KR102162197B1 - Transfer chamber - Google Patents
Transfer chamber Download PDFInfo
- Publication number
- KR102162197B1 KR102162197B1 KR1020180137314A KR20180137314A KR102162197B1 KR 102162197 B1 KR102162197 B1 KR 102162197B1 KR 1020180137314 A KR1020180137314 A KR 1020180137314A KR 20180137314 A KR20180137314 A KR 20180137314A KR 102162197 B1 KR102162197 B1 KR 102162197B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chamber
- camera
- unit
- opening
- conveyance
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
- B65G49/064—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67196—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the transfer chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2201/00—Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
- B65G2201/02—Articles
- B65G2201/0214—Articles of special size, shape or weigh
- B65G2201/022—Flat
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Robotics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(과제) 내부에 실제로 사람이 있는가 없는가를 검출할 수 있는 반송챔버를 제공한다.
(해결수단) 기판을 반송하는 반송장치가 내부에 설치되는 챔버 메인부(11)와, 챔버 메인부(11)와 함께 내부공간을 형성하는 챔버 사이드부(12a, 12b)를 구비하는 반송챔버(1A)로서, 반송챔버(1A)는 그 상부에 개구부(24)를 구비하고, 개구부(24)의 가장자리의 적어도 일부에 반사부재(41)(41a, 41b)가 설치되어 있다. (Task) Provide a transfer chamber that can detect whether there are actually people inside.
(Solving means) a transfer chamber having a chamber main part 11 in which a transfer device for transferring a substrate is installed, and chamber side parts 12a and 12b forming an inner space together with the chamber main part 11 ( As 1A), the conveyance chamber 1A has an opening 24 at its upper part, and reflective members 41 (41a, 41b) are provided on at least a part of an edge of the opening 24.
Description
본 발명은, 액정패널이나 유기EL패널 등의 제조공정에 있어서, 글라스 기판 등의 반송 등에 사용되는 반송챔버에 관한 것이다.The present invention relates to a conveyance chamber used for conveyance of a glass substrate or the like in a manufacturing process of a liquid crystal panel or an organic EL panel.
특허문헌1 등에 의하여 반도체장치 등의 제조에 사용되는 기판처리장치가 알려져 있다.A substrate processing apparatus used for manufacturing a semiconductor device or the like is known from
특허문헌1은, 작업자가 챔버(클린공간)내에 있는가 없는가를 파악할 수 있는 장치를 제안하고 있다. 특허문헌1의 장치에 있어서는, 기판처리장치(基板處理裝置)를 포위장치(包圍裝置)에 의하여 포위하고, 포위장치내에 대한 사람의 출입을 검출하는 검출장치를 사용하여 포위장치 내부에 대한 사람의 출입을 검출하고 있다.
그런데 기판처리장치로서, 반송로봇이 수용되는 반송챔버(예를 들면 진공챔버(眞空 chamber))의 주위에 복수의 프로세스 챔버(process chamber)를 클러스터(cluster) 모양으로 배치한 것이 있다. 최근의 기판 대형화의 결과, 반송챔버는 그 내부에 사람이 출입하는 것이 가능한 정도까지 대형화되고 있다. 실제로, 반송챔버나 반송로봇의 점검시 등에 있어서, 반송챔버내에 사람이 출입하는 경우가 있다. 특허문헌1의 장치에 있어서는, 포위장치에 대한 사람의 출입은 검출할 수 있어도, 챔버내에 실제로 사람이 있는가 없는가를 검출할 수는 없다. 또한 대형의 반송챔버에 있어서는, 내부공간도 광대(廣大)하기 때문에 챔버 상부의 개구부로부터 시인(視認)할 때에 사각(死角)이 발생한다. 이 사각의 해소를 위하여 반송챔버에 관찰창(觀察窓)을 형성하는 수단이 생각된다. 그러나 관찰창을 형성하는 것은, 관찰창과 반송챔버 사이의 밀봉성을 확보하여야만 하는 것이어서, 제조, 관리상의 관점으로부터는 그리 바람직하지 못하다.However, as a substrate processing apparatus, there is one in which a plurality of process chambers are arranged in a cluster shape around a transfer chamber (eg, a vacuum chamber) in which a transfer robot is accommodated. As a result of the recent increase in the size of the substrate, the transfer chamber has been enlarged to the extent that humans can enter and exit the inside thereof. In fact, in the case of inspection of the transfer chamber or the transfer robot, there are cases where a person enters and exits the transfer chamber. In the apparatus of
거기에서, 본 발명은, 내부에 실제로 사람이 있는가 없는가를 검출할 수 있는 반송챔버를 제안하는 것을 목적으로 한다.From there, an object of the present invention is to propose a transfer chamber capable of detecting whether or not there are actually people inside.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 반송챔버는,In order to achieve the above object, the transport chamber of the present invention,
기판을 반송하는 반송장치가 내부에 설치되는 챔버 메인부와, 상기 챔버 메인부와 함께 내부공간을 형성하는 챔버 사이드부를 구비하는 반송챔버로서,A transfer chamber having a chamber main part in which a transfer device for transferring a substrate is installed therein, and a chamber side part forming an inner space together with the chamber main part,
상기 반송챔버는, 그 상부에 개구부를 구비하고, 상기 개구부의 가장자리의 적어도 일부에 반사부재가 설치되어 있다.The conveyance chamber has an opening in its upper part, and a reflective member is installed at least in part of an edge of the opening.
상기 구성에 의하면, 반사부재에 의해 반송챔버의 내부공간을 직접 관찰할 수 있기 때문에, 확실하게 내부공간에 사람이 있는가 없는가를 파악할 수 있다.According to the above configuration, since the inner space of the conveyance chamber can be directly observed by the reflective member, it is possible to reliably grasp whether or not there are people in the inner space.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 개구부의 가장자리에, 상기 반사부재와 대향해서 설치되어, 상기 내부공간을 촬영하는 촬영유닛을 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to include a photographing unit installed at the edge of the opening to face the reflective member and photographing the inner space.
상기 구성에 의하면, 촬영유닛을 사용해서 내부공간에 사람이 있는가 없는가를 시스템상에서 판정할 수 있다.According to the above configuration, it is possible to determine on the system whether or not there are people in the interior space by using the photographing unit.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 촬영유닛을 틸트구동 및/또는 팬구동 시키는 제1구동유닛을 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to include a first driving unit for tilting and/or pan driving the photographing unit.
상기 구성에 의하면, 1대의 촬영유닛에 의하여 내부공간의 넓은 범위를 촬영할 수 있다. 복수대의 촬영유닛을 사용하는 경우에서도, 보다 적은 대수로 전체를 촬영할 수 있다.According to the above configuration, a wide range of the internal space can be photographed by one photographing unit. Even in the case of using a plurality of photographing units, the whole can be photographed with fewer units.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 반사부재를 틸트구동 및/또는 팬구동 시키는 제2구동유닛을 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to provide a second driving unit for tilting and/or pan driving the reflective member.
상기 구성에 의하면, 반사면적이 작은 반사부재이더라도 반송챔버의 내부공간을 넓은 범위에서 관찰할 수 있다.According to the above configuration, even a reflective member having a small reflective area can observe the inner space of the transport chamber in a wide range.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 촬영유닛을 상하방향 및 좌우방향 중에서 적어도 하나의 방향으로 이동시키는 제3구동유닛을 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to include a third driving unit for moving the photographing unit in at least one of the vertical and horizontal directions.
상기 구성에 의하면, 1대의 촬영유닛이더라도 반송챔버의 내부공간을 넓은 범위에서 촬영할 수 있다. 복수대의 촬영유닛을 사용하는 경우에서도, 보다 적은 대수로 반송챔버의 내부공간 전체를 촬영할 수 있다.According to the above configuration, even one photographing unit can photograph the inner space of the transport chamber in a wide range. Even in the case of using a plurality of photographing units, the entire inner space of the transport chamber can be photographed with a smaller number of photographing units.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 촬영유닛에 의하여 촬영한 상기 내부공간의 영상을 데이터로서 송신하는 송신유닛을 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to include a transmission unit that transmits the image of the internal space photographed by the photographing unit as data.
상기 구성에 의하면, 원격지로부터도 반송챔버의 내부공간의 상황을 확인할 수 있다.According to the above configuration, it is possible to check the condition of the inner space of the transfer chamber even from a remote location.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 송신유닛이 송신한 상기 데이터를 수신하고, 표시하는 표시유닛을 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to include a display unit for receiving and displaying the data transmitted by the transmitting unit.
상기 구성에 의하면, 예를 들면 원격지로부터도 표시유닛에 표시되는 데이터에 의거하여 반송챔버의 내부공간의 상태를 확인할 수 있다.According to the above configuration, it is possible to check the state of the inner space of the conveyance chamber based on data displayed on the display unit, for example from a remote location.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 내부공간의 영상을 해석해서 상기 내부공간에 있어서의 이상의 유무를 판정하고, 이상이 있었을 때에 이상을 통지하는 이상통지유닛을 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to include an abnormality notification unit that analyzes the image of the internal space to determine the presence or absence of an abnormality in the internal space, and notifies the abnormality when there is an abnormality.
상기 구성에 의하면, 반송챔버의 내부공간에 이상이 있는 것을, 예를 들면 소리나 빛 등을 사용해서 통지할 수도 있다.According to the above configuration, it is also possible to notify that there is an abnormality in the inner space of the conveyance chamber, for example, using sound or light.
또한 본 발명의 반송챔버에 있어서,In addition, in the conveyance chamber of the present invention,
상기 반사부재는, 상기 개구부의 상측 가장자리에 설치되어 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the reflective member is provided at an upper edge of the opening.
반송챔버의 내부공간내에 반사부재를 설치하는 경우에는, 반송장치와 반사부재의 간섭을 피하기 위해서 반송챔버의 높이를 아주 높게 할 필요가 있어서 내부공간의 용적이 커져버린다. 반사부재를 개구부의 상측 가장자리에 설치함으로써 반송장치와 반사부재의 간섭을 없애어, 내부공간의 용적이 커지게 되는 것을 억제할 수 있다.In the case of installing the reflective member in the inner space of the conveying chamber, the height of the conveying chamber needs to be very high in order to avoid interference between the conveying device and the reflecting member, and the volume of the inner space increases. By providing the reflective member at the upper edge of the opening, interference between the conveying device and the reflective member can be eliminated, and an increase in the volume of the internal space can be suppressed.
본 발명의 반송챔버에 의하면, 내부에 실제로 사람이 있는가 없는가를 검출할 수 있다.According to the conveyance chamber of the present invention, it is possible to detect whether there is actually a person inside.
도1은 반송챔버를 구비하는 기판처리장치의 개요도이다.
도2는 반송챔버의 사시도로서, (a)는 상판이 벗겨진 상태, (b)는 상판이 결합된 상태를 나타낸다.
도3은 본 발명의 제1실시형태에 관한 반송챔버(유지보수시)의 사시도이다.
도4는 도3에 나타내는 반송챔버의 IV-IV선 단면도이다.
도5는 제2실시형태에 관한 반송챔버의 평면도이다.
도6은 제2실시형태에 관한 반송챔버의 측면도이다.
도7은 제3실시형태에 관한 반송챔버의 평면도이다.
도8은 제3실시형태에 관한 반송챔버의 측면도이다.
도9는 제4실시형태에 관한 반송챔버의 평면도이다.
도10은 제4실시형태에 관한 반송챔버의 측면도이다.1 is a schematic diagram of a substrate processing apparatus including a transfer chamber.
2 is a perspective view of the conveying chamber, where (a) shows a state in which the upper plate is removed, and (b) shows a state in which the upper plate is coupled.
Fig. 3 is a perspective view of a transfer chamber (in maintenance) according to the first embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of the transfer chamber shown in Fig. 3;
5 is a plan view of a conveying chamber according to a second embodiment.
6 is a side view of a transfer chamber according to a second embodiment.
Fig. 7 is a plan view of a transfer chamber according to a third embodiment.
Fig. 8 is a side view of a conveying chamber according to a third embodiment.
9 is a plan view of a conveying chamber according to a fourth embodiment.
Fig. 10 is a side view of a transfer chamber according to a fourth embodiment.
이하, 본 실시형태에 관한 반송챔버의 일례에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, an example of the conveyance chamber according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.
여기에서는, 우선, 반송챔버를 구비하는 기판처리장치(基板處理裝置)에 대해서 설명을 한다. 여기에서 설명하는 기판처리장치는, 플랫 패널 디스플레이(FPD)용의 글라스 기판(이하, 간단하게 「기판」이라고 부른다)에 대하여 에칭처리(etching 處理)를 하기 위한 멀티챔버(multi chamber) 타입의 장치이다. FPD로서는, 예를 들면 액정 디스플레이(LCD), 발광다이오드(LED) 디스플레이, 일렉트로루미네슨스(ElectroLuminescence)(EL) 디스플레이, 형광표시관(VFD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 등을 들 수 있다.Here, first, a description will be given of a substrate processing apparatus including a transfer chamber. The substrate processing apparatus described herein is a multi-chamber type apparatus for etching a glass substrate (hereinafter, simply referred to as a “substrate”) for a flat panel display (FPD). to be. Examples of the FD include a liquid crystal display (LCD), a light-emitting diode (LED) display, an ElectroLuminescence (EL) display, a fluorescent display tube (VFD), and a plasma display panel (PDP).
도1은 기판처리장치의 개요도이다. 도1에 나타나 있는 바와 같이 기판처리장치(100)는, 그 중앙부에 반송챔버(1)가 배치되어 있다. 반송챔버(1)의 주위에는, 진공예비실(眞空豫備室)인 로드록실(load lock室)(7)과, 진공처리실(眞空處理室)인 복수(본예에서는 5개)의 프로세스 챔버(8a∼8e)가 배치되어 있다. 프로세스 챔버(8a∼8e)는, 성막처리실(成膜處理室), 에칭처리실(etching 處理室), 애싱처리실(ashing 處理室) 등으로 하여 구성할 수 있다. 또한, 본 예의 반송챔버(1)는, 로드록실(7)과 프로세스 챔버(8a∼8e)의 합계 6개의 실(室)이 주위에 배치되는 형상, 예를 들면 평면에서 볼 때에 대략 육각형상, 전체로서 육면체형상으로 구성되어 있지만, 실의 배치수 및 전체의 형상은 이것에 한정되지 않는다.1 is a schematic diagram of a substrate processing apparatus. As shown in Fig. 1, in the
반송챔버(1)와 로드록실(7) 사이에는, 이들의 사이를 기밀(氣密)하게 밀봉하고 또한 개폐 가능하도록 구성되는 게이트 밸브(15)가 설치되어 있다. 또한 반송챔버(1)와 각 프로세스 챔버(8a∼8e) 사이 및 로드록실(7)과 외측의 대기분위기를 통하게 하는 개구부에도 역시 게이트 밸브(15)가 각각 설치되어 있다.A
로드록실(7)의 외측에는, 기판을 수용하는 3개의 카세트(9)가 배치되어 있다. 이들 카세트(9)에는, 예를 들면 미처리(未處理)의 기판이나 처리완료(處理完了)의 기판이 수용되어 있다. 이들 3개의 카세트(9)의 사이에는 기판반송장치(90)가 배치되어 있다. 기판반송장치(90)는, 기판을 실는 슬라이드 아암부와, 슬라이드 아암부를 진출대피 및 회전 가능하게 지지하는 기부를 구비하고 있다.On the outside of the
반송챔버(1)는, 기판을 반송하기 위한 반송장치(13)가 내부에 설치되는 챔버 메인부(11)와, 챔버 메인부(11)와 함께 반송챔버(1)의 내부공간을 형성하는 챔버 사이드부(12)를 구비하고 있다. 반송챔버(1)는, 그 내부공간을 소정의 감압분위기(예를 들면 진공환경)로 유지할 수 있도록 구성되어 있다.The
반송챔버(1)에서는, 챔버 메인부(11)에 설치되는 반송장치(13)에 의하여 로드록실(7) 및 프로세스 챔버(8a∼8e) 사이에 있어서 기판의 이송이 이루어진다. 반송장치(13)는, 베이스부와 하단 핸드 베이스(13b)와 상단 핸드 베이스(13d)를 구비하고 있다. 베이스부는, 챔버 메인부(11)의 거의 중앙부에 설치되고 반송장치(13)를 승강 및 선회시키는 구동기구부와, 구동기구부에 대하여 선회 및 승강하도록 설치되는 피구동부를 구비한다. 이 피구동부에, 하단 핸드 베이스(13b) 및 상단 핸드 베이스(13d)가 설치된다.In the
피구동부는, 하단 핸드 베이스(13b) 및 상단 핸드 베이스(13d)를 피구동부에 대하여 진퇴이동 시키기 위한 액추에이터, 가이드부 및 슬라이더를 구비한다. 각 슬라이더에, 하단 핸드 베이스(13b) 및 상단 핸드 베이스(13d)가 고정된다. 어느 하나의 슬라이더를 구동시킴으로써, 하단 핸드 베이스(13b) 또는 상단 핸드 베이스(13d)가 진퇴이동 된다. 하단 핸드 베이스(13b) 및 상단 핸드 베이스(13d)에, 각각 하단 핸드(13c) 및 상단 핸드(13e)(예를 들면 도1에서는 4개의 포크핸드(fork hand))가 설치된다. 구동기구부의 구동에 의하여 피구동부가 반송챔버(1)의 내부공간에서 선회, 승강되어, 하단 핸드 베이스(13b) 또는 상단 핸드 베이스(13d)를 진퇴이동 시킴으로써 로드록실(7) 및 프로세스 챔버(8a∼8e) 사이에 있어서 기판의 이송이 이루어진다.The driven portion includes an actuator, a guide portion, and a slider for moving the
로드록실(7) 및 프로세스 챔버(8a∼8e)는, 반송챔버(1)와 마찬가지로 각각의 내부공간을 소정의 감압분위기로 유지할 수 있도록 구성되어 있다. 프로세스 챔버(8a∼8e)의 내부에서는, 예를 들면 성막(成膜)이나 플라스마에 의한 에칭 또는 애싱(ashing) 등의 처리가 이루어진다. 프로세스 챔버(8a∼8e)는 동일하게 구성되어 있다.Like the
다음에 도2∼도10을 참조하여 반송챔버(1)에 대해서 상세하게 설명한다.Next, the
도2는, 반송챔버(1)의 구성을 설명하기 위한 사시도이다. 도2의 (a)는 상판(14)이 벗겨진 상태, 도2의 (b)는 상판(14)이 결합된 상태를 나타낸다. 도2의 (a) 및 (b)에 나타나 있는 바와 같이 반송챔버(1)의 챔버 메인부(11)는, 평면에서 볼 때 및 측면에서 볼 때가 직4각형의 부위이다. 또한 한 쌍의 챔버 사이드부(12a, 12b)는, 평면에서 볼 때가 대략 사다리꼴의 부위이다. 한 쌍의 챔버 사이드부(12a, 12b)는, 반송장치(13)가 선회할 수 있는 반송용 공간을 확보하기 위한 부위로서, 챔버 메인부(11)의 장변에 있어서 대향하는 측부(側部)로부터 외측으로 각각 연장된다. 그리고 챔버 메인부(11)의 상면에는, 후술하는 개구부(24)를 막는 상판(14)이 착탈하도록 접합된다. 여기에서, 도1은, 상판(14)을 떼어낸 상태의 반송챔버(1)를 나타내고 있다. 또한 도2의 (a) 및 (b)에 나타나 있는 챔버 메인부(11)와 챔버 사이드부(12a, 12b)는 일체로 형성되는 것이다. 물론, 3개를 별체(別體)로 형성해도 좋은 것은 말할 필요도 없다.2 is a perspective view for explaining the configuration of the
챔버 메인부(11)는, 반송챔버(1)의 바닥부를 구성하는 바닥판(21)을 구비하고 있다. 챔버 메인부(11)의 상부는, 거의 전체면이 개구된 개구부(24)로 되어 있다.The chamber
챔버 메인부(11)에는, 로드록실(7)(도1 참조)과의 사이에서 기판을 반출입하기 위한 반송용 개구(26)가 형성되어 있다. 또한 상기 반송용 개구(26)와 대향하는 위치에, 프로세스 챔버(8c)와의 사이에서 기판을 반출입하기 위한 반송용 개구(27)가 형성되어 있다. 또한 챔버 메인부(11)의 바닥판(21)에는, 반송장치(13)(도1 참조)를 설치하기 위한 개구(28)가 형성되어 있다.In the chamber
상판(14)은, 챔버 메인부(11)에 있어서의 개구부(24)의 내측 가장자리에 밀어넣어져서 결합된다. 상판(14)은, 챔버 메인부(11)와 동일한 구성재에 의하여 구성되어 있고, 개구부(24)의 내측 가장자리에 예를 들면 볼트 등의 고정부재에 의해 고정된다. 상판(14)은, 반송챔버(1)의 실사용시에 즉 내부공간을 진공환경하로 유지할 때에 장착되어, 반송챔버(1)의 내부공간 및 반송장치(13)의 유지보수 등을 할 때에 탈착된다.The
챔버 사이드부(12a, 12b)와 챔버 메인부(11)에 의하여 챔버 메인부(11)의 내부공간(S1)과 각 챔버 사이드부(12a, 12b)의 내부공간(S2a, S2b)이 합쳐져서 하나의 반송용 공간이 형성된다.The inner space (S1) of the chamber
챔버 사이드부(12a)의 양 측벽(33a, 34a)에는, 반송용 공간과 도1에 나타낸 프로세스 챔버(8a, 8b)와의 사이에서 기판을 반출입하기 위한 반송용 개구(35a, 36a)가 형성되어 있다. 또한 챔버 사이드부(12b)의 양 측벽(33b, 34b)에는, 반송용 공간과 도1에 나타낸 프로세스 챔버(8d, 8e)와의 사이에서 기판판출입하기 위한 반송용 개구(35b, 36b)가 형성되어 있다. 또한 챔버 사이드부(12a, 12b)의 상부에는 상벽(32a, 32b)이 형성되어 있다.In both
(제1실시형태)(First embodiment)
도3 및 도4는, 제1실시형태에 관한 반송챔버(1A)를 나타내는 도면이다. 도3은, 반송챔버(1A)의 사시도를 나타낸다. 도4는, 도3의 반송챔버(1A)에 있어서의 IV-IV선 단면도를 나타낸다. 도3 및 도4에는, 유지보수시의 반송챔버(1A)가 나타나 있어, 상판(14)이 떼어내져서 개구부(24)가 노출된 상태가 나타나 있다. 도3 및 도4에 나타나 있는 바와 같이 반송챔버(1A)는, 챔버 메인부(11)의 개구부(24)의 가장자리에 거울(41)(반사부재의 일례)을 구비하고 있다.3 and 4 are diagrams showing a
거울(41)(41a,4lb)은, 챔버 메인부(11)의 개구부(24)의 상측 가장자리에 각각 설치되어 있다. 개구부(24)에 상판(14)이 장착되었을 경우에, 거울(41)(41a,4lb)은 상판(14)보다도 상측에 위치하도록, 즉 챔버 메인부(11)의 외측에 배치되도록 설치되어 있다. 예를 들면 개구부(24)의 주위를 둘러싸도록, 상방으로 연장되는 안전울타리(44)가 설치된다. 거울(41)(41a,4lb)은, 안전울타리(44)에 있어서 개구부(24)의 장변측에 있어서 상하로 2분할된 하부 프레임 부분(44b)에 설치된다. 안전울타리(44)의 하부 프레임 부분(44b)에 거울(41)(41a,4lb)을 설치함으로써, 거울(41)(41a,4lb)을 설치하기 위한 새로운 스페이스가 불필요 하게 된다. 또한 하부 프레임 부분(44b)에 거울(41)(41a,4lb)을 설치함으로써, 거울이 차폐물(遮蔽物)이 되어, 챔버 메인부(11) 및 챔버 사이드부(12a, 12b)의 상부에 놓인 유지보수용의 공구 등이, 잘못하여 반송용 공간내로 낙하하는 일이 없어진다. 그 결과, 낙하물 등에 의한 반송용 공간의 파손이 없어진다.The mirrors 41 (41a, 4lb) are provided on the upper edge of the
거울(41)(41a,4lb)은, 반사면을 대향시키면서 챔버 메인부(11)의 개구부(24)의 장변측에 각각 설치되어 있다. 거울(41)(41a,4lb)은, 상하방향으로 움직이는 틸트구동(tilt 驅動)과 좌우방향으로 움직이는 팬구동(pan 驅動)을 할 수 있도록 구성되어 있다. 거울(41)(41a,4lb)에는, 각 거울을 틸트구동 및 팬구동 시키기 위한 거울구동유닛(43a, 43b)(제2구동유닛의 일례)이 접속되어 있다. 거울구동유닛(43a, 43b)은, 예를 들면 작업자(관찰자)가 티치 펜던트(teach pendant) 등의 휴대형 정보단말 등을 사용해서 조작할 수 있도록 구성되어 있다.The mirrors 41 (41a, 4lb) are respectively provided on the long side of the
본 형태에서는, 챔버 메인부(11)의 장변의 길이의 대략 반 정도의 거울(41)(41a,4lb)이, 하부 프레임 부분(44b)에 2개 설치되었을 경우를 예로 들었지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 장변의 길이와 대략 같은 길이의 거울을 하부 프레임 부분(44b)에 1개만 설치해도 좋고, 또한 장변의 길이보다도 짧은 거울을 하부 프레임 부분(44b)에 3개이상 설치해도 좋다. 또한 장변의 길이보다도 짧은 거울을, 하부 프레임 부분(44b)의 적어도 일부에만 설치하여도 좋다. 또한 거울(41)(41a,4lb)의 형상은, 본 형태와 같이 평판모양의 평면거울이더라도 좋고, 혹은 반사면측이 들어간 요면경(凹面鏡)이더라도 좋다.In this form, an example was taken where two mirrors 41 (41a, 4lb) approximately half the length of the long side of the chamber
예를 들면 유지보수시에 관찰자가 챔버 사이드부(12a, 12b)의 상벽(32a, 32b)상에 서는 경우에, 그 관찰자는, 거울(41)(41a,4lb)을 사용해서 반송챔버(1A)의 내부공간을 직접 관찰할 수 있다. 예를 들면 도4에 나타나 있는 바와 같이 관찰자가 챔버 사이드부(12a)의 상벽(32a)상에 서면, 관찰자는, 챔버 메인부(11)를 사이에 두고 반대측에 설치되어 있는 챔버 사이드부(12b)의 내부공간(S2b)의 상태 및 챔버 메인부(11)의 내부공간(S1)의 상태를 직접적으로 시인할 수 있다. 그리고 관찰자가 서 있는 장소의 하측에 설치되어 있는 챔버 사이드부(12a)의 내부공간(S2a)의 상태 및 챔버 메인부(11)의 내부공간(S1)의 상태를 거울(4lb)에 비친 상에 의해 확인할 수 있다. 따라서 관찰자는, 관찰장소를 이동하지 않고, 즉 챔버 사이드부(12a)의 상벽(32a)상에 선 채로, 반송챔버(1A)의 내부공간 전체의 상태를 확인할 수 있어서, 내부공간내에 작업자가 있는가 없는가를 검출할 수 있다.For example, when the observer stands on the
또한 본 실시형태의 반송챔버(1A)에 의하면, 관찰자는 관찰장소를 이동하지 않고, 2개의 챔버 사이드부(12a, 12b)의 내부공간(S2a, S2b) 및 챔버 메인부(11)의 내부공간(S1)을 대략 동시에 확인할 수 있다. 이 때에, 내부공간 전체의 상태를 확인할 때에, 관찰자가 관찰장소를 이동할 필요가 있으면, 관찰자가 이동하고 있는 사이에, 한번 확인한 내부공간내의 영역에 작업자가 이동하여 진입해버릴 우려가 있다. 이것은, 내부공간에 있는 작업자를 못보고 넘기는 원인이 된다. 이에 대하여 본 실시형태의 반송챔버(1A)는, 내부공간 전체를 대략 동시에 확인할 수 있기 때문에 확실하게 내부공간에 사람이 있는가 없는가를 검출할 수 있다.In addition, according to the
또한 거울(41)(41a,4lb)의 방향을 상하좌우로 변화시킬 수 있으므로, 예를 들어 거울(41)의 표면적이 작아도 내부공간(S1, S2a, S2b)의 상태를 광범위하고 용이하게 확인할 수 있다.In addition, since the direction of the mirrors 41 (41a, 4lb) can be changed up, down, left and right, for example, even if the surface area of the
또한 도4에 나타나 있는 바와 같이 관찰자가 챔버 메인부(11)의 개구부(24)로부터 떨어진 위치에 서 있는 경우 뿐만 아니라, 예를 들면 개구부(24)의 가까이 서 있는 경우에도, 거울(41)(41a,4lb)의 방향을 상하좌우로 변화시킴으로써 내부공간(S1, S2a, S2b)의 전체의 상태를 확인할 수 있다. 또한 관찰자의 신장(눈높이)에 좌우되는 일 없이, 거울(41)(41a,4lb)의 방향을 변화시킴으로써 내부공간(S1, S2a, S2b)의 전체의 상태를 확인할 수 있다.In addition, as shown in Fig. 4, not only when the observer is standing at a position away from the
그런데 예를 들면 본 형태와는 달리, 내부공간(S1, S2a, S2b)내에 거울(41)(41a,4lb)을 설치하는 경우에는, 반송장치(13)와 거울(41)(41a,4lb)과의 간섭을 피하기 위해서, 챔버 메인부(11) 및 챔버 사이드부(12a, 12b)의 높이를 높게 할 필요가 있다. 그 결과, 내부공간(S1, S2a, S2b)이 대형화해버린다. 이에 대하여 반송챔버(1A)는, 거울(41)(41a,4lb)을 개구부(24)의 상측 가장자리에 설치하고 있으므로, 반송장치(13)와 거울(41)(41a,4lb)의 간섭의 걱정이 없어서, 내부공간(S1, S2a, S2b)이 대형화되는 것을 억제할 수 있다.However, unlike this form, for example, in the case of installing the mirrors 41 (41a, 4lb) in the inner spaces (S1, S2a, S2b), the conveying
또한 반송챔버(1A)는, 거울(41)(41a,4lb)을 사용함으로써 내부공간(S1, S2a, S2b)의 전체의 상태를 확인할 수 있기 때문에, 반송챔버(1A) 내를 시인하기 위한 관찰창을 챔버 본체에 형성할 필요가 없다. 그 결과, 챔버 본체의 밀봉성을 확보할 필요가 없어지고, 기밀성이 높은 반송챔버(1A)를 얻을 수 있다.In addition, since the
또한 거울(41)(41a,4lb)이 안전울타리(44)의 하부 프레임내에 부착 가능하기 때문에, 반송챔버(1A) 자체에 거울(41)(41a,4lb)을 부착하기 위한 구멍가공 등을 실시할 필요가 없어, 반송챔버(1A)의 기밀성을 확보할 수 있다. 또한 거울(41)(41a,4lb)을 안전울타리(44)에 부착할 때에, 거울(41)(41a,4lb)의 부착, 탈착, 조정 등에 특별한 공구를 요하지 않아 용이하게 할 수 있다.In addition, since the mirrors 41 (41a, 4lb) can be attached to the lower frame of the safety fence (44), holes are made to attach the mirrors (41) (41a, 4lb) to the transport chamber (1A) itself. There is no need to do so, and the airtightness of the
(제2실시형태)(Second Embodiment)
도5 및 도6은, 제2실시형태에 관한 반송챔버(1B)를 나타내는 도식도이다. 도5는 반송챔버(1B)의 평면도를 나타낸다. 도6은 반송챔버(1B)의 측면도를 나타낸다. 여기에서 제1실시형태와 동일한 구성에 관해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 적절하게 생략한다.5 and 6 are schematic diagrams showing a
도5 및 도6에 나타나 있는 바와 같이 반송챔버(1B)는, 반송챔버(1B)의 내부공간을 촬영하는 카메라(51)(촬영유닛의 일례)을 구비하고 있다.As shown in Figs. 5 and 6, the
카메라(51)는, 개구부(24)의 가장자리에 거울(41)(41a,4lb)과 대향해서 설치된다. 본 형태에서는 챔버 사이드부(12a) 측에 카메라(51)를 설치하고, 챔버 사이드부(12b)측에 거울(4lb)을 설치하고 있지만, 이와는 반대로, 챔버 사이드부(12b)측에 카메라(51)를 설치하고, 챔버 사이드부(12a)측에 거울(41)a를 설치하는 구성으로 하더라도 좋다. 또는, 챔버 사이드부(12a)측에도 챔버 사이드부(12b)측에도 각각 카메라와 거울의 모두를 설치하여도 좋다. 또한 카메라(51)의 설치위치는, 개구부(24)의 가장자리에 한정되지 않고, 챔버 사이드부(12a)의 상벽(32a)상이나 챔버 사이드부(12b)의 상벽(32b)상 중에서 어느 하나이면 좋다.The
카메라(51)는, 틸트구동(도6의 화살표(B) 참조) 및 팬구동(도5의 화살표(C) 참조)을 할 수 있도록 구성되어 있다. 또한 카메라(51)는, 상하이동(도6의 화살표(D) 참조)을 할 수 있도록 구성되어 있다. 카메라(51)에는, 카메라를 틸트구동, 팬구동 및 상하이동 시키기 위한 카메라 구동유닛(52)(제1구동유닛의 일례)이 접속되어 있다. 카메라 구동유닛(52)은, 예를 들면 작업자가 티치 펜던트나 리모콘 등을 사용해서 원격조작을 할 수 있도록 구성되어 있다. 또는, 카메라 구동유닛(52)은, 설치되어 있는 반송챔버(1B)의 내부공간(S1, S2a, S2b)의 전체를 촬영할 수 있도록, 틸트각도, 팬각도 등이 미리 프로그램 되어 있고, 그 프로그램에 따라서 카메라(51)가 구동된다.The
카메라(51)에는, 예를 들면 CCD(Charge Coupled Device) 카메라, CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 카메라 등이 사용된다. 카메라 구동유닛(52)은, 카메라(51)로 촬영한 내부공간(S1, S2a, S2b)의 영상을 데이터로서 송신하는 송신유닛(53)을 구비하고 있다. 데이터는, 예를 들면 티치 펜던트 등의 모바일 단말, 원격지의 관리실에 설치된 단말 등의 수신유닛에서 수신할 수 있다. 수신된 데이터는, 수신유닛에 설치되어 있는 표시유닛에 영상으로 표시된다. 또, 카메라(51)로서는, 예를 들면 암시 카메라(暗視 camera)나 서모그래피 카메라(thermography camera) 등을 사용하더라도 좋다.As the
수신유닛은, 수신한 데이터를 해석하여 내부공간(S1, S2a, S2b)에 있어서의 이상의 유무를 판정하는 판정장치(이상통지유닛의 일례)을 구비하고 있다. 판정장치는, 예를 들면 암시 카메라나 서모그래피 카메라 등으로 촬영(측정)된 데이터를 해석 혹은 감시하여, 내부공간(S1, S2a, S2b)내에 작업자가 남아 있는가 없는가를 판정한다. 또한 수신유닛은, 판정장치의 판정결과를 통지하는 통지장치(이상통지유닛의 일례)를 구비하고 있다. 통지장치는, 판정장치의 판정결과에서 이상이 있다고 판정되었을 경우에, 예를 들면 경고마크를 표시유닛에 표시함으로써 혹은 경고음을 출력함으로써 그 취지를 통지한다. 또, 통지장치는, 카메라 구동유닛(52)에 설치되어 있더라도 좋다. 카메라 구동유닛(52)은, 상기 판정장치로부터 송신되어 오는 신호에 의거하여 이상이 있는 경우에 예를 들면 경고음의 출력이나 경고램프의 점등(點燈) 등에 의하여 그 취지를 통지한다.The receiving unit is provided with a determination device (an example of an abnormality notification unit) that analyzes the received data and determines the presence or absence of an abnormality in the internal spaces S1, S2a, S2b. The determination device analyzes or monitors data photographed (measured) by, for example, a dark vision camera or a thermography camera, and determines whether or not an operator remains in the internal spaces S1, S2a, S2b. Further, the receiving unit includes a notification device (an example of an abnormality notification unit) for notifying the determination result of the determination device. The notification device notifies that when it is determined that there is an abnormality in the determination result of the determination device, for example, by displaying a warning mark on the display unit or by outputting a warning sound. Further, the notification device may be provided in the
또, 본 형태의 거울(41)(41a,4lb)도, 제1실시형태의 거울과 마찬가지로 틸트구동 및 팬구동을 할 수 있도록 구성되어 있다.Further, the mirrors 41 (41a, 4lb) of this embodiment are also configured to be capable of tilt driving and pan driving, similar to the mirror of the first embodiment.
이러한 구성의 반송챔버(1B)에 의하면, 예를 들면 유지보수시에, 카메라(51)를 사용해서 반송챔버(1B)의 내부공간(S1, S2a, S2b)을 관찰할 수 있다. 이 때문에 관찰자가 챔버 사이드부(12a, 12b)상에 올라가 작업을 하지 않아도, 예를 들면 반송챔버(1B)로부터 떨어진 장소에서, 송신유닛(53)로부터 송신되어 오는 데이터를 표시유닛으로 감시하면서 내부공간(S1, S2a, S2b)의 상태를 확인할 수 있다. 이에 따라 내부공간(S1, S2a, S2b)내에 작업자가 있는가 없는가를 검출할 수 있다.According to the
또한 카메라(51)에 대하여 틸트구동 및 팬구동을 할 수 있기 때문에, 1대의 카메라(51)로 내부공간(S1, S2a, S2b)의 넓은 범위를 촬영할 수 있다. 또한 예를 들면 복수대의 카메라를 사용하는 경우에서도, 보다 적은 대수로 내부공간(S1, S2a, S2b)의 전체를 촬영할 수 있다.In addition, since the
또한 카메라(51) 뿐만 아니라 거울(41)(41a,4lb)에 대하여도 틸트구동 및 팬구동을 할 수 있기 때문에, 더 확실하게 내부공간(S1, S2a, S2b)의 상태를 확인할 수 있어, 내부공간(S1, S2a, S2b)내에 작업자가 있는가 없는가를 검출할 수 있다. 또한 내부공간(S1, S2a, S2b)에 이상이 있을 경우에, 이상통지유닛으로부터의 경고음이나 경고램프 등에 의해 인식할 수 있기 때문에 내부공간(S1, S2a, S2b)에 작업자가 남아 있는가 없는가를 더 확실하게 검출할 수 있다.In addition, the
또한, 상기한 형태와는 달리, 카메라(51) 만을 틸트구동 및 팬구동 가능하도록 구성하고, 거울(41)(41a,4lb)은 틸트구동 및 팬구동 불가능 하게 고정하더라도 좋다.In addition, unlike the above-described form, only the
(제3실시형태)(Third embodiment)
7 및 도8은, 제3실시형태에 관한 반송챔버(1C)를 나타내는 도식도이다. 도7은 반송챔버(1C)의 평면도를 나타낸다. 도8은 반송챔버(1C)의 측면도를 나타낸다.7 and 8 are schematic diagrams showing a
도7 및 도8에 나타나 있는 바와 같이 제3실시형태의 반송챔버(1C)는, 카메라(51)가 개구부(24)의 가장자리를 따라 좌우방향(도7의 화살표(E) 방향)으로 이동하는 것이 가능한 점에서, 상기 제2실시형태의 반송챔버(1B)와 다르다. 따라서 제2실시형태와 동일한 구성에 관해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 적절하게 생략한다.As shown in Figs. 7 and 8, in the
개구부(24)에는, 가장자리를 따라 레일부재(61)가 설치되어 있다. 카메라(51)는 레일부재(61)를 따라 좌우측방향으로 이동한다. 레일부재(61)에는, 예를 들면 레일부재(61)를 양측으로부터 주행륜(走行輪)으로 에워싸고, 그 주행륜을 모터로 구동시켜서 주행하는 주행기구(62)가 부착되어 있다. 카메라(51)는 그 주행기구(62)에 탑재되어, 주행기구(62)과 함께 이동한다. 또한 카메라(51)는, 상기 제2실시형태의 카메라와 마찬가지로 틸트구동, 팬구동 및 상하이동도 가능하다.In the
카메라(51)에는, 카메라를 틸트구동, 팬구동, 상하이동 및 좌우이동 시키기 위한 카메라 구동유닛(63)(제3구동유닛의 일례)이 접속되어 있다. 카메라 구동유닛(63)은, 예를 들면 작업자가 리모콘 등을 사용해서 원격조작 할 수 있도록 구성되어 있다. 또는, 카메라 구동유닛(63)은, 반송챔버(1C)의 내부공간(S1, S2a, S2b) 전체를 촬영할 수 있도록, 틸트각도, 팬각도 및 상하좌우의 이동량 등이 미리 프로그램 되어 있고, 그 프로그램에 따라서 카메라(51)를 구동한다.The
이러한 구성의 반송챔버(1C)에 의하면, 예를 들면 유지보수시에 있어서, 카메라(51)를 레일부재(61)를 따라 이동시킴으로써 반송챔버(1C)의 내부공간(S1, S2a, S2b)의 상태를 확인할 수 있어, 내부공간(S1, S2a, S2b)내에 작업자가 있는가 없는가를 검출할 수 있다. 또한 레일부재(61)로서 개구부(24)의 가장자리에 설치되는 레일을 채용하였을 경우에, 주행기구(62)를 주행시켰을 때의 먼지의 발생이 적어서, 에칭처리나 애싱처리 등이 이루어지는 기판처리장치에 바람직하다.According to the
(제4실시형태)(Fourth embodiment)
도9 및 도10은, 제4실시형태에 관한 반송챔버(1D)를 나타내는 도식도이다. 도9는 반송챔버(1D)의 평면도를 나타낸다. 도10은 반송챔버(1D)의 측면도를 나타낸다.9 and 10 are schematic diagrams showing a
도9 및 도10에 나타나 있는 바와 같이 제4실시형태의 반송챔버(1D)는, 카메라(51)가 개구부(24)의 가장자리를 따라 전체 둘레(도7의 화살표(E, F) 참조)를 이동하는 것이 가능한 점에서, 상기 제3실시형태의 반송챔버(1C)와 다르다. 따라서 제3실시형태와 동일한 구성에 관해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 적절하게 생략한다.As shown in Figs. 9 and 10, in the
개구부(24)의 가장자리에는, 전체 둘레에 걸쳐서 레일부재(61)(61a∼61d)가 설치되어 있다. 카메라(51)는, 이 레일부재(61)(61a∼61d)를 따라 개구부(24)의 전체 둘레를 이동한다. 레일부재(61)(61a∼61d)에는, 상기 제3실시형태와 마찬가지로, 카메라(51)가 탑재되는 주행기구(62)가 부착되어 있다. 카메라(51)의 대수는, 단수(單數)이어도 좋고 복수(複數)이어도 좋다. 또, 카메라(51)는, 상기 제3실시형태의 카메라와 마찬가지로 틸트구동, 팬구동 및 상하이동도 가능하다.At the edge of the
또한 개구부(24)의 가장자리에는, 전체 둘레에 걸쳐서 거울(41)(41a∼41d)이 설치되어 있다.Further, at the edge of the
또, 레일부재(61)와 거울(41)은, 개구부(24)의 가장자리 둘레길이의 반 정도의 길이에 걸쳐 설치하더라도 좋다. 예를 들면 도9에 있어서, 레일부재(61a)와 레일부재(6lb)를 설치하였을 경우에, 거울(4lb)과 거울(41d)을 설치하는 것 같이 하면 좋다. 마찬가지로, 레일부재(61c)와 레일부재(61d)를 설치하였을 경우에, 거울(41a)과 거울(41c)을 설치하는 것 같이 하면 좋다.In addition, the
카메라(51)에는, 카메라에 대하여 틸트구동, 팬구동, 상하방향의 이동 및 둘레방향의 이동을 시키기 위한 카메라 구동유닛(64)(제3구동유닛의 일례)이 접속되어 있다. 카메라 구동유닛(64)은, 예를 들면 작업자가 리모콘 등을 사용해서 원격으로 조작할 수 있도록 구성되어 있다. 또는, 카메라 구동유닛(64)은, 반송챔버(1D)의 내부공간(S1, S2a, S2b) 전체를 촬영할 수 있도록, 틸트각도, 팬각도, 상하방향의 이동량 및 둘레방향의 이동량 등이 미리 프로그램 되어 있어, 그 프로그램에 따라서 카메라(51)를 구동한다.The
또, 본 형태에서는, 평면에서 볼 때에 직4각형의 개구부(24)를 따라 직선모양의 레일부재(61)(61a∼61d)가 설치되어 있지만, 예를 들면 개구부(24)의 형상이 둥근 구멍이나 장공(長孔)인 경우에는, 그 형상에 대응하여 곡선모양의 레일부재를 설치하여도 좋다.Further, in this embodiment, straight rail members 61 (61a to 61d) are provided along the
이러한 구성의 반송챔버(1D)인 경우에도, 상기 제3실시형태의 반송챔버(1C)와 같은 효과를 얻을 수 있다.Even in the case of the
상기한 실시형태에 있어서는, 진공처리를 하는 기판처리장치에 사용하는 반송챔버를 설명했지만, 본 발명은 대기압하에서 사용하는 반송챔버에 이용하더라도 좋다.In the above-described embodiment, a transfer chamber used for a substrate processing apparatus for performing vacuum processing has been described, but the present invention may be used for a transfer chamber used under atmospheric pressure.
또한 본 발명에 관한 반송챔버는, 챔버 메인부와 챔버 사이드부가 일체인 일체구조의 챔버에 적용하더라도 좋고, 챔버 메인부와 챔버 사이드부가 별체인 분할구조의 챔버에 적용하더라도 좋다.Further, the conveyance chamber according to the present invention may be applied to a chamber having an integral structure in which a chamber main portion and a chamber side portion are integrated, or may be applied to a chamber having a divided structure in which the chamber main portion and the chamber side portion are separate.
또 본 발명은, 상기한 실시형태에 한정되지 않고, 적절하게 변형, 개량 등이 자유롭다. 그 외에, 상기한 실시형태에 있어서의 각 구성요소의 재질, 형상, 치수, 수치, 형태, 수, 배치장소 등은, 본 발명을 달성할 수 있는 것이라면 임의적이여서, 특정되게 한정되지 않는다.In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately modified and improved. In addition, the material, shape, dimension, numerical value, shape, number, arrangement location, etc. of each component in the above-described embodiment are arbitrary as long as the present invention can be achieved, and are not specifically limited.
1 : 반송챔버 7 : 로드록실
8a∼8e : 프로세스 챔버 11 : 챔버 메인부
12(12a,12b) : 챔버 사이드부 13 : 반송장치
14 : 상판 24 : 개구부
S1, S2a, S2b : 내부공간
41(41a∼41d) : 거울(반사부재의 일례)
43a, 43b : 거울구동유닛(제2구동유닛의 일례)
51 : 카메라(촬영유닛의 일례)
52 : 카메라 구동유닛(제1구동유닛의 일례)
53 : 송신유닛 61(61a∼61d) : 레일부재
62 : 주행기구
63 : 카메라 구동유닛(제3구동유닛의 일례)
64 : 카메라 구동유닛(제3구동유닛의 일례)
100 : 기판처리장치1: transfer chamber 7: load lock chamber
8a to 8e: process chamber 11: chamber main part
12(12a,12b): chamber side part 13: conveying device
14: top plate 24: opening
S1, S2a, S2b: internal space
41(41a-41d): Mirror (example of reflective member)
43a, 43b: mirror driving unit (an example of a second driving unit)
51: camera (an example of a photographing unit)
52: camera driving unit (an example of the first driving unit)
53: transmission unit 61 (61a to 61d): rail member
62: driving mechanism
63: camera driving unit (example of a third driving unit)
64: camera driving unit (example of a third driving unit)
100: substrate processing device
Claims (9)
상기 반송챔버는 그 상부에 개구부를 구비하고,
상기 챔버 메인부의 외측이고, 또한 상기 개구부의 가장자리의 적어도 일부에 반사부재를 설치한 반송챔버.
A transfer chamber having a chamber main part in which a transfer device for transferring a substrate is installed, and a chamber side part forming an inner space together with the chamber main part,
The conveying chamber has an opening thereon,
A conveyance chamber provided with a reflective member outside the chamber main part and at least a part of an edge of the opening.
상기 개구부의 가장자리에 상기 반사부재와 대향해서 설치되어, 상기 내부공간을 촬영하는 촬영유닛을 구비하는 반송챔버.
The method of claim 1,
A transport chamber provided at an edge of the opening to face the reflective member and having a photographing unit for photographing the inner space.
상기 촬영유닛을 틸트구동(tilt 驅動) 및/또는 팬구동(pan 驅動) 시키는 제1구동유닛을 구비하는 반송챔버.
The method of claim 2,
A transport chamber comprising a first driving unit for tilting and/or pan driving the photographing unit.
상기 반사부재를 틸트구동 및/또는 팬구동 시키는 제2구동유닛을 구비하는 반송챔버.
The method of claim 1,
A conveyance chamber comprising a second driving unit for tilting and/or pan driving the reflective member.
상기 촬영유닛을 상하방향 및 좌우방향 중에서 적어도 하나의 방향으로 이동시키는 제3구동유닛을 구비하는 반송챔버.
The method according to claim 2 or 3,
A transport chamber having a third driving unit for moving the photographing unit in at least one of an up-down direction and a left-right direction.
상기 촬영유닛에 의하여 촬영한 상기 내부공간의 영상을 데이터로서 송신하는 송신유닛을 구비하는 반송챔버.
The method of claim 2,
A transport chamber comprising a transmission unit that transmits an image of the inner space photographed by the photographing unit as data.
상기 송신유닛이 송신한 상기 데이터를 수신하여 표시하는 표시유닛을 구비하는 반송챔버.
The method of claim 6,
And a display unit for receiving and displaying the data transmitted by the transmitting unit.
상기 내부공간의 영상을 해석해서 상기 내부공간에 있어서의 이상(異常)의 유무를 판정하여, 이상이 있었을 때에 이상을 통지하는 이상통지유닛을 구비하는 반송챔버.
The method of claim 7,
A transport chamber comprising an abnormality notification unit that analyzes the image of the internal space to determine the presence or absence of an abnormality in the internal space, and notifies an abnormality when there is an abnormality.
상기 반사부재는 상기 개구부의 상측 가장자리에 설치되어 있는 반송챔버.The method of claim 1,
The reflective member is a transport chamber installed at an upper edge of the opening.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2017-218337 | 2017-11-13 | ||
JP2017218337A JP6625597B2 (en) | 2017-11-13 | 2017-11-13 | Transfer chamber |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190054956A KR20190054956A (en) | 2019-05-22 |
KR102162197B1 true KR102162197B1 (en) | 2020-10-06 |
Family
ID=66496398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180137314A KR102162197B1 (en) | 2017-11-13 | 2018-11-09 | Transfer chamber |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6625597B2 (en) |
KR (1) | KR102162197B1 (en) |
CN (1) | CN109786300B (en) |
TW (1) | TWI706500B (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102316934B1 (en) * | 2019-09-06 | 2021-10-26 | 세메스 주식회사 | Logistics storage system and method of controlling the same |
JP7388896B2 (en) * | 2019-12-04 | 2023-11-29 | 株式会社Screenホールディングス | Substrate processing equipment |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101137607B1 (en) * | 2010-12-30 | 2012-04-19 | 재 훈 장 | Wanrning system of security area using reflector |
KR101168872B1 (en) | 2011-11-28 | 2012-07-27 | 주식회사 썬닉스 | Apparatus for identification blind spot in equipment using mirror |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002064300A (en) | 2000-08-22 | 2002-02-28 | Nikon Corp | Substrate processing device |
JP2002096203A (en) * | 2000-09-18 | 2002-04-02 | Mori Seiki Co Ltd | Work working point display device of machine tool |
KR100653684B1 (en) * | 2000-11-02 | 2006-12-04 | 삼성전자주식회사 | chemical vapor deposition equipment for use of semiconductor |
JP2003202614A (en) * | 2002-01-09 | 2003-07-18 | Auto Network Gijutsu Kenkyusho:Kk | Vehicle periphery watching equipment |
JP4791110B2 (en) * | 2005-09-02 | 2011-10-12 | 東京エレクトロン株式会社 | Vacuum chamber and vacuum processing equipment |
JP2013039642A (en) * | 2011-08-18 | 2013-02-28 | Disco Corp | Cutting device |
JP2013206962A (en) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Tokyo Electron Ltd | Maintenance system and substrate processing device |
KR20140026690A (en) * | 2012-08-23 | 2014-03-06 | 미르호주식회사 | The system for monitoring a apparatus |
JP5979435B2 (en) * | 2012-09-11 | 2016-08-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Wall cabinet |
-
2017
- 2017-11-13 JP JP2017218337A patent/JP6625597B2/en active Active
-
2018
- 2018-11-09 KR KR1020180137314A patent/KR102162197B1/en active IP Right Grant
- 2018-11-09 CN CN201811332443.5A patent/CN109786300B/en active Active
- 2018-11-09 TW TW107139816A patent/TWI706500B/en active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101137607B1 (en) * | 2010-12-30 | 2012-04-19 | 재 훈 장 | Wanrning system of security area using reflector |
KR101168872B1 (en) | 2011-11-28 | 2012-07-27 | 주식회사 썬닉스 | Apparatus for identification blind spot in equipment using mirror |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190054956A (en) | 2019-05-22 |
CN109786300B (en) | 2023-06-23 |
TW201926523A (en) | 2019-07-01 |
TWI706500B (en) | 2020-10-01 |
JP2019091759A (en) | 2019-06-13 |
JP6625597B2 (en) | 2019-12-25 |
CN109786300A (en) | 2019-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102162197B1 (en) | Transfer chamber | |
KR101011076B1 (en) | Vision system | |
TWI711817B (en) | Appearance detection device | |
US20200343115A1 (en) | Apparatus and method for inspecting wafer carriers | |
US10850923B2 (en) | Transporter and transporting method | |
CN101271857A (en) | Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and storage medium | |
KR20120103565A (en) | Wafer detecting apparatus | |
TWI682164B (en) | Substrate monitoring apparatus and substrate monitoring method | |
KR102424654B1 (en) | Article transport facility | |
JP6206088B2 (en) | Teaching system | |
EP3413339B1 (en) | Inspection system and method of inspection for substrate containers | |
CN111687861B (en) | Manipulator arm assembly with camera shooting detection device and semiconductor production equipment | |
KR100744472B1 (en) | Automatic optical inspection | |
TWI829843B (en) | Inspection system | |
KR101717380B1 (en) | Transfer robot having Monitoring Image Function | |
KR101539316B1 (en) | Overhead hoist trasporter controll sensor system | |
TWI769737B (en) | Apparatus for loading and unloading box cover and method for inspecting box cover | |
KR101574202B1 (en) | Substrates detecting apparatus and substrate processing apparatus uing it | |
KR20060111962A (en) | Apparatus for storing a semiconductor substrate and equipment for manufacturing a semiconductor substrate having the same | |
WO2023176442A1 (en) | Monitoring substrate and monitoring method | |
JPH0799229A (en) | Position aligning device | |
KR20240072978A (en) | Substrate transfer container opener | |
TW202345211A (en) | Substrate processing device and substrate processing method | |
TW202236456A (en) | Apparatus and method for inspecting the bottom surface of wafer box | |
JPH0537713U (en) | Package type detector for transport system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |