JPH0799229A - Position aligning device - Google Patents

Position aligning device

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JPH0799229A
JPH0799229A JP20464194A JP20464194A JPH0799229A JP H0799229 A JPH0799229 A JP H0799229A JP 20464194 A JP20464194 A JP 20464194A JP 20464194 A JP20464194 A JP 20464194A JP H0799229 A JPH0799229 A JP H0799229A
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holding position
image
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Yukiteru Kuroda
幸輝 黒田
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Tokyo Electron Kyushu Ltd
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Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Kyushu Ltd
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Abstract

PURPOSE:To align the giving and receiving position simply and accurately when a wafer is given and received between a wafer chuck for holding the wafer and a wafer holding toll tool for holding the wafer in a cleaning tank. CONSTITUTION:The images of a holding groove P1 of a holding rod on the side of a wafer chuck and a holding groove Q1 of a holding rod 43 on the side of a wafer holding tool 41 are picked up with an image pickup device 55. The respective images of the holding groove P1 and the holding groove Q1 are displayed on the same coordinate system in the screen of the same monitor. When the positions are deviated, the images are deviated and displayed on the same screen. Therefore, when the wafer chuck is adjusted so that both images agree, the positions can be aligned simply and accurately.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、位置合わせ装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an alignment device.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えばLSI等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来か
ら半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)表面のパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するために洗浄処理装置が使用されており、
その中でもとりわけ、ウェット洗浄装置は、パーティク
ルを効果的に除去できしかもバッチ処理が可能なため、
広く普及している。
2. Description of the Related Art A cleaning process in a manufacturing process of a semiconductor device such as an LSI will be described as an example. Conventionally, contamination of particles, organic contaminants, metal impurities, etc. on the surface of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as "wafer") is prevented. A cleaning processor is used to remove it,
Among them, the wet cleaning device can effectively remove particles and can perform batch processing,
Widely used.

【0003】かかるウェット洗浄装置においては、所定
枚数例えば25枚のウエハを収納したカセット単位でロ
ードするロード機構と、このロード機構によってロード
されたウエハを所定枚数、例えば50枚ずつ搬送するウ
エハ搬送装置と、このウエハ搬送装置によって搬送され
たウエハを一括して洗浄するように配列された複数の洗
浄処理槽と、各洗浄処理槽によって洗浄されたウエハを
アンロードするアンロード機構とを備えて構成されてい
る。
In such a wet cleaning apparatus, a load mechanism for loading a predetermined number of wafers, for example, 25 wafers in a cassette unit, and a wafer transfer device for transporting a predetermined number of wafers, for example, 50 wafers, loaded by the load mechanism. And a plurality of cleaning processing tanks arranged to collectively clean the wafers transferred by the wafer transfer apparatus, and an unload mechanism for unloading the wafers cleaned by the cleaning processing tanks. Has been done.

【0004】そして前記ウエハ搬送装置は、前記各洗浄
処理槽へウエハを搬送する際に所定枚数、例えば50枚
のウエハを一括して同時に把持する、ウエハチャックと
呼ばれる把持装置を有している。この把持装置は通常、
略水平方向に突出した対向する一対の把持部材に、把持
すべきウエハの枚数に応じた複数の把持溝が所定の間隔
をおいて形成されており、前記各ウエハはこれら各把持
溝にその周縁部が挿入され、各把持部材相互の接近によ
って、前記各ウエハは垂直状態で把持装置に把持される
ように構成されている。
The wafer transfer device has a holding device called a wafer chuck that simultaneously holds a predetermined number of wafers, for example, 50 wafers at the same time when the wafers are transferred to the cleaning processing tanks. This gripping device is usually
A plurality of gripping grooves corresponding to the number of wafers to be gripped are formed at predetermined intervals on a pair of facing gripping members that protrude in a substantially horizontal direction. The wafer is vertically held by the gripping device when the parts are inserted and the gripping members approach each other.

【0005】一方ウエハの洗浄がなされる洗浄処理槽内
には、前記把持装置によって把持されて搬送されてくる
前記ウエハを保持するためのボートと呼ばれる保持具が
設けられている。この保持具は、前記把持装置によって
把持された状態のウエハを一括して受け取って保持する
ため、把持装置における前記把持溝に対応した複数の保
持溝が形成され、これら各保持溝内で各ウエハの周縁部
を垂直に受容して、前記ウエハを所定の保持位置にて保
持するように構成されている。
On the other hand, a holder called a boat for holding the wafer which is gripped and conveyed by the gripping device is provided in the cleaning processing tank for cleaning the wafer. Since this holder collectively receives and holds the wafers held by the holding device in a batch, a plurality of holding grooves corresponding to the holding grooves in the holding device are formed, and each wafer is held in each holding groove. Is configured to vertically receive the peripheral edge portion of and hold the wafer at a predetermined holding position.

【0006】従って、前記把持装置と保持具の間でウエ
ハを授受する際には、前記把持装置における把持位置と
なる把持溝と、前記保持具における保持位置となる前記
保持溝とが、ウエハを授受する位置にてその相対位置が
一致、即ち同一垂直面上に位置していなければ、ウエハ
を円滑に授受することができない。そのため前記把持装
置と保持具との間で、事前に前記把持位置と保持位置と
の位置合わせを行っておく必要がある。通常前記保持具
は、洗浄処理槽内に固定されているため、把持装置の方
を適宜X−Y方向に調整移動させて前記位置合わせが行
われている。
Therefore, when a wafer is transferred between the holding device and the holder, the holding groove in the holding device and the holding groove in the holding device hold the wafer. If the relative positions of the transfer and reception are the same, that is, they are not on the same vertical plane, the wafer cannot be transferred and received smoothly. Therefore, the gripping position and the holding position need to be adjusted in advance between the gripping device and the holder. Usually, the holder is fixed in the cleaning treatment tank, and thus the position is adjusted by appropriately moving the holding device in the XY directions.

【0007】そしてそのような位置合わせについては、
従来、把持装置によって複数のダミーウエハを実際に把
持して授受位置まで移動させ、操作員が把持装置の設定
位置を適宜マニュアル調整しつつ、注意深く目や耳で確
認しながら、把持された各ウエハの周縁部が、保持具に
おいて対応する保持溝内に正しく垂直に授受できるよう
に位置合わせしていた。
And regarding such alignment,
Conventionally, a plurality of dummy wafers are actually gripped by a gripping device and moved to a transfer position, and an operator manually adjusts the setting position of the gripping device as appropriate and carefully checks with eyes and ears each of the gripped wafers. The peripheral edges were aligned so that they could be correctly and vertically transferred into the corresponding holding grooves in the holder.

【0008】またその他、例えば把持装置による授受位
置を予め正確に測定して基準位置を決めておき、適宜の
距離センサを設置して把持装置の位置を常時検出し、前
記基準位置との差を例えば数値表示するなどして位置ズ
レを検出し、その差が0になるように適宜把持装置の設
定位置を調整して位置合わせを行うことが提案されてい
る。
In addition, for example, the transfer position by the gripping device is accurately measured in advance to determine the reference position, an appropriate distance sensor is installed to constantly detect the position of the gripping device, and the difference from the reference position is calculated. For example, it has been proposed to detect a positional deviation by displaying a numerical value and adjust the set position of the gripping device as appropriate so that the difference becomes 0 to perform positional alignment.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前者の操
作員の目や耳で確認しながら位置合わせを行う方法は、
個々の操作員の技量に負うところが多く、また人為的な
誤差が皆無とは言えず信頼性に欠ける。そのうえ洗浄処
理槽内での実際の授受の様子を直接のぞき込むようにし
て確認しなければならないので、作業環境が悪く、調整
までに多大な時間と労力を必要としている。
However, the method of aligning while checking with the eyes and ears of the former operator is as follows.
It depends on the skill of each operator, and it cannot be said that there are no human errors, and it lacks reliability. In addition, since it is necessary to directly look into the state of the actual transfer in the cleaning treatment tank, the working environment is bad, and it takes a lot of time and labor before adjustment.

【0010】一方後者の基準位置に基づいて位置合わせ
する方法では、把持装置の基準位置を決める際の実測の
段階で誤差が生じやすく、前記マニュアル操作の場合と
同様信頼性に欠ける。しかも把持装置は単純な形態では
ないので、その位置を検出する際に必要な距離センサを
多数の場所に設置する必要があり、装置自体が複雑化す
る。また洗浄処理槽内にもかかるセンサを設置する必要
があるので、対洗浄液性や水密性の問題が新たに生じ、
この点でも好ましくない。
On the other hand, in the latter method of aligning based on the reference position, an error is likely to occur in the actual measurement stage when determining the reference position of the gripping device, and the reliability is low as in the case of the manual operation. Moreover, since the gripping device is not in a simple form, it is necessary to install distance sensors necessary for detecting the position at many places, which complicates the device itself. In addition, since it is necessary to install such a sensor inside the cleaning tank, problems such as cleaning liquid resistance and watertightness newly occur.
This point is not preferable either.

【0011】本発明はそのような問題点に鑑みてなされ
たものであり、簡単な装置構成によって把持装置の把持
位置と保持具の保持位置との相対位置、つまり相対位置
基準の位置合わせが簡易、迅速かつ正確に行える位置合
わせ装置を提供して、上記問題の解決を図ることを目的
とするものである。
The present invention has been made in view of such a problem, and the relative position between the gripping position of the gripping device and the holding position of the holder, that is, the alignment based on the relative position is easy with a simple device configuration. An object of the present invention is to provide a positioning device that can be quickly and accurately provided to solve the above problem.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1によれば、把持装置における所定の把持位
置に把持された状態の複数の被処理体を、保持具におけ
る所定の保持位置に授受する如く構成された搬送系にお
ける、前記授受の際の前記把持位置と前記保持位置との
相対位置の位置合わせを行う装置であって、前記把持装
置によって把持される適宜の治具に設けられ、前記把持
位置と前記保持位置とを同時に撮像する撮像装置と、前
記撮像装置によって撮像された前記把持位置と前記保持
位置とを、同一画像表示部における同一座標系に重ねて
画像表示する表示装置とを具備することを特徴とする、
位置合わせ装置が提供される。
In order to achieve the above-mentioned object, according to claim 1, a plurality of objects to be processed in a state of being held at a predetermined holding position in a holding device are held at a predetermined holding position in a holder. A device for aligning the relative position of the gripping position and the holding position at the time of the transfer in a transfer system configured to transfer to and from a proper jig which is gripped by the gripping device. And an image pickup device for picking up the grip position and the holding position at the same time, and a display for superimposing and displaying the grip position and the holding position picked up by the image pickup device on the same coordinate system in the same image display unit. And a device,
An alignment device is provided.

