TW201508587A - 觸感電極及含此之觸控螢幕面板 - Google Patents

Abstract

本發明有關一種具有極佳導電性的觸感電極，以及包括該觸感電極的觸控螢幕面板。該觸感電極包括以第一方向形成的第一感應圖型以及以第二方向形成的第二感應圖型、被配置於該第一感應圖型之上用以電連接該第二感應圖型的分開單位圖型的橋電極、在該第一感應圖型以及該橋電極的交叉處介於該第一感應圖型以及該橋電極之間的一絕緣層、以及形成在該橋電極的上表面上的金屬鍍層。

Description

觸感電極及含此之觸控螢幕面板

相關申請案的交叉參考

此申請案主張於2013年8月20日所申請的韓國專利申請案編號2013-0098261的優先檴以及權益，其全部揭露內容併入於本文中以作為參考。

1．發明所屬之技術領域

本發明有關一種觸感電極以及包括該觸感電極的觸控螢幕面板。更具體而言，本發明有關一種具有高導電性的觸感電極，以及包括該觸感電極的觸控螢幕面板。

2．相關技術的討論

一般而言，觸控螢幕面板是一種配備有特殊輸入裝置的螢幕面板，當由手碰觸到該螢幕面板時，經由該輸入裝置輸入了碰觸點。這種觸控螢幕面板是一種經由它而從螢幕直接接收輸入資料而不使用鍵盤的裝置，以至於當人手或物體碰觸到顯示在該螢幕上的字母或特定位置，其碰觸點被辨識，並根據所儲存的軟體來執行特定的程序。該觸控螢幕面板是由積層結構所形成。

為了識別碰觸點而不降低顯示在螢幕上的影像可見度，透明觸感電極的使用是必要的，且通常使用了由預先決定的圖型所形成感應圖型。

有各種類型用於觸控螢幕面板中的透明感應電極結構，例如，玻璃-ITO薄膜-ITO薄膜（GFF）結構、玻璃-ITO薄膜（GIF）結構、只有玻璃（G2）的結構。

例如，第1圖示出了現有的透明感應電極結構。

透明感應電極可由第一感應圖型10以及第二感應圖型20所形成。該第一感應圖型10以及該第二感應圖型20可以不同的方向配置，並提供碰觸點的X以及Y座標資訊。更具體而言，當人手或物體碰觸透明基板時，根據該碰觸點的電容改變可經由該第一感應圖型10、該第二感應圖型20以及位置偵測線，也就是金屬互連，來轉送至驅動電路。此外，該電容的改變可由X以及Y輸入處理電路（未示出）或諸如此類來轉換成電訊號，因此可辨識出該碰觸點。

關於這一點，第一感應圖型10以及第二感應圖型20是形成在相同的基板上，且需要彼此電連接，以偵測碰觸點。這裡，由於該第一感應圖型10連接至彼此，但是該第二感應圖型20以島的形式隔離，可能需要額外的連接電極（橋電極50）來電連接該第二感應圖型20。

然而，橋電極50可形成在與第一感應圖型10不同的層上，以不電連接至該第一感應圖型10。第2圖是延著第1圖的線A-A’所取的截面之形成該橋電極50所在的部分的放大圖。

參見第2圖，感應圖型10以及20是形成在基板100上，且絕緣層30以及橋電極50形成於其上。該第一感應圖型10以及該第二感應圖型20彼此間隔，由形成於其上的該絕緣層30而與該橋電極50分開。在那些之中，該第一感應圖型10是處於與該橋電極50電隔離的狀態。此外，如上所描述，由於該第二感應圖型20需要電連接至另一個第二感應圖型20，其是使用該橋電極50來電連接。為了使用使用該橋電極50來連接以島的形式分開的該第二感應圖型20，同時電隔離該第二感應圖型20與該第一感應圖型10，可能需要在該絕緣層30中形成接觸洞40。

然而，由於橋電極50一般由金屬形成以增加導電性，有一個問題是，由於感應圖型10以及20的反射率差異，該橋電極50是可見的。

為了解決這種可見度問題，橋電極50可由具有非常小寬度的金屬來形成。在此情況中，可改進可見度問題，且由於該橋電極50可與金屬互連同時形成，可簡化過程。然而，形成具有小寬度的橋電極50需要高精密度的製造裝置，且形成高精密度的圖型是一個耗時的過程。此外，由於電阻增加，導電性可能會減少，因此感應速度可能會較慢。因此，該橋電極50的低可見度以及適當的導電性難以同時達成。

此外，近來，已製造出具有窄寬度的顯示裝置，並執行了其上的研究。然而，有一個問題是，邊框越窄，隱藏在邊框中之金屬互連的電阻就越大。

日本專利公開編號2008-98169揭露了一種透明傳導薄膜，其中在透明基板以及透明傳導層之間形成了由具有不同折射係數的兩層構成的底塗層。

[引證文件列表]

[專利文獻]

1．日本專利公開編號2008-98169

本發明針對一種具有高導電性且不降低可見度的觸感電極，以及包括該觸感電極的觸控螢幕面板。

本發明也針對一種具有窄邊框的觸感電極，以及包括該觸感電極的觸控螢幕面板。

根據本發明的一方面，提供了一種觸感電極，該觸感電極包括以第一方向形成的第一感應圖型以及以第二方向形成的第二感應圖型、配置用以電連接該第二感應圖型的分開單位圖型的橋電極、在該第一感應圖型之上且在該第一感應圖型以及該橋電極的交叉處介於該第一感應圖型以及該橋電極之間的絕緣層、以及形成在該橋電極的上表面上的金屬鍍層。

金屬鍍層可進一步形成在金屬互連上，該金屬互連被配置用以將第一感應圖型以及第二感應圖型連接至驅動電路。

金屬網格可形成在第一感應圖型以及第二感應圖型之上或之下。

金屬鍍層可進一步形成在配置在第一感應圖型以及第二感應圖型上的金屬網格上。

金屬鍍層可藉由電鍍法來形成。

金屬鍍層可由銅形成。

金屬鍍層的厚度可為500至1000 nm。

觸感電極可形成在觸控螢幕面板的遮蓋窗基板的表面或顯示面板的表面上。

根據本發明的另一方面，有提供了一種製造觸感電極的方法，包括在基板上以第一方向形成第一感應圖型以及以第二方向形成第二感應圖型，在該第一感應圖型上形成絕緣層，該絕緣層配置在該第一感應圖型以及橋電極的交叉處，在該絕緣層上形成被配置用以電連接該第二感應圖型的該橋電極，以及在該橋電極上形成金屬鍍層。

橋電極的形成可包括在具有絕緣層形成於其上的基板上形成橋電極形成金屬層，在該橋電極形成金屬層的上表面上形成光阻圖型來僅曝露其上要形成金屬鍍層的部分，在所曝露的部分上形成該金屬鍍層，以及移除該光阻圖型以及其上未形成該金屬鍍層的該橋電極形成金屬層。

光阻圖型可進一步包括曝露部分，以在第一感應圖型或第二感應圖型上曝露金屬網格圖型，以及金屬鍍層可進一步形成在金屬網格圖型上。

橋電極形成金屬層可進一步形成在金屬互連上，光阻圖型可進一步該曝露金屬互連，以及金屬鍍層可進一步形成在該金屬互連上。

根據本發明更另一方面，有提供了一種包括上述任一觸感電極的觸控螢幕面板。

根據本發明更另一方面，有提供了一種包括上述觸控螢幕面板的顯示裝置。

根據本發明示範性具體實施例的觸感電極包括在橋電極上的金屬鍍層，以增加該橋電極的導電性，並因此具有高感應速度。

此外，在根據本發明示範性具體實施例的觸感電極中，藉由以具有低反射率的材料來形成金屬鍍層，可將橋電極的可見度維持類似於或低於一般的橋電極。

此外，根據本發明示範性具體實施例的觸感電極包括在將感應圖型連接至驅動電路的金屬互連上的金屬鍍層。因此，甚至當該金屬互連的寬度減少，可維持高導電性，並因此可實施具有窄邊框的顯示裝置。

此外，由於根據本發明示範性具體實施例的觸感電極包括在感應圖型上的金屬網格，可改進該感應圖型的導電性，以進一步增加感應速度。

對於本領域技術人員將為顯而易見的是，可對上述的本發明示範性具體實施例做出各種修飾，而不悖離本發明的精神以及範圍。因此，意欲的是，本發明涵蓋了它們帶來在附帶申請專利範圍以及它們的均等物的範圍內所提供的所有這種修飾。

10‧‧‧第一感應圖型

20‧‧‧第二感應圖型

30‧‧‧絕緣層

40‧‧‧接觸洞

50‧‧‧橋電極

70‧‧‧金屬互連

80‧‧‧金屬網格

100‧‧‧基板

200‧‧‧金屬鍍層

210‧‧‧光阻圖型

A-A’‧‧‧線

藉由詳細描述其示範性具體實施例，參照伴隨的圖式，本發明的上述以及其他目標、特徵以及優勢對於本領域具一般技藝的技術人員將變得更顯而易見，其中：

第1圖是示意性示出現有觸感電極的平面圖；

第2圖是示意性示出現有觸感電極的截面圖；

第3圖是示意性示出根據本發明示範性具體實施例的觸感電極的截面圖；以及

第4圖是示意性示出製造根據本發明示範性具體實施例的觸感電極的方法的圖式。

本發明有關一種觸感電極以及包括該觸感電極的觸控螢幕面板。該觸感電極包括以第一方向形成的第一感應圖型以及以第二方向形成的第二感應圖型、在該第一感應圖型上被配置用以電連接該第二感應圖型的分開單位圖型的橋電極、在該第一感應圖型以及該橋電極的交叉處介於該第一感應圖型以及該橋電極之間的絕緣層、以及形成在該橋電極的上表面上的金屬鍍層。因此，該觸感電極具有極佳的導電性。

參照伴隨的圖式，將在下面詳細地描述本發明的示範性具體實施例。該圖式是提供用以僅示例本發明的典型或示範性具體實施例，並幫助了解本發明，且應了解的是，本發明的範圍不受伴隨圖式所限制。

第3圖示意性地示出了根據本發明示範性具體實施例的觸感電極。

根據本發明示範性具體實施例的觸感電極包括第一感應圖型10、橋電極50、以及在該第一感應圖型10以及該橋電極50的交叉處介於該第一感應圖型10以及該橋電極50之間的絕緣層30。金屬鍍層200被配置在該橋電極50上。

橋電極50可用以電連接由彼此分隔開的單位圖型所形成的第二感應圖型20，且由於可見度的問題，可不被形成具有大寬度。由於電阻與電荷轉移路徑的剖面面積成反比，該橋電極50的小寬度導致了該電荷轉移路徑的小剖面面積，其最後限制了導電性。為了解決這問題，如果單純地增加橋電極50的高度，則有問題是，圖型準確度降低，且基板100翹曲。

根據本發明的示範性具體實施例，這種問題可藉由在橋電極50上額外形成金屬鍍層200來解決。由於該金屬鍍層200形成於該橋電極50上以增加電荷轉移路徑的剖面面積，可顯著地改進該橋電極50的導電性。

金屬鍍層200不特別受限，且只要其具有導電性並可被電鍍在橋電極50上，可使用任何材料。例如，該金屬鍍層200可為銀（Ag）、金（Au）、銅（Cu），但是不限於此。

較佳的是，由於金屬鍍層200是形成在橋電極50上，較佳使用在可見度方面具有低反射率的材料。在可見度方面，可較佳使用銅（Cu）。

金屬鍍層200的厚度不特別受限，但可較佳在500至1,000 nm的範圍中，以至於不影響觸感電極的整體結構，同時改進該導電性。

橋電極50電連接在第一感應圖型10之上的第二感應圖型20的分開的單位圖型。

根據本發明示範性具體實施例的橋電極50可由金屬來形成，且較佳為與金屬互連70相同的材料。在此情況中，由於該金屬互連70以及該橋電極50是同時形成的，過程可較為簡化。

金屬不特別受限，且只要其具有極佳的導電性以及低電阻，可使用任何材料。例如，可使用鉬（Mo）、銀（Ag）以及鋁（Al），且可較佳使用鉬（Mo）。

橋電極50的厚度（高度）不特別受限，且可在，例如，10至300 nm的範圍中。當該橋電極50的厚度少於10 nm時，導電性可能會增加而降低碰觸敏感度。當該橋電極50的厚度多於300 nm時，製造可能不容易。

橋電極50的寬度可在，例如，2至30 µm的範圍中，且較佳為2至20 µm，但是不特別受限。當該橋電極50的厚度是2至30 µm時，圖型可見度可能會減少，且該橋電極50可具適當的電阻。

絕緣層30可用以電隔離第一感應圖型10與橋電極50。如第2圖中所示，現有的絕緣層是形成在整個感應圖型上。然而，如第3圖中所示，根據本發明示範性具體實施例的絕緣層30是在第一感應圖型以及橋電極的交叉處介於該第一感應圖型以及該橋電極之間。

由於根據本發明示範性具體實施例的絕緣層30僅需要隔離第一感應圖型10與橋電極50，該絕緣層30可不完全形成在基板100上，且可不需要形成接觸孔40的過程。

絕緣層30可使用本領域中所使用的材料以及方法來形成，而沒有任何特別的限制。

第一感應圖型10以及第二感應圖型20可以不同的方向配置，並提供碰觸點的X以及Y座標資訊。更具體而言，當人手或物體碰觸到透明基板時，根據該碰觸點的電容改變可經由該第一感應圖型10、該第二感應圖型20以及該金屬互連70轉移至驅動電路。此外，該電容的改變可由X以及Y輸入處理電路（未示出）或諸如此類轉換成電訊號，因此可識別該碰觸點。

關於這一點，第一感應圖型10以及第二感應圖型20是形成在基板100上，且需要電連接至彼此，以偵測碰觸點。這裡，由於該第一感應圖型10連接至彼此，但是該第二感應圖型20以島的形式隔離，可能需要額外的橋電極50來電連接該第二感應圖型20。

感應圖型的厚度不特別受限，且可在，例如，20至200 nm的範圍中。當該感應圖型的厚度少於20 nm時，導電性可能會增加而降低了碰觸敏感度。當該感應圖型的厚度多於200 nm時，由於反射率增加，可能會發生可見度問題。

作為觸感電極的第一感應圖型10以及第二感應圖型20，可使用本領域所使用的材料，而無任何限制。為了不抑制顯示在螢幕上的影像可見度，該第一感應圖型10以及該第二感應圖型20可較佳由透明材料所形成或以精細的圖型來形成。作為具體的範例，可使用氧化銦錫（ITO）、氧化銦鋅（IZO）、氧化鋅（ZnO）、氧化銦鋅錫（IZTO）、氧化鎘錫（CTO）、聚(3,4-乙烯二氧噻吩）（PEDOT）、奈米碳管（CNT）、金屬線，或諸如此類。這些材料可單獨或藉由混合其二或更多種來使用，且可較佳使用ITO。在金屬線中使用的金屬可不特別受限，且可為，例如，銀（Ag）、金（Au）、鋁（Al）、銅（Cu）、鐵（Fe）、鎳（Ni）、鈦（Ti）、碲（Te）、鉻（Cr），或諸如此類。這些金屬可單獨或藉由混合其二或更多種來使用。

有選擇地，當需要時，根據本發明示範性具體實施例的觸感電極可在第一感應圖型10以及第二感應圖型20之上或之下額外地包括金屬網格80。例如，該金屬網格80可以適當的形式配置在該第一以及第二感應圖型10以及20的菱形圖型單位之上或之下（參見第1圖），以增加該感應圖型的導電性，且藉此增加感應速度。在此情況中，該額外的金屬網格80可不需要將該單位圖型電連接至彼此，且以及可在每個單位圖型區域中以晶格的形式來形成。

較佳的是，金屬鍍層200也可形成在金屬網格80上。在此情況中，該金屬網格80可較佳形成在感應圖型10以及20上。藉由在該金屬網格80上形成該金屬傳導層200，可顯著地增加導電性。

金屬互連70可作用用以將感應圖型10以及20所偵測到的電容改變轉移至驅動電路。該金屬互連70可由與橋電極50相同的材料來形成，且可較佳與該橋電極50同時形成。

同時，金屬互連70可被配置在顯示裝置的邊框部分，且當要將該邊框形成地很窄時，該金屬互連70可被形成具有盡可能的最小寬度。然而，當將該金屬互連70形成地很窄時，可能會淢少導電性，且可存在斷路的風險。因此，當需要時，根據本發明示範性具體實施例的該金屬互連70可進一步包括形成於其上的金屬鍍層200。

配置在金屬互連70上的金屬鍍層200可由與配置在橋電極50上的金屬鍍層200相同的材料所形成，且可較佳同時形成。

根據本發明示範性具體實施例的觸感電極是形成在基板100上。

作為基板100，可使用在本領域中一般使用的材料而無任何特別的限制。例如，可使用玻璃、聚醚碸（PES）、聚丙烯酸酯（PAR）、聚醚醯亞胺（PEI）、聚萘二甲酸乙二酯（PEN）、聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚苯硫醚（PPS）、聚芳酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯（PC）、三醋酸纖維素（三醋酸纖維素：TAC）以及醋酸丙酸纖維素（CAP）。

基板100可為形成觸控螢幕面板的最外表面或顯示面板的表面的遮蓋窗基板。

當基板100是遮蓋窗基板時，當需要時，根據本發明示範性具體實施例的觸感電極可進一步包括在該基板100以及感應圖型之間的透明介電層。該透明介電層可藉由降低由於根據該感應圖型結構的位置特定結構差異造成的光學特性差異，來改進觸控螢幕面板的光學均勻性。

透明介電層可由氧化鈮、氧化矽、氧化鈰、氧化銦，等等所形成。這些材料可單獨或藉由混合其二或更多種來使用。該透明介電層可藉由真空氣相沉積方法、濺鍍法、離子鍍方法，或諸如此類來形成，且可使用上述方法而以薄膜的形式來製造。

當需要時，可將根據本發明示範性具體實施例的透明介電層形成為多層。在此情況中，每層可由不同的材料來形成，且可具有不同的折射係數以及不同的厚度。

此後，將詳細地描述製造根據本發明示範性具體實施例的觸感電極的方法。第4圖示意性示出一種製造根據本發明示範性具體實施例的觸感電極的方法。

首先，可在基板上形成以第一方向配置的第一感應圖型以及以第二方向配置的第二感應圖型。然後，可在該第一感應圖型以及橋電極的交叉處在該第一感應圖型上形成絕緣層。

可藉由各種薄膜沉積方法，例如物理氣相沉積（PVD）方法以及化學氣相沉積（CVD）方法，來形成感應圖型10以及20。例如，在該PVD方法的一個範例中，該感應圖型10以及20可藉由反應性濺鍍來形成。

此外，感應圖型10以及20可使用印刷製程來形成。可使用各種類型的印刷方法，例如凹版平版印刷、反面平版印刷、噴墨印刷、網版印刷以及凹版印刷。特別是，當該感應圖型10以及20是藉由印刷製程來形成時，可使用可印刷用膏材料。例如，可使用奈米碳管（CNT）、傳導聚合物或Ag奈米線墨水。

此外，除了上述方法之外，感應圖型10以及20可藉由光蝕刻製程來形成。

在形成感應圖型10以及20之後，在第一感應圖型10以及之後會形成的橋電極50的交叉處在該第一感應圖型10上形成絕緣層30。該絕緣層30可使用本領域所使用的材料以及方法來形成，而無任何特別的限制。

接下來，可在絕緣層30上形成電連接第二感應圖型20的橋電極50。

將更具體地描述形成該橋電極50的過程。

首先，可在其上形成絕緣層30的基板上形成橋電極形成金屬層。該橋電極形成金屬層可形成在該基板的整個上表面上。

橋電極形成金屬層可由用以作為橋電極50的金屬來形成。形成該橋電極形成金屬層的方法不特別受限，且可使用各種薄膜沉積方法，例如PVD方法以及CVD方法。例如，該橋電極形成金屬層可藉由反應性濺鍍（PVD方法的一個範例）來形成，但是不限於此。作為另一個範例，可應用使用包括金屬顆粒的塗層溶液的塗層方法。

在形成橋電極形成金屬層之後，可在該橋電極形成金屬層的上表面上形成光阻圖型210，以只曝露上面將要形成金屬鍍層200的部分。

光阻圖型210所曝露的部分可變成橋電極50。此外，如上所述，當需要時，可曝露其上要形成金屬網格80以及金屬互連70的部分。在此情況中，該金屬網格80或該金屬互連70可與該橋電極50同時形成。

當金屬網格80是形成在感應圖型10以及20之下時，該感應圖型10以及20可在該金屬網格80形成在該基板100上之後形成。

此外，當金屬網格80是形成在感應圖型10以及20上時，形成光阻圖型以覆蓋該金屬網格80，以至於不形成金屬鍍層200。

接下來，可在所曝露的部分上形成金屬鍍層200。

金屬鍍層200可藉由一般的金屬鍍方法來形成。在該金屬鍍方法中沒有限制，但是在精密度方面，由於該金屬鍍層200只形成在橋電極50上，電鍍法可能是較佳的。

更具體而言，在將橋電極形成金屬層設定為陰極以及金屬鍍層形成金屬設定成陽極之後，將基板浸沒於含有該陽極的金屬離子的電解質溶液中，然後將電源連接於其以通電。因此，該金屬鍍層200可藉由光阻圖型形成在所曝露的部分上。

接下來，根據本發明示範性具體實施例的觸感電極可藉由移除該光阻圖型然後移除其上未形成金屬鍍層200的橋電極形成金屬層來獲得。其上未形成金屬鍍層200的橋電極形成金屬層的移除可使用能夠蝕刻該橋電極形成金屬層而不蝕刻該金屬鍍層的蝕刻劑來輕易地執行。

根據本發明示範性具體實施例的觸感電極可藉由進行本領域所熟知的額外製程來配置觸控螢幕面板。在此情況中，該顯示裝置可為液晶顯示器（LCD）、有機發光二極體（OLED）、或可撓顯示器，但不限於此。

此後，揭露了本發明的各種示範性具體實施例，但是本發明不應解讀為限於本文中提出的本發明示範性具體實施例。雖然本發明是有關其示範性具體實施例來示出並描述，對於本領域的技術人員將為顯而易見的是，可做出各種修飾而不悖離本發明的精神以及範圍。

範例1

具有20 nm厚度的第一以及第二感應圖型是由ITO（折射係數：1.8）形成在玻璃基板（折射係數：1.51）上。

接下來，在其上要形成橋電極的第一感應圖型上形成絕緣層之後，藉由濺鍍法在其上形成該絕緣層的基板的上表面上形成具有10 nm厚度的鉬金屬層。

接下來，形成光阻圖型以曝露其上要形成橋電極以及金屬互連的部分，然後將電源連接至鉬金屬層，並將該電源的另一端連接至銅電極，然後將基板以及該銅電極浸沒於銅電解質溶液中，以進行電鍍過程。因此，在所曝露的鉬金屬層上形成了鍍銅層。

接下來，藉由移除光阻圖型以及其上未形成鍍銅層的鉬金屬層來製造觸感電極。

為了參考，基於具有550 nm波長的光列出了折射係數。

範例2

除了在第一以及第二感應圖型上進一步形成金屬網格，以及在該金屬網格上進一步形成金屬鍍層之外，使用如範例1中所描述的相同方法來製造觸感電極。

範例3

除了在第一以及第二感應圖型之下進一步形成金屬網格之外，使用如範例1中所描述的相同方法來製造觸感電極。

比較性範例1

除了不形成鍍銅層且將鉬金屬層形成具有300 nm的厚度之外，使用如範例1中所描述的相同方法來製造觸感電極。

實施範例

測量所製造出的觸感電極的反射率以及電阻，且其結果列於下面表1中。反射率可指在400 nm至700 nm的範圍中測量的平均反射率。

參見表1，範例的反射率差異幾乎類似於比較性範例中的反射率差異，但是範例的電阻顯著地小於其中未形成金屬鍍層的比較性範例的電阻。

 

10‧‧‧第一感應圖型

20‧‧‧第二感應圖型

30‧‧‧絕緣層

50‧‧‧橋電極

70‧‧‧金屬互連

80‧‧‧金屬網格

100‧‧‧基板

200‧‧‧金屬鍍層

Claims (14)

1. 【第1項】

   一種觸感電極，包含：
   以一第一方向形成的一第一感應圖型以及以一第二方向形成的一第二感應圖型；
   在該第一感應圖型之上，被配置用以電連接該第二感應圖型的分開的單位圖型的一橋電極；
   在該第一感應圖型以及該橋電極的一交叉處介於該第一感應圖型以及該橋電極之間的一絕緣層；以及
   形成在該橋電極的一上表面上的一金屬鍍層。
2. 【第2項】

   如申請專利範圍第1項所述的觸感電極，其中該金屬鍍層被進一步形成在一金屬互連上，該金屬互連被配置用以將該第一感應圖型以及該第二感應圖型連接至一驅動電路。
3. 【第3項】

   如申請專利範圍第1項所述的觸感電極，其中一金屬網格是形成在該第一感應圖型以及該第二感應圖型之上或之下。
4. 【第4項】

   如申請專利範圍第3項所述的觸感電極，其中該金屬鍍層是進一步形成在配置在該第一感應圖型以及該第二感應圖型上的該金屬網格上。
5. 【第5項】

   如申請專利範圍第1項所述的觸感電極，其中該金屬鍍層是藉由一電鍍法來形成。
6. 【第6項】

   如申請專利範圍第1項所述的觸感電極，其中該金屬鍍層是由銅所形成。
7. 【第7項】

   如申請專利範圍第1項所述的觸感電極，其中該金屬鍍層的一厚度在500至1000 nm的範圍中。
8. 【第8項】

   如申請專利範圍第1項所述的觸感電極，其中該觸感電極是形成在一觸控螢幕面板的一遮蓋窗基板的一表面或一顯示面板的一表面上。
9. 【第9項】

   一種製造一觸感電極的方法，包含：
   在一基板上以一第一方向形成一第一感應圖型以及以一第二方向形成第二感應圖型；
   在該第一感應圖型以及一橋電極的一交叉處，在該第一感應圖型配置上形成一絕緣層；
   在該絕緣層上形成被配置用以電連接該第二感應圖型的該橋電極；以及
   在該橋電極上形成一金屬鍍層。
10. 【第10項】

    如申請專利範圍第9項所述的方法，其中該橋電極的形成包含：
    在具有該絕緣層形成於其上的該基板上形成一橋電極形成金屬層；
    在該橋電極形成金屬層的一上表面上形成一光阻圖型，以只曝露將要形成該金屬鍍層所在的一部分；
    在所曝露的部分上形成該金屬鍍層；以及
    移除該光阻圖型以及未形成該金屬鍍層所在的該橋電極形成金屬層。
11. 【第11項】

    如申請專利範圍第10項所述的方法，其中該光阻圖型進一步包括一曝露部分，以在該第一感應圖型或該第二感應圖型上曝露一金屬網格圖型，以及在該金屬網格圖型上進一步形成該金屬鍍層。
12. 【第12項】

    如申請專利範圍第10項所述的方法，其中在一金屬互連上進一步形成該橋電極形成金屬層，該光阻圖型進一步曝露該金屬互連，以及在該金屬互連上進一步形成該金屬鍍層。
13. 【第13項】

    一種觸控螢幕面板，包含如申請專利範圍第1項至第8項任一項所述的觸感電極。
14. 【第14項】

    一種顯示裝置，包含如申請專利範圍第13項所述的觸控螢幕面板。