner drive motor
189: sealing portion 189a: scanner bellows tube
M: lens part

Claims (15)

내부에서 기판에 대한 에칭 공정이 수행되는 진공 챔버;
상기 진공 챔버의 내부에 배치되며, 상기 진공 챔버의 내부로 로딩된 상기 기판을 척킹하는 척킹부를 구비하는 스테이지유닛;
상기 진공 챔버의 하부벽에 형성된 챔버 관통공을 통해 상기 진공 챔버의 하부벽을 관통하며 상기 진공 챔버 내의 기판으로 레이저 빔(Laser Beam)을 조사(照射, irradiation)하여 상기 에칭 공정을 수행하는 레이저 스캐너를 구비하는 레이저유닛; 및
상기 레이저 스캐너를 지지하고, 상기 진공 챔버에 연결되어 상기 진공 챔버의 내부를 밀봉하며, 상기 레이저 스캐너가 상기 기판에 대해 접근 및 이격될 수 있도록 상기 레이저 스캐너를 업/다운(up/down) 방향으로 이동시키는 스캐너 이동유닛을 포함하며,
상기 스캐너 이동유닛은,
상기 레이저 스캐너를 지지하며, 업/다운(up/down) 방향으로 이동되는 스캐너용 이동 플레이트부;
상기 스캐너용 이동 플레이트부에 연결되며, 상기 스캐너용 이동 플레이트부를 이동시키는 플레이트용 이동부; 및
상기 스캐너용 이동 플레이트부와 상기 진공 챔버에 연결되며, 상기 레이저 스캐너를 상기 진공 챔버의 내부에 대해 차폐하는 밀봉부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
A vacuum chamber in which an etching process is performed on the substrate;
A stage unit disposed inside the vacuum chamber and including a chucking portion for chucking the substrate loaded into the vacuum chamber;
A laser scanner that penetrates the lower wall of the vacuum chamber through a chamber through hole formed in the lower wall of the vacuum chamber and performs the etching process by irradiating a laser beam to a substrate in the vacuum chamber A laser unit having a; And
Supports the laser scanner, is connected to the vacuum chamber to seal the interior of the vacuum chamber, and moves the laser scanner in an up/down direction so that the laser scanner can be approached and spaced apart from the substrate. It includes a scanner moving unit to move,
The scanner moving unit,
A moving plate portion for a scanner that supports the laser scanner and moves in an up/down direction;
A plate moving part connected to the moving plate part for the scanner and moving the moving plate part for the scanner; And
A top-down substrate etching apparatus including a sealing portion connected to the moving plate portion for the scanner and the vacuum chamber, and shielding the laser scanner from the inside of the vacuum chamber.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 스캐너용 이동 플레이트부는,
상기 플레이트용 이동부가 결합되는 이동 플레이트부 본체; 및
상기 이동 플레이트부 본체에 결합되며, 상기 레이저 빔이 투과하는 투과 윈도우를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 1,
The moving plate portion for the scanner,
A moving plate main body to which the plate moving part is coupled; And
A top-down substrate etching apparatus including a transmission window coupled to the moving plate body and through which the laser beam passes.
제3항에 있어서,
상기 이동 플레이트부 본체는,
다수개의 절개공이 형성된 플레이트 몸체부; 및
상기 플레이트 몸체부에 연결되며, 상기 절개공에 연통되는 삽입홈을 형성하는 포켓부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 3,
The moving plate part main body,
Plate body portion formed with a plurality of cutout holes; And
A top-down substrate etching apparatus comprising a pocket portion connected to the plate body portion and forming an insertion groove communicating with the cut-out hole.
제4항에 있어서,
상기 포켓부는,
상기 플레이트 몸체부에 결합되는 포켓부용 측벽부; 및
상기 포켓부용 측벽부에 결합되며, 상기 투과 윈도우가 배치되는 윈도우 배치공이 형성된 포켓부용 바닥벽부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 4,
The pocket portion,
A side wall portion for a pocket portion coupled to the plate body portion; And
A top-down substrate etching apparatus including a bottom wall portion for a pocket portion coupled to the side wall portion for the pocket portion and having a window placement hole in which the transmission window is disposed.
제1항에 있어서,
상기 플레이트용 이동부는,
상기 진공 챔버의 하부벽을 관통하여 상기 스캐너용 이동 플레이트부에 결합되는 스캐너용 가압 샤프트부; 및
상기 스캐너용 가압 샤프트부에 연결되고 상기 진공 챔버의 외부에 배치되며, 상기 스캐너용 가압 샤프트부를 업/다운(up/down) 이동시키는 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 1,
The moving part for the plate,
A pressure shaft portion for a scanner that penetrates the lower wall of the vacuum chamber and is coupled to the moving plate portion for the scanner; And
A top-down substrate etching apparatus comprising a pressure shaft moving driver for a scanner connected to the pressure shaft for the scanner, disposed outside the vacuum chamber, and moving the pressure shaft for the scanner up/down.
제6항에 있어서,
상기 스캐너용 가압 샤프트 이동 구동부는,
상기 스캐너용 가압 샤프트부가 결합되는 스캐너용 엘엠 블록(LM block);
상기 스캐너용 엘엠 블록의 이동을 안내하는 스캐너용 엘엠 가이드(LM guide); 및
상기 스캐너용 엘엠 블록에 연결되며, 상기 스캐너용 엘엠 블록을 이동시키는 스캐너용 엘엠 블록용 구동부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 6,
The pressure shaft movement driving unit for the scanner,
An LM block for a scanner to which the pressure shaft portion for the scanner is coupled;
An LM guide for a scanner guiding the movement of the scanner LM block; And
A top-down substrate etching apparatus including a driver for a scanner LM block that is connected to the scanner LM block and moves the scanner LM block.
제1항에 있어서,
상기 밀봉부는,
상단부가 상기 스캐너용 이동 플레이트부에 결합되고 하단부가 상기 진공 챔버의 하부벽에 결합되며 길이가 가변되는 스캐너용 벨로우즈관을 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 1,
The sealing part,
A top-down substrate etching apparatus comprising a scanner bellows tube having an upper end portion coupled to the moving plate portion for the scanner, a lower portion coupled to the lower wall of the vacuum chamber, and having a variable length.
제1항에 있어서,
상기 스캐너 이동유닛은,
상기 스캐너용 이동 플레이트부에 지지되며, 상기 레이저 빔을 집속시키는 렌즈부를 더 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 1,
The scanner moving unit,
A top-down substrate etching apparatus that is supported on the moving plate for the scanner and further comprises a lens unit for focusing the laser beam.
제1항에 있어서,
상기 진공 챔버에 연결되며, 상기 기판을 지지하고 상기 기판을 척킹부 방향으로 이동시키는 기판 트레이유닛을 더 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 1,
A top-down substrate etching apparatus further comprising a substrate tray unit connected to the vacuum chamber and supporting the substrate and moving the substrate in a chucking portion direction.
제10항에 있어서,
상기 기판 트레이유닛은,
상기 기판에 마련된 비액티브 영역에 접촉되는 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛을 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 10,
The substrate tray unit,
A top-down substrate etching apparatus comprising a non-active area-contact type substrate tray unit in contact with a non-active area provided on the substrate.
제11항에 있어서,
상기 비액티브 영역 접촉형 기판 트레이유닛은,
상기 진공 챔버의 내부에 배치되며, 상기 기판을 지지하는 기판 지지모듈; 및
상기 기판 지지모듈에 연결되며, 상기 기판 지지모듈을 상기 척킹부에 대하여 업/다운(up/down) 이동시키는 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈을 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 11,
The inactive area contact type substrate tray unit,
A substrate support module disposed inside the vacuum chamber and supporting the substrate; And
A top-down substrate etching apparatus comprising an up/down moving module for a support module connected to the substrate support module and moving the substrate support module up/down with respect to the chucking part.
제12항에 있어서,
상기 기판 지지모듈은,
상기 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈에 지지되는 지지모듈 프레임부; 및
상기 지지모듈 프레임부에 연결되며, 상기 기판의 상기 비액티브 영역에 접촉되는 기판 접촉부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 12,
The substrate support module,
A support module frame part supported by an up/down moving module for the support module; And
A top-down substrate etching apparatus including a substrate contact portion connected to the support module frame portion and in contact with the inactive region of the substrate.
제13항에 있어서,
상기 지지모듈 프레임부는,
상기 기판 접촉부가 결합되며, 상호 이격되어 배치되는 다수개의 접촉부 장착용 가로 바아부;
각각의 상기 접촉부 장착용 가로 바아부에 결합되며, 상호 이격되어 배치되는 다수개의 세로 바아부; 및
상기 세로 바아부에 결합되며, 상기 업/다운(up/down) 이동모듈이 결합되는 결합용 가로 바아부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 13,
The support module frame part,
A horizontal bar portion for mounting a plurality of contact portions which are coupled to the substrate contact portions and are disposed to be spaced apart from each other;
A plurality of vertical bar portions coupled to each of the horizontal bar portions for mounting the contact portions and disposed to be spaced apart from each other; And
A top-down substrate etching apparatus including a coupling horizontal bar portion coupled to the vertical bar portion and to which the up/down moving module is coupled.
제13항에 있어서,
상기 지지모듈용 업/다운(up/down) 이동모듈은,
상기 진공 챔버의 하부벽을 관통하여 상기 지지모듈 프레임부에 결합되는 트레이유닛용 가압 샤프트부; 및
상기 트레이유닛용 가압 샤프트부에 연결되고 상기 진공 챔버의 외부에 배치되며, 상기 트레이유닛용 가압 샤프트부를 업/다운(up/down) 이동시키는 트레이유닛용 샤프트용 이동 구동부를 포함하는 하향식 기판 에칭장치.
The method of claim 13,
The up/down moving module for the support module,
A pressure shaft portion for a tray unit that penetrates the lower wall of the vacuum chamber and is coupled to the support module frame portion; And
Top-down substrate etching apparatus including a moving drive for a shaft for a tray unit connected to the pressure shaft for the tray unit and disposed outside the vacuum chamber, and for moving the pressure shaft for the tray unit up/down .
KR1020190172687A 2019-12-23 2019-12-23 Apparatus for etching substrates KR102243720B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190172687A KR102243720B1 (en) 2019-12-23 2019-12-23 Apparatus for etching substrates