【0013】請求項2によれば、把持装置における所定
の把持位置に把持された状態の複数の被処理体を、保持
具における所定の保持位置に授受する如く構成された搬
送系における、前記授受の際の前記把持位置と前記保持
位置との相対位置の位置合わせを行う装置であって、前
記把持装置によって把持される適宜の治具の2カ所に撮
像装置が設けられ、前記撮像装置における一の撮像装置
は、第1の把持位置と保持位置とを同時に撮像し、前記
撮像装置における他の撮像装置は、他の第2の把持位置
と保持位置とを同時に撮像する如く構成され、前記各撮
像装置によって撮像された前記把持位置と前記保持位置
とを、前記各撮像装置ごとに、同一画像表示部における
同一座標系に、重ねて画像表示する表示装置とを具備す
ることを特徴とする、位置合わせ装置が提供される。
According to a second aspect of the present invention, the transfer system is configured so as to transfer a plurality of objects to be processed held in a predetermined holding position in the holding device to a predetermined holding position in a holder. A device for aligning the relative position between the gripping position and the holding position at the time of, and image pickup devices are provided at two positions of an appropriate jig held by the gripping device. Is configured to simultaneously image the first gripping position and the holding position, and the other imaging device in the imaging device is configured to simultaneously image the other second gripping position and the holding position. A display device for displaying the gripping position and the holding position imaged by the image pickup device in an overlapping manner in the same coordinate system in the same image display unit for each of the image pickup devices. , Alignment device is provided.

【0014】この場合、請求項3に記載したように、第
1の把持位置と保持位置を一端部に、第2の把持位置と
保持位置を他端部に夫々位置する把持位置、保持位置と
してもよい。
In this case, as described in claim 3, the first gripping position and the holding position are the one end and the second gripping position and the holding position are the other gripping position and the holding position, respectively. Good.

【0015】これらの各位置合わせ装置において、請求
項4に記載したように、前記各撮像装置によって撮像さ
れた前記把持位置と前記保持位置とを、前記各撮像装置
ごとに同一画像表示部における同一座標系に、前記各撮
像装置ごとに分割して重ねて画像表示する表示装置とを
具備するようにしてもよい。即ち表示装置を共用して、
その画像表示部を分割して、各撮像装置ごとに表示する
ようにしてもよい。
In each of these alignment devices, as described in claim 4, the gripping position and the holding position imaged by each of the image pickup devices are the same in the same image display section for each of the image pickup devices. The coordinate system may be provided with a display device that divides each of the imaging devices and displays the images in an overlapping manner. That is, sharing the display device,
The image display unit may be divided and displayed for each imaging device.

【0016】さらに請求項5のように、前記した各位置
合わせ装置における適宜の治具に、前記把持装置と保持
具との間の距離を検出する距離センサを設けてもよい。
Further, as in claim 5, a distance sensor for detecting a distance between the gripping device and the holder may be provided on an appropriate jig in each of the above-mentioned positioning devices.

【0017】請求項6によれば、把持装置における所定
の把持位置に把持された状態の複数の被処理体を、保持
具における所定の保持位置に授受する如く構成された搬
送系における、前記授受の際の前記把持位置と前記保持
位置との相対位置の位置合わせを行う装置であって、前
記保持具によって保持される適宜の支持治具には撮像装
置が設けられ、この撮像装置は、前記保持位置を常時撮
像すると共に、前記把持装置が前記授受の際の高さ近傍
(もちろん授受の際の高さも含めて)に位置するときに
この把持装置の把持位置をも同時に撮像する如く構成さ
れ、前記撮像装置によって撮像された前記把持位置と前
記保持位置とを、同一画像表示部における同一座標系に
重ねて画像表示する表示装置とを具備することを特徴と
する、位置合わせ装置が提供される。
According to a sixth aspect of the present invention, the transfer system is configured so as to transfer a plurality of objects to be processed held in a predetermined holding position in the holding device to a predetermined holding position in a holder. A device for performing relative position alignment between the gripping position and the holding position at the time of, and an image pickup device is provided on an appropriate support jig held by the holder, and the image pickup device is The holding position is constantly imaged, and the gripping position of the gripping device is also imaged at the same time when the gripping device is located near the height during the transfer (including, of course, the height during the transfer). And a display device for displaying the grip position and the holding position imaged by the imaging device as an image by superimposing them on the same coordinate system in the same image display unit. Location is provided.

【0018】また請求項7によれば、把持装置における
所定の把持位置に把持された状態の複数の被処理体を、
保持具における所定の保持位置に授受する如く構成され
た搬送系における、前記授受の際の前記把持位置と前記
保持位置との相対位置の位置合わせを行う装置であっ
て、前記保持具によって保持される適宜の支持治具には
2カ所に撮像装置が設けられ、一の撮像装置は、第1の
保持位置を常時撮像すると共に、前記把持装置が前記授
受の際の高さ近傍(もちろん授受の際の高さも含めて)
に位置するときにこの把持装置における第1の把持位置
をも同時に撮像する如く構成され、他の撮像装置は、第
2の保持位置を常時撮像すると共に、前記把持装置が前
記授受の際の高さ近傍(もちろん授受の際の高さも含め
て)に位置するときにこの把持装置における第2の把持
位置をも同時に撮像する如く構成され、前記各撮像装置
によって撮像された前記把持位置と前記保持位置とを、
各撮像装置ごとに、同一画像表示部における同一座標系
に重ねて画像表示する表示装置とを具備することを特徴
とする、位置合わせ装置が提供される。
According to a seventh aspect of the present invention, a plurality of objects to be processed held in a predetermined holding position in the holding device are provided.
An apparatus for aligning a relative position between the gripping position and the holding position at the time of the transfer in a transfer system configured to transfer to and from a predetermined holding position of the holding tool, which is held by the holding tool. The appropriate supporting jig is provided with image pickup devices at two positions. One image pickup device always takes an image of the first holding position, and the gripping device is close to the height at the time of the transfer (of course, the transfer is performed). (Including height of edge)
Is configured to simultaneously capture an image of the first gripping position of the gripping device, the other imaging device constantly captures an image of the second holding position, and the gripping device is configured to take a high image during the transfer. The second gripping position of the gripping device is also imaged at the same time when it is located near (including the height at the time of transfer), and the gripping position and the holding imaged by each of the image pickup devices. Position and
A positioning device is provided, which is provided with a display device that displays an image by superimposing it on the same coordinate system in the same image display unit for each imaging device.

【0019】この場合、請求項8に記載したように、第
1の把持位置と保持位置を一端部に、第2の把持位置と
保持位置を他端部に夫々位置する把持位置、保持位置と
してもよい。
In this case, as described in claim 8, the first gripping position and the holding position are set at one end and the second gripping position and the holding position are set at the other end, respectively. Good.

【0020】さらに請求項9に記載したように、前記各
撮像装置によって撮像された前記把持位置と前記保持位
置とを、前記各撮像装置ごとに同一画像表示部における
同一座標系に、前記各撮像装置ごとに分割して重ねて画
像表示する表示装置とを具備するようにしてもよい。即
ち1つの表示装置を共用して、その画像表示部を分割し
て、個々の分割画面上で各撮像装置ごとに表示するよう
にしてもよい。
Further, as described in claim 9, the gripping position and the holding position imaged by each of the image pickup devices are set in the same coordinate system in the same image display unit for each of the image pickup devices. You may make it equip with the display apparatus which divides for every apparatus and superimposes and displays an image. That is, one display device may be shared, the image display unit may be divided, and each image pickup device may be displayed on each divided screen.

【0021】[0021]

【作用】請求項1によれば、把持装置における被処理体
の把持位置と、保持具における保持位置とが同一の撮像
装置によって同時に撮像され、撮像されたこれら把持位
置と前記保持位置とが、同一画像表示部における同一座
標系に、重ねて画像表示されるので、把持位置と保持位
置とが位置ズレしている場合、両画像もズレて表示され
る。従って操作員は、その画像を見ながら把持位置と保
持位置とが一致するように、把持装置の設定位置を適宜
調整するだけで把持位置と保持位置との位置合わせが簡
単にしかも正確に行える。
According to the first aspect, the gripping position of the object to be processed in the gripping device and the holding position in the holder are simultaneously imaged by the same imaging device, and the imaged gripping position and the holding position are: Since images are displayed in an overlapping manner on the same coordinate system in the same image display unit, when the gripping position and the holding position are misaligned, both images are also misaligned and displayed. Therefore, the operator can easily and accurately align the gripping position and the holding position by simply adjusting the setting position of the gripping device so that the gripping position and the holding position match while observing the image.

【0022】また請求項2によれば、基本的に作用は上
記請求項1と同様であるが、撮像装置は2箇所に設けら
れて、これら2つの撮像装置によって把持装置と保持具
の各両端部の把持位置と保持位置とが撮像されている。
従って、例えば前記把持装置と保持具とがある程度の長
さを有している場合、そのように二カ所で夫々請求項1
による位置合わせが行われるから、正確な位置合わせが
行えるものである。請求項3では、撮像する箇所が、一
端部と他端部、即ち両端部で行うので、請求項2よりも
さらに正確な位置合わせが行えるものである。
According to a second aspect of the invention, the operation is basically the same as that of the first aspect, but the image pickup devices are provided at two locations, and the two image pickup devices are provided at both ends of the gripping device and the holder. The gripping position and the holding position of the unit are imaged.
Therefore, for example, when the gripping device and the holder have a certain length, each of the two positions may be set at the two positions.
Since the alignment is performed by, accurate alignment can be performed. According to the third aspect, since the imaging is performed at the one end portion and the other end portion, that is, both end portions, the position can be aligned more accurately than in the second aspect.

【0023】そして請求項4では、表示装置、例えばモ
ニタなどを共用しているので、一台の表示装置における
一つの画面上で、二つの撮像装置の撮像、即ち二カ所に
おける把持位置と保持位置との重ねられた画像表示を視
認することができる。
In the present invention, the display device, for example, the monitor is shared, so that the two image pickup devices are imaged, that is, the gripping position and the holding position at two places, on one screen of one display device. The image display overlaid with can be visually recognized.

【0024】ところで前記把持装置が、上下動して保持
具に対して授受する位置まで移動する場合、把持装置の
Z方向の位置、即ち把持装置の高さも、正確な授受にと
っては、重要な基準となる。請求項5〜9では、かかる
点に対処可能であり、まず請求項5によれば、前記した
各位置合わせ装置における適宜の治具に、前記把持装置
と保持具との間の距離を検出する距離センサを設けてあ
るので、この距離センサの検出信号、即ち距離をモニタ
することにより、把持装置の保持具に対する高さを確認
することができる。
When the gripping device moves up and down to a position where it is transferred to and from the holder, the position in the Z direction of the gripping device, that is, the height of the gripping device is also an important criterion for accurate transfer. Becomes According to claims 5 to 9, such a point can be dealt with. First, according to claim 5, the distance between the gripping device and the holder is detected by an appropriate jig in each of the alignment devices described above. Since the distance sensor is provided, the height of the gripping device with respect to the holder can be confirmed by monitoring the detection signal of the distance sensor, that is, the distance.

