KR102171905B1 - 오염 방지 기능이 향상된 efem - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM은 내부에 기판이송챔버가 형성되며 유입관부로 유동하여 기판이송챔버로 공급되는 기체가 배출되는 배출구가 구비된 본체와, 상기 본체에 구비되어 기체를 공급하는 통로가 되는 유입관부와, 상기 기판이송챔버의 상부로 본체에 구비되어 유입관부를 통하여 온 기체를 기판이송챔버로 공급하는 팬필터유닛을 포함하며;
상기 팬필터유닛의 상부로 공간이 형성되고 상기 유입관부에서 연장된 연결관의 단부가 공간으로 연장되어 연결관에서 공간으로 배출된 기체는 공간에서 유동 속도가 감소하며, 팬필터유닛에 포함된 팬의 작동으로 하부로 유동하고 필터를 거쳐 기판이송챔버로 공급되는 것을 특징으로 하는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM에 관한 것이다.

Description

오염 방지 기능이 향상된 EFEM{An EFEM Having Improved Pollution Prevention}
본 발명은 반도체 설비에 사용되는 EFEM에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 내부 및 웨이퍼의 오염 방지 기능이 향상된 EFEM에 관한 것이다.
EFEM(Equipment Front End Module)은 반도체 공정용 설비나 측정 장비에 결합하여 청정 상태에서 웨이퍼가 핸들링될 수 있도록 하는 인터페이스 모듈로, 구체적으로 반도체 제조라인에서 런 카세트(FOUP; Front Opening Unified Pod)에 있는 웨이퍼를 공정 모듈로 공급하는데 사용되는 인터페이스 모듈이다.
도 1은 종래의 EFEM을 설명하기 위한 도면이며, 도 1에 도시된 바와 같이 EFEM(10)은 고정챔버(30)에 웨이퍼(60)를 공급하기 위한 인터페이스 모듈로서, 고정챔버(30)의 전단에 위치하는 로드락 챔버(20)에 연결된다. 복수 개의 웨이퍼(60)가 탑재된 런 카세트(50)는 로드 스테이션(40) 상에 놓이며, 런 카세트(50)와 EFEM(10) 사이에는 도어(51)가 설치된다.
런 카세트(50)에 탑재되어 있는 웨이퍼(60)는 도어(51)가 개방된 후에 프레임(16) 내에 형성된 기판 이송 챔버(15) 내의 기판이송로봇(70)에 의하여 로드락 챔버(20)로 이송된 후 고정챔버(30)에서 제조공정을 거치게 된다. 고정챔버(30)에서 제조공정을 마친 웨이퍼(60)는 로드락 챔버(20)를 거쳐 다시 기판 이송 챔버(15) 내부의 이송로봇(70)에 의하여 런 카세트(50)에 탑재된다. 이러한 단계들을 거쳐 공정이 완료된 모든 웨이퍼들이 런 카세트(50) 내에 적재되면, 런 카세트(50)의 도어(51)를 닫고 런 카세트(50)를 EFEM(10)으로부터 제거하게 된다.
EFEM(10)의 기판 이송 챔버(15)의 상부로 프레임(16)에는 팬필터유닛(12)이 구비되고, 팬필터유닛(12)은 팬(Fan)과 필터(Filter)가 일체화된 것으로써, 외부의 청정실(Clean Room)로부터 유입된 공기를 필터를 통해 여과시켜 기판 이송 챔버(15)로 다운 플로우(Down Flow)시키는 역할을 한다. 상기 프레임(16)의 하부에는 기판 이송 챔버(15)로 연통되어 유입된 공기의 배출을 위한 배기구가 설치된다. 팬필터유닛(12)에 의해서 외부 청정실의 공기는 EFEM(10)의 기판 이송 챔버(15)로 흡기되고 배기구에 설치된 댐퍼(미도시) 조절을 통해 공기의 흐름량을 조절한다. 상기 기판 이송 챔버(15)의 내부 청정도를 유지하기 위해 외부 공기가 유입되지 않도록 압력을 대기압보다 약간 높은 양압 조건으로 유지하도록 한다. 런 카세트(50)가 도어(51)를 통해 기판 이송 챔버(15)와 연결된 상태이므로 런 카세트(50) 내부도 동일하게 양압으로 유지된다.