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190172687A KR102243720B1 (en) 2019-12-23 2019-12-23 Apparatus for etching substrates

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102243720B1 true KR102243720B1 (en) 2021-04-23

Family

ID=75738008

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190172687A KR102243720B1 (en) 2019-12-23 2019-12-23 Apparatus for etching substrates

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102243720B1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001276986A (en) * 2000-03-29 2001-10-09 Nec Corp Laser processing apparatus and method
KR20070013776A (en) 2005-07-27 2007-01-31 김대겸 Fixing device of advertisement sign
KR20160109839A (en) * 2015-03-13 2016-09-21 주식회사 에스에프에이 Apparatus for etching
KR20170087587A (en) * 2016-01-20 2017-07-31 삼성디스플레이 주식회사 Apparatus for etching glass using laser
KR20180073756A (en) * 2016-12-22 2018-07-03 삼성디스플레이 주식회사 Apparatus for etching substrates

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001276986A (en) * 2000-03-29 2001-10-09 Nec Corp Laser processing apparatus and method
KR20070013776A (en) 2005-07-27 2007-01-31 김대겸 Fixing device of advertisement sign
KR20160109839A (en) * 2015-03-13 2016-09-21 주식회사 에스에프에이 Apparatus for etching
KR20170087587A (en) * 2016-01-20 2017-07-31 삼성디스플레이 주식회사 Apparatus for etching glass using laser
KR20180073756A (en) * 2016-12-22 2018-07-03 삼성디스플레이 주식회사 Apparatus for etching substrates

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104377148A (en) Sealing apparatus and substrate-sealing method
JPWO2011162261A1 (en) Method for observing semiconductor devices using an adsorber that adsorbs solid immersion lenses
JP2011231384A (en) Film forming device and alignment method
KR102243720B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR101912732B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR101913579B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR101912747B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR101906288B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR102229165B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR102296394B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR20200051322A (en) Die ejecting apparatus
KR102166646B1 (en) Laser processing equipment and apparatus for etching device having the same
KR101913580B1 (en) Apparatus for etching substrates
KR102003229B1 (en) A laser etching machine combined with drilling
KR20200080677A (en) Apparatus for etching substrates and etching methods the same
CN106733543B (en) Ultraviolet curing machine
TW201921404A (en) Electron beam apparatus and device manufacturing method
KR20190142308A (en) Micro-LED On-Board Placing method and Placing device
KR102243721B1 (en) Laser processing equipment and apparatus for etching device having the same
KR20210078946A (en) Die ejector and die transfer apparatus including the same
JP2020120059A (en) Laser processing apparatus and manufacturing method of display device
KR102648635B1 (en) laser processing device
KR20190133988A (en) Micro-LED On-Board Placing method and Placing device
KR101479944B1 (en) Centering apparatus of glass and organic material depositing system including the same
KR20200136528A (en) Apparatus for processing substrate and processing method of substrate

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant