KR102152193B1 - 터치 패널의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 터치 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 터치 패널 제조 방법은, 다양한 방식의 터치 패널 제조 과정에서 대형 기판 필름 시트를 핸들링함에 있어 국부적인 컬이나 단차 발생을 억제하고 평탄도를 개선하여 패턴 불량에 의한 오작동 없이 터치 기능의 성능과 품질을 향상시키기 위한 터치패널을 제공할 수 있다.

Description

터치 패널의 제조 방법{Method for Manufacturing Touch Panel}
본 발명은 터치패널 및 이를 포함하는 표시장치에 관한 것으로 보다 상세하게는 플렉서블 기판의 평탄도가 개선된 터치패널 및 이를 포함하는 표시장치에 관한 것이다.
터치스크린을 위한 터치 패널은 손가락 끝이나, 스타일러스 펜의 접촉 위치를 검출하기 입력 장치로서, 구조 및 검출 방식에 따라 저항막, 정전용량, 초음파, 광학 방식 등의 터치 패널로 구분될 수 있다. 이러한 방식들 중에서 정확도, 내구성, 투과율, 안정성, 분해능 특성이 우수한 정전용량 방식 터치 패널이 주류를 이루고 있다. 최근에는 스크린을 접거나 구부릴 수 있는 플렉서블(flexible)(또는 폴더블(foldable)) 터치 스크린 모듈에 대해서 많은 관심이 집중되고 있다. 플렉서블(또는 폴더블) 터치 패널에서 사용되는 일반적인 기판 재료는 PET, PC 등의 유연한 재료가 사용된다. 그리고, 기판의 두께는 광학적 특성, 무게 등을 고려하여 3, 6, 12, 23, 50, 100 μm 등으로 얇은 두께로 선택되고, 이러한 기판 위에 스퍼터링되어 증착된 ITO 박막을 투명 전극으로 사용하며, 메탈 배선 전극이 필요한 경우 선택적으로 ITO 박막 위에 Cu, Ag 등의 금속 박막이 스퍼터링되어 형성된다. 터치 패널의 기능을 부여하기 위하여, 포토레지스트 코팅이나 감광성 필름의 합지(lamination), 노광, 현상, 에칭, 박리 등의 포토리소그라피(Photo-lithography) 공정을 통해 회로가 형성된다.
종래의 터치패널 제조 방식은 위와 같은 포토리소그라피 공정 진행 시, 500x500mm 내지 1000x1000mm 등의 시트 크기의 기판 필름을 장비 스테이지에 올려 놓고 공정의 진행을 실시하였다. 또한 공정 간 이동에 있어서도 필름 시트가 사람의 손에 의해서 매뉴얼로 다루어진다.
그러나, 이러한 수 내지 수십 μm의 얇은 두께와 수백 mm의 크기를 가지는 필름 시트를 공정 장비 스테이지 위에 올려 놓을 경우 국부적인 컬(curl)이 발생하거나 단차가 발생하게 된다. 이러한 국부적인 컬 또는 단차로 인해 CD(Critical Dimension, 임계 선폭)의 편차가 발생하게 되거나, 회로 패턴의 불량이 발생하게 되며, 특히 최근에는 CD가 수 μm 정도로 미세화되면서 이러한 기판 평탄도의 영향이 증폭되어 터치 패널의 품질에 기판 평탄도의 중요성이 높아지고 있다. 또한, 큰 크기를 가지는 필름 시트를 매뉴얼로 핸들링 함으로 인해서 필름 시트의 오염 또는 손상이 발생하게 되고 이로 인해 불량이 야기되게 된다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 다양한 방식의 터치 패널 제조 과정에서 대형 기판 필름 시트를 핸들링 함에 있어 국부적인 컬이나 단차 발생을 억제하고 평탄도를 개선하여 패턴 불량에 의한 오작동 없이 터치 기능의 성능과 품질을 향상시키기 위한 터치패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 터치 패널의 제조 방법은, 캐리어 상에 점착제를 이용해 투명 전도성 필름을 부착하는 단계; 상기 투명 전도성 필름 상에 감광층을 형성하고 패턴하는 단계; 및 노광 공정을 기반으로 상기 투명 전도성 필름 상의 전도성 물질에 대한 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 터치 패널의 제조 방법은, 노광 공정, 세정 공정, 에칭 공정 또는 감광층 박리 공정을 위한 장비 이동 간에 매뉴얼 이동 없이 상기 캐리어 상에서 상기 투명 전도성 필름이 이동되고 처리되는 것을 특징으로 한다.
상기 투명 전도성 필름은 플렉서블 투명 기판 상에 투명 전도성 물질을 형성한 필름을 포함할 수 있다.
또는, 상기 투명 전도성 필름은 플렉서블 투명 기판 상에 투명 전도성 물질 및 불투명 배선 물질을 순차 형성한 필름을 포함할 수도 있다.
나아가, 상기 감광층을 형성하는 단계 전에, 플렉서블 투명 기판 상에 투명 전도성 물질을 형성한 상기 투명 전도성 필름 상에, 불투명 배선 물질을 형성하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
상기 감광층을 형성하는 단계 전에, 레이저 변위 센서를 이용하여 상기 캐리어 상에 부착된 상기 투명 전도성 필름의 평탄도를 측정하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
상기 투명 전도성 필름의 전체 면에 대하여 소정의 1차원 또는 2차원 간격으로 측정된 높이들 중 최대 높이와 최소 높이의 차이를 상기 평탄도로서 측정할 수 있다.
상기 터치 패널의 제조 방법은, 상기 캐리어 상에 부착된 상기 투명 전도성 필름의 평탄도가 200μm 이하에서 공정을 수행하기 위한 것을 특징으로 한다.
상기 캐리어는 유리, 세라믹, 플라스틱 또는 금속 소재로 이루어질 수 있다.
상기 점착제는, 액상 점착 용액의 코팅된 형태, 필름기재 양면에 점착제를 형성한 양면점착테이프 형태, 또는 필름기재 없는 점착테이프 형태를 포함할 수 있다.
상기 투명 전도성 필름의 두께는, 300μm 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 터치 패널 제조 방법에 따르면, 대형 기판 필름 시트를 핸들링함에 있어 국부적인 컬이나 단차 발생을 억제하고 평탄도를 개선함으로써, 정전용량 방식뿐만 아니라 저항막, 초음파, 광학 방식 등의 터치 패널의 제조 과정에서 기판 상의 ITO, 메탈메쉬, 나노와이어 등 전극 재료의 컬이나 단차, 단선, CD 편차 등 패턴 불량에 의한, 오작동 없이 안정적인 성능과 품질을 달성하여 우수한 터치 기능을 실현하는 터치패널을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 화면영역과 베젤영역의 전도성 물질을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 평탄도에 대한 정의를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 평탄도 측정 공정의 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 터치 패널 기판의 경우와 종래 방식의 터치 패널 기판의 경우의 전극 패턴의 비교예이다.
이하 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써 본 발명을 상술한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 캐리어(110) 상에 점착부재(120)를 이용해 투명 전도성 필름(130)을 부착하는 단계(도 1의 (a)), 투명 전도성 필름(130) 상에 감광층(PR)을 형성하고 패턴하는 노광 공정 실시 단계(도 1의 (b)), 및 투명 전도성 필름(130) 상의 전도성 물질을 패턴하는 단계(도 1의 (c))를 포함한다.
본 발명에서는 캐리어(110) 상에 투명 전도성 필름(130)을 부착하여 터치 패널 제조를 위한 공정을 실시함으로써, 노광 공정, 세정 공정, 에칭 공정 또는 감광층 박리 공정 등 터치 패널 제조 공정을 위한 장비 이동 간에 매뉴얼 이동 없이 캐리어(110) 상에서 투명 전도성 필름(130)이 이동되고 처리되도록 하였다. 노광 공정, 세정 공정, 에칭 공정 또는 감광층 박리 공정 등 각각의 터치 패널 제조 공정은 어느 2 이상의 공정(예, 세정, 감광층 박리 등)이 같은 장비에서 이루어질 수도 있지만, 특히 노광 공정과 기타 다른 공정은 장비의 특수성이 있으므로 서로 다른 장비에서 실시되고 있다.