종래의 EFEM(10)에는 팬필터유닛(12)이 구비되어 있으나, 외부에서 유입되는 오염원의 제거가 완벽하지 않았으며, 가공 후 고온으로 된 웨이퍼(60)가 로드락 챔버(20)에서 EFEM(10)의 기판 이송 챔버(15) 내부로 이동될 때 급격한 온도 변화가 발생하고 외부의 공기 중 미량 존재하는 각종 혼합물(O2, N2, Ar, 수분 등)의 이물질이 가공된 웨이퍼 위에 묻어나온 가스와 반응하여 웨이퍼의 불량이 발생하는 문제점이 있었다.
대한민국 등록번호 제10-1744953호 등록특허공보 대한민국 공개번호 제10-2004-0064326호 공개특허공보
본 발명은 상기와 같은 종래 기술이 가지는 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 팬필터유닛의 상부에 공간을 형성하고 그 공간으로 기체를 공급하여 기체의 유동속도를 늦춰 기체에 혼합된 이물질이 필터에 더 효과적으로 걸러지며, 공기 중에 존재하는 각종 혼합물질(O2, N2, Ar, 수분 등)이 웨이퍼에 묻어 있는 각종 공정용 가스와 반응하는 것을 방지하여 웨이퍼 내부의 패턴 불량을 방지하고, 웨이퍼에 묻어나온 공정용 가스가 EFEM 내벽의 온도 변화 혹은 기류의 불량으로 EFEM 내벽에 증착되어 EFEM 내부의 새로운 오염원으로 되는 것을 방지할 수 있는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따르는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM은 내부에 기판이송챔버가 형성되며 유입관부로 유동하여 기판이송챔버로 공급되는 기체가 배출되는 배출구가 구비된 본체와, 상기 본체에 구비되어 기체를 공급하는 통로가 되는 유입관부와, 상기 기판이송챔버의 상부로 본체에 구비되어 유입관부를 통하여 온 기체를 기판이송챔버로 공급하는 팬필터유닛을 포함하며;
상기 팬필터유닛의 상부로 공간이 형성되고 상기 유입관부에서 연장된 연결관의 단부가 공간으로 연장되어 연결관에서 공간으로 배출된 기체는 공간에서 유동 속도가 감소하며, 팬필터유닛에 포함된 팬의 작동으로 하부로 유동하고 필터를 거쳐 기판이송챔버로 공급되는 것을 특징으로 하는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM을 제공한다.
상기에서, 연결관에는 유동하는 기체를 가열하는 연결관히터가 구비되어 유입관부를 통하여 공급되는 기체는 가열되어 기판이송챔버로 공급되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 연결관은 하향하여 공간을 이루는 측방 패널의 측방에서 공간의 중심을 향하여 연장되고, 단부는 하향 절곡되어 배출되는 기체는 하향 유동 배출되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 팬필터유닛의 상부로 공간에는 연결관의 단부와 마주하는 분산부가 설치되며, 상기 분산부의 상면은 연결관의 단부로부터 하향 이격되고 연결관의 단면적보다 큰 면적을 가져 연결관으로부터 하향 배출된 기체는 분산부의 상면을 따라 측방으로 유동 방향이 변경되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 팬필터유닛의 하부로 기판이송챔버에는 서로 나란하고 이격되며 양단이 본체에 고정된 복수의 배출관부가 더 포함되며; 상기 유입관부는 분지된 복수의 분지관을 더 포함하고;
상기 배출관부는 그 길이 방향을 따라 이격되며 노즐공이 형성된 복수의 노즐을 가지는 배출관을 포함하고, 상기 배출관에 분지관이 연결되어, 유입관으로 유입된 기체는 분지관을 통하여 배출관으로 유동하고 배출관의 노즐공을 통하여 기판이송챔버로 배출되는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 배출관부는 상기 노즐이 하부로 노출되도록 배출관을 감싸는 관커버와, 상기 배출관과 관커버 사이에 형성된 공간에 충진된 단열재로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기에서, 배출관을 흐르는 기체의 유량이 제어되어, 상기 배출관의 노즐을 통하여 분사되는 기체의 속도는 패널에 가까운 배출관부에서 패널로부터 멀어지는 내측 배출관부로 갈수록 감소하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM에서 고온으로 데워진 기체는 기판이송챔버 내의 온도가 전체적으로 일정하게 유지되도록 하여 가공 중 웨이퍼의 온도가 일정 시간 유지되도록 하며, 한 종류의 순수 가스가 팬필터유닛을 통해 기판이송챔버 내로 공급되기 때문에 가공 후 웨이퍼에 묻어나오는 가스와의 반응을 방지되는 효과가 있다. 특히, 팬필터유닛을 통해 기판이송챔버로 배출되는 가열된 가스는 기판이송챔버의 내벽에 폴리머가 부착되지 않도록 하는 효과가 있다.
도 1은 종래의 EFEM을 설명하기 위한 일부 단면 측면도이며,
도 2는 본 발명에 따르는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM을 도시한 개략적인 측면도이며,
도 3은 도 2의 A방향에서 도시한 상부 일부 측면도이며,
도 4는 본 발명에 구비되는 유입관부를 설명하기 위하여 도시한 개략적인 평면도이며,
도 5는 도 2의 "B"부를 확대 도시한 사시도이며,
도 6은 도 2의 A-A선에 따른 배출관부를 도시한 단면도이다.
이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따르는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM에 대하여 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명에 따르는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM을 도시한 개략적인 측면도이며, 도 3은 도 2의 A방향에서 도시한 상부 일부 측면도이며, 도 4는 본 발명에 구비되는 유입관부를 설명하기 위하여 도시한 개략적인 평면도이며, 도 5는 도 2의 "B"부를 확대 도시한 사시도이며, 도 6은 도 2의 A-A선에 따른 배출관부를 도시한 단면도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르는 EFEM(100)은 본체(101)와, 로드스테이션(180)과, 런카세트(150)와, 로드락챔버(120)와, 고정챔버(130)와, 유입관부(110)와, 팬필터유닛을 포함하여 이루어진다.
상기 본체(101)는 중공체로 형성된다. 상기 본체(101)는 프레임(105)과 복수의 패널(도시하지 않음)로 이루어진다.
상기 프레임(105)은 본체(101)의 골격이 된다.
상기 패널은 판상이며 복수로 구비된다. 상기 패널은 프레임(105)에 결합되어 본체(101) 내부에 기판이송챔버(WS)와 공간(S)을 형성한다. 상기 기판이송챔버(WS)는 본체(101) 내의 하부에 형성되며, 공간(S)은 기판이송챔버(WS)의 상부로 형성된다. 상기 기판이송챔버(WS)의 하부에는 유입관부(110)로 유동하여 기판이송챔버(WS)로 공급되는 기체가 배출되는 배출구(101a)가 구비된다. 상기 배출구(101a)에는 팬(도시하지 않음) 등이 구비되어 기판이송챔버(WS) 내 기체가 강제 배출되도록 한다. 상기 본체(101)에는 상기 프레임(105)에 패널이 결합되어 기판이송챔버(WS)의 측방으로 제어장치(도시하지 않음)가 설치되는 공간이 더 형성된다.
상기 본체(101)는 상기 기판이송챔버(WS)와 공간(S)으로 공급되는 기체가 외부로 누출되지 않도록 프레임(105)과 패널 사이에 고무가스켓이나 오링이 구비되어 본체(101)의 내부가 밀폐된다.
상기 본체(101)의 기판이송챔버(WS)의 일측에는 로드스테이션(180)이 구비되고, 기판이송챔버(WS)의 타측에는 로드락챔버(120)가 연결된다. 로드스테이션(180) 상에는 복수 개의 웨이퍼가 탑재된 런카세트(150)와 본체(101) 사이에는 도어(151)가 설치된다. 상기 로드락챔버(120)를 중심으로 반대쪽에는 고정챔버(130)가 연결되어 구비된다. 상기 로드스테이션(180), 로드락챔버(120), 고정챔버(130)는 종래 기술에서 설명하였으므로 이에 대한 내용 기재는 생략한다.
상기 본체(101)에는 상기 기판이송챔버(WS)의 상부로 팬필터유닛이 설치되고, 팬필터유닛의 상부로 상부패널과 팬필터유닛 사이에 공간(S)이 형성된다. 상기 공간(S)은 팬필터유닛의 단면적과 같은 크기의 단면적을 가지도록 형성된다.
상기 유입관부(110)는 본체(101)에 구비되어 기판이송챔버(WS)로 기체를 공급하는 역할을 한다. 기체로는 질소, 아르곤 등이 가능하다. 기체는 유입관부(110)에서 가열되어 본체(101) 내의 공간(S)으로 공급된다.
상기 유입관부(110)는 공간(S)의 상부에 위치하도록 본체(101)에 설치된다. 상기 유입관부(110)는 공간(S)을 형성하는 상부패널의 상부에 구비된다. 상기 유입관부(110)는 상부패널의 상부에 상향 개구된 설치부재(110-1)가 설치되고, 그 설치부재(110-1)에 설치될 수도 있다.
상기 유입관부(110)는 유입관(111)과 연결관(115)을 포함하여 이루어진다.
상기 유입관(111)은 기체공급부(미도시)에 연결되어 구비된다. 상기 유입관(111)에는 유입유량제어부(111a, MFC, Liquid Mass Flow Controller)와 유입관밸브(111b)가 구비된다.
상기 유입유량제어부(111a)는 유입관(111)을 흐르는 기체의 유량이 유량게이지에 의하여 센싱되고 이 정보가 유입유량제어부(111a)로 전달되어 유입유량제어부(111a)에 구비된 밸브의 개폐정도가 제어되어 유입관(111)으로 흐르는 유량이 제어된다.
상기 유입관밸브(111b)는 유입관(111)을 흐르는 기체의 유량을 조절한다. 상기 유입관밸브(111b)는 도시하지 않은 제어부에 연결되어 개폐가 제어된다. 상기 유입관밸브(111b)는 수동으로 개폐되는 밸브가 설치될 수 있다.
상기 연결관(115)은 상기 유입관(111)에 연결되어 구비된다. 상기 연결관(115)은 유입관(111)으로부터 연장되고, 하향하여 공간(S)을 이루는 측방 패널의 측방에서 공간(S)의 중심을 향하여 연장되며, 단부는 하향 절곡된다. 상기 연결관(115)의 단부는 공간(S)으로 연장되어 구비된다. 상기 연결관(115)은 본체(101)의 상부에서 상부 패널을 하향 관통하여 본체(101) 내에 구비될 수도 있다. 즉, 상기 연결관(115)은 상부 패널을 하향 관통하여 공간(S) 내에서 공간(S)의 중심을 향하여 연장되며, 단부는 하향 절곡되어 구비될 수 있다. 상기 유입관(111)으로부터 연결관(115)으로 유동 되는 기체는 연결관(115)의 단부를 통해 공간(S)으로 하향 유동 배출된다.
상기 연결관(115)에는 연결관밸브(115a)와, 연결관유량제어부(115c, MFC, Liquid Mass Flow Controller)와, 연결관히터(115b)가 구비된다.
상기 연결관밸브(115a)는 상기 유입관(111)과 연결되는 단부에 인접하여 구비된다. 상기 연결관밸브(115a)는 연결관(115)을 흐르는 기체의 유량을 조절한다. 상기 연결관밸브(115a)는 도시하지 않은 제어부에 연결되어 개폐가 제어된다. 상기 연결관밸브(115a)는 수동으로 개폐되는 밸브가 설치될 수 있다.
상기 연결관유량제어부(115c)는 연결관(115)을 흐르는 기체의 유량이 유량게이지에 의하여 센싱되고 이 정보가 연결관유량제어부(115c)로 전달되어 연결관유량제어부(115c)에 구비된 밸브의 개폐정도가 제어되어 연결관(115)으로 흐르는 유량이 제어된다.
상기 연결관히터(115b)는 연결관(115)에 흐르는 기체를 가열한다. 상기 연결관히터(115b)는 연결관(115) 내로 열선이 돌출되도록 구비된다. 상기 연결관히터(115b)는 연결관(115)을 감싸는 열선으로 하는 것도 가능하다. 상기 연결관(115) 내에 도시하지 않은 온도센서에서 센싱된 온도 신호는 제어부로 전달되어 연결관히터(115b)로의 전기가 제어되며 연결관(115)을 흐르는 기체의 온도가 조절된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 팬필터유닛은 공간(S)의 하부로 구비된다. 상기 팬필터유닛은 공간(S)과 기판이송챔버(WS) 사이에 구비된다. 상기 팬필터유닛은 필터(170)와, 팬(160)과, 분산부(103)로 이루어진다.
상기 필터(170)는 공간(S)과 기판이송챔버(WS) 사이에 구비된다. 상기 필터(170)는 예를 들어 헤파필터로 구비될 수 있다.
상기 팬(160)은 상기 필터(170)의 상부로 구비된다. 상기 팬(160)은 팬프레임(161)에 고정되어 구비된다. 상기 팬(160)은 1개 이상 구비된다. 상기 팬(160)은 공간(S) 내의 기체를 기판이송챔버(WS)로 고르게 공급하는 역할을 한다. 상기 팬(160)은 회전 속도가 1500∼3500RPM인 저속으로 회전하며, 바람직하게 상기 팬(160)의 회전 속도는 2200∼2800RPM이다. 상기 팬(160)의 회전 속도는 기체의 유속 및 환경에 따라 변경 가능하다.
상기 분산부(103)는 상기 팬프레임(161)의 상부로 상기 공간(S)에 위치하는 연결관(115)의 단부와 마주하여 설치된다. 상기 분산부(103)는 공간(S)의 중심부에 위치한다. 상기 분산부(103)는 상기 연결관(115)의 단부로부터 하향 이격되어 구비된다. 상기 연결관(115)의 단부는 상기 분산부(103)의 상면(103a) 중심에 위치한다. 상기 분산부(103)는 상기 연결관(115)의 단면적보다 큰 면적을 갖는다. 상기 분산부(103)의 단면적이 연결관(115)의 단면적보다 커 상기 연결관(115)으로부터 하향 배출되는 기체는 분산부(103)의 상면(103a)을 따라 측방으로 유동 방향이 변경된다. 상기 분산부(103)의 상면(103a)에는 중심으로부터 방사상으로 연장된 오목한 홈이 원주 방향을 따라 복수개 형성된다. 상기 분산부(103)의 상면(103a)에 형성된 홈에 의해 연결관(115)의 단부에서 배출된 기체는 분산부(103) 상면(103a)에 형성된 오목한 홈을 따라 중심으로부터 방사상으로 유동하여 공간(S)으로 퍼져 나간다.
상기 연결관(115)으로부터 배출되는 기체는 상기 분산부(103)에 의해 공간(S)으로 퍼지는 유동을 하므로 기체의 유동 속도는 감소하게 된다. 공간(S)으로 퍼져나간 기체는 공간(S)의 하부에 구비된 팬(160)의 작동으로 하향 유동하며 필터(170)를 거쳐 기판이송챔버(WS)로 공급된다.
공간(S)에서 속도가 늦어진 기체는 저속으로 회전하는 팬(160)의 작동에 의해 하향 유동하므로 기판이송챔버(WS)의 단면적에 걸쳐 고르게 하향 유동한다. 따라서 하향 유동하여 기판이송챔버(WS)를 이루는 내벽에 폴리머가 부착되는 것이 방지된다. 그리고 기판이송챔버(WS) 내의 온도를 전체적으로 일정하게 유지하는 것이 가능하다.
본 발명에 따르는 EFEM(100)에는 유입관부(110)의 유입관(111)으로부터 분지되는 분지관(113)과, 분지관(113)에 연결되어 기판이송챔버(WS)에 구비되는 배출관부(140)가 더 구비된다.
상기 분지관(113)은 유입관(111)에 그 길이 방향을 따라 서로 이격되어 복수로 구비된다. 상기 분지관(113)의 연장 방향을 "길이 방향"이라 하고, 복수의 분지관(113)이 이격된 방향을 '폭 방향'이라 한다.
상기 분지관(113)은 상기 연결관(115)을 중심으로 폭 방향으로 이격되어 복수로 구비된다. 상기 복수의 분지관(113)은 서로 나란하게 구비되며, 연결관(115)과도 나란하게 구비된다. 상기 분지관(113)은 상기 유입관(111)으로부터 분지되고 연장되어 본체(101)의 측면을 따라 기판이송챔버(WS)를 이루는 측부 패널까지 하향 연장된다. 상기 분지관(113)은 본체(101)의 상부에서 상부 패널을 하향 관통하고, 본체(101) 내에서 기판이송챔버(WS)를 이루는 측부 패널까지 하향 연장되어 구비될 수도 있다.
상기 분지관(113)에는 분지관밸브(113a)와, 분지관유량제어부(113c, MFC, Liquid Mass Flow Controller)와, 분지관히터(113b)가 구비된다.
상기 분지관밸브(113a)는 상기 유입관(111)으로부터 분지되는 단부에 인접하여 구비된다. 상기 분지관밸브(113a)는 분지관(113)을 흐르는 기체의 유량을 조절한다. 상기 분지관밸브(113a)는 도시하지 않은 제어부에 연결되어 개폐가 제어된다. 상기 분지관밸브(113a)는 수동으로 개폐되는 밸브가 설치될 수 있다.
상기 분지관유량제어부(113c)는 분지관(113)을 흐르는 기체의 유량이 유량게이지에 의하여 센싱되고 이 정보가 분지관유량제어부(113c)로 전달되어 분지관유량제어부(113b)에 구비된 밸브의 개폐 정도가 제어되어 분지관(113)으로 흐르는 유량이 제어된다.
상기 분지관히터(113b)는 분지관(113)을 흐르는 기체를 가열한다. 상기 분지관히터(113b)는 분지관(113) 내로 열선이 돌출되도록 구비된다. 상기 분지관히터(113b)는 분지관(113)을 감싸는 열선으로 하는 것도 가능하다. 분지관(113) 내에 도시하지 않은 온도센서에서 센싱된 온도 신호는 제어부로 전달되어 분지관히터(113b)로의 전기가 제어되며 분지관(113)을 흐르는 기체의 온도가 조절된다.
도 2 및 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 배출관부(140)는 상기 팬필터유닛의 하부로 위치한다. 상기 배출관부(140)는 복수로 구비되며, 복수의 배출관부(140)는 나란하며 서로 이격되어 위치한다. 상기 배출관부(140)는 그 길이 방향 양측이 배출관브라켓(147)에 의하여 프레임(105)에 설치되어 필터(170)의 하부로 위치한다. 상기 배출관부(140)는 상부가 프레임(105)에 설치된 배출관브라켓(147)에 배출관부(140)의 길이 방향 양단이 삽입되어 설치된다.
이하에서는 복수의 배출관부(140)가 이격된 방향을 '폭 방향'이라 하고, 배출관부(140)의 길이 방향을 '길이 방향'으로 한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 상기 배출관부(140)는 배출관(141)과, 노즐(143)과, 관커버(142)와, 단열재(145)로 이루어진다.
상기 배출관(141)은 상부가 프레임(105)에 설치된 배출관브라켓(147)에 배출관(141)의 길이 방향 양단이 삽입되어 설치된다. 상기 배출관(141)은 일단이 상기 분지관(113)과 연결되도록 설치된다. 상기 배출관(141)의 일단은 막히고, 타단은 상기 분지관(113)의 단부에 연결되어 구비된다. 상기 배출관(141)의 일단이 막히도록 구비됨으로써 분지관(113)에서 배출관(141)으로 유동된 기체는 노즐(143)을 통하여 기판이송챔버(WS)로 하향 분사되며 공급한다.
상기 노즐(143)은 배출관(141)의 하부에 배출관(141)의 길이 방향을 따라 이격되어 복수로 구비된다. 상기 노즐(143)은 배출관(141)으로부터 하향 돌출되어 상하로 개구된 노즐공(143a)이 형성된다.
상기 관커버(142)는 상기 노즐(143)이 하부로 노출되도록 배출관(141)을 감싸도록 구비된다. 상기 관커버(142)는 배출관(141)을 감싸며 배출관(141)과 관커버(142) 사이에 공간이 형성되도록 구비된다. 상기 분지관(113)이 본체(101) 내에 구비된 경우, 상기 분지관(113)은 관커버(142)의 상부를 관통하여 배출관(141)에 연결되어 구비된다.
상기 단열재(145)는 상기 배출관(141)과 관커버(142) 사이에 형성된 공간에 충진되어 구비된다. 상기 단열재(145)는 배출관(141)을 유동하는 기체의 온도를 유지하는 역할을 한다.
기체공급부의 기체는 유입관(111)을 통하여 각 분지관(113)으로 유동하고 배출관부(140)의 노즐(143)을 통하여 기판이송챔버(WS)로 분사 공급된다. 기체는 분지관(113)을 유동하면서 분지관히터(113b)에 의하여 가열되어 배출관(141)으로 유동하고 노즐(143)을 통하여 기판이송챔버(WS)로 하향하여 분사 배출된다.
상기 복수의 배출관부(140)에서 패널에 가까운 가장 외측의 배출관부(140)는 기판이송챔버(WS)를 이루는 측부 패널에 가깝게 위치하고, 내측으로 갈수록 배출관부(140)는 측부 패널로부터 멀어지게 된다.
상기 분지관(113)을 흐르는 기체는 유량이 제어되어, 패널과 가까운 가장 외측에 위치하는 배출관부(140)의 노즐(143)을 통하여 분사되는 기체의 속도는 그 보다 내측에 위치하는 배출관부(140)의 노즐(143)을 통하여 분사되는 기체의 속도보다 크다. 따라서, 도 3에 화살표로 표시된 것과 같이 상기 배출관부(140)의 노즐(143)을 통하여 분사되는 기체의 속도는 외측 배출관부(140)에서 내측 배출관부(140)로 갈수록 감소한다.
측부 패널에 가장 가깝게 폭 방향 양측에 위치한 배출관부(140)의 노즐(143)로부터 분사되는 기체의 속도를 크게 함으로써 웨이퍼(60)로부터 발생된 오염원이 측부 패널에 부착되는 것이 방지된다.
따라서 측부 패널에 가장 가까운 배출관부(140)의 노즐(143)로부터 분사되는 기체의 속도를 크게 하고, 그 내측에 위치하는 패널로부터 멀리 떨어질수록 배출관부(140)의 노즐(143)로부터 분사되는 기체의 속도는 이보다 작게 하는 것이 바람직하다.
100 : EFEM
110 : 유입관부 120 : 로드락 챔버
130 : 고정챔버 140 : 배출관부
150 : 런 카세트 160 : 팬
170 : 필터 180 : 로드스테이션

Claims (7)

  1. 내부에 기판이송챔버(WS)가 형성되며 유입관부(110)로 유동하여 기판이송챔버(WS)로 공급되는 기체가 배출되는 배출구(101a)가 구비된 본체(101)와, 상기 본체(101)에 구비되어 기체를 공급하는 통로가 되는 유입관부(110)와, 상기 기판이송챔버(WS)의 상부로 본체(101)에 구비되어 유입관부(110)를 통하여 온 기체를 기판이송챔버(WS)로 공급하는 팬필터유닛을 포함하며;
    상기 팬필터유닛의 상부로 공간이 형성되고 상기 유입관부(110)에서 연장된 연결관(115)의 단부가 공간(S)으로 연장되어 연결관(115)에서 공간으로 배출된 기체는 공간(S)에서 유동 속도가 감소하며, 팬필터유닛에 포함된 팬(160)의 작동으로 하부로 유동하고 필터(170)를 거쳐 기판이송챔버(WS)로 공급되며;
    상기 팬필터유닛의 하부로 기판이송챔버(WS)에는 서로 나란하고 이격되며 양단이 본체(101)에 고정된 복수의 배출관부(140)가 더 포함되고, 상기 유입관부(110)는 분지된 복수의 분지관(113)을 더 포함하며;
    상기 배출관부(140)는 그 길이 방향을 따라 이격되며 노즐공(143a)이 형성된 복수의 노즐(143)을 가지는 배출관(141)을 포함하고, 상기 배출관(141)에 분지관(113)이 연결되어, 유입관(111)으로 유입된 기체는 분지관(113)을 통하여 배출관(141)으로 유동하고 배출관(141)의 노즐공(143a)을 통하여 기판이송챔버(WS)로 배출되며;
    상기 배출관(141)을 흐르는 기체의 유량이 제어되어, 상기 배출관(141)의 노즐(143)을 통하여 분사되는 기체의 속도는 패널에 가까운 배출관부(140)에서 패널로부터 멀어지는 내측 배출관부(140)로 갈수록 감소하는 것을 특징으로 하는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM(100).
  2. 제1 항에 있어서, 상기 연결관(115)에는 유동하는 기체를 가열하는 연결관히터(115b)가 구비되어 유입관부(110)를 통하여 공급되는 기체는 가열되어 기판이송챔버(WS)로 공급되는 것을 특징으로 하는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM(100).
  3. 제2 항에 있어서, 상기 연결관(115)은 하향하여 공간(S)을 이루는 측방 패널의 측방에서 공간(S)의 중심을 향하여 연장되고, 단부는 하향 절곡되어 배출되는 기체는 하향 유동 배출되는 것을 특징으로 하는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM(100).
  4. 제3 항에 있어서, 상기 팬필터유닛의 상부로 공간(S)에는 연결관(115)의 단부와 마주하는 분산부(103)가 설치되며, 상기 분산부(103)의 상면은 연결관(115)의 단부로부터 하향 이격되고 연결관(115)의 단면적보다 큰 면적을 가져 연결관(115)으로부터 하향 배출된 기체는 분산부(103)의 상면을 따라 측방으로 유동 방향이 변경되는 것을 특징으로 하는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM(100).
  5. 삭제
  6. 제1 항에 있어서, 상기 배출관부(140)는 상기 노즐(143)이 하부로 노출되도록 배출관(141)을 감싸는 관커버(142)와, 상기 배출관(141)과 관커버(142) 사이에 형성된 공간에 충진된 단열재(145)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 오염 방지 기능이 향상된 EFEM.
  7. 삭제
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