【0025】請求項6の位置合わせ装置における撮像装
置は、前記保持位置を常時撮像すると共に、前記把持装
置が前記授受の際の高さ近傍に位置するときにこの把持
装置の把持位置をも同時に撮像する如く構成されている
ので、未だ把持装置が前記授受の際の所定の地位周辺に
ないときは、把持位置が撮像されず、所定の高さ近傍に
位置したときにはじめて、把持位置が撮像されて画像に
表示される。したがって画像上、保持位置と把持位置と
が表示され両者が重なった位置になれば、授受の際の所
定の高さに把持装置が位置していることが確認できる。
According to another aspect of the present invention, in the image pickup device in the position adjusting device, the holding position is constantly imaged, and when the gripping device is located near the height at the time of the transfer, the gripping position of the gripping device is simultaneously measured. Since it is configured to image, the gripping position is not imaged when the gripping device is not yet around the predetermined position at the time of the transfer, and the gripping position is imaged only when the gripping device is located near the predetermined height. And displayed on the image. Therefore, if the holding position and the gripping position are displayed on the image and the positions are overlapped with each other, it can be confirmed that the gripping device is positioned at a predetermined height at the time of transfer.

【0026】請求項7では、二カ所で夫々請求項6によ
る位置合わせが行われるから、正確な位置合わせが行え
るものである。請求項8では、撮像する箇所が、一端部
と他端部、即ち両端部で行われるので、請求項7よりも
さらに正確な位置合わせが行えるものである。
According to the seventh aspect, since the positioning according to the sixth aspect is performed at each of two places, accurate positioning can be performed. According to the eighth aspect, since the image pickup portion is performed at one end portion and the other end portion, that is, both end portions, more accurate alignment can be performed than in the seventh aspect.

【0027】請求項9によれば、請求項4の場合と同
様、表示装置、例えばモニタなどを共用しているので、
一台の表示装置における一つの画面上で、二つの撮像装
置の撮像、即ち二カ所における把持位置と保持位置との
重ねられた画像表示を視認することができる。
According to the ninth aspect, as in the case of the fourth aspect, since the display device, for example, the monitor is shared,
On one screen of one display device, it is possible to visually recognize the images of the two imaging devices, that is, the superimposed image display of the gripping position and the holding position at two places.

【0028】[0028]

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明すると、本実施例は半導体ウエハ(以下、「ウエ
ハ」という)の洗浄処理装置において適用された例であ
り、まずその洗浄処理装置について説明すると、この洗
浄処理装置1全体は、図1に示したように、洗浄処理前
のウエハをカセット単位で収容する搬入部2と、ウエハ
の洗浄処理が行われる洗浄処理部3と、洗浄処理後のウ
エハをカセット単位で取り出すための搬出部4の、3つ
のゾーンによって構成されている。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the accompanying drawings. This embodiment is an example applied to a semiconductor wafer (hereinafter referred to as "wafer") cleaning processing apparatus. Explaining the apparatus, as shown in FIG. 1, the entire cleaning processing apparatus 1 includes a carry-in section 2 for accommodating uncleaned wafers in cassette units, a cleaning processing section 3 for cleaning the wafers, and a cleaning processing section 3 for cleaning the wafers. It is composed of three zones of the carry-out section 4 for taking out the wafer after the cleaning processing in cassette units.

【0029】前記搬入部2には、洗浄処理前のウエハが
所定枚数、例えば25枚収納されたカセット5を待機さ
せる待機部6と、カセット5からのウエハの取り出し、
オリフラ合わせ及び枚葉検出等を行うローダ部7と、外
部から搬送ロボットなどによって搬入されるカセット5
の前記待機部6への搬送、及びこの待機部6と前記ロー
ダ部7との間で、カセット5の搬送を行うための搬送ア
ーム8が設けられている。
In the carry-in section 2, a waiting section 6 for waiting a cassette 5 containing a predetermined number of wafers before cleaning, for example, 25 wafers, and taking out the wafers from the cassette 5,
A loader unit 7 that performs orientation flat alignment and sheet-by-wafer detection, and a cassette 5 that is carried in from outside by a transfer robot or the like.
A transfer arm 8 for transferring the cassette 5 to the standby section 6 and between the standby section 6 and the loader section 7 is provided.

【0030】前記洗浄処理部3には、その前面側(図1
における手前側)に3つのウエハ搬送装置11、12、
13が配列されており、また前記洗浄処理部3の上方に
は、前記ウエハ搬送装置11、12、13によってウエ
ハが取り出された後の空のカセット5を、洗浄、乾燥処
理するカセット洗浄・乾燥ライン14が前記洗浄処理部
3に沿って設けられている。このカセット洗浄・乾燥ラ
イン14へのカセットの供給は、前出ローダ部7と昇降
機構15によって行われる。
The cleaning processing section 3 has its front side (see FIG. 1).
Front side), three wafer transfer devices 11, 12,
13 are arranged, and above the cleaning processing unit 3, a cassette cleaning / drying process for cleaning and drying the empty cassette 5 after the wafers are taken out by the wafer transfer devices 11, 12, and 13. A line 14 is provided along the cleaning processing unit 3. Supply of the cassette to the cassette cleaning / drying line 14 is performed by the loader unit 7 and the elevating mechanism 15.

【0031】一方、搬出部4においても、前記昇降機構
15と同様な昇降機構(図示せず)が設けられており、
前記洗浄・乾燥ライン14を経た空のカセット5は、こ
の昇降機構によって搬出部4内の所定の受け取り位置に
セットされるように構成されている。
On the other hand, the carry-out section 4 is also provided with an elevator mechanism (not shown) similar to the elevator mechanism 15,
The empty cassette 5 that has passed through the cleaning / drying line 14 is configured to be set at a predetermined receiving position in the carry-out section 4 by this elevating mechanism.

【0032】前記洗浄処理部3には、前記ローダ部7側
から順に、前記ウエハ搬送装置11のウエハチャック1
6を洗浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理槽21、ウ
エハ表面の有機汚染物、金属不純物、パーティクル等の
不純物質を薬液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽2
2、前記薬液洗浄処理槽22で洗浄されたウエハを例え
ば純水によって洗浄する2つの水洗洗浄処理槽23、2
4、前記薬液洗浄処理槽22における薬液とは異なった
薬液で洗浄処理する薬液洗浄処理槽25、前記薬液洗浄
処理槽25で洗浄されたウエハを例えば純水によって洗
浄する2つの水洗洗浄処理槽26、27、前記ウエハ搬
送装置13のウエハチャック17を洗浄、乾燥するチャ
ック洗浄・乾燥処理槽28、及び前記不純物質が除去さ
れたウエハを、例えばIPA(イソプロピルアルコー
ル)等で蒸気乾燥させるための乾燥処理槽29が夫々配
設されている。
In the cleaning processing section 3, the wafer chuck 1 of the wafer transfer apparatus 11 is sequentially installed from the loader section 7 side.
Chuck cleaning / drying processing tank 21 for cleaning and drying 6, and chemical cleaning processing tank 2 for cleaning impurities such as organic contaminants, metal impurities and particles on the wafer surface with a chemical solution
2. Two water cleaning treatment tanks 23 for cleaning the wafers cleaned in the chemical cleaning processing tank 22 with pure water, for example
4, a chemical cleaning treatment tank 25 for cleaning with a chemical different from the chemical in the chemical cleaning treatment tank 22, and two washing cleaning treatment tanks 26 for cleaning the wafer cleaned in the chemical cleaning treatment tank 25 with, for example, pure water. , 27, a chuck cleaning / drying treatment tank 28 for cleaning and drying the wafer chuck 17 of the wafer transfer device 13, and a drying process for vapor-drying the wafer from which the impurities have been removed by, for example, IPA (isopropyl alcohol). The processing tanks 29 are provided respectively.

【0033】そして前記薬液洗浄処理槽22、25は、
夫々の洗浄処理液がオーバーフローして循環し、この循
環時にそれぞれの洗浄処理液内に蓄積された不純物が除
去されるように構成されている。
The chemical cleaning treatment tanks 22 and 25 are
Each cleaning treatment liquid overflows and circulates, and during this circulation, impurities accumulated in each cleaning treatment liquid are removed.

【0034】前記ウエハ搬送装置11、12、13は、
基本的に同一構成であり、ウエハ搬送装置12の構成に
ついて、図1、図2に基づいて説明すると、このウエハ
搬送装置12は、例えば50枚のウエハを一括して把持
する左右一対の把持部材17a、17bによって構成さ
れたウエハチャック17と、このウエハチャック17を
上下方向(Z方向)に昇降させると共に、前後方向(Y
方向)にも移動させるY軸駆動機構12dと、このY軸
駆動機構12dを備えた駆動機構12aを洗浄処理部3
の長手方向(X方向)に沿って移動させるための搬送ベ
ース12bとを有している。また前記ウエハチャック1
7を昇降させる際に、駆動機構12aから突出、収納す
る摺動体は、ベローズシール12cによって被覆されて
おり、洗浄処理部3内で発生したパーティクルがこの摺
動体に直接付着しないように構成されている。
The wafer transfer devices 11, 12, 13 are
The structure of the wafer transfer device 12 is basically the same, and the structure of the wafer transfer device 12 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The wafer transfer device 12 includes, for example, a pair of left and right gripping members that collectively grip 50 wafers. The wafer chuck 17 configured by 17a and 17b, and the wafer chuck 17 is moved up and down in the vertical direction (Z direction) and is moved in the front-back direction (Y
Direction) and the Y-axis drive mechanism 12d that is also moved, and the drive mechanism 12a equipped with this Y-axis drive mechanism 12d.
And a transfer base 12b for moving along the longitudinal direction (X direction). Also, the wafer chuck 1
When moving up and down 7, the sliding body protruding from the drive mechanism 12a and accommodated therein is covered with a bellows seal 12c, and is configured so that particles generated in the cleaning processing unit 3 do not directly adhere to this sliding body. There is.

【0035】さらにまた前記駆動機構12a全体は、適
宜の調整機構(図示せず)によってその平面における中
心を軸心として、適宜の範囲で図2に示したようにθ方
向にも微調整できるように構成され、さらにウエハチャ
ック17の所定位置での停止、即ち位置合わせを行うた
めの、駆動機構12aのX方向、Y軸駆動機構12dの
Y方向へのマニュアル調整移動が、パルスモータの制御
によって自在に行え、かつその設定位置を記憶させるこ
とが可能なように構成されている。
Further, the entire drive mechanism 12a can be finely adjusted in the θ direction as shown in FIG. 2 within an appropriate range with the center in the plane as an axis by an appropriate adjusting mechanism (not shown). Further, the manual adjustment movement of the drive mechanism 12a in the X direction and the Y axis drive mechanism 12d in the Y direction for stopping or aligning the wafer chuck 17 at a predetermined position is controlled by the pulse motor control. It is configured so that it can be performed freely and its setting position can be stored.

【0036】そして前記ウエハチャック17における各
把持部材17a、17bは、夫々図3、図4に示したよ
うに、夫々図2における往復回動矢印M、Nで示される
ように回動自在に構成され、さらにその両端部から下方
に設けられた支持体31、32間の上下に、各々把持棒
33、34が水平方向に渡されて固定されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the holding members 17a and 17b of the wafer chuck 17 are rotatable as indicated by reciprocating rotation arrows M and N in FIG. 2, respectively. Further, the gripping bars 33 and 34 are horizontally passed and fixed above and below between the support bodies 31 and 32 provided below both ends thereof, respectively.

【0037】さらに上側の把持棒33には把持溝Pが、
下側の把持棒34にも把持溝Qが、夫々同一の一定間隔
の下で夫々P1〜P50、Q1〜Q50までの計50本ずつ設
けられており、把持される50枚のウエハはその周縁部
が、各把持部材17a、17bにおける前記各把持棒3
3、34における前記各把持溝P1〜P50とQ1〜Q50
に挿入された状態で、各把持部材17a、17bが相互
に接近する方向に回動することによって、前記ウエハチ
ャック17に把持されるように構成されている。
Further, a gripping groove P is provided on the gripping bar 33 on the upper side.
The lower gripping bar 34 is also provided with gripping grooves Q under the same fixed intervals, respectively, a total of 50 gripping holes P 1 to P 50 and Q 1 to Q 50 , respectively. The periphery of the wafer has the gripping bars 3 of the gripping members 17a and 17b.
In a state where the inserted into each gripping groove P 1 to P 50 and Q 1 to Q 50 in the 3,34, by the gripping member 17a, 17b is rotated in a direction approaching each other, the wafer chuck 17 It is configured to be gripped by.

【0038】前出各洗浄処理槽内の底部近傍には、洗浄
処理中のウエハを処理するためのウエハ保持具が設けら
れているが、いま図2、図3、図4をもとに、薬液洗浄
処理槽25内に設けられているウエハ保持具41につい
て説明すると、このウエハ保持具41は、ボートとも呼
ばれる3本の保持棒42、43、44が薬液洗浄処理槽
25の底部近傍に長手方向(Y方向)に沿って、適宜の
ブラケット45を介して設置、固定されている。
A wafer holder for processing a wafer being cleaned is provided near the bottom of each cleaning tank as described above. Now, referring to FIG. 2, FIG. 3, and FIG. The wafer holder 41 provided in the chemical cleaning tank 25 will be described. In the wafer holder 41, three holding rods 42, 43 and 44, which are also called boats, are provided near the bottom of the chemical cleaning tank 25. It is installed and fixed via a proper bracket 45 along the direction (Y direction).

【0039】また前記保持棒42には保持溝Rが、中央
に位置する前記保持棒43には保持溝Sが、そして前記
保持棒44には保持溝Tが、夫々前記把持溝P、Qと同
一間隔の下で、夫々R1〜R50、S1〜S50、T1〜T50
までの計50本ずつ設けられている。
Further, the holding rod 42 has a holding groove R, the central holding rod 43 has a holding groove S, the holding rod 44 has a holding groove T, and the holding grooves P and Q respectively. Under the same interval, R 1 to R 50 , S 1 to S 50 , T 1 to T 50, respectively.
There is a total of 50 each.

【0040】そしてウエハ搬送装置12のウエハチャッ
ク17で一括して把持された50枚のウエハを、薬液洗
浄処理槽25内において薬液洗浄に付する際には、ウエ
ハを把持した状態のウエハチャック17を駆動機構12
aによってウエハ保持具41の真上まで移動させ、その
ままこのウエハチャック17を薬液洗浄処理槽25内に
下降させて、ウエハチャック17で把持された各ウエハ
の周縁部を、夫々ウエハ保持具41の各保持棒42、4
3、44における各保持溝R、S、Tで受容させる。そ
の後このウエハチャック17の把持部材17a、17b
を開脚させて、ウエハチャック17を再び上昇させて、
薬液洗浄処理槽25外部に後退させる。
When the 50 wafers collectively held by the wafer chuck 17 of the wafer transfer device 12 are subjected to the chemical cleaning in the chemical cleaning processing bath 25, the wafer chuck 17 in the state of holding the wafers is used. Drive mechanism 12
The wafer chuck 41 is moved to a position immediately above the wafer holder 41 by a, and the wafer chuck 17 is lowered as it is into the chemical cleaning treatment bath 25, so that the peripheral edge of each wafer held by the wafer chuck 17 is moved to the wafer holder 41. Each holding rod 42, 4
The holding grooves R, S, and T in the grooves 3 and 44 receive them. Thereafter, the holding members 17a and 17b of the wafer chuck 17
Open the wafer, raise the wafer chuck 17 again,
The chemical cleaning treatment tank 25 is retracted to the outside.

【0041】所定の浸漬時間が経過し、洗浄処理が終了
した後は、把持部材17a、17bを開脚させた状態で
ウエハチャック17を薬液洗浄処理槽25内に降下させ
て、ウエハをウエハ保持具41に渡した際の位置にて停
止させ、今度はウエハ保持具41で保持されている50
枚のウエハの周縁部を同時に一括して、各把持部材17
a、17bの各把持棒33、34における各把持溝P、
Qに納め、その後各把持部材17a、17bを閉脚させ
てこれら各ウエハを一括して把持し、ウエハチャック1
7を上昇させて、把持したウエハを次の洗浄処理である
水洗洗浄を行う水洗洗浄処理槽24へと搬送させるので
ある。
After the predetermined immersion time has passed and the cleaning process is completed, the wafer chuck 17 is lowered into the chemical cleaning process tank 25 with the gripping members 17a and 17b open, and the wafer is held. It is stopped at the position when it is passed to the tool 41, and this time it is held by the wafer holder 41.
At the same time, the peripheral portions of the wafers are collectively gathered so that each holding member 17
a, 17b each gripping groove P in each gripping bar 33, 34,
Then, the holding members 17a and 17b are closed and the wafers are collectively held by the wafer chuck 1.
7 is raised and the gripped wafer is transferred to the washing / cleaning processing tank 24 for performing the next washing processing, ie, washing / washing.

【0042】以上のプロセスにおいてウエハチャック1
7とウエハ保持具41との間で50枚のウエハを一括し
て授受する場合には、授受の時点で、ウエハチャック1
7側の各把持溝P1〜P50、Q1〜Q50と、ウエハ保持具
41側の保持溝R1〜R50、S1〜S50、T1〜T50とが
夫々正しい相対位置関係になければならない。即ち例え
ば把持溝P1についていえば、把持溝P1、Q1と、保持
溝R1、S1、T1とが同一垂直面上に位置していなけれ
ばならないのである。
In the above process, the wafer chuck 1
When 50 wafers are collectively transferred between the wafer holder 7 and the wafer holder 41, at the time of transfer, the wafer chuck 1
The gripping grooves P 1 to P 50 , Q 1 to Q 50 on the 7 side and the holding grooves R 1 to R 50 , S 1 to S 50 , T 1 to T 50 on the wafer holder 41 side are correct relative positions, respectively. Must be in a relationship. Thus, for example As for gripping groove P 1, a grip groove P 1, Q 1, and the holding groove R 1, S 1, T 1 is the must lie on the same vertical plane.

【0043】本実施例はかかる場合の把持溝Pと保持溝
Sとの位置合わせを行う際の装置として具体化された例
であり、まずウエハチャック17に把持される検出用治
具について説明すると、図5に示したように、この検出
用治具51は、ウエハと同一径、同一の厚みを有する円
板状の支持板52、53を2本の連結棒54、54を介
して一体化させ、各支持板52、53が平行に対向する
ように構成されている。そして各支持板52、53間の
長さは、前出把持溝P4〜P47間の距離と同一に設定さ
れている。
This embodiment is an example embodied as an apparatus for aligning the holding groove P and the holding groove S in such a case. First, the detection jig held by the wafer chuck 17 will be described. As shown in FIG. 5, this detection jig 51 integrates disc-shaped support plates 52 and 53 having the same diameter and the same thickness as the wafer via two connecting rods 54 and 54. The support plates 52 and 53 are configured to face each other in parallel. The length between the support plates 52 and 53 is set to be equal to the distance between the gripping groove P 4 to P 47 supra.

【0044】そして前記各支持板52、53の外側に
は、夫々図6に示したような撮像装置55が固定されて
いる。この撮像装置55には、その略直方体のケース5
6内に撮像カメラ57が設けられており、この撮像カメ
ラ57には、例えば20倍の撮像倍率を有する拡大レン
ズ58が設けられており、この拡大レンズ58のピント
は、各支持板52、53の周縁部に合わされている。
On the outside of each of the support plates 52 and 53, an image pickup device 55 as shown in FIG. 6 is fixed. The imaging device 55 includes a substantially rectangular parallelepiped case 5
6, an image pickup camera 57 is provided, and the image pickup camera 57 is provided with, for example, a magnifying lens 58 having an image pickup magnification of 20 times, and the focus of the magnifying lens 58 is the support plates 52, 53. Is fitted to the peripheral edge of.

【0045】また前記拡大レンズ58の垂直下方には、
45゜に傾けられたハーフミラー59が設けられてい
る。このハーフミラー59は、前記各支持板52、53
の中心に位置するように設定されている。
Further, vertically below the magnifying lens 58,
A half mirror 59 tilted at 45 ° is provided. The half mirror 59 includes the support plates 52 and 53.
It is set to be located in the center of.

【0046】そしてケース56の底面及び左側面には、
例えばアクリル製のビューポート60、61が設けられ
ている。従って前記撮像カメラ57は、ビューポート6
0、61を通じて、各支持板52、53の垂直下方及び
水平方向に位置する物体を、夫々20倍に拡大して、こ
れらを同時に撮像することが可能である。
Then, on the bottom surface and the left side surface of the case 56,
For example, acrylic viewports 60 and 61 are provided. Therefore, the imaging camera 57 has a viewport 6
Through 0 and 61, it is possible to magnify the objects located vertically below and horizontally to the support plates 52 and 53 by 20 times, respectively, and simultaneously image them.

【0047】前記各支持板52、53に設けられた2つ
の撮像装置55、55の各撮像カメラ57からの画像信
号は、図7に示したように、例えばケーブルや光ファイ
バなどの信号線71を通じて、洗浄処理装置1外部に設
置されている適宜のミキシング装置72に入力される。
このミキシング装置72は画像処理機能を具有してお
り、処理後の画像信号は、モニタ73へと入力される。
このモニタ73では、前記入力された画像信号に基づい
て、画面の上方(A部)に支持板52側の撮像装置55
によって撮像された画像を、画面の下方(B部)に支持
板53側の撮像装置55によって撮像された画像を、夫
々表示するように構成されている。
The image signals from the image pickup cameras 57 of the two image pickup devices 55, 55 provided on the support plates 52, 53 are, for example, signal lines 71 such as cables or optical fibers as shown in FIG. Through, to the appropriate mixing device 72 installed outside the cleaning processing device 1.
The mixing device 72 has an image processing function, and the processed image signal is input to the monitor 73.
In the monitor 73, based on the input image signal, the image pickup device 55 on the support plate 52 side is provided above the screen (A portion).
The image captured by the image capturing device 55 on the support plate 53 side is displayed below the screen (B portion).

【0048】本実施例は以上のように構成されており、
次のその使用方法並びに作用等について説明すると、ま
ず図2に示したように前記検出用治具51をウエハチャ
ック17で把持させる。かかる場合、この検出用治具5
1の両端部に位置する支持板は被処理体であるウエハと
同一径、同一厚みを有する円板によって構成されてお
り、しかもこれら支持板52、53間の距離は、既述の
如く把持溝P4〜P47までの長さと同一に設定されてい
るので、支持板52の周縁部は把持溝P4、Q4に、支持
板53の周縁部は把持溝P47、Q47に挿入させることに
より、この検出用治具51をウエハチャック17による
通常の閉脚動作によって容易に把持させることが可能で
ある。またその時同時にモニタ73も作動させておく。
This embodiment is constructed as described above,
The method of use and the operation thereof will be described below. First, as shown in FIG. 2, the detection jig 51 is held by the wafer chuck 17. In this case, this detection jig 5
The support plates located at both end portions of 1 are discs having the same diameter and the same thickness as the wafer to be processed, and the distance between the support plates 52 and 53 is as described above. Since the length is set to be the same as P 4 to P 47, the peripheral edge of the support plate 52 is inserted into the grip grooves P 4 and Q 4 , and the peripheral edge of the support plate 53 is inserted into the grip grooves P 47 and Q 47 . This allows the detection jig 51 to be easily gripped by the normal leg closing operation of the wafer chuck 17. At that time, the monitor 73 is also operated at the same time.

【0049】そうすると、モニタ73の画面には図8に
示したように、その画面の上方(A部)に、把持部材1
7a側の把持溝P1、P2、P3の拡大画像が鮮明に表示
され、一方画面の下方(B部)に、把持部材17b側の
把持溝P48、P49、P50拡大画像が夫々鮮明に表示され
る。
Then, on the screen of the monitor 73, as shown in FIG. 8, the gripping member 1 is provided above the screen (A portion).
The enlarged images of the gripping grooves P 1 , P 2 , P 3 on the 7a side are clearly displayed, while the enlarged images of the gripping grooves P 48 , P 49 , P 50 on the gripping member 17b side are displayed on the lower side of the screen (section B). Each is displayed clearly.

【0050】そして検出用治具51をそのように把持し
たまま、ウエハチャック17を通常の動作と同様、ウエ
ハ保持具41の真上にて薬液洗浄処理槽25内に下降さ
せていき、図4に示したように、ウエハをウエハ保持具
41に受容させる僅かに手前で停止させると、モニタ7
3の画面の上方(A部)には、保持溝S1、S2、S3
拡大画像が、一方画面の下方(B部)には、保持溝
48、S49、S50拡大画像が夫々前記把持溝P1、P2
3の拡大画像、及び把持溝P48、P49、P50拡大画像
と同一倍率にて同一座標系上に重ねて表示される。
Then, with the detection jig 51 held in such a manner, the wafer chuck 17 is lowered into the chemical cleaning bath 25 just above the wafer holder 41 as in a normal operation, as shown in FIG. As shown in FIG. 5, when the wafer is stopped slightly before being received by the wafer holder 41, the monitor 7
An enlarged image of the holding grooves S 1 , S 2 , and S 3 is provided above the screen of No. 3 (A portion), and an enlarged image of the holding grooves S 48 , S 49 , and S 50 is provided below the screen (B portion) of the screen. Are the gripping grooves P 1 , P 2 ,
The enlarged image of P 3 and the enlarged images of the grip grooves P 48 , P 49 , and P 50 are displayed on the same coordinate system at the same magnification.

【0051】従って、もし前記把持溝P1、P2、P3
保持溝S1、S2、S3、及び把持溝P48、P49、P50
保持溝S48、S49、S50とが各々対応して夫々同一垂直
面上に位置している場合には、図8、図9に示したよう
に、両画像は画面上完全に一致している。即ち、ウエハ
チャック17とウエハ保持具41との授受の際の相対位
置が正しい位置関係にあることが確認できるのである。
Therefore, if the holding grooves P 1 , P 2 , P 3 and the holding grooves S 1 , S 2 , S 3 and the holding grooves P 48 , P 49 , P 50 and the holding grooves S 48 , S 49 , S are provided. When 50 and 50 respectively correspond to each other and are located on the same vertical plane, both images are completely coincident with each other on the screen, as shown in FIGS. That is, it can be confirmed that the relative positions at the time of transfer between the wafer chuck 17 and the wafer holder 41 have a correct positional relationship.

【0052】しかしながら、ウエハチャック17とウエ
ハ保持具41との授受の際の相対位置関係が、X、Y、
θ方向に夫々ずれている場合には、モニタ73の画面に
おいては、それに応じて図10に示したように、例えば
把持溝P2の画像に対して保持溝S2の画像がずれて表示
される。このことによって操作員は、ウエハチャック1
7とウエハ保持具41との授受の際の相対位置関係のズ
レが直ちに確認できる。
However, when the wafer chuck 17 and the wafer holder 41 are exchanged, the relative positional relationship is X, Y,
When they are respectively displaced in the θ direction, on the screen of the monitor 73, as shown in FIG. 10, the image of the holding groove S 2 is displaced with respect to the image of the gripping groove P 2 accordingly. It This allows the operator to move the wafer chuck 1
The deviation of the relative positional relationship when the wafer 7 and the wafer holder 41 are transferred can be immediately confirmed.

【0053】そして図10に示したようなズレが確認さ
れると、例えばウエハ搬送装置12の駆動機構12aを
適宜θ方向に調整して、まず図11に示したようにθ方
向のズレ分を是正させる。この場合、もちろんウエハ保
持具41の方を適宜θ方向に回転させて調整してもよ
い。かかる操作は、作業員がモニタ73の画面を見なが
ら容易にこれを実施することが可能である。
When the deviation as shown in FIG. 10 is confirmed, for example, the drive mechanism 12a of the wafer transfer device 12 is appropriately adjusted in the θ direction so that the deviation in the θ direction as shown in FIG. To rectify. In this case, of course, the wafer holder 41 may be appropriately rotated in the θ direction for adjustment. Such an operation can be easily performed by the worker while looking at the screen of the monitor 73.

【0054】上記のθ方向の調整後、図11の状態にな
れば、後はX、Y方向のズレを矯正させればよいので、
操作員は前記と同様モニタ73を見ながら、例えば把持
溝P2と保持溝S2の関係だけについていえば、把持溝P
2と保持溝S2の画像とが図9に示した如く両者完全に一
致するように、適宜ウエハ搬送装置12の駆動機構12
aの設定位置をX方向、Y方向に移動調整させればよい
のである。
After the above adjustment in the θ direction, if the state shown in FIG. 11 is reached, the deviations in the X and Y directions can be corrected thereafter.
While looking at the monitor 73 in the same manner as described above, for example, regarding only the relationship between the gripping groove P 2 and the holding groove S 2 , the operator holds the gripping groove P 2.
2 so that the image of the holding groove S 2 and the image of the holding groove S 2 completely match each other as shown in FIG.
It suffices to move and adjust the set position of a in the X and Y directions.

【0055】かかる場合、モニタ73に表示された画像
は、把持溝P1、P2、P3と保持溝S1、S2、S3、及び
把持溝P48、P49、P50と保持溝S48、S49、S50との
拡大画像であるから、視認しやすく、また一致したこと
の確認も容易である。従って、極めて簡易、迅速に、ウ
エハチャック17とウエハ保持具41との授受の際の位
置合わせが実施できるものである。
In this case, the images displayed on the monitor 73 are the holding grooves P 1 , P 2 , P 3 and the holding grooves S 1 , S 2 , S 3 and the holding grooves P 48 , P 49 , P 50 and the holding grooves. Since it is an enlarged image of the grooves S 48 , S 49 , and S 50 , it is easy to visually recognize and it is easy to confirm that they match. Therefore, it is possible to perform the alignment of the wafer chuck 17 and the wafer holder 41 when the wafer chuck 17 and the wafer holder 41 are transferred, extremely simply and quickly.

【0056】また上記実施例においては、上記のように
2つの撮像装置55によって、ウエハチャック17とウ
エハ保持具41における両端部の把持溝Pと保持溝Sと
が、夫々をモニタ73上で表示されているから、上記両
端部における位置ズレを検出してこれを矯正することが
可能であり、極めて正確な位置合わせが行えるものであ
る。
Further, in the above-described embodiment, the gripping groove P and the holding groove S at both ends of the wafer chuck 17 and the wafer holder 41 are respectively displayed on the monitor 73 by the two image pickup devices 55 as described above. Therefore, it is possible to detect the positional deviation at the both ends and correct it, and it is possible to perform extremely accurate positioning.

【0057】以上のように上記実施例によれば、ウエハ
チャック17とウエハ保持具41との授受の際の相対位
置関係の、X、Y、θの各方向のズレ成分が直ちに確認
でき、それらを簡易、迅速に是正して、極めて正しい位
置合わせが実施できるものである。しかもそのために使
用する検出用治具51のウエハチャック17への装着も
簡単であって、装置構成自体も簡易な構成となってい
る。
As described above, according to the above-described embodiment, the displacement components in the X, Y, and θ directions of the relative positional relationship when the wafer chuck 17 and the wafer holder 41 are transferred can be immediately confirmed. Can be corrected easily and quickly, and extremely accurate alignment can be performed. Moreover, the detection jig 51 used for that purpose can be easily attached to the wafer chuck 17, and the apparatus configuration itself is simple.

【0058】なおウエハチャック17とウエハ保持具4
1の相対位置調整は、操作員によるマニュアル調整では
なく、自動的に行うようにすることも可能である。この
場合、撮像装置55からの信号を、ミキシング装置7
2、モニタ73へ送るだけでなく、素七に示したよう
に、ウエハ搬送装置11、12、13を含む洗浄処理装
置1全体を制御するCPU10にも入力する。そしてこ
のCPU10において、溝P、Sの画像を比較し、両画
像のズレを修正するように、ウエハチャック17、さら
に必要であれば、ウエハ保持具41を制御駆動すること
により、自動的に両者の相対位置調整を実施することが
できる。
The wafer chuck 17 and the wafer holder 4
The relative position adjustment 1 may be performed automatically instead of manually by the operator. In this case, the signal from the image pickup device 55 is supplied to the mixing device 7
2. Not only the data is sent to the monitor 73, but also the data is input to the CPU 10 that controls the entire cleaning processing apparatus 1 including the wafer transfer apparatuses 11, 12, and 13 as shown in the section 7. Then, in the CPU 10, the images of the grooves P and S are compared with each other, and the wafer chuck 17 and, if necessary, the wafer holder 41 are controlled and driven so as to correct the deviation between the images, so that both images are automatically controlled. Relative position adjustment can be performed.

【0059】また上記実施例においては、画像を拡大す
るための拡大レンズ58を、前記撮像カメラ57に設け
た構成であったが、各ビューポート60、61側にかか
る拡大機能を持たせるように構成してもよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the magnifying lens 58 for magnifying the image is provided in the image pickup camera 57, but the viewports 60 and 61 are provided with the magnifying function. You may comprise.

【0060】さらにまた上記実施例で使用した検出用治
具51は、ウエハチャック17側の把持溝Pにその周縁
部が挿入される円板形状の支持板52、53を連結棒5
4、54で連結し、これら各支持板52、53の外側端
面にそれぞれ撮像装置55を設けた構成であったが、こ
のような検出用治具51に代えて、図12に示した検出
用治具81を用いてもよい。
Further, in the detection jig 51 used in the above-mentioned embodiment, the disc-shaped support plates 52 and 53 whose peripheral portions are inserted into the holding groove P on the wafer chuck 17 side are connected to the connecting rod 5.
4 and 54, and the image pickup device 55 is provided on the outer end surface of each of the support plates 52 and 53. However, instead of such a detection jig 51, the detection device shown in FIG. The jig 81 may be used.

【0061】この検出用治具81は、略長方形の支持板
82の長手方向両端部に、それぞれ左右水平方向に突出
する載置部83、84を有し、さらにこの支持板82の
長手方向の長さは、ウエハチャック17の既述の把持溝
4〜P47間の距離と同一に設定されている。また前記
支持板82の下面側には、前記把持溝Pに受容される形
状の爪部85が例えば4カ所に設けられ、各爪部85は
それぞれ外方水平方向に突出している。またこれら各爪
部85の前記長手方向の間隔は、ウエハチャック17に
おける把持溝Pの間隔のn倍に設定されている。
The detection jig 81 has mounting portions 83 and 84 that project in the left-right horizontal direction at both ends in the longitudinal direction of a substantially rectangular support plate 82, and further, in the longitudinal direction of the support plate 82. The length is set to be the same as the distance between the gripping grooves P 4 to P 47 of the wafer chuck 17 described above. Further, on the lower surface side of the support plate 82, claw portions 85 having a shape to be received by the grip groove P are provided at, for example, four places, and the claw portions 85 respectively project outward in the horizontal direction. The distance between the claws 85 in the longitudinal direction is set to be n times the distance between the gripping grooves P in the wafer chuck 17.

【0062】そして前出検出用治具51に使用した撮像
装置55は、適宜の取付部材86によって前記支持板8
2の長手方向両端面の中央に固定され、これら撮像装置
55の側面にあるビューポート61は、それぞれ前記爪
部85の高さと同一位置になるように設定されている。
The image pickup device 55 used in the above-mentioned detection jig 51 is mounted on the support plate 8 by an appropriate mounting member 86.
The viewports 61 fixed to the centers of the two longitudinal end faces of the image pickup device 55 and located on the side surfaces of the image pickup device 55 are set to be at the same position as the height of the claws 85.

【0063】このような構成にかかる検出用治具81を
用いて位置合わせする場合も、前出検出用治具51と同
様、まず検出用治具81をウエハチャック17にセット
させるのであるが、この検出用治具81によれば、図1
3、図14に示したように、ウエハチャック17の各把
持部材17a、bが閉脚状態にあるときに、前記爪部8
5を対応する各把持部材17a、bの把持溝Pに挿入す
るようにして、支持板82の各載置部83、84を各把
持部材17a、bの上側の把持棒33、33の上に載置
するだけでよい。従ってウエハチャック17へのセット
が極めて簡単である。
Even when the detection jig 81 having such a structure is used for alignment, the detection jig 81 is first set on the wafer chuck 17 as in the case of the above-described detection jig 51. According to this detection jig 81, as shown in FIG.
As shown in FIG. 3 and FIG. 14, when the holding members 17a and 17b of the wafer chuck 17 are in the closed state, the claw portion 8 is
5 are inserted into the gripping grooves P of the corresponding gripping members 17a, b, so that the mounting portions 83, 84 of the support plate 82 are placed on the gripping bars 33, 33 above the gripping members 17a, b. All you have to do is place it. Therefore, setting on the wafer chuck 17 is extremely easy.

【0064】しかも前記爪部85の把持溝Pへの挿入
は、単なるウエハチャック17へセットする際の位置合
わせのための動作であって、検出用治具81全体は、載
置部83、84を介して各把持棒33、33によって支
持されているため、検出用治具81をセットした際にこ
の検出用治具81の荷重によって前記把持溝Pにかかる
負担は殆どないものである。従って把持溝Pが損傷する
おそれはない。しかも検出用治具81も極めて安定した
状態でウエハチャック17にセットされるものである。
それゆえ前記検出用治具51よりもさらに安定した画像
を得ることが可能である。
Moreover, the insertion of the claw portion 85 into the holding groove P is merely an operation for aligning when setting it on the wafer chuck 17, and the entire detection jig 81 is placed on the mounting portions 83 and 84. Since the gripping rods 33, 33 are supported via the gripping rods 33, the gripping groove P is hardly loaded by the load of the detection jig 81 when the detection jig 81 is set. Therefore, there is no possibility that the grip groove P will be damaged. Moreover, the detection jig 81 is also set on the wafer chuck 17 in an extremely stable state.
Therefore, it is possible to obtain a more stable image than the detection jig 51.

【0065】ところで前記ウエハチャック17が、下降
してウエハ保持具41に対してウエハを授受する位置ま
で移動する場合、ウエハチャック17のウエハ保持具4
1に対するZ方向の位置、即ち授受の際のウエハチャッ
ク17の高さも、正確な授受にとっては重要である。
When the wafer chuck 17 descends and moves to a position where wafers are transferred to and from the wafer holder 41, the wafer holder 4 of the wafer chuck 17 is moved.
The position in the Z direction with respect to 1, that is, the height of the wafer chuck 17 at the time of transfer is also important for accurate transfer.

【0066】図15に示した検出用治具91は、かかる
要請に対処できる構成を有している。即ちこの検出用治
具91の基本的構成は、前出検出用治具81と同一であ
り、図15中、図12と同一の番号で引用される部材構
成は、前記検出用治具81と全く同一の構成を有してい
る。そしてこの検出用治具91における支持板82の中
央には、開口部92が形成され、さらにこの開口部92
の上方には、開口部92周縁部に取り付けられた適宜の
取付具93によって、距離センサ94が支持されてい
る。
The detection jig 91 shown in FIG. 15 has a structure capable of coping with such a request. That is, the basic structure of the detection jig 91 is the same as that of the above-mentioned detection jig 81, and the member structure referred to by the same number in FIG. It has exactly the same configuration. An opening 92 is formed in the center of the support plate 82 of the detection jig 91, and the opening 92 is further formed.
A distance sensor 94 is supported above by a suitable attachment 93 attached to the peripheral edge of the opening 92.

【0067】この距離センサ94は、例えば光学系セン
サによって構成され、発光部と受光部とを有し、発光部
から発光された例えばレーザ光などの検出光が他物に反
射して返ってきた場合、当該反射光を受光部で受光する
ことによって、当該他物までの距離を検出することが可
能なように構成されている。そしてこの距離センサ94
の検出信号は、例えばモニタ95へと入力され、当該モ
ニタ95によって、距離センサ94が検出する距離を確
認できるようになっている。
The distance sensor 94 is composed of, for example, an optical system sensor, has a light emitting portion and a light receiving portion, and the detection light such as laser light emitted from the light emitting portion is reflected and returned to another object. In this case, the reflected light is received by the light receiving unit, so that the distance to the other object can be detected. And this distance sensor 94
The detection signal of is input to, for example, the monitor 95, and the monitor 95 can confirm the distance detected by the distance sensor 94.

【0068】かかる構成を有する検出用治具91を用い
る場合には、例えばウエハ保持具41における中央の保
持棒43上に、適宜の反射板(図示せず)を予めセット
しておく。後は前記検出用治具81と同様、ウエハチャ
ック17にセットして用いればよい。そうするとこの検
出用治具91によれば、支持板82中央の開口部92を
通して距離センサ94が、前記反射板との間の距離を常
時検出し、かつ当該距離がモニタ95によって常時表示
されているので、ウエハチャック17の所定の高さ、即
ちウエハ保持具41に対するウエハチャック17のZ方
向の位置を確認することができる。
When the detection jig 91 having such a structure is used, an appropriate reflection plate (not shown) is set in advance on the central holding rod 43 of the wafer holder 41, for example. After that, like the detection jig 81, it may be set on the wafer chuck 17 and used. Then, according to this detection jig 91, the distance sensor 94 constantly detects the distance to the reflection plate through the opening 92 at the center of the support plate 82, and the distance is constantly displayed by the monitor 95. Therefore, the predetermined height of the wafer chuck 17, that is, the position of the wafer chuck 17 in the Z direction with respect to the wafer holder 41 can be confirmed.

【0069】さらにそのようなウエハ保持具41に対す
るウエハチャック17のZ方向の所定位置を確認するた
め、図16に示したように、前出検出用治具51をウエ
ハ保持具41の側にセットしてもよい。この場合には、
撮像装置55は、ビューポート60を介して、常時ウエ
ハ保持具41の保持棒43の保持溝Sを撮像している
が、ウエハチャック17の把持棒33側の把持溝Pにつ
いては、ビューポート61の視野に入ってこない限り、
撮像されない。換言すれば、ウエハチャック17が所定
の高さまで下降してはじめてビューポート61を通して
撮像され、モニタ73に表示されるのである。そして所
定の授受位置の高さに位置すると、画像上、各溝P、S
が重なる。したがってこの方法によっても、ウエハチャ
ック17のZ方向の所定位置を確認することができる。
Further, in order to confirm the predetermined position of the wafer chuck 17 in the Z direction with respect to the wafer holder 41, the above-mentioned detection jig 51 is set on the wafer holder 41 side as shown in FIG. You may. In this case,
The imaging device 55 always images the holding groove S of the holding rod 43 of the wafer holder 41 via the viewport 60, but regarding the holding groove P of the wafer chuck 17 on the holding rod 33 side, the viewport 61. Unless you come into view of
No image is taken. In other words, only when the wafer chuck 17 descends to a predetermined height, an image is taken through the viewport 61 and displayed on the monitor 73. Then, when it is located at a predetermined transfer position height, each groove P, S is displayed on the image.
Overlap. Therefore, also by this method, the predetermined position of the wafer chuck 17 in the Z direction can be confirmed.

【0070】前出各実施例で使用した撮像装置55にお
いては、1の撮像カメラ57で2つの方向にある物体を
同時に撮像するために、ハーフミラー59を使用した
が、これに代えて例えば、図17に示したように、プリ
ズム101を使用しても、同一の作用効果が得られる。
即ち撮像カメラ57からの光路を分割することが可能で
ある。この場合、プリズム101の形状を変更したり、
他の光学素子を組み合わせることにより、直角でない角
度で位置する2つの物体に対して、撮像カメラ57から
の光路を分割することができる。即ち、撮像カメラ57
からの光路を適当に分割することにより、ウエハチャッ
ク17とウエハ保持具41との位置合わせに際して、例
えば把持棒34の把持溝Qと、保持棒42又は保持棒4
3の保持溝R又はTとを使用することが可能になる。
In the image pickup device 55 used in each of the above-mentioned embodiments, the half mirror 59 is used for simultaneously picking up an image of an object in two directions with one image pickup camera 57, but instead of this, for example, As shown in FIG. 17, even when the prism 101 is used, the same effect can be obtained.
That is, the optical path from the image pickup camera 57 can be split. In this case, changing the shape of the prism 101,
By combining other optical elements, it is possible to split the optical path from the imaging camera 57 for two objects located at an angle other than a right angle. That is, the imaging camera 57
When the wafer chuck 17 and the wafer holder 41 are aligned, the holding groove Q of the holding rod 34 and the holding rod 42 or the holding rod 4 are appropriately divided by dividing the optical path from the.
It is possible to use three retaining grooves R or T.

【0071】さらに前記各実施例においては、撮像装置
55における1の撮像カメラ57で把持溝Pと保持溝S
とを同時に撮像するようにしていたが、もちろん図18
に示したように、2つの撮像カメラ57a、57bを支
持板52に取付け、把持溝Pは撮像カメラ57aで、保
持溝Sは撮像カメラ57bで夫々個別に撮像し、その画
像信号をミキシング処理して、モニタ73上で重ねて表
示するようにしても前記各実施例と同様な作用効果が得
られるものである。
Further, in each of the above-mentioned embodiments, the one gripping groove P and the holding groove S of the image pickup camera 57 of the image pickup device 55 are used.
I was trying to image and
As shown in FIG. 2, two image pickup cameras 57a and 57b are attached to the support plate 52, the grip groove P is imaged by the image pickup camera 57a, and the holding groove S is imaged by the image pickup camera 57b, respectively, and the image signals are mixed. Even if they are displayed on the monitor 73 in an overlapping manner, the same operational effects as those of the above-described respective embodiments can be obtained.

【0072】なお上記実施例はウエハの洗浄処理装置に
おけるウエハチャックと薬液洗浄処理槽内のウエハ保持
具との間の搬送系に適用した例であったが、本発明はこ
れに限らず、把持装置における所定の把持位置に把持さ
れた状態の複数の被処理体を、保持具における所定の保
持位置に授受する如く構成された搬送系において、前記
把持位置と前記保持位置との相対位置の位置合わせを実
施する装置において適用可能である。
Although the above embodiment is an example applied to the transfer system between the wafer chuck and the wafer holder in the chemical cleaning processing tank in the wafer cleaning processing apparatus, the present invention is not limited to this, and the gripping method is not limited to this. A position of a relative position between the gripping position and the holding position in a transport system configured to transfer a plurality of objects to be processed, which are gripped at a predetermined gripping position in the device, to a predetermined holding position in a holder. It is applicable to the device for performing the matching.

【0073】[0073]

【発明の効果】請求項1によれば、把持装置における所
定の把持位置に把持された状態の複数の被処理体を、保
持具における所定の保持位置に授受する際の、前記把持
位置と前記保持位置との相対位置の位置合わせを簡易、
迅速に、しかも正確に行うことが可能である。請求項2
によれば、さらに正確な位置合わせができ、請求項3に
よれば、より一層正確な位置合わせが可能である。また
請求項4では、表示装置を共有しており、一台の表示装
置における一つの画面上で、二カ所における把持位置と
保持位置との重ねられた画像表示を視認することができ
るから、位置合わせの確認がしやすい。
According to the first aspect of the present invention, the gripping position and the gripping position when transferring a plurality of objects to be processed held in the gripping device at the predetermined gripping position to the predetermined holding position of the holder. Easy to align the relative position with the holding position,
It can be done quickly and accurately. Claim 2
According to the third aspect, more accurate alignment can be performed, and according to the third aspect, more accurate alignment can be performed. Further, in claim 4, since the display device is shared, and the overlapping image display of the gripping position and the holding position at two positions can be visually recognized on one screen of one display device, It is easy to check the alignment.

【0074】請求項5〜9に記載の位置合わせ装置によ
れば、前記把持装置と保持具とのZ方向の位置関係も確
認できるので、実際の授受に即した位置合わせが可能に
なっている。特に請求項6では請求項5に記載した距離
センサを別途設けることなく、Z方向の位置関係も確認
でき、実際の授受に即した位置合わせが可能になってい
る。また請求項7では、さらに正確な位置合わせが可能
であり、請求項8ではより一層正確な位置合わせをする
ことが可能になっている。そして請求項9によれば、二
カ所における把持位置と保持位置との重ねられた画像
を、1つの表示装置における画面上で分割して視認する
ことができるから、位置合わせの確認がしやすい。
According to the positioning device of the fifth to ninth aspects, since the positional relationship between the gripping device and the holder in the Z direction can also be confirmed, it is possible to perform the positioning in accordance with the actual transfer. . Particularly, in the sixth aspect, the positional relationship in the Z direction can be confirmed without separately providing the distance sensor according to the fifth aspect, and the alignment can be performed according to the actual transfer. Further, in the seventh aspect, more accurate alignment can be performed, and in the eighth aspect, more accurate alignment can be performed. Further, according to the ninth aspect, it is possible to visually confirm the overlapping image of the grip position and the holding position at the two positions on the screen of one display device, so that it is easy to confirm the alignment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例が好適に使用されるウエハの洗
浄処理装置の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a wafer cleaning processing apparatus in which an embodiment of the present invention is preferably used.

【図2】実施例における検出用治具を把持した状態のウ
エハチャックの斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of a wafer chuck in a state where a detection jig is held in the embodiment.

【図3】実施例における撮像装置がウエハチャック側の
把持溝とウエハ保持具側の保持溝とを同時に撮像してい
る様子を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a state in which the image pickup apparatus according to the embodiment simultaneously images a holding groove on the wafer chuck side and a holding groove on the wafer holder side.

【図4】実施例における撮像装置がウエハチャック側の
把持溝とウエハ保持具側の保持溝とを同時に撮像してい
る様子を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state in which the image pickup apparatus according to the embodiment simultaneously images a holding groove on the wafer chuck side and a holding groove on the wafer holder side.

【図5】実施例における検出用治具の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a detection jig in the example.

【図6】実施例における撮像装置の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of the image pickup apparatus in the embodiment.

【図7】実施例における撮像装置とモニタとの関係を示
す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between an image pickup apparatus and a monitor in the embodiment.

【図8】実施例によってモニタ上に表示されたウエハチ
ャック側の把持溝の画像である。
FIG. 8 is an image of a grip groove on the wafer chuck side displayed on a monitor according to an example.

【図9】実施例を使用した場合において、把持溝と保持
溝とが正しい相対位置関係にあるときのモニタ上に表示
された画像の部分拡大図である。
FIG. 9 is a partially enlarged view of an image displayed on the monitor when the grip groove and the holding groove have the correct relative positional relationship when the embodiment is used.

【図10】実施例を使用した場合において、把持溝と保
持溝とがX、Y、θ方向にそれぞれ位置ズレしていると
きのモニタ上に表示された画像の部分拡大図である。
FIG. 10 is a partially enlarged view of an image displayed on the monitor when the grip groove and the holding groove are displaced in the X, Y, and θ directions, respectively, when the embodiment is used.

【図11】実施例を使用した場合において、把持溝と保
持溝とがX、Y方向にそれぞれ位置ズレしているときの
モニタ上に表示された画像の部分拡大図である。
FIG. 11 is a partial enlarged view of an image displayed on the monitor when the gripping groove and the holding groove are displaced in the X and Y directions when the embodiment is used.

【図12】他の検出用治具の例を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing an example of another detection jig.

【図13】他の検出用治具をウエハチャックにセットし
た際の正面説明図である。
FIG. 13 is a front explanatory view when another detection jig is set on the wafer chuck.

【図14】他の検出用治具をウエハチャックにセットし
た際の平面説明図である。
FIG. 14 is an explanatory plan view when another detection jig is set on the wafer chuck.

【図15】距離センサを有する他の検出用治具の例を示
す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view showing an example of another detection jig having a distance sensor.

【図16】図5の検出用治具をウエハ治具側にセットし
た様子を示す説明図である。
16 is an explanatory diagram showing a state in which the detection jig of FIG. 5 is set on the wafer jig side.

【図17】プリズムを採用した撮像装置の断面説明図で
ある。
FIG. 17 is a cross-sectional explanatory diagram of an image pickup apparatus that employs a prism.

【図18】個別撮像用の撮像カメラを具備した検出用治
具の斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view of a detection jig including an imaging camera for individual imaging.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 洗浄処理装置 12 ウエハ搬送装置 17 ウエハチャック 17a、17b 把持部材 25 薬液洗浄処理槽 33、34 把持棒 41 ウエハ保持具 42、43、44 保持棒 51 検出用治具 52、53 支持板 55 撮像装置 57 撮像カメラ 59 ハーフミラー 60、61 ビューポート 73 モニタ P 把持溝 S 保持溝 1 Cleaning Processing Device 12 Wafer Transfer Device 17 Wafer Chuck 17a, 17b Gripping Member 25 Chemicals Cleaning Treatment Tank 33, 34 Gripping Rod 41 Wafer Holder 42, 43, 44 Holding Rod 51 Detection Jig 52, 53 Support Plate 55 Imaging Device 57 Imaging Camera 59 Half Mirror 60, 61 Viewport 73 Monitor P Gripping Groove S Holding Groove

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G06T 7/00 H01L 21/304 341 C ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical display location G06T 7/00 H01L 21/304 341 C

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 把持装置における所定の把持位置に把持
された状態の複数の被処理体を、保持具における所定の
保持位置に授受する如く構成された搬送系における、前
記授受の際の前記把持位置と前記保持位置との相対位置
の位置合わせを行う装置であって、前記把持装置によっ
て把持される適宜の治具に設けられ、前記把持位置と前
記保持位置とを同時に撮像する撮像装置と、前記撮像装
置によって撮像された前記把持位置と前記保持位置と
を、同一画像表示部における同一座標系に重ねて画像表
示する表示装置とを具備することを特徴とする、位置合
わせ装置。
1. A gripping device at the time of transfer in a transfer system configured to transfer a plurality of objects to be processed held at a predetermined gripping position in a gripping device to a predetermined holding position in a holder. A device for aligning a relative position between a position and the holding position, which is provided in an appropriate jig held by the holding device, and an imaging device for simultaneously capturing the holding position and the holding position, A positioning device, comprising: a display device that displays the grip position and the holding position imaged by the imaging device as an image by superimposing them on the same coordinate system in the same image display unit.
【請求項2】 把持装置における所定の把持位置に把持
された状態の複数の被処理体を、保持具における所定の
保持位置に授受する如く構成された搬送系における、前
記授受の際の前記把持位置と前記保持位置との相対位置
の位置合わせを行う装置であって、前記把持装置によっ
て把持される適宜の治具の2カ所に撮像装置が設けら
れ、前記撮像装置における一の撮像装置は、第1の把持
位置と保持位置とを同時に撮像し、前記撮像装置におけ
る他の撮像装置は、他の第2の把持位置と保持位置とを
同時に撮像する如く構成され、前記各撮像装置によって
撮像された前記把持位置と前記保持位置とを、前記各撮
像装置ごとに、同一画像表示部における同一座標系に、
重ねて画像表示する表示装置とを具備することを特徴と
する、位置合わせ装置。
2. The grip at the time of the transfer in a transfer system configured to transfer a plurality of objects to be processed held in a predetermined grip position of a grip device to a predetermined holding position of a holder. A device for aligning a relative position between a position and the holding position, wherein image pickup devices are provided at two positions of an appropriate jig held by the holding device, and one image pickup device in the image pickup device is The first gripping position and the holding position are imaged at the same time, and the other imaging device in the imaging device is configured to simultaneously image the other second gripping position and the holding position. The gripping position and the holding position are set in the same coordinate system in the same image display unit for each of the image pickup devices.
A positioning device comprising: a display device for displaying images in an overlapping manner.
【請求項3】 把持装置における所定の把持位置に把持
された状態の複数の被処理体を、保持具における所定の
保持位置に授受する如く構成された搬送系における、前
記授受の際の前記把持位置と前記保持位置との相対位置
の位置合わせを行う装置であって、前記把持装置によっ
て把持される適宜の治具の両端部近傍に夫々撮像装置が
設けられ、前記撮像装置における一の撮像装置は、一端
部の把持位置と保持位置とを同時に撮像し、前記撮像装
置における他の撮像装置は、他端部の把持位置と保持位
置とを同時に撮像する如く構成され、前記各撮像装置に
よって撮像された前記把持位置と前記保持位置とを、前
記各撮像装置ごとに、同一画像表示部における同一座標
系に、重ねて画像表示する表示装置とを具備することを
特徴とする、位置合わせ装置。
3. The grip at the time of the transfer in a transfer system configured to transfer a plurality of objects to be processed held in a predetermined grip position in a grip device to a predetermined holding position in a holder. A device for aligning a relative position between a position and the holding position, wherein image pickup devices are provided near both ends of an appropriate jig held by the holding device, and one image pickup device in the image pickup device is provided. Is configured to simultaneously image the gripping position and the holding position at one end, and the other imaging device in the imaging device is configured to simultaneously image the gripping position and the holding position at the other end. A display device for displaying the grasped position and the held position, which are overlapped with each other, on the same coordinate system in the same image display unit for each of the imaging devices. Laying device.
【請求項4】 前記各撮像装置によって撮像された前記
把持位置と前記保持位置とを、前記各撮像装置ごとに同
一画像表示部における同一座標系に、前記各撮像装置ご
とに分割して重ねて画像表示する表示装置とを具備する
ことを特徴とする、請求項2又は3に記載の位置合わせ
装置。
4. The gripping position and the holding position imaged by each of the image pickup devices are divided and overlapped on the same coordinate system in the same image display unit for each of the image pickup devices for each of the image pickup devices. The alignment device according to claim 2 or 3, further comprising a display device for displaying an image.
【請求項5】 前記適宜の治具に、前記把持装置と保持
具との間の距離を検出する距離センサが設けられたこと
を特徴とする、請求項1、2、3又は4に記載の位置合
わせ装置。
5. The distance according to claim 1, wherein the appropriate jig is provided with a distance sensor for detecting a distance between the gripping device and the holder. Alignment device.
【請求項6】 把持装置における所定の把持位置に把持
された状態の複数の被処理体を、保持具における所定の
保持位置に授受する如く構成された搬送系における、前
記授受の際の前記把持位置と前記保持位置との相対位置
の位置合わせを行う装置であって、前記保持具によって
保持される適宜の支持治具には撮像装置が設けられ、こ
の撮像装置は、前記保持位置を常時撮像すると共に、前
記把持装置が前記授受の際の高さ近傍に位置するときに
この把持装置の把持位置をも同時に撮像する如く構成さ
れ、前記撮像装置によって撮像された前記把持位置と前
記保持位置とを、同一画像表示部における同一座標系に
重ねて画像表示する表示装置とを具備することを特徴と
する、位置合わせ装置。
6. The grip at the time of the transfer in a transfer system configured to transfer a plurality of objects to be processed held in a predetermined grip position in a grip device to a predetermined holding position in a holder. A device for aligning the relative position between the holding position and the holding position, and an image pickup device is provided on an appropriate supporting jig held by the holder, and the image pickup device constantly images the holding position. In addition, when the gripping device is located near the height at the time of the transfer, the gripping position of the gripping device is also imaged at the same time, and the gripping position and the holding position imaged by the imaging device are And a display device for displaying an image in the same image display unit so as to be superimposed on the same coordinate system.
【請求項7】 把持装置における所定の把持位置に把持
された状態の複数の被処理体を、保持具における所定の
保持位置に授受する如く構成された搬送系における、前
記授受の際の前記把持位置と前記保持位置との相対位置
の位置合わせを行う装置であって、前記保持具によって
保持される適宜の支持治具には2カ所に撮像装置が設け
られ、一の撮像装置は、第1の保持位置を常時撮像する
と共に、前記把持装置が前記授受の際の高さ近傍に位置
するときにこの把持装置における第1の把持位置をも同
時に撮像する如く構成され、他の撮像装置は、第2の保
持位置を常時撮像すると共に、前記把持装置が前記授受
の際の高さ近傍に位置するときにこの把持装置における
第2の把持位置をも同時に撮像する如く構成され、前記
各撮像装置によって撮像された前記把持位置と前記保持
位置とを、各撮像装置ごとに、同一画像表示部における
同一座標系に重ねて画像表示する表示装置とを具備する
ことを特徴とする、位置合わせ装置。
7. The grip at the time of the transfer in a transfer system configured to transfer a plurality of objects to be processed held at a predetermined grip position of a grip device to a predetermined holding position of a holder. A device for aligning a relative position between a position and the holding position, wherein an appropriate supporting jig held by the holder is provided with image pickup devices at two positions, and one image pickup device is the first image pickup device. Is always imaged at the holding position, and when the gripping device is located near the height at the time of the transfer, the first gripping position of the gripping device is also imaged at the same time. The second holding position is always imaged, and the second gripping position of the gripping device is also imaged at the same time when the gripping device is located in the vicinity of the height at the time of the transfer. By A positioning device, comprising: a display device that displays the imaged grip position and holding position for each imaging device by superimposing them on the same coordinate system in the same image display unit.
【請求項8】 把持装置における所定の把持位置に把持
された状態の複数の被処理体を、保持具における所定の
保持位置に授受する如く構成された搬送系における、前
記授受の際の前記把持位置と前記保持位置との相対位置
の位置合わせを行う装置であって、前記保持具によって
保持される適宜の支持治具の両端部近傍に夫々撮像装置
が設けられ、一の撮像装置は、一端部の保持位置を常時
撮像すると共に、前記把持装置が前記授受の際の高さ近
傍に位置するときにこの把持装置における一端部の把持
位置をも同時に撮像する如く構成され、他の撮像装置
は、他端部の保持位置を常時撮像すると共に、前記把持
装置が前記授受の際の高さ近傍に位置するときにこの把
持装置における他端部の把持位置をも同時に撮像する如
く構成され、前記各撮像装置によって撮像された前記把
持位置と前記保持位置とを、各撮像装置ごとに、同一画
像表示部における同一座標系に重ねて画像表示する表示
装置とを具備することを特徴とする、位置合わせ装置。
8. The grip at the time of the transfer in a transfer system configured to transfer a plurality of objects to be processed held in a predetermined grip position of a grip device to a predetermined holding position of a holder. A device for aligning a relative position between a position and the holding position, wherein imaging devices are provided near both ends of an appropriate supporting jig held by the holder, and one imaging device is The holding position of the part is constantly imaged, and when the gripping device is located near the height at the time of the transfer, the gripping position of one end of the gripping device is also imaged at the same time. , The holding position of the other end is always imaged, and the holding position of the other end of the holding device is also imaged at the same time when the holding device is located near the height at the time of the transfer. Each shoot Positioning, characterized by comprising a display device for displaying the grip position and the holding position imaged by the image device, for each image device, by superimposing and displaying the images on the same coordinate system in the same image display unit. apparatus.
【請求項9】 前記各撮像装置によって撮像された前記
把持位置と前記保持位置とを、前記各撮像装置ごとに同
一画像表示部における同一座標系に、前記各撮像装置ご
とに分割して重ねて画像表示する表示装置とを具備する
ことを特徴とする、請求項7又は8に記載の位置合わせ
装置。
9. The gripping position and the holding position imaged by each of the image pickup devices are divided and overlapped on the same coordinate system in the same image display unit for each of the image pickup devices for each of the image pickup devices. The alignment device according to claim 7 or 8, further comprising a display device for displaying an image.
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