먼저, 도 1의 (a)에서, 캐리어(110)는 투명 전도성 필름(130)에 강성을 부여할 수 있도록, 유리, 세라믹, 플라스틱 또는 금속 소재 등으로 이루어지며, 그 두께는 특별한 제한없이 수십 μm 내지 수 mm로 제작되어 사용될 수 있다. 캐리어(110)의 상면 사이즈는 특별한 제한없이 투명 전도성 필름(130)의 시트 크기를 안착할 수 있는 크기로서, 그 보다 가로/세로로 수십 cm 더 큰 정도로 제작될 수 있다. 예를 들어, 500x500mm 내지 1000x1000mm 등의 투명 전도성 필름(130)의 시트 크기를 안착시키기 위하여 가로/세로로 그 보다 수십 cm 더 큰 정도로 제작될 수 있다. 여기서, 유리의 경우에 소다라임 글라스, 알루미나실리케이트 글라스 등의 소재가 사용될 수 있고, 화학강화, 열강화 등의 방법이 적용된 강화 유리를 사용할 수도 있으며, 비강화 유리를 사용할 수도 있다.
또한, 도 1의 (a)에서, 점착부재(120)는, 액상 점착 용액을 캐리어(110) 상에 코팅한 형태, 필름기재 양면에 점착제를 형성한 양면점착테이프를 사용하는 형태, 또는 필름기재 없는 점착테이프를 사용하는 형태 등으로 캐리어(110) 상에 형성될 수 있다. 액상 점착 용액이나 테이프 형태에 형성한 점착제는 아크릴 또는 실리콘 계열 등의 점착제가 사용될 수 있다. 기능적인 측면에서는 상기 점착제로서 온도에 따라 점착력이 변화되는 감온성 점착제, 자외선 조사에 따라 점착력이 변화되는 점착제의 적용이 가능하다. 액상 점착 용액은 캐리어(110) 상에 스프레이 내지 슬릿이나 스핀, 또는 잉크젯 방법 등으로 코팅되어 점착부재(120)가 형성될 수 있으며, 필름/테이프 형태의 점착부재(120)는 캐리어(110) 상에 합지(lamination) 방법으로 부착하여 사용될 수 있다.
도 1의 (a)에서, 캐리어(110) 상에 형성된 점착부재(120)를 통하여 부착된 투명 전도성 필름(130)은 그 두께를 300μm 이하로 하여 터치스크린에 적용하는 것이 바람직하지만, 이에 한정되지 않으며 필요에 따라 그보다 더 큰 두께가 될 수도 있다. 투명 전도성 필름(130)은 플렉서블(또는 폴더블) 투명 기판 상에 감지전극을 위한 투명 전도성 물질을 형성한 필름 형태일 수 있다. 예를 들어, 정전 용량 방식 등을 위한 플렉서블(또는 폴더블) 투명 기판은 PET(Polyethylene Terephthalate), PEN(Polyethylene naphthalate), PE(Polyethylene), PI(Polyimide), PC(Poly Carbonate), COP(cyclo olefin polymer), PP(poly propylene), CPI(colorless Polyimide) 필름 등 형태일 수 있다. 필름 형태는 이축 연신 방법 또는 액상의 코팅액을 이용하여 형성된 것일 수 있다. 투명 전도성 물질은, 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide), 인듐 아연 산화물(IZO, indium zinc oxide), 알루미늄 아연 산화물(AZO, aluminum zinc oxide), 비소 주석 산화물 (ATO, antimony tin oxide), 불소 함유 주석 산화물 (FTO, fluorine-doped tin oxide), 아연 주석 산화물 (ZTO, zinc tin oxide), 주석산화물(SnO2), PEDOT:PSS와 같은 전도성 고분자, 탄소 나노 튜브 (CNT, carbon nanotube), 메탈 메시(Metal Mesh), 은나노와이어(Ag Nano Wire), 그래핀 (graphene) 또는 이들의 혼합 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 투명 전도성 물질은, 상기의 투명 산화물 전극과 금속 메탈이 합성된 형태도 적용될 수 있다. 예를 들면 투명 전도성 물질은, 20nm 두께의 ITO, 10nm 두께의 Ag (은), 20 nm 두께의 ITO 로 구성되는 투명 전도막으로도 구성될 수 있다.
이외에도, 투명 전도성 필름(130)은 플렉서블 투명 기판 상에 감지전극을 위한 투명 전도성 물질 및 배선 전극을 위한 불투명 배선 물질(dP, Cu, Ag, Ni, Ti, Cr, Mo, Fe 등)을 순차 형성한 필름 형태일 수도 있다. 다만, 이와 같이 감지전극 이외에 배선전극도 패터닝하기 위하여 투명 전도성 물질 및 불투명 배선 물질을 순차 형성한 투명 전도성 필름(130)이 사용될 수도 있지만, 경우에 따라서는 투명 전도성 물질만을 형성한 투명 전도성 필름(130)을 캐리어(110) 상에 부착하고, 도 1의 (b) 단계 전에 다양한 방식으로 불투명 배선 물질을 형성할 수도 있다. 예를 들어, 불투명 배선 물질을 형성하기 위하여 물리적 기상 증착, 화학적 기상 증착, 원자층 증착, 전해 도금, 무전해 도금 방식, 스핀 코팅법, 그래비어 인쇄법, 잉크젯 인쇄법, 실크 스크린 인쇄법 등으로 증착 또는 적층될 수 있다. 여기서, 물리적 기상 증착 방식은, DC(Direct Current) 스퍼터링, 고주파(RF, Radio Frequency) 스퍼터링, MF(Mid-frequency) 스퍼터링, 이온빔(Ion beam) 스퍼터링, 레이저 유도(laser induced) 증착, 전자빔(E-beam) 증발 방식 등을 포함한다. 또한, 화학적 기상 증착 방식은, APCVD(Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition), LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition), PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), MOCVD(Metalorganic Chemical Vapor Deposition) 방식 등을 포함한다.
예를 들어, 도 2와 같이, 투명 전도성 필름(130) 상의 투명 전도성 물질 및 불투명 배선 물질을 각각 도 1의 (c) 단계에서와 같이 에칭함으로써, 화면영역(50)에는 감지 전극을 위한 투명 전도성 물질(131)의 패턴이 남아있고, 베젤영역(60)에는 배선전극(40)을 위한 투명 전도성 물질(132) 및 불투명 배선 물질(133)의 패턴이 남아있도록 패턴화가 이루어질 수 있다.
나아가, 본 발명에서는 도 1의 (a)와 같이, 캐리어(110) 상에 점착부재(120)를 이용해 투명 전도성 필름(130)을 부착하는 단계가 완료된 후, 캐리어(110) 상에 부착된 투명 전도성 필름(130)의 평탄도가 200μm 이하에서 후속 공정을 수행할 수 있도록 하였다. 본 발명과 같이, 대형 투명 전도성 필름(130) 시트를 핸들링함에 있어 캐리어(110) 상에 부착된 상태로 대형 투명 전도성 필름(130)에 대한 공정을 실시함으로써, 국부적인 컬이나 단차 발생을 억제하고 평탄도를 개선할 수 있게 된다. 이에 따라 정전용량 방식뿐만 아니라 저항막, 초음파, 광학 방식 등의 터치 패널의 제조 과정에서 기판 상의 ITO, 메탈메쉬, 나노와이어 등 전극 재료의 컬이나 단차, 단선, CD 편차 등 패턴 불량에 의한, 오작동 없이 안정적인 성능과 품질을 달성하여 우수한 터치 기능을 실현하는 터치패널을 제공할 수 있게 된다.
이를 위하여, 도 1의 (b) 단계 전에, 도 4와 같이 소정의 레이저 변위 센서(200)(예, Keyence사의 LK-6500 등)를 이용하여 캐리어(110) 상에 부착된 투명 전도성 필름(130)의 평탄도를 측정할 수 있다. 예를 들어, 투명 전도성 필름(130)의 전체 면에 대하여 소정의 1차원 또는 2차원 간격(예, 가로10 X 세로10 포인트)으로 측정된 높이들(예, 총 100포인트) 중, 도 3과 같이, 최대 높이(MAX)와 최소 높이(MIN)의 차이를 평탄도로서 측정할 수 있다. 평탄도 측정은 초기 공정 설정에서 필요하지만 반복되는 공정 흐름 상에서 항상 필요한 것은 아니고 초기 공정 설정 이후에는 간헐적으로 실시될 수 있다.
위와 같이 도 1의 (a)와 같이 캐리어(110) 상에 점착부재(120)를 이용해 투명 전도성 필름(130)을 부착하는 단계가 완료되면, 투명 전도성 필름(130) 상에 포토레지스트와 같은 감광층(PR)을 형성하고 패턴하는 노광 공정을 실시한다(도 1의 (b)). 이때, 투명 전도성 필름(130)이 부착된 캐리어(110)를 노광 장비 스테이지(10)에 진공척 등에 의해 고정시키고 액상 포토레지스트를 코팅하거나 감광성 필름(DFR, Dry film resist)을 합지(lamination)한 후 패턴이 이루어질 수 있다. 노광 마스크를 이용한 포토 공정 후 TMAH(Tetramethyl ammounium hydroxide)와 같은 현상액을 이용하여 필요한 부분만 감광층(PR)이 남도록 패턴할 수 있다. 감광층(PR)은 포지티브형 또는 네가티브형 어느 것이든 무관하며, 또한, 감광층(PR) 노광 후 바로 현상을 실시하는 광반응형일 수도 있고, 또한 노광을 실시한 후 베이킹 공정을 실시하여, 광반응이 촉진되는 화학증폭형일 수도 있다.
본 발명에서는 캐리어(110) 상에 투명 전도성 필름(130)을 부착하여 터치 패널 제조를 위한 공정을 실시함으로써, 노광 공정, 세정 공정, 에칭 공정 또는 감광층 박리 공정 등 터치 패널 제조 공정을 위한 장비 이동 간에 매뉴얼 이동 없이 캐리어(110) 상에서 투명 전도성 필름(130)이 이동되고 처리되도록 하였다. 위와 같이 노광 공정을 실시한 후에는, 패턴된 감광층(PR)을 갖는 해당 캐리어(110)를 에칭 장비의 스테이지(20)에 진공척 등에 의해 이동 고정시키고 투명 전도성 필름(130) 상의 전도성 물질을 패턴한다(도 1의 (c)).
예를 들어, 터치패널 구조나 구동 방식에 따라 투명 전도성 필름(130) 상의 투명 전도성 물질만을 에칭하고 감광층 박리 공정을 실시하여 패턴할 수도 있고, 필요에 따라 도 2와 같이, 투명 전도성 필름(130) 상의 투명 전도성 물질 및 불투명 배선 물질을 각각 패턴함으로써, 화면영역(50)에는 감지 전극을 위한 투명 전도성 물질(131)의 패턴이 남아있고, 베젤영역(60)에는 배선전극을 위한 투명 전도성 물질(132) 및 불투명 배선 물질(133)의 패턴이 패턴이 남아있도록 패턴화가 이루어질 수 있다.
이후 공정에서 세정 공정 등이 이루어질 수 있으며, 모든 공정이 완료된 캐리어(110) 상의 투명 전도성 필름(130)을 탈착하여, 해당 단위 셀들로 분리하여 설계된 모델에 맞는 터치 패널이 완성된다. 각각의 터치 패널은 터치스크린 시험을 위한 터치 모듈에 장착되어 테스트가 이루어진 후 각 제품에 적용될 수 있다.
예를 들어, 각각의 터치 패널은, 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device: LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Display Device: OLED), 전기영동 표시장치(Electrophoretic Display Device: EPD) 등의 표시 패널 및 유리와 같은 소정의 보호 커버 사이에 결합되고, 외부 처리 회로나 프로세서와 연결되어 터치스크린 기능을 수행할 수 있게 된다.
<실시예>
도 5는 본 발명의 터치 패널 기판의 경우(a)와 종래 방식의 터치 패널 기판의 경우(b)의 전극 패턴의 비교예이다.
종래 방식의 터치 패널 기판의 경우(도 5의 (b))는 캐리어(110) 없이 직접 장비 스테이지에 안착하여 노광 공정, 세정 공정, 에칭 공정 또는 감광층 박리 공정 등을 실시한 경우로서, 투명 전도성 필름 상의 평탄도를 측정한 결과 360μm 이상으로 기준을 벗어남을 확인하였다. 이와 같은 종래 기술의 경우 국부적으로 평탄도의 불균일로 인해 노광 진행 시 노광 광원이 기판 표면에 초점이 맞지 않게 되고 패턴 균일성의 분포가 나빠지게 되어 부분적인 불량 현상이 발생하게 되어 생산성이 저하됨을 알 수 있다.
반면, 본 발명의 터치 패널 기판의 경우(도 5의 (a))는, 1100 x 1300mm의 크기 및 0.7mm의 두께를 가지는 소다라임 글라스를 캐리어(110)로 사용하였다. 이 캐리어(110)는 화학 강화 방식을 통해 강화 처리가 실시된 글라스이고, 표면의 평탄도는 50μm로 측정이 되었다. 또한, 점착부재(120)는 50μm 두께의 PET 필름 기재에 실리콘이 포함된 점착제를 형성한 양면점착테이프(예, 한쪽의 점착력은 5gf/inch이고 다른 한쪽의 점착력은 3gf/inch)를 1095 x 1295mm 크기로 절단하여 합지(lamination) 장비를 이용해 캐리어(110)에 부착하고 그 위에 투명 전도성 필름(130)을 부착하였다. 투명 전도성 필름(130)의 부착을 실시한 후, 투명 전도성 필름(130)의 평탄도를 측정한 결과 50μm로 측정되었다.
이후 노광 공정, 세정 공정, 에칭 공정 또는 감광층 박리 공정 등을 실시하고 터치 패널을 제조한 결과, 도 5의 (a)와 같이 3μm Line 배선(어두운 부분)과 3μm 스페이스(밝은 부분)가 양호한 패턴을 나타내었다. 종래 방식의 터치 패널 기판의 경우(도 5의 (b))에는 패턴 불량이 심하여 3μm 배선 및 스페이스 패턴 구현이 어려운 것과 대조된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 터치 패널 제조 방법과 같이, 대형 기판 필름 시트를 핸들링함에 있어 국부적인 컬이나 단차 발생을 억제하고 평탄도를 개선함으로써, 정전용량 방식뿐만 아니라 저항막, 초음파, 광학 방식 등의 터치 패널의 제조 과정에서 기판 상의 ITO, 메탈메쉬, 나노와이어 등 전극 재료의 컬이나 단차, 단선, CD 편차 등 패턴 불량에 의한, 오작동 없이 안정적인 성능과 품질을 달성하여 우수한 터치 기능을 실현하는 터치패널을 제공할 수 있다.
이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명의 기술적 사상이 상술한 바람직한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 구체화된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범주에서 다양하게 구현될 수 있다.
캐리어(110)
점착부재(120)
투명 전도성 필름(130)

Claims (11)

  1. 캐리어 상에 점착제를 이용해 투명 전도성 필름을 부착하는 단계;
    상기 캐리어 상에 부착된 상기 투명 전도성 필름의 평탄도를 측정하는 단계;
    상기 투명 전도성 필름 상에 감광층을 형성하고 패턴하는 단계; 노광 공정을 기반으로 터치 패널의 화면영역의 감지 전극 및 베젤영역의 배선 전극을 위한, 상기 투명 전도성 필름 상의 전도성 물질에 대한 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 캐리어 상의 상기 투명 전도성 필름을 탈착하여, 복수의 단위 셀들로 분리된 터치 패널들을 획득하는 단계를 포함하고,
    상기 투명 전도성 필름의 평탄도에 따라 상기 감광층을 형성하고 패턴하는 단계의 수행 여부가 결정되는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    노광 공정, 세정 공정, 에칭 공정 또는 감광층 박리 공정을 위한 장비 이동 간에 매뉴얼 이동 없이 상기 캐리어 상에서 상기 투명 전도성 필름이 이동되고 처리되는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 투명 전도성 필름은 플렉서블 투명 기판 상에 투명 전도성 물질을 형성한 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 투명 전도성 필름은 플렉서블 투명 기판 상에 투명 전도성 물질 및 불투명 배선 물질을 순차 형성한 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 감광층을 형성하는 단계 전에,
    플렉서블 투명 기판 상에 투명 전도성 물질을 형성한 상기 투명 전도성 필름 상에, 불투명 배선 물질을 형성하는 단계
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 평탄도를 측정하는 단계에서, 레이저 변위 센서를 이용하여 상기 투명 전도성 필름의 평탄도를 측정하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 투명 전도성 필름의 전체 면에 대하여 소정의 1차원 또는 2차원 간격으로 측정된 높이들 중 최대 높이와 최소 높이의 차이를 상기 평탄도로서 측정하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 캐리어 상에 부착된 상기 투명 전도성 필름의 평탄도가 200μm 이하일 때 상기 감광층을 형성하고 패턴하는 단계를 수행하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 캐리어는 유리, 세라믹, 플라스틱 또는 금속 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 점착제는, 액상 점착 용액의 코팅된 형태, 필름기재 양면에 점착제를 형성한 양면점착테이프 형태, 또는 필름기재 없는 점착테이프 형태를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 투명 전도성 필름의 두께는, 300μm 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